JP2003302750A - Image recording material and lithographic printing plate precursor - Google Patents

Image recording material and lithographic printing plate precursor

Info

Publication number
JP2003302750A
JP2003302750A JP2002332267A JP2002332267A JP2003302750A JP 2003302750 A JP2003302750 A JP 2003302750A JP 2002332267 A JP2002332267 A JP 2002332267A JP 2002332267 A JP2002332267 A JP 2002332267A JP 2003302750 A JP2003302750 A JP 2003302750A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
group
printing plate
acid
lithographic printing
plate precursor
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2002332267A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Tomotaka Tsuchimura
智孝 土村
Ippei Nakamura
一平 中村
Tadahiro Sorori
忠弘 曽呂利
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Fujifilm Holdings Corp
Original Assignee
Fuji Photo Film Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Fuji Photo Film Co Ltd filed Critical Fuji Photo Film Co Ltd
Priority to JP2002332267A priority Critical patent/JP2003302750A/en
Priority to AT08002311T priority patent/ATE446191T1/en
Priority to EP08002311A priority patent/EP1914070B1/en
Priority to DE60329794T priority patent/DE60329794D1/en
Priority to DE60320471T priority patent/DE60320471T2/en
Priority to EP03002591A priority patent/EP1334823B1/en
Priority to EP09167972A priority patent/EP2111983B1/en
Priority to AT03002591T priority patent/ATE393020T1/en
Priority to US10/359,711 priority patent/US6958206B2/en
Priority to AT09167972T priority patent/ATE528135T1/en
Publication of JP2003302750A publication Critical patent/JP2003302750A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Landscapes

  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)
  • Addition Polymer Or Copolymer, Post-Treatments, Or Chemical Modifications (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide an image recording material for making a lithographic printing plate having wide development latitude and scuffing resistance and containing a lubricative material free of transfer to rollers, protective paper sheets (inserting paper sheets) and the rear face of a substrate in production and transport. <P>SOLUTION: The image recording material comprises (a) an IR absorber and (b) a polymer to lower a dynamic coefficient of friction to 0.38-0.60, which can undergo image formation upon exposure with infrared laser. A lithographic printing plate precursor has on a support a recording layer comprising (a) an IR absorber, (c) a water-insoluble and alkali-soluble resin and (d) a polymer having a structural unit represented by a specified structure, and having solubility in an alkaline aqueous solution increased upon exposure with infrared laser. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は画像記録材料及び平
版印刷版原版に関するものである。特にコンピュータ等
のディジタル信号から直接製版できるいわゆるダイレク
ト製版用の赤外レーザ用画像記録材料及び該画像記録材
料を用いた平版印刷版原版に関する。
TECHNICAL FIELD The present invention relates to an image recording material and a lithographic printing plate precursor. In particular, the present invention relates to an infrared laser image recording material for so-called direct plate making, which enables direct plate making from a digital signal from a computer or the like, and a lithographic printing plate precursor using the image recording material.

【0002】[0002]

【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目覚まし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型のものが容易に入手でき
るようになっている。コンピュータ等のディジタルデー
タから直接製版する際の露光光源として、これらのレー
ザは非常に有用である。
2. Description of the Related Art The development of lasers in recent years has been remarkable, and in particular, solid-state lasers having an emission region from near infrared to infrared.
High-power and small-sized semiconductor lasers are easily available. These lasers are very useful as an exposure light source when making a plate directly from digital data of a computer or the like.

【0003】赤外レーザ用ポジ型平版印刷版原版は、ア
ルカリ水溶液可溶性のバインダー樹脂と、光を吸収し熱
を発生する赤外線吸収染料等(光熱変換物質)とを必須
成分とし、赤外線吸収染料等が、未露光部(画像部)で
は、バインダー樹脂との相互作用によりバインダー樹脂
の溶解性を実質的に低下させる溶解阻止剤として働き、
露光部(非画像部)では、発生した熱により赤外線吸収
染料等とバインダー樹脂との相互作用が弱まりアルカリ
現像液に溶解して平版印刷版を形成する。
The positive type lithographic printing plate precursor for infrared laser has a binder resin soluble in an alkaline aqueous solution and an infrared absorbing dye or the like (light-heat converting substance) which absorbs light to generate heat, and the infrared absorbing dye or the like. However, in the unexposed area (image area), it acts as a dissolution inhibitor that substantially lowers the solubility of the binder resin due to the interaction with the binder resin,
In the exposed area (non-image area), the generated heat weakens the interaction between the infrared absorbing dye and the binder resin and dissolves in an alkali developing solution to form a lithographic printing plate.

【0004】しかしながら、このような赤外レーザ用ポ
ジ型平版印刷版原版では、取り扱い時に表面に触れる等
によりわずかに表面状態が変動した場合にも、現像時に
未露光部(画像部)が溶解してキズ跡状となり、耐刷性
の劣化や着肉性不良を引き起こすという問題があった。
However, in such a positive type lithographic printing plate precursor for infrared laser, the unexposed area (image area) is dissolved during development even if the surface condition slightly changes due to contact with the surface during handling. As a result, there is a problem that scratches are left and cause deterioration of printing durability and poor inking property.

【0005】また、赤外レーザ用ネガ型平版印刷版原版
の場合も、未露光の硬化前の状態では記録層の耐キズ性
が不充分であるという問題もあった。
Also, in the case of a negative type lithographic printing plate precursor for infrared laser, there is a problem that the scratch resistance of the recording layer is insufficient in the unexposed state before curing.

【0006】上記問題を解決する手段として、例えば、
特許文献1(米国特許6,124,425号明細書)
に、膜強度(画像強度)を簡便に達成することを目的と
した赤外線吸収性の官能基を側鎖に有するアルカリ可溶
性樹脂の例が記載されている。即ち、アルカリ可溶性樹
脂中に光熱変換機能を有する部分構造を導入して材料中
の成分を減らすことにより、膜強度を向上しようとする
ものである。しかしながら、このアルカリ可溶性樹脂
は、分子量が5000以上の高分子化合物であるため
に、支持体への密着性が多大になると共に、現像時の処
理剤への溶解性が充分でなくなり、特にポジ型平版印刷
版材料として用いた場合に、非画像部の溶解性が低く、
除去されるべき記録層が現像処理で充分に除去されず、
残膜となって非画像部に汚れが発生し易いという問題を
有していた。
As means for solving the above problems, for example,
Patent Document 1 (US Pat. No. 6,124,425)
Describes an example of an alkali-soluble resin having an infrared absorbing functional group in its side chain for the purpose of easily achieving film strength (image strength). That is, it is intended to improve the film strength by introducing a partial structure having a photothermal conversion function into the alkali-soluble resin to reduce the components in the material. However, since this alkali-soluble resin is a high molecular weight compound having a molecular weight of 5000 or more, its adhesion to a support becomes great and its solubility in a processing agent at the time of development becomes insufficient. When used as a planographic printing plate material, the solubility of the non-image area is low,
The recording layer to be removed is not sufficiently removed by the development process,
There has been a problem that a non-image area is liable to be left as a residual film, which tends to cause stains.

【0007】また、例えば、特許文献2(特開2000
−35666号公報)に低分子量のワックスの添加によ
り、表面の滑り性が向上し、優れた耐キズ性を発現する
ことが知られているが、低分子であるため、平版印刷版
原版を積層する際に保護紙(合紙)、支持体裏面への転
写や平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題
点を有しており、製造や搬送時の不安定要因となってい
た。
Further, for example, Patent Document 2 (Japanese Patent Laid-Open No. 2000)
It has been known that the addition of a low molecular weight wax to JP-A-35666) improves surface slipperiness and develops excellent scratch resistance, but since it is a low molecule, a lithographic printing plate precursor is laminated. However, there were problems such as protection paper (interleaving paper), transfer to the back surface of the support, and transfer to the rollers during lithographic printing plate precursor manufacturing, which was an instability factor during manufacturing and transportation. .

【0008】更に、例えば、特許文献3(欧州特許第9
50514号明細書)及び特許文献4(欧州特許第95
0517号明細書)にはポリシロキサン系界面活性剤に
より滑り性を発現させる例が提案されているが、現像時
におけるカスの懸念や滑りすぎてしまうという滑り性の
制御の難しさから、これも製造や搬送時の不安定要因と
なっていた。
Further, for example, Patent Document 3 (European Patent No. 9
No. 50514) and Patent Document 4 (European Patent No. 95).
No. 0517) proposes an example of exhibiting slipperiness with a polysiloxane-based surfactant, but this is also due to concern about dust during development and difficulty in controlling slipperiness such as excessive slippage. It was a cause of instability during manufacturing and transportation.

【0009】更に、記録層上に保護層を設けることも考
えられるが、例えば、水溶性樹脂を用いる一般的な保護
層を設けた場合、特に高湿度下で保存された場合には、
保護層と支持体とが接着し、剥がれ難くなって作業性が
低下するという問題があり、いずれの手段によっても、
生産性が悪かった。このため、作業性を低下させず、ま
た、画像形成性に影響を与えず、記録層の傷つきを抑制
し得る平版印刷版原版が所望されていた。
Further, it is conceivable to provide a protective layer on the recording layer. For example, when a general protective layer using a water-soluble resin is provided, particularly when stored under high humidity,
There is a problem that the protective layer and the support are adhered to each other, which makes it difficult to peel them off, resulting in a decrease in workability.
Productivity was bad. Therefore, there has been a demand for a lithographic printing plate precursor that does not deteriorate workability, does not affect image forming properties, and can suppress scratches on the recording layer.

