JP2004118017A - Image recording element and planographic printing plate original - Google Patents

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image recording element which can form image by exposure with an IR laser, has a good flaw resistance and wide development latitude, and does not cause the problems of transfer to rollers, protective paper (slip paper) and the rear surface of a support during manufacturing and conveying. <P>SOLUTION: The image recording material contains a long-chain alkyl group-containing polymer of 0.5 to 0.97 in the ratio of friction coefficient to the base polymer, which is a copolymer of long chain alkyl group-containing monomer with (a) an IR absorbent and (b) 6C or more and a hydrophilic monomer, and which can form the image by exposure with the IR laser. The planographic printing plate original has a recording layer formed by using such image recording material. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【００２５】
ｎは６〜４０の整数を表す。Ｘは２価の連結基を表す。Ｙ、Ｙ’及びＹ”は１価の有機基を表す。一般式（Ｉ）中、ｎは１０〜３０の整数が好ましく、１２〜２０の整数がより好ましい。
【００２６】
Ｘが表す２価の連結基の具体例としては、炭素数１〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキレン基、炭素数２〜２０の直鎖または分岐、鎖状または環状のアルケニレン基、炭素数２〜２０のアルキニレン基、炭素数６〜２０のアリーレン基（単環、複素環）、−ＯＣ（＝Ｏ）−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ａｒ−、−ＯＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＯＡｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−ＳＯ_２ＮＲ−、−ＳＯ_２ＮＡｒ−、−Ｏ−、（アルキレンオキシ、ポリアルキレンオキシ）、−ＯＡｒ−アリーレンオキシ、ポリアリーレンオキシ）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−ＳＯ_２Ｏ−、−ＳＯ_２ＯＡｒ−、−ＯＳＯ_２−、−ＯＳＯ_２Ａｒ−、−ＮＲＳＯ_２−、−ＮＡｒＳＯ_２−、−ＮＲＣ（＝Ｏ）−、−ＮＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＮＲＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＮＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＯＣ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−ＮＡｒ−、−ＮＲ−、−Ｎ^＋ＲＲ’−、−Ｎ^＋ＲＡｒ−、−Ｎ^＋ＡｒＡｒ’−、−Ｓ−、−ＳＡｒ−、−ＡｒＳ−、ヘテロ環基（ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素およびイオウ等を少なくとも１個以上含み、３ないし１２員環の単環、縮合環）、−ＯＣ（＝Ｓ）−、−ＯＣ（＝Ｓ）Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｓ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｓ）ＯＡｒ−、−Ｃ（＝Ｓ）ＯＡｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｓ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＳＡｒ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）ＮＲ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｓ−、−ＡｒＣ（＝Ｓ）Ｏ−、−ＡｒＯ−、−ＡｒＮＲ−等が挙げられる。ここで、Ｒ及びＲ’はＨ、直鎖または分岐、鎖状または環状のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基を表し、Ａｒ及びＡｒ’はアリール基を表す。
上記の連結基は、ここで挙げた連結基を２種類以上組み合わせて連結基を形成していても良い。このような連結基としては、炭素数６〜２０のアリーレン基（単環、複素環）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−Ｏ−（アルキレンオキシ、ポリアルキレンオキシ）、−ＯＡｒ−アリーレンオキシ、ポリアリーレンオキシ）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ａｒ−、−Ｃ（＝Ｏ）−、−Ｃ（＝Ｏ）Ａｒ−、−Ｓ−、−ＳＡｒ−、−ＡｒＳ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＯ−、−ＡｒＮＲ−等が好ましく、炭素数６〜２０のアリーレン基（単環、複素環）、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＲ−、−Ｃ（＝Ｏ）ＮＡｒ−、−Ｏ−（アルキレンオキシ、ポリアルキレンオキシ）、−ＯＡｒ−アリーレンオキシ、ポリアリーレンオキシ）、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−、−Ｃ（＝Ｏ）Ｏ−Ａｒ−、−ＳＡｒ−、−ＡｒＳ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＣ（＝Ｏ）Ｏ−、−ＡｒＯ−、−ＡｒＮＲ−等がより好ましい。
【００２７】
また、上記連結基は置換基を有していてもよく、その置換基の例としては、炭素数１〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキレン、炭素数２〜２０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニレン、炭素数２〜２０のアルキニル基、炭素数６〜２０のアリーレン、炭素数１〜２０のアシルオキシ基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜２０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜２０のカルボンアミド基、炭素数１〜２０のスルホンアミド基、炭素数１〜２０のカルバモイル基、炭素数０〜２０のスルファモイル基、炭素数１〜２０のアルコキシ基、炭素数６〜２０のアリールオキシ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜２０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素数１〜２０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素数１〜２０のアルキルスルホニル基、炭素数６〜２０のアリールスルホニル基、炭素数２〜２０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜２０のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜２０のアミノ基、炭素数１〜２０のイミノ基、炭素数３〜２０のアンモニオ基、カルボキシル基、スルホ基、オキシ基、メルカプト基、炭素数１〜２０のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜２０のアリールスルフィニル基、炭素数１〜２０のアルキルチオ基、炭素数６〜２０のアリールチオ基、炭素数１〜２０のウレイド基、炭素数２〜２０のヘテロ環基、炭素数１〜２０のアシル基、炭素数０〜２０のスルファモイルアミノ基、炭素数２〜２０のシリル基、ヒドロキシ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。
【００２８】
また、Ｙ、Ｙ’及びＹ”の具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。水素原子、炭素数１〜５０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルキル基（例えば、メチル、エチル、プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブチル、ｔ−ブチル、ｔ−ペンチル、シクロペンチル、シクロヘキシル、オクチル、２−エチルヘキシル、ドデシル等）、炭素数２〜５０の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニル基（例えばビニル、１−メチルビニル、シクロヘキセン−１−イル等）、炭素数２〜５０のアルキニル基（例えば、エチニル、１−プロピニル等）、炭素数６〜５０のアリール基（例えば、フェニル、ナフチル、アントリル等）、炭素数１〜５０のアシルオキシ基（例えば、アセトキシ、テトラデカノイルオキシ、ベンゾイルオキシ等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルオキシ基（例えば、メトキシカルボニルオキシ基、２−メトキシエトキシカルボニルオキシ基など）、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルオキシ基（例えばフェノキシカルボニルオキシ基など）、炭素数１〜５０のカルバモイルオキシ基（例えば、Ｎ，Ｎ−ジメチルカルバモイルオキシ等）、炭素数１〜５０のカルボンアミド基（例えば、ホルムアミド、Ｎ−メチルアセトアミド、アセトアミド、Ｎ−メチルホルムアミド、ベンツアミド等）、炭素数１〜５０のスルホンアミド基（例えば、メタンスルホンアミド、ドデカンスルホンアミド、ベンゼンスルホンアミド、ｐ−トルエンスルホンアミド等）、炭素数１〜５０のカルバモイル基（例えば、Ｎ−メチルカルバモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルカルバモイル、Ｎ−メシルカルバモイル等）、炭素数０〜５０のスルファモイル基（例えば、Ｎ−ブチルスルファモイル、Ｎ，Ｎ−ジエチルスルファモイル、Ｎ−メチル−Ｎ−（４−メトキシフェニル）スルファモイル等）、炭素数１〜５０のアルコキシ基（例えば、メトキシ、プロポキシ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、ｔ−オクチルオキシ、ドデシルオキシ、２−（２，４−ジ−ｔ−ペンチルフェノキシ）エトキシ、ポリアルキレンオキシ等）、炭素数６〜５０のアリールオキシ基（例えば、フェノキシ、４−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等）、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニル基（例えば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル等）
【００２９】
炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル基（例えば、メトキシカルボニル、ｔ−ブトキシカルボニル等）、炭素数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基（例えば、Ｎ−テトラデカノイルスルファモイル、Ｎ−ベンゾイルスルファモイル等）、炭素数１〜５０のＮ−スルファモイルカルバモイル基（例えばＮ−メタンスルホニルカルバモイル基など）、炭素数１〜５０のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘキシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜５０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルスルホニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルアミノ基（例えば、エトキシカルボニルアミノ等）、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基（例えば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボニルアミノ等）、炭素数０〜５０のアミノ基（例えばアミノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルアミノ、アニリノ、モルホリノ等）、炭素数３〜５０のアンモニオ基（例えば、トリメチルアンモニオ基、ジメチルベンジルアンモニオ基など）、シアノ基、ニトロ基、カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、炭素数１〜５０のアルキルスルフィニル基（例えば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル等）、炭素数６〜５０のアリールスルフィニル基（例えば、ベンゼンスルフィニル、４−クロロフェニルスルフィニル、ｐ−トルエンスルフィニル等）、炭素数１〜５０のアルキルチオ基（例えば、メチルチオ、オクチルチオ、シクロヘキシルチオ等）、炭素数６〜５０のアリールチオ基（例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等）、炭素数１〜５０のウレイド基（例えば、３−メチルウレイド、３，３−ジメチルウレイド、１，３−ジフェニルウレイド等）、炭素数２〜５０のヘテロ環基（ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素及びイオウ等を少なくとも１個以上含み、３ないし１２員環の単環、縮合環で、例えば、２−フリル、２−ピラニル、２−ピリジル、２−チエニル、２−イミダゾリル、モルホリノ、２−キノリル、２−ベンツイミダゾリル、２−ベンゾチアゾリル、２−ベンゾオキサゾリル等）、炭素数１〜５０のアシル基（例えば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセチル等）、炭素数０〜５０のスルファモイルアミノ基（例えば、Ｎ−ブチルスルファモイルアミノ、Ｎ−フェニルスルファモイルアミノ等）、炭素数３〜５０のシリル基（例えば、トリメチルシリル、ジメチル−ｔ−ブチルシリル、トリフェニルシリル等）、アゾ基、ハロゲン原子（例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等）が挙げられる。上記の置換基はさらに置換基を有していてもよく、その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられる。
【００３０】
また、Ｙ、Ｙ’及びＹ”のうち少なくとも２つが互いに環を形成していても良く、このような例としては脂肪族環、芳香族環、複素環基が挙げられる。
【００３１】
上記一般式（Ｉ）の具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００３２】
【化２】

【００３３】
ｎ＝６〜４０　　　　　ｎ＝６〜４０
【００３４】
【化３】

【００３５】
【化４】

【００３６】
【化５】

【００３７】
上記長鎖アルキル基含有モノマーの組成モル比は、滑り性向上の観点から１０モル％以上であることが好ましく、２０モル％以上であることがより好ましく、３０モル％以上であることが最も好ましい。
【００３８】
親水性モノマーとしては、アルカリ現像液に対する溶解性、及び、感度の観点から下記一般式（ＩＩ）で表される化合物が好ましい。
【００３９】
【化６】

【００４０】
式中、Ｚは１価の親水性基を表し、Ｗ、Ｗ’及びＷ”は１価の有機基を表す。
【００４１】
一般式（ＩＩ）において、Ｚの具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００４２】
炭素数１〜５０のアシルオキシ基、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルオキシ基、炭素数１〜５０のカルバモイルオキシ基、炭素数１〜５０のカルボンアミド基、炭素数１〜５０のカルバモイル基、炭素数０〜５０のスルファモイル基、炭素数１〜２０００のアルコキシ基、炭素数６〜２０００のアリールオキシ基、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニル基、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニル基、炭素数１〜５０のＮ−アシルスルファモイル基、炭素数１〜５０のＮ−スルファモイルカルバモイル基、炭素数１〜５０のアルキルスルホニル基（例えば、メタンスルホニル、オクチルスルホニル、２−メトキシエチルスルホニル、２−ヘキシルデシルスルホニル等）、炭素数６〜５０のアリールスルホニル基（例えば、ベンゼンスルホニル、ｐ−トルエンスルホニル、４−フェニルスルホニルフェニルスルホニル等）、炭素数２〜５０のアルコキシカルボニルアミノ基、炭素数７〜５０のアリールオキシカルボニルアミノ基、炭素数０〜５０のアミノ基、炭素数３〜５０のオニウム基（アンモニウム、スルホニウム、ジアゾニウム、ヨードニウム、イミニウム等）、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト基、炭素数１〜５０のアルキルスルフィニル基、炭素数６〜５０のアリールスルフィニル基、炭素数１〜５０のアルキルチオ基、炭素数６〜５０のアリールチオ基、炭素数１〜５０のウレイド基、炭素数１〜２０００のアルキルシロキシ基、炭素数１〜２０００のアリールシロキシ基等、フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ）、スルホンアミド基（−ＳＯ_２ＮＨ−Ｒ）、置換スルホンアミド系酸基（以下、「活性イミド基」という。）〔−ＳＯ_２ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ_２ＮＨＳＯ_２Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ_２Ｒ〕、カルボン酸基（−ＣＯ_２Ｈ）、スルホン酸基（−ＳＯ_３Ｈ）、リン酸基（−ＯＰＯ_３Ｈ_２）等が挙げられる。上記の置換基はさらに置換基を有していてもよく、その置換基の例としてはここで挙げた置換基が挙げられる。
【００４３】
上記一般式（ＩＩ）中の１価の有機基Ｗ、Ｗ’及びＷ”は、一般式（Ｉ）中の１価の有機基Ｙ、Ｙ’及びＹ”と同義のものが挙げられる。
【００４４】
上記一般式（ＩＩ）の親水性モノマーとしては、アルカリ現像液に対する溶解性、及び、感度の観点からｐＫａ１２以下の酸基を有するモノマーであることが好ましい。
【００４５】
このようなｐＫａ１２以下の酸基を有するモノマーとしては、下記（１）〜（６）に挙げる酸性基を有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性、感度の点で好ましい。
【００４６】
（１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ_２ＮＨ−Ｒ）
（３）活性イミド基（−ＳＯ_２ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ_２ＮＨＳＯ_２Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ_２Ｒ）
（４）カルボン酸基（−ＣＯ_２Ｈ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ_３Ｈ）
（６）リン酸基（−ＯＰＯ_３Ｈ_２）
上記（１）〜（６）中、Ａｒは置換基を有していてもよい２価のアリール連結基を表し、Ｒは、置換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
【００４７】
上記（１）のフェノール基を有するモノマーとしては、フェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
【００４８】
上記（２）スルホンアミド基を有するモノマーとしては、上記構造のスルホンアミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又はビニロキシ基と、スルホンアミド基とを分子内に有する低分子化合物が好ましい。例えば、下記一般式（ｉ）〜（ｖ）で表される化合物が挙げられる。
【００４９】
【化７】

【００５０】
上記一般式（ｉ）〜（ｖ）中、Ｘ^１及びＸ^２は、各々独立に、−Ｏ−又は−ＮＲ^７−を表す。Ｒ^１及びＲ^４は、各々独立に、水素原子又は−ＣＨ_３を表す。Ｒ^２、Ｒ^５、Ｒ^９、Ｒ^１２、及び、Ｒ^１６は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｒ^３、Ｒ^７、及び、Ｒ^１３は、各々独立に、水素原子、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、Ｒ^６及びＲ^１７は、各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキル基、シクロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。Ｒ^８、Ｒ^１０及びＲ^１４は、各々独立に、水素原子又は−ＣＨ_３を表す。Ｒ^１１及びＲ^１５は、各々独立に、単結合又は置換基を有していてもよい炭素数１〜１２のアルキレン基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Ｙ^１及びＹ^２は、それぞれ独立に単結合、又は−ＣＯ−を表す。
【００５１】
一般式（ｉ）〜（ｖ）で表される化合物のうち、本発明の画像記録要素では、特に、ｍ−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００５２】
上記（３）活性イミド基を有するモノマーとしては、前記構造式で表される活性イミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。中でも、下記構造式で表される活性イミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物が好ましい。
【００５３】
【化８】

【００５４】
具体的には、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）メタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−トルエンスルホニル）アクリルアミド等を好適に使用することができる。
【００５５】
上記（４）カルボン酸基を有するモノマーとしては、例えば、カルボン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。上記（５）スルホン酸基を有するモノマーとしては、例えば、スルホン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。上記（６）リン酸基を有するモノマーとしては、例えば、リン酸基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれぞれ１個以上有する化合物を挙げることができる。
【００５６】
上記のｐＫａ１２以下の酸基を有するモノマーの中でも、（１）フェノール基、（２）スルホンアミド基、（３）活性イミド基又は（４）カルボン酸を有するモノマーが好ましく、特に、（１）フェノール基又は（２）スルホンアミド基又は（４）カルボン酸を有するモノマーが、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
上記親水性モノマーの組成モル比は長鎖アルキル基含有モノマーとの共重合体成分中４０〜６０モル％が好ましい。
【００５７】
また、長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーとの共重合成分として、他のモノマーを用いることもできる。このような長鎖アルキル基含有モノマー及び親水性モノマー以外のモノマーは共重合体成分中に５０モル％以下であることが好ましく、３０モル％以下であることが耐キズ性効果の観点から、より好ましい。
【００５８】
長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマー以外のモノマーとしては、下記（７）〜（１７）に挙げる化合物を例示することができる。
【００５９】
（７）２−ヒドロキシエチルアクリレート又は２−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル類。
（８）アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル酸プロピル、アクリル酸アミル、アクリル酸ベンジル、アクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルアクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルアクリレート、ポリエチレングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリコールモノアルキレート等のアクリレート。
（９）メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタクリル酸プロピル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−２−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、Ｎ−ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレングリコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコールモノメタクリレート等のメタクリレート。
【００６０】
（１０）アクリルアミド、メタクリルアミド、Ｎ−メチロールアクリルアミド、Ｎ−エチルアクリルアミド、Ｎ−ヘキシルメタクリルアミド、Ｎ−シクロヘキシルアクリルアミド、Ｎ−ヒドロキシエチルアクリルアミド、Ｎ−フェニルアクリルアミド、Ｎ−ニトロフェニルアクリルアミド、Ｎ−エチル−Ｎ−フェニルアクリルアミド等のアクリルアミド又はメタクリルアミド。
（１１）エチルビニルエーテル、２−クロロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル等のビニルエーテル類。
（１２）ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル類。
【００６１】
（１３）スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。
（１４）メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニルケトン類。
（１５）エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジエン、イソプレン等のオレフィン類。
【００６２】
（１６）Ｎ−ビニルピロリドン、Ｎ−ビニルカルバゾール、４−ビニルピリジン、アクリロニトリル、メタクリロニトリル等。
（１７）マレイミド、Ｎ−アクリロイルアクリルアミド、Ｎ−アセチルメタクリルアミド、Ｎ−プロピオニルメタクリルアミド、Ｎ−（ｐ−クロロベンゾイル）メタクリルアミド等の不飽和イミド。
【００６３】
上記長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーの共重合方法としては、従来知られている、グラフト共重合法、ブロック共重合法、ランダム共重合法等を用いることができる。また、この共重合において、長鎖アルキル基含有モノマーの共重合成分は、２種類以上混合して用いることもできる。
【００６４】
本発明の長鎖アルキル基含有ポリマーとしては、上記のようにして得られる共重合体が用いられるが、一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位を有するポリマーであることがより好ましい。
【００６５】
【化９】

【００６６】
ここで、ｎは６〜４０の整数を表す。Ｙ、Ｙ’及びＹ”は１価の有機基を表す。Ｘは２価の連結基を表す。Ｚ’は２価の親水性基を表す。ｍは０．１≦ｍ＜１の実数を表す。耐キズ性改良効果、溶解性への影響等の観点からより好ましくは、０．２≦ｍ≦０．９であり、更に好ましくは０．２５≦ｍ≦０．８５である。
【００６７】
これらＹ、Ｙ’、Ｙ”　及びＸの具体例としては、一般式（Ｉ）のものと同義のものが挙げられる。Ｚ’の具体例としては、一般式（ＩＩ）で表されるモノマーからなる構造単位にしたものと同義のものが挙げられる。
【００６８】
更に、本発明の長鎖アルキル基含有ポリマーとしては、一般式（ＩＶ）であることがより好ましい。
【００６９】
【化１０】

【００７０】
上記一般式（ＩＶ）において、点線のメチル基はあってもなくても良く、Ｘ及びＺ’としては、一般式（Ｉ）及び（ＩＩ）のＸ、Ｚと同義のものが好ましく、ｍは、耐キズ性改良効果、溶解性への影響等の観点から０．２≦ｍ≦０．９が好ましく、０．２５≦ｍ≦０．８５がより好ましく、０．３０≦ｍ≦０．６０が最も好ましい。ｎは６〜４０整数であり、好ましくは１０〜３０の整数、より好ましくは１２〜２０の整数である。
【００７１】
上記（ＩＶ）の親水性基Ｚ’としては、ヒドロキシ基、炭素数１〜２０００の（ポリ）アルキレンオキシド基、炭素数６〜２０００の（ポリ）アリーレンオキシド基、フェノール基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボン酸基、スルホン酸基を有する骨格が、アルカリ性現像液に対する溶解性を十分に確保する点から好ましく、フェノール基、スルホンアミド基、活性イミド基、カルボン酸基、スルホン酸基を有する骨格が感度の点からより好ましく、カルボン酸を有する骨格がもっとも好ましい。上記（ＩＶ）のＸとしては、−Ｃ（＝Ｏ）−が最も好ましい。
【００７２】
また、一般式（ＩＩＩ）で表される構造単位を有するポリマーの共重合成分として、前述の（７）〜（８）に挙げた化合物を共重合体成分中５０モル％以下の組成比で用いることもできるが、３０モル％以下であることが効果の観点からより好ましい。
【００７３】
上記長鎖アルキル基含有ポリマー中の残留モノマー量は、本発明の画像記録要素を平版印刷版原版に適用した場合、該平版印刷版原版を積層する際に保護紙（合紙）、支持体裏面への転写や平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題から、１０％以下であることが好ましく、５％以下であることがより好ましい。
【００７４】
以下に本発明の長鎖アルキル基含有ポリマーの具体例を以下に示すが、これらに限定されるものではない。
【００７５】
【化１１】

