JP2004119876A - 電子ビーム露光装置、偏向装置、及び電子ビーム露光方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】電子ビームによりウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、電子ビームを偏向する偏向器と、偏向器に電子ビームを偏向させる偏向制御信号を出力する偏向制御部と、偏向制御部が出力した偏向制御信号の値を格納する制御信号格納部とを備える。制御信号格納部及び偏向器は、一の半導体基板にモノリシックに形成されてよい。
【選択図】 図2
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、電子ビーム露光装置、偏向装置、及び電子ビーム露光方法に関する。特に本発明は、電子ビームによりウェハを露光する電子ビーム露光装置に関する。
【0002】
【従来の技術】
電子ビーム露光装置においては、偏向制御部が偏向器を制御して電子ビームを偏向する。偏向制御部と偏向器との接続の確認は、偏向された電子ビームを測定して行っていた。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】
しかし、電子ビームの測定には多くの工数を有する。そのため、従来、偏向制御部と偏向器との接続を簡易に確認するのは困難であった。
【0004】
そこで本発明は、上記の課題を解決することのできる電子ビーム露光装置、偏向装置、及び電子ビーム露光方法を提供することを目的とする。この目的は特許請求の範囲における独立項に記載の特徴の組み合わせにより達成される。また従属項は本発明の更なる有利な具体例を規定する。
【0005】
【課題を解決するための手段】
即ち、本発明の第1の形態によると、電子ビームによりウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、電子ビームを偏向する偏向器と、偏向器に電子ビームを偏向させる偏向制御信号を出力する偏向制御部と、偏向制御部が出力した偏向制御信号の値を格納する制御信号格納部とを備える。制御信号格納部及び偏向器は、一の半導体基板にモノリシックに形成されてよい。
【0006】
また、偏向制御部は複数の偏向制御信号を出力し、偏向器は、半導体基板を貫通して形成され、電子ビームを通過させる穴部と、穴部の縁部に互いに電気的に独立に形成され、それぞれが複数の偏向制御信号のそれぞれを受け取る複数の偏向電極とを有し、制御信号格納部は、複数の偏向制御信号の値を格納してよい。また、偏向制御信号を、制御信号格納部に供給するか否かを切替えるスイッチを更に備えてよい。
【0007】
また、スイッチが偏向制御信号を制御信号格納部に供給する場合、偏向制御部は、制御信号格納部に格納されるべき2値信号のいずれかの値を示す偏向制御信号を出力し、スイッチが偏向制御信号を制御信号格納部に供給しない場合、偏向制御部は、アナログ信号である偏向制御信号を出力してよい。
【0008】
また、複数の偏向器を備え、偏向制御部は複数の偏向制御信号を複数の偏向器に供給し、制御信号格納部は、複数の偏向制御信号の値を並列に格納して、偏向制御部に直列に出力してよい。
【0009】
また、偏向制御部は、クロック信号を更に出力し、制御信号格納部は、クロック信号に応じて偏向制御信号の値を出力し、偏向器が電子ビームを偏向する期間において、偏向制御部はクロック信号の出力を停止してよい。制御信号格納部は、複数の偏向器に対応してそれぞれ設けられ、対応する偏向制御信号の値を格納する複数のフリップフロップを含むシフトレジスタを有してよい。
【0010】
また、偏向制御部は、制御信号格納部が出力する偏向制御信号に基づいて、複数の偏向器のそれぞれと、偏向制御部との接続を診断してよい。偏向制御部は、偏向制御部と接続されていない偏向器を特定してよい。
【0011】
本発明の第2の形態によると、偏向制御信号に基づいて電子ビームを偏向する偏向装置であって、偏向制御信号の値を格納する制御信号格納部と、偏向制御信号に基づいて電子ビームを偏向する偏向器とを備える。
【0012】
