JP2004133390A

JP2004133390A - 液晶表示パネル

Info

Publication number: JP2004133390A
Application number: JP2003201035A
Authority: JP
Inventors: ▲薩▼文志; Wen-Jyh Sah; Chin-Cheng Chien; 簡錦誠
Original assignee: Chi Mei Electronics Corp
Current assignee: Chi Mei Optoelectronics Corp
Priority date: 2002-10-09
Filing date: 2003-07-24
Publication date: 2004-04-30
Also published as: US7034905B2; US20040070700A1; TWI248533B

Abstract

【課題】リペアラインのＲＣ遅延を小さくしてその修復成功率を高めた液晶表示パネルを提供する。
【解決手段】液晶表示パネルは、少なくとも一つの導電材料層５０を含む第一基板４６と、第一基板４６の導電材料層５０以外の領域に対応する予定領域に設けられる少なくとも一本のリペアライン４２を含む第二基板４０と、第一基板４６と第二基板４０との間に設けられる液晶層を含む。そのうち、該リペアライン４２は、第二基板４０で断線した導線を修復し、導線に伝送しようとする外部信号を、リペアライン４２を通して第二基板４０の導線に伝送させる。
【選択図】　図３

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
この発明は液晶表示パネルに関し、特にリペアライン構造が設けられる液晶表示パネルに関する。
【０００２】
【従来の技術】
従来の液晶表示パネル構造は薄膜トランジスター基板と、カラーフィルター基板と、薄膜トランジスター基板とカラーフィルター基板との間に設けられた液晶層とからなる。薄膜トランジスター基板は、複数行のデータラインと複数列のスキャンラインからなるマトリックスピクセルと、複数の薄膜トランジスターとコンデンサーなどの電子デバイスからなって、それぞれ各データラインと各スキャンラインとの交点に置かれてデータラインからの映像データ信号とスキャンラインからのスイッチ／アドレス信号を受信して各ピクセルの動作を制御するピクセル駆動回路とを含む。データラインかスキャンラインの断線による信号伝送の中断を避けるため、現在、液晶表示パネルの製作において、一般的には、パネルの周辺領域に複数のリペアラインを設け、外部から伝送された映像データまたはスイッチ／アドレス信号をリペアラインを通して液晶表示パネルに伝送してピクセルの動作を制御することによって、データラインかスキャンラインの断線による液晶表示パネルのピクセル欠陥を避ける。
【０００３】
図１を参照されたい。図１は従来の液晶表示パネルを表わす説明図である。図１によれば、液晶表示パネル１０は表示領域１２と、表示領域１２の周囲を囲む非表示領域１４とを含む。表示領域１２は複数行のデータライン２０と複数列のスキャンライン３０からなるマトリックスピクセル１６と、複数の薄膜トランジスターとコンデンサーなどの電子デバイスからなって、各行のデータラインと各列のスキャンラインとの交点にそれぞれ置かれるピクセル駆動回路とを含む。非表示領域１４にはメインシール材、周辺電子デバイス及びリペアラインなどのパッケージ試験材料が設けられる。
【０００４】
図２を参照されたい。図２は従来の液晶表示パネルを表わす断面図である。図２によれば、従来の液晶表示パネルは下基板（一般に薄膜トランジスター基板と呼ばれる）４０と、下基板４０の上方を覆う上基板（一般にカラーフィルター基板と呼ばれる）４６と、下基板４０と上基板４６との間の表示領域１２に設けられる液晶層（図に示されない）と、下基板４０と上基板４６との間の非表示領域１４に設けられて下基板４０と上基板４６を接着するメインシール材５２とを含む。下基板４０はその表面に非表示領域１４に設けられる複数のリペアライン４２と、表示領域１２と非表示領域１４の表面を覆う窒化珪素などのパシベーション層４４とを含む。上基板４６は、その表面の非表示領域１４に設けられるブラックマトリックス層４８と、表示領域１２と非表示領域１４の表面を覆う透明電極となる酸化インジウムすずなどの導電材料層５０とを含む。