【００７６】
【化１２】

【００７７】
【化１３】

【００７８】
【化１４】

【００７９】
【化１５】

【００８０】
【化１６】

【００８１】
【化１７】

【００８２】
また、一般式（ＩＩＩ）で表されるポリマーの具体例としては以下のものが挙げられるが、これらに限定されるものではない。
【００８３】
【化１８】

【００８４】
【化１９】

【００８５】
【化２０】

【００８６】
【化２１】

【００８７】
【化２２】

【００８８】
【化２３】

【００８９】
本発明に用いる上記長鎖アルキル基含有ポリマーとしては、重量平均分子量が２，０００以上、数平均分子量が１，０００以上のものが好ましく用いられる。さらに好ましくは、ポリスチレン換算で重量平均分子量が５，０００　〜５，０００，０００で、特に好ましくは５，０００〜２，０００，０００、更に好ましくは１０，０００〜１，０００，０００である。このようなポリマーは、１種類を用いてもよく、２種類以上を組み合わせて使用してもよい。
【００９０】
上記長鎖アルキル基含有ポリマーの使用量は画像記録要素の全成分の質量に対して、通常０．１〜３０質量％、好ましくは０．５〜２０質量％、更に好ましくは１〜１０質量％の量が使用され、この範囲内において、良好な結果を得ることができる。使用量が３０質量％を超えると、ポジ型画像記録要素としての画像形成性や、感度が添加量の増大につれて徐々に悪化する傾向にある。一方、使用量が０．１質量％に満たない場合は、条件によっては本発明の効果である耐キズ性の改良効果が充分に得られないことがある。
【００９１】
（赤外線吸収剤）
本発明に用いられる赤外線吸収剤としては、赤外線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高出力レーザへの適合性の観点から、波長７００ｎｍ〜１２００ｎｍに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は顔料が好ましいものとして挙げられる。
【００９２】
染料としては、市販の染料及び例えば「染料便覧」（有機合成化学協会編集、昭和４５年刊）等の文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシアニン染料、ナフタロシアニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、（チオ）ピリリウム塩、金属チオレート錯体、インドアニリン金属錯体系染料、オキソノール染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料、分子間ＣＴ色素等の染料が挙げられる。
【００９３】
好ましい染料としては、例えば、特開昭５８−１２５２４６号、特開昭５９−８４３５６号、特開昭６０−７８７８７号等に記載されているシアニン染料、特開昭５８−１７３６９６号、特開昭５８−１８１６９０号、特開昭５８−１９４５９５号等に記載されているメチン染料、特開昭５８−１１２７９３号、特開昭５８−２２４７９３号、特開昭５９−４８１８７号、特開昭５９−７３９９６号、特開昭６０−５２９４０号、特開昭６０−６３７４４号等に記載されているナフトキノン染料、特開昭５８−１１２７９２号等に記載されているスクアリリウム色素、英国特許４３４，８７５号記載のシアニン染料等を挙げることができる。
【００９４】
また、米国特許第５，１５６，９３８号記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特許第３，８８１，９２４号記載の置換されたアリールベンゾ（チオ）ピリリウム塩、特開昭５７−１４２６４５号（米国特許第４，３２７，１６９号）記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭５８−１８１０５１号、同５８−２２０１４３号、同５９−４１３６３号、同５９−８４２４８号、同５９−８４２４９号、同５９−１４６０６３号、同５９−１４６０６１号に記載されているピリリウム系化合物、特開昭５９−２１６１４６号記載のシアニン色素、米国特許第４，２８３，４７５号に記載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平５−１３５１４号、同５−１９７０２号に開示されているピリリウム化合物も好ましく用いられる。
【００９５】
また、染料として好ましい別の例として米国特許第４，７５６，９９３号明細書中に式（Ｉ）、（ＩＩ）として記載されている近赤外吸収染料を挙げることができる。
【００９６】
これらの染料のうち特に好ましいものとしては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノール染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリリウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
【００９７】
さらに、下記一般式（ａ）〜（ｆ−２）で示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式（ａ）で示されるシアニン色素は、本発明の感光性組成物で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため最も好ましい。
【００９８】
【化２４】

【００９９】
一般式（ａ）中、Ｒ^１及びＲ^２は各々独立に、置換基を有していてもよい炭素数２０以下の炭化水素基を表す。置換基としては、アルコキシ基、アリール基、アミド基、アルコキシカルボニル基、水酸基、スルホ基、カルボキシル基等が挙げられる。Ｙ^１及びＹ^２は各々独立に、酸素、硫黄、セレン、ジアルキルメチレン基又は−ＣＨ＝ＣＨ−を表す。Ａｒ^１及びＡｒ^２は各々独立に芳香族炭化水素基を表し、アルキル基、アルコキシ基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基より選択される置換基を有しても良く、Ｙ^１又はＹ^２と隣接した連続２炭素原子で芳香環を縮環しても良い。
【０１００】
Ｘは電荷の中和に必要なカウンターイオンを表し、色素カチオン部がアニオン性の置換基を有する場合は必ずしも必要ではない。Ｑはトリメチン基、ペンタメチン基、ヘプタメチン基、ノナメチン基又はウンデカメチン基より選択されるポリメチン基を表し、露光に用いる赤外線に対する波長適性と安定性の点からペンタメチン基、ヘプタメチン基又はノナメチン基が好ましく、いずれかの炭素上に連続した３つのメチン鎖を含むシクロヘキセン環又はシクロペンテン環を有することが安定性の点で好ましい。
【０１０１】
Ｑは、アルコキシ基、アリールオキシ基、アルキルチオ基、アリールチオ基、ジアルキルアミノ基、ジアリールアミノ基、ハロゲン原子、アルキル基、アラルキル基、シクロアルキル基、アリール基、オキシ基、イミニウム塩基、下記一般式（Ｑ１）で表される置換基より選択される基で置換されていても良く、好ましい置換基としては塩素原子等のハロゲン原子、ジフェニルアミノ基等のジアリールアミノ基、フェニルチオ基等のアリールチオ基が挙げられる。
【０１０２】
【化２５】

【０１０３】
式中、Ｒ^３及びＲ^４はそれぞれ独立に水素原子又は炭素数１〜８のアルキル基、又は炭素数６〜１０のアリール基を表し、Ｙ^３は酸素原子又は硫黄原子を表す。
【０１０４】
一般式（ａ）で示されるシアニン色素のうち、波長８００〜８４０　ｎｍの赤外線で露光する場合は、特に好ましいものとしては下記一般式（ａ−１）〜（ａ−４）で示されるヘプタメチンシアニン色素を挙げることができる。
【０１０５】
【化２６】

【０１０６】
一般式（ａ−１）中、Ｘ^１は、水素原子又はハロゲン原子を表す。Ｒ^１及びＲ^２は、それぞれ独立に、炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示す。記録層塗布液の保存安定性から、Ｒ^１及びＲ^２は、炭素原子数２個以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、Ｒ^１とＲ^２とは互いに結合し、５員環又は６員環を形成していることが特に好ましい。
【０１０７】
Ａｒ^１及びＡｒ^２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基が挙げられる。Ｙ^１及びＹ^２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Ｚａ⁻は、電荷の中和に必要な対アニオンを示し、Ｒ^１〜Ｒ^８のいずれかがアニオン性置換基で置換されている場合は、Ｚａ⁻は必要ない。好ましいＺａ⁻は、記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過塩素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンである。上記一般式（ａ−１）で示されるヘプタメチン色素は、ポジ型の画像記録要素に好適に用いることができ、特にフェノール性水酸基を有するアルカリ可溶性樹脂と組み合わせたいわゆる相互作用解除型のポジ感材に好ましく用いられる。
【０１０８】
【化２７】

【０１０９】
一般式（ａ−２）中、Ｒ^ｌ及びＲ^２はそれぞれ独立に、水素原子又は炭素原子数１〜１２の炭化水素基を示し、Ｒ^ｌとＲ^２とは互いに結合し環構造を形成していても良く、形成する環としては５員環又は６員環が好ましく、５員環が特に好ましい。Ａｒ^ｌ及びＡｒ^２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、該芳香族炭化水素基上の好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下の炭化水素基、ハロゲン原子、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、アルコキシカルボニル基、アルキルスルホニル基、ハロゲン化アルキル基等が挙げられ、電子吸引性の置換基が特に好ましい。Ｙ^ｌ及びＹ^２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、硫黄原子又は炭素原子数１２個以下のジアルキルメチレン基を示す。Ｒ^３及びＲ^４は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数２０個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基としては、炭素原子数１２個以下のアルコキシ基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。Ｒ^５、Ｒ^６、Ｒ^７及びＲ^８は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子又は炭素原子数１２個以下の炭化水素基を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子である。Ｒ^９及びＲ^１０は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子数６〜１０の芳香族炭化水素基、炭素原子数１〜８のアルキル基、水素原子又はＲ^９とＲ^１０とが互いに結合し下記構造の環を形成しても良い。
【０１１０】
【化２８】

【０１１１】
Ｒ^９及びＲ^１０は上記のうち、フェニル基等の芳香族炭化水素基が最も好ましい。
また、Ｘ⁻は、電荷の中和に必要な対アニオンを表し、上記一般式（ａ−１）のＺａ⁻と同様の定義である。上記一般式（ａ−２）で示されるヘプタメチン色素は、オニウム塩等の酸及び／又はラジカル発生剤を併用した画像記録要素に好適に用いることができ、特にスルホニウム塩やヨードニウム塩等のラジカル発生剤を併用したネガ型感材に好ましく用いられる。
【０１１２】
【化２９】

【０１１３】
式中、Ｒ^ｌ〜Ｒ^８、Ａｒ^ｌ、Ａｒ^２、Ｙ^ｌ、Ｙ^２及びＸ⁻は、それぞれ前記一般式（ａ−２）におけるのと同義である。Ａｒ^３はフェニル基、ナフチル基等の芳香族炭化水素基、又は窒素、酸素及び硫黄原子のうち少なくとも１つを含有する単環又は多環の複素球基を示し、チアゾール系、ベンゾチアゾール系、ナフトチアゾール系、チアナフテノ−７′，６′，４，５−チアゾール系、オキサゾール系、ベンゾオキサゾール系、ナフトオキサゾール系、セレナゾール系、ベンゾセレナゾール系、ナフトセレナゾール系、チアゾリン系、２−キノリン系、４−キノリン系、１−イソキノリン系、３−イソキノリン系、ベンゾイミダゾール系、３，３−ジアルキルベンゾインドレニン系、２−ピリジン系、４−ピリジン系、３，３−ジアルキルベンゾ［ｅ］インドール系、テトラゾール系、トリアゾール系、ピリミジン系、及びチアジアゾール系よりなる群から選択される複素環基が好ましく、特に好ましい複素環基としては下記構造のものが挙げられる。
【０１１４】
【化３０】

【０１１５】
【化３１】

【０１１６】
式中、Ｒ^ｌ〜Ｒ^８、Ａｒ^ｌ、Ａｒ^２、Ｙ^ｌ及びＹ^２は、それぞれ前記一般式（ａ−２）におけるのと同義である。Ｒ^１１及びＲ^１２は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子、アリル基、シクロへキシル基又は炭素原子数１〜８のアルキル基を示す。Ｚは酸素原子又は硫黄原子を示す。
【０１１７】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ａ）で示されるシアニン色素の具体例としては、以下に例示するものの他、特開２００１−１３３９６９明細書の段落番号［００１７］〜［００１９］、特開２００２−４０６３８明細書の段落番号［００１２］〜［００３８］、特開２００２−２３３６０明細書の段落番号［００１２］〜［００２３］、に記載されたものを挙げることができる。
【０１１８】
【化３２】

【０１１９】
【化３３】

【０１２０】
【化３４】

【０１２１】
【化３５】

【０１２２】
【化３６】

【０１２３】
【化３７】

【０１２４】
【化３８】

【０１２５】
一般式（ｂ）中、Ｌは共役炭素原子数７以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していてもよい。Ｚｂ^＋は対カチオンを示す。好ましい対カチオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオン（Ｎｉ^＋、Ｋ^＋、Ｌｉ^＋）などが挙げられる。Ｒ^９〜Ｒ^１４及びＲ^１５〜Ｒ^２０は互いに独立に水素原子又はハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択される置換基、或いは、これらを２つ若しくは３つ組み合わせた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成していてもよい。ここで、前記一般式（ｂ）中、Ｌが共役炭素原子数７のメチン鎖を表すもの、及び、Ｒ^９〜Ｒ^１４及びＲ^１５〜Ｒ^２０がすべて水素原子を表すものが入手の容易性と効果の観点から好ましい。
【０１２６】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｂ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１２７】
【化３９】

【０１２８】
【化４０】

【０１２９】
一般式（ｃ）中、Ｙ^３及びＹ^４は、それぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子を表す。Ｍは、共役炭素数５以上のメチン鎖を表す。Ｒ^２１〜Ｒ^２４及びＲ^２５〜Ｒ^２８は、それぞれ同じであっても異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Ｚａ⁻は対アニオンを表し、前記一般式（ａ−１）におけるＺａ⁻と同義である。
【０１３０】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｃ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１３１】
【化４１】

【０１３２】
【化４２】

【０１３３】
一般式（ｄ）中、Ｒ^２９〜Ｒ^３２は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。Ｒ^３３及びＲ^３４は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、又はハロゲン原子を示す。ｎ及びｍは各々独立に０ないし４の整数を示す。Ｒ^２９とＲ^３０、又はＲ^３１とＲ^３２はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またＲ^２９及び／又はＲ^３０はＲ^３３と、またＲ^３１及び／又はＲ^３２はＲ^３４と結合して環を形成しても良く、さらに、Ｒ^３３　又はＲ^３４が複数存在する場合に、Ｒ^３３同士又はＲ^３４同士は互いに結合して環を形成してもよい。Ｘ^２及びＸ^３は各々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。Ｑは置換基を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基であり、２価の有機基とともに環構造を形成してもよい。Ｚｃ⁻は対アニオンを示し、前記一般式（ａ−１）におけるＺａ⁻と同義である。
【０１３４】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｄ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１３５】
【化４３】

【０１３６】
【化４４】

【０１３７】
一般式（ｅ）中、Ｒ^３５〜Ｒ^５０はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよい、ハロゲン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オニウム塩構造を示す。Ｒ^３６とＲ^３７、Ｒ^４０とＲ^４１、Ｒ^４４とＲ^４５及びＲ^４８とＲ^４９は、連結して脂肪族環、芳香族環又は複素環を形成してもよく、その環は縮合環を有してもよい。Ｍは２つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原子としては、周期律表のＩＡ、ＩＩＡ、ＩＩＩＢ、ＩＶＢ族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、ニッケル、マグネシウム、鉄、亜鉛、スズ、コバルト、アルミニウム、チタン、バナジウムが好ましく、バナジウム、ニッケル、亜鉛、スズが特に好ましい。これら金属原子は原子価を適切にするために酸素原子、ハロゲン原子等と結合していても良い。
【０１３８】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｅ）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１３９】
【化４５】

【０１４０】
【化４６】

【０１４１】
一般式（ｆ−１）及び（ｆ−２）中、Ｒ^５１〜Ｒ^５８はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有してもよいアルキル基、アリール基を示す。Ｘ⁻は、前記一般式（ａ−２）におけるＸ⁻と同義である。
【０１４２】
本発明において、好適に用いることのできる一般式（ｆ−１）及び（ｆ−２）で示される染料の具体例としては、以下に例示するものを挙げることができる。
【０１４３】
【化４７】