本発明の第3の形態によると、電子ビームによりウェハを露光する電子ビーム露光方法であって、偏向器に電子ビームを偏向させる偏向制御信号を出力する偏向制御信号出力段階と、偏向制御信号出力段階で出力された偏向制御信号の値を格納する制御信号格納段階と、電子ビームを発生する電子ビーム発生段階と、電子ビームを偏向する偏向段階とを備える。
【0013】
なお上記の発明の概要は、本発明の必要な特徴の全てを列挙したものではなく、これらの特徴群のサブコンビネーションも又発明となりうる。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下、発明の実施の形態を通じて本発明を説明するが、以下の実施形態は特許請求の範囲にかかる発明を限定するものではなく、又実施形態の中で説明されている特徴の組み合わせの全てが発明の解決手段に必須であるとは限らない。
【0015】
図1は、本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置100の構成を示す。本実施形態の電子ビーム露光装置100は、偏向制御部と偏向器との接続(コンタクト)を簡易に確認する。電子ビーム露光装置100は、電子ビームによりウェハ44に所定の露光処理を施す露光部150と、露光部150に含まれる各構成の動作を制御する制御系140とを備える。
【0016】
露光部150は、筐体8内部において複数の電子ビームを発生し、電子ビームの断面形状を所望に成形する電子ビーム成形手段110と、複数の電子ビームをウェハ44に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替える照射切替手段112と、ウェハ44に転写されるパターンの像の向き及びサイズを調整するウェハ用投影系114とを含む電子光学系を備える。また、露光部150は、パターンを露光すべきウェハ44を載置するウェハステージ46と、ウェハステージ46を駆動するウェハステージ駆動部48とを含むステージ系を備える。
【0017】
電子ビーム成形手段110は、複数の電子ビームを発生させる電子ビーム発生部10と、電子ビームを通過させることにより、照射された電子ビームの断面形状を成形する複数の開口部を有する第1電子ビーム成形部14及び第2電子ビーム成形部22と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第1多軸電子レンズ16と、第1電子ビーム成形部14を通過した複数の電子ビームを独立に偏向する第1成形偏向部18及び第2成形偏向部20とを有する。そして、第2電子ビーム成形部22は、基板と、基板に設けられた複数の成形開口部と、基板を加熱する基板加熱部とを含む。
【0018】
照射切替手段112は、複数の電子ビームを独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第2多軸電子レンズ24と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に偏向させることにより、それぞれの電子ビームをウェハ44に照射するか否かを、それぞれの電子ビームに対して独立に切替えるブランキング電極アレイ26と、電子ビームを通過させる複数の開口部を含み、ブランキング電極アレイ26で偏向された電子ビームを遮蔽する電子ビーム遮蔽部材28とを有する。他の例においてブランキング電極アレイ26は、ブランキング・アパーチャ・アレイ・デバイスであってもよい。
【0019】
ウェハ用投影系114は、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、電子ビームの照射径を縮小する第3多軸電子レンズ34と、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束し、複数の電子ビームの焦点を調整する第4多軸電子レンズ36と、複数の電子ビームをウェハ44の所望の位置に、それぞれの電子ビームに対して独立に偏向する偏向部38と、ウェハ44に対する対物レンズとして機能し、複数の電子ビームをそれぞれ独立に集束する第5多軸電子レンズ52とを有する。
【0020】
制御系140は、個別制御部120及び統括制御部130を備える。個別制御部120は、電子ビーム制御部80と、多軸電子レンズ制御部82と、成形偏向制御部84と、ブランキング電極アレイ制御部86と、偏向制御部92と、ウェハステージ制御部96とを有する。統括制御部130は、例えばワークステーションであって、個別制御部120に含まれる各制御部を統括制御する。
