JP2004123971A

JP2004123971A - スルホン化高分子膜の製造方法

Info

Publication number: JP2004123971A
Application number: JP2002292227A
Authority: JP
Inventors: Hidetoshi Kuromatsu; 黒松　秀寿; Kiyoyuki Minamimura; 南村　清之
Original assignee: Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Current assignee: Kanegafuchi Chemical Industry Co Ltd
Priority date: 2002-10-04
Filing date: 2002-10-04
Publication date: 2004-04-22

Abstract

【課題】優れた生産性、かつ、実質的に製造コストが低くなる方法で、燃料電池用膜として有用な特性を発現するスルホン化高分子膜の製造方法を提供する。
【解決手段】スルホン化剤が内包され、好ましくは溶媒（ハロゲン化炭化水素系化合物が好ましく、炭素数３以上がより好ましい）が内包されている反応槽に芳香族高分子化合物からなるフィルムを連続的に浸漬させることで達成される。
【選択図】なし

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、スルホン化高分子膜の製造方法およびその方法で得られたスルホン化高分子膜からなる燃料電池用に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】
近年、環境問題や省エネルギーに対する意識の高まりにより、クリーンなエネルギー源として燃料電池が脚光を浴びている。中でも、電解質にプロトン伝導性高分子膜を使用した固体高分子形燃料電池は、低温作動、小型軽量など、他の燃料電池（リン酸形、固体酸化物形、溶融炭酸塩形）にない特徴を有することから、自動車用途、家庭用コージェネレーション用途への適用が検討されてきた。
【０００３】
燃料電池用膜としては、１９５０年代に開発された、スチレン系の陽イオン交換膜があるが、燃料電池動作環境下における安定性に乏しく、本膜を用いての実用上、充分な寿命を有する燃料電池を製造するには至っていない。実用的安定性を有する燃料電池用膜としては、ナフィオン（Ｎａｆｉｏｎ，デュポン社の登録商標。以下同様）に代表されるパーフルオロカーボンスルホン酸膜が開発され、固体高分子形燃料電池を始めとし、他の電気化学素子への応用が提案されている。
【０００４】
現在、パーフルオロカーボンスルホン酸膜は非常に高価なため、固体高分子形燃料電池が広く普及する上での障害となっている。従って、この主要部材である膜コストをできる限り下げることは、固体高分子形燃料電池の普及にとって非常に重要である。
【０００５】
より安価な燃料電池用膜を得るために、従来のパーフルオロカーボンスルホン酸膜に代わり炭化水素系高分子化合物の燃料電池用膜も種々検討・提案されいる。その代表的なものとしては、スルホン化ポリエーテルエーテルケトン（たとえば、特許文献１を参照）、スルホン化ポリエーテルスルホン（たとえば、特許文献２を参照）、スルホン化ポリスルホン（たとえば、特許文献３を参照）やスルホン化ポリイミド（たとえば、特許文献４を参照）などの耐熱芳香族系高分子化合物のスルホン化物などが挙げられる。これらの炭化水素系高分子化合物からなる燃料電池用膜は、使用原料が安価で製造が容易なため、低コスト化が可能とされている。しかしながら、高いプロトン伝導度と高耐久性が要求される燃料電池用膜としては、プロトン伝導度が不充分なことが指摘されている。また、それを改善するために、スルホン酸基などのプロトン伝導性置換基の導入量を増やすと、水溶性になったり、膜の吸水率が上昇して、著しく膨潤し、機械的強度が低下するなどハンドリング性が著しく損なわれる点も指摘されている。また、燃料電池用膜として、使用可能な化学的・熱的安定性も不充分な場合が多く、実用化には至っていない。
