JP2004146841A - Paste coater and paste coating method - Google Patents

Paste coater and paste coating method Download PDF

Info

Publication number
JP2004146841A
JP2004146841A JP2003384932A JP2003384932A JP2004146841A JP 2004146841 A JP2004146841 A JP 2004146841A JP 2003384932 A JP2003384932 A JP 2003384932A JP 2003384932 A JP2003384932 A JP 2003384932A JP 2004146841 A JP2004146841 A JP 2004146841A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
application
paste
point
nozzle
coating
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Granted
Application number
JP2003384932A
Other languages
Japanese (ja)
Other versions
JP4134888B2 (en
Inventor
Mitsuru Osono
大園 満
Hitoshi Mukojima
向島 仁
Seiichi Sato
佐藤 聖一
Nobuyuki Iwashita
岩下 展之
Nobuyuki Suefuji
末藤 伸幸
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Panasonic Holdings Corp
Original Assignee
Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Matsushita Electric Industrial Co Ltd filed Critical Matsushita Electric Industrial Co Ltd
Priority to JP2003384932A priority Critical patent/JP4134888B2/en
Publication of JP2004146841A publication Critical patent/JP2004146841A/en
Application granted granted Critical
Publication of JP4134888B2 publication Critical patent/JP4134888B2/en
Anticipated expiration legal-status Critical
Expired - Fee Related legal-status Critical Current

Links

Images

Classifications

    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/74Apparatus for manufacturing arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies
    • H01L24/741Apparatus for manufacturing means for bonding, e.g. connectors
    • H01L24/743Apparatus for manufacturing layer connectors
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/27Manufacturing methods
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L24/00Arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies; Methods or apparatus related thereto
    • H01L24/01Means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected, e.g. chip-to-package, die-attach, "first-level" interconnects; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/26Layer connectors, e.g. plate connectors, solder or adhesive layers; Manufacturing methods related thereto
    • H01L24/28Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process
    • H01L24/29Structure, shape, material or disposition of the layer connectors prior to the connecting process of an individual layer connector
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83192Arrangement of the layer connectors prior to mounting wherein the layer connectors are disposed only on another item or body to be connected to the semiconductor or solid-state body
    • HELECTRICITY
    • H01ELECTRIC ELEMENTS
    • H01LSEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
    • H01L2224/00Indexing scheme for arrangements for connecting or disconnecting semiconductor or solid-state bodies and methods related thereto as covered by H01L24/00
    • H01L2224/80Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected
    • H01L2224/83Methods for connecting semiconductor or other solid state bodies using means for bonding being attached to, or being formed on, the surface to be connected using a layer connector
    • H01L2224/8319Arrangement of the layer connectors prior to mounting
    • H01L2224/83194Lateral distribution of the layer connectors

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a paste coater and paste coating method which can improve the application efficiency and ensure the quality of application. <P>SOLUTION: In a paste application method, which draws and applies paste 7 on the application area 6a of a lead frame by an application nozzle, the discharge port of the nozzle is shifted by a nonstop drawing action on a shifting cause which leads to the application finish point from an application starting point, via first nozzle transition points P1 (A, B, C, and D) set near each corner of the application area 6a and second nozzle transition points P2 (A, B, C, and D) set inside the application area 6a in the order, so that it is shaped with the shifting course leading to the next corner from one corner comes inward of the application area 6a. This can prevent nonconformities such as drop in application efficiency caused by the intermission of discharge, the unevenness in quantity of application, the defects of application form, etc. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

 本発明は、基板などの塗布対象物に設定される塗布エリア内にボンディング用のペーストを塗布するペースト塗布装置およびペースト塗布方法に関するものである。 The present invention relates to a paste application apparatus and a paste application method for applying a bonding paste to an application area set on an application target such as a substrate.

 リードフレームなどの基板にチップをボンディングするダイボンディングにおいては、基板表面にボンディング用のペーストが塗布される。ペースト塗布方法の1つとして、ディスペンサによって塗布ノズルからペーストを吐出させながら塗布ノズルを移動させることにより、基板表面の塗布エリア内に所要の塗布を行う描画塗布が用いられている。この方法では、チップ形状に応じて設定される塗布エリア内に、塗布開始点から塗布終了点に至る塗布ノズルの移動経路が設定される。この移動経路は塗布パターンに応じて種々の形状があり、例えば矩形の塗布エリアに対しては、X字状に塗布ノズルを移動させるクロス形状や、このクロス形状に更に十字を重ねたアスタリスク形状などが用いられる。 ダ イ In die bonding for bonding a chip to a substrate such as a lead frame, a bonding paste is applied to the surface of the substrate. As one of the paste application methods, drawing application is used in which a required application is performed in an application area on a substrate surface by moving an application nozzle while discharging a paste from an application nozzle by a dispenser. In this method, a moving path of a coating nozzle from a coating start point to a coating end point is set in a coating area set according to a chip shape. This movement path has various shapes according to the application pattern. For example, for a rectangular application area, a cross shape in which the application nozzle is moved in an X-shape, or an asterisk shape in which a cross is further superimposed on this cross shape, etc. Is used.

 ところが従来のペースト塗布装置による描画塗布には、以下のような種々の問題点があった。まず上述のクロス形状やアスタリスク形状は複数の線分の組み合わせより成っており、従来は各線分を描画させる度に塗布ノズルを昇降させ、この昇降動作毎にディスペンサからのペーストの吐出を断続するようにしていた。ペースト吐出の断続には、断続指令後にディスペンサが実際に断続動作を行うまでの応答時間や、応答後の状態が安定するまでの安定時間を設定する必要がある。このため、パターンを構成する線分の数が増えるに従って吐出を断続する頻度が増し、したがってディスペンサが断続動作を行うのみで実際に塗布を行わない時間の割合が増し、全体の塗布効率を低下させる結果となっていた。 However, the drawing application by the conventional paste application apparatus has various problems as follows. First, the above-mentioned cross shape or asterisk shape is composed of a combination of a plurality of line segments, and conventionally, the application nozzle is raised and lowered each time each line segment is drawn, and the discharge of the paste from the dispenser is intermittently performed every time this lifting operation is performed. I was For intermittent paste ejection, it is necessary to set a response time until the dispenser actually performs the intermittent operation after the intermittent command, or a stabilization time until the state after the response is stabilized. For this reason, the frequency of intermittent ejection increases as the number of line segments constituting the pattern increases, so that the proportion of time during which the dispenser only performs the intermittent operation but does not actually perform the application increases, thereby lowering the overall application efficiency. The result was.