【0010】[0010]

【特許文献1】米国特許第6124425号明細書[Patent Document 1] US Pat. No. 6,124,425

【特許文献2】特開2000−35666号公報[Patent Document 2] Japanese Patent Laid-Open No. 2000-35666

【特許文献3】欧州特許第950514号明細書[Patent Document 3] European Patent No. 950514

【特許文献4】欧州特許第950517号明細書[Patent Document 4] European Patent No. 950517

【0011】[0011]

【発明が解決しようとする課題】従って、本発明の目的
は、上記の問題を解決することであり、即ち、広い現像
の寛容度(ラチチュード)及び耐傷性を有し、且つ、製
造、搬送時のローラーや保護紙(合紙)、基板裏面の転
写の無い滑り性素材を含有する平版印刷版の作製のため
の画像記録材料及び該画像記録材料を用いた平版印刷版
原版を提供することである。
SUMMARY OF THE INVENTION Therefore, an object of the present invention is to solve the above-mentioned problems, that is, it has a wide development latitude and a scratch resistance, and is manufactured and transported. By providing an image recording material for producing a lithographic printing plate containing a roller, a protective paper (interleaving paper), a slippery material without transfer on the back surface of the substrate, and a lithographic printing plate precursor using the image recording material. is there.

【0012】[0012]

【課題を解決するための手段】本発明者は、上記目的を
達成すべく鋭意研究を重ねた結果、動摩擦係数を0.3
8〜0.60に低下させるポリマーを含有する画像記録
材料を記録層として用いることにより、上記課題を解決
し得ることを見出し、本発明を完成するに到った。即
ち、本発明は、以下の通りである。
As a result of intensive studies to achieve the above object, the present inventor has found that the dynamic friction coefficient is 0.3.
The present invention has been completed by finding that the above problems can be solved by using an image recording material containing a polymer which reduces the amount to 8 to 0.60 as a recording layer, and completed the present invention. That is, the present invention is as follows.

【0013】1.(a)赤外線吸収剤及び(b)動摩擦
係数を0.38〜0.60に低下させるポリマーを含有
し、赤外レーザの露光により画像形成可能であることを
特徴とする画像記録材料。
1. An image recording material comprising (a) an infrared absorber and (b) a polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60 and capable of forming an image by exposure to an infrared laser.

【0014】2.支持体上に、(a)赤外線吸収剤、
(c)水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂、及び(d)下
記一般式(1)で表される構造単位を有するポリマーを
含有し、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対
する溶解性が増大する記録層を有する平版印刷版原版。
2. On the support, (a) infrared absorber,
A recording layer containing (c) a water-insoluble and alkali-soluble resin, and (d) a polymer having a structural unit represented by the following general formula (1), the solubility of which in an alkaline aqueous solution is increased by exposure to an infrared laser. Original planographic printing plate.

【0015】[0015]

【化2】 [Chemical 2]

【0016】(nは4以上の整数を表し、mは0.6≦
m≦20を表す。XはpKaが12以下のアルカリ可溶
性基を有する骨格を表し、Rはアルキル基又は水素原子
を表す。)
(N represents an integer of 4 or more, and m represents 0.6 ≦
It represents m ≦ 20. X represents a skeleton having an alkali-soluble group having a pKa of 12 or less, and R represents an alkyl group or a hydrogen atom. )

【0017】上記発明により、コンピュータ等のディジ
タル信号から直接製版できるいわゆるダイレクト製版用
の赤外レーザ用ポジ型平版印刷版原版が得られ、広い現
像のラチチュード及び耐傷性を有し、且つ、製造、搬送
時のローラーや保護紙(合紙)、基盤裏面の転写の無い
滑り性素材を含有する平版印刷版を提供することでき
る。本発明の画像記録材料が、上記の耐傷性及び滑り性
を有する作用機構は明確になってはいないが、動摩擦係
数を0.38〜0.60に低下させるポリマーが画像記
録材料中の最表層に偏在化し、表面エネルギーを低下さ
せ、適度な滑り性を発現させるため、擦りキズ等の耐キ
ズ性を発現し、且つ、高分子量であるため製造、搬送時
のローラーや合紙への転写性を抑制しているものと推定
される。
According to the above invention, a positive type lithographic printing plate precursor for infrared laser for so-called direct plate making, which can directly make a plate from a digital signal of a computer or the like, is obtained, has a wide development latitude and scratch resistance, and is manufactured, It is possible to provide a lithographic printing plate containing a roller, a protective paper (interleaving paper) at the time of conveyance, and a slippery material without transfer of the back surface of the substrate. Although the mechanism of action of the image recording material of the present invention having the above-mentioned scratch resistance and slipperiness has not been clarified, a polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60 is the outermost layer in the image recording material. Uneven distribution, lowering surface energy, and exhibiting appropriate slipperiness, and exhibiting scratch resistance such as scratches, and its high molecular weight makes it easy to transfer to rollers and slip sheets during production and transportation. It is presumed that this is suppressed.

【0018】[0018]

【発明の実施の形態】本発明の画像記録材料は、動摩擦
係数を0.38〜0.60に低下させるポリマー、及び
赤外線吸収剤を含有することを特徴とする。動摩擦係数
を0.38未満に低下させるポリマーでは、滑り性が高
すぎて、該画像記録材料を用いた平版印刷版原版の安定
的な製造ができない。また、平版印刷版原版の搬送時、
積層した原版が滑ってキズ発生の原因となり好ましくな
い。また、動摩擦係数が0.60を超えると、滑り性に
よる耐キズ改良効果が得られない。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION The image recording material of the present invention is characterized by containing a polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60, and an infrared absorbing agent. A polymer that reduces the coefficient of kinetic friction to less than 0.38 has too high a slip property, and a lithographic printing plate precursor using the image recording material cannot be stably produced. In addition, during transportation of the planographic printing plate precursor,
It is not preferable because the laminated original plates slip and cause scratches. If the dynamic friction coefficient exceeds 0.60, the effect of improving scratch resistance due to slipperiness cannot be obtained.

【0019】上記の動摩擦係数(dynamic or kinetic c
oefficient of friction)(μk)は、標準ASTM
D1894に順って、平版印刷版原版を記録層の表面が
ステンレススチールと接触するように置いて測定したス
テレンススチールに対する動摩擦係数である。
The above-mentioned dynamic friction coefficient (dynamic or kinetic c
oefficient of friction) (μk) is standard ASTM
The coefficient of kinetic friction with respect to stainless steel measured by placing the lithographic printing plate precursor such that the surface of the recording layer was in contact with stainless steel in accordance with D1894.

【0020】本発明の画像記録材料は、水不溶性かつア
ルカリ可溶性樹脂又は酸分解性化合物を含み、赤外レー
ザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶解性が増大
するポジ型画像記録材料として、ポジ型平版印刷版原版
の記録層に用いることができる。また、本発明の画像記
録材料は、熱架橋性成分又は熱重合性成分を含み、赤外
レーザの露光により架橋や重合を起こして現像液に不溶
化するネガ型画像記録材料として、ネガ型平版印刷版原
版の記録層に用いることができる。以下、本発明の画像
記録材料を構成する各成分及び本発明の画像記録材料を
用いた平版印刷用原版について順次説明する。
The image recording material of the present invention contains a water-insoluble and alkali-soluble resin or an acid-decomposable compound, and as a positive-type image recording material whose solubility in an alkaline aqueous solution is increased by exposure to infrared laser, a positive-type planographic printing method is used. It can be used for the recording layer of the original plate. The image recording material of the present invention contains a heat-crosslinkable component or a heat-polymerizable component, and is negative-working lithographic printing as a negative-type image recording material that becomes insoluble in a developer by causing crosslinking or polymerization by exposure to infrared laser. It can be used for the recording layer of the original plate. Hereinafter, each component constituting the image recording material of the present invention and the lithographic printing plate precursor using the image recording material of the present invention will be sequentially described.

【0021】[画像記録材料] (動摩擦係数を0.38〜0.60に低下させるポリマ
ー)本発明における0.38〜0.60に動摩擦係数を
低下させるために用いることができるポリマーとして
は、炭素数4以上の長鎖アルキル基(以下、単に、長鎖
アルキル基ともいう)を有するポリマー、ポリフェニレ
ンポリマー、ポリウレタンポリマーが挙げられる。中で
も長鎖アルキル基含有ポリマーが好ましい。更に、長鎖
アルキル基含有ポリマーは、炭素数4以上の長鎖アルキ
ル基含有モノマーと少なくとも1種類以上のモノマーを
組み合わせて共重合したポリマー(長鎖アルキル基含有
共重合ポリマーと呼ぶ)であることが好ましい。
[Image Recording Material] (Polymer for Reducing Dynamic Friction Coefficient to 0.38 to 0.60) As a polymer that can be used to reduce the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60 in the present invention, Examples thereof include polymers having a long-chain alkyl group having 4 or more carbon atoms (hereinafter, also simply referred to as long-chain alkyl group), polyphenylene polymers, and polyurethane polymers. Of these, long-chain alkyl group-containing polymers are preferable. Furthermore, the long-chain alkyl group-containing polymer is a polymer obtained by copolymerizing a long-chain alkyl group-containing monomer having 4 or more carbon atoms and at least one kind of monomer (called a long-chain alkyl group-containing copolymer) Is preferred.