【０００６】
炭化水素系高分子化合物からなる燃料電池用膜は、上述のような特性上の問題点に加え、製造プロセス上の問題点も多い。従来技術においては、炭化水素系高分子化合物を適当な反応条件下でスルホン化処理し、それを回収・洗浄・乾燥し、スルホン化させた炭化水素系高分子化合物を得ている。さらに燃料電池用膜として使用するには、このスルホン化させた炭化水素系高分子化合物を適当な溶媒に溶解させ、支持体上に流延塗布し、溶媒を除去している。
【０００７】
具体例を挙げると、５℃の溶解温度で５重量％以上Ｎ−メチル−２−ピロリドンに可溶なスルホン化ポリフェニレンサルファイドが提案されている。これはポリフェニレンサルファイドをスルホン化することにより、溶媒溶解性を付与し、容易にフィルムに加工できるポリマーにしたものであり、その製造方法が開示されている。（例えば特許文献５を参照）しかしながら、ここに示されている方法は、ポリフェニレンサルファイドのスルホン化、沈殿・乾燥によるスルホン化物の回収、スルホン化ポリフェニレンサルファイドの非プロトン性極性溶媒溶液の調製、製膜・溶媒除去、など種々の工程を経るものである。
【０００８】
従って、特許文献５の技術では、固体高分子形燃料電池に使用可能な燃料電池用膜を得るまでに、前述のごとく、多数の工程が必要である。それゆえ、最終的に反応させる材料費が高くなり、それぞれに反応装置などの設備が必要であり、工数が長く、また、排液処理費が必要になるなど、製造コストが高くなることが容易に推察される。
【０００９】
さらに、（特許文献６）には、スルホン化ポリフェニレンサルファイドに代表されるスルホン化芳香族高分子膜の製造方法が開示されている。このスルホン化芳香族高分子膜の製造方法において、スルホン化剤としてクロロスルホン酸、溶媒としてジクロロメタンを使用して、バッチ方式でスルホン化処理する方法が記載されている。この場合、高分子フィルムのスルホン化処理、スルホン化高分子膜の洗浄・加水分解処理、スルホン化高分子膜の乾燥処理、の各処理がバッチ処理となってしまうため、各処理毎にフィルム・膜の搬送設備が必要になることなど、設備的負荷が大きくなる傾向があり、工業的な製造方法に適さない恐れがある。
【００１０】
【特許文献１】
特開平６−９３１１４号公報
【００１１】
【特許文献２】
特開平１０―４５９１３号公報
【００１２】
【特許文献３】
特開平９−２４５８１８号公報
【００１３】
【特許文献４】
特表２０００−５１０５１１号公報
【００１４】
【特許文献５】
特表平１１−５１０１９８号公報
【００１５】
【特許文献６】
国際公開第０２／０６２８９６号パンフレット
【００１６】
【発明が解決しようとする課題】
本発明の目的は、前記問題を解決し、実質的に製造コストが低くなるような簡便な製造方法で、固体高分子形燃料電池に使用可能な特性を有するスルホン化高分子膜の製造方法を提供することである。
【００１７】
【課題を解決するための手段】
すなわち本発明の製造方法は、スルホン酸基と、芳香族高分子化合物からなるスルホン化高分子膜の製造方法であって、スルホン化剤が内包された反応槽に芳香族高分子化合物からなるフィルムを連続的に浸漬するものである。
【００１８】
さらに、連続してスルホン化剤を除去・洗浄することが好ましく、さらに、連続してスルホン化高分子膜を乾燥することが好ましい。
【００１９】
前記スルホン化剤は、クロロスルホン酸，発煙硫酸，濃硫酸，三酸化硫黄，三酸化硫黄−トリエチルフォスフェート，濃硫酸およびトリメチルシリルクロロサルフェートからなる群から選択される少なくとも１種である。
【００２０】
本発明においては、スルホン化剤に加え、溶媒が反応槽に内包されていることが好ましい。
【００２１】