【０１４４】
上記以外の赤外線吸収剤としては、特開２００１−２４２６１３号公報に記載の複数の発色団を有する染料、特開２００２−９７３８４号公報、米国特許第６，１２４，４２５号に記載の高分子化合物に共有結合で発色団が連結された色素、米国特許６，２４８，８９３号に記載のアニオン染料、特開２００１−３４７７６５号公報に記載の表面配向性基を有する染料等を好適に用いることができる。
【０１４５】
本発明において赤外線吸収剤として使用される顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス（Ｃ．Ｉ．）便覧、「最新顔料便覧」（日本顔料技術協会編、１９７７年刊）、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）、「印刷インキ技術」ＣＭＣ出版、１９８４年刊）に記載されている顔料が挙げられる。
【０１４６】
顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性アゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックである。
【０１４７】
これら顔料は表面処理をせずに用いてもよく、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法には、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤を付着させる方法、反応性物質（例えば、シランカップリング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等）を顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」（幸書房）、「印刷インキ技術」（ＣＭＣ出版、１９８４年刊）及び「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０１４８】
顔料の粒径は０．０１μｍ〜１０μｍの範囲にあることが好ましく、０．０５μｍ〜１μｍの範囲にあることがさらに好ましく、特に０．１μｍ〜１μｍの範囲にあることが好ましい。この範囲内で、分散物の画像記録層塗布液中での良好な安定性及び画像記録層の良好な均一性が得られる。
【０１４９】
顔料を分散する方法としては、インク製造やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用できる。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アトライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、インペラー、デスパーザー、ＫＤミル、コロイドミル、ダイナトロン、３本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げられる。詳細は、「最新顔料応用技術」（ＣＭＣ出版、１９８６年刊）に記載されている。
【０１５０】
これらの顔料又は染料は、記録層を構成する全固形分に対し０．０１〜５０質量％、好ましくは０．１〜１０質量％、染料の場合特に好ましくは０．５〜１０質量％、顔料の場合特に好ましくは０．１〜１０質量％の割合で添加することができる。この範囲内で、記録層の均一性や、記録層の耐久性に好ましくない影響を与えるおそれがなく、良好な感度が得られる。また、用いられる染料又は顔料は単一の化合物であっても、２種以上の化合物を混合したものでもよく、複数の波長の露光機へ対応するために、吸収波長の異なる染料又は顔料を併用することも好ましくおこなわれる。
【０１５１】
［平版印刷版原版］
本発明の画像記録要素が適用される平版印刷版原版としては、赤外線レーザ露光により画像形成可能なポジ型平版印刷版原版及びネガ型型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１５２】
（ポジ型平版印刷版原版）
本発明の画像記録要素を適用されるポジ型平版印刷版原版としては、（１）水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂（以下、適宜、アルカリ可溶性樹脂と称する）と該アルカリ可溶性樹脂と相互作用してアルカリ溶解性を抑制する物質（溶解阻止剤）とを含有し、加熱によって相互作用が解かれアルカリ可溶性が増大することを利用して画像形成を行うタイプのポジ型平版印刷版原版、及び（２）酸の作用で現像液（例えばアルカリ水溶液）可溶性に変換する化合物と熱によって酸を発生する酸発生剤とを含有し、加熱によって発生する酸の作用で現像液可溶性が増大することを利用して画像形成を行うタイプのポジ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１５３】
上記（１）のアルカリ可溶性樹脂と溶解阻止剤とを用いるポジ型平版印刷版原版としては、例えば、米国特許３，６２８，９５３号、米国特許４，７０８，９２５号、特開平７−２８５２７５号、ＷＯ９７／３９，８９４号、特開平１１−４４９５６号、特開平１１−２６８５１２号、特開２００１−３２４８０８号などに記載のポジ型平版印刷版原版が挙げられる。しかし、上記の原理によって画像形成されるポジ型平版印刷版原版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
【０１５４】
本発明の画像記録要素を適用した上記（１）のポジ型平版印刷版原版としては、具体的には、支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤、（ｂ）ベースポリマーの摩擦係数を０．５―０．９７の比率に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水性モノマーの共重合体、及び（ｃ）アルカリ可溶性樹脂を含有する記録層を有するポジ型平版印刷版原版である。より好ましくは、該記録層が、更に（ｄ）溶解阻止剤及び（ｅ）その他必要に応じて加えられる公知の添加物類を含有するポジ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１５５】
上記アルカリ可溶性樹脂は、水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂であり、高分子中の主鎖及び／又は側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体又はこれらの混合物を包含する。なかでも、下記（１）〜（６）に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び／又は側鎖中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。
【０１５６】
（１）フェノール基（−Ａｒ−ＯＨ）
（２）スルホンアミド基（−ＳＯ_２　ＮＨ−Ｒ）
（３）活性イミド基
〔−ＳＯ_２　ＮＨＣＯＲ、−ＳＯ_２　ＮＨＳＯ_２　Ｒ、−ＣＯＮＨＳＯ_２　Ｒ〕
（４）カルボン酸基（−ＣＯ_２　Ｈ）
（５）スルホン酸基（−ＳＯ_３Ｈ）
（６）リン酸基（−ＯＰＯ_３Ｈ_２　）
【０１５７】
上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、（１）フェノール基、（２）スルホンアミド基（３）活性イミド基、及び（４）カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、（１）フェノール基又は（２）スルホンアミド基、及び（４）カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好ましい。
【０１５８】
上記（１）〜（６）より選ばれる酸性基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、米国特許３，６２８，９５３号、米国特許４，７０８，９２５号、特開平７−２８５２７５号、ＷＯ９７／３９，８９４号、特開平１１−４４９５６号、特開平１１−２６８５１２号、特開２００１−３２４８０８号、特開平７−２８２４４号、特開平７−３６１８４号、特開昭５１−３４７１１号、特開平２−８６６号、等に記載のフェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロゲン化ヒドロキシスチレン、Ｎ−（４−ヒドロキシフェニル）メタクリルアミドの共重合体、ハイドロキノンモノメタクリレート共重合体、スルホニルイミド系ポリマー、カルボキシル基含有ポリマー、フェノール性水酸基を含有するアクリル系樹脂、スルホンアミド基を有するアクリル系樹脂、ウレタン系の樹脂等が挙げられる。
【０１５９】
上記ポジ型平版印刷版原版の記録層に必要に応じて用いられる溶解阻止剤としては、特開平７−２８５２７５号、特開２００２−５５４４６号などに記載のオニウム塩、ｏ−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物などの熱分解性であり、分解しない状態では、画像部の現像液への溶解を抑制できる化合物が好ましい。オニウム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホスホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げることができる。
【０１６０】
ポジ型平版印刷版原版のうち（２）の酸の作用で現像液可溶性に変換する化合物と酸発生剤とを含有するポジ型平版印刷版原版としては、特開平９−１７１２５４号、特開平１０−５５０６７号、特開平１０−８７７３３号、特開平１０−２６８５０７号などに記載のポジ型平版印刷版原版が挙げられる。しかし、上記の原理によって画像形成されるポジ型平版印刷版原版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
【０１６１】
本発明の画像記録要素を適用した上記（２）のポジ型平版印刷版原版としては、具体的には、支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤、（ｂ）ベースポリマーの摩擦係数を０．５―０．９７の比率に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水性モノマーの共重合体、（ｃ）活性光線の照射により酸を発生し得る化合物（酸発生剤）、及び（ｄ）酸で分解し得る結合を少なくとも１つ有する化合物（酸分解性化合物）を含有する記録層を有するポジ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１６２】
上記酸分解性化合物としては、特開昭４８−８９６０３号、同５１−１２０７１４号、同５３−１３３４２９号、同５５−１２９９５号、同５５−１２６２３６号、同５６−１７３４５号に記載のＣ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３７５４９号、同６０−１２１４４６号に記載のＳｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、特開昭６０−３６２５号、同６０−１０２４７号に記載されているその他の酸分解化合物を挙げることができ、更に特開昭６２−２２２２４６号に記載されているＳｉ−Ｎ結合を有する化合物、特開昭６２−２５１７４３号に記載されている炭酸エステル、特開昭６２−２０９４５１号に記載されているオルト炭酸エステル、特開昭６２−２８０８４１号に記載されているオルトチタン酸エステル、特開昭６２−２８０８４２号に記載されているオルトケイ酸エステル、特開昭６３−０１０１５３号、特開平９−１７１２５４号、同１０−５５０６７号、同１０−１１１５６４号、同１０−８７７３３号、同１０−１５３８５３号、同１０−２２８１０２号、同１０−２６８５０７号、同２８２６４８号、同１０−２８２６７０号、ＥＰ−０８８４５４７Ａｌに記載されているアセタール、ケタール及びオルトカルボン酸エステル、特開昭６２−２４４０３８号に記載されているＣ−Ｓ結合を有する化合物を用いることができる。
【０１６３】
中でも、Ｃ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、Ｓｉ−Ｏ−Ｃ結合を有する化合物、オルト炭酸エステル、アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が好ましい。また、主鎖中に繰り返しアセタール又はケタール部分を有し、アルカリ現像液中でその溶解度が発生した酸により上昇する高分子化合物が好ましく用いられる。
【０１６４】
上記酸分解性化合物とともに用いられる酸発生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホスホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げられる。具体的には、ＵＳ４，７０８，９２５号や特開平７−２０６２９号に記載されている化合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジアゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国特許第３，８６７，１４７号記載のジアゾニウム化合物、米国特許第２，６３２，７０３号明細書記載のジアゾニウム化合物や特開平１−１０２４５６号及び特開平１−１０２４５７号の各公報に記載されているジアゾ樹脂も好ましい。また、ＵＳ５，１３５，８３８号やＵＳ５，２００，５４４号に記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。更に、特開平２−１０００５４号、特開平２−１０００５５号及び特開平９−１９７６７１号に記載されている活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も好ましい。他にも、特開平７−２７１０２９号に記載されている、ハロアルキル置換されたＳ−トリアジン類も好ましい。
【０１６５】
（ネガ型平版印刷版原版）
本発明の画像記録要素を適用されるネガ型平版印刷版原版としては、熱によってラジカル重合反応を起こし、生成物が現像液に対して不溶性となることを利用した平版印刷版原版、及び、熱によって架橋反応（カチオン重合も含む）を起こし、生成物が現像液に対して不溶性となることを利用した平版印刷版原版が挙げられる。
【０１６６】
熱による重合反応を利用した平版印刷版原版としては、例えば、特開２００１−１８３８２５号、特開２００１−３３７４４７号、特開２００２−０２３３６０号、特開２００２−０４０６３８号、特開２００２−６２６４２号、特開２００２−６２６４８号、特開２００２−６９１０９号などに記載の赤外線レーザ露光による発熱で重合するタイプのネガ型平版印刷版原版が挙げられる。これらのネガ型平版印刷版原版においては、露光による発熱によって、ラジカル発生剤（重合開始剤）がラジカルを発生して重合性化合物を重合させ、生成物が現像液に不溶化することを用いている。しかし、本発明の画像記録要素を適用されるネガ型平版印刷版原版としては、上記の原理によって画像形成されるネガ型平版印刷版原版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
【０１６７】
上記画像記録要素を適用したこのようなネガ型平版印刷版原版としては、例えば、支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤、（ｂ）ベースポリマーの摩擦係数を０．５―０．９７の比率に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水性モノマーの共重合体、（ｃ）ラジカル発生剤、（ｄ）ラジカル重合性化合物、及び（ｅ）その他必要に応じて加えられるバインダーポリマーや公知の添加物類を含有する記録層を有するネガ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１６８】
本発明に用いられるラジカル発生剤としては、光、熱或いはその両方のエネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開始、促進する化合物を示す。本発明に使用できるラジカル発生剤としては、ラジカル重合による高分子合成反応に用いられる公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギーの小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用することができる。本発明において好適に用いられるラジカルを発生する化合物としては、熱エネルギーによりラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を、開始、促進させる化合物を挙げることができる。また、ラジカル発生剤は、単独又は２種以上を併用して用いることができる。
【０１６９】
このようなラジカル発生剤として、例えば、特開平８−２２０７５８号、特開平１０−２６０５３６号、特開２００１−３３７４４７号、特開２００２−０２３３６０号などに記載の有機ハロゲン化化合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合物、アゾ系重合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサアリールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジスルホン酸化合物、オニウム塩化合物などが挙げられる。オニウム塩は、前記ポジ型平版印刷版原版において説明したものと同じものが用いられるが、かかる重合系においては、オニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラジカル重合の開始剤として機能する。
【０１７０】
本発明に用いられるラジカル重合性化合物としては、ラジカル重合反応を行う末端エチレン性不飽和基（例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビニル基、アリル基など）を少なくとも１個、好ましくは２個以上有する化合物を好適なものとして挙げられる。このような化合物群は、当該産業分野において光重合性又は熱重合性組成物用のモノマー又は架橋剤として広く知られるものであり、本発明においては、これらを特に限定しないで用いることができる。化学的形態としては、モノマー、プレポリマー、すなわち２量体、３量体、オリゴマー、重合体又は共重合体、又はこれらの混合物である。
【０１７１】
ラジカル重合性化合物の具体例としては、特開平８−２２０７５８号、特開２００１−１８３８２５号、特開２００２−６２６４８号などに記載の重合性化合物と同じものが挙げられる。
【０１７２】
熱による架橋反応を利用した平版印刷版原版としては、例えば、米国特許５，３４０，６９９号、特開平７−２０６２９号、特開平７−２７１０２９号、特開平１０−１１１５６４号、特開平１１−８４６４９号、特開平１１−９５４１９号、特開平１１−１０２０７１号、特開平１１−１１９４２８号、特開平１１−２１６９６５号、特開平１１−２１８９０３号、特開平１１−２３１５０９号、特開平１１−２５４８５０号、ＷＯ９８／５１５４４号及びＷＯ９８／３１５４５号などに記載のネガ型平版印刷版原版が挙げられる。これらのネガ型平版印刷版原版においては、露光による発熱によって、酸発生剤が酸を発生しその酸が触媒となって架橋剤の架橋反応を起こし、生成物が現像液に不溶化する酸触媒架橋反応を用いている。酸触媒架橋反応を開始又は促進するために、露光の後で原版を加熱してから現像することも好適に行われる。しかし、本発明の画像記録要素を適用されるネガ型平版印刷版原版としては、上記の原理によって画像形成されるネガ型平版印刷版原版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
【０１７３】
上記画像記録要素を適用したこのようなネガ型平版印刷版原版としては、例えば、支持体上に、（ａ）赤外線吸収剤、（ｂ）ベースポリマーの摩擦係数を０．５―０．９７の比率に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水性モノマーの共重合体、（ｃ）活性光線の照射により酸を発生し得る化合物（酸発生剤）、（ｄ）酸触媒によって反応する架橋剤、及び（ｅ）その他必要に応じて加えられるバインダーポリマーや公知の添加物類を含有する記録層を有するネガ型平版印刷版原版が挙げられる。
【０１７４】
上記架橋剤の具体例としては、特開平７−２０６２９号、特開平１１−１０２０７１号、特開平１１−２５４８５０号等に記載されている（ｉ）アルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置換された芳香族化合物、（ｉｉ）Ｎ−ヒドロキシメチル基、Ｎ−アルコキシメチル基又はＮ−アシルオキシメチル基を有する化合物、（ｉｉｉ）エポキシ化合物などの同じ化合物が挙げられる。
【０１７５】
架橋剤と共に用いられる酸発生剤としては、前記のポジ型平版印刷版原版に用いられる酸発生剤と同じ化合物を好適なものとして挙げることができる。
【０１７６】
（平版印刷版原版用支持体）
本発明に使用される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、印刷版の支持体として公知の支持体が好適に使用できる。かかる支持体としては、紙、プラスチックス（例えばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど）がラミネートされた紙、例えばアルミニウム（アルミニウム合金も含む）、亜鉛、鉄、銅などのような金属の板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプラスチックスのフイルム、上記のような金属がラミネート又は蒸着された紙又はプラスチックフィルムなどが含まれるが、特にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板には純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれる。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウムの合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの鉄及びチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不純物をも含むものである。
【０１７７】
支持体は、必要に応じて表面処理される。感光性平版印刷版の支持体の表面は、親水化処理が施されることが好ましい。また金属、特にアルミニウムの表面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸ソーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶液への浸漬処理、又は陽極酸化処理などの表面処理がなされていることが好ましい。陽極酸化処理は、例えば、リン酸、クロム酸、硫酸、ホウ酸等の無機酸、若しくはシュウ酸、スルファミン酸等の有機酸又はこれらの塩の水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すことにより実施される。
【０１７８】
また、米国特許第２，７１４，０６６号明細書に記載されているように、砂目立てしたのちケイ酸ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国特許第３，１８１，４６１号明細書に記載されているようにアルミニウム板を陽極酸化処理した後にアルカリ金属ケイ酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用される。また、米国特許第３，６５８，６６２号明細書に記載されているようなシリケート電着も有効である。これらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為に施される以外に、その上に設けられる感光性組成物との有害な反応を防ぐ為や、感光層との密着性を向上させる為に施されるものである。
【０１７９】
アルミニウム板を砂目立てするに先立って、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理を施しても良い。前者のためには、トリクレン等の溶剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッチング剤を用いる方法が広く行われている。
【０１８０】
砂目立て方法としては、機械的、化学的及び電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法としては、特開昭５４−３１１８７号公報に記載されているような鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸又はこれらの組み合わせのような酸性電解液中で交流電解する方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特開昭５５−１３７９９３号公報に記載されているような機械的粗面化と電気化学的粗面化を組み合わせた粗面化方法は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ましい。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム板の表面の中心線表面粗さ（Ｒａ）が０．３〜１．０μｍとなるような範囲で施されることが好ましい。
【０１８１】
このようにして砂目立てされたアルミニウム板は必要に応じて水洗及び化学的にエッチングされる。エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する塩基又は酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチングされた表面に、エッチング液成分から誘導されるアルミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければならない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウム、リン酸二カリウム等；酸性物質としては硫酸、過硫酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウムよりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要な被膜を形成するから好ましくない。これ等のエッチング剤は、使用濃度、温度の設定において、使用するアルミニウム又は合金の溶解速度が浸漬時間１分あたり０．３グラムから４０ｇ／ｍ^２になる様に行なわれるのが最も好ましいが、これを上回る又は下回るものであっても差支えない。エッチングは上記エッチング液にアルミニウム板を浸漬する方法や、該アルミニウム板にエッチング液を塗布すること等により行われ、エッチング量が０．５〜１０ｇ／ｍ^２の範囲となるように処理されることが好ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用することが望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常デスマット処理される。デスマット処理に使用される酸は、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ化水素酸等が用いられる。
【０１８２】
エッチング処理されたアルミニウム板は、必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この分野で従来から行なわれている方法で行うことができる。具体的には、硫酸、リン、クロム酸、シュウ酸、スルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等又はそれらの二種類以上を組み合せた水溶液又は非水溶液中でアルミニウムに直流又は交流の電流を流すと、アルミニウム支持体表面に陽極酸化皮膜を形成させることができる。
【０１８３】
陽極酸化の処理条件は使用される電解液によって種々変化するので一般には決定され得ないが一般的には電解液の濃度が１〜８０質量％、液温５〜７０℃、電流密度０．５〜６０アンペア／ｄｍ^２、電圧１〜１００Ｖ、電解時間３０秒〜５０分の範囲が適当である。これらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第１，４１２，７６８号明細書に記載されている硫酸中で高電流密度にて陽極酸化する方法及び米国特許第３，５１１，６６１号明細書に記載されているリン酸を電解浴として陽極酸化する方法が好ましい。
【０１８４】
上記のように粗面化され、さらに陽極酸化されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理しても良く、その好ましい例としては米国特許第２，７１４，０６６号及び同第３，１８１，４６１号に開示されているようなアルカリ金属シリケート、例えばケイ酸ナトリウム水溶液又は特公昭３６−２２０６３号公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウム及び米国特許第４，１５３，４６１号明細書に開示されているようなポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
【０１８５】
上記支持体には、記録層の現像残膜減少などの目的で、記録層を塗設する前に有機下塗層を設けることができる。かかる有機下塗層に用いられる有機化合物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラビアガム、２−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸塩などから選ばれるが、二種以上混合して用いてもよい。
【０１８６】
また、有機下塗層にオニウム基を有する化合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化合物は特開２０００−１０２９２号、特開２０００−１０８５３８等に詳述されている。
【０１８７】
その他ポリ（ｐ−ビニル安息香酸）などで代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の中から選ばれる少なくとも１種の化合物を用いることができる。より具体的にはｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、ｐ−ビニル安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロリドとの共重合体などがあげられる。
【０１８８】
この有機下塗層は次のような方法で設けることができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤又はそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤又はそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化合物を吸着させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥して有機下塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化合物の濃度０．００５〜１０質量％溶液を種々の方法で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いてもよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は０．０１〜２０質量％、好ましくは０．０５〜５質量％であり、浸漬温度は２０〜９０℃、好ましくは２５〜５０℃であり、浸漬時間は０．１秒〜２０分、好ましくは２秒〜１分である。
【０１８９】
これに用いる溶液は、アンモニア、トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりｐＨを調節し、ｐＨ１〜１２の範囲で使用することもできる。
【０１９０】
さらにこの溶液には、下記一般式（Ｖ）で示される化合物を添加することもできる。
一般式（Ｖ）　（ＨＯ）_ｘ−Ｒ_５−（ＣＯＯＨ）_ｙ
但し、Ｒ_５は置換基を有してもよい炭素数１４以下のアリーレン基を表し、ｘ，ｙは独立して１から３の整数を表す。
【０１９１】
上記一般式（Ｖ）で示される化合物の具体的な例として、３−ヒドロキシ安息香酸、４−ヒドロキシ安息香酸、サリチル酸、１−ヒドロキシ−２−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−１−ナフトエ酸、２−ヒドロキシ−３−ナフトエ酸、２，４−ジヒドロキシ安息香酸、１０−ヒドロキシ−９−アントラセンカルボン酸などが挙げられる。
【０１９２】
有機下塗層の乾燥後の被覆量は、１〜１００ｍｇ／ｍ^２が適当であり、好ましくは２〜７０ｍｇ／ｍ^２である。上記の被覆量が２ｍｇ／ｍ^２より少ないと十分な耐刷性能が得られない。また、１００ｍｇ／ｍ^２より大きくても同様である。
【０１９３】
支持体の裏面には、必要に応じてバックコートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平５−４５８８５号公報記載の有機高分子化合物及び特開平６−３５１７４号公報記載の有機又は無機金属化合物を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からなる被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のうち、Ｓｉ（ＯＣＨ_３）_４、Ｓｉ（ＯＣ_２Ｈ_５）_４、Ｓｉ（ＯＣ_３Ｈ_７）_４、Ｓｉ（ＯＣ_４Ｈ_９）_４などのケイ素のアルコキシ化合物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
【０１９４】
［製版及び印刷］
本発明の平版印刷版原版は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド等による直接画像様記録、赤外線レーザによる走査露光、キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ランプ露光などが用いられるが、波長７００〜１２００ｎｍの赤外線を放射する半導体レーザ、ＹＡＧレーザ等の固体高出力赤外線レーザによる露光が好適である。
【０１９５】
露光された本発明の平版印刷版原版は、現像処理及びフィニッシャーや保護ガムなどによる後処理を施されて印刷版となる。上記酸触媒架橋反応を利用したネガ型平版印刷版原版の場合のように、必要に応じて現像処理の前に版を加熱することもできる。
【０１９６】
本発明の平版印刷版原版の現像処理及び後処理に用いられる処理剤としては、公知の処理剤の中から適宜選択して用いることができる。好適な現像液としては、ｐＨが９．０〜１４．０の範囲、好ましくは１２．０〜１３．５の範囲にある現像液である。現像液には、従来から知られているアルカリ水溶液が使用できる。上記のアルカリ水溶液のうち、特に好適な現像液として、塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含有した、従来から良く知られている所謂「シリケート現像液」と呼ばれるｐＨ１２以上の水溶液、及び、特開平８−３０５０３９号に記載の、ケイ酸アルカリを含有せず、非還元糖（緩衝作用を有する有機化合物）と塩基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」が挙げられる。
【０１９７】
本発明の平版印刷版をバーニング処理する場合は、バーニング整面液を用い、バーニングプロセサなどを用いて行う従来から知られている方法で行うことが好ましい。
【０１９８】
このような処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。
【０１９９】
【実施例】
以下本発明を実施例によって更に具体的に説明するが、勿論本発明の範囲は、これらによって限定されるものではない。
【０２００】
（合成例１：長鎖アルキル基含有ポリマーＡの合成）
コンデンサー、攪拌機を取り付けた１０００ｍｌ三口フラスコに、１−メトキシ−２−プロパノール５４ｇを入れ、８０℃に加熱した。窒素気流下、ｎ−メタクリル酸ステアリル４２．３ｇ、メタクリル酸１０．８ｇ、重合開始剤Ｖ−６０１（和光純薬製）０．５７６ｇ及び１−メトキシ−２−プロパノール５４ｇからなる溶液を２時間半かけて滴下した。更に、８０℃で２時間反応させた。反応混液を室温に冷却して、１０００ｍｌの水に反応液を注ぎ込んだ。デカンテーション後、メタノールで洗浄し、得られた液状生成物を減圧乾燥することで長鎖アルキル基含有ポリマーＡ５０．５ｇを得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を測定した結果、４０，０００であった。
【０２０１】
（合成例２：長鎖アルキル基含有ポリマーＢの合成）
コンデンサー、攪拌機を取り付けた１０００ｍｌ三口フラスコに、１−メトキシー２−プロパノール　２９．０ｇを入れ、７０℃に加熱した。窒素気流下、ｎ−メタクリル酸ドデシル２５．４ｇ、メタクリル酸　１１．４８ｇ、重合開始剤Ｖ−６０１（和光純薬製）０．４６１ｇ及び１−メトキシ−２−プロパノール２９．０ｇからなる溶液を２時間半かけて滴下した。更に、８０℃で２時間反応させた。反応混液を室温に冷却して、１０００ｍｌの水中に反応液を注ぎ込んだ。デカンテーション後、メタノールで洗浄し、得られた液状生成物を減圧乾燥することで長鎖アルキル基含有ポリマーＢ３４．２ｇを得た。ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフィー法（ＧＰＣ）により、重量平均分子量を測定した結果、８０，０００であった。
【０２０２】
（合成例３〜９：長鎖アルキル基含有ポリマーＣ〜Ｉの合成）
合成例１又は合成例２と同様にして、下記表１に示した長鎖アルキル基含有モノマーと親水性モノマーを用い、本発明の長鎖アルキル基含有ポリマーＣ〜Ｉを合成した。更にＧＰＣにより分子量を測定した。測定した結果を表１に示す。
【０２０３】
【表１】

【０２０４】
（支持体（１）の作製例）
厚さ０．３ｍｍのアルミニウム板（材質ＪＩＳＡ１０５０）をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した後、ナイロンブラシと４００メッシュのパミス−水懸濁液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。この板を４５℃の２５％水酸化ナトリウム水溶液に９秒間浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに２０％硝酸に２０秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面のエッチング量は約３ｇ／ｍ^２であった。次にこの板を７％硫酸を電解液として電流密度１５Ａ／ｄｍ^２で直流陽極酸化して３ｇ／ｍ^２の陽極酸化皮膜を設けた後、水洗し、乾燥した。次いで、珪酸ナトリウム２．５質量％水溶液で３０℃１０秒間処理し、さらに、下記下塗り液を塗布し、塗膜を８０℃で１５秒間乾燥し、乾燥後の被覆量１５ｍｇ／ｍ^２の下塗り層を有する支持体（１）を得た。
【０２０５】
（下塗り液）
・下記化合物　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．３ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　１００ｇ
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
【０２０６】
【化４８】

【０２０７】
（支持体（２）の作製例）
９９．５％以上のアルミニウムと、Ｆｅ　０．３０％、Ｓｉ　０．１０％、Ｔｉ０．０２％、Ｃｕ　０．０１３％を含むＪＩＳ　Ａ　１０５０合金の溶湯に清浄化処理を施し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はＤＣ鋳造法で行った。凝固した板厚５００ｍｍの鋳塊を表面から１０ｍｍ面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないように５５０℃で１０時間均質化処理を行った。次いで、４００℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で５００℃、６０秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧０．３０ｍｍのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さＲａを０．２μｍに制御した。その後、平面性を向上させるためにテンションレベラーにかけた。次にこの板を下記のように表面処理して平版印刷版支持体を作製した。
【０２０８】
次に、上記で得た支持体について、先ずアルミニウム板表面の圧延油を除去するため１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間脱脂処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。次いで、支持体と記録層の密着性を良好にし、かつ非画後部に保水性を与えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目立て処理を行った。１％の硝酸と０．５％の硝酸アルミを含有する水溶液を４５℃に保ち、アルミニウムウェブを水溶液中に通搬しながら、間接給電セルにより電流密度２０Ａ／ｄｍ^２、デューティー比１：１の交番波形でアノード側電気量２４０Ｃ／ｄｍ^２を与えることで電解砂目立てを行った。その後１０％アルミン酸ソーダ水溶液で５０℃３０秒間エッチング処理を行い、３０％硫酸水溶液で５０℃３０秒間中和、スマット除去処理を行った。
【０２０９】
更に、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形成させた。電解質として硫酸２０％水溶液を３５℃で用い、アルミニウムウェブを電解質中に通搬しながら、間接給電セルにより１４Ａ／ｄｍ^２の直流で電解処理を行うことで２．５ｇ／ｍ^２の陽極酸化皮膜を作製した。その後、印刷版非画像部としての親水性を確保するため、シリケート処理を行った。処理は３号珪酸ソーダ１．５％水溶液を７０℃に保ちアルミウェブの接触時間が１５秒となるよう通搬し、更に水洗した。Ｓｉの付着量は１０ｍｇ／ｍ^２であった。以上により完成した支持体（２）のＲａ（中心線表面粗さ）は０．２５μｍであった。
【０２１０】
実施例１
得られ支持体（１）に、以下の記録層塗布液１を乾燥塗布量が１．０ｇ／ｍ^２になるよう塗布した後、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ　ＯＶＥＮ　ＰＨ２００にてＷｉｎｄ　Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定して１４０℃で５０秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版１を得た。
【０２１１】
（記録層塗布液１）
・長鎖アルキル基含有ポリマーＡ　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０２ｇ
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐモル比＝６／４、重量平均分子量３５００、未反応クレゾール０．５質量％含有）　　　　　０．４７４ｇ
・特定の共重合体１（下記）　　　　　　　　　　　　　　　２．３７ｇ
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−１）　　　　　　　　０．１５５ｇ
・２−メトキシ−４−（Ｎ−フェニルアミノ）ベンゼン
ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート　　　　　　　０．０３ｇ
・テトラヒドロ無水フタル酸　　　　　　　　　　　　　　　０．１９ｇ
・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ
−β−ナフタレンスルホン酸イオンに換えたもの　　　　　０．０５ｇ
・フッ素系界面活性剤（大日本インキ化学工業（株）製メガファックＦ１７６ＰＦ）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０３５ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．００８ｇ
・ビス−ｐ−ヒドロキシフェニルスルホン　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０６３ｇ
・γ−ブチロラクトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１３ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２４ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　１１ｇ
【０２１２】
特定の共重合体１：Ｎ−（ｐ−アミノスルホニルフェニル）メタクリルアミド／メタクリル酸エチル／アクリロニトリル（モル％３２／４３／２５）、重量平均分子量５３，０００。合成法：特開平１１−２８８０９３号に記載。
【０２１３】
実施例２
支持体（１）に、以下の記録層塗布液２を乾燥塗布量が１．６ｇ／ｍ^２になるよう塗布したのち、実施例１と同様の条件で乾燥し記録層を形成し、平版印刷版原版２を得た。
【０２１４】
（記録層塗布液２）
・長鎖アルキル基含有ポリマーＡ　　　　　　　　　　　　　０．０９ｇ
・ノボラック樹脂（（Ｂ）樹脂）　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．９０ｇ
（ｍ／ｐ−クレゾール（６／４）、重量平均分子量７０００、未反応クレゾール０．５質量％）
・メタクリル酸エチル／メタクリル酸イソブチル／メタクリル酸（３５／３５／３０モル％）共重合体　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１０ｇ
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−１）　　　　　　　　０．１ｇ
・無水フタル酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０５ｇ
・ｐ−トルエンスルホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．００２ｇ
・エチルバイオレットの対イオンを６−ヒドロキシ
−β−ナフタレンスルホン酸イオンに換えたもの　　　　　　　０．０２ｇ
・フッ素系ポリマー（ディフェンサＦ−１７６（固形分２０％）
大日本インキ化学工業（株）製）　　　　　　　　　　　　　０．０１５ｇ
・フッ素系ポリマー（ディフェンサＭＣＦ−３１２（固形分３０％）
大日本インキ化学工業（株）製）　　　　　　　　　　　　　０．０３５ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　１２ｇ
【０２１５】
実施例３〜９
実施例１の記録層塗布液１において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡの代わりに、以下の表１に記載の長鎖アルキル基含有ポリマーの組み合わせを用いた以外は実施例１と同様にして平版印刷版原版３〜９を得た。
【０２１６】
【表２】