【0022】上記長鎖アルキル基含有共重合ポリマー中
の長鎖アルキル基含有モノマーの組成モル%は、滑り性
向上の観点から99〜60%の範囲内あることが好まし
く、97〜65%の範囲内であることがより好ましく、
95〜70%の範囲内であることが最も好ましい。
The composition mol% of the long-chain alkyl group-containing monomer in the long-chain alkyl group-containing copolymer is preferably in the range of 99 to 60%, and in the range of 97 to 65%, from the viewpoint of improving the slip property. More preferably within,
Most preferably, it is within the range of 95 to 70%.

【0023】上記の炭素数4以上の長鎖アルキル基含有
モノマーとしては、分子内に付加重合可能なエチレン性
不飽和基を有する化合物が好ましく、溶剤溶解性や画像
記録材料を作製した場合の耐キズ性改良効果、表面被覆
性、画像形成性への悪影響の小ささ等の観点から、長鎖
アルキル基を有する、アクリレート系、メタクリレート
系、アクリルアミド系、メタクリルアミド系、スチレン
系、ビニル系、ビニルエーテル系、マレイン酸系又はフ
マル酸系モノマーであることが好ましく、更に、長鎖ア
ルキルアクリレート、長鎖アルキルメタクリレート、長
鎖アルキル基含有ビニルエーテル又は長鎖アルキル基含
有スチレンであることが好ましい。また、長鎖アルキル
基の炭素数nは6以上であることがより好ましく、8以
上であることがさらに好ましく、12以上20以下であ
ることが最も好ましい。
As the above long-chain alkyl group-containing monomer having 4 or more carbon atoms, a compound having an addition-polymerizable ethylenically unsaturated group in the molecule is preferable, and the solvent solubility and the resistance to the production of the image recording material are preferable. From the viewpoints of scratch resistance improving effect, surface coating property, and small adverse effect on image forming property, etc., acrylate, methacrylate, acrylamide, methacrylamide, styrene, vinyl, vinyl ether having a long-chain alkyl group. It is preferable that the monomer is a maleic acid-based monomer or a fumaric acid-based monomer, and further, long chain alkyl acrylate, long chain alkyl methacrylate, long chain alkyl group-containing vinyl ether or long chain alkyl group-containing styrene. Further, the carbon number n of the long chain alkyl group is more preferably 6 or more, further preferably 8 or more, and most preferably 12 or more and 20 or less.

【0024】このような長鎖アルキル基含有モノマーと
して、より具体的には、下記一般式(2)で表されるモ
ノマーが好ましい。
More specifically, the long chain alkyl group-containing monomer is preferably a monomer represented by the following general formula (2).

【0025】[0025]

【化3】 [Chemical 3]

【0026】nは6〜40の整数を表す。Zは2価の連
結基を表す。W、W’、W”は1価の有機基を表す。
N represents an integer of 6 to 40. Z represents a divalent linking group. W, W'and W "represent monovalent organic groups.

【0027】Zの表す2価の連結基の具体例としては、
炭素数1〜20の直鎖または分岐、鎖状または環状のア
ルキレン基、炭素数2〜20の直鎖または分岐、鎖状ま
たは環状のアルケニレン基、炭素数2〜20のアルキニ
レン基、炭素数6〜20のアリーレン基(単環、複素
環)、−OC(=O)−、−OC(=O)Ar−、−O
C(=O)O−、−OC(=O)OAr−、−C(=
O)NR−、−C(=O)NAr−、−SO2NR−、
−SO2NAr−、−O−、(アルキレンオキシ、ポリ
アルキレンオキシ)、−OAr−アリーレンオキシ、ポ
リアリーレンオキシ)、−C(=O)O−、−C(=
O)O−Ar−、−C(=O)Ar−、−C(=O)
−、−SO2O−、−SO2OAr−、−OSO2−、−
OSO2Ar−、−NRSO2−、−NArSO2−、−
NRC(=O)−、−NArC(=O)−、−NRC
(=O)O−、−NArC(=O)O−、−OC(=
O)NR−、−OC(=O)NAr−、−NAr−、−
NR−、−N+RR'−、−N+RAr−、−N+ArA
r'−、−S−、−SAr−、−ArS−、ヘテロ環基
(ヘテロ原子としては例えば、窒素、酸素及びイオウ等
を少なくとも1個以上含み、3ないし12員環の単環、
縮合環)、−OC(=S)−、−OC(=S)Ar−、
−C(=S)O−、−C(=S)OAr−、−C(=
S)OAr−、−C(=O)S−、−C(=O)SAr
−、−ArC(=O)−、−ArC(=O)NR−、−
ArC(=O)NAr−、−ArC(=O)O−、−A
rC(=O)O−、−ArC(=O)S−、−ArC
(=S)O−、−ArO−、−ArNR−等が挙げられ
る。ここで、R及びR'はH、直鎖または分岐、鎖状ま
たは環状のアルキル基、アルケニル基又はアルキニル基
を表し、Ar及びAr'はアリール基を表す。
Specific examples of the divalent linking group represented by Z include:
C1-C20 linear or branched, chain-like or cyclic alkylene group, C2-C20 straight-chain or branched, chain-like or cyclic alkenylene group, C2-C20 alkynylene group, C6 To 20 arylene groups (monocyclic and heterocyclic), -OC (= O)-, -OC (= O) Ar-, -O.
C (= O) O-, -OC (= O) OAr-, -C (=
O) NR -, - C ( = O) NAr -, - SO 2 NR-,
-SO 2 NAr -, - O - , ( alkyleneoxy, polyalkyleneoxy), - OAr- aryleneoxy, polyarylene oxy), - C (= O) O -, - C (=
O) O-Ar-, -C (= O) Ar-, -C (= O)
-, - SO 2 O -, - SO 2 OAr -, - OSO 2 -, -
OSO 2 Ar -, - NRSO 2 -, - NArSO 2 -, -
NRC (= O)-, -NArC (= O)-, -NRC
(= O) O-, -NArC (= O) O-, -OC (=
O) NR-, -OC (= O) NAr-, -NAr-,-
NR -, - N + RR ' -, - N + RAr -, - N + ArA
r'-, -S-, -SAr-, -ArS-, a heterocyclic group (as a hetero atom, for example, at least one or more of nitrogen, oxygen, sulfur and the like is contained, and is a 3- to 12-membered monocyclic ring,
Condensed ring), -OC (= S)-, -OC (= S) Ar-,
-C (= S) O-, -C (= S) OAr-, -C (=
S) OAr-, -C (= O) S-, -C (= O) SAr
-, -ArC (= O)-, -ArC (= O) NR-,-
ArC (= O) NAr-, -ArC (= O) O-, -A
rC (= O) O-, -ArC (= O) S-, -ArC
(= S) O-, -ArO-, -ArNR- and the like. Here, R and R ′ represent H, a linear or branched, chain or cyclic alkyl group, alkenyl group or alkynyl group, and Ar and Ar ′ represent an aryl group.

【0028】上記の連結基は、ここで挙げた連結基を2
種類以上組み合わせて連結基を形成していても良い。こ
のような連結基としては、炭素数6〜20のアリーレン
基(単環、複素環)、−C(=O)NR−、−C(=
O)NAr−、−O−(アルキレンオキシ、ポリアルキ
レンオキシ)、−OAr−アリーレンオキシ、ポリアリ
ーレンオキシ)、−C(=O)O−、−C(=O)O−
Ar−、−C(=O)−、−C(=O)Ar−、−S
−、−SAr−、−ArS−、−ArC(=O)−、−
ArC(=O)O−、−ArC(=O)O−、−ArO
−、−ArNR−等が好ましく、炭素数6〜20のアリ
ーレン基(単環、複素環)、−C(=O)NR−、−C
(=O)NAr−、−O−(アルキレンオキシ、ポリア
ルキレンオキシ)、−OAr−アリーレンオキシ、ポリ
アリーレンオキシ)、−C(=O)O−、−C(=O)
O−Ar−、−SAr−、−ArS−、−ArC(=
O)−、−ArC(=O)O−、−ArC(=O)O
−、−ArO−、−ArNR−等がより好ましい。
The above-mentioned linking groups are the same as the linking groups listed here.
The linking group may be formed by combining more than one kind. As such a linking group, an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (monocycle or heterocycle), -C (= O) NR-, -C (=
O) NAr-, -O- (alkyleneoxy, polyalkyleneoxy), -OAr-aryleneoxy, polyaryleneoxy), -C (= O) O-, -C (= O) O-.
Ar-, -C (= O)-, -C (= O) Ar-, -S
-, -SAr-, -ArS-, -ArC (= O)-,-
ArC (= O) O-, -ArC (= O) O-, -ArO
-, -ArNR- and the like are preferable, and an arylene group having 6 to 20 carbon atoms (monocycle or heterocycle), -C (= O) NR-, -C.
(= O) NAr-, -O- (alkyleneoxy, polyalkyleneoxy), -OAr-aryleneoxy, polyaryleneoxy), -C (= O) O-, -C (= O).
O-Ar-, -SAr-, -ArS-, -ArC (=
O)-, -ArC (= O) O-, -ArC (= O) O
-, -ArO-, -ArNR- and the like are more preferable.