前記溶媒は、ハロゲン化炭化水素系化合物であることが好ましく、さらにはハロゲン化炭化水素系化合物の炭素数が３以上であることが好ましい。
【００２２】
芳香族高分子化合物が、下記（Ａ）群から選択される少なくとも１種からなるものが好ましい。
（Ａ）群：ポリベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリベンゾチアゾール（ＰＢＴ）、ポリベンゾイミダゾール（ＰＢＩ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルスルホン（ＰＥＥＳ）、ポリアリールエーテルスルホン（ＰＡＳ）、ポリフェニレンスルホン（ＰＰＳＵ）、ポリフェニレンオキシド（ＰＰＯ）、ポリフェニレンスルホキシド（ＰＰＳＯ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリフェニレンスルフィドスルホン（ＰＰＳ／ＳＯ_２）、ポリパラフェニレン（ＰＰＰ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリスチレン（ＰＳ）、シアン酸エステル樹脂。
【００２３】
さらに、芳香族高分子化合物はポリフェニレンサルファイドであることが好ましい。
【００２４】
本発明の燃料電池膜は、上記のいずれかの製造方法で得られるスルホン化高分子膜からなる燃料電池用膜である。
【００２５】
【発明の実施の形態】
本発明のスルホン化高分子膜の製造方法は、スルホン酸基と、芳香族高分子化合物からなるスルホン化高分子膜の製造方法であって、スルホン化剤が内包された反応槽に芳香族高分子化合物からなるフィルムを連続的に浸漬するものである。本発明においては、このスルホン化処理工程に加え、さらに、連続してスルホン化剤を除去・洗浄することが好ましい。また、連続してスルホン化高分子膜を乾燥することが好ましい。
【００２６】
芳香族高分子化合物からなるフィルムを反応槽内でスルホン化剤と接触させることによって、フィルム（膜）形状のままスルホン酸基を導入することができる。従って、従来の均一反応系でスルホン化高分子を合成した後、膜形状に加工する方法と比較して、反応物の回収・精製・乾燥などの工程、スルホン化高分子の溶媒への溶解や支持体への塗布、溶媒除去などの工程が省略できる。また、バッチ処理との比較においても、本発明の方法ではスルホン化処理から乾燥処理までを連続して行うことが可能であるのに対し、バッチ処理では各処理設備間または各処理設備毎の搬送を行う必要がある。従って、付帯設備の簡略化や生産性の向上の面から好ましい。
【００２７】
また、反応槽に浸漬したフィルムに付着、包含されたスルホン化剤を除去・洗浄することを連続的に実施することにより、スルホン化剤による周辺機器の腐食の防止やフィルムのハンドリング性が改善する。除去・洗浄の条件は、使用するスルホン化剤や芳香族高分子化合物の種類を考慮して適宜設定すればよいが、水洗により残存したスルホン化剤を不活性化したり、アルカリを使用して中和処理してもよい。
【００２８】
さらに、連続してスルホン化高分子膜を乾燥することによって、実際に使用可能な形態でスルホン化高分子膜を回収することができる。乾燥条件は、使用する芳香族高分子化合物の種類やスルホン化高分子膜の特性を考慮して適宜設定すればよい。スルホン酸基が強い親水性を示すため、洗浄過程において、含水して著しく膨潤している恐れがある。そのため、乾燥時に収縮し、皺や脹れなどの凹凸が生じる恐れがある。従って、乾燥時にはスルホン化高分子膜の面方向に適度なテンションをかけて乾燥することが好ましい。また、急激な乾燥を抑制するため、調湿下で徐々に乾燥してもよい。
【００２９】
本発明において、スルホン化剤としては芳香族炭化水素化合物に適用可能な公知のスルホン化剤が使用できる。例えば、クロロスルホン酸，濃硫酸，三酸化硫黄，発煙硫酸，三酸化硫黄−トリエチルホスフェート，トリメチルシリルクロロサルフェートなどが例示できる。スルホン酸基の導入のし易さや得られたスルホン化高分子膜の特性などを考慮するとクロロスルホン酸，三酸化硫黄，発煙硫酸，濃硫酸からなる群から選択される少なくとも１種であることが好ましく、クロロスルホン酸であることがより好ましい。