【０２１７】
比較例１
実施例１の記録層塗布液１において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡを添加しなかった以外は、実施例１と同様にして平版印刷版原版１０を得た。
【０２１８】
比較例２
実施例１の記録層塗布液１において、長鎖アルキル基含有ポリマーの代わりに、ステアリン酸ｎ−ドデシル０．０２ｇを用いた以外は実施例１と同様にして平版印刷版原版１１を得た。
【０２１９】
比較例３
実施例２の記録層塗布液２において、長鎖アルキル基含有ポリマーを添加しなかった以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版原版１２を得た。
【０２２０】
実施例１０
実施例１と同じ支持体に以下の記録層塗布液３を塗布量が２．０ｇ／ｍ^２になるよう塗布したのち、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ　ＯＶＥＮ　ＰＨ２００にてＷｉｎｄ　Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定して１３０℃で５０秒間乾燥し、その後、記録層塗布液４を塗布量が０．４０ｇ／ｍ^２になるよう塗布したのち、１４０℃で１分間乾燥し、平版印刷版原版１３を得た。
【０２２１】
（記録層塗布液３）

【０２２２】
（記録層塗布液４）

【０２２３】
実施例１１
実施例１０で用いたのと同じ支持体に、実施例１０の記録層塗布液３と同様の条件で記録層塗布液５を塗布、乾燥し、更にその上に実施例１０の記録層塗布液４と同様の条件で記録層塗布液６を塗布、乾燥し、２層構成の記録層を有する平版印刷版原版１４を得た。
【０２２４】
（記録層塗布液５）

【０２２５】
（記録層塗布液６）

【０２２６】
実施例１２〜１９
実施例１０の記録層塗布液４において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡの代わりに下記表３に記載の長鎖アルキル基含有ポリマーを用いた以外は実施例１０と同様にして平版印刷版原版１５〜２２を得た。
【０２２７】
【表３】

【０２２８】
実施例２０〜２７
実施例１１の記録層塗布液６において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡの代わりに下記表４に記載の長鎖アルキル基含有ポリマーを用いた以外は実施例１２と同様にして平版印刷版原版２３〜３０を得た。
【０２２９】
【表４】

【０２３０】
比較例４
実施例１０の記録層塗布液４において、長鎖アルキル基含有ポリマーＡを添加しなかった以外は、実施例２と同様にして、平版印刷版原版３１を得た。
【０２３１】
［実施例１〜２７及び比較例１〜４で作製した平版印刷版原版の評価］
前記のようにして合成した長鎖アルキル基含有ポリマーＡ〜Ｉ及びそれを用いて作製した平版印刷版原版に関して、摩擦係数低下率、耐キズ性、現像ラチチュード及び転写性を下記の方法によって評価した。
【０２３２】
＜摩擦係数低下率の評価＞
ベースポリマーとしては、ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量４５００）を用い、実施例１で用いたのと同様の支持体に下記の塗布液を乾燥塗布量が１．６ｇ／ｍ^２になるよう塗布したのち、ＴＡＢＡＩ社製、ＰＥＲＦＥＣＴ　ＯＶＥＮ　ＰＨ２００にてＷｉｎｄ　Ｃｏｎｔｒｏｌを７に設定して１２０℃で６０秒間乾燥し、長鎖アルキル基含有ポリマーＡ〜Ｉ添加系の摩擦係数測定用サンプルを作製した。ベースポリマーの摩擦係数測定用サンプルは、下記の塗布液のｍ，ｐ−クレゾールノボラックの量を１．２００ｇとし、長鎖アルキル基含有ポリマー無添加の処方で同様に作製した。
【０２３３】
（摩擦係数測定サンプル用塗布液）
・ｍ，ｐ−クレゾールノボラック（ｍ／ｐ比＝６／４、重量平均分子量
４５００、未反応クレゾール０．８質量％含有）　　　　　　　　１．０８０ｇ
・長鎖アルキル基含有ポリマー　　　　　　　　　　　　　　　０．１２０ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　５．９５４ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　３．０３３ｇ
【０２３４】
得られたサンプルをポリマー塗膜面がステンレススチールと接触するように置き、ＡＳＴＭ　Ｄ１８９４に従ってステレンススチールに対する動摩擦係数を測定し、長鎖アルキル基含有ポリマー添加サンプルの摩擦係数をベースポリマーのみのサンプルの摩擦係数で割った値を摩擦係数低下率として求めた。評価結果は表６に示した。
【０２３５】
＜耐キズ性評価＞
得られた実施例及び比較例の平版印刷版原版１〜３１をロータリー・アブレーション・テスター（ＴＯＹＯＳＥＩＫＩ社製）を用い、２５０ｇの加重下、アブレーザーフェルトＣＳ５で１５回摩擦した。その後、富士写真フイルム（株）製現像液ＤＴ−１（１：８で希釈したもの）及び富士写真フイルム（株）製フィニッシャーＦＰ２Ｗ（１：１で希釈したもの）を仕込んだ富士写真フイルム（株）製ＰＳプロセッサー９００Ｈを用い、液温３０℃、現像時間１２秒にて現像した。この時の現像液の電導度は、４５ｍＳ／ｃｍであった。耐キズ性の評価は、現像後、アブレーザーフェルトで摩擦した部分及び摩擦しなかった部分の光学濃度の目視観察及びＧＲＥＴＡＧ反射濃度計Ｄ１９６（ＧｒｅｔａｇＭａｃｂｅｔｈ社製）による測定によって、下記基準に従って行った。評価結果は表６に示した。
【０２３６】
（耐キズ性の評価基準）
Ａ：摩擦した部分の感光膜の光学濃度が全く変化しなかったもの
Ｂ：摩擦した部分の感光膜の光学濃度が目視で僅かに観測されたもの
Ｃ：摩擦した部分の感光膜の光学濃度が非摩擦部の２／３以下になったもの
【０２３７】
＜現像ラチチュードの評価＞
作製した実施例及び比較例の平版印刷版原版１〜３１に、Ｃｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて赤外線レーザービーム強度９Ｗ、ドラム回転速度１５０ｒｐｍの条件でテストパターンを画像状に描き込んだ。その後、富士写真フイルム（株）製ノンシリケート現像液ＤＴ−１を水道水で希釈し、種々の電導度を有する現像液を調製した。この液を用いて富士写真フイルム製ＰＳプロセッサー９００Ｈに仕込み、液温３０度、現像時間１２秒にて現像した。なお、フィニッシャー液としてＦＰ−２Ｗ（１：１で水道水希釈したもの）を使用した。
【０２３８】
上記の現像条件において、平版印刷版原版の記録層の非露光部（画像部）の光学濃度低下を目視評価し、濃度低下が観測された時に使用された現像液電導度を（Ｘ）ｍＳ／ｃｍとする。また、同現像条件において、平版印刷版原版の記録層の露光部（非画像部）の光学濃度低下を目視評価し、濃度低下が観測された時に使用された現像液電導度を（Ｙ）ｍＳ／ｃｍとする。本実施例においては、現像ラチチュードを（Ｘ）−（Ｙ）と定義した。現像ラチチュードの値が大きいほど、露光部（非画像部）における残膜の発生がしにくく、かつ、未露光部（画像部）の濃度低下も起きにくいことから、現像液の活性に対するラチチュードが広いといえる。評価結果は表６に示した。
【０２３９】
＜転写性の評価＞
転写性の評価方法は、実施例及び比較例の平版印刷版原版１〜３１の上にクロロプレンゴム（９０ｍｍ×９０ｍｍ）を置き、６ｋｇの加重をかけ、１００℃１０分加熱後、剥がしたクロロプレンゴムの表面を目視評価する方法で行った。評価尺度としては、下記の判定基準が用いた。評価結果は表６に示した。
○：色変化なし
×：色変化あり
【０２４０】
【表５】

【０２４１】
【表６】

【０２４２】
表５と６から、本発明の画像記録要素を記録層に用いた実施例１〜２７の平版印刷版原版は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例１、３及び４の平版印刷版原版と比較して、耐キズ性が優れており、現像ラチチュードの点でも概ね良好であることが分かる。また、摩擦係数低下率が良好で耐キズ性良好なステアリン酸ｎ−ドデシル含有の平版印刷版原版３１（比較例４）が転写性の点で問題がるのに対して、本発明の平版印刷版原版は、転写性の点でも優れていることが分かる。従って、本発明の平版印刷版原版は、耐キズ性、現像ラチチュード、転写性ともに良好な平版印刷版原版であることが分かる。
【０２４３】
実施例２８〜３０、比較例５〜７
作製例で得た支持体（２）上に、下記記録層塗布液７を調製し、ワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ^２の範囲内であった。
【０２４４】
（記録層塗布液７）
・アルカリ可溶性高分子（表７に記載の化合物、表７に記載の量）
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−５）　　　　　　　　　　０．１０ｇ
・ラジカル発生剤（下記Ｓ−１）　　　　　　　　　　　　　　　０．４５ｇ
・ラジカル重合性化合物（表７に記載の化合物、表７に記載の量）
・長鎖アルキル基含有ポリマー（表７に記載）　　　　　　　　　０．０２３ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩　　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０ｌｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・ｐ−メトキシフェノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．００１ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０２４５】
【表７】

【０２４６】
なお、上記実施例及び比較例に使用したアルカリ可溶性高分子の構造を下記に示す。
【０２４７】
【化４９】

【０２４８】
同様に、実施例及び比較例に使用したラジカル発生剤の構造を以下に示す。
【０２４９】
【化５０】

【０２５０】
同様に、本発明における実施例及び比較例に使用したラジカル重合性化合物の構造を以下に示す。
【０２５１】
【化５１】

【０２５２】
得られた前期各平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出力６．５Ｗ、外面ドラム回転数８１ｒｐｍ、版面エネルギー１８８ｍＪ／ｃｍ^２、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
【０２５３】
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処理した。現像液は、下記（Ｄ−１）を仕込み液、下記（Ｄ−２）を補充液に用いた。現像欲浴の温度は３０℃、現像時間を１２秒で処理した。この際、補充液は自動現像機現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を用いた。
【０２５４】
（現像液（Ｄ−１））
・水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　３ｇ
・炭酸水素カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
・炭酸カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２ｇ
・亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル　　　　　　１５０ｇ
・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩　　　　　　　　５０ｇ
・エチレンジアミン４酢酸４ナトリウム塩　　　　　　　　　　　８ｇ
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７８５ｇ
【０２５５】
（現像液（Ｄ−２））
・水酸化カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６ｇ
・炭酸カリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　２ｇ
・亜硫酸ナトリウム　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１ｇ
・ポリエチレングリコールモノナフテルエーテル　　　　　　１５０ｇ
・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩　　　　　　　　５０ｇ
・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム塩　　　　　　　　　　４ｇ
・シリコンＴＳＡ−７３１　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．１ｇ
（東芝シリコーン社（株）製）
・水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　７８６．９ｇ
【０２５６】
＜耐刷性の評価＞
次に、小森コーポレーション（株）製印刷機リスロンを用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を前記表７に併記する。
【０２５７】
＜耐キズ性の評価＞
上記記録層を塗布した平版印刷版原版の耐キズ性についての評価を行った。機器としては、ＨＥＩＤＯＮ社製Ｓｃｒａｔｃｈｉｎｇ　ＴＥＳＴＥＲ　ＨＥＩＤＯＮ−１４を用い、引っ掻き針として０．４ｍｍＲダイヤ針を用い、針上の荷重を変化させながら、４００ｍｍ／ｍｉｎの速さで記録層表面を引っ掻いた。引っ掻いた後の原版を上述の現像処理を行い、残膜が目視で観測された荷重の大きさを評価した。荷重が大きいほど、キズ残膜が生じにくく、耐キズ性に優れることになる。結果を前記表７に併記する。
【０２５８】
以上、表７に明らかなように、本発明の画像記録要素を記録層として用いた実施例２８〜３０の平版印刷版原版は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例５〜７に比べ、優れた耐キズ性を達成していることがわかる。また、いずれの試料にも、露光時のアブレーションは見られなかった。
【０２５９】
実施例３１〜３２、比較例８〜９
実施例２８〜３０及び比較例５〜７で用いたのと同様のアルミニウム支持体（２）上に、下記に示す下塗り層用塗布液を塗布し、８０℃雰囲気下で３０秒間乾燥した。乾燥塗布量は、１０ｍｇ／ｍ^２であった。
【０２６０】
（下塗り層用塗布液）
・２−アミノエチルホスホン酸　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．５ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　４０ｇ
・純水　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　６０ｇ
【０２６１】
その後、下記に示す記録層塗布液８を前記下塗り層の形成された支持体上に、ワイヤーバーで塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は、１．２〜１．３ｇ／ｍ^２の範囲内であった。
【０２６２】
（記録層塗布液８）
・アルカリ可溶性高分子（表８に記載の化合物、表８に記載の量）
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−８）　　　　　　　　　　０．０８ｇ
・ラジカル発生剤（前記Ｓ−２）　　　　　　　　　　　　　　　０．３０ｇ
・ラジカル重合性化合物（表８に記載の化合物、表８に記載の量）
・長鎖アルキル基含有ポリマー（表８に記載）　　　　　　　　　０．０２３ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸　　　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・Ｎ−ニトロソ−Ｎ−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム　０．００１ｇ
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０２６３】
【表８】

【０２６４】
得られた平版印刷版原版を、それぞれ６０℃で３日間保存、及び、４５℃、湿度７５％ＲＨで３日間保存して強制経時させた。その後、強制経時したものと強制経時しないものとを、実施例２８〜３０及び比較例５〜７と同じ条件で露光し、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００ＮＰを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液共に富士写真フイルム（株）製ＤＰ−４の１：８水希釈液を用いた。現像浴の温度は３０℃、現像時間を１２秒で処理した。この際、補充液は自動現像機現像浴中の現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を用いた。
【０２６５】
得られた平版印刷版を、前記実施例２８〜３０及び前記比較例５〜７と同様の印刷を行い、耐刷性及び汚れ性を評価した。結果を前記表８に併記した。
【０２６６】
表８から、本発明の画像記録要素を記録層として用いた実施例３１〜３２の平版印刷版原版は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例８〜９に比べ、高温、高湿環境下で保存した後も、耐刷性、非画像部の汚れ性が低下せず、経時安定性に優れていることが分かる。
【０２６７】
実施例３３〜３４、比較例１０〜１１
実施例２８〜３０及び比較例５〜７で用いたのと同様のアルミニウム支持体（２）上に、下記記録層塗布液９を調製し、上記アルミニウム支持体にワイヤーバーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて１１５℃で４５秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥後の被覆量は１．２〜１．３ｇ／ｍ^２の範囲内であった。
【０２６８】
（記録層塗布液９）
・アルカリ可溶性高分子（表９に記載の化合物、表９に記載の量）
・赤外線吸収剤（本明細書記載のＩＲ−９）　　　　　　　　　０．１０ｇ
・ラジカル発生剤（前記Ｓ−１）　　　　　　　　　　　　　　０．５０ｇ
・長鎖アルキル基含有ポリマー（表９に記載）　　　　　　　　０．０２３ｇ
・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩　　　　　０．０４ｇ
・フッ素系界面活性剤　　　　　　　　　　　　　　　　　　　０．０１ｇ
（メガファックＦ−１７６，大日本インキ化学工業（株）製）
・メチルエチルケトン　　　　　　　　　　　　　　　　　　　９．０ｇ
・メタノール　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　　１０．０ｇ
・１−メトキシ−２−プロパノール　　　　　　　　　　　　　８．０ｇ
【０２６９】
【表９】

【０２７０】
得られた平版印刷版原版を、水冷式４０Ｗ赤外線半導体レーザを搭載したＣｒｅｏ社製Ｔｒｅｎｄｓｅｔｔｅｒ３２４４ＶＦＳにて、出力９Ｗ、外面ドラム回転数２１０ｒｐｍ、版面エネルギー１００ｍＪ／ｃｍ^２、解像度２４００ｄｐｉの条件で露光した。
【０２７１】
露光後、富士写真フイルム（株）製自動現像機スタブロン９００Ｎを用い現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム（株）製ＤＮ−３Ｃの１：１水希釈液を用いた。現像欲浴の温度は３０℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フイルム（株）製ＦＮ−６の１：１水希釈液を用いた。
【０２７２】
〔耐刷性及び耐キズ性の評価〕
次に、ハイデルベルク社ＳＯＲ−ＫＺ印刷機を用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷できるかを計測し、耐刷性を評価した。また、実施例２８〜３０及び比較例５〜７と同様に耐キズ性について評価を行った。
【０２７３】
表９から、本発明の画像記録要素を記録層として用いた実施例３３〜３４の平版印刷版原版は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例１０〜１１に比べ、優れた耐キズ性を達成し、優れた耐刷性も維持していることが分かる。
【０２７４】
更に、実施例２８の平版印刷版原版を３０枚積層し、版材供給装置に装填し、全自動で連続して、露光、現像処理し、ストッカーへ排出した。装置の運転中、平版印刷版原版同士の接着や、それに起因する搬送不良などが見られなかったことから、良好な滑り性を有し、支持体裏面に対する滑り剤の転写性も抑制されていることが分かった。また、実施例２９〜３４の平版印刷版原版においても同様の結果が得られた。
【０２７５】
以上の実施例で明らかなように、本発明の画像記録要素を記録層として用いた平版印刷版原版（本発明の平版印刷版原版）は、耐キズ性、耐刷性及び滑り性に優れ、更に、滑り性素材（摩擦係数低下素材）の転写性が抑制されているという優れた効果を示した。
【０２７６】
【発明の効果】
本発明によれば、良好な耐キズ性及び広い現像ラチチュードを有し、かつ、製造、搬送時のローラー及び保護紙（合紙）や支持体裏面への転写問題を起こさない画像記録要素、及び該画像記録要素を記録層に用いることによって、同様の特性を有するダイレクト製版用の赤外線レーザ用平版印刷版原版を提供することができる。[0001]
BACKGROUND OF THE INVENTION
The present invention relates to an image recording element that can be used for a lithographic printing plate precursor, and more particularly to an image recording element that can be used for a lithographic printing plate precursor for infrared laser for so-called direct plate making that can be directly made from a digital signal of a computer or the like.
[0002]
[Prior art]
In recent years, the development of lasers has been remarkable. In particular, solid-state lasers and semiconductor lasers having a light emitting region from the near infrared to the infrared can be easily obtained with high output and small size. These lasers are very useful as an exposure light source when directly making a plate from digital data such as a computer.
[0003]
The positive type lithographic printing plate precursor for infrared laser has an alkaline aqueous solution-soluble binder resin and an infrared absorbing dye that absorbs light and generates heat (photothermal conversion substance) as essential components, and the infrared absorbing dye is unexposed. Part (image part) acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin by interaction with the binder resin, and in the exposed part (non-image part), an infrared absorbing dye or the like and the binder are generated by the generated heat. The interaction with the resin weakens and dissolves in an alkaline developer to form a lithographic printing plate.
[0004]
However, in such a positive-type planographic printing plate precursor for infrared laser, even when the surface condition slightly changes due to touching the surface during handling, the unexposed area (image area) is dissolved during development to form scratch marks. Thus, there has been a problem of causing deterioration of printing durability and poor inking properties.
[0005]
Further, the negative lithographic printing plate precursor for infrared laser also has a problem that the scratch resistance of the recording layer is insufficient before being unexposed and cured.
[0006]
As means for solving the above problem, for example, Patent Document 1 (US Pat. No. 6,124,425) discloses that an infrared-absorbing functional group for the purpose of easily achieving film strength (image strength) is used as a side chain. Examples of alkali-soluble resins having are described. That is, an attempt is made to improve the film strength by introducing a partial structure having a photothermal conversion function into an alkali-soluble resin to reduce components in the material. However, since this alkali-soluble resin is a polymer compound having a molecular weight of 5000 or more, the adhesion to the support is increased, and the solubility in the processing agent during development is not sufficient. When used as a lithographic printing plate material, the solubility of the non-image area is low, the recording layer to be removed is not sufficiently removed by the development process, and the remaining film tends to be smudged. Had a problem.
[0007]
Further, for example, it is known in Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2000-35666) that the addition of a low molecular weight wax improves surface slipperiness and exhibits excellent scratch resistance. Since it is a molecule, it has problems such as protection paper (interleaf) when laminating lithographic printing plate precursors, transfer to the back of the support, and transfer to rollers during lithographic printing plate precursor production. And instability during transportation.
[0008]
Further, for example, Patent Document 3 (European Patent No. 950514) and Patent Document 4 (European Patent No. 950517) propose examples in which slipping property is expressed by a polysiloxane surfactant. This is also an unstable factor during production and transportation due to concerns about residue during development and difficulty in controlling slipperiness due to slipping too much.
Japanese Patent Application No. 2002-32904 discloses a thermal positive in which a long-chain alkyl ester is added to lower the dynamic friction coefficient.
[0009]
In addition, there is a measure for providing a protective layer, for example, a general protective layer using a water-soluble resin, on the recording layer. However, in particular, when a lithographic printing plate precursor is laminated and stored under high humidity, the protective layer and the protective paper (interleaf) or the back side of the support adhere to each other, making the protective layer difficult to peel off and improving workability. It had the problem of being lowered.
[0010]
[Patent Document 1]
US Pat. No. 6,124,425
[Patent Document 2]
JP 2000-35666 A
[Patent Document 3]
European Patent No. 950514
[Patent Document 4]
European Patent No. 950517
[0011]
[Problems to be solved by the invention]
As described above, the conventional measures for preventing scratches have the problem that the productivity of all the means is poor. For this reason, there has been a demand for an image recording element and a lithographic printing plate precursor that do not deteriorate the workability, do not affect the image formability, and can suppress scratching of the recording layer. Therefore, an object of the present invention is to solve the above problems. That is, an image recording element having good scratch resistance and wide development latitude (latitude), and that does not cause a problem of transfer to a roller and a protective paper (interleaf) or back of a support during production and conveyance, and It is to provide a lithographic printing plate precursor using the same.
[0012]
[Means for Solving the Problems]
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor is a copolymer of a long-chain alkyl group-containing monomer having 6 or more carbon atoms and a hydrophilic monomer, and the coefficient of friction reduction with respect to the base polymer is 0. The present inventors have found that the above problems can be solved by using a heat mode image recording element containing a long chain alkyl group-containing polymer of 0.5 to 0.97 as the recording layer, and have completed the present invention. That is, the present invention is as follows.
[0013]
1. (A) an infrared absorber and (b) a copolymer of a long-chain alkyl group-containing monomer having 6 or more carbon atoms and a hydrophilic monomer, having a friction coefficient reduction rate of 0.5 to 0.97 with respect to the base polymer An image-recording element comprising a chain alkyl group-containing polymer and capable of forming an image by exposure with an infrared laser.
[0014]
2. On the support, it is a copolymer of (a) an infrared absorber and (b) a long-chain alkyl group-containing monomer having 6 or more carbon atoms and a hydrophilic monomer, and the coefficient of friction reduction with respect to the base polymer is 0.5 to A lithographic printing plate precursor comprising a 0.97 long-chain alkyl group-containing polymer and having a recording layer capable of forming an image by exposure with an infrared laser.
[0015]
DETAILED DESCRIPTION OF THE INVENTION
The image recording element of the present invention is a copolymer of an infrared absorber, a long-chain alkyl group-containing monomer having 6 or more carbon atoms, and a hydrophilic monomer, and the coefficient of friction reduction with respect to the base polymer is 0.5 to 0.97. A long-chain alkyl group-containing polymer. The ratio is more preferably 0.60 to 0.95, and still more preferably 0.65 to 0.92. A good lithographic printing plate having a wide development latitude (latitude) and scratch resistance within this range, and having no transfer to the roller, protective paper (interleaf), or back of the support during production and transportation. An image recording element for producing a master is obtained. If the upper limit of the specific range is exceeded, the effect of improving scratch resistance due to slipping cannot be obtained, and scratching is likely to occur. If the lower limit is not reached, slipping is excessive and handling during manufacture and transportation becomes poor.
[0016]
In the present invention, the rate of decrease in the coefficient of friction of the long-chain alkyl group-containing polymer with respect to the pace polymer is a copolymer of a long-chain alkyl group-containing monomer and a hydrophilic monomer in the base polymer (a polymer used as a reference in the measurement of the friction coefficient). Is a value obtained by dividing the friction coefficient of the mixture added with 10% by mass by the friction coefficient of the base polymer. That is, it means the rate of decrease in the coefficient of friction of the base polymer due to the addition of the copolymer.
[0017]
The base polymer used for the measurement of the coefficient of friction is preferably a polymer mainly used in the image recording element, and specifically includes phenol resin, acrylic resin, amide resin, sulfonamide resin, etc. A phenol resin is particularly preferable.
[0018]
The friction coefficient in the present invention is a dynamic friction coefficient (μk) representing the characteristics of the image recording element of the present invention, and is measured in accordance with standard ASTM D1894. In the present invention, it is simply expressed as a friction coefficient. Specific measurement methods are described in the examples.
[0019]
The image recording element of the present invention that can form an image by exposure with an infrared laser includes a positive image recording element whose solubility in an alkaline aqueous solution is increased by infrared laser exposure, which will be described in detail later, and infrared light Examples thereof include a negative type image recording element in which an exposed portion is polymerized or crosslinked by laser exposure to be insolubilized in a developer.
[0020]
[Image recording element]
The image recording element of the present invention comprises an infrared absorbing dye and a long-chain alkyl group-containing polymer having 6 or more carbon atoms in combination with the image recording element. The lithographic printing plate precursor according to the invention can be obtained by providing a recording layer using the image recording element on a support. Hereafter, each component which comprises this invention is demonstrated sequentially.
[0021]
(Long-chain alkyl group-containing monomer and hydrophilic monomer copolymer)
The long-chain alkyl group-containing polymer suitably used for reducing the friction coefficient of the base polymer in the present invention to a ratio of 0.5 to 0.97 is at least one kind of carbon atoms of 6 or more, preferably 12 carbon atoms. A polymer obtained by copolymerizing the above long-chain alkyl group-containing monomer and at least one hydrophilic monomer in combination is preferable.
[0022]
As the long-chain alkyl group-containing monomer having 6 or more carbon atoms, a compound having an ethylenically unsaturated group capable of addition polymerization in the molecule is preferable, and solvent solubility and scratch resistance when a lithographic printing plate precursor is prepared. From the viewpoint of improvement effect, surface coverage and influence on image formability, etc., acrylate-based, methacrylate-based, acrylamide-based, methacrylamide-based, styrene-based, vinyl-based, vinyl ether-based, maleic acid-based, having a long-chain alkyl group, A compound such as fumaric acid is preferable.
[0023]
Specific examples of such a long-chain alkyl group-containing monomer include the following general formula (I), but are not limited thereto.
[0024]
[Chemical 1]