【０００５】
従来の液晶表示パネル構造において、導電材料層５０は上基板４６の表面を全部（表示領域１２と非表示領域１４を含めて）覆うため、非表示領域１４における導電材料層５０とその下方において対応するリペアライン４２と、両者の間に挟まれる液晶とは液晶コンデンサー（ｌｉｑｕｉｄ　ｃｒｙｓｔａｌ　ｃａｐａｃｉｔａｎｃｅ）を形成する。よってリペアライン４２にＲＣ遅延が生じて、液晶表示パネルにおいてリペアライン４２による断線修復の成功率が低くなる。特に、大型液晶表示パネルの発展に従って、液晶表示パネルにおけるリペアラインのＲＣ遅延をいかに小さくするかが、既に製品の歩留まり向上に重要な課題となっている。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】
よってこの発明は、リペアラインのＲＣ遅延を小さくして、その修復成功率を高めた液晶表示パネルを提供することを課題とする。
【０００７】
【課題を解決するための手段】
この発明による液晶表示パネルは、少なくとも一つの導電材料層を含む第一基板と、第一基板の導電材料層以外の領域に対応する予定領域に設けられる少なくとも一本のリペアラインを含む第二基板と、第一基板と第二基板との間に設けられる液晶層を含む。そのうち該リペアラインは第二基板における断線する導線を修復し、導線に伝送しようとする外部信号を、リペアラインを通して第二基板の導線に伝送させる。
【０００８】
この発明によるリペアラインは、第二基板において、第一基板の導電材料層以外の領域に対応する部分に設けられるため、リペアラインと、第一基板の導電材料層と、液晶とからなる液晶コンデンサーの影響を小さくし、ＲＣ遅延によるリペアラインで伝送される信号への干渉を避けて、リペアラインの修復成功率を高めて液晶表示パネルの歩留まりを向上させる。
かかる液晶表示パネルの特徴を詳述するために、具体的な実施例を挙げ、図を参照にして以下に説明する。
【０００９】
【発明の実施の形態】
（第１の実施例）
図３を参照されたい。図３はこの発明の第１の実施例による液晶表示パネルを表わす断面図である。図３によれば、この発明による液晶表示パネルは、下基板（一般に薄膜トランジスター基板と呼ばれる）６０と、下基板６０の上方を覆う上基板（一般にカラーフィルター基板と呼ばれる）６６と、下基板６０と上基板６６との間の表示領域１２に設けられる液晶層（図に示されない）と、下基板６０と上基板６６との間の非表示領域１４に設けられて下基板６０と上基板６６を接着するメインシール材７２とを含む。
【００１０】
下基板６０は、その表面に、複数行のデータラインと複数列のスキャンラインを含む表示領域１２に設けられるマトリックスピクセルと、複数の薄膜トランジスターとコンデンサーなどの電子デバイスからなって、それぞれ各データラインと各スキャンラインとの交点に置かれて液晶表示パネルにおけるピクセルの動作を制御するピクセル駆動回路とを含む。なお、下基板６０の表面には、更に、非表示領域１４に複数のリペアライン６２が設けられる。リペアライン６２は表示領域１２の薄膜トランジスターなどのピクセルの外側を囲み、下基板６０における断線した導線、例えばデータラインを修復して、データラインに伝送しようとする外部データ信号を、リペアライン６２を通して対応する薄膜トランジスターまたはピクセル駆動回路に伝送する。下基板６０の表面は窒化珪素などのパシベーション層６４に覆われる。パシベーション層６４はピクセル駆動回路とリペアライン６２を覆い、下基板６０の表面にある電子デバイスを保護する。
【００１１】
上基板６６は、その表面の非表示領域１４に設けられるブラックマトリックス層６８と、表示領域１２と非表示領域１４の一部の表面を覆って透明電極となる導電材料層７０とを含む。ブラックマトリックス層６８は絶縁材料からなる不透明層であり、導電材料層７０は酸化インジウムすずなどの透明導電材料からなる。導電材料層７０をリペアライン６２の上方に設けないことが望ましい。シャドーマスクまたはフォトリソグラフィー工程によってリペアライン６２の上方以外の領域に導電材料パターンを定め、よって導電材料層７０とその下方におけるリペアライン６２からなる液晶コンデンサーと導電材料パターンによるＲＣ遅延を避ける。メインシール材７２はリペアライン６２の外側に設けられ、またはリペアライン６２の上方の一部を覆う。
