JP2004149925A - 容器内における原料物質の気化速度をモニターする方法 - Google Patents
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Abstract
液体または固体の原料物質を含む原料容器の、気化した原料物質を作り出す能力をモニターする方法を提供する。
【解決手段】
原料容器から気化した原料物質を引き出し、次いで、原料容器を隔離し、気化した原料物質の分圧を示す状態量を時間の経過とともに測定し、時間の経過とともに変化する分圧(またはそれを示す状態量)を、時間の経過とともに変化する基準分圧と比較し、時間の経過とともに変化する(分圧を示す)測定済み状態量と、時間の経過とともに変化する基準状態量の値と間の差が、所定の状態量の差の範囲よりも大きい時、アラームを生成する。状態量は、例えば気相中における全圧または原料物質の濃度とすることができる。
【選択図】 なし
Description
104: 原料物質
Claims (19)
- 液体または固体原料容器の、気化した原料物質を作り出す能力をモニターする方法であって、該方法は、
原料容器内における気化した原料物質の量を減少させるステップと、
前記原料容器を隔離するステップと、
時間の経過とともに変化する、原料容器内における気化した原料物質の分圧を示す状態量を測定するステップと、
時間の経過とともに変化する前記測定済みの状態量を、時間の経過とともに変化する基準状態量の値と比較するステップと、
時間の経過とともに変化する前記測定済みの状態量と時間の経過とともに変化する前記基準状態量の値との間の差が所定の値より大きいと信号を生成するステップと、を含む、前記モニター方法。 - 原料容器内において気化した原料物質の量を減らす前記ステップは、原料容器を排気するステップを含む請求項1に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する、気化した原料物質の分圧を示す状態量を測定する前記ステップは、原料容器内の圧力を測定するステップを含む請求項2に記載の方法。
- 原料容器内において気化した原料物質の量を減らす前記ステップは、不活性ガスで原料容器をパージするステップを含む請求項1に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する、気化した原料物質の分圧を示す状態量を測定する前記ステップは、原料容器内の気化した原料物質の濃度を測定するステップを含む請求項4に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する基準状態量の値を決定するために、基準原料物質容器内における、時間の経過とともに変化する、気化した原料物質の分圧を示す状態量を測定するステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する分圧を示す状態量を測定する前記ステップ、時間の経過とともに変化する前記測定済みの状態量と時間の経過とともに変化する基準状態量の値とを比較する前記ステップ、および信号を生成する前記ステップは、
原料容器を隔離してから測定される状態量が所定の状態量の値の範囲内になるまでの時間の長さを測定するステップと、
前記測定済みの時間の長さと、基準原料容器を隔離してから状態量が所定の状態量の値の範囲に到達するまでの間における基準時間の長さとを比較するステップと、
前記測定済みの時間の長さと前記基準時間の長さとの間の差が所定時間の長さを超えると信号を生成するステップと、を含む請求項1に記載の方法。 - 時間の経過とともに変化する状態量を測定する前記ステップは、時間の経過とともに変化する原料容器内の圧力を測定するステップを含む請求項7に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する状態量を測定する前記ステップは、時間の経過とともに変化する、原料容器内における気化した原料物質の濃度を測定するステップを含む、請求項7に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する状態量を測定する前記ステップ、時間の経過とともに変化する前記測定済み状態量を時間の経過とともに変化する基準状態量の値と比較する前記ステップ、および信号を生成する前記ステップは、
原料容器を隔離した後所定時間が経過した後に原料容器内における状態量を測定するステップと、
所定時間の経過後に測定した前記状態量を、基準原料容器を隔離して所定時間が経過した後に測定した基準状態量と比較するステップと、
所定時間の経過後に測定した前記状態量と、所定時間の経過後の前記基準状態量との間の差が、所定の状態量の値の差を超えると、信号を生成するステップとを含む、請求項1に記載の方法。 - 時間の経過とともに変化する状態量を測定する前記ステップは、時間の経過とともに変化する原料容器内の圧力を測定するステップを含む、請求項10に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する状態量を測定する前記ステップは、時間の経過とともに変化する原料容器内における気化した原料物質の濃度を測定するステップを含む請求項10に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する状態量を測定する前記ステップ、時間の経過とともに変化する前記測定済みの状態量を、時間の経過とともに変化する基準状態量の値と比較する前記ステップ、および信号を生成する前記ステップは、
原料容器の隔離後第1の時間が経過した後に状態量を測定するステップと、
第2の時間が経過した後に状態量を測定するステップと、
前記第1の時間と第2の時間との間に測定した状態量の増加量を、基準容器内における前記第1の時間と第2の時間との間の状態量における基準増加量と比較するステップと、
前記測定済みの状態量における増加量と、基準容器内における前記測定済みの状態量における基準増加量との間の差が、所定の状態量差の範囲を超えると、信号を生成するステップとを含む、請求項1に記載の方法。 - 時間の経過とともに変化する状態量を測定する前記ステップは、時間の経過とともに変化する原料容器内の圧力を測定するステップを含む、請求項13に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する状態量を測定する前記ステップは、時間の経過とともに変化する、原料容器内の気化した原料物質の濃度を測定するステップを含む請求項13に記載の方法。
- 時間の経過とともに変化する状態量を測定する前記ステップ、時間の経過とともに変化する前記測定済み状態量を、時間の経過とともに変化する基準状態量の値と比較する前記ステップ、および信号を生成する前記ステップは、
第1の時間と第2の時間との間において時間の経過とともに変化する測定済み状態量の形状をモニターしかつ特徴づけるステップと、
前記第1の時間と第2の時間との間において時間の経過とともに変化する前記状態量の形状を、基準容器内における、前記第1の時間と第2の時間との間の基準状態量の値の基準形状と比較するステップと、
時間の経過とともに変化する前記状態量の形状と、基準状態量値の量の前記基準形状との間における差が、所定の形状の差の範囲を超えると、信号を生成するステップと、を含む請求項1に記載の方法。 - 原料容器の内面にテーパー付きの底部を設けるステップをさらに含む請求項1に記載の方法。
- 前記信号は、アラームである請求項1に記載の方法。
- 前記信号は、自動停止信号である請求項1に記載の方法。
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Cited By (3)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006054432A (ja) * | 2004-07-15 | 2006-02-23 | Tokyo Electron Ltd | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 |
JP2013133542A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Horiba Stec Co Ltd | 試料液体気化システム、診断システム及び診断プログラム |
KR20140085354A (ko) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기화 시스템 |