[0025]
n represents an integer of 6 to 40. X represents a divalent linking group. Y, Y ′ and Y ″ each represent a monovalent organic group. In general formula (I), n is preferably an integer of 10 to 30, and more preferably an integer of 12 to 20.
[0026]
Specific examples of the divalent linking group represented by X include a linear or branched, chain or cyclic alkylene group having 1 to 20 carbon atoms, a linear or branched, chain or cyclic alkenylene group having 2 to 20 carbon atoms. Group, an alkynylene group having 2 to 20 carbon atoms, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (monocyclic or heterocyclic ring), -OC (= O)-, -OC (= O) Ar-, -OC (= O) O-, -OC (= O) OAr-, -C (= O) NR-, -C (= O) NAr-, -SO₂NR-, -SO₂NAr-, -O-, (alkyleneoxy, polyalkyleneoxy), -OAr-aryleneoxy, polyaryleneoxy), -C (= O) O-, -C (= O) O-Ar-, -C ( = O) Ar-, -C (= O)-, -SO₂O-, -SO₂OAr-, -OSO₂-, -OSO₂Ar-, -NRSO₂-, -NArSO₂-, -NRC (= O)-, -NArC (= O)-, -NRC (= O) O-, -NArC (= O) O-, -OC (= O) NR-, -OC (= O ) NAr-, -NAr-, -NR-, -N⁺RR'-, -N⁺RAr-, -N⁺ArAr′-, -S-, -SAr-, -ArS-, a heterocyclic group (including at least one hetero atom such as nitrogen, oxygen, sulfur, etc.) ), -OC (= S)-, -OC (= S) Ar-, -C (= S) O-, -C (= S) OAr-, -C (= S) OAr-, -C (= O) S-, -C (= O) SAr-, -ArC (= O)-, -ArC (= O) NR-, -ArC (= O) NAr-, -ArC (= O) O-,- ArC (= O) O-, -ArC (= O) S-, -ArC (= S) O-, -ArO-, -ArNR- and the like can be mentioned. Here, R and R 'each represent H, a linear or branched, chain or cyclic alkyl group, an alkenyl group, or an alkynyl group, and Ar and Ar' each represent an aryl group.
The linking group may form a linking group by combining two or more of the linking groups listed here. Examples of such a linking group include arylene groups having 6 to 20 carbon atoms (monocyclic and heterocyclic rings), -C (= O) NR-, -C (= O) NAr-, -O- (alkyleneoxy, poly Alkyleneoxy), -OAr-aryleneoxy, polyaryleneoxy), -C (= O) O-, -C (= O) O-Ar-, -C (= O)-, -C (= O) Ar —, —S—, —SAr—, —ArS—, —ArC (═O) —, —ArC (═O) O—, —ArC (═O) O—, —ArO—, —ArNR— and the like are preferable. , An arylene group having 6 to 20 carbon atoms (monocyclic, heterocyclic), -C (= O) NR-, -C (= O) NAr-, -O- (alkyleneoxy, polyalkyleneoxy), -OAr- Aryleneoxy, polyaryleneoxy), -C (= O) O-, -C (= O) O-Ar-, -SA -, - ArS -, - ArC (= O) -, - ArC (= O) O -, - ArC (= O) O -, - ArO -, - ArNR- are more preferable.
[0027]
Moreover, the said coupling group may have a substituent, As an example of the substituent, C1-C20 linear or branched, linear or cyclic alkylene, C2-C20 linear Or branched, chain or cyclic alkenylene, alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, arylene having 6 to 20 carbon atoms, acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, alkoxycarbonyloxy group having 2 to 20 carbon atoms, carbon number 7 -20 aryloxycarbonyloxy group, carbamoyloxy group having 1-20 carbon atoms, carbonamido group having 1-20 carbon atoms, sulfonamido group having 1-20 carbon atoms, carbamoyl group having 1-20 carbon atoms, carbon number A 0-20 sulfamoyl group, an alkoxy group having 1-20 carbon atoms, an aryloxy group having 6-20 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group having 7-20 carbon atoms, an aryl group having 2-20 carbon atoms. Coxycarbonyl group, N-acylsulfamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, N-sulfamoylcarbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, aryl having 6 to 20 carbon atoms A sulfonyl group, an alkoxycarbonylamino group having 2 to 20 carbon atoms, an aryloxycarbonylamino group having 7 to 20 carbon atoms, an amino group having 0 to 20 carbon atoms, an imino group having 1 to 20 carbon atoms, and a 3 to 20 carbon atoms Ammonio group, carboxyl group, sulfo group, oxy group, mercapto group, C1-C20 alkylsulfinyl group, C6-C20 arylsulfinyl group, C1-C20 alkylthio group, C6-C20 Arylthio group, ureido group having 1 to 20 carbon atoms, heterocyclic group having 2 to 20 carbon atoms, acyl group having 1 to 20 carbon atoms, sulfo group having 0 to 20 carbon atoms Amoiruamino group, a silyl group having 2 to 20 carbon atoms, hydroxy group, a halogen atom (e.g., fluorine atom, chlorine atom, bromine atom), a cyano group and a nitro group.
[0028]
Specific examples of Y, Y ′ and Y ″ include, but are not limited to, the following: hydrogen atom, linear or branched, linear or cyclic having 1 to 50 carbon atoms. An alkyl group (for example, methyl, ethyl, propyl, heptafluoropropyl, isopropyl, butyl, t-butyl, t-pentyl, cyclopentyl, cyclohexyl, octyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, etc.), straight chain having 2 to 50 carbon atoms or Branched, chain or cyclic alkenyl group (for example, vinyl, 1-methylvinyl, cyclohexen-1-yl, etc.), C2-C50 alkynyl group (for example, ethynyl, 1-propynyl, etc.), C6-C50 Aryl groups (for example, phenyl, naphthyl, anthryl, etc.), acyloxy groups having 1 to 50 carbon atoms (for example, acetoxy, tetradeca Yloxy, benzoyloxy, etc.), an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 50 carbon atoms (for example, methoxycarbonyloxy group, 2-methoxyethoxycarbonyloxy group, etc.), an aryloxycarbonyloxy group having 7 to 50 carbon atoms (for example, phenoxycarbonyl) Oxy group, etc.), carbamoyloxy group having 1 to 50 carbon atoms (for example, N, N-dimethylcarbamoyloxy etc.), carbonamide group having 1 to 50 carbon atoms (for example, formamide, N-methylacetamide, acetamide, N- Methylformamide, benzamide, etc.), C 1-50 sulfonamide groups (eg, methanesulfonamide, dodecane sulfonamide, benzenesulfonamide, p-toluenesulfonamide, etc.), C 1-50 carbamoyl groups (eg, , N- Tilcarbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-mesylcarbamoyl, etc.), sulfamoyl groups having 0 to 50 carbon atoms (for example, N-butylsulfamoyl, N, N-diethylsulfamoyl, N-methyl-N-) (4-methoxyphenyl) sulfamoyl etc.), C1-C50 alkoxy groups (for example, methoxy, propoxy, isopropoxy, octyloxy, t-octyloxy, dodecyloxy, 2- (2,4-di-t-) Pentylphenoxy) ethoxy, polyalkyleneoxy, etc.), aryloxy groups having 6 to 50 carbon atoms (for example, phenoxy, 4-methoxyphenoxy, naphthoxy, etc.), aryloxycarbonyl groups having 7 to 50 carbon atoms (for example, phenoxycarbonyl, Naphthoxycarbonyl, etc.)
[0029]
C2-C50 alkoxycarbonyl group (for example, methoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, etc.), C1-C50 N-acylsulfamoyl group (for example, N-tetradecanoylsulfamoyl, N-benzoyl) Sulfamoyl and the like), an N-sulfamoylcarbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, N-methanesulfonylcarbamoyl group), an alkylsulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, methanesulfonyl, octylsulfonyl, 2- Methoxyethylsulfonyl, 2-hexyldecylsulfonyl, etc.), C6-C50 arylsulfonyl groups (e.g., benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, 4-phenylsulfonylphenylsulfonyl, etc.), C2-C50 alkoxycarbonylamino Groups (eg ethoxycal Nylamino, etc.), aryloxycarbonylamino groups having 7 to 50 carbon atoms (for example, phenoxycarbonylamino, naphthoxycarbonylamino, etc.), amino groups having 0 to 50 carbon atoms (for example, amino, methylamino, diethylamino, diisopropylamino, anilino) , Morpholino, etc.), an ammonio group having 3 to 50 carbon atoms (for example, trimethylammonio group, dimethylbenzylammonio group, etc.), cyano group, nitro group, carboxyl group, hydroxy group, sulfo group, mercapto group, carbon number 1 -50 alkylsulfinyl group (for example, methanesulfinyl, octanesulphinyl, etc.), arylsulfinyl group having 6-50 carbon atoms (for example, benzenesulfinyl, 4-chlorophenylsulfinyl, p-toluenesulfinyl, etc.), C1-50 Alkylthio groups (for example, methylthio, octylthio, cyclohexylthio, etc.), arylthio groups having 6 to 50 carbon atoms (for example, phenylthio, naphthylthio, etc.), ureido groups having 1 to 50 carbon atoms (for example, 3-methylureido, 3, 3 -Dimethylureido, 1,3-diphenylureido, etc.), a C2-C50 heterocyclic group (the hetero atom includes, for example, at least one nitrogen, oxygen, sulfur and the like, a 3- to 12-membered monocyclic ring) A condensed ring such as 2-furyl, 2-pyranyl, 2-pyridyl, 2-thienyl, 2-imidazolyl, morpholino, 2-quinolyl, 2-benzimidazolyl, 2-benzothiazolyl, 2-benzoxazolyl, etc.) , An acyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, acetyl, benzoyl, trifluoroacetyl, etc.), 0 carbon atoms -50 sulfamoylamino groups (for example, N-butylsulfamoylamino, N-phenylsulfamoylamino, etc.), silyl groups having 3 to 50 carbon atoms (for example, trimethylsilyl, dimethyl-t-butylsilyl, triphenyl) Silyl, etc.), an azo group, and a halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.). The above substituents may further have a substituent, and examples of the substituent include the substituents mentioned here.
[0030]
Further, at least two of Y, Y ′ and Y ″ may form a ring with each other, and examples thereof include an aliphatic ring, an aromatic ring and a heterocyclic group.
[0031]
Specific examples of the general formula (I) include the following, but are not limited thereto.
[0032]
[Chemical 2]

[0033]
n = 6-40 n = 6-40
[0034]
[Chemical 3]

[0035]
[Formula 4]

[0036]
[Chemical formula 5]

[0037]
The composition molar ratio of the long-chain alkyl group-containing monomer is preferably 10 mol% or more, more preferably 20 mol% or more, and most preferably 30 mol% or more from the viewpoint of improving slipperiness. .
[0038]
The hydrophilic monomer is preferably a compound represented by the following general formula (II) from the viewpoints of solubility in an alkali developer and sensitivity.
[0039]
[Chemical 6]

[0040]
In the formula, Z represents a monovalent hydrophilic group, and W, W ′ and W ″ represent a monovalent organic group.
[0041]
In the general formula (II), specific examples of Z include the following, but are not limited thereto.
[0042]
C1-C50 acyloxy group, C2-C50 alkoxycarbonyloxy group, C7-C50 aryloxycarbonyloxy group, C1-C50 carbamoyloxy group, C1-C50 carboxamide A group having 1 to 50 carbon atoms, a sulfamoyl group having 0 to 50 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 2000 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 2000 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms, An alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms, an N-acylsulfamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, an N-sulfamoylcarbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms, an alkylsulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, Methanesulfonyl, octylsulfonyl, 2-methoxyethylsulfonyl, 2-hexyldecylsulfonyl, etc.), charcoal 6 to 50 arylsulfonyl groups (for example, benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, 4-phenylsulfonylphenylsulfonyl, etc.), C2 to C50 alkoxycarbonylamino groups, and C7 to C50 aryloxycarbonylamino groups An amino group having 0 to 50 carbon atoms, an onium group having 3 to 50 carbon atoms (ammonium, sulfonium, diazonium, iodonium, iminium, etc.), a hydroxy group, a sulfo group, a mercapto group, an alkylsulfinyl group having 1 to 50 carbon atoms, Arylsulfinyl group having 6 to 50 carbon atoms, alkylthio group having 1 to 50 carbon atoms, arylthio group having 6 to 50 carbon atoms, ureido group having 1 to 50 carbon atoms, alkylsiloxy group having 1 to 2000 carbon atoms, carbon number 1 A phenol group (-A -OH), a sulfonamido group (-SO₂NH-R), substituted sulfonamide acid groups (hereinafter referred to as “active imide groups”) [—SO₂NHCOR, -SO₂NHSO₂R, -CONHSO₂R], a carboxylic acid group (—CO₂H), a sulfonic acid group (—SO₃H), phosphate group (-OPO₃H₂) And the like. The above substituents may further have a substituent, and examples of the substituent include the substituents mentioned here.
[0043]
Examples of the monovalent organic groups W, W ′, and W ″ in the general formula (II) include those having the same meaning as the monovalent organic groups Y, Y ′, and Y ″ in the general formula (I).
[0044]
The hydrophilic monomer of the general formula (II) is preferably a monomer having an acid group of pKa12 or less from the viewpoints of solubility in an alkali developer and sensitivity.
[0045]
As such a monomer having an acid group of pKa12 or less, those having an acidic group listed in the following (1) to (6) are preferable from the viewpoint of solubility and sensitivity in an alkaline developer.
[0046]
(1) Phenol group (-Ar-OH)
(2) Sulfonamide group (—SO₂NH-R)
(3) Active imide group (-SO₂NHCOR, -SO₂NHSO₂R, -CONHSO₂R)
(4) Carboxylic acid group (—CO₂H)
(5) Sulfonic acid group (-SO₃H)
(6) Phosphate group (-OPO₃H₂)
In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent.
[0047]
Examples of the monomer (1) having a phenol group include acrylamide, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene having a phenol group.
[0048]
Examples of the monomer (2) having a sulfonamide group include compounds each having at least one sulfonamide group having the above structure and a polymerizable unsaturated group in the molecule. Among these, a low molecular compound having an acryloyl group, an allyl group, or a vinyloxy group and a sulfonamide group in the molecule is preferable. Examples thereof include compounds represented by the following general formulas (i) to (v).
[0049]
[Chemical 7]

[0050]
In the general formulas (i) to (v), X¹And X²Each independently represents —O— or —NR—⁷-Represents. R¹And R⁴Each independently represents a hydrogen atom or —CH₃Represents. R², R⁵, R⁹, R¹²And R¹⁶Each independently represents a C 1-12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a substituent. R³, R⁷And R¹³Each independently represents a hydrogen atom, an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R⁶And R¹⁷Each independently represents an optionally substituted alkyl group having 1 to 12 carbon atoms, a cycloalkyl group, an aryl group or an aralkyl group. R⁸, R¹⁰And R¹⁴Each independently represents a hydrogen atom or —CH₃Represents. R¹¹And R¹⁵Each independently represents a C1-C12 alkylene group, cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group which may have a single bond or a substituent. Y¹And Y²Each independently represents a single bond or —CO—.
[0051]
Among the compounds represented by the general formulas (i) to (v), in the image recording element of the present invention, in particular, m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- (p -Aminosulfonylphenyl) acrylamide etc. can be used conveniently.
[0052]
Examples of the monomer (3) having an active imide group include compounds having at least one active imide group represented by the structural formula and one polymerizable unsaturated group in the molecule. Among these, compounds having at least one active imide group represented by the following structural formula and one polymerizable unsaturated group in the molecule are preferable.
[0053]
[Chemical 8]

[0054]
Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.
[0055]
Examples of the monomer (4) having a carboxylic acid group include compounds having one or more carboxylic acid groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule. Examples of the monomer (5) having a sulfonic acid group include compounds having one or more sulfonic acid groups and polymerizable unsaturated groups in the molecule. Examples of the monomer (6) having a phosphate group include compounds having at least one phosphate group and one polymerizable unsaturated group in the molecule.
[0056]
Among the monomers having an acid group having a pKa of 12 or less, (1) a phenol group, (2) a sulfonamide group, (3) an active imide group or (4) a monomer having a carboxylic acid is preferable. Or (2) a monomer having a sulfonamide group or (4) a carboxylic acid is most preferable from the viewpoint of sufficiently ensuring solubility in an alkaline developer, development latitude, and film strength.
The composition molar ratio of the hydrophilic monomer is preferably 40 to 60 mol% in the copolymer component with the long-chain alkyl group-containing monomer.
[0057]
Other monomers can also be used as a copolymerization component of the long-chain alkyl group-containing monomer and the hydrophilic monomer. Such a monomer other than the long-chain alkyl group-containing monomer and the hydrophilic monomer is preferably 50 mol% or less in the copolymer component, and more preferably 30 mol% or less from the viewpoint of scratch resistance effect. preferable.
[0058]
Examples of monomers other than the long-chain alkyl group-containing monomer and the hydrophilic monomer include the compounds listed in the following (7) to (17).
[0059]
(7) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate.
(8) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, amyl acrylate, benzyl acrylate, 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, polyethylene glycol monoacrylate, polypropylene glycol monoalkylate Acrylates and the like.
(9) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-dimethylaminoethyl methacrylate, polyethylene glycol monomethacrylate, polypropylene Methacrylates such as glycol monomethacrylate.
[0060]
(10) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N-ethyl- Acrylamide or methacrylamide such as N-phenylacrylamide.
(11) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether, and phenyl vinyl ether.
(12) Vinyl esters such as vinyl acetate, vinyl chloroacetate, vinyl butyrate and vinyl benzoate.
[0061]
(13) Styrenes such as styrene, α-methylstyrene, methylstyrene, and chloromethylstyrene.
(14) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone.
(15) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.
[0062]
(16) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like.
(17) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.
[0063]
As a copolymerization method of the long-chain alkyl group-containing monomer and the hydrophilic monomer, a conventionally known graft copolymerization method, block copolymerization method, random copolymerization method or the like can be used. In this copolymerization, two or more kinds of copolymer components of the long-chain alkyl group-containing monomer can be used in combination.
[0064]
As the long-chain alkyl group-containing polymer of the present invention, a copolymer obtained as described above is used, and a polymer having a structural unit represented by the general formula (III) is more preferable.
[0065]
[Chemical 9]