【００１２】
（第２の実施例）
図４を参照されたい。図４はこの発明の第２の実施例による液晶表示パネルを表わす断面図である。図４によれば、この発明による液晶表示パネルは、下基板（一般に薄膜トランジスター基板と呼ばれる）８０と、下基板８０の上方を覆う上基板（一般にカラーフィルター基板と呼ばれる）８６と、下基板８０と上基板８６との間の表示領域１２に設けられる液晶層（図に示されない）と、下基板８０と上基板８６との間の非表示領域１４に設けられて、下基板８０と上基板８６を接着するメインシール材９２とを含む。
【００１３】
下基板８０は、その表面に、複数行のデータラインと複数列のスキャンラインを含む表示領域１２に設けられるマトリックスピクセルと、複数の薄膜トランジスターとコンデンサーなどの電子デバイスからなって、それぞれ各データラインと各スキャンラインとの交点に置かれて液晶表示パネルにおけるピクセルの動作を制御するピクセル駆動回路とを含む。なお、下基板８０の表面には、更に非表示領域１４に、複数のリペアライン８２が設けられる。リペアライン８２は表示領域１２の薄膜トランジスターなどのピクセル駆動回路の外側を囲み、下基板８０における断線した導線、例えばデータラインを修復して、データラインに伝送しようとする外部データ信号を、リペアライン８２を通して対応する薄膜トランジスターまたはピクセル駆動回路に伝送する。下基板８０の表面は窒化珪素などのパシベーション層８４に覆われる。パシベーション層８４はピクセル駆動回路とリペアライン８２を覆い、下基板８０の表面にある電子デバイスを保護する。
【００１４】
上基板８６は、その表面の非表示領域１４に設けられるブラックマトリックス層８８と、表示領域１２と非表示領域１４の一部の表面を覆う透明電極となる導電材料層９０とを含む。ブラックマトリックス層８８は絶縁材料または導電材料（例えばクロム、酸化クロム、窒化クロムなど）からなる不透明層であり、導電材料層９０は酸化インジウムすずなどの透明導電材料からなる。ブラックマトリックス層８８と導電材料層９０をリペアライン８２の上方に設けないことが望ましい。シャドーマスクまたはフォトリソグラフィー工程によってリペアライン８２の上方以外の領域に導電材料パターンを定め、よってブラックマトリックス層８８、導電材料層９０とその下方におけるリペアライン８２からなる液晶コンデンサーと導電材料パターンによるＲＣ遅延を避ける。メインシール材９２は非表示領域１４、例えばブラックマトリックス層８８の外側に設けられ、または、下基板８０のリペアライン８２以外の部分、もしくはリペアライン８２の上方の一部を覆う。
【００１５】
液晶充填の時間を効率よく節約するため、現在、大型液晶表示パネルの製作においては、一般にワンドロップフィリング（ｏｎｅ　ｄｒｏｐ　ｆｉｌｌｉｎｇ、ＯＤＦ）法によって液晶層を上下両基板の間に設け、更に、上下両基板の縁側にメインシール材露光領域を定め、メインシール材露光領域のメインシール材を硬化させて上下両基板を接着する。この発明の第２の実施例においては、ブラックマトリックス層８８はリペアライン８２の上方以外の領域に設けられるため、メインシール材９２とリペアライン８２は露光領域に設けられる。この発明による液晶表示パネルには、ＯＤＦ式液晶表示パネルの製作方法を応用できる。ブラックマトリックス層と透明電極などを、上基板におけるメインシール材露光領域以外の領域に設け、リペアラインを、下基板におけるメインシール材露光領域内に設けることによって、ブラックマトリックス層と透明電極などの導電材料がリペアラインの上方を覆わないため、ブラックマトリックス層、透明電極などの導電材料とリペアラインとによるＲＣ遅延を小さくできる。
【００１６】
以上は、この発明の好ましい実施例であって、この発明の実施の範囲を限定するものではない。よって、当業者のなし得る修正、もしくは変更であって、この発明の精神の下においてなされ、この発明に対して均等の効果を有するものは、いずれもこの発明の特許請求の範囲に属するものとする。