 また頻繁に吐出の断続を繰り返すことによって、塗布量のばらつきや吐出停止後もなお吐出口から少量のペーストが垂下するペーストの糸引き現象による塗布形状の不良などの不具合を招いていた。更には多数の線分を組み合わせて塗布を行うことから、塗布エリアの中心部分は塗布線が重なってペーストの塗布高さが高くなり、その結果塗布ノズルの下端部にペーストが付着することによる吐出不良を生じるという問題点もあった。このように従来のペースト塗布方法には、塗布効率が低くまた塗布品質を確保することが困難であるという問題点があった。 (4) Frequent intermittent ejection causes inconveniences such as a variation in the application amount and a defective application shape due to a thread stringing phenomenon of the paste in which a small amount of paste droops from the ejection port even after the ejection is stopped. Furthermore, since the application is performed by combining a large number of line segments, the application line is overlapped at the central portion of the application area, and the application height of the paste is increased. As a result, the discharge is caused by the paste adhering to the lower end of the application nozzle. There was also a problem of causing defects. As described above, the conventional paste coating method has problems that the coating efficiency is low and it is difficult to ensure the coating quality.

 そこで本発明は、塗布効率を向上させ、塗布品質を確保することができるペースト塗布装置およびペースト塗布方法を提供することを目的とする。 Therefore, an object of the present invention is to provide a paste coating apparatus and a paste coating method that can improve coating efficiency and ensure coating quality.

 請求項1記載のペース塗布装置は、塗布ノズルの吐出口からペーストを吐出させて塗布対象物の表面に設定された塗布エリア内にペーストを塗布するペースト塗布装置であって、前記吐出口からペーストを吐出させるペースト吐出手段と、前記吐出口を前記塗布対象物に対して相対的に移動させる移動手段と、前記ペースト塗布の塗布開始点、塗布終了点および前記塗布エリアの各コーナー位置近傍に設定されるノズル通過点の位置を記憶する記憶手段と、前記吐出口が前記塗布開始点から前記ノズル通過点を経由して塗布終了点に至るまでの移動を前記塗布ノズルの移動軌跡を交差させない一筆描き動作によって行わせるべく前記移動手段を制御する制御手段とを備え、前記吐出口の移動軌跡が、隣接するコーナーのノズル通過点の中間点で最も塗布エリアの中央側に入り込む形状となり、かつ前記ペーストが前記移動軌跡で囲まれた領域を満たすようにした。 The paste application device according to claim 1, wherein the paste is applied from a discharge port of a coating nozzle to apply the paste to an application area set on a surface of an object to be coated. A paste discharging means for discharging the paste, a moving means for moving the discharge port relatively to the object to be coated, and setting the application start point, the application end point of the paste application and the vicinity of each corner position of the application area. Storage means for storing the position of the nozzle passing point to be performed, and a stroke which does not intersect the movement trajectory of the application nozzle from the application start point to the application end point via the nozzle passage point. Control means for controlling the moving means so as to be performed by a drawing operation, wherein the movement trajectory of the discharge port is located between the nozzle passing points of adjacent corners. In a shape to enter the center of the most coating area, and the paste is made to satisfy a region surrounded by said movement locus.

 請求項2記載のペースト塗布装置は、請求項1記載のペースト塗布装置であって、前記塗布開始点およびまたは前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点に設定されている。 The paste application device according to claim 2 is the paste application device according to claim 1, wherein the application start point and / or the application end point is set to a center point of the application area.

 請求項3記載のペースト塗布装置は、請求項1記載のペースト塗布装置であって、前記塗布開始点および前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点の近傍に設定されている。 According to a third aspect of the present invention, in the paste application apparatus according to the first aspect, the application start point and the application end point are set near a center point of the application area.

 請求項4記載のペースト塗布装置は、請求項1記載のペースト塗布装置であって、前記塗布開始点および前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点の近傍の同一点に設定されている。 According to a fourth aspect of the present invention, in the paste application apparatus according to the first aspect, the application start point and the application end point are set to the same point near a center point of the application area.

 請求項5記載のペースト塗布方法は、塗布ノズルの吐出口からペーストを吐出させて塗布対象物の表面に設定された塗布エリア内にペーストを塗布するペースト塗布方法であって、前記塗布ノズルの吐出口を塗布開始点から前記塗布エリアの各コーナー位置近傍に設定されるノズル通過点を経由して塗布終了点に至るまでの移動経路を前記塗布ノズルの移動軌跡を交差させない一筆描き動作によって移動させることによりペーストを描画塗布する工程において、1つのコーナーのノズル通過点から次のコーナーのノズル通過点に至る移動経路が、前記2つのノズル通過点を結ぶ直線に対して前記塗布エリアの内側に入り込む形状となり、かつ、前記ペーストが前記移動軌跡で囲まれた領域を満たすようにした。 The paste application method according to claim 5, wherein the paste is applied from an ejection port of an application nozzle to apply the paste into an application area set on a surface of an application object, wherein the application nozzle discharges the paste. The outlet is moved by a one-stroke operation that does not intersect the movement locus of the application nozzle from the application start point to the application end point via the nozzle passing point set near each corner of the application area. Thereby, in the step of drawing and applying the paste, the moving path from the nozzle passing point at one corner to the nozzle passing point at the next corner enters the inside of the application area with respect to a straight line connecting the two nozzle passing points. The paste was formed into a shape, and the paste filled an area surrounded by the movement trajectory.

 請求項6記載のペースト塗布方法は、請求項5記載のペースト塗布方法であって、前記塗布開始点およびまたは前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点に設定されている。 According to a sixth aspect of the present invention, there is provided the paste applying method according to the fifth aspect, wherein the application start point and / or the application end point are set to a center point of the application area.

 請求項7記載のペースト塗布方法は、請求項5記載のペースト塗布方法であって、前記塗布開始点および前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点の近傍に設定されている。 According to a seventh aspect of the present invention, there is provided the paste application method according to the fifth aspect, wherein the application start point and the application end point are set near a center point of the application area.

 請求項8記載のペースト塗布方法は、請求項5記載のペースト塗布方法であって、前記塗布開始点および前記塗布終了点が前記塗布エリアの中心点の近傍の同一点に設定されている。 According to an eighth aspect of the present invention, in the paste application method according to the fifth aspect, the application start point and the application end point are set to the same point near a center point of the application area.

 請求項9記載のペースト塗布方法は、請求項5乃至8のいずれかに記載のペースト塗布方法であって、前記塗布エリアの中央部に前記描画塗布とは別にペーストを追加塗布するようにした。 According to a ninth aspect of the present invention, there is provided the paste applying method according to any one of the fifth to eighth aspects, wherein a paste is additionally applied to a central portion of the application area in addition to the drawing application.