[0066]
Here, n represents an integer of 6 to 40. Y, Y ′ and Y ″ represent a monovalent organic group. X represents a divalent linking group. Z ′ represents a divalent hydrophilic group. M represents a real number of 0.1 ≦ m <1. From the viewpoints of improving scratch resistance, affecting the solubility, etc., more preferably 0.2 ≦ m ≦ 0.9, and still more preferably 0.25 ≦ m ≦ 0.85.
[0067]
Specific examples of these Y, Y ′, Y ″ and X include those having the same meanings as those in the general formula (I). Specific examples of Z ′ include those from the monomer represented by the general formula (II). And those having the same structure unit.
[0068]
Furthermore, the long-chain alkyl group-containing polymer of the present invention is more preferably general formula (IV).
[0069]
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[0070]
In the above general formula (IV), there may or may not be a dotted methyl group. X and Z ′ are preferably the same as X and Z in the general formulas (I) and (II), and m is From the viewpoints of improving scratch resistance and affecting solubility, 0.2 ≦ m ≦ 0.9 is preferable, 0.25 ≦ m ≦ 0.85 is more preferable, and 0.30 ≦ m ≦ 0.60. Is most preferred. n is an integer of 6-40, preferably an integer of 10-30, more preferably an integer of 12-20.
[0071]
As the hydrophilic group Z ′ of (IV), a hydroxy group, a (poly) alkylene oxide group having 1 to 2000 carbon atoms, a (poly) arylene oxide group having 6 to 2000 carbon atoms, a phenol group, a sulfonamide group, an activity A skeleton having an imide group, a carboxylic acid group, and a sulfonic acid group is preferable from the viewpoint of sufficiently ensuring solubility in an alkaline developer, and has a phenol group, a sulfonamide group, an active imide group, a carboxylic acid group, and a sulfonic acid group. A skeleton is more preferable from the viewpoint of sensitivity, and a skeleton having a carboxylic acid is most preferable. As X in the above (IV), -C (= O)-is most preferable.
[0072]
In addition, as the copolymerization component of the polymer having the structural unit represented by the general formula (III), the compounds listed in the above (7) to (8) are used at a composition ratio of 50 mol% or less in the copolymer component. However, it is more preferably 30 mol% or less from the viewpoint of effects.
[0073]
When the image recording element of the present invention is applied to a lithographic printing plate precursor, the amount of residual monomer in the long-chain alkyl group-containing polymer is a protective paper (interleaf) when backing the lithographic printing plate precursor, Is preferably 10% or less, and more preferably 5% or less, due to problems such as transfer to a roller and transfer to a roller during lithographic printing plate precursor production.
[0074]
Specific examples of the long-chain alkyl group-containing polymer of the present invention are shown below, but are not limited thereto.
[0075]
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[0076]
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[0077]
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[0078]
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[0079]
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[0080]
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[0081]
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[0082]
Specific examples of the polymer represented by the general formula (III) include the following, but are not limited thereto.
[0083]
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[0084]
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[0085]
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[0086]
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[0087]
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[0088]
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[0089]
As the long-chain alkyl group-containing polymer used in the present invention, those having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 1,000 or more are preferably used. More preferably, the weight average molecular weight in terms of polystyrene is 5,000 to 5,000,000, particularly preferably 5,000 to 2,000,000, and still more preferably 10,000 to 1,000,000. One kind of such a polymer may be used, or two or more kinds may be used in combination.
[0090]
The amount of the long-chain alkyl group-containing polymer used is usually 0.1 to 30% by mass, preferably 0.5 to 20% by mass, more preferably 1 to 10% by mass, based on the mass of all components of the image recording element. In this range, good results can be obtained. When the amount used exceeds 30% by mass, the image formability and sensitivity as a positive image recording element tend to gradually deteriorate as the amount added increases. On the other hand, when the amount used is less than 0.1% by mass, the effect of improving scratch resistance, which is an effect of the present invention, may not be sufficiently obtained depending on conditions.
[0091]
(Infrared absorber)
The infrared absorber used in the present invention is not particularly limited as long as it is a substance that absorbs infrared rays and generates heat, but can be used without limitation in the absorption wavelength range. Therefore, an infrared absorbing dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 700 nm to 1200 nm is preferable.
[0092]
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as “Dye Handbook” (edited by the Society for Synthetic Organic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinoneimine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, (thio) pyrylium salts And dyes such as metal thiolate complexes, indoaniline metal complex dyes, oxonol dyes, diimonium dyes, aminium dyes, croconium dyes, and intermolecular CT dyes.
[0093]
Preferred dyes include, for example, cyanine dyes described in JP-A-58-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696, 58-181690, JP-A-58-194595, etc., methine dyes, JP-A-58-112793, JP-A-58-224793, JP-A-59-48187, JP-A-59- No. 73996, JP-A-60-52940, JP-A-60-63744 and the like, Naphthoquinone dyes described in JP-A-58-112792, etc., British Patent 434,875 And cyanine dyes.
[0094]
Also, a near infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is preferably used, and a substituted arylbenzo (thio) pyrylium salt described in US Pat. No. 3,881,924, Trimethine thiapyrylium salts described in JP-A-57-142645 (US Pat. No. 4,327,169), JP-A-58-181051, 58-220143, 59-41363, 59-84248 Nos. 59-84249, 59-146063, 59-146061, pyranlium compounds, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, US Pat. No. 4,283,475 The pentamethine thiopyrylium salts described above and the pyrylium compounds disclosed in Japanese Patent Publication Nos. 5-13514 and 5-19702 are also preferably used. .
[0095]
Another example of a preferable dye is a near-infrared absorbing dye described as formulas (I) and (II) in US Pat. No. 4,756,993.
[0096]
Particularly preferred among these dyes are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes.
[0097]
Furthermore, the dyes represented by the following general formulas (a) to (f-2) are preferable because they are excellent in photothermal conversion efficiency. Particularly, the cyanine dye represented by the following general formula (a) is used in the photosensitive composition of the present invention. In this case, it is most preferable because it gives a high interaction with the alkali-soluble resin and is excellent in stability and economy.
[0098]
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[0099]
In general formula (a), R¹And R²Each independently represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Examples of the substituent include an alkoxy group, an aryl group, an amide group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfo group, and a carboxyl group. Y¹And Y²Each independently represents oxygen, sulfur, selenium, a dialkylmethylene group or —CH═CH—. Ar¹And Ar²Each independently represents an aromatic hydrocarbon group, and may have a substituent selected from an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom, and an alkoxycarbonyl group;¹Or Y²The aromatic ring may be condensed with two consecutive carbon atoms adjacent to each other.
[0100]
X represents a counter ion necessary for charge neutralization, and is not always necessary when the dye cation moiety has an anionic substituent. Q represents a polymethine group selected from a trimethine group, a pentamethine group, a heptamethine group, a nonamethine group or an undecamethine group, and is preferably a pentamethine group, a heptamethine group or a nonamethine group from the viewpoint of wavelength suitability and stability for infrared rays used for exposure. From the viewpoint of stability, it preferably has a cyclohexene ring or a cyclopentene ring containing three consecutive methine chains on the carbon.
[0101]
Q is an alkoxy group, aryloxy group, alkylthio group, arylthio group, dialkylamino group, diarylamino group, halogen atom, alkyl group, aralkyl group, cycloalkyl group, aryl group, oxy group, iminium base, the following general formula ( It may be substituted with a group selected from the substituents represented by Q1), and preferred substituents include halogen atoms such as chlorine atoms, diarylamino groups such as diphenylamino groups, and arylthio groups such as phenylthio groups. It is done.
[0102]
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[0103]
Where R³And R⁴Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or an aryl group having 6 to 10 carbon atoms;³Represents an oxygen atom or a sulfur atom.
[0104]
Among the cyanine dyes represented by the general formula (a), heptamethine represented by the following general formulas (a-1) to (a-4) is particularly preferable when exposed to infrared rays having a wavelength of 800 to 840 nm. Mention may be made of cyanine dyes.
[0105]
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[0106]
In general formula (a-1), X¹Represents a hydrogen atom or a halogen atom. R¹And R²Each independently represents a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. From the storage stability of the recording layer coating solution, R¹And R²Is preferably a hydrocarbon group having 2 or more carbon atoms, and further R¹And R²Are particularly preferably bonded to each other to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.
[0107]
Ar¹And Ar²These may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Moreover, as a preferable substituent, a C12 or less hydrocarbon group, a halogen atom, and a C12 or less alkoxy group are mentioned. Y¹And Y²May be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R³And R⁴These may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R⁵, R⁶, R⁷And R⁸May be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. Za⁻Represents a counter anion necessary for charge neutralization and R¹~ R⁸When any of these is substituted with an anionic substituent,⁻Is not necessary. Preferred Za⁻Are halogen ions, perchlorate ions, tetrafluoroborate ions, hexafluorophosphate ions, and sulfonate ions, particularly preferably perchlorate ions, tetrafluoroborate ions, from the storage stability of the recording layer coating solution. , Hexafluorophosphate ions, and sulfonate ions. The heptamethine dye represented by the general formula (a-1) can be suitably used for a positive type image recording element, and in particular, a so-called interaction release type positive photosensitive material combined with an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group. Is preferably used.
[0108]
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[0109]
In general formula (a-2), R^lAnd R²Each independently represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms;^lAnd R²And may be bonded to each other to form a ring structure, and the formed ring is preferably a 5-membered ring or a 6-membered ring, and a 5-membered ring is particularly preferable. Ar^lAnd Ar²These may be the same or different and each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Preferred substituents on the aromatic hydrocarbon group include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, an alkoxycarbonyl group, an alkylsulfonyl group, a halogenated group. Examples thereof include an alkyl group, and an electron-withdrawing substituent is particularly preferable. Y^lAnd Y²May be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R³And R⁴These may be the same or different and each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Preferred substituents include alkoxy groups having 12 or less carbon atoms, carboxyl groups, and sulfo groups. R⁵, R⁶, R⁷And R⁸May be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, a hydrogen atom is preferred. R⁹And R¹⁰Each may be the same or different and may have a substituent, an aromatic hydrocarbon group having 6 to 10 carbon atoms, an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, a hydrogen atom or R⁹And R¹⁰And may be bonded to each other to form a ring having the following structure.
[0110]
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[0111]
R⁹And R¹⁰Of these, aromatic hydrocarbon groups such as phenyl groups are most preferred.
X⁻Represents a counter anion necessary for charge neutralization, and Za in the above general formula (a-1)⁻Is the same definition as The heptamethine dye represented by the general formula (a-2) can be suitably used for an image recording element in combination with an acid such as an onium salt and / or a radical generator, and particularly generates a radical such as a sulfonium salt or an iodonium salt. It is preferably used for a negative type photosensitive material used in combination with an agent.
[0112]
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[0113]
Where R^l~ R⁸, Ar^l, Ar², Y^l, Y²And X⁻Are as defined in the general formula (a-2). Ar³Represents an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group or a naphthyl group, or a monocyclic or polycyclic heterosphere group containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms, and is a thiazole, benzothiazole or naphthothiazole. Series, thianaphtheno-7 ', 6', 4,5-thiazole series, oxazole series, benzoxazole series, naphthoxazole series, selenazole series, benzoselenazole series, naphthselenazole series, thiazoline series, 2-quinoline series, 4 -Quinoline series, 1-isoquinoline series, 3-isoquinoline series, benzimidazole series, 3,3-dialkylbenzoindolenin series, 2-pyridine series, 4-pyridine series, 3,3-dialkylbenzo [e] indole series, Selected from the group consisting of tetrazole, triazole, pyrimidine, and thiadiazole Preferably a heterocyclic group, include the following structures Particularly preferred heterocyclic groups.
[0114]
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[0115]
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[0116]
Where R^l~ R⁸, Ar^l, Ar², Y^lAnd Y²Are as defined in the general formula (a-2). R¹¹And R¹²May be the same or different and each represents a hydrogen atom, an allyl group, a cyclohexyl group, or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Z represents an oxygen atom or a sulfur atom.
[0117]
Specific examples of the cyanine dye represented by formula (a) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below, and paragraph numbers [0017] to [0019] of JP-A-2001-133969. And paragraphs [0012] to [0038] of JP-A-2002-40638 and paragraphs [0012] to [0023] of JP-A-2002-23360.
[0118]
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[0119]
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[0120]
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[0121]
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[0122]
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[0123]
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[0124]
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[0125]
In the general formula (b), L represents a methine chain having 7 or more conjugated carbon atoms, the methine chain may have a substituent, and the substituents may be bonded to each other to form a ring structure. Good. Zb⁺Indicates a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Ni⁺, K⁺, Li⁺) And the like. R⁹~ R¹⁴And R¹⁵~ R²⁰Are each independently a substituent selected from a hydrogen atom or a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group, Or it represents the substituent which combined these 2 or 3 and may combine with each other and may form the ring structure. Here, in the general formula (b), L represents a methine chain having 7 conjugated carbon atoms, and R⁹~ R¹⁴And R¹⁵~ R²⁰In which all represent hydrogen atoms are preferred from the viewpoint of availability and effects.
[0126]
Specific examples of the dye represented by formula (b) that can be suitably used in the present invention include those exemplified below.
[0127]
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[0128]
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[0129]
In general formula (c), Y³And Y⁴Each represents an oxygen atom, a sulfur atom, a selenium atom, or a tellurium atom. M represents a methine chain having 5 or more conjugated carbon atoms. R²¹~ R²⁴And R²⁵~ R²⁸Each may be the same or different, and may be a hydrogen atom, halogen atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxy group, Or represents an amino group. In the formula, Za⁻Represents a counter anion, and Za in the general formula (a-1)⁻It is synonymous with.
[0130]
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) that can be suitably used include those exemplified below.
[0131]
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[0132]
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[0133]
In general formula (d), R²⁹~ R³²Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. R³³And R³⁴Each independently represents an alkyl group, a substituted oxy group, or a halogen atom. n and m each independently represents an integer of 0 to 4. R²⁹And R³⁰Or R³¹And R³²May be bonded to each other to form a ring, and R²⁹And / or R³⁰Is R³³And again R³¹And / or R³²Is R³⁴To form a ring, and further R³³Or R³⁴R is present when there are multiple³³Each other or R³⁴They may be bonded to each other to form a ring. X²And X³Each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Q is a trimethine group or a pentamethine group which may have a substituent, and may form a ring structure together with a divalent organic group. Zc⁻Represents a counter anion, and Za in the general formula (a-1)⁻It is synonymous with.
[0134]
In the present invention, specific examples of the dye represented by the general formula (d) that can be suitably used include those exemplified below.
[0135]
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[0136]
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[0137]
In general formula (e), R³⁵~ R⁵⁰Each independently may have a hydrogen atom or a substituent, halogen atom, cyano group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkynyl group, hydroxyl group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfinyl group, oxy Group, amino group, and onium salt structure. R³⁶And R³⁷, R⁴⁰And R⁴¹, R⁴⁴And R⁴⁵And R⁴⁸And R⁴⁹May be linked to form an aliphatic ring, an aromatic ring or a heterocyclic ring, and the ring may have a condensed ring. M represents two hydrogen atoms or metal atoms, a halometal group, and an oxymetal group, and the metal atoms contained therein include IA, IIA, IIIB, IVB group atoms of the periodic table, first, second, second Three-period transition metals and lanthanoid elements may be mentioned, among which copper, nickel, magnesium, iron, zinc, tin, cobalt, aluminum, titanium, and vanadium are preferable, and vanadium, nickel, zinc, and tin are particularly preferable. These metal atoms may be bonded to an oxygen atom, a halogen atom or the like in order to make the valence appropriate.
[0138]
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (e) that can be suitably used include those exemplified below.
[0139]
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[0140]
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[0141]
In general formulas (f-1) and (f-2), R⁵¹~ R⁵⁸Each independently represents a hydrogen atom or an optionally substituted alkyl group or aryl group. X⁻Is X in the general formula (a-2)⁻It is synonymous with.
[0142]
In the present invention, specific examples of the dyes represented by formulas (f-1) and (f-2) that can be suitably used include those exemplified below.
[0143]
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[0144]
Other infrared absorbers include dyes having a plurality of chromophores described in JP-A No. 2001-242613, and polymer compounds described in JP-A No. 2002-97384 and US Pat. No. 6,124,425. A dye having a chromophore linked to a covalent bond, an anionic dye described in US Pat. No. 6,248,893, a dye having a surface orientation group described in JP-A No. 2001-347765, and the like are preferably used. it can.
[0145]
Examples of pigments used as infrared absorbers in the present invention include commercially available pigments and Color Index (CI) manual, “Latest Pigment Handbook” (edited by the Japan Pigment Technology Association, published in 1977), “Latest Pigment Applied Technology”. (CMC Publishing, published in 1986) and “Printing Ink Technology”, published by CMC Publishing, published in 1984).
[0146]
Examples of the pigment include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments, blue pigments, green pigments, fluorescent pigments, metal powder pigments, and other polymer-bonded dyes. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments, perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments In addition, quinophthalone pigments, dyed lake pigments, azine pigments, nitroso pigments, nitro pigments, natural pigments, fluorescent pigments, inorganic pigments, carbon black, and the like can be used. Among these pigments, carbon black is preferable.
[0147]
These pigments may be used without surface treatment, or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface coating with a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of bonding a reactive substance (eg, silane coupling agent, epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above-mentioned surface treatment methods are described in “Characteristics and Applications of Metal Soap” (Shobobo), “Printing Ink Technology” (CMC Publishing, 1984) and “Latest Pigment Application Technology” (CMC Publishing, 1986). Yes.
[0148]
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably in the range of 0.1 μm to 1 μm. Within this range, good stability of the dispersion in the image recording layer coating solution and good uniformity of the image recording layer can be obtained.
[0149]
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production, or the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill, and a pressure kneader. Details are described in "Latest Pigment Applied Technology" (CMC Publishing, 1986).
[0150]
These pigments or dyes are 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, particularly preferably 0.5 to 10% by mass, in the case of dyes, based on the total solid content constituting the recording layer. In this case, it is particularly preferably added at a ratio of 0.1 to 10% by mass. Within this range, there is no possibility of undesirably affecting the uniformity of the recording layer and the durability of the recording layer, and good sensitivity can be obtained. In addition, the dye or pigment used may be a single compound or a mixture of two or more compounds, and dyes or pigments having different absorption wavelengths are used in combination in order to cope with an exposure machine having a plurality of wavelengths. It is also preferably done.
[0151]
[Lithographic printing plate precursor]
Examples of the lithographic printing plate precursor to which the image recording element of the present invention is applied include a positive lithographic printing plate precursor and a negative lithographic printing plate precursor capable of forming an image by infrared laser exposure.
[0152]
(Positive planographic printing plate precursor)
The positive lithographic printing plate precursor to which the image recording element of the present invention is applied includes (1) a water-insoluble and alkali-soluble resin (hereinafter referred to as an alkali-soluble resin as appropriate) and an alkali by interacting with the alkali-soluble resin. A positive lithographic printing plate precursor of the type that contains a substance that suppresses solubility (dissolution inhibitor) and that forms an image by utilizing the fact that the interaction is released by heating and the alkali solubility is increased, and (2) It contains a compound that is converted into a developer (for example, an alkaline aqueous solution) soluble by the action of an acid and an acid generator that generates an acid by heat, and utilizes the fact that the solubility of the developer is increased by the action of an acid generated by heating. Examples thereof include positive lithographic printing plate precursors that perform image formation.
[0153]
Examples of the positive type lithographic printing plate precursor using the alkali-soluble resin (1) and the dissolution inhibitor are US Pat. No. 3,628,953, US Pat. No. 4,708,925, and JP-A-7-285275. And positive lithographic printing plate precursors described in WO97 / 39,894, JP-A-11-44956, JP-A-11-268512, JP-A-2001-324808, and the like. However, any positive type lithographic printing plate precursor on which an image is formed according to the above principle may be used, but the invention is not limited to these.
[0154]
Specifically, the positive lithographic printing plate precursor (1) to which the image recording element of the present invention is applied, specifically, has a friction coefficient of 0 (a) an infrared absorber and (b) a base polymer on a support. A positive lithographic printing plate precursor having a recording layer containing a copolymer of a long-chain alkyl-containing monomer and a hydrophilic monomer that is reduced to a ratio of .5-0.97, and (c) an alkali-soluble resin. More preferably, a positive type lithographic printing plate precursor in which the recording layer further contains (d) a dissolution inhibitor and (e) other known additives added as necessary.
[0155]
The alkali-soluble resin is a water-insoluble and alkali-soluble resin, and includes homopolymers containing these acidic groups in the main chain and / or side chain in the polymer, copolymers thereof, or mixtures thereof. Among these, those having an acidic group listed in the following (1) to (6) in the main chain and / or side chain of the polymer are preferable from the viewpoint of solubility in an alkaline developer and expression of dissolution inhibiting ability.
[0156]
(1) Phenol group (-Ar-OH)
(2) Sulfonamide group (—SO₂(NH-R)
(3) Active imide group
[-SO₂NHCOR, -SO₂NHSO₂, R, -CONHSO₂[R]
(4) Carboxylic acid group (—CO₂(H)
(5) Sulfonic acid group (-SO₃H)
(6) Phosphate group (-OPO₃H₂)
[0157]
Among alkali-soluble resins having an acidic group selected from the above (1) to (6), (1) an alkali having a phenol group, (2) a sulfonamide group, (3) an active imide group, and (4) a carboxylic acid group. Soluble resins are preferred, and in particular, alkali-soluble resins having (1) phenol groups or (2) sulfonamide groups and (4) carboxylic acid groups ensure sufficient solubility in alkaline developers, development latitude, and film strength. This is the most preferable.
[0158]