【0021】
電子ビーム制御部80は、電子ビーム発生部10を制御する。多軸電子レンズ制御部82は、第1多軸電子レンズ16、第2多軸電子レンズ24、第3多軸電子レンズ34、第4多軸電子レンズ36及び第5多軸電子レンズ52に供給する電流を制御する。成形偏向制御部84は、第1成形偏向部18及び第2成形偏向部20を制御する。ブランキング電極アレイ制御部86は、ブランキング電極アレイ26に含まれる偏向電極に印加する電圧を制御する。偏向制御部92は、偏向部38に含まれる複数の偏向器が有する偏向電極に印加する電圧を制御する。ウェハステージ制御部96は、ウェハステージ駆動部48を制御し、ウェハステージ46を所定の位置に移動させる。
【0022】
本実施形態に係る電子ビーム露光装置100の動作について説明する。まず、電子ビーム発生部10は、複数の電子ビームを生成する。第1電子ビーム成形部14は、電子ビーム発生部10により発生され、第1電子ビーム成形部14に照射された複数の電子ビームを、第1電子ビーム成形部14に設けられた複数の開口部を通過させることにより成形する。他の例においては、電子ビーム発生部10において発生した電子ビームを複数の電子ビームに分割する手段を更に有することにより、複数の電子ビームを生成してもよい。
【0023】
第1多軸電子レンズ16は、矩形に成形された複数の電子ビームを独立に集束し、第2電子ビーム成形部22に対する電子ビームの焦点を、電子ビーム毎に独立に調整する。第1成形偏向部18は、第1電子ビーム成形部14において矩形形状に成形された複数の電子ビームを、第2電子ビーム成形部における所望の位置に照射するように、それぞれ独立に偏向する。
【0024】
第2成形偏向部20は、第1成形偏向部18で偏向された複数の電子ビームを、第2電子ビーム成形部22に対して略垂直な方向にそれぞれ偏向し、第2電子ビーム成形部22に照射する。そして矩形形状を有する複数の開口部を含む第2電子ビーム成形部22は、第2電子ビーム成形部22に照射された矩形の断面形状を有する複数の電子ビームを、ウェハ44に照射すべき所望の断面形状を有する電子ビームにさらに成形する。このとき、第2電子ビーム成形部22において、基板加熱部は、ウェハ44に照射されるべき電子ビームの断面形状に基づいて、成形開口部が設けられた基板を加熱し、基板の形状を一定に保つ。
【0025】
第2多軸電子レンズ24は、複数の電子ビームを独立に集束して、ブランキング電極アレイ26に対する電子ビームの焦点を、それぞれ独立に調整する。そして、第2多軸電子レンズ24により焦点がそれぞれ調整された複数の電子ビームは、ブランキング電極アレイ26に含まれる複数のアパーチャを通過する。
【0026】
ブランキング電極アレイ制御部86は、ブランキング電極アレイ26における各アパーチャの近傍に設けられた偏向電極に電圧を印加するか否かを制御する。ブランキング電極アレイ26は、偏向電極に印加される電圧に基づいて、電子ビームをウェハ44に照射させるか否かを切替える。
【0027】
ブランキング電極アレイに26により偏向されない電子ビームは、第3多軸電子レンズ34を通過する。そして第3多軸電子レンズ34は、第3多軸電子レンズ34を通過する電子ビームの電子ビーム径を縮小する。縮小された電子ビームは、電子ビーム遮蔽部材28に含まれる開口部を通過する。また、電子ビーム遮蔽部材28は、ブランキング電極アレイ26により偏向された電子ビームを遮蔽する。電子ビーム遮蔽部材28を通過した電子ビームは、第4多軸電子レンズ36に入射される。そして第4多軸電子レンズ36は、入射された電子ビームをそれぞれ独立に集束し、偏向部38に対する電子ビームの焦点をそれぞれ調整する。第4多軸電子レンズ36により焦点が調整された電子ビームは、偏向部38に入射される。
【0028】
偏向制御部92は、偏向部38に含まれる複数の偏向器を制御し、偏向部38に入射されたそれぞれの電子ビームを、ウェハ44に対して照射すべき位置にそれぞれ独立に偏向する。第5多軸電子レンズ52は、第5多軸電子レンズ52を通過するそれぞれの電子ビームのウェハ44に対する焦点を調整する。そしてウェハ44に照射すべき断面形状を有するそれぞれの電子ビームは、ウェハ44に対して照射すべき所望の位置に照射される。