 本発明によれば、塗布開始点から塗布エリアのコーナー位置近傍に設定されるノズル通過点を経由して塗布エリアの内側に入り込む形の移動経路をたどった後に塗布終了点に至る移動を一筆描き動作によって行うことにより、吐出の断続による塗布効率の低下や、塗布量のばらつき、塗布形状不良などの不具合を防止することができる。 According to the present invention, a single stroke of the movement from the application start point to the application end point after following a movement path of entering the inside of the application area via the nozzle passage point set near the corner position of the application area is drawn. By performing the operation, it is possible to prevent problems such as a decrease in application efficiency due to intermittent ejection, a variation in application amount, and a defective application shape.

 また好ましくは、塗布開始点および塗布終了点の位置を塗布エリアの中心点に対して適切に設定することにより、ノズル先端へのペーストの付着を防止することができる。さらに描画塗布とは別に塗布エリアの中央部にペーストを追加塗布することにより、総塗布量を調整することができる。 Preferably, the positions of the application start point and the application end point are appropriately set with respect to the center point of the application area, so that the paste can be prevented from adhering to the nozzle tip. Furthermore, the total application amount can be adjusted by additionally applying the paste to the center of the application area separately from the drawing application.

 次に本発明の実施の形態を図面を参照して説明する。図1は本発明の一実施の形態のダイボンディング装置の斜視図、図2は同ダイボンディング装置の制御系の構成を示すブロック図、図3は同ペースト塗布パターンの説明図、図4は同ペースト塗布順序の説明図、図5は同描画パターンの説明図である。 Next, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a die bonding apparatus according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a block diagram showing a configuration of a control system of the die bonding apparatus, FIG. 3 is an explanatory view of the paste application pattern, and FIG. FIG. 5 is an explanatory diagram of the paste application sequence, and FIG. 5 is an explanatory diagram of the drawing pattern.

 まず図1を参照してダイボンディング装置の構造を説明する。図1においてチップ供給部1にはウェハシート2が図示しない保持テーブルによって保持されている。ウェハシート2には多数の半導体素子であるチップ3が貼着されている。チップ供給部1の側方には搬送路5が配設されており、搬送路5はリードフレーム6を搬送しペースト塗布位置およびボンディング位置にリードフレーム6を位置決めする。チップ供給部1の上方にはボンディングヘッド4が配設されており、ボンディングヘッド4は図示しない移動機構により水平移動および上下動する。 First, the structure of the die bonding apparatus will be described with reference to FIG. In FIG. 1, a wafer sheet 2 is held by a chip supply unit 1 by a holding table (not shown). A large number of chips 3 as semiconductor elements are adhered to the wafer sheet 2. A transport path 5 is provided on the side of the chip supply unit 1. The transport path 5 transports the lead frame 6 and positions the lead frame 6 at the paste application position and the bonding position. A bonding head 4 is provided above the chip supply unit 1, and the bonding head 4 is moved horizontally and vertically by a moving mechanism (not shown).

 搬送路5の側方にはペースト塗布部9が配設されている。ペースト塗布部9は、移動テーブル10に塗布ノズル15aを備えたディスペンサのシリンジ15を装着して構成されている。移動テーブル10は、Y軸テーブル11上にX軸テーブル12を段積みし、さらにその上にL型ブラケット13を介してZ軸テーブル14を垂直方向に結合して構成されている。Y軸テーブル11、X軸テーブル12、Z軸テーブル14は、それぞれY軸モータ11a、X軸モータ12a、Z軸モータ14aを備えている。 ペ ー ス ト A paste application unit 9 is provided on the side of the transport path 5. The paste application unit 9 is configured by mounting a syringe 15 of a dispenser having an application nozzle 15a on a moving table 10. The moving table 10 is configured by stacking an X-axis table 12 on a Y-axis table 11 and vertically connecting a Z-axis table 14 via an L-shaped bracket 13 thereon. The Y-axis table 11, the X-axis table 12, and the Z-axis table 14 include a Y-axis motor 11a, an X-axis motor 12a, and a Z-axis motor 14a, respectively.

 X軸モータ12a、Y軸モータ11aおよびZ軸モータ14aを駆動することによりシリンジ15はリードフレーム6上で水平方向および上下方向に移動する。シリンジ15の内部にはチップ3をリードフレーム6に接着するペースト7が貯溜されており、シリンジ15内に空気圧を付与した状態で塗布ノズル15aを開閉するバルブ15b(図2参照)を開状態にすることにより、塗布ノズル15aの吐出口からペーストが吐出される。 By driving the X-axis motor 12a, the Y-axis motor 11a, and the Z-axis motor 14a, the syringe 15 moves on the lead frame 6 in the horizontal and vertical directions. A paste 7 for adhering the chip 3 to the lead frame 6 is stored inside the syringe 15, and a valve 15 b (see FIG. 2) that opens and closes the application nozzle 15 a while applying air pressure to the syringe 15 is opened. By doing so, the paste is discharged from the discharge port of the application nozzle 15a.

 リードフレーム6上面のチップ3がボンディングされるチップボンディング部位6aは、ペーストが塗布される塗布エリア6aであり、塗布ノズル15aの吐出口を塗布エリア6a内に位置させ、塗布ノズル15aからペーストを吐出させながら塗布ノズル15aを移動させることにより、塗布対象物であるリードフレーム6の表面に設定された塗布エリア6a内にはX字形状の塗布パターンでペースト7が塗布される。シリンジ15、塗布ノズル15aおよびシリンジ15に空気圧を付与する空気圧付与手段はペースト吐出手段であり、移動テーブル10は塗布ノズル15aの吐出口を移動させる移動手段となっている。 The chip bonding portion 6a of the upper surface of the lead frame 6 where the chip 3 is bonded is an application area 6a to which the paste is applied. The discharge port of the application nozzle 15a is located in the application area 6a, and the paste is discharged from the application nozzle 15a. The paste 7 is applied in an X-shaped application pattern in the application area 6a set on the surface of the lead frame 6, which is the object to be applied, by moving the application nozzle 15a while moving. The air pressure applying means for applying air pressure to the syringe 15, the application nozzle 15a and the syringe 15 is a paste discharging means, and the moving table 10 is a moving means for moving the discharge port of the coating nozzle 15a.

 このペースト塗布後、リードフレーム6は搬送路5上をボンディング位置8に送られ、位置決めされる。そして塗布エリア6a内に塗布されたペースト7上に、ボンディングヘッド4のノズル4aによってチップ供給部1からピックアップされたチップ3がボンディングされる。 After the paste is applied, the lead frame 6 is sent to the bonding position 8 on the transport path 5 and positioned. Then, the chip 3 picked up from the chip supply unit 1 is bonded by the nozzle 4a of the bonding head 4 onto the paste 7 applied in the application area 6a.