Examples of the alkali-soluble resin having an acidic group selected from the above (1) to (6) include US Pat. No. 3,628,953, US Pat. No. 4,708,925, JP-A-7-285275, WO97 / 39,894, JP 11-44956, JP 11-268512, JP 2001-324808, JP 7-28244, JP 7-36184, JP 51-34711, JP 2-866, etc., such as phenol resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide copolymer, hydroquinone monomethacrylate copolymer, sulfonylimide polymer, carboxyl Group-containing polymer, acrylic resin containing phenolic hydroxyl group, sulfonamido Acrylic resin having a group, resins urethane systems.
[0159]
Examples of the dissolution inhibitor used in the recording layer of the positive type lithographic printing plate precursor as necessary include onium salts, o-quinonediazide compounds, aromatics described in JP-A-7-285275, JP-A-2002-55446, and the like. A compound that is thermally decomposable, such as a sulfone compound or an aromatic sulfonic acid ester compound, and that can prevent dissolution of the image portion in the developer is preferable in a state where it is not decomposed. Examples of onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts, and the like.
[0160]
Among the positive-type lithographic printing plate precursors, as the positive-type lithographic printing plate precursor containing the compound (2) that is converted into a developer-soluble solution by the action of an acid and an acid generator, JP-A-9-171254 and JP-A-10 -55067, JP-A-10-87733, JP-A-10-268507, and the like. However, any positive type lithographic printing plate precursor on which an image is formed according to the above principle may be used, but the invention is not limited to these.
[0161]
Specifically, the positive planographic printing plate precursor (2) to which the image recording element of the present invention is applied, specifically, has a friction coefficient of 0 (a) an infrared absorber and (b) a base polymer on a support. A copolymer of a long-chain alkyl-containing monomer and a hydrophilic monomer that is reduced to a ratio of 0.5 to 0.97, (c) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays (acid generator), and (d) an acid And a positive type lithographic printing plate precursor having a recording layer containing a compound (acid-decomposable compound) having at least one bond that can be decomposed in the above.
[0162]
Examples of the acid-decomposable compound include C-Cataline described in JP-A Nos. 48-89603, 51-120714, 53-133429, 55-12995, 55-126236, and 56-17345. Compounds having O—C bond, compounds having Si—O—C bond described in JP-A-60-37549, JP-A-60-121446, JP-A-60-3625, JP-A-60-10247 Other acid-decomposing compounds, compounds having an Si-N bond described in JP-A-62-222246, carbonates described in JP-A-62-1251743, Ortho-carbonates described in Japanese Utility Model Laid-Open No. 62-209451, ortho-titanate described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-280841, Japanese Patent Application Laid-Open No. 62-2 Orthosilicates described in No. 0842, JP-A-63-010153, JP-A-9-171254, JP-A-10-55067, JP-A-10-111564, JP-A-10-87733, JP-A-10-153835, 10-228102, 10-268507, 282648, 10-282670, acetals, ketals and orthocarboxylic acid esters described in EP-088547547Al, described in JP-A-62-244038 A compound having a C—S bond can be used.
[0163]
Of these, compounds having a C—O—C bond, compounds having a Si—O—C bond, orthocarbonates, acetals, ketals and silyl ethers are preferred. In addition, a high molecular compound that has an acetal or ketal portion repeatedly in the main chain and is increased by an acid whose solubility is generated in an alkaline developer is preferably used.
[0164]
Examples of the acid generator used together with the acid-decomposable compound include onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts, and diazonium salts. Specific examples include compounds described in US Pat. No. 4,708,925 and JP-A-7-20629. In particular, iodonium salts, sulfonium salts, and diazonium salts having a sulfonate ion as a counter ion are preferable. Examples of the diazonium salt include diazonium compounds described in U.S. Pat. No. 3,867,147, diazonium compounds described in U.S. Pat. No. 2,632,703, and JP-A-1-102456 and JP-A-1-102457. The diazo resin described in the publication is also preferable. Further, benzyl sulfonates described in US Pat. No. 5,135,838 and US Pat. No. 5,200,544 are also preferable. Furthermore, active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in JP-A-2-100054, JP-A-2-100055 and JP-A-9-197671 are also preferred. In addition, haloalkyl-substituted S-triazines described in JP-A-7-271029 are also preferable.
[0165]
(Negative lithographic printing plate precursor)
As a negative lithographic printing plate precursor to which the image recording element of the present invention is applied, a lithographic printing plate precursor utilizing the fact that a radical polymerization reaction is caused by heat and the product becomes insoluble in a developer, and a heat A lithographic printing plate precursor utilizing the fact that a crosslinking reaction (including cationic polymerization) is caused by the above and the product becomes insoluble in the developer.
[0166]
Examples of the lithographic printing plate precursor utilizing a polymerization reaction by heat include, for example, JP-A Nos. 2001-183825, 2001-337447, 2002-023360, 2002-040638, and 2002-62642. And negative lithographic printing plate precursors of the type polymerized by heat generated by infrared laser exposure described in JP-A Nos. 2002-62648 and 2002-69109. In these negative type lithographic printing plate precursors, it is used that a radical generator (polymerization initiator) generates radicals due to heat generated by exposure to polymerize a polymerizable compound, and the product becomes insoluble in a developer. . However, the negative lithographic printing plate precursor to which the image recording element of the present invention is applied may be any negative lithographic printing plate precursor that is image-formed according to the above principle, and is not limited thereto.
[0167]
As such a negative lithographic printing plate precursor to which the image recording element is applied, for example, (a) an infrared absorber and (b) a base polymer having a friction coefficient of 0.5 to 0.97 on a support. A copolymer of a long-chain alkyl-containing monomer and a hydrophilic monomer to be reduced to a ratio, (c) a radical generator, (d) a radical polymerizable compound, and (e) a binder polymer that is added as necessary or a known addition Examples thereof include negative lithographic printing plate precursors having a recording layer containing substances.
[0168]
The radical generator used in the present invention is a compound that generates radicals by light, heat, or both, and initiates and accelerates the polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. As the radical generator that can be used in the present invention, a known thermal polymerization initiator used in a polymer synthesis reaction by radical polymerization, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, and the like can be used. Examples of the compound that generates radicals preferably used in the present invention include compounds that generate radicals by thermal energy to initiate and accelerate polymerization of a compound having a polymerizable unsaturated group. Moreover, a radical generator can be used individually or in combination of 2 or more types.
[0169]
Examples of such radical generators include organic halogenated compounds, carbonyl compounds, and organic compounds described in JP-A-8-220758, JP-A-10-260536, JP-A-2001-337447, JP-A-2002-023360, and the like. Examples thereof include a peroxide compound, an azo polymerization initiator, an azide compound, a metallocene compound, a hexaarylbiimidazole compound, an organic boric acid compound, a disulfonic acid compound, and an onium salt compound. The same onium salt as that described in the positive type lithographic printing plate precursor is used, but in such a polymerization system, the onium salt functions not as an acid generator but as an initiator of ionic radical polymerization.
[0170]
The radical polymerizable compound used in the present invention has at least one, preferably two or more terminal ethylenically unsaturated groups (for example, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.) that undergo radical polymerization reaction. A compound is mentioned as a suitable thing. Such a compound group is widely known as a monomer or a crosslinking agent for a photopolymerizable or thermopolymerizable composition in the industrial field, and in the present invention, these can be used without any particular limitation. The chemical form is a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer, an oligomer, a polymer or a copolymer, or a mixture thereof.
[0171]
Specific examples of the radically polymerizable compound include the same polymerizable compounds as described in JP-A-8-220758, JP-A-2001-183825, JP-A-2002-62648, and the like.
[0172]
Examples of the lithographic printing plate precursor utilizing the crosslinking reaction by heat include, for example, US Pat. No. 5,340,699, JP-A-7-20629, JP-A-7-271029, JP-A-10-111564, and JP-A-11-11. 84649, JP-A-11-95419, JP-A-11-102071, JP-A-11-119428, JP-A-11-216965, JP-A-11-218903, JP-A-11-231509, JP-A-11-254850. No., negative type lithographic printing plate precursors described in WO98 / 51544 and WO98 / 31545. In these negative lithographic printing plate precursors, an acid-catalyzed cross-linking in which the acid generator generates an acid due to heat generated by exposure, and the acid acts as a catalyst to cause a cross-linking reaction of the cross-linking agent, so that the product becomes insoluble in the developer. The reaction is used. In order to initiate or accelerate the acid-catalyzed cross-linking reaction, it is also preferable to perform development after heating the original after exposure. However, the negative lithographic printing plate precursor to which the image recording element of the present invention is applied may be any negative lithographic printing plate precursor that is image-formed according to the above principle, and is not limited thereto.
[0173]
As such a negative lithographic printing plate precursor to which the image recording element is applied, for example, (a) an infrared absorber and (b) a base polymer having a friction coefficient of 0.5 to 0.97 on a support. A copolymer of a long-chain alkyl-containing monomer and a hydrophilic monomer to be reduced to a ratio, (c) a compound capable of generating an acid upon irradiation with actinic rays (acid generator), (d) a crosslinking agent that reacts with an acid catalyst, and (E) Other negative lithographic printing plate precursors having a recording layer containing a binder polymer and other known additives added as necessary.
[0174]
Specific examples of the crosslinking agent include (i) aromatics substituted with alkoxymethyl groups or hydroxymethyl groups described in JP-A-7-20629, JP-A-11-102071, JP-A-11-254850, and the like. Group compounds, (ii) compounds having an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group, and (iii) an epoxy compound.
[0175]
Preferred examples of the acid generator used together with the crosslinking agent include the same compounds as the acid generator used for the positive lithographic printing plate precursor.
[0176]
(Support for lithographic printing plate precursor)
The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material, and a known support can be suitably used as the support for the printing plate. Such supports include paper, paper laminated with plastics (eg, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.), eg, a metal plate such as aluminum (including aluminum alloys), zinc, iron, copper, etc., eg, diacetic acid Cellulose, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose butyrate acetate, cellulose nitrate, polyethylene terephthalate, polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, etc. Although vapor-deposited paper or plastic film is included, an aluminum plate is particularly preferable. Aluminum plates include pure aluminum plates and aluminum alloy plates. Various aluminum alloys can be used. For example, an alloy of aluminum such as silicon, copper, manganese, magnesium, chromium, zinc, lead, bismuth, nickel and the like is used. These compositions contain some iron and titanium as well as other negligible amounts of impurities.
[0177]
The support is surface-treated as necessary. The surface of the support of the photosensitive lithographic printing plate is preferably subjected to a hydrophilic treatment. In the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, surface treatment such as graining treatment, immersion treatment in an aqueous solution of sodium silicate, potassium fluoride zirconate, phosphate or the like, or anodization treatment may be performed. It is preferable that it is made. Anodizing treatment is, for example, an inorganic acid such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid or boric acid, or an organic acid such as oxalic acid or sulfamic acid, or an aqueous solution or non-aqueous solution of these salts, or a combination of two or more. This is carried out by passing a current in the electrolytic solution with the aluminum plate as the anode.
[0178]
Further, as described in US Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate that has been grained and then dipped in an aqueous sodium silicate solution is disclosed in US Pat. No. 3,181,461. As described above, an aluminum plate that has been anodized and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate is also preferably used. Silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. These hydrophilization treatments are performed to make the surface of the support hydrophilic, in order to prevent harmful reactions with the photosensitive composition provided thereon, and to improve adhesion to the photosensitive layer. It is given to improve.
[0179]
Prior to graining the aluminum plate, the surface may be pretreated if necessary to remove the rolling oil on the surface and expose a clean aluminum surface. For the former, a solvent such as trichlene, a surfactant or the like is used. For the latter, a method using an alkali / etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used.
[0180]
As the graining method, any of mechanical, chemical and electrochemical methods is effective. Examples of the mechanical method include a ball polishing method, a blast polishing method, a brush polishing method in which an aqueous dispersion slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush, and a chemical method is disclosed in JP-A No. 54-31187. A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in the publication is suitable, and as an electrochemical method, a method of alternating current electrolysis in an acidic electrolyte such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof Is preferred. Among such surface roughening methods, in particular, a surface roughening method combining mechanical surface roughening and electrochemical surface roughening as described in JP-A-55-137993, This is preferable because of its strong adhesion to the support. Graining by the method as described above is preferably performed in such a range that the center line surface roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm.
[0181]
The grained aluminum plate is washed with water and chemically etched as necessary. The etching treatment liquid is usually selected from an aqueous solution of a base or acid that dissolves aluminum. In this case, a film different from aluminum derived from the etching solution component should not be formed on the etched surface. Examples of preferable etching agents include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, dipotassium phosphate, etc. as basic substances; sulfuric acid, persulfuric acid as acidic substances Phosphoric acid, hydrochloric acid and salts thereof, and the like, but metals such as zinc, chromium, cobalt, nickel, and copper, which have a lower ionization tendency than aluminum, are not preferable because an unnecessary film is formed on the etched surface. These etching agents have a concentration rate of 0.3 g to 40 g / m / min.²Although it is most preferable to carry out so that it becomes, it may be above or below this. Etching is performed by immersing the aluminum plate in the above etching solution, or by applying an etching solution to the aluminum plate, and the etching amount is 0.5 to 10 g / m.²It is preferable to process so that it may become this range. As the etching agent, it is desirable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, since a smut is generated, a normal desmut process is performed. As the acid used for the desmut treatment, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borohydrofluoric acid and the like are used.
[0182]
The etched aluminum plate is washed with water and anodized as necessary. Anodization can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when direct current or alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or non-aqueous solution of sulfuric acid, phosphorus, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., or a combination of two or more thereof, aluminum support An anodized film can be formed on the body surface.
[0183]
The treatment conditions for anodization vary depending on the electrolyte used, and thus cannot generally be determined. Generally, however, the concentration of the electrolyte is 1 to 80% by mass, the solution temperature is 5 to 70 ° C., and the current density is 0.5. ~ 60A / dm²A voltage of 1 to 100 V and an electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes are suitable. Among these anodizing treatments, the method of anodizing at a high current density in sulfuric acid described in British Patent 1,412,768 and US Pat. No. 3,511,661 in particular. The method of anodizing phosphoric acid described in the above as an electrolytic bath is preferable.
[0184]
The roughened and further anodized aluminum plate as described above may be subjected to a hydrophilic treatment as required. Preferred examples thereof include US Pat. Nos. 2,714,066 and 3,181. 461, for example, an aqueous solution of sodium silicate or potassium fluoride zirconate disclosed in Japanese Patent Publication No. 36-22063 and U.S. Pat. No. 4,153,461. There are methods of treatment with polyvinylphosphonic acid as disclosed.
[0185]
The support may be provided with an organic undercoat layer before coating the recording layer for the purpose of reducing the development residual film of the recording layer. Examples of the organic compound used in the organic undercoat layer include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethylcellulose, dextrin, gum arabic, and 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid optionally having a substituent, and naphthyl. Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, organic such as phenylphosphoric acid, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphonic acid which may have a substituent Phosphoric acid, optionally substituted phenylphosphinic acid, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and organic phosphinic acids such as glycerophosphinic acid, amino acids such as glycine and β-alanine, and triethanolamine hydrochloride The hydroxyl group of To -alanine etc. amine hydrochloride, it may be used as a mixture of two or more thereof.
[0186]
It is also preferred that the organic undercoat layer contains a compound having an onium group. Compounds having an onium group are described in detail in JP-A Nos. 2000-10292 and 2000-108538.
[0187]
In addition, at least one compound selected from the group of polymer compounds having a structural unit represented by poly (p-vinylbenzoic acid) in the molecule can be used. More specifically, a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltriethylammonium salt, a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltrimethylammonium chloride, and the like can be given.
[0188]
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, a method in which water or an organic solvent such as methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, or a mixed solvent thereof is applied on an aluminum plate and dried to provide a solution, and water, methanol, ethanol, methyl ethyl ketone, etc. An aluminum plate is immersed in a solution obtained by dissolving the above organic compound in an organic solvent or a mixed solvent thereof to adsorb the organic compound, and then washed with water or the like and dried to provide an organic undercoat layer. Is the method. In the former method, the organic compound having a concentration of 0.005 to 10% by mass can be applied by various methods. For example, any method such as bar coater coating, spin coating, spray coating, or curtain coating may be used. In the latter method, the concentration of the solution is 0.01 to 20% by mass, preferably 0.05 to 5% by mass, the immersion temperature is 20 to 90 ° C., preferably 25 to 50 ° C., and the immersion time. Is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1 minute.
[0189]
The solution used for this can be used in a pH range of 1 to 12 by adjusting the pH with a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.
[0190]
Furthermore, the compound shown by the following general formula (V) can also be added to this solution.
General formula (V) (HO)_x-R₅-(COOH)_y
However, R₅Represents an arylene group having 14 or less carbon atoms which may have a substituent, and x and y independently represent an integer of 1 to 3.
[0191]
Specific examples of the compound represented by the general formula (V) include 3-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, salicylic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid, 2-hydroxy-1-naphthoic acid, 2 -Hydroxy-3-naphthoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid, 10-hydroxy-9-anthracenecarboxylic acid and the like.
[0192]
The coating amount after drying of the organic undercoat layer is 1 to 100 mg / m.²Is suitable, preferably 2 to 70 mg / m²It is. The above coating amount is 2 mg / m²If it is less, sufficient printing durability cannot be obtained. 100 mg / m²It is the same even if it is larger.
[0193]
A back coat is provided on the back surface of the support as necessary. As such a back coat, a coating layer comprising a metal oxide obtained by hydrolysis and polycondensation of an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174. Is preferably used. Of these coating layers, Si (OCH₃)₄, Si (OC₂H₅)₄, Si (OC₃H₇)₄, Si (OC₄H₉)₄A silicon alkoxy compound such as the above is inexpensive and readily available, and a metal oxide coating layer obtained therefrom is particularly preferable because of its excellent developer resistance.
[0194]
[Plate making and printing]
The planographic printing plate precursor of the present invention is image-formed by heat. Specifically, direct image-like recording using a thermal recording head, scanning exposure using an infrared laser, high-illuminance flash exposure such as a xenon discharge lamp, infrared lamp exposure, and the like are used, but a semiconductor that emits infrared light having a wavelength of 700 to 1200 nm. Exposure by a solid high-power infrared laser such as a laser or a YAG laser is suitable.
[0195]
The exposed lithographic printing plate precursor of the present invention is subjected to development processing and post-processing with a finisher, protective gum, or the like to form a printing plate. As in the case of a negative lithographic printing plate precursor utilizing the acid-catalyzed crosslinking reaction, the plate can be heated before development as necessary.
[0196]
The processing agent used in the development processing and post-processing of the lithographic printing plate precursor according to the invention can be appropriately selected from known processing agents. A suitable developer is a developer having a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably in the range of 12.0 to 13.5. A conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer. Among the above alkaline aqueous solutions, as a particularly suitable developer, a so-called “well-known”, which contains an alkali silicate as a base, or contains an alkali silicate by mixing a silicon compound with a base. A so-called “silicate developer” and an aqueous solution having a pH of 12 or higher and a non-reducing sugar (an organic compound having a buffering action) and a base, which do not contain an alkali silicate and are described in JP-A-8-305039. Non-silicate developer ”.
[0197]
When the lithographic printing plate of the present invention is burned, it is preferably carried out by a conventionally known method using a burning surface-conditioning liquid and using a burning processor or the like.
[0198]
The lithographic printing plate obtained by such processing is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.
[0199]
【Example】
EXAMPLES Hereinafter, the present invention will be described more specifically with reference to examples. However, the scope of the present invention is not limited to these examples.
[0200]
(Synthesis Example 1: Synthesis of long-chain alkyl group-containing polymer A)
In a 1000 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 54 g of 1-methoxy-2-propanol was placed and heated to 80 ° C. Under a nitrogen stream, a solution consisting of 42.3 g of n-stearyl methacrylate, 10.8 g of methacrylic acid, 0.576 g of a polymerization initiator V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) and 54 g of 1-methoxy-2-propanol was used for 2.5 hours. It was dripped over. Furthermore, it was made to react at 80 degreeC for 2 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into 1000 ml of water. After decantation, it was washed with methanol, and the obtained liquid product was dried under reduced pressure to obtain 50.5 g of a long chain alkyl group-containing polymer A. The weight average molecular weight measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance was 40,000.
[0201]
(Synthesis Example 2: Synthesis of long-chain alkyl group-containing polymer B)
In a 1000 ml three-necked flask equipped with a condenser and a stirrer, 29.0 g of 1-methoxy-2-propanol was placed and heated to 70 ° C. In a nitrogen stream, 25.4 g of n-dodecyl methacrylate 25.4 g, methacrylic acid 11.48 g, polymerization initiator V-601 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries) 0.461 g and 1-methoxy-2-propanol 29.0 g It was dripped over half an hour. Furthermore, it was made to react at 80 degreeC for 2 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into 1000 ml of water. After decantation, it was washed with methanol, and the obtained liquid product was dried under reduced pressure to obtain 34.2 g of a long chain alkyl group-containing polymer B. It was 80,000 as a result of measuring a weight average molecular weight by the gel permeation chromatography method (GPC) which used polystyrene as the standard substance.
[0202]
(Synthesis Examples 3 to 9: Synthesis of Long Chain Alkyl Group-Containing Polymers C to I)
In the same manner as in Synthesis Example 1 or Synthesis Example 2, the long-chain alkyl group-containing polymers C to I of the present invention were synthesized using the long-chain alkyl group-containing monomer and the hydrophilic monomer shown in Table 1 below. Further, the molecular weight was measured by GPC. The measured results are shown in Table 1.
[0203]
[Table 1]