【0029】
露光処理中、ウェハステージ駆動部48は、ウェハステージ制御部96からの指示に基づき、一定方向にウェハステージ46を連続移動させるのが好ましい。そして、ウェハ44の移動に合わせて、電子ビームの断面形状をウェハ44に照射すべき形状に成形し、ウェハ44に照射すべき電子ビームを通過させるアパーチャを定め、さらに偏向部38によりそれぞれの電子ビームをウェハ44に対して照射すべき位置に偏向させることにより、ウェハ44に所望の回路パターンを露光することができる。
【0030】
図2は、偏向部38の詳細な構成の一例を示す。偏向部38は、電子ビーム発生部10(図1参照)が発生する複数の電子ビーム402−1〜nをそれぞれ独立に偏向するマルチ偏向デバイスの一例である。偏向部38は、半導体基板300、クロック入力端子208、診断制御信号入力端子210、複数の偏向制御信号入力端子212−1a〜nb、診断結果信号出力端子214、複数の偏向器202−1〜n、シフトレジスタ200、及び複数のスイッチ206−1a〜nbを有する。
【0031】
半導体基板300は、例えばシリコン等の半導体により形成された基板である。本実施形態において、シフトレジスタ200、複数の偏向器202−1〜n、及び複数のスイッチ206−1a〜nbは、半導体基板300にモノリシックに形成される。
【0032】
クロック入力端子208、診断制御信号入力端子210、複数の偏向制御信号入力端子212−1a〜nb、及び診断結果信号出力端子214は、半導体基板300に形成され、偏向制御部92(図1参照)と電気的に接続される。クロック入力端子208は、クロック信号を偏向制御部92から受け取る。診断制御信号入力端子210は、シフトレジスタ200を制御する診断制御信号を偏向制御部92から受け取る。複数の偏向制御信号入力端子212−1a〜nbは、互いに独立な複数の偏向制御信号を、偏向制御部92から受け取る。診断結果信号出力端子214は、複数の偏向制御信号に基づく診断結果信号を偏向制御部92に出力する。
【0033】
複数の偏向器202−1〜nは、半導体基板300に、例えばアレイ状に配列して形成される。また、複数の偏向器202−1〜nのそれぞれは、偏向制御信号に基づき、複数の電子ビーム402−1〜nのそれぞれを独立に偏向する。
【0034】
偏向器202−1は、穴部304−1、及び複数の偏向電極302−1a、bを含む。穴部304−1は、半導体基板300を貫通して形成され、電子ビーム402−1を通過させる。
【0035】
複数の偏向電極302−1a、bは、穴部304−1の縁部に互いに電気的に独立に形成された電極である。偏向電極302−1aは、偏向制御信号入力端子212−1aと電気的に接続され、偏向制御部92から一の偏向制御信号を受け取る。また、偏向電極302−1bは、偏向制御信号入力端子212−1bと電気的に接続され、偏向制御部92から他の偏向制御信号を受け取る。これにより、偏向制御部92は、複数の偏向電極302−1a、bのそれぞれに電圧を印加する。偏向器202−1は、複数の偏向電極302−1a、bに印加された電圧に応じて、電子ビーム402−1を偏向する。
【0036】
複数の偏向器202−2〜nのそれぞれは、偏向器202−1と同一又は同様の機能を有するため説明を省略する。偏向制御部92は、複数の偏向電極302−1a〜nbのそれぞれに複数の偏向制御信号のそれぞれを与える。複数の偏向電極302−1a〜nbのそれぞれは、受け取った偏向制御信号に応じて、複数の電子ビーム402−1〜nのそれぞれを偏向する。
【0037】
シフトレジスタ200は、偏向制御部92が出力した複数の偏向制御信号の値を格納する制御信号格納部の一例である。本実施形態において、シフトレジスタ200は、複数のフリップフロップ204−1a〜nbを含む。複数のフリップフロップ204−1a〜nbは、複数の偏向器202−1〜nに対応してそれぞれ設けられ、対応する偏向制御信号の値を格納する。複数のフリップフロップ204−1a〜nbは、例えば、半導体基板300上に形成されたMOSトランジスタにより形成されてよい。
【0038】