【００３０】
クロロスルホン酸，三酸化硫黄，発煙硫酸などは水分と激しく反応し、有害な分解ガスの発生を伴って活性が低下する恐れがある。また、発煙硫酸などから放出される硫酸ガスや揮発した三酸化硫黄を外部放出しないようにするため、反応槽の出入口に例えば硫酸などからなる液シール槽を設けても良い。
【００３１】
本発明においては、スルホン化剤に加え、溶媒が反応槽に内包されていることが好ましい。即ち、スルホン化剤と溶媒の混合溶液に、芳香族高分子化合物からなるフィルムを供給することによって、スルホン化剤と激しく接触しすぎて、フィルムが劣化するのを抑制することができる。適切な溶媒を使用することによって、スルホン化剤がフィルム内部まで浸透しやすくなるため、スルホン酸基が内部まで均一に導入されやすくなり好ましい。
【００３２】
本発明においては、実質的にスルホン化剤と反応しないものであれば使用可能である。特にフィルム内部まで均一にスルホン酸基を導入することを考慮すると、溶媒単独あるいはスルホン化剤と溶媒の混合系で、芳香族高分子化合物からなるフィルムを膨潤させ易いものが好ましい。このような溶媒としては、例えば、ｎ−ヘキサンなどの炭化水素溶媒、テトラヒドロフラン、ジオキサンなどのエーテル系溶媒、ジメチルスルホキシド、ジエチルスルホキシドなどのスルホキシド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルホルムアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルホルムアミドなどのホルムアミド系溶媒、Ｎ，Ｎ−ジメチルアセトアミド、Ｎ，Ｎ−ジエチルアセトアミドなどのアセトアミド系溶媒、Ｎ−メチル−２−ピロリドン、Ｎ−ビニル−２−ピロリドンなどのピロリドン系溶媒、１，１，２，２−テトラクロロエタン、１，１，１，２−テトラクロロエタン、１，１，１−トリクロロエタン、１，２−ジクロロエタン、トリクロロエチレン、テトラクロロエチレン、ジクロロメタン、クロロホルム、１−クロロプロパン、１−ブロモプロパン、１−クロロブタン、２−クロロブタン、１−クロロ２−メチルプロパン、１−ブロモブタン、２−ブロモブタン、１−ブロモ２−メチルプロパン、１−クロロペンタン、１−ブロモペンタン、１−クロロヘキサン、１−ブロモヘキサン、クロロシクロヘキサン、ブロモシクロヘキサンなどのハロゲン化炭化水素系化合物などが挙げられる。本発明においては、スルホン酸基の導入のし易さ、得られたスルホン化高分子膜の特性などを考慮すると、ハロゲン化炭化水素系化合物であることが好ましく、さらに廃棄等の製造設備上の対策や作業環境などを考慮すると、１−クロロブタンなどの炭素数３以上のハロゲン化炭化水素系化合物であることが好ましい。これらの溶媒は、必要に応じて２種以上を混合して使用しても良い。特に、炭素数２以下のハロゲン化炭化水素化合物は低沸点のため、生産性を上げるために反応温度を高くする場合は、さらに製造設備上の対策が必要となる。
【００３３】
反応槽の温度は、使用するスルホン化剤や溶媒の種類を考慮して適宜設定すればよいが、概ね１０〜６０℃程度が好ましい。この範囲よりも、温度が低い場合には反応が進行しにくくなり、フィルムの供給速度を下げたり、反応槽を大きくして、フィルムとスルホン化剤の接触時間を稼ぐ必要が生じ、生産性が低下する恐れがある。また、この範囲よりも温度が高い場合には、副反応が生じたり、急激に反応が進行しすぎ、膜特性が低下する恐れがある。反応温度は使用する溶媒種や目標とするスルホン酸基導入量や生産性を考慮し、適宜設定すればよい。
【００３４】