【0029】また、上記連結基は置換基を有していても
よく、その置換基の例としては、炭素数1〜20の直鎖
又は分岐、鎖状又は環状のアルキレン、炭素数2〜20
の直鎖又は分岐、鎖状又は環状のアルケニレン、炭素数
2〜20のアルキニル基、炭素数6〜20のアリーレ
ン、炭素数1〜20のアシルオキシ基、炭素数2〜20
のアルコキシカルボニルオキシ基、炭素数7〜20のア
リールオキシカルボニルオキシ基、炭素数1〜20のカ
ルバモイルオキシ基、炭素数1〜20のカルボンアミド
基、炭素数1〜20のスルホンアミド基、炭素数1〜2
0のカルバモイル基、炭素数0〜20のスルファモイル
基、炭素数1〜20のアルコキシ基、炭素数6〜20の
アリールオキシ基、炭素数7〜20のアリールオキシカ
ルボニル基、炭素数2〜20のアルコキシカルボニル
基、炭素数1〜20のN−アシルスルファモイル基、炭
素数1〜20のN−スルファモイルカルバモイル基、炭
素数1〜20のアルキルスルホニル基、炭素数6〜20
のアリールスルホニル基、炭素数2〜20のアルコキシ
カルボニルアミノ基、炭素数7〜20のアリールオキシ
カルボニルアミノ基、炭素数0〜20のアミノ基、炭素
数1〜20のイミノ基、炭素数3〜20のアンモニオ
基、カルボキシル基、スルホ基、オキシ基、メルカプト
基、炭素数1〜20のアルキルスルフィニル基、炭素数
6〜20のアリールスルフィニル基、炭素数1〜20の
アルキルチオ基、炭素数6〜20のアリールチオ基、炭
素数1〜20のウレイド基、炭素数2〜20のヘテロ環
基、炭素数1〜20のアシル基、炭素数0〜20のスル
ファモイルアミノ基、炭素数2〜20のシリル基、ヒド
ロキシ基、ハロゲン原子(例えば、フッ素原子、塩素原
子、臭素原子等)、シアノ基、ニトロ基等が挙げられ
る。
The linking group may have a substituent, and examples of the substituent include linear or branched, chain or cyclic alkylene having 1 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms.
Linear or branched, chain or cyclic alkenylene, an alkynyl group having 2 to 20 carbon atoms, an arylene having 6 to 20 carbon atoms, an acyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms.
Alkoxycarbonyloxy group, aryloxycarbonyloxy group having 7 to 20 carbon atoms, carbamoyloxy group having 1 to 20 carbon atoms, carbonamido group having 1 to 20 carbon atoms, sulfonamide group having 1 to 20 carbon atoms, carbon number 1-2
A carbamoyl group having 0 to 20 carbon atoms, a sulfamoyl group having 0 to 20 carbon atoms, an alkoxy group having 1 to 20 carbon atoms, an aryloxy group having 6 to 20 carbon atoms, an aryloxycarbonyl group having 7 to 20 carbon atoms, and 2 to 20 carbon atoms. Alkoxycarbonyl group, N-acyl sulfamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, N-sulfamoylcarbamoyl group having 1 to 20 carbon atoms, alkylsulfonyl group having 1 to 20 carbon atoms, and 6 to 20 carbon atoms
Arylsulfonyl group, C2-20 alkoxycarbonylamino group, C7-20 aryloxycarbonylamino group, C0-20 amino group, C1-20 imino group, C3-3 20 ammonio group, carboxyl group, sulfo group, oxy group, mercapto group, alkylsulfinyl group having 1 to 20 carbon atoms, arylsulfinyl group having 6 to 20 carbon atoms, alkylthio group having 1 to 20 carbon atoms, and 6 to carbon atoms 20 arylthio group, C1-20 ureido group, C2-20 heterocyclic group, C1-20 acyl group, C0-20 sulfamoylamino group, C2-20 Silyl group, hydroxy group, halogen atom (for example, fluorine atom, chlorine atom, bromine atom, etc.), cyano group, nitro group and the like.

【0030】また、W、W’、W”の具体例としては以
下のものが挙げられるが、これらに限定されるものでは
ない。水素原子、炭素数1〜50の直鎖または分岐、鎖
状または環状のアルキル基(例えば、メチル、エチル、
プロピル、ヘプタフルオロプロピル、イソプロピル、ブ
チル、t−ブチル、t−ペンチル、シクロペンチル、シ
クロヘキシル、オクチル、2−エチルヘキシル、ドデシ
ル等)、炭素数2〜50の直鎖または分岐、鎖状または
環状のアルケニル基(例えばビニル、1−メチルビニ
ル、シクロヘキセン−1−イル等)、炭素数2〜50の
アルキニル基(例えば、エチニル、1−プロピニル
等)、炭素数6〜50のアリール基(例えば、フェニ
ル、ナフチル、アントリル等)、炭素数1〜50のアシ
ルオキシ基(例えば、アセトキシ、テトラデカノイルオ
キシ、ベンゾイルオキシ等)、炭素数2〜50のアルコ
キシカルボニルオキシ基(例えば、メトキシカルボニル
オキシ基、2−メトキシエトキシカルボニルオキシ基な
ど)、炭素数7〜50のアリールオキシカルボニルオキ
シ基(例えばフェノキシカルボニルオキシ基など)、炭
素数1〜50のカルバモイルオキシ基(例えば、N,N
−ジメチルカルバモイルオキシ等)、炭素数1〜50の
カルボンアミド基(例えば、ホルムアミド、N−メチル
アセトアミド、アセトアミド、N−メチルホルムアミ
ド、ベンツアミド等)、炭素数1〜50のスルホンアミ
ド基(例えば、メタンスルホンアミド、ドデカンスルホ
ンアミド、ベンゼンスルホンアミド、p−トルエンスル
ホンアミド等)、炭素数1〜50のカルバモイル基(例
えば、N−メチルカルバモイル、N,N−ジエチルカル
バモイル、N−メシルカルバモイル等)、炭素数0〜5
0のスルファモイル基(例えば、N−ブチルスルファモ
イル、N,N−ジエチルスルファモイル、N−メチル−
N−(4−メトキシフェニル)スルファモイル等)、炭
素数1〜50のアルコキシ基(例えば、メトキシ、プロ
ポキシ、イソプロポキシ、オクチルオキシ、t−オクチ
ルオキシ、ドデシルオキシ、2−(2,4−ジ−t−ペ
ンチルフェノキシ)エトキシ、ポリアルキレンオキシ
等)、炭素数6〜50のアリールオキシ基(例えば、フ
ェノキシ、4−メトキシフェノキシ、ナフトキシ等)、
炭素数7〜50のアリールオキシカルボニル基(例え
ば、フェノキシカルボニル、ナフトキシカルボニル等)
Specific examples of W, W'and W "include, but are not limited to, the following: hydrogen atom, straight or branched chain having 1 to 50 carbon atoms, or chain. Or a cyclic alkyl group (eg, methyl, ethyl,
Propyl, heptafluoropropyl, isopropyl, butyl, t-butyl, t-pentyl, cyclopentyl, cyclohexyl, octyl, 2-ethylhexyl, dodecyl, etc.), a straight-chain or branched, chain-like or cyclic alkenyl group having 2 to 50 carbon atoms. (For example, vinyl, 1-methylvinyl, cyclohexen-1-yl, etc.), C2-C50 alkynyl group (eg, ethynyl, 1-propynyl, etc.), C6-C50 aryl group (eg, phenyl, naphthyl). , Anthryl, etc.), an acyloxy group having 1 to 50 carbon atoms (eg, acetoxy, tetradecanoyloxy, benzoyloxy, etc.), an alkoxycarbonyloxy group having 2 to 50 carbon atoms (eg, methoxycarbonyloxy group, 2-methoxyethoxy). Carbonyloxy group, etc.), Chromatography (such as phenoxycarbonyl group) oxy carbonyloxy group, a carbamoyloxy group having 1 to 50 carbon atoms (e.g., N, N
-Dimethylcarbamoyloxy, etc.), a carbonamide group having 1 to 50 carbon atoms (for example, formamide, N-methylacetamide, acetamide, N-methylformamide, benzamide, etc.), a sulfonamide group having 1 to 50 carbon atoms (for example, Methanesulfonamide, dodecanesulfonamide, benzenesulfonamide, p-toluenesulfonamide, etc.), a carbamoyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, N-methylcarbamoyl, N, N-diethylcarbamoyl, N-mesylcarbamoyl, etc.), Carbon number 0-5
A sulfamoyl group of 0 (eg, N-butylsulfamoyl, N, N-diethylsulfamoyl, N-methyl-
N- (4-methoxyphenyl) sulfamoyl etc.), an alkoxy group having 1 to 50 carbon atoms (eg, methoxy, propoxy, isopropoxy, octyloxy, t-octyloxy, dodecyloxy, 2- (2,4-di-). t-pentylphenoxy) ethoxy, polyalkyleneoxy, etc.), an aryloxy group having 6 to 50 carbon atoms (eg, phenoxy, 4-methoxyphenoxy, naphthoxy, etc.),
Aryloxycarbonyl group having 7 to 50 carbon atoms (for example, phenoxycarbonyl, naphthoxycarbonyl, etc.)