複数のフリップフロップ204−1a〜nbのそれぞれは、入力端子S、CK、d0、及びd1と、出力端子qとを有する。入力端子Sは、診断制御信号入力端子210と電気的に接続され、診断制御信号を受け取る。入力端子CKは、クロック入力端子208と電気的に接続され、クロック信号を受け取る。入力端子d0は、前段のフリップフロップ204の出力端子qと電気的に接続され、そのフリップフロップ204の出力信号を受け取る。また、入力端子d1は、対応するスイッチ206を介して、対応する偏向制御信号入力端子212と電気的に接続され、偏向制御信号を受け取る。
【0039】
ここで、フリップフロップ204は、入力端子Sに受け取る診断制御信号に基づき、入力端子d0又は入力端子d1のいずれかに受け取る信号の値を、入力端子CKに受け取るクロック信号に応じて格納する。本実施形態において、フリップフロップ204は、診断制御信号が第1の値の場合には入力端子d1に受け取る偏向制御信号の値を格納し、診断制御信号が第2の値の場合には、入力端子d1に受け取る前段のフリップフロップ204の出力信号の値を格納する。
【0040】
そのため、診断制御信号が第1の値の場合、複数のフリップフロップ204−1a〜nbのそれぞれは、対応する偏向制御信号の値を格納する。これにより、シフトレジスタ200は、複数の偏向制御信号の値を並列に格納する。
【0041】
また、フリップフロップ204は、格納した値を、入力端子CKに受け取るクロック信号に応じて出力する。そのため、複数のフリップフロップ204−1a〜nbのそれぞれは、クロック信号に応じて、格納した偏向制御信号の値を次段のフリップフロップ204に供給する。これにより、シフトレジスタ200は、格納した偏向制御信号の値を、クロック信号に応じて直列に、診断結果信号出力端子214へ出力する。偏向制御部92は、シフトレジスタ200の出力信号を、複数の偏向制御信号に基づく診断結果信号として受け取る。これにより、複数の偏向電極302−1a〜nbが受け取るべき複数の偏向制御信号に対するスキャンテストを行うことができる。
【0042】
複数のスイッチ206−1a〜nbは、対応する偏向制御信号入力端子212と、シフトレジスタ200との間に形成され、複数の偏向制御信号を、シフトレジスタ200に供給するか否かを切替える。
【0043】
スイッチ206は、診断制御信号に応じて、対応する偏向制御信号入力端子212と、フリップフロップ204のd1端子とを電気的に接続する。スイッチ206は、例えば、ゲート端子に診断制御信号を受け取るMOSトランジスタトランジスタであってよい。スイッチ206は、診断制御信号が第1の値の場合に、入力端子212と、フリップフロップ204のd1端子とを電気的に接続し(オン)、第2の値の場合に遮断(オフ)する。
【0044】
本実施形態において、偏向制御部92は、偏向制御信号を、偏向制御信号入力端子212を介して、偏向器202に供給する。また、シフトレジスタ200は、偏向制御信号入力端子212と偏向器202との間における偏向制御信号の値を格納して、偏向制御信号に基づく診断結果信号を出力する。また、偏向制御信号入力端子212、偏向器202、及びシフトレジスタ200は、一の半導体基板300に形成される。そのため、偏向制御部92は、診断結果信号に基づいて、複数の偏向器202−1〜nのそれぞれと、偏向制御部92との接続を診断することができる。偏向制御部92は、例えば、診断結果信号の値を期待値と比較して、偏向制御部92と接続されていない偏向器202を特定してよい。本実施形態によれば、偏向制御部92と偏向器202との接続を簡易に確認することができる。また、これにより、電子ビーム露光装置100の不具合が、コンタクトの不良によるものか否かを容易に判断することができる。
【0045】
ここで、他の実施例において、それぞれの偏向器202は、3以上の偏向電極302を含んでもよい。3以上の偏向電極302のそれぞれは、互いに独立な偏向制御信号を受け取る。シフトレジスタ200は、それぞれの偏向器202が受け取る3以上の偏向制御信号をそれぞれ格納する。この場合も、偏向制御部92と偏向器202との接続を簡易に確認することができる。
【0046】
また、図1に関連して説明した第1成形偏向部18、第2成形偏向部20、及びブランキング電極アレイ26のそれぞれは、偏向部38と同一又は同様の構成を有してよい。この場合、第1成形偏向部18及び第2成形偏向部20は、成形偏向制御部から偏向制御信号を受け取ってよい。ブランキング電極アレイ26は、ブランキング電極アレイ制御部から偏向制御信号を受け取ってよい。