フィルムの供給速度は、フィルムやスルホン化高分子膜の強度、スルホン化剤や溶媒の種類、目標とするスルホン酸基導入量などの膜特性や生産量などを考慮して、設定すればよい。概ね０．１ｍ／分〜１０ｍ／分程度であることが好ましい。この範囲よりも遅い場合は、生産性が不充分となったり、スルホン酸基の導入量が多くなりすぎて、膜物性が低下するなどの恐れがある。また、この範囲よりも速い場合は、スルホン酸基の導入量が不充分となったり、フィルム搬送時にフィルムが破損するなどの恐れがある。
【００３５】
本発明においては、芳香族高分子化合物が、下記（Ａ）群から選択される少なくとも１種からなるものが好ましい。
（Ａ）群：ポリベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリベンゾチアゾール（ＰＢＴ）、ポリベンゾイミダゾール（ＰＢＩ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルスルホン（ＰＥＥＳ）、ポリアリールエーテルスルホン（ＰＡＳ）、ポリフェニレンスルホン（ＰＰＳＵ）、ポリフェニレンオキシド（ＰＰＯ）、ポリフェニレンスルホキシド（ＰＰＳＯ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリフェニレンスルフィドスルホン（ＰＰＳ／ＳＯ_２）、ポリパラフェニレン（ＰＰＰ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリスチレン（ＰＳ）、シアン酸エステル樹脂。
【００３６】
これらの芳香族高分子化合物は、単独、あるいは、２種以上の共重合体、あるいは、必要に応じて２種以上を混合したものを使用しても良い。さらには、得られる膜の特性を考慮して、可塑剤や酸化防止剤、フィラーなどを適宜添加、混合しても構わない。これによって、本発明の製造方法で得られるスルホン化高分子膜は、優れたプロトン伝導度、耐加水分解性・耐酸化性に代表される化学的安定性、メタノールなどのアルコール類の燃料遮断性、酸素・空気などの酸化剤遮断性に優れ、好ましい。
【００３７】
これらの中でも、工業的入手の容易さ、得られる膜の特性、などを考慮した場合、ポリフェニレンサルファイドであることが好ましい。
【００３８】
これらの芳香族高分子化合物からなるフィルムは、融点以上の温度で高分子化合物を溶融させて実施する熱プレス成形や溶融押し出し成形により得られるものや、適当な溶媒に溶解させた後、その溶液を基板上に流延塗布し、溶媒を除去する流延塗布法により得られるものなどが使用可能である。
【００３９】
本発明において、芳香族高分子化合物からなるフィルムの内部まで均一にスルホン酸基を導入するには、使用するフィルムの厚みが概ね５〜１００μｍの範囲であることが好ましい。この範囲よりも薄い場合は、フィルムの機械的強度が不足し、フィルムを連続的に搬送するときやスルホン化時にフィルムが破壊する恐れがある。また、得られたスルホン化高分子膜を例えば燃料電池用膜として使用する場合においても、膜の破壊などが生じやすくなる恐れがある。一方、この範囲よりも厚い場合は、フィルム内部までスルホン酸基が導入されにくくなったり、フィルムの表面と内部でスルホン酸基の導入量に大きな分布が生じ、安定した性能が発現しにくくなる恐れがある。
【００４０】
本発明の製造方法で得られるスルホン化高分子膜のイオン交換容量は、概ね０．３〜３ミリ当量／ｇであることが好ましい。この範囲よりも小さい場合は、スルホン酸基の導入量が少なくなり、燃料電池用膜として必要なプロトン伝導度が充分に発現しない恐れがある。また、この範囲よりも大きい場合は、スルホン酸基の導入量が必要以上に多くなりすぎ、例えば膜が脆くなる等の機械的特性が低下したり、水やメタノールなどのアルコール類に溶解しやすくなる等して、燃料電池用膜として使用できなくなる恐れがある。
【００４１】
本発明の製造方法で得られるスルホン化高分子膜は、室温でのプロトン伝導度が１．０×１０^−２Ｓ／ｃｍ以上であることが好ましい。この範囲よりも小さい場合には、プロトンの移動に対する膜抵抗が大きくなり、充分な発電特性を発現しにくくなる傾向を生ずる。