 次に図2を参照してダイボンディング装置の制御系について説明する。図2において、エア源20から供給されるエアはレギュレータ21を経てシリンジ15内に供給される。レギュレータ21は設定圧力を遠隔制御可能となっており、レギュレータ21を制御部28によって制御することにより、シリンジ15に供給されるエアの圧力が調整され、塗布ノズル15aから吐出されるペーストの吐出量を制御することができる。バルブ駆動部22は塗布ノズル15aを開閉するバルブ15bを駆動する。制御部28によってバルブ駆動部22を制御することにより、塗布ノズル15aからのペーストの吐出を断続させることができる。なお、レギュレータ21の設定圧力を制御部28によって制御せずに、手動操作によって圧力設定を行って所要の吐出量を得るようにしてもよい。 Next, a control system of the die bonding apparatus will be described with reference to FIG. 2, air supplied from an air source 20 is supplied into the syringe 15 via a regulator 21. The regulator 21 is capable of remotely controlling a set pressure, and by controlling the regulator 21 by the control unit 28, the pressure of the air supplied to the syringe 15 is adjusted, and the discharge amount of the paste discharged from the application nozzle 15a Can be controlled. The valve drive unit 22 drives a valve 15b that opens and closes the application nozzle 15a. By controlling the valve drive unit 22 by the control unit 28, the discharge of the paste from the application nozzle 15a can be interrupted. The pressure set by the regulator 21 may not be controlled by the control unit 28, but may be set manually to obtain a required discharge amount.

 X軸モータ駆動部23、Y軸モータ駆動部24およびZ軸モータ駆動部25はそれぞれ移動テーブル10のX軸モータ12a、Y軸モータ11aおよびZ軸モータ14aを駆動する。制御手段である制御部28によってX軸モータ駆動部23、Y軸モータ駆動部24およびZ軸モータ駆動部25を制御することにより、移動テーブル10の動作が制御され
る。
The X-axis motor drive unit 23, the Y-axis motor drive unit 24, and the Z-axis motor drive unit 25 drive the X-axis motor 12a, the Y-axis motor 11a, and the Z-axis motor 14a of the moving table 10, respectively. The operation of the moving table 10 is controlled by controlling the X-axis motor drive unit 23, the Y-axis motor drive unit 24, and the Z-axis motor drive unit 25 by the control unit 28 as control means.

 記憶部26には塗布ノズル15aの塗布動作についてのデータ、すなわち塗布エリア内に設定される塗布開始点や塗布終了点、および塗布動作中のノズル通過点の位置などのデータや、塗布ノズル15の移動速度パターンおよびペーストの吐出量などのデータが記憶される。すなわち記憶部26は記憶手段となっている、記憶部26に記憶されたデータに基づいて制御部28によって移動テーブル10に駆動される塗布ノズル15aの移動動作や、シリンジ15のノズル15aからのペーストの吐出動作を制御することにより、塗布エリア6a内に所定の描画パターンでペーストを塗布することができる。ボンディングヘッド駆動部27は、制御部28に制御されてボンディングヘッド4を駆動する。 The storage unit 26 stores data on the coating operation of the coating nozzle 15a, that is, data such as the coating start point and coating end point set in the coating area, the position of the nozzle passing point during the coating operation, and the like. Data such as a moving speed pattern and a paste discharge amount is stored. That is, the storage unit 26 serves as a storage unit. The movement operation of the application nozzle 15a driven by the movement table 10 by the control unit 28 based on the data stored in the storage unit 26, and the paste from the nozzle 15a of the syringe 15 By controlling the discharge operation, the paste can be applied in a predetermined drawing pattern in the application area 6a. The bonding head driving unit 27 drives the bonding head 4 under the control of the control unit 28.

 次に前述の描画パターンおよび描画パターンを得るためのノズル通過点について図3を参照して説明する。図3において正方形枠で示される塗布エリア6aはチップ3の搭載に先立ってペーストが塗布される範囲を示している。点Cは塗布エリア6aの中心点(面積重心点)であり、この中心点Cがこの描画パターンにおけるノズル15aによる塗布開始点および塗布終了点に設定される。
 塗布エリア6a内には、描画塗布において塗布開始点および塗布終了点以外にノズル15aが通過する通過点が設定される。塗布エリア6aの4つの各コーナー位置近傍には第1のノズル通過点P1A,P1B,P1CおよびP1Dが設定されている。塗布エリア6c内の第1のノズル通過点P1A,P1B,P1CおよびP1Dの内側には、第2のノズル通過点P2A,P2B,P2CおよびP2Dが設定されている。これらのノズル通過点のデータは記憶部26に記憶される。
Next, the above-described drawing pattern and nozzle passing points for obtaining the drawing pattern will be described with reference to FIG. An application area 6a indicated by a square frame in FIG. 3 indicates a range in which the paste is applied before the chip 3 is mounted. A point C is a center point (area center of gravity) of the application area 6a, and the center point C is set as a coating start point and a coating end point by the nozzle 15a in this drawing pattern.
In the application area 6a, a passing point through which the nozzle 15a passes is set other than the application start point and the application end point in the drawing application. First nozzle passing points P1A, P1B, P1C and P1D are set near the four corner positions of the application area 6a. Second nozzle passing points P2A, P2B, P2C and P2D are set inside the first nozzle passing points P1A, P1B, P1C and P1D in the application area 6c. The data of these nozzle passing points is stored in the storage unit 26.

 このボンディング装置は上記の様に構成されており、以下ボンディング装置の動作について説明する。図1において、搬送路5上をリードフレーム6が搬送され、ペースト塗布部9の下方に位置決めされる。次いで移動テーブル10を駆動してシリンジ15の塗布ノズル15aをリードフレーム6の塗布エリア6a上に位置させ、描画塗布が行われる。描画塗布を行うに当たっては、以下の基本的なルールに従ってノズルの移動軌跡が決定される。 This bonding apparatus is configured as described above, and the operation of the bonding apparatus will be described below. In FIG. 1, a lead frame 6 is transported on a transport path 5 and positioned below a paste application section 9. Next, the moving table 10 is driven to position the application nozzle 15a of the syringe 15 on the application area 6a of the lead frame 6, and the drawing application is performed. In performing drawing application, the movement locus of the nozzle is determined according to the following basic rules.