【００１７】
【発明の効果】
従来の液晶表示パネルと比べ、この発明は、ブラックマトリックス層と透明電極などの導電材料パターンを形成するとき、リペアラインの上方に設けるのを避けるため、リペアラインと導電材料パターンからなる液晶コンデンサーの影響を小さくし、リペアラインで伝送する信号へのＲＣ遅延による干渉を避けて、リペアラインの修復成功率を高めて液晶表示パネルの歩留まりを向上させる。
【図面の簡単な説明】
【図１】従来の液晶表示パネルを表わす説明図である。
【図２】従来の液晶表示パネルを表わす断面図である。
【図３】この発明の第１の実施例による液晶表示パネルを表わす断面図である。
【図４】この発明の第２の実施例による液晶表示パネルを表わす断面図である。
【符号の説明】
１０　　　　液晶表示パネル
１２　　　　表示領域
１４　　　　非表示領域
１６　　　　ピクセル
２０　　　　データライン
３０　　　　スキャンライン
４０、４６　　　基板
４２　　　　リペアライン
４４　　　　パシベーション層
４８　　　　ブラックマトリックス
５０　　　　導電材料層
５２　　　　メインシール材
６０、６６　　　基板
６２　　　　リペアライン
６４　　　　パシベーション層
６８　　　　ブラックマトリックス層
７０　　　　導電材料層
７２　　　　メインシール材
８０、８６　　　基板
８２　　　　リペアライン
８４　　　　パシベーション層
８８　　　　ブラックマトリックス層
９０　　　　導電材料層
９２　　　　メインシール材

Claims

液晶表示パネルであって、該液晶表示パネルは、少なくとも一つの導電材料層を含む第一基板と、
第一基板の導電材料層以外の領域に対応する予定領域に設けられた少なくとも一本のリペアラインを含む第二基板と、
第一基板と第二基板との間に設けられた液晶層を含み、
そのうち、該リペアラインは、第二基板で断線した導線を修復し、該導線に伝送しようとする外部信号を、リペアラインを通して第二基板の導線に伝送させることを特徴とする液晶表示パネル。
前記第一基板がカラーフィルター基板であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
前記第一基板の導電材料層以外の領域には、更に露光領域が設けられたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
前記予定領域が露光領域に対応することを特徴とする請求項３記載の液晶表示パネル。
前記第一基板の導電材料層以外の領域には、更に、メインシール材露光領域が設けられたことを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
前記予定領域がメインシール材露光領域に対応することを特徴とする請求項５記載の液晶表示パネル。
前記導電材料層が透明導電層であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
前記透明導電層のパターンはシャドーマスクによって定められることを特徴とする請求項７記載の液晶表示パネル。
前記透明導電層のパターンはフォトリソグラフィー工程によって定められることを特徴とする請求項７記載の液晶表示パネル。
前記導電材料層がブラックマトリックス層であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
前記第二基板が薄膜トランジスター基板であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
前記第二基板は液晶表示パネルのピクセルの動作を制御する複数の薄膜トランジスターを含むことを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
前記予定領域が複数の薄膜トランジスターを囲むことを特徴とする請求項１２記載の液晶表示パネル。
前記液晶表示パネルは、更に、第一基板において導電材料層の設けられていない部分と第二基板において複数の薄膜トランジスターの設けられていない部分との間に、第一基板と第二基板とを接着するメインシール材を含むことを特徴とする請求項１３記載の液晶表示パネル。