【００４２】
本発明の製造方法で得られるスルホン化高分子膜は、実用的な機械的強度や燃料・酸化剤の遮断性を有する範囲で、薄い程良い。イオン交換容量やプロトン伝導度が同等であれば、厚みが薄くなるほど、膜抵抗が低くなるため、概ね５〜１００μｍの厚さであることが好ましい。
【００４３】
本発明の製造方法で得られるスルホン化高分子膜は、プロトン伝導性、化学的・熱的安定性、機械的特性を備えており、固体高分子形燃料電池やメタノールなどのアルコール類を使用する直接アルコール形燃料電池に使用可能な燃料電池用膜として好ましい。実際に、燃料電池用膜として使用する場合には、ナフィオンに代表されるパーフルオロカーボンスルホン酸膜で適用されている公知の方法で、触媒や電極を膜上に接合し、これらと燃料および酸化剤の供給路、集電体から燃料電池セルが構成することができる。また、必要な出力を得るため、セルを複数枚配置して、スタックを構成し、使用することもできる。燃料としては、純水素、メタノール・天然ガス・ガソリンなどの改質水素ガス、メタノールなどのアルコール類、ジメチルエーテルなどが使用可能である。
【００４４】
次の本発明のスルホン化高分子膜の製造方法の工程および装置の一例について、図面を引用して説明する。図１のスルホン化剤貯蔵槽１はクロロスルホン酸や発煙硫酸などが、溶媒貯蔵槽２はジクロロエタンや１−クロロブタンなどがそれぞれ貯蔵されている。これらが、反応液貯蔵槽３において、スルホン化剤の濃度が所定値になるように混合され、反応槽４に供給、貯留される。洗浄槽５ａ、５ｂにはそれぞれ水が貯留されており、反応槽４に連続して浸漬されたフィルムが供給され、付着、残存した反応溶液が洗浄、除去される。さらに乾燥槽６において、乾燥されて、スルホン化高分子膜が得られる。芳香族高分子化合物からなるフィルムは、図２の被処理物のフィルムロールから連続して、反応槽４、洗浄槽５ａ、５ｂ、乾燥槽６に連続して供給され、目的物であるスルホン化高分子膜は、巻き取りロール９にて連続的に回収される。絞りロール８は次槽に供給されるフィルムに付随する溶液を除去する役割を果たす。
【００４５】
尚、図１および図２には特に記述していないが、必要に応じてそれぞれの工程において、不要物の回収工程や再処理工程などの付帯設備を設けても構わない。
【００４６】
【実施例】
以下、実施例により本発明を更に具体的に説明するが、本発明はこれらの実施例によって何ら限定されるものではなく、その要旨を変更しない範囲において適宜変更実施可能である。
【００４７】
（イオン交換容量の測定方法）
試験体を塩化ナトリウム飽和水溶液に浸漬し、ウォーターバス中で６０℃、３時間反応させる。室温まで冷却した後、サンプルをイオン交換水で充分に洗浄し、フェノールフタレイン溶液を指示薬として、０．０１Ｎの水酸化ナトリウム水溶液で滴定し、イオン交換容量を算出した。
【００４８】
（プロトン伝導度）
イオン交換水中に保管した試験体（１０ｍｍ×４０ｍｍ）を取り出し、試験体表面の水をろ紙で拭き取る。電極間距離３０ｍｍで白金電極間に試験体を装着し、２極非密閉系のテフロン（登録商標）製のセルに設置した後、室温下で電圧０．２Ｖの条件で、交流インピーダンス法（周波数：４２Ｈｚ〜５ＭＨｚ）により、試験体の膜抵抗を測定し、プロトン伝導度を算出した。
【００４９】
（引張強度および破断伸びの測定）
ＪＩＳ　Ｋ　７１２７の方法に準じて、試験体の引張強度および破断伸びを測定した。測定はｎ＝５で実施し、破断伸びについては、平均値と最大値を記録した。
【００５０】
（実施例１）
本発明に従って、スルホン化高分子膜を製造した。
【００５１】
芳香族高分子化合物からなるフィルムとして、ポリフェニレンサルファイドフィルム（商品名：トレリナ、東レ株式会社製、膜厚：５０μｍ）を使用した。
【００５２】