 (1)塗布開始と塗布終了は、塗布エリアの中心または第2のノズル通過点のいずれかに設定する。
 (2)第1のノズル通過点から、次の第1のノズル通過点へ移動する場合は、少なくとも1回は、第2のノズル通過点上を通過する。
 (3)原則として、各ノズル通過点を通過するのは1回のみとする。
 (4)ノズルの移動軌跡は交差させない。
(1) The start and end of application are set to either the center of the application area or the passing point of the second nozzle.
(2) When moving from the first nozzle passing point to the next first nozzle passing point, the vehicle passes at least once over the second nozzle passing point.
(3) As a rule, each nozzle passes only once.
(4) The movement trajectories of the nozzles do not intersect.

 なお、(3)の例外としては、塗布終了点が塗布エリアの中心に設定されている場合と、塗布開始点と塗布終了点が同じ第2のノズル通過点に設定されている場合がある。前者の場合は、ノズルが2回通過する第2のノズル通過点が1カ所発生し、後者の場合は塗布開始点および塗布終了点に設定された第2のノズル通過点上をノズルは通過しない。 例外 As exceptions to (3), there are a case where the application end point is set at the center of the application area and a case where the application start point and the application end point are set to the same second nozzle passage point. In the former case, one second nozzle passing point where the nozzle passes twice occurs, and in the latter case, the nozzle does not pass over the second nozzle passing points set as the application start point and the application end point. .

 次に描画塗布の1例を説明する。まず塗布ノズル15aを図3に示す中心点C上に移動させ、ノズル15aの下端部の塗布面からの高さが塗布に適した所定高さとなるように位置させる。そしてこの高さを保った状態で、ペースト7の吐出を開始するとともに、塗布ノズル15aを所定の経路で移動させる。まず塗布ノズル15aは中心点Cから第2のノズル通過点P2Aに至り、次いで第1のノズル通過点P1Aに向けて外側に移動する。そして第1のノズル通過点P1Aで内側に反転し、第1のノズル通過点P1Aから第2のノズル通過点P2Bを通過して再びコーナー部近傍の第1のノズル通過点P1Bに到達する。すなわち塗布ノズル15aが1つのコーナーのノズル通過点から次のコーナーのノズル
通過点に至る移動経路が、前記2つのノズル通過点(第1のノズル通過点P1A,P1B)を結ぶ直線に対して塗布エリア6aの内側に向って入り込む形状となっており、さらに隣接する前記2つのノズル通過点(第1のノズル通過点P1A,P1B)の中間点で最も塗布エリア6aの中央側に入り込む形となっている。
Next, an example of drawing application will be described. First, the application nozzle 15a is moved to the center point C shown in FIG. 3 so that the lower end of the nozzle 15a from the application surface has a predetermined height suitable for application. Then, while maintaining this height, the discharge of the paste 7 is started, and the application nozzle 15a is moved along a predetermined path. First, the application nozzle 15a reaches the second nozzle passing point P2A from the center point C, and then moves outward toward the first nozzle passing point P1A. Then, it inverts inward at the first nozzle passing point P1A, passes through the second nozzle passing point P2B from the first nozzle passing point P1A, and reaches the first nozzle passing point P1B near the corner again. That is, the moving path of the application nozzle 15a from the nozzle passing point of one corner to the nozzle passing point of the next corner is applied to a straight line connecting the two nozzle passing points (first nozzle passing points P1A and P1B). It is shaped so as to enter the inside of the area 6a, and further into the center of the application area 6a at the midpoint between the two adjacent nozzle passing points (first nozzle passing points P1A and P1B). ing.

 この後、塗布ノズル15aは同様の移動経路をたどり、第2のノズル通過点P2C、第1のノズル通過点P1C、第2のノズル通過点P2D、第1のノズル通過点P1Dを経由して再び第2のノズル通過点P2Aに戻る。そしてこの後塗布終了点としての中心点Cに到達したならば、ノズル15aからのペースト吐出を終了して塗布ノズル15を上昇させ、1つの塗布エリア6aに対する描画塗布を完了する。すなわち、この描画塗布においては、塗布開始点である中心点Cに塗布ノズル15aを下降させ、所定の移動経路を経由して再び塗布終了点である中心点Cに戻るまでの間、塗布ノズル15aは中途で塗布を中断することなく一筆描き動作で移動を行っている。また、この描画塗布においては、塗布ノズル15aの吐出口から吐出されたペーストが、塗布ノズル15aの吐出口の移動軌跡によって囲まれた領域を満たしている。 Thereafter, the application nozzle 15a follows the same movement path, and again passes through the second nozzle passing point P2C, the first nozzle passing point P1C, the second nozzle passing point P2D, and the first nozzle passing point P1D. The process returns to the second nozzle passing point P2A. After that, when the center point C as the application end point is reached, the discharge of the paste from the nozzle 15a is finished, the application nozzle 15 is raised, and the drawing application to one application area 6a is completed. That is, in this drawing application, the application nozzle 15a is moved down to the center point C, which is the application start point, and returns to the center point C, which is the application end point, via a predetermined movement path. Is moving in a one-stroke operation without interrupting application. In this drawing application, the paste discharged from the discharge port of the application nozzle 15a fills an area surrounded by the movement locus of the discharge port of the application nozzle 15a.

 なお本実施の形態では、塗布開始点および塗布終了点を塗布エリア6aの中心点Cに設定しているが、塗布開始点、塗布終了点をそれぞれ図4に示すような種々の位置に設定してもよい。すなわち図4の(イ)では、塗布開始点Psおよび塗布終了点Peのいずれもが中心点Cに設定されており、(ロ)では塗布開始点Psが中心点に、塗布終了点Peが中心点Cからオフセット量d1だけ離れた近傍に設定され、(ハ)では塗布終了点Peが中心点に、塗布開始点Psが中心点Cからオフセット量d2だけ離れた近傍に設定されている。すなわち、上記(イ)(ロ)(ハ)では塗布開始点Psおよびまたは塗布終了点Peが中心点Cに設定されている。 In the present embodiment, the coating start point and the coating end point are set at the center point C of the coating area 6a, but the coating start point and the coating end point are set at various positions as shown in FIG. You may. That is, in FIG. 4A, both the application start point Ps and the application end point Pe are set at the center point C, and in FIG. 4B, the application start point Ps is at the center point and the application end point Pe is at the center. In FIG. 3C, the coating end point Pe is set to a center point, and the coating start point Ps is set to a point near the center point C by an offset amount d2. That is, in (A), (B), and (C), the application start point Ps and / or the application end point Pe are set to the center point C.

 また、図4の(ニ)では、塗布開始点Psおよび塗布終了点Peのいずれもが中心点Cからそれぞれオフセット量d3,d4だけ離れた近傍に設定された例を示しており、さらに(ホ)では、塗布開始点Psおよび塗布終了点Peの双方が、中心点Cからオフセット量d5だけ離れた近傍の同一点に設定された例を示している。 FIG. 4D shows an example in which both the application start point Ps and the application end point Pe are set near the center point C by offset amounts d3 and d4, respectively. 2) shows an example in which both the application start point Ps and the application end point Pe are set to the same point near the center point C and separated by the offset amount d5.