【0047】
図3は、電子ビーム露光装置100の動作の一例を示すフローチャートである。最初に、偏向制御部92は、第1の値の診断制御信号を出力して、スイッチ206をオンにする(S102)。そして、偏向制御部92は、シフトレジスタ200に格納されるべき2値信号のいずれかの値を示す偏向制御信号(デジタル偏向制御信号)を出力し(S104)、フリップフロップ204は、入力端子d1に受け取る偏向制御信号を、クロック信号に応じて格納する(S106)。
【0048】
次に、偏向制御部92は、第2の値の診断制御信号を出力して、スイッチ206をオフにし(S108)、シフトレジスタ200は、診断結果信号を、クロック信号に応じて出力する(S110)。そして、偏向制御部92は、偏向制御部92と偏向器202との接続を診断し(S112)、正しく接続されていない偏向器202がある場合、電子ビーム露光装置100は動作を終了する。この場合、電子ビーム露光装置100は、例えば、接続されていない偏向器202に対応する偏向制御信号入力端子212を特定して表示してよい。これにより、不良箇所の特定が容易になる。
【0049】
一方、S112において、全ての偏向器202が正しく接続されている場合、偏向制御部92は、クロック信号の出力を停止して(S114)、アナログ信号の偏向制御信号(アナログ偏向制御信号)を出力する(S116)。
【0050】
次に、電子ビーム発生部10は電子ビーム402を発生し、偏向器202は電子ビーム402を偏向してウェハ44を露光する(S118)。本実施形態によれば、電子ビーム402の発生に先立って、偏向制御部92と偏向器202との接続を診断することができる。
【0051】
ここで、本実施形態において、スイッチ206は、偏向器202が電子ビームを偏向する期間、オフである。スイッチ206がオンの場合、偏向制御部92は、デジタル偏向制御信号を出力する。一方、スイッチ206がオフの場合、偏向制御部92は、アナログ偏向制御信号を出力する。これにより、スイッチ206は、シフトレジスタ200をアナログ偏向制御信号から遮断する。そのため、偏向制御部92は、アナログ偏向制御信号として、デジタル偏向制御信号より大きな電圧を出力することができる。偏向制御部92は、例えば、半導体基板300に形成されるMOSトランジスタのゲート耐圧より高い電圧のアナログ偏向制御信号を出力してよい。この場合も、本実施形態によれば、高電圧のアナログ偏向制御信号によりフリップフロップ204が損傷するのを防ぐことができる。
【0052】
また、偏向器202が電子ビーム402を偏向する期間において、偏向制御部92はクロック信号の出力を停止する。これにより、偏向器202が、クロック信号に伴うノイズの影響を受けるのを防ぐことができる。
【0053】
以上、本発明を実施形態を用いて説明したが、本発明の技術的範囲は上記実施形態に記載の範囲には限定されない。上記実施形態に、多様な変更または改良を加えることができる。そのような変更または改良を加えた形態も本発明の技術的範囲に含まれ得ることが、特許請求の範囲の記載から明らかである。
【0054】
【発明の効果】
上記説明から明らかなように、本発明によれば、偏向制御部と偏向器との接続を確認することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係る電子ビーム露光装置100の構成を示す図である。
【図2】偏向部38の詳細な構成の一例を示す図である。
【図3】電子ビーム露光装置100の動作の一例を示すフローチャートである。
【符号の説明】
8・・筐体、10・・電子ビーム発生部、14・・第1電子ビーム成形部、16・・第1多軸電子レンズ、18・・第1成形偏向部、20・・第2成形偏向部、22・・第2電子ビーム成形部、24・・第2多軸電子レンズ、26・・ブランキング電極アレイ、28・・電子ビーム遮蔽部材、34・・第3多軸電子レンズ、36・・第4多軸電子レンズ、38・・偏向部、44・・ウェハ、46・・ウェハステージ、48・・ウェハステージ駆動部、52・・第5多軸電子レンズ、80・・電子ビーム制御部、82・・多軸電子レンズ制御部、84・・成形偏向制御部、86・・ブランキング電極アレイ制御部、92・・偏向制御部、96・・ウェハステージ制御部、100・・電子ビーム露光装置、110・・電子ビーム成形手段、112・・照射切替手段、114・・ウェハ用投影系、120・・個別制御系、130・・統括制御部、140・・制御系、150・・露光部、200・・・シフトレジスタ、202・・・偏向器、204・・・フリップフロップ、206・・・スイッチ、208・・・クロック入力端子、210・・・診断制御信号入力端子、212・・・偏向制御信号入力端子、214・・・診断結果信号出力端子、300・・・半導体基板、302・・・偏向電極、304・・・穴部、402・・・電子ビーム