２Ｌのガラス容器に、三酸化硫黄濃度が６０重量％の発煙硫酸の０．８重量％ジクロロメタン溶液を満たした。この容器内に浸漬時間が３０分になるようにポリフェニレンサルファイドフィルムを連続供給した。次いで、イオン交換水を満たした２Ｌのガラス容器にこのフィルムを連続供給し、フィルムに付着した発煙硫酸やジクロロメタンを洗浄除去した。フィルムの乾燥は、２３℃に調温した恒温恒湿器内で、９８％ＲＨ、８０％ＲＨ、６０％ＲＨ、５０％ＲＨの調湿下で、それぞれ３０分間放置して行った。この方法により、３時間でスルホン化高分子膜を得た。この膜の特性の評価結果を表１、２に示した。
【００５３】
（実施例２）
発煙硫酸の代わりに、クロロスルホン酸を使用した以外は、実施例１と同様にした。この方法により、３時間でスルホン化高分子膜を得た。この膜の特性の評価結果を表１に示した。
【００５４】
（実施例３）
ジクロロメタンの代わりに、１−クロロブタンを使用した以外は、実施例１と同様にした。この方法により、３時間でスルホン化高分子膜を得た。この膜の特性の評価結果を表１、２に示した。
【００５５】
（比較例１）
５００ｍＬのセパラブルフラスコ中で、１５ｇの１，４−ポリフェニレンサルファイド（アルドリッチ製試薬、数平均分子量：１００００）を３００ｍＬのクロロスルホン酸に溶解させた。氷冷して、反応温度５℃で６０分攪拌した。次いで、反応液を２０℃にして、発煙硫酸（１５％ＳＯ_３）を１００ｍＬを滴下し、３００分攪拌した。次いで、２ｋｇの氷と６００ｍＬの硫酸（３０重量％）の混合物中に、上記反応液を攪拌しながら添加した。沈殿物を煮沸したイオン交換水中で洗浄水が中性になるまで、イオン交換水を交換しながら洗浄（イオン交換水の交換１０回、のべ洗浄時間８０時間）し、沈殿物をろ過により回収した。８０℃で３時間乾燥し、スルホン化ポリフェニレンサルファイドを得た。
【００５６】
このスルホン化ポリフェニレンサルファイドの２０重量％のＮ−メチル−２−ピロリドン溶液を調製し、ガラスシャレー上に流延させて、１５０℃で１２時間減圧乾燥して溶媒を除去した。この方法により、１００時間以上かけてスルホン化高分子膜を得た。この膜の特性の評価結果を表１に示した。
【００５７】
（比較例２）
パーフルオロカーボンスルホン酸からなるナフィオン１１５（デュポン社製）を使用した。この膜の特性の評価結果を表１に示した。
【００５８】
（比較例３）
９００ｍＬのマヨネーズ瓶に、ジクロロメタン９４５ｇ、クロロスルホン酸４．７２ｇを秤量し、クロロスルホン酸溶液を調製した。ポリフェニレンサルファイドフィルム（東レ（株）製、商品名：トレリナ、膜厚：５０μｍ）を２．２１ｇ秤量し、クロロスルホン酸溶液に浸漬接触させ、室温で０．５時間放置した（クロロスルホン酸は、ポリフェニレンサルファイドの芳香族単位に対して２当量）。室温で０．５時間放置後の高分子フィルムを回収し、イオン交換水で中性になるまで洗浄した。
【００５９】
反応終了後のポリフェニレンサルファイドフィルムを２３℃に調温した恒温恒湿器内で、９８％ＲＨ、８０％ＲＨ、６０％ＲＨ、５０％ＲＨの調湿下で、それぞれ３０分間放置して行った。この方法により、３時間でスルホン化高分子膜を得た。この膜の特性の評価結果を表１に示した。
【００６０】
（比較例４）
クロロスルホン酸溶液への浸漬時間を２０時間とした以外は、比較例３と同様にした。この方法により、２２．５時間でスルホン化高分子膜を得た。この膜の特性の評価結果を表１に示した。
【００６１】
【表１】

【００６２】
実施例１〜３と比較例２の比較から、本発明の製造方法で得られたスルホン化ポリフェニレンサルファイドからなるスルホン化高分子膜は、１０^−２Ｓ／ｃｍ以上のプロトン伝導度を示し、燃料電池用膜として有用とされる比較例２のナフィオン１１５と同等のプロトン伝導度を示した。
【００６３】
実施例２と比較例１、４の比較から、本発明の製造方法では、従来の方法と比較して、飛躍的に短い時間でスルホン化高分子膜を得ることができ、本発明の有効性が示された。また、実施例２と比較例３の比較から、従来方法に従って、同等の製造方法で製造したスルホン化高分子膜は、本発明に従って得られたものと比較して、イオン交換容量やプロトン伝導度が低値であった。従って、本発明の製造方法が有用であることが示された。