Families Citing this family (14)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3973605B2 (ja) * | 2002-07-10 | 2007-09-12 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜装置及びこれに使用する原料供給装置、成膜方法 |
US6921062B2 (en) * | 2002-07-23 | 2005-07-26 | Advanced Technology Materials, Inc. | Vaporizer delivery ampoule |
US7300038B2 (en) * | 2002-07-23 | 2007-11-27 | Advanced Technology Materials, Inc. | Method and apparatus to help promote contact of gas with vaporized material |
EP1866074A4 (en) * | 2005-03-16 | 2017-01-04 | Entegris Inc. | System for delivery of reagents from solid sources thereof |
DE102006023046B4 (de) * | 2006-05-17 | 2009-02-05 | Qimonda Ag | Verfahren und Ausgangsmaterial zum Bereitstellen eines gasförmigen Precursors |
US20070269596A1 (en) * | 2006-05-19 | 2007-11-22 | Asm America, Inc. | Valve failure detection |
US20080241805A1 (en) * | 2006-08-31 | 2008-10-02 | Q-Track Corporation | System and method for simulated dosimetry using a real time locating system |
WO2009064427A2 (en) * | 2007-11-13 | 2009-05-22 | Mckinley James J | Variable concentration dynamic headspace vapor source generator |
US8151814B2 (en) * | 2009-01-13 | 2012-04-10 | Asm Japan K.K. | Method for controlling flow and concentration of liquid precursor |
KR101287113B1 (ko) * | 2010-06-30 | 2013-07-17 | 삼성디스플레이 주식회사 | 증착 장치용 캐니스터 및 이를 이용한 증착 장치 |
KR20210135341A (ko) | 2012-05-31 | 2021-11-12 | 엔테그리스, 아이엔씨. | 배취식 침착을 위한 고 물질 플럭스를 갖는 유체의 소스 시약-기반 수송 |
CN103913182B (zh) * | 2014-04-03 | 2016-05-11 | 大连华城电子有限公司 | 全隔离在线测量监控系统 |
US10927459B2 (en) * | 2017-10-16 | 2021-02-23 | Asm Ip Holding B.V. | Systems and methods for atomic layer deposition |
CN114150294A (zh) * | 2020-09-08 | 2022-03-08 | 吕宝源 | 固态金属有机源的集中供给系统 |
Family Cites Families (10)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US4393013A (en) | 1970-05-20 | 1983-07-12 | J. C. Schumacher Company | Vapor mass flow control system |
US3731523A (en) * | 1971-02-23 | 1973-05-08 | Atomic Energy Commission | Hydrogen activity meter |
US4357824A (en) * | 1980-09-15 | 1982-11-09 | General Electric Company | Method for determining volatilization rates of dissolved volatiles from solid waste materials |
US4436674A (en) | 1981-07-30 | 1984-03-13 | J.C. Schumacher Co. | Vapor mass flow control system |
DE3206130C2 (de) | 1982-02-20 | 1986-07-03 | Walter 2000 Hamburg Nicolai | Einrichtung zur Ermittlung und Anzeige der Menge eines flüssigen oder festen Lagergutes |
US4840064A (en) | 1988-03-15 | 1989-06-20 | Sundstrand Corp. | Liquid volume monitoring apparatus and method |
US5001924A (en) | 1989-12-28 | 1991-03-26 | The United States Of America As Represented By The Administrator Of The National Aeronautics And Space Administration | Volumetric measurement of tank volume |
DE4042421A1 (de) | 1990-06-02 | 1992-04-30 | Martin Lehmann | Verfahren und vorrichtung zum pruefen des volumens von behaeltnissen |
US5810058A (en) | 1996-03-20 | 1998-09-22 | Gas Research Institute | Automated process and system for dispensing compressed natural gas |
US6038919A (en) | 1997-06-06 | 2000-03-21 | Applied Materials Inc. | Measurement of quantity of incompressible substance in a closed container |
-
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-
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Cited By (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2006054432A (ja) * | 2004-07-15 | 2006-02-23 | Tokyo Electron Ltd | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 |
JP4595702B2 (ja) * | 2004-07-15 | 2010-12-08 | 東京エレクトロン株式会社 | 成膜方法、成膜装置及び記憶媒体 |
JP2013133542A (ja) * | 2011-12-27 | 2013-07-08 | Horiba Stec Co Ltd | 試料液体気化システム、診断システム及び診断プログラム |
KR20140085354A (ko) * | 2012-12-27 | 2014-07-07 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기화 시스템 |
KR101587702B1 (ko) | 2012-12-27 | 2016-01-21 | 가부시키가이샤 히다치 고쿠사이 덴키 | 기판 처리 장치, 반도체 장치의 제조 방법 및 기화 시스템 |
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