Claims (12)
- 電子ビームによりウェハを露光する電子ビーム露光装置であって、
前記電子ビームを発生する電子ビーム発生部と、
前記電子ビームを偏向する偏向器と、
前記偏向器に前記電子ビームを偏向させる偏向制御信号を出力する偏向制御部と、
前記偏向制御部が出力した前記偏向制御信号の値を格納する制御信号格納部とを備えることを特徴とする電子ビーム露光装置。 - 前記制御信号格納部及び前記偏向器は、一の半導体基板にモノリシックに形成されたことを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記偏向制御部は複数の前記偏向制御信号を出力し、
前記偏向器は、
前記半導体基板を貫通して形成され、前記電子ビームを通過させる穴部と、
前記穴部の縁部に互いに電気的に独立に形成され、それぞれが前記複数の偏向制御信号のそれぞれを受け取る複数の偏向電極と
を有し、
前記制御信号格納部は、前記複数の偏向制御信号の値を格納することを特徴とする請求項2に記載の電子ビーム露光装置。 - 前記偏向制御信号を、前記制御信号格納部に供給するか否かを切替えるスイッチを更に備えることを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記スイッチが前記偏向制御信号を前記制御信号格納部に供給する場合、前記偏向制御部は、前記制御信号格納部に格納されるべき2値信号のいずれかの値を示す前記偏向制御信号を出力し、
前記スイッチが前記偏向制御信号を前記制御信号格納部に供給しない場合、前記偏向制御部は、アナログ信号である前記偏向制御信号を出力することを特徴とする請求項4に記載の電子ビーム露光装置。 - 複数の前記偏向器を備え、
前記偏向制御部は複数の偏向制御信号を前記複数の偏向器に供給し、
前記制御信号格納部は、前記複数の偏向制御信号の値を並列に格納して、偏向制御部に直列に出力することを特徴とする請求項1に記載の電子ビーム露光装置。 - 前記偏向制御部は、クロック信号を更に出力し、
前記制御信号格納部は、前記クロック信号に応じて前記偏向制御信号の値を出力し、
前記偏向器が前記電子ビームを偏向する期間において、前記偏向制御部は前記クロック信号の出力を停止することを特徴とする請求項6に記載の電子ビーム露光装置。 - 前記制御信号格納部は、前記複数の偏向器に対応してそれぞれ設けられ、対応する前記偏向制御信号の値を格納する複数のフリップフロップを含むシフトレジスタを有することを特徴とする請求項6に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記偏向制御部は、前記制御信号格納部が出力する前記偏向制御信号に基づいて、前記複数の偏向器のそれぞれと、前記偏向制御部との接続を診断することを特徴とする請求項6に記載の電子ビーム露光装置。
- 前記偏向制御部は、前記偏向制御部と接続されていない前記偏向器を特定することを特徴とする請求項9に記載の電子ビーム露光装置。
- 偏向制御信号に基づいて電子ビームを偏向する偏向装置であって、
前記偏向制御信号の値を格納する制御信号格納部と、
前記偏向制御信号に基づいて前記電子ビームを偏向する偏向器と
を備えることを特徴とする偏向装置。 - 電子ビームによりウェハを露光する電子ビーム露光方法であって、
偏向器に前記電子ビームを偏向させる偏向制御信号を出力する偏向制御信号出力段階と、
偏向制御信号出力段階で出力された前記偏向制御信号の値を格納する制御信号格納段階と、
前記電子ビームを発生する電子ビーム発生段階と、
前記電子ビームを偏向する偏向段階と
を備えることを特徴とする電子ビーム露光方法。
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