【００６４】
【表２】

【００６５】
実施例１と３の比較から、スルホン化に使用する溶媒を炭素数１のハロゲン化炭化水素化合物であるジクロロメタンから、炭素数３以上のハロゲン化炭化水素化合物である１−クロロブタンに代えることによって、機械的特性が著しく向上し、本発明の有効性が示された。
【００６６】
さらに表１から、本発明の製造方法で得られたスルホン化ポリフェニレンサルファイド膜は、１０^−２Ｓ／ｃｍ以上のプロトン伝導度を示し、燃料電池用膜として有用とされる比較例２のナフィオン１１５と同等のプロトン伝導度を示した。また、実施例１と比較例１の比較から、本発明の製造方法で得られたスルホン化ポリフェニレンサルファイド膜は、比較例の製造方法で得られたものと比較して、優れたプロトン伝導度を示し、本発明の製造方法が有用であることことが示された。
【００６７】
【発明の効果】
本発明によれば、高い生産性、かつ、実質的に安価になる製造方法であるとともに、プロトン伝導度に代表される燃料電池用膜として必要な特性を有し、燃料電池膜として有用である。
【図面の簡単な説明】
【符号の説明】
【図１】本発明のスルホン化高分子膜の製造方法の工程図
【図２】本発明のスルホン化高分子膜の製造装置図
【符号の説明】
１：スルホン化剤貯蔵槽
２：溶媒貯蔵槽
３：反応液調整槽
４：反応槽
５ａ：洗浄槽１
５ｂ：洗浄槽２
６：乾燥槽
７：被処理物のフィルムロール
８：絞りロール
９：スルホン化高分子膜巻き取りロール

Claims

スルホン酸基と、芳香族高分子化合物からなるスルホン化高分子膜の製造方法であって、スルホン化剤が内包された反応槽に芳香族高分子化合物からなるフィルムを連続的に浸漬するスルホン化高分子膜の製造方法。
さらに、連続してスルホン化剤を除去・洗浄する請求項１記載のスルホン化高分子膜の製造方法。
さらに、連続してスルホン化高分子膜を乾燥する請求項１または２のいずれかに記載のスルホン化高分子膜の製造方法。
前記スルホン化剤が、クロロスルホン酸，発煙硫酸，濃硫酸，三酸化硫黄，三酸化硫黄−トリエチルフォスフェート，濃硫酸およびトリメチルシリルクロロサルフェートからなる群から選択される少なくとも１種である請求項１〜３のいずれかに記載のスルホン化高分子膜の製造方法。
スルホン化剤に加え、溶媒が反応槽に内包されている請求項１〜４のいずれかに記載のスルホン化高分子膜の製造方法。
溶媒が、ハロゲン化炭化水素系化合物である請求項５記載のスルホン化高分子膜の製造方法。
ハロゲン化炭化水素系化合物が、炭素数３以上である請求項５または６のいずれかに記載のスルホン化高分子膜の製造方法。
芳香族高分子化合物が、下記（Ａ）群から選択される少なくとも１種からなる請求項１〜７のいずれかに記載のスルホン化高分子膜の製造方法。
（Ａ）群：ポリベンゾオキサゾール（ＰＢＯ）、ポリベンゾチアゾール（ＰＢＴ）、ポリベンゾイミダゾール（ＰＢＩ）、ポリスルホン（ＰＳＵ）、ポリエーテルスルホン（ＰＥＳ）、ポリエーテルエーテルスルホン（ＰＥＥＳ）、ポリアリールエーテルスルホン（ＰＡＳ）、ポリフェニレンスルホン（ＰＰＳＵ）、ポリフェニレンオキシド（ＰＰＯ）、ポリフェニレンスルホキシド（ＰＰＳＯ）、ポリフェニレンサルファイド（ＰＰＳ）、ポリフェニレンスルフィドスルホン（ＰＰＳ／ＳＯ_２）、ポリパラフェニレン（ＰＰＰ）、ポリエーテルケトン（ＰＥＫ）、ポリエーテルエーテルケトン（ＰＥＥＫ）、ポリエーテルケトンケトン（ＰＥＫＫ）、ポリイミド（ＰＩ）、ポリエーテルイミド（ＰＥＩ）、ポリスチレン（ＰＳ）、シアン酸エステル樹脂。
芳香族高分子化合物が、ポリフェニレンサルファイドである請求項１〜８のいずれかに記載のスルホン化高分子膜の製造方法。
請求項１〜９のいずれかの方法で得られるスルホン化高分子膜からなる燃料電池用膜。