 上記のように塗布開始点Ps、塗布終了点Peの位置設定を種々のパターンで行うことにより、従来描画塗布において生じていた以下のような不具合を防止することができる。すなわち、描画パターンによっては塗布エリアの中心点に塗布ノズル15aの移動経路が重なって同一範囲にペーストが重複して塗布される場合が生じ、このような重複塗布が行われると中心点Cの塗布高さが過大となる。この結果、塗布ノズル15aの下端部にペーストが付着することによるノズル目詰りなどの不具合が生じ易い。このような場合には、図4の各種パターンから適切な塗布開始点および塗布終了点の設定を選択することにより、特定範囲にペーストが集中して塗布されるのを防止することができる。 位置 By setting the positions of the application start point Ps and the application end point Pe in various patterns as described above, the following problems which have conventionally occurred in the drawing application can be prevented. In other words, depending on the drawing pattern, the movement path of the application nozzle 15a may overlap the center point of the application area, and the paste may be applied in the same range in an overlapping manner. Height becomes too large. As a result, problems such as nozzle clogging due to the paste adhering to the lower end of the application nozzle 15a are likely to occur. In such a case, it is possible to prevent the paste from being intensively applied to a specific range by selecting appropriate settings of the application start point and the application end point from the various patterns in FIG.

 図5は、上記実施の形態で示したX字形状以外の描画パターンの例を示している。図5において(イ)はアスタリスク形状であり、X字形状に十字形状を重ねて中心部の塗布量を増やしたパターンである。図中P3A〜P3Dが、第1のノズル通過点,P4A〜P4Lが第2のノズル通過点である。また(ロ)は雪印形状であり、アスタリスク形状よりも更に中心部の塗布量を増やしたものである。図中P5A〜P5Dが第1のノズル通過点、P6A〜P6Z,P6a,P6bが第2のノズル通過点である。雪印形状は、大型チップをボンディングする場合、すなわち塗布エリアが広い場合に有効である。(ハ)は塗布エリアが長方形である場合に用いられるダブルY形状であり、(ニ)はダブルY形状の中心部分の塗布量を増やしたパターンとなっている。図中P7A〜P7Dが第1のノズル通過点、P8A〜P8Gが第2のノズル通過点である。 FIG. 5 shows an example of a drawing pattern other than the X-shape shown in the above embodiment. In FIG. 5, (a) is an asterisk shape, which is a pattern in which a cross shape is overlapped with an X-shape to increase the application amount at the center. In the figure, P3A to P3D are the first nozzle passage points, and P4A to P4L are the second nozzle passage points. (B) is a snow-mark shape, in which the application amount at the center is further increased compared to the asterisk shape. In the drawing, P5A to P5D are first nozzle passing points, and P6A to P6Z, P6a, and P6b are second nozzle passing points. The snow-mark shape is effective when bonding a large chip, that is, when the application area is large. (C) is a double Y shape used when the application area is rectangular, and (d) is a pattern in which the application amount at the center of the double Y shape is increased. In the figure, P7A to P7D are the first nozzle passing points, and P8A to P8G are the second nozzle passing points.

 いずれのパターンも付記したノズル経路パターンに示すように、塗布ノズルによる描画を中断することなく一筆描きで描画塗布を行うものであり、塗布ノズルが1つのコーナーのノズル通過点から次のコーナーのノズル通過点に至る移動経路が、2つのコーナーのノズル通過点を結ぶ直線に対して塗布エリアの内側に向って入り込む形状となっている。また、いずれのパターンにおいても、塗布ノズル15aの吐出口から吐出されたペーストが、塗布ノズル15aの吐出口の移動軌跡によって囲まれた領域を満たしている。 As shown in the appended nozzle path pattern, both patterns perform drawing application in one stroke without interrupting drawing by the application nozzle. The application nozzle moves from the nozzle passing point of one corner to the nozzle of the next corner. The moving route to the passing point has a shape that enters the inside of the application area with respect to a straight line connecting the nozzle passing points of the two corners. In any of the patterns, the paste discharged from the discharge port of the application nozzle 15a fills a region surrounded by the movement locus of the discharge port of the application nozzle 15a.

 このような描画塗布のパターンを用いることにより、以下に説明する効果を得ることができる。まず一筆描きであることから次の塗布線に移るためのノズル昇降動作を行う必要がなく、ノズル移動を高速で行うことができる。またペースト吐出が連続して行われるため吐出の断続時に必要とされる応答時間や安定時間などのロス時間が発生しない。更には、吐出の断続によって生じる塗布量のばらつきや、ノズル先端からのペーストの糸引きによる塗布形状の不具合が発生しない。このように、上記塗布パターンによれば、塗布効率を向上させるとともに、塗布品質の安定したペースト塗布を行うことができる。 効果 By using such a pattern of drawing application, the following effects can be obtained. First, since it is a single stroke, there is no need to perform a nozzle elevating operation for moving to the next coating line, and the nozzle can be moved at a high speed. Further, since the paste is continuously discharged, no loss time such as a response time and a stabilization time required when the discharge is intermittently occurs. Furthermore, there is no variation in the application amount caused by the intermittent ejection, and no problem in the application shape due to stringing of the paste from the nozzle tip. As described above, according to the above-described application pattern, the application efficiency can be improved, and the paste application with stable application quality can be performed.

 なお本実施の形態では、塗布開始点から塗布終了点に至る移動途中にのみ描画塗布によるペースト塗布を行う例を示しているが、塗布ノズル15aが移動を開始する前、または移動を終了した後に、描画塗布とは別にペーストを塗布エリアの中央部に追加塗布するようにしてもよい。これにより、描画塗布のみでは全体の塗布量が確保出来ないような場合においても、塗布ノズルが静止した状態で安定して吐出を行わせて総塗布量を調整することが可能となり、高い精度の塗布量管理が実現できる。 In the present embodiment, an example is shown in which paste application by drawing application is performed only during movement from the application start point to the application end point, but before the application nozzle 15a starts moving or after the movement ends. Alternatively, the paste may be additionally applied to the center of the application area separately from the drawing application. As a result, even in the case where the entire coating amount cannot be ensured only by the drawing coating, the total coating amount can be adjusted by performing the stable ejection while the coating nozzle is stationary, and the high accuracy can be achieved. Application amount management can be realized.