【0031】炭素数2〜50のアルコキシカルボニル基
(例えば、メトキシカルボニル、t−ブトキシカルボニ
ル等)、炭素数1〜50のN−アシルスルファモイル基
(例えば、N−テトラデカノイルスルファモイル、N−
ベンゾイルスルファモイル等)、炭素数1〜50のN−
スルファモイルカルバモイル基(例えばN−メタンスル
ホニルカルバモイル基など)、炭素数1〜50のアルキ
ルスルホニル基(例えば、メタンスルホニル、オクチル
スルホニル、2−メトキシエチルスルホニル、2−ヘキ
シルデシルスルホニル等)、炭素数6〜50のアリール
スルホニル基(例えば、ベンゼンスルホニル、p−トル
エンスルホニル、4−フェニルスルホニルフェニルスル
ホニル等)、炭素数2〜50のアルコキシカルボニルア
ミノ基(例えば、エトキシカルボニルアミノ等)、炭素
数7〜50のアリールオキシカルボニルアミノ基(例え
ば、フェノキシカルボニルアミノ、ナフトキシカルボニ
ルアミノ等)、炭素数0〜50のアミノ基(例えばアミ
ノ、メチルアミノ、ジエチルアミノ、ジイソプロピルア
ミノ、アニリノ、モルホリノ等)、炭素数3〜50のア
ンモニオ基(例えば、トリメチルアンモニオ基、ジメチ
ルベンジルアンモニオ基など)、シアノ基、ニトロ基、
カルボキシル基、ヒドロキシ基、スルホ基、メルカプト
基、炭素数1〜50のアルキルスルフィニル基(例え
ば、メタンスルフィニル、オクタンスルフィニル等)、
炭素数6〜50のアリールスルフィニル基(例えば、ベ
ンゼンスルフィニル、4−クロロフェニルスルフィニ
ル、p−トルエンスルフィニル等)、炭素数1〜50の
アルキルチオ基(例えば、メチルチオ、オクチルチオ、
シクロヘキシルチオ等)、炭素数6〜50のアリールチ
オ基(例えば、フェニルチオ、ナフチルチオ等)、炭素
数1〜50のウレイド基(例えば、3−メチルウレイ
ド、3,3−ジメチルウレイド、1,3−ジフェニルウ
レイド等)、炭素数2〜50のヘテロ環基(ヘテロ原子
としては例えば、窒素、酸素及びイオウ等を少なくとも
1個以上含み、3ないし12員環の単環、縮合環で、例
えば、2−フリル、2−ピラニル、2−ピリジル、2−
チエニル、2−イミダゾリル、モルホリノ、2−キノリ
ル、2−ベンツイミダゾリル、2−ベンゾチアゾリル、
2−ベンゾオキサゾリル等)、炭素数1〜50のアシル
基(例えば、アセチル、ベンゾイル、トリフルオロアセ
チル等)、炭素数0〜50のスルファモイルアミノ基
(例えば、N−ブチルスルファモイルアミノ、N−フェ
ニルスルファモイルアミノ等)、炭素数3〜50のシリ
ル基(例えば、トリメチルシリル、ジメチル−t−ブチ
ルシリル、トリフェニルシリル等)、アゾ基、ハロゲン
原子(例えば、フッ素原子、塩素原子、臭素原子等)が
挙げられる。上記の置換基はさらに置換基を有していて
もよく、その置換基の例としてはここで挙げた置換基が
挙げられる。
Alkoxycarbonyl group having 2 to 50 carbon atoms (eg, methoxycarbonyl, t-butoxycarbonyl, etc.), N-acylsulfamoyl group having 1 to 50 carbon atoms (eg, N-tetradecanoylsulfamoyl, N-
Benzoylsulfamoyl etc.), N- having 1 to 50 carbon atoms
Sulfamoylcarbamoyl group (for example, N-methanesulfonylcarbamoyl group), alkylsulfonyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, methanesulfonyl, octylsulfonyl, 2-methoxyethylsulfonyl, 2-hexyldecylsulfonyl, etc.), carbon number 6-50 arylsulfonyl group (for example, benzenesulfonyl, p-toluenesulfonyl, 4-phenylsulfonylphenylsulfonyl, etc.), C2-C50 alkoxycarbonylamino group (for example, ethoxycarbonylamino, etc.), C7- An aryloxycarbonylamino group of 50 (for example, phenoxycarbonylamino, naphthoxycarbonylamino, etc.), an amino group of 0 to 50 carbon atoms (for example, amino, methylamino, diethylamino, diisopropylamino, anilino, Ruhorino etc.), an ammonio group of 3 to 50 carbon atoms (e.g., trimethylammonio group, such as dimethyl benzyl ammonio group), a cyano group, a nitro group,
A carboxyl group, a hydroxy group, a sulfo group, a mercapto group, an alkylsulfinyl group having 1 to 50 carbon atoms (for example, methanesulfinyl, octansulfinyl, etc.),
Arylsulfinyl group having 6 to 50 carbon atoms (eg, benzenesulfinyl, 4-chlorophenylsulfinyl, p-toluenesulfinyl, etc.), alkylthio group having 1 to 50 carbon atoms (eg, methylthio, octylthio,
Cyclohexylthio, etc.), arylthio groups having 6 to 50 carbon atoms (eg, phenylthio, naphthylthio, etc.), ureido groups having 1 to 50 carbon atoms (eg, 3-methylureido, 3,3-dimethylureido, 1,3-diphenyl). Ureido, etc.), a heterocyclic group having 2 to 50 carbon atoms (as a hetero atom, at least one or more of nitrogen, oxygen, sulfur, etc., is a 3- to 12-membered monocyclic or condensed ring, for example, 2- Furyl, 2-pyranyl, 2-pyridyl, 2-
Thienyl, 2-imidazolyl, morpholino, 2-quinolyl, 2-benzimidazolyl, 2-benzothiazolyl,
2-benzoxazolyl, etc.), an acyl group having 1 to 50 carbon atoms (eg, acetyl, benzoyl, trifluoroacetyl, etc.), a sulfamoylamino group having 0 to 50 carbon atoms (eg, N-butylsulfamoyl). Amino, N-phenylsulfamoylamino, etc.), silyl group having 3 to 50 carbon atoms (eg, trimethylsilyl, dimethyl-t-butylsilyl, triphenylsilyl, etc.), azo group, halogen atom (eg, fluorine atom, chlorine atom) , Bromine atom, etc.). The above-mentioned substituents may further have a substituent, and examples of the substituent include the substituents mentioned here.

【0032】また、W、W’、W”は互いに環を形成し
ていても良く、このような環としては脂肪族環、芳香族
環、複素環が挙げられる。
W, W'and W "may form a ring with each other, and examples of such a ring include an aliphatic ring, an aromatic ring and a heterocycle.

【0033】上記一般式(2)の具体例としては以下の
ものが挙げられるが、これらに限定されるものではな
い。なお、具体例中nは4〜40の整数を表す。
Specific examples of the general formula (2) include the followings, but the invention is not limited thereto. In the specific examples, n represents an integer of 4-40.

【0034】[0034]

【化4】 [Chemical 4]

【0035】[0035]

【化5】 [Chemical 5]

【0036】[0036]

【化6】 [Chemical 6]

【0037】[0037]

【化7】 [Chemical 7]

【0038】長鎖アルキル基含有モノマーの共重合成分
としては、アルカリ現像液に対する溶解性、及び、感度
の観点からpKa12以下の酸基を有するモノマーであ
ることが好ましい。
The copolymer component of the long chain alkyl group-containing monomer is preferably a monomer having an acid group of pKa12 or less from the viewpoint of solubility in an alkali developing solution and sensitivity.

【0039】このようなpKa12以下の酸基を有する
モノマーとしては、下記(1)〜(6)に挙げる酸性基
を有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性、感
度の点で好ましい。 (1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2NH−R) (3)活性イミド基〔−SO2NHCOR、−SO2NH
SO2R、−CONHSO2R〕 (4)カルボン酸基(−CO2H) (5)スルホン酸基(−SO3H) (6)リン酸基(−OPO32
As the monomer having an acid group having a pKa of 12 or less, those having an acidic group described in the following (1) to (6) are preferable in terms of solubility in an alkaline developing solution and sensitivity. (1) phenol group (-Ar-OH) (2) sulfonamide group (-SO 2 NH-R) ( 3) active imide group [-SO 2 NHCOR, -SO 2 NH
SO 2 R, -CONHSO 2 R] (4) carboxylic acid group (-CO 2 H) (5) sulfonic acid group (-SO 3 H) (6) phosphoric acid group (-OPO 3 H 2)

【0040】上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有
していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置
換基を有していてもよい炭化水素基を表す。
In the above (1) to (6), Ar represents a divalent aryl linking group which may have a substituent, and R represents a hydrocarbon group which may have a substituent. .

【0041】上記(1)のフェノール基を有するモノマ
ーとしては、フェノール基を有するアクリルアミド、メ
タクリルアミド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エ
ステル、又はヒドロキシスチレン等が挙げられる。
Examples of the monomer having a phenol group (1) include acrylamide having a phenol group, methacrylamide, acrylic acid ester, methacrylic acid ester, and hydroxystyrene.

【0042】上記(2)スルホンアミド基を有するモノ
マーとしては、上記構造のスルホンアミド基と重合可能
な不飽和基とを分子内にそれぞれ1個以上有する化合物
が挙げられる。中でも、アクリロイル基、アリル基、又
はビニロキシ基と、スルホンアミド基とを分子内に有す
る低分子化合物が好ましい。例えば、下記一般式(i)
〜(v)で表される化合物が挙げられる。
Examples of the monomer (2) having a sulfonamide group include compounds having at least one sulfonamide group having the above structure and at least one polymerizable unsaturated group in the molecule. Among them, a low molecular weight compound having an acryloyl group, an allyl group or a vinyloxy group and a sulfonamide group in the molecule is preferable. For example, the following general formula (i)
Compounds represented by (v) to (v) are mentioned.