[0204]
(Example of production of support (1))
An aluminum plate (material JISA1050) having a thickness of 0.3 mm was washed with trichlorethylene and degreased, and then the surface was grained using a nylon brush and 400 mesh pumice-water suspension, and washed thoroughly with water. This plate was etched by being immersed in a 25% aqueous sodium hydroxide solution at 45 ° C. for 9 seconds, washed with water, further immersed in 20% nitric acid for 20 seconds, and washed with water. The etching amount of the grained surface at this time is about 3 g / m.²Met. Next, this plate was treated with 7% sulfuric acid as an electrolyte, and a current density of 15 A / dm.²DC anodized at 3 g / m²After providing the anodic oxide film, it was washed with water and dried. Subsequently, it was treated with a 2.5% by weight aqueous solution of sodium silicate at 30 ° C. for 10 seconds, further coated with the following undercoat solution, dried at 80 ° C. for 15 seconds, and the coating amount after drying was 15 mg / m.²A support (1) having an undercoat layer was obtained.
[0205]
(Undercoat liquid)
・ The following compound: 0.3 g
・ Methanol 100g
・ Water water 1g
[0206]
Embedded image

[0207]
(Example of production of support (2))
The molten metal of JIS A 1050 alloy containing 99.5% or more of aluminum and Fe 0.30%, Si 0.10%, Ti 0.02%, Cu 0.013% was subjected to a cleaning treatment and cast. In the cleaning process, a degassing process was performed to remove unnecessary gases such as hydrogen in the molten metal, and a ceramic tube filter process was performed. The casting method was a DC casting method. The solidified 500 mm thick ingot was chamfered 10 mm from the surface and homogenized at 550 ° C. for 10 hours so that the intermetallic compound would not become coarse. Next, after hot rolling at 400 ° C. and intermediate annealing in a continuous annealing furnace at 500 ° C. for 60 seconds, cold rolling was performed to obtain an aluminum rolled plate having a plate pressure of 0.30 mm. By controlling the roughness of the rolling roll, the centerline average surface roughness Ra after cold rolling was controlled to 0.2 μm. Then, it applied to the tension leveler in order to improve planarity. Next, this plate was surface-treated as described below to prepare a lithographic printing plate support.
[0208]
Next, the support obtained above is first degreased with a 10% sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds to remove rolling oil on the surface of the aluminum plate, and neutralized with a 30% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds. A smut removal treatment was performed. Next, in order to improve the adhesion between the support and the recording layer and to provide water retention to the non-image rear portion, a so-called graining treatment was performed to roughen the surface of the support. An aqueous solution containing 1% nitric acid and 0.5% aluminum nitrate is kept at 45 ° C., and the current density is 20 A / dm by an indirect power feeding cell while carrying the aluminum web into the aqueous solution.², Anode side electricity quantity 240C / dm with alternating waveform with duty ratio 1: 1²Electrolytic graining was performed by giving Thereafter, etching treatment was performed with a 10% sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and neutralization and smut removal treatment were performed with a 30% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds.
[0209]
Furthermore, in order to improve wear resistance, chemical resistance and water retention, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. A 20% sulfuric acid aqueous solution was used as the electrolyte at 35 ° C., and the aluminum web was carried into the electrolyte while the indirect power feeding cell was used to provide 14 A / dm.²2.5 g / m by electrolytic treatment with direct current²An anodized film was prepared. Thereafter, a silicate treatment was performed to ensure hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate. In the treatment, a 1.5% aqueous solution of sodium silicate 3 was kept at 70 ° C. so that the contact time of the aluminum web was 15 seconds, and further washed with water. The amount of Si deposited is 10 mg / m²Met. Ra (center line surface roughness) of the support (2) completed as described above was 0.25 μm.
[0210]
Example 1
The resulting support (1) was coated with the following recording layer coating solution 1 at a dry coating amount of 1.0 g / m.²After coating, a recording layer was formed by drying Wind at 140 ° C. for 50 seconds using a TARFAI, PERFECT OVEN PH200, setting Wind Control to 7, and obtaining a lithographic printing plate precursor 1.
[0211]
(Recording layer coating solution 1)
-Long chain alkyl group-containing polymer A 0.02 g
M, p-cresol novolak (m / p molar ratio = 6/4, weight average molecular weight 3500, containing 0.5% by mass of unreacted cresol) 0.474 g
-Specific copolymer 1 (below) 2.37g
Infrared absorber (IR-1 described in this specification) 0.155 g
2-methoxy-4- (N-phenylamino) benzene
Diazonium hexafluorophosphate 0.03g
Tetrahydrophthalic anhydride 0.19 g
-Ethyl violet counter ion as 6-hydroxy
-Β-Naphthalenesulfonic acid ion replaced with 0.05 g
-Fluorosurfactant (Dainippon Ink & Chemicals, Inc. MegaFuck F176PF) 0.035g
• p-Toluenesulfonic acid, 0.008 g, p.
・ Bis-p-hydroxyphenylsulfone 0.063g
• γ-butyrolactone 13g 13g
・ Methyl ethyl ketone 24g 24g
1-methoxy-2-propanol 11 g 11g
[0212]
Specific copolymer 1: N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / ethyl methacrylate / acrylonitrile (mol% 32/43/25), weight average molecular weight 53,000. Synthesis method: described in JP-A-11-288093.
[0213]
Example 2
On the support (1), the following recording layer coating solution 2 was applied in a dry coating amount of 1.6 g / m.²And then dried under the same conditions as in Example 1 to form a recording layer, whereby a lithographic printing plate precursor 2 was obtained.
[0214]
(Recording layer coating solution 2)
・ Long chain alkyl group-containing polymer A 0.09 g
・ Novolac resin ((B) resin) 0.90 g
(M / p-cresol (6/4), weight average molecular weight 7000, unreacted cresol 0.5% by mass)
・ Ethyl methacrylate / isobutyl methacrylate / methacrylic acid (35/35/30 mol%) copolymer 0.10 g
・ Infrared absorber (IR-1 described in this specification) 0.1 g
-Phthalic anhydride 0.05 g 0.05 g
・ P-Toluenesulfonic acid 0.002g
-Ethyl violet counter ion as 6-hydroxy
-Β-Naphthalenesulfonic acid ion replaced by 0.02 g
・ Fluoropolymer (Defenser F-176 (20% solid content)
(Manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.015g
・ Fluoropolymer (Defenser MCF-312 (solid content 30%)
(Manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.) 0.035g
・ Methyl ethyl ketone 12g
[0215]
Examples 3-9
In the recording layer coating solution 1 of Example 1, a lithographic plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that instead of the long chain alkyl group-containing polymer A, a combination of long chain alkyl group-containing polymers described in Table 1 below was used. Printing plate precursors 3 to 9 were obtained.
[0216]
[Table 2]

[0217]
Comparative Example 1
A lithographic printing plate precursor 10 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the long-chain alkyl group-containing polymer A was not added to the recording layer coating liquid 1 of Example 1.
[0218]
Comparative Example 2
A lithographic printing plate precursor 11 was obtained in the same manner as in Example 1 except that 0.02 g of n-dodecyl stearate was used instead of the long chain alkyl group-containing polymer in the recording layer coating solution 1 of Example 1.
[0219]
Comparative Example 3
In the recording layer coating liquid 2 of Example 2, a lithographic printing plate precursor 12 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the long chain alkyl group-containing polymer was not added.
[0220]
Example 10
The following recording layer coating solution 3 was applied to the same support as in Example 1 at a coating amount of 2.0 g / m.²After coating, the Wind Control is set to 7 on a TARFAI-made PERFECT OVEN PH200 and dried at 130 ° C. for 50 seconds. Thereafter, the recording layer coating solution 4 is applied at a coating amount of 0.40 g / m.²And then dried at 140 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor 13.
[0221]
(Recording layer coating solution 3)

[0222]
(Recording layer coating solution 4)

[0223]
Example 11
The recording layer coating solution 5 is applied to the same support as that used in Example 10 under the same conditions as the recording layer coating solution 3 of Example 10, dried, and then the recording layer coating solution of Example 10 is further formed thereon. The recording layer coating solution 6 was applied and dried under the same conditions as in No. 4 to obtain a lithographic printing plate precursor 14 having a two-layer recording layer.
[0224]
(Recording layer coating solution 5)

[0225]
(Recording layer coating solution 6)

[0226]
Examples 12-19
In the recording layer coating solution 4 of Example 10, the planographic printing plate precursor 15 was prepared in the same manner as in Example 10 except that the long chain alkyl group-containing polymer shown in Table 3 below was used instead of the long chain alkyl group-containing polymer A. ~ 22 were obtained.
[0227]
[Table 3]

[0228]
Examples 20-27
In the recording layer coating solution 6 of Example 11, the planographic printing plate precursor 23 was used in the same manner as in Example 12 except that the long chain alkyl group-containing polymer shown in Table 4 below was used instead of the long chain alkyl group-containing polymer A. ~ 30 was obtained.
[0229]
[Table 4]

[0230]
Comparative Example 4
A lithographic printing plate precursor 31 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the long-chain alkyl group-containing polymer A was not added to the recording layer coating liquid 4 of Example 10.
[0231]
[Evaluation of planographic printing plate precursors produced in Examples 1-27 and Comparative Examples 1-4]
Regarding the long-chain alkyl group-containing polymers A to I synthesized as described above and the lithographic printing plate precursor produced using the polymers, the friction coefficient reduction rate, scratch resistance, development latitude and transferability were evaluated by the following methods. .
[0232]
<Evaluation of friction coefficient reduction rate>
As the base polymer, m, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight 4500) was used, and the following coating solution was applied to the same support as used in Example 1 by dry coating amount. 1.6g / m²After coating, a TABIAI-made PERFECT OVEN PH200 has a Wind Control set to 7 and dried at 120 ° C. for 60 seconds to prepare a sample for friction coefficient measurement of a long chain alkyl group-containing polymer A to I added system. Produced. A sample for measuring the coefficient of friction of the base polymer was prepared in the same manner with a formulation in which the amount of m, p-cresol novolak in the coating solution described below was 1.200 g, and no long-chain alkyl group-containing polymer was added.
[0233]
(Coating liquid for friction coefficient measurement sample)
M, p-cresol novolak (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight
4500, containing 0.8% by mass of unreacted cresol) 1.080 g
-Long chain alkyl group-containing polymer 0.120 g
-Methyl ethyl ketone 5.5.94g
1-methoxy-2-propanol 3.033 g
[0234]
Place the obtained sample so that the polymer coating surface is in contact with stainless steel, measure the dynamic coefficient of friction against stainless steel according to ASTM D1894, and calculate the coefficient of friction of the sample containing the long-chain alkyl group-containing polymer as the friction of the sample containing only the base polymer. The value divided by the coefficient was determined as the friction coefficient reduction rate. The evaluation results are shown in Table 6.
[0235]
<Scratch resistance evaluation>
The obtained lithographic printing plate precursors 1 to 31 of Examples and Comparative Examples were rubbed 15 times with Abrazer felt CS5 under a load of 250 g using a rotary ablation tester (manufactured by TOYOSEIKI). Thereafter, Fuji Photo Film Co., Ltd. was loaded with Developer DT-1 (diluted 1: 8) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. and Finisher FP2W (diluted 1: 1) manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. ) Development was performed using a PS processor 900H manufactured at a liquid temperature of 30 ° C. and a development time of 12 seconds. The electric conductivity of the developer at this time was 45 mS / cm. Evaluation of scratch resistance was carried out according to the following criteria by visual observation of the optical density of the part rubbed with the Abrazer felt and the part not rubbed after development and measurement with a GRETAG reflection densitometer D196 (manufactured by GretagMacbeth). The evaluation results are shown in Table 6.
[0236]
(Evaluation criteria for scratch resistance)
A: The optical density of the photosensitive film in the rubbed part was not changed at all.
B: The optical density of the photosensitive film in the rubbed part was slightly observed visually.
C: The optical density of the photosensitive film at the rubbed portion is 2/3 or less of the non-frictional portion.
[0237]
<Evaluation of development latitude>
A test pattern was drawn on the lithographic printing plate precursors 1 to 31 of Examples and Comparative Examples produced in the form of an image using a Trendsetter 3244VFS manufactured by Creo under the conditions of an infrared laser beam intensity of 9 W and a drum rotation speed of 150 rpm. Thereafter, non-silicate developer DT-1 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was diluted with tap water to prepare developers having various electrical conductivities. Using this solution, it was charged into a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film, and developed at a solution temperature of 30 ° C. and a development time of 12 seconds. Note that FP-2W (diluted with tap water at 1: 1) was used as the finisher liquid.
[0238]
Under the above development conditions, the optical density decrease in the non-exposed area (image area) of the recording layer of the lithographic printing plate precursor is visually evaluated, and the developer conductivity used when the density decrease is observed is (X) mS / cm. Further, under the same development conditions, the optical density reduction of the exposed portion (non-image portion) of the recording layer of the lithographic printing plate precursor is visually evaluated, and the developer conductivity used when the density reduction is observed is (Y) mS. / Cm. In this embodiment, the development latitude is defined as (X)-(Y). The larger the development latitude value, the less the residual film is formed in the exposed area (non-image area) and the lower the density of the unexposed area (image area). It can be said. The evaluation results are shown in Table 6.
[0239]
<Evaluation of transferability>
The transferability was evaluated by placing chloroprene rubber (90 mm × 90 mm) on the planographic printing plate precursors 1 to 31 of Examples and Comparative Examples, applying a weight of 6 kg, heating at 100 ° C. for 10 minutes, and then peeling off the chloroprene rubber. The surface was evaluated by a method of visual evaluation. The following criteria were used as the evaluation scale. The evaluation results are shown in Table 6.
○: No color change
×: Change in color
[0240]
[Table 5]

[0241]
[Table 6]

[0242]
From Tables 5 and 6, the lithographic printing plate precursors of Examples 1 to 27 using the image recording element of the present invention in the recording layer are the lithographic printing plates of Comparative Examples 1, 3 and 4 that do not contain a long-chain alkyl group-containing polymer. Compared to the original plate, scratch resistance is excellent, and it can be seen that the development latitude is generally good. Further, the lithographic printing plate precursor 31 (Comparative Example 4) containing n-dodecyl stearate having a good coefficient of friction reduction and good scratch resistance is problematic in terms of transferability, whereas the lithographic printing of the present invention. It can be seen that the original plate is excellent in terms of transferability. Therefore, it can be seen that the lithographic printing plate precursor according to the present invention is a lithographic printing plate precursor having good scratch resistance, development latitude and transferability.
[0243]
Examples 28-30, Comparative Examples 5-7
The following recording layer coating solution 7 is prepared on the support (2) obtained in the production example, applied using a wire bar, and dried at 115 ° C. for 45 seconds with a hot air dryer to form a recording layer. A lithographic printing plate precursor was obtained. The coating amount after drying is 1.2 to 1.3 g / m²It was in the range.
[0244]
(Recording layer coating solution 7)
・ Alkali-soluble polymer (compound described in Table 7, amount described in Table 7)
・ Infrared absorber (IR-5 described in this specification) 0.10 g
-Radical generator (S-1 below) 0.45 g
-Radical polymerizable compound (compound described in Table 7, amount described in Table 7)
-Long chain alkyl group-containing polymer (described in Table 7) 0.023g
・ Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonate 0.04g
・ Fluorosurfactant 0.0lg
(Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
-P-methoxyphenol 0.001g
・ Methyl ethyl ketone 9.0g
・ Methanol: 10.0 g
1-methoxy-2-propanol 8.0 g
[0245]
[Table 7]

[0246]
The structures of the alkali-soluble polymers used in the above examples and comparative examples are shown below.
[0247]
Embedded image

[0248]
Similarly, the structures of radical generators used in Examples and Comparative Examples are shown below.
[0249]
Embedded image

[0250]
Similarly, the structures of the radical polymerizable compounds used in Examples and Comparative Examples in the present invention are shown below.
[0251]
Embedded image

[0252]
Each of the obtained lithographic printing plate precursors in the previous period was output to 6.5 W, outer drum rotational speed 81 rpm, plate surface energy 188 mJ / cm with a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser.²The exposure was performed under the condition of a resolution of 2400 dpi.
[0253]
After the exposure, the film was developed using an automatic processor Stablon 900NP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the developer, the following (D-1) was used as a charged solution, and the following (D-2) was used as a replenisher. The development bath temperature was 30 ° C., and the development time was 12 seconds. At this time, the replenisher was automatically added while adjusting the electric conductivity of the developer in the developing bath of the automatic developing machine to be constant. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.
[0254]
(Developer (D-1))
-Potassium hydroxide 3g 3g
・ Potassium hydrogen carbonate 1g
・ Potassium carbonate 2g
-Sodium sulfite 1g
・ Polyethylene glycol mononaphthyl ether 150 g
・ Dibutyl naphthalenesulfonic acid sodium salt 50 g
・ Ethylenediaminetetraacetic acid tetrasodium salt 8g
・ Water water 785g
[0255]
(Developer (D-2))
Potassium hydroxide 6g 6g
・ Potassium carbonate 2g
-Sodium sulfite 1g
・ Polyethylene glycol mononaphthel ether 150g
・ Dibutyl naphthalenesulfonic acid sodium salt 50 g
・ Hydroxyethanediphosphonic acid potassium salt 4g
・ Silicon TSA-731 0.1 g 0.1g
(Toshiba Silicone Co., Ltd.)
-Water water 786.9g
[0256]
<Evaluation of printing durability>
Next, printing was performed using a printing press Lislon manufactured by Komori Corporation. At this time, the number of sheets that can be printed while maintaining a sufficient ink density was measured visually to evaluate the printing durability. The results are also shown in Table 7.
[0257]
<Evaluation of scratch resistance>
The scratch resistance of the planographic printing plate precursor coated with the recording layer was evaluated. As a device, a scratching tester HEIDON-14 manufactured by HEIDON was used, and a 0.4 mmR diamond needle was used as a scratching needle. The surface of the recording layer was scratched at a speed of 400 mm / min while changing the load on the needle. The original plate after scratching was subjected to the development process described above, and the magnitude of the load in which the remaining film was visually observed was evaluated. As the load is larger, a scratched film is less likely to occur and the scratch resistance is better. The results are also shown in Table 7.
[0258]
As is apparent from Table 7, the lithographic printing plate precursors of Examples 28 to 30 using the image recording element of the present invention as the recording layer were compared with Comparative Examples 5 to 7 not containing a long-chain alkyl group-containing polymer. It can be seen that excellent scratch resistance is achieved. Also, no ablation at the time of exposure was observed in any of the samples.
[0259]
Examples 31-32, Comparative Examples 8-9
On the same aluminum support (2) as used in Examples 28 to 30 and Comparative Examples 5 to 7, the following undercoat layer coating solution was applied and dried in an 80 ° C. atmosphere for 30 seconds. The dry coating amount is 10 mg / m²Met.
[0260]
(Coating solution for undercoat layer)
・ 2-Aminoethylphosphonic acid 0.5 g
・ Methanol 40g
・ Pure water 60g 60g
[0261]
Thereafter, the recording layer coating solution 8 shown below is applied onto the support on which the undercoat layer has been formed with a wire bar, and dried at 115 ° C. for 45 seconds in a hot air drying apparatus to obtain a lithographic printing plate precursor. It was. The coating amount after drying is 1.2 to 1.3 g / m²It was in the range.
[0262]
(Recording layer coating solution 8)
Alkali-soluble polymer (compounds listed in Table 8, amounts listed in Table 8)
Infrared absorber (IR-8 described in this specification) 0.08g
・ Radical generator (S-2) 0.30 g
-Radical polymerizable compound (compound described in Table 8, amount described in Table 8)
-Long chain alkyl group-containing polymer (described in Table 8) 0.023g
・ Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonic Acid 0.04g
・ Fluorosurfactant 0.01 g
(Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum 0.001g
・ Methyl ethyl ketone 9.0g
・ Methanol: 10.0 g
1-methoxy-2-propanol 8.0 g
[0263]
[Table 8]

[0264]
The obtained lithographic printing plate precursors were each stored at 60 ° C. for 3 days, and stored at 45 ° C. and humidity 75% RH for 3 days to force aging. Thereafter, those subjected to forced aging and those not subjected to forced aging were exposed under the same conditions as in Examples 28 to 30 and Comparative Examples 5 to 7, and developed using an automatic processor Stablon 900NP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the developer, a 1: 8 water dilution of DP-4 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used for both the feed solution and the replenisher. The temperature of the developing bath was 30 ° C., and the developing time was 12 seconds. At this time, the replenisher was automatically added while adjusting the electric conductivity of the developer in the developing bath of the automatic developing machine to be constant. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.
[0265]
The obtained lithographic printing plate was printed in the same manner as in Examples 28 to 30 and Comparative Examples 5 to 7, and printing durability and stain resistance were evaluated. The results are shown in Table 8 above.
[0266]
From Table 8, the lithographic printing plate precursors of Examples 31 to 32 using the image recording element of the present invention as the recording layer were compared with Comparative Examples 8 to 9 containing no long-chain alkyl group-containing polymer at a high temperature and high humidity environment. It can be seen that even after storage underneath, the printing durability and the smudge of the non-image area are not lowered, and the stability over time is excellent.
[0267]
Examples 33 to 34, Comparative Examples 10 to 11
On the same aluminum support (2) as used in Examples 28-30 and Comparative Examples 5-7, the following recording layer coating solution 9 was prepared and applied to the aluminum support using a wire bar, A lithographic printing plate precursor was obtained by drying at 115 ° C. for 45 seconds in a warm air dryer. The coating amount after drying is 1.2 to 1.3 g / m²It was in the range.
[0268]
(Recording layer coating solution 9)
Alkali-soluble polymer (compound described in Table 9, amount described in Table 9)
・ Infrared absorber (IR-9 described in this specification) 0.10 g
-Radical generator (S-1 above) 0.50 g
・ Long chain alkyl group-containing polymer (described in Table 9) 0.023 g
・ Victoria Pure Blue Naphthalenesulfonate 0.04g
-Fluorosurfactant 0.01 g
(Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink & Chemicals, Inc.)
・ Methyl ethyl ketone 9.0g
・ Methanol: 10.0 g
1-methoxy-2-propanol 8.0 g
[0269]
[Table 9]

[0270]
The obtained lithographic printing plate precursor was output by a Creo Trendsetter 3244VFS equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser, output 9 W, outer drum rotation speed 210 rpm, plate surface energy 100 mJ / cm.²The exposure was performed under the condition of a resolution of 2400 dpi.
[0271]
After the exposure, the film was developed using an automatic processor Stablon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the developer, a 1: 1 water dilution of DN-3C manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used for both the charging solution and the replenisher. The developing bath temperature was 30 ° C. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.
[0272]
[Evaluation of printing durability and scratch resistance]
Next, it printed using Heidelberg SOR-KZ printing machine. At this time, the number of sheets that can be printed while maintaining a sufficient ink density was measured, and printing durability was evaluated. Further, scratch resistance was evaluated in the same manner as in Examples 28 to 30 and Comparative Examples 5 to 7.
[0273]
From Table 9, the lithographic printing plate precursors of Examples 33 to 34 using the image recording element of the present invention as the recording layer have excellent scratch resistance compared to Comparative Examples 10 to 11 that do not contain a long-chain alkyl group-containing polymer. It can be seen that the film has achieved the excellent printing durability.
[0274]
Further, 30 lithographic printing plate precursors of Example 28 were stacked, loaded into a plate material supply apparatus, continuously and fully automatically exposed, developed, and discharged to a stocker. During operation of the apparatus, there was no adhesion between the lithographic printing plate precursors or poor conveyance caused by the lithographic printing plate precursor. I understood that. The same results were obtained with the lithographic printing plate precursors of Examples 29 to 34.
[0275]
As is clear from the above examples, the lithographic printing plate precursor using the image recording element of the present invention as a recording layer (lithographic printing plate precursor of the present invention) is excellent in scratch resistance, printing durability and slipperiness. Furthermore, the excellent effect that the transferability of the slippery material (friction coefficient lowering material) was suppressed was exhibited.
[0276]
【The invention's effect】
According to the present invention, an image recording element having good scratch resistance and wide development latitude, and causing no problem of transfer to a roller and protective paper (interleaf) or back of a support during production and transportation, and By using the image recording element for the recording layer, a lithographic printing plate precursor for infrared laser for direct plate making having the same characteristics can be provided.

Claims (2)

(A) an infrared absorber and (b) a copolymer of a long-chain alkyl group-containing monomer having 6 or more carbon atoms and a hydrophilic monomer, having a friction coefficient reduction rate of 0.5 to 0.97 with respect to the base polymer An image-recording element comprising a chain alkyl group-containing polymer and capable of forming an image by exposure with an infrared laser. On the support, it is a copolymer of (a) an infrared absorber and (b) a long-chain alkyl group-containing monomer having 6 or more carbon atoms and a hydrophilic monomer, and the coefficient of friction reduction with respect to the base polymer is 0.5 to A lithographic printing plate precursor comprising a 0.97 long-chain alkyl group-containing polymer and having a recording layer capable of forming an image by exposure with an infrared laser.