 本発明のペースト塗布装置およびペースト塗布方法は、塗布開始点から塗布エリアのコーナー位置近傍に設定されるノズル通過点を経由して塗布エリアの内側に入り込む形の移動経路をたどった後に塗布終了点に至る移動を一筆描き動作によって行うようにしたので、吐出の断続による塗布効率の低下や、塗布量のばらつき、塗布形状不良などの不具合を防止することができる。
 また好ましくは、塗布開始点および塗布終了点の位置を塗布エリアの中心点に対して適切に設定するようにしたので、ノズル先端へのペーストの付着を防止することができ、さらに描画塗布とは別に塗布エリアの中央部にペーストを追加塗布するようにしたので、総塗布量を調整することができるという効果を有し、基板にチップをボンディングするため等のペースト塗布装置、ペースト塗布方法として有用である。
The paste application apparatus and the paste application method according to the present invention provide an application end point after tracing a moving path that enters the inside of the application area through a nozzle passing point set near the corner position of the application area from the application start point. Is moved by a one-stroke drawing operation, so that problems such as a decrease in application efficiency due to intermittent ejection, a variation in application amount, and a defective application shape can be prevented.
Also, preferably, the positions of the application start point and the application end point are appropriately set with respect to the center point of the application area, so that it is possible to prevent the paste from adhering to the nozzle tip, and furthermore, the drawing application Separately, the paste is additionally applied to the center of the application area, so that the total application amount can be adjusted, and it is useful as a paste application device and a paste application method for bonding chips to a substrate. It is.

本発明の一実施の形態のダイボンディング装置の斜視図1 is a perspective view of a die bonding apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態のダイボンディング装置の制御系の構成を示すブロック図FIG. 1 is a block diagram showing a configuration of a control system of a die bonding apparatus according to an embodiment of the present invention. 本発明の一実施の形態のペースト塗布パターンの説明図Explanatory drawing of the paste application pattern of one Embodiment of this invention 本発明の一実施の形態のペースト塗布順序の説明図Explanatory drawing of the paste application sequence of one embodiment of the present invention 本発明の一実施の形態の描画パターンの説明図Explanatory drawing of the drawing pattern of one Embodiment of this invention

符号の説明Explanation of reference numerals

 6 リードフレーム
 6a 塗布エリア
 7 ペースト
 10 移動テーブル
 15 シリンジ
 15a 塗布ノズル
 22 バルブ駆動部
 26 記憶部
 28 制御部
 C 中心点
 P1A、P1B、P1C、P1D 第1のノズル通過点
 P2A、P2B、P2C、P2D 第2のノズル通過点
 Ps 塗布開始点
 Pe 塗布終了点
6 Lead frame 6a Application area 7 Paste 10 Moving table 15 Syringe 15a Application nozzle 22 Valve drive unit 26 Storage unit 28 Control unit C Center point P1A, P1B, P1C, P1D First nozzle passage point P2A, P2B, P2C, P2D Nozzle passing point 2 Ps coating start point Pe coating end point

Claims (9)

 塗布ノズルの吐出口からペーストを吐出させて塗布対象物の表面に設定された塗布エリア内にペーストを塗布するペースト塗布装置であって、前記吐出口からペーストを吐出させるペースト吐出手段と、前記吐出口を前記塗布対象物に対して相対的に移動させる移動手段と、前記ペースト塗布の塗布開始点、塗布終了点および前記塗布エリアの各コーナー位置近傍に設定されるノズル通過点の位置を記憶する記憶手段と、前記吐出口が前記塗布開始点から前記ノズル通過点を経由して塗布終了点に至るまでの移動を前記塗布ノズルの移動軌跡を交差させない一筆描き動作によって行わせるべく前記移動手段を制御する制御手段とを備え、前記吐出口の移動軌跡が、隣接するコーナーのノズル通過点の中間点で最も塗布エリアの中央側に入り込む形状となり、かつ前記ペーストが前記移動軌跡で囲まれた領域を満たすことを特徴とするペースト塗布装置。 What is claimed is: 1. A paste application device configured to apply a paste to an application area set on a surface of an application object by ejecting a paste from an ejection port of an application nozzle, comprising: a paste ejection unit configured to eject the paste from the ejection port; A moving means for moving an exit relatively to the object to be coated, and a coating start point, a coating end point of the paste coating, and a position of a nozzle passing point set near each corner of the coating area are stored. The storage means, and the movement means so that the discharge port moves from the application start point to the application end point via the nozzle passing point by a one-stroke drawing operation that does not intersect the movement locus of the application nozzle. Control means for controlling the discharge port so that the movement trajectory of the discharge port is located at the center of the coating area at the intermediate point between the nozzle passing points of adjacent corners. It becomes free shape, and paste application device and satisfies the region where the paste is surrounded by the moving track.  前記塗布開始点およびまたは前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点に設定されていることを特徴とする請求項1記載のペースト塗布装置。 The paste application apparatus according to claim 1, wherein the application start point and / or the application end point are set at a center point of the application area.  前記塗布開始点および前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点の近傍に設定されていることを特徴とする請求項1記載のペースト塗布装置。 The paste application apparatus according to claim 1, wherein the application start point and the application end point are set near a center point of the application area.  前記塗布開始点および前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点の近傍の同一点に設定されていることを特徴とする請求項1記載のペースト塗布装置。 The paste application apparatus according to claim 1, wherein the application start point and the application end point are set to the same point near a center point of the application area.  塗布ノズルの吐出口からペーストを吐出させて塗布対象物の表面に設定された塗布エリア内にペーストを塗布するペースト塗布方法であって、前記塗布ノズルの吐出口を塗布開始点から前記塗布エリアの各コーナー位置近傍に設定されるノズル通過点を経由して塗布終了点に至るまでの移動経路を前記塗布ノズルの移動軌跡を交差させない一筆描き動作によって移動させることによりペーストを描画塗布する工程において、1つのコーナーのノズル通過点から次のコーナーのノズル通過点に至る移動経路が、前記2つのノズル通過点を結ぶ直線に対して前記塗布エリアの内側に入り込む形状となり、かつ前記ペーストが前記移動軌跡で囲まれた領域を満たすことを特徴とするペースト塗布方法。 A paste coating method of discharging a paste from a discharge port of a coating nozzle and applying a paste to a coating area set on a surface of an application target, wherein the discharge port of the coating nozzle is moved from a coating start point to a position in the coating area. In the step of drawing and applying the paste by moving the movement path to a coating end point through a nozzle passing point set near each corner position by a single-stroke drawing operation that does not intersect the movement locus of the coating nozzle, A moving path from a nozzle passing point at one corner to a nozzle passing point at the next corner has a shape that enters the inside of the application area with respect to a straight line connecting the two nozzle passing points, and the paste moves along the moving locus. A paste application method characterized by filling a region enclosed by a circle.  前記塗布開始点およびまたは前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点に設定されていることを特徴とする請求項5記載のペースト塗布方法。 The paste application method according to claim 5, wherein the application start point and / or the application end point are set at a center point of the application area.  前記塗布開始点および前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点の近傍に設定されていることを特徴とする請求項5記載のペースト塗布方法。 The paste application method according to claim 5, wherein the application start point and the application end point are set near a center point of the application area.  前記塗布開始点および前記塗布終了点が、前記塗布エリアの中心点の近傍の同一点に設定されていることを特徴とする請求項5記載のペースト塗布方法。 The paste application method according to claim 5, wherein the application start point and the application end point are set to the same point near a center point of the application area.  前記塗布エリアの中央部に前記描画塗布とは別にペーストを追加塗布することを特徴とする請求項5乃至8のいずれかに記載のペースト塗布方法。
9. The paste application method according to claim 5, wherein a paste is additionally applied to the center of the application area separately from the drawing application.
JP2003384932A 2003-11-14 2003-11-14 Paste coating apparatus and paste coating method Expired - Fee Related JP4134888B2 (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003384932A JP4134888B2 (en) 2003-11-14 2003-11-14 Paste coating apparatus and paste coating method