【0043】[0043]

【化8】 [Chemical 8]

【0044】上記一般式(i)〜(v)中、X1及びX2
は、各々独立に、−O−又は−NR 7−を表す。R1及び
4は、各々独立に、水素原子又は−CH3を表す。
2、R5、R9、R12、及び、R16は、各々独立に、置
換基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン
基、シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレ
ン基を表す。R3、R7、及び、R13は、各々独立に、水
素原子、置換基を有していてもよい炭素数1〜12のア
ルキル基、シクロアルキル基、アリール基又はアラルキ
ル基を表す。また、R6及びR17は、各々独立に、置換
基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シ
クロアルキル基、アリール基、アラルキル基を表す。R
8、R10及びR14は、各々独立に、水素原子又は−CH3
を表す。R11及びR15は、各々独立に、単結合又は置換
基を有していてもよい炭素数1〜12のアルキレン基、
シクロアルキレン基、アリーレン基又はアラルキレン基
を表す。Y1及びY2は、それぞれ独立に単結合、又は−
CO−を表す。
In the above general formulas (i) to (v), X1And X2
Are each independently -O- or -NR 7Represents-. R1as well as
RFourAre each independently a hydrogen atom or -CH3Represents
R2, RFive, R9, R12, And R16Are independent of each other.
Alkylene having 1 to 12 carbon atoms which may have a substituent
Group, cycloalkylene group, arylene group or aralkyl group
Represents a group. R3, R7, And R13Each independently, water
Elementary atoms and C 1-12 carbon atoms which may have a substituent
Alkyl group, cycloalkyl group, aryl group or aralkyl group
Represents a radical. Also, R6And R17Are each independently replaced
An alkyl group having 1 to 12 carbon atoms which may have a group,
It represents a chloroalkyl group, an aryl group, or an aralkyl group. R
8, RTenAnd R14Are each independently a hydrogen atom or -CH3
Represents R11And R15Are each independently a single bond or a substitution.
An alkylene group having 1 to 12 carbon atoms which may have a group,
Cycloalkylene group, arylene group or aralkylene group
Represents Y1And Y2Are each independently a single bond, or-
Represents CO-.

【0045】一般式(i)〜(v)で表される化合物の
うち、本発明の画像記録材料では、特に、m−アミノス
ルホニルフェニルメタクリレート、N−(p−アミノス
ルホニルフェニル)メタクリルアミド、N−(p−アミ
ノスルホニルフェニル)アクリルアミド等を好適に使用
することができる。
Among the compounds represented by the general formulas (i) to (v), in the image recording material of the present invention, particularly m-aminosulfonylphenyl methacrylate, N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide, N- -(P-Aminosulfonylphenyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0046】上記(3)活性イミド基を有するモノマー
としては、前記構造式で表される活性イミド基と重合可
能な不飽和基とを分子内にそれぞれ1個以上有する化合
物を挙げることができる。中でも、下記構造式で表され
る活性イミド基と重合可能な不飽和基とを分子内にそれ
ぞれ1個以上有する化合物が好ましい。
Examples of the above-mentioned (3) monomer having an active imide group include compounds having at least one active imide group represented by the above structural formula and at least one polymerizable unsaturated group in the molecule. Among these, compounds having one or more active imide groups represented by the following structural formulas and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule are preferable.

【0047】[0047]

【化9】 [Chemical 9]

【0048】具体的には、N−(p−トルエンスルホニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニ
ル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。
Specifically, N- (p-toluenesulfonyl) methacrylamide, N- (p-toluenesulfonyl) acrylamide and the like can be preferably used.

【0049】上記(4)カルボン酸基を有するモノマー
としては、例えば、カルボン酸基と重合可能な不飽和基
とを分子内にそれぞれ1個以上有する化合物を挙げるこ
とができる。上記(5)スルホン酸基を有するモノマー
としては、例えば、スルホン酸基と重合可能な不飽和基
とを分子内にそれぞれ1個以上有する化合物を挙げるこ
とができる。上記(6)リン酸基を有するモノマーとし
ては、例えば、リン酸基と重合可能な不飽和基とを分子
内にそれぞれ1個以上有する化合物を挙げることができ
る。
Examples of the above-mentioned (4) carboxylic acid group-containing monomer include compounds having one or more carboxylic acid groups and one or more polymerizable unsaturated groups in the molecule. Examples of the above-mentioned (5) monomer having a sulfonic acid group include compounds having at least one sulfonic acid group and at least one polymerizable unsaturated group in the molecule. Examples of the above-mentioned (6) monomer having a phosphoric acid group include compounds having at least one phosphoric acid group and at least one polymerizable unsaturated group in the molecule.

【0050】上記のpKa12以下の酸基を有するモノ
マーの中でも、(1)フェノール基、(2)スルホンア
ミド基、(3)活性イミド基又は(4)カルボン酸を有
するモノマーが好ましく、特に、(1)フェノール基、
(2)スルホンアミド基又は(4)カルボン酸を有する
モノマーが、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラ
チチュード、膜強度を十分に確保する点から最も好まし
い。
Among the above-mentioned monomers having an acid group having a pKa of 12 or less, a monomer having (1) a phenol group, (2) a sulfonamide group, (3) an active imide group or (4) a carboxylic acid is preferable, and particularly ( 1) phenolic group,
The monomer having (2) sulfonamide group or (4) carboxylic acid is most preferable from the viewpoint of ensuring sufficient solubility in an alkaline developing solution, developing latitude and film strength.

【0051】また、長鎖アルキル基含有モノマーと酸基
含有モノマーとの共重合成分として、他のモノマーを用
いることもできる。このような長鎖アルキル基含有モノ
マー及び酸基含有モノマー以外のモノマーは共重合体成
分中に30モル%以下であることが好ましく、20モル
%以下であることが本発明の効果の観点からより好まし
い。
Other monomers may be used as a copolymerization component of the long-chain alkyl group-containing monomer and the acid group-containing monomer. Monomers other than such long-chain alkyl group-containing monomers and acid group-containing monomers are preferably contained in the copolymer component in an amount of 30 mol% or less, more preferably 20 mol% or less from the viewpoint of the effect of the present invention. preferable.

【0052】長鎖アルキル基含有モノマーと酸基含有モ
ノマー以外のモノマーとしては、下記(7)〜(17)
に挙げる化合物を例示することができる。
The monomers other than the long-chain alkyl group-containing monomer and the acid group-containing monomer include the following (7) to (17)
The compounds listed in can be exemplified.

【0053】(7)2−ヒドロキシエチルアクリレート
又は2−ヒドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水
酸基を有するアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸
エステル類。 (8)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリル
酸プロピル、アクリル酸アミル、アクリル酸ベンジル、
アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジルアクリレー
ト、N−ジメチルアミノエチルアクリレート、ポリエチ
レングリコールモノアクリレート、ポリプロピレングリ
コールモノアルキレート等のアクリレート。 (9)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メタ
クリル酸プロピル、メタクリル酸アミル、メタクリル酸
シクロヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸
−2−クロロエチル、グリシジルメタクリレート、N−
ジメチルアミノエチルメタクリレート、ポリエチレング
リコールモノメタクリレート、ポリプロピレングリコー
ルモノメタクリレート等のメタクリレート。
(7) Acrylic acid esters and methacrylic acid esters having an aliphatic hydroxyl group such as 2-hydroxyethyl acrylate or 2-hydroxyethyl methacrylate. (8) Methyl acrylate, ethyl acrylate, propyl acrylate, amyl acrylate, benzyl acrylate,
Acrylate such as 2-chloroethyl acrylate, glycidyl acrylate, N-dimethylaminoethyl acrylate, polyethylene glycol monoacrylate and polypropylene glycol monoalkylate. (9) Methyl methacrylate, ethyl methacrylate, propyl methacrylate, amyl methacrylate, cyclohexyl methacrylate, benzyl methacrylate, 2-chloroethyl methacrylate, glycidyl methacrylate, N-
Methacrylates such as dimethylaminoethyl methacrylate, polyethylene glycol monomethacrylate and polypropylene glycol monomethacrylate.

【0054】(10)アクリルアミド、メタクリルアミ
ド、N−メチロールアクリルアミド、N−エチルアクリ
ルアミド、N−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロ
ヘキシルアクリルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリ
ルアミド、N−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフ
ェニルアクリルアミド、N−エチル−N−フェニルアク
リルアミド等のアクリルアミドもしくはメタクリルアミ
ド。 (11)エチルビニルエーテル、2−クロロエチルビニ
ルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエーテル、プロピ
ルビニルエーテル、ブチルビニルエーテル、フェニルビ
ニルエーテル等のビニルエーテル類。 (12)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。
(10) Acrylamide, methacrylamide, N-methylolacrylamide, N-ethylacrylamide, N-hexylmethacrylamide, N-cyclohexylacrylamide, N-hydroxyethylacrylamide, N-phenylacrylamide, N-nitrophenylacrylamide, N -Acrylamide or methacrylamide such as ethyl-N-phenylacrylamide. (11) Vinyl ethers such as ethyl vinyl ether, 2-chloroethyl vinyl ether, hydroxyethyl vinyl ether, propyl vinyl ether, butyl vinyl ether and phenyl vinyl ether. (12) Vinyl acetate, vinyl chloroacetate,
Vinyl esters such as vinyl butyrate and vinyl benzoate.

【0055】(13)スチレン、α−メチルスチレン、
メチルスチレン、クロロメチルスチレン等のスチレン
類。 (14)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (15)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。
(13) Styrene, α-methylstyrene,
Styrenes such as methylstyrene and chloromethylstyrene. (14) Vinyl ketones such as methyl vinyl ketone, ethyl vinyl ketone, propyl vinyl ketone, and phenyl vinyl ketone. (15) Olefins such as ethylene, propylene, isobutylene, butadiene and isoprene.