前記リペアラインはメインシール材と複数の薄膜トランジスターとの間に設けられたことを特徴とする請求項１４記載の液晶表示パネル。
前記メインシール材がリペアラインの上方を覆うことを特徴とする請求項１４記載の液晶表示パネル。
前記導線はデータラインであり、前記外部信号はデータ信号であることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
前記液晶層はワンドロップフィリング方式によって第一基板と第二基板との間に充填されることを特徴とする請求項１記載の液晶表示パネル。
液晶表示パネルであって、該液晶表示パネルは、
ピクセルを駆動する複数の薄膜トランジスターが設けられた表示領域を含み、表示領域外には、外部信号を複数の薄膜トランジスターに伝送するリペアラインが設けられた薄膜トランジスター基板と、
リペアライン以外の領域に対応する表面にブラックマトリックス層が設けられ、更に、ブラックマトリックス層のある表面とリペアライン以外の領域に対応する表面が透明導電層に覆われたカラーフィルター基板と、
薄膜トランジスター基板とカラーフィルター基板との間に設けられた液晶層と、薄膜トランジスター基板において、表示領域以外の部分とカラーフィルター基板の透明導電層が設けられていない部分との間に設けられ、薄膜トランジスター基板とカラーフィルター基板とを接着するメインシール材とを含むことを特徴とする液晶表示パネル。
前記リペアラインがメインシール材と表示領域との間に設けられたことを特徴とする請求項１９記載の液晶表示パネル。
前記メインシール材がリペアラインの上方を覆うことを特徴とする請求項１９記載の液晶表示パネル。
前記外部信号はデータ信号であり、データ信号は、データライン駆動回路によって薄膜トランジスター基板で断線したデータラインに伝送されることを特徴とする請求項１９記載の液晶表示パネル。
液晶表示パネルであって、該液晶表示パネルは、
表示領域と非表示領域を含む第一基板と、
第一基板の表示領域と非表示領域の第一部分に設けられた導電材料パターンと、第一基板の非表示領域の第二部分に対応する予定領域に設けられた少なくとも一本のリペアラインを含む第二基板と、
第一基板と第二基板との間に設けられた液晶層とを含み、
そのうち、該リペアラインは、第二基板において断線した導線を修復し、該導線に伝送しようとする外部信号を、リペアラインを通して第二基板の導線に伝送させることを特徴とする液晶表示パネル。
前記第一基板がカラーフィルター基板であることを特徴とする請求項２３記載の液晶表示パネル。
前記導電材料パターンが透明電極であることを特徴とする請求項２３記載の液晶表示パネル。
前記導電材料パターンはシャドーマスクによって定められることを特徴とする請求項２５記載の液晶表示パネル。
前記導電材料パターンはフォトリソグラフィー工程によって定められることを特徴とする請求項２５記載の液晶表示パネル。
前記第一基板の非表示領域の第一部分にはブラックマトリックス層が設けられたことを特徴とする請求項２３記載の液晶表示パネル。
前記第一基板の非表示領域の第二部分には第一基板と第二基板とを接着するメインシール材が設けられたことを特徴とする請求項２３記載の液晶表示パネル。
前記メインシール材はリペアラインの上方を覆うことを特徴とする請求項２９記載の液晶表示パネル。
前記メインシール材はリペアラインと隣り合った第二基板の表面を覆うことを特徴とする請求項２９記載の液晶表示パネル。
前記第二基板が薄膜トランジスター基板であることを特徴とする請求項２３記載の液晶表示パネル。
前記第二基板は液晶表示パネルのピクセルの動作を制御する複数の薄膜トランジスターを含むことを特徴とする請求項２３記載の液晶表示パネル。
前記予定領域が複数の薄膜トランジスターを囲むことを特徴とする請求項２３記載の液晶表示パネル。
前記導線はデータラインであり、前記外部信号はデータ信号であることを特徴とする請求項２３記載の液晶表示パネル。
前記液晶層はワンドロップフィリング方式によって第一基板と第二基板との間に充填されることを特徴とする請求項２３記載の液晶表示パネル。