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2003384932A JP4134888B2 (en) 2003-11-14 2003-11-14 Paste coating apparatus and paste coating method

Related Parent Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP9259599A Division JP3518404B2 (en) 1999-03-31 1999-03-31 Paste application method

Publications (2)

Publication Number Publication Date
JP2004146841A true JP2004146841A (en) 2004-05-20
JP4134888B2 JP4134888B2 (en) 2008-08-20

Family

ID=32463871

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2003384932A Expired - Fee Related JP4134888B2 (en) 2003-11-14 2003-11-14 Paste coating apparatus and paste coating method

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP4134888B2 (en)

Cited By (3)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006068627A (en) * 2004-09-01 2006-03-16 V Technology Co Ltd Dispenser and flaw correction method
JP2006136864A (en) * 2004-11-15 2006-06-01 V Technology Co Ltd Liquid material supplying apparatus
JP2006181418A (en) * 2004-12-27 2006-07-13 Seiko Epson Corp Sealant drawing method, sealant drawing machine, manufacturing method of liquid crystal apparatus and manufacturing apparatus of liquid crystal apparatus

Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04111490A (en) * 1990-08-31 1992-04-13 Juki Corp Direct drawer
JPH04276634A (en) * 1991-03-04 1992-10-01 Toshiba Seiki Kk Paste coating method
JP2000140742A (en) * 1998-11-13 2000-05-23 Musashi Eng Co Ltd Paste formation
JP2000286275A (en) * 1999-03-31 2000-10-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd Paste coater, and paste coating method

Patent Citations (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JPH04111490A (en) * 1990-08-31 1992-04-13 Juki Corp Direct drawer
JPH04276634A (en) * 1991-03-04 1992-10-01 Toshiba Seiki Kk Paste coating method
JP2000140742A (en) * 1998-11-13 2000-05-23 Musashi Eng Co Ltd Paste formation
JP2000286275A (en) * 1999-03-31 2000-10-13 Matsushita Electric Ind Co Ltd Paste coater, and paste coating method

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2006068627A (en) * 2004-09-01 2006-03-16 V Technology Co Ltd Dispenser and flaw correction method
KR101184431B1 (en) 2004-09-01 2012-09-20 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 Method for correcting defect
JP2006136864A (en) * 2004-11-15 2006-06-01 V Technology Co Ltd Liquid material supplying apparatus
JP4675611B2 (en) * 2004-11-15 2011-04-27 株式会社ブイ・テクノロジー Liquid material supply device
KR101200690B1 (en) 2004-11-15 2012-11-12 브이 테크놀로지 씨오. 엘티디 Liquid material supplying apparatus
JP2006181418A (en) * 2004-12-27 2006-07-13 Seiko Epson Corp Sealant drawing method, sealant drawing machine, manufacturing method of liquid crystal apparatus and manufacturing apparatus of liquid crystal apparatus
US7678412B2 (en) 2004-12-27 2010-03-16 Seiko Epson Corporation Sealant drawing method, sealant drawing apparatus, and method and apparatus for manufacturing liquid crystal device
JP4617875B2 (en) * 2004-12-27 2011-01-26 セイコーエプソン株式会社 Manufacturing method of liquid crystal device

Also Published As

Publication number Publication date
JP4134888B2 (en) 2008-08-20

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP6875136B2 (en) Coating device, information processing device, information processing method, program
US6348234B1 (en) Paste applying method
CN102694062B (en) Pattern forming method and pattern forming apparatus
JP3518404B2 (en) Paste application method
JP4134888B2 (en) Paste coating apparatus and paste coating method
CN101318173A (en) Method of dispensing paste in paste dispenser
US6460756B2 (en) Method of applying bonding paste
JP3518403B2 (en) Paste application method
JP3738596B2 (en) Paste coating apparatus and paste coating method
JP3456179B2 (en) How to apply bonding paste
JP3304720B2 (en) Adhesive application method to lead frame
JP5690542B2 (en) Coating device
JP3903905B2 (en) Paste coating apparatus, paste coating method, and drawing performance determination apparatus in paste coating
TW201731594A (en) Film pattern writing method, coating film base material, and coating device
JP4329189B2 (en) Bonding paste applicator
CN108375927B (en) Method for setting ejection path, recording medium, and arithmetic processing device
JP2000277546A (en) Paste applying device and method
US6455099B1 (en) Method and device for applying sealant to IC having bumps
JP3436071B2 (en) Application method of bond for bonding electronic parts
JP4010659B2 (en) Paste application method and apparatus
JP2002033340A (en) Device and method for applying bonding paste
JP3893838B2 (en) Paste application method
JP4058866B2 (en) Bonding paste coating apparatus and coating method
JP3607185B2 (en) Bonding paste application method
JP3662919B2 (en) Adhesive applicator

Legal Events

Date Code Title Description
RD01 Notification of change of attorney

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421

Effective date: 20050708

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20061128

A131 Notification of reasons for refusal

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131

Effective date: 20070821

A521 Written amendment

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523

Effective date: 20071004

TRDD Decision of grant or rejection written
A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

Effective date: 20080507

A01 Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01

A61 First payment of annual fees (during grant procedure)

Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61

Effective date: 20080520

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110613

Year of fee payment: 3

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120613

Year of fee payment: 4

FPAY Renewal fee payment (event date is renewal date of database)

Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130613

Year of fee payment: 5

LAPS Cancellation because of no payment of annual fees