【0056】(16)N−ビニルピロリドン、N−ビニ
ルカルバゾール、4−ビニルピリジン、アクリロニトリ
ル、メタクリロニトリル等。 (17)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。
(16) N-vinylpyrrolidone, N-vinylcarbazole, 4-vinylpyridine, acrylonitrile, methacrylonitrile and the like. (17) Unsaturated imides such as maleimide, N-acryloylacrylamide, N-acetylmethacrylamide, N-propionylmethacrylamide, and N- (p-chlorobenzoyl) methacrylamide.

【0057】上記モノマーの共重合方法としては、従来
知られている、グラフト共重合法、ブロック共重合法、
ランダム共重合法等を用いることができる。また、長鎖
アルキル基含有モノマーの共重合成分は、2種類以上混
合して用いることもできる。
As the copolymerization method of the above-mentioned monomers, there are conventionally known graft copolymerization method, block copolymerization method,
A random copolymerization method or the like can be used. Further, two or more kinds of copolymerization components of the long chain alkyl group-containing monomer can be mixed and used.

【0058】上記動摩擦係数を0.38〜0.60に低
下させるポリマーの具体例としては以下のものが挙げら
れるが、これらに限定されるものではない。
Specific examples of the polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60 include the following, but is not limited to these.

【0059】[0059]

【化10】 [Chemical 10]

【0060】[0060]

【化11】 [Chemical 11]

【0061】[0061]

【化12】 [Chemical 12]

【0062】[0062]

【化13】 [Chemical 13]

【0063】[0063]

【化14】 [Chemical 14]

【0064】[0064]

【化15】 [Chemical 15]

【0065】本発明に用いる動摩擦係数を0.38〜
0.60に低下させるポリマーとしては、重量平均分子
量が2,000以上、数平均分子量が1,000以上の
ものが好ましく用いられる。さらに好ましくは、ポリス
チレン換算で重量平均分子量が5,000 〜5,00
0,000で、特に好ましくは5,000〜2,00
0,000、更に好ましくは10,000〜1,00
0,000である。このようなポリマーは、1種類を用
いてもよく、2種類以上を組み合わせて使用してもよ
い。
The dynamic friction coefficient used in the present invention is 0.38 to
A polymer having a weight average molecular weight of 2,000 or more and a number average molecular weight of 1,000 or more is preferably used as the polymer to be reduced to 0.60. More preferably, the weight average molecular weight in terms of polystyrene is 5,000 to 5,000.
10,000, particularly preferably 5,000 to 2,000
10,000, more preferably 10,000 to 1,000
It is 10,000. Such polymers may be used alone or in combination of two or more.

【0066】動摩擦係数を0.38〜0.60に低下さ
せるポリマー中の残留モノマー量は、本発明の画像記録
材料を平版印刷版原版に適用した場合、該平版印刷版原
版を積層する際に保護紙(合紙)、基板裏面への転写や
平版印刷版原版製造時のローラーへの転写等の問題か
ら、10質量%以下であることが好ましく、5質量%以
下であることがより好ましい。
When the image recording material of the present invention is applied to a lithographic printing plate precursor, when the image recording material of the present invention is applied to the lithographic printing plate precursor, the amount of residual monomer in the polymer for decreasing the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60 is determined. It is preferably 10% by mass or less, and more preferably 5% by mass or less, in view of problems such as transfer to a protective paper (interleaving paper), a back surface of a substrate, and transfer to a roller during production of a lithographic printing plate precursor.

【0067】動摩擦係数を0.38〜0.60に低下さ
せるポリマーの使用量は、画像記録材料が用いられる記
録層全成分に対して、1〜20質量%が好ましく、好ま
しくは2〜10質量%がより好ましい。この範囲内で、
製造や搬送時に滑り物質の転写問題や画像形成性に対す
る問題がなく、良好な耐傷性を得ることができる。
The amount of the polymer used to reduce the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60 is preferably 1 to 20% by mass, and more preferably 2 to 10% by mass, based on all the components of the recording layer in which the image recording material is used. % Is more preferable. Within this range,
Good scratch resistance can be obtained without problems of transfer of slipping substances or problems with image formation during manufacturing or transportation.

【0068】本発明における記録層塗布液中には塗布面
質の向上のために界面活性剤、例えば、特開昭62-1
70950号公報、特開2002−72474号公報に
記載されているようなフッ素系界面活性剤を添加するこ
とができる。好ましい添加量は、記録層固形分の0.0
01〜1.0質量%であり、更に好ましくは0.005
〜0.5質量%である。このようなフッ素系界面活性剤
を、動摩擦係数を0.38〜0.60に低下させるポリ
マーと併用してフッ素系界面活性剤を用いる場合は、動
摩擦係数を0.38〜0.60に低下させるポリマーの
使用量は、画像記録材料が用いられる記録層全成分に対
して、5〜30質量%が好ましく、5〜15質量%がよ
り好ましい。
In the coating liquid for the recording layer of the present invention, a surfactant such as, for example, JP-A-62-1 is used for improving the surface quality of the coating.
Fluorine-based surfactants such as those described in JP-A-70950 and JP-A-2002-72474 can be added. The preferable addition amount is 0.0 of the solid content of the recording layer.
01 to 1.0 mass%, more preferably 0.005
Is 0.5% by mass. When such a fluorosurfactant is used in combination with a polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60, the dynamic friction coefficient is reduced to 0.38 to 0.60. The amount of the polymer used is preferably 5 to 30% by mass, and more preferably 5 to 15% by mass, based on the total components of the recording layer in which the image recording material is used.

【0069】動摩擦係数を0.38〜0.60に低下さ
せるポリマーは画像形成材料中で相溶していても、相分
離していても良い。動摩擦係数を0.38〜0.60に
低下させるポリマーを含む画像形成材料の最表面は、平
滑であっても、凹凸を有していても良い。動摩擦係数を
0.38〜0.60に低下させるポリマーを含む画像形
成材料表面の空中水滴接触角は60度から140度の範
囲であることが好ましい。動摩擦係数を0.38〜0.
60に低下させるポリマーは画像形成材料中で結晶化し
ない方が好ましい。
The polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60 may be compatible or phase-separated in the image forming material. The outermost surface of the image forming material containing a polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60 may be smooth or may have irregularities. The contact angle of water droplets in the air on the surface of the image forming material containing a polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60 is preferably in the range of 60 degrees to 140 degrees. The dynamic friction coefficient is 0.38 to 0.
Polymers reduced to 60 preferably do not crystallize in the imaging element.

【0070】本発明の動摩擦係数を0.38〜0.60
に低下させるポリマーとして、より好ましくは、下記一
般式(1)で表される構造単位を有するポリマーが挙げ
られる。
The dynamic friction coefficient of the present invention is 0.38 to 0.60.
More preferably, the polymer having a structural unit represented by the following general formula (1) can be used as the polymer having the above structure.

【0071】[0071]

【化16】 [Chemical 16]

【0072】nは4以上の整数を表し、mは0.6≦m
≦20を表す。XはpKaが12以下のアルカリ可溶性
基を有する骨格を表し、Rはアルキル基又は水素原子を
表す。上記一般式(1)におけるnは、耐キズ性改良効
果、溶解性への影響等の観点から8≦n≦30がより好
ましく、12≦n≦20が特に好ましい。上記一般式
(1)におけるmは、滑り性の観点から0.6≦m≦1
0がより好ましい。
N is an integer of 4 or more, and m is 0.6 ≦ m.
Represents ≦ 20. X represents a skeleton having an alkali-soluble group having a pKa of 12 or less, and R represents an alkyl group or a hydrogen atom. In the general formula (1), n is more preferably 8 ≦ n ≦ 30, and particularly preferably 12 ≦ n ≦ 20, from the viewpoints of the effect of improving scratch resistance and the effect on solubility. M in the general formula (1) is 0.6 ≦ m ≦ 1 from the viewpoint of slipperiness.
0 is more preferable.

【0073】一般式(1)中の長鎖アルキル含有モノマ
ー成分を形成できる長鎖アルキル基含有モノマーの好適
なものとして、下記モノマーを挙げることができる。
Suitable examples of the long chain alkyl group-containing monomer capable of forming the long chain alkyl group-containing monomer component in the general formula (1) include the following monomers.

【0074】[0074]

【化17】 [Chemical 17]

【0075】上記一般式(1)におけるXはpKaが1
2以下のアルカリ可溶性基を有するモノマー成分を表
す。Xを形成できるモノマーの具体例としては、前記p
Ka12以下の酸基を有するモノマー(1)〜(6)の
酸性基を有するモノマーが、アルカリ性現像液に対する
溶解性、感度の点で好ましい。中でも、前記の(1)フ
ェノール基、(2)スルホンアミド基及び(3)活性イ
ミド基(4)カルボン酸を有するモノマーが好ましく、
特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンアミド基
又は(4)カルボン酸を有するモノマーが、アルカリ性
現像液に対する溶解性、現像ラチチュード、膜強度を十
分に確保する点から好ましい。
X in the general formula (1) has a pKa of 1
It represents a monomer component having 2 or less alkali-soluble groups. Specific examples of the monomer capable of forming X include p described above.
Monomers (1) to (6) having an acid group having a Ka of 12 or less are preferable in terms of solubility and sensitivity in an alkaline developer. Among them, the monomer having the above-mentioned (1) phenol group, (2) sulfonamide group and (3) active imide group (4) carboxylic acid is preferable,
In particular, a monomer having (1) a phenol group, (2) a sulfonamide group or (4) a carboxylic acid is preferable from the viewpoint of ensuring sufficient solubility in an alkaline developing solution, developing latitude and film strength.

【0076】また、一般式(1)で表される構造単位を
有するポリマーの共重合成分として、前述の(7)〜
(17)に挙げた共重合モノマーを共重合体成分中30
モル%以下で用いることもでき、20%以下であること
が本発明の効果の観点からより好ましい。
Further, as the copolymerization component of the polymer having the structural unit represented by the general formula (1), the above-mentioned (7)-
The copolymerizable monomer listed in (17) is used in the copolymer component 30
It can be used in an amount of not more than mol%, and is preferably not more than 20% from the viewpoint of the effect of the present invention.

【0077】一般式(1)で表されるポリマーの具体例
としては、動摩擦係数を0.38〜0.60に低下させ
るポリマーの前記具体例のうち段落番号[0059]〜
段落番号[0061]に記載のポリマー及び下記のもの
が挙げられるが、これらに限定されるものではない。
Specific examples of the polymer represented by the general formula (1) include, among the specific examples of the polymer whose dynamic friction coefficient is reduced to 0.38 to 0.60, paragraphs [0059] to
Examples include, but are not limited to, the polymers described in paragraph [0061].

【0078】[0078]

【化18】 [Chemical 18]

【0079】[0079]

【化19】 [Chemical 19]

【0080】一般式(1)で表されるポリマーの重量平
均分子量、ポリマー中の残留モノマー量、記録層におけ
る添加量は、前記の動摩擦係数を0.38〜0.60に
低下させるポリマーの場合と同様であることが好まし
い。画像形成材料中で相溶性、結晶化、最表面の平滑性
への影響、表面の空中水滴接触角についても、前記の動
摩擦係数を0.38〜0.60に低下させるポリマーの
場合と同様であることが好ましい。
The weight average molecular weight of the polymer represented by the general formula (1), the amount of residual monomer in the polymer, and the amount added in the recording layer are in the case of a polymer which reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60. It is preferably the same as The compatibility, crystallization, the influence on the smoothness of the outermost surface, and the contact angle of water drops in the air in the image forming material are the same as those in the case of the polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60. Preferably there is.

【0081】(赤外線吸収剤)本発明に用いられる赤外
線吸収剤としては、赤外線を吸収し、熱を発生する物質
であれば特に吸収波長域の制限はなく用いることができ
るが、入手容易な高出力レーザへの適合性の観点から、
波長700nm〜1200nmに吸収極大を有する赤外
線吸収性染料又は顔料が好ましいものとして挙げられ
る。
(Infrared Absorbing Agent) As the infrared absorbing agent used in the present invention, any substance which absorbs infrared rays and generates heat can be used without particular limitation of absorption wavelength range, but it is easily available. From the viewpoint of compatibility with output lasers,
An infrared absorbing dye or pigment having an absorption maximum at a wavelength of 700 nm to 1200 nm is preferred.

【0082】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、ナフタロシアニン染料、カルボニウム染
料、キノンイミン染料、メチン染料、シアニン染料、ス
クアリリウム色素、(チオ)ピリリウム塩、金属チオレ
ート錯体、インドアニリン金属錯体系染料、オキソノー
ル染料、ジイモニウム染料、アミニウム染料、クロコニ
ウム染料、分子間CT色素等の染料が挙げられる。
As the dye, commercially available dyes and known dyes described in documents such as "Dye Handbook" (edited by the Society of Organic Synthetic Chemistry, published in 1970) can be used. Specifically, azo dyes, metal complex salt azo dyes, pyrazolone azo dyes, naphthoquinone dyes, anthraquinone dyes, phthalocyanine dyes, naphthalocyanine dyes, carbonium dyes, quinone imine dyes, methine dyes, cyanine dyes, squarylium dyes, (thio) pyrylium salts , Metal thiolate complex, indoaniline metal complex dye, oxonol dye, diimonium dye, aminium dye, croconium dye, intermolecular CT dye and the like.

【0083】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭60−78787号各公報等に記載されているシアニ
ン染料、特開昭58−173696号、特開昭58−1
81690号、特開昭58−194595号各公報等に
記載されているメチン染料、特開昭58−112793
号、特開昭58−224793号、特開昭59−481
87号、特開昭59−73996号、特開昭60−52
940号、特開昭60−63744号各公報等に記載さ
れているナフトキノン染料、特開昭58−112792
号公報等に記載されているスクアリリウム色素、英国特
許434,875号明細書記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。
Preferred dyes include, for example, JP-A-5
Cyanine dyes described in JP-A No. 8-125246, JP-A-59-84356, JP-A-60-78787, JP-A-58-173696 and JP-A-58-1.
81690, methine dyes described in JP-A-58-194595, JP-A-58-112793.
JP-A-58-224793, JP-A-59-481
87, JP-A-59-73996, JP-A-60-52.
940, naphthoquinone dyes described in JP-A-60-63744 and the like, JP-A-58-112792.
Examples thereof include squarylium dyes described in Japanese Patent Publication No. JP-A No. 1993-242, and cyanine dyes described in British Patent No. 434,875.

【0084】また、米国特許第5,156,938号明
細書記載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、
米国特許第3,881,924号明細書記載の置換され
たアリールベンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−
142645号公報(米国特許第4,327,169
号)記載のトリメチンチアピリリウム塩、特開昭58−
181051号、同58−220143号、同59−4
1363号、同59−84248号、同59−8424
9号、同59−146063号、同59−146061
号各公報に記載されているピリリウム系化合物、特開昭
59−216146号公報記載のシアニン色素、米国特
許第4,283,475号明細書に記載のペンタメチン
チオピリリウム塩等や特公平5−13514号、同5−
19702号各公報に開示されているピリリウム化合物
も好ましく用いられる。
The near-infrared absorption sensitizer described in US Pat. No. 5,156,938 is also preferably used, and
Substituted arylbenzo (thio) pyrylium salts described in U.S. Pat. No. 3,881,924, JP-A-57-
142645 (US Pat. No. 4,327,169
Trimethine thiapyrylium salt, JP-A-58-
No. 181051, No. 58-220143, No. 59-4
1363, 59-84248, 59-8424
No. 9, No. 59-146063, No. 59-146061.
Pyrylium compounds described in JP-A No. 59-216146, cyanine dyes described in JP-A-59-216146, pentamethine thiopyrylium salts described in U.S. Pat. No. 4,283,475, and JP-B-5. -13514, 5
The pyrylium compound disclosed in each of the 19702 publications is also preferably used.

【0085】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げる
ことができる。
Another preferred example of the dye is represented by the formula (I) in US Pat. No. 4,756,993:
The near infrared absorbing dye described as (II) can be mentioned.

【0086】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。
Among these dyes, particularly preferred are cyanine dyes, phthalocyanine dyes, oxonol dyes, squarylium dyes, pyrylium salts, thiopyrylium dyes, and nickel thiolate complexes.

【0087】さらに、下記一般式(a)〜(f−2)で
示される染料が光熱変換効率に優れるため好ましく、特
に下記一般式(a)で示されるシアニン色素は、本発明
の感光性組成物で使用した場合に、アルカリ溶解性樹脂
との高い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れ
るため最も好ましい。
Further, the dyes represented by the following general formulas (a) to (f-2) are preferable because they have excellent photothermal conversion efficiency, and the cyanine dye represented by the following general formula (a) is particularly preferable as the photosensitive composition of the present invention. It is most preferable because it gives a high interaction with an alkali-soluble resin, and is excellent in stability and economy when used as a product.

【0088】[0088]

【化20】 [Chemical 20]

【0089】一般式(a)中、R1及びR2は各々独立
に、置換基を有していてもよい炭素数20以下の炭化水
素基を表す。置換基としては、アルコキシ基、アリール
基、アミド基、アルコキシカルボニル基、水酸基、スル
ホ基、カルボキシル基等が挙げられる。Y1及びY2は各
々独立に、酸素、硫黄、セレン、ジアルキルメチレン基
又は−CH=CH−を表す。Ar1及びAr2は各々独立
に芳香族炭化水素基を表し、アルキル基、アルコキシ
基、ハロゲン原子、アルコキシカルボニル基より選択さ
れる置換基を有しても良く、Y1又はY2と隣接した連続
2炭素原子で芳香環を縮環しても良い。
In the general formula (a), R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms which may have a substituent. Examples of the substituent include an alkoxy group, an aryl group, an amide group, an alkoxycarbonyl group, a hydroxyl group, a sulfo group and a carboxyl group. Y 1 and Y 2 each independently represent oxygen, sulfur, selenium, a dialkylmethylene group or —CH═CH—. Ar 1 and Ar 2 each independently represent an aromatic hydrocarbon group, which may have a substituent selected from an alkyl group, an alkoxy group, a halogen atom and an alkoxycarbonyl group, and are adjacent to Y 1 or Y 2 . The aromatic ring may be condensed with two consecutive carbon atoms.

【0090】Xは電荷の中和に必要なカウンターイオン
を表し、色素カチオン部がアニオン性の置換基を有する
場合は必ずしも必要ではない。Qはトリメチン基、ペン
タメチン基、ヘプタメチン基、ノナメチン基又はウンデ
カメチン基より選択されるポリメチン基を表し、露光に
用いる赤外線に対する波長適性と安定性の点からペンタ
メチン基、ヘプタメチン基又はノナメチン基が好まし
く、いずれかの炭素上に連続した3つのメチン鎖を含む
シクロヘキセン環又はシクロペンテン環を有することが
安定性の点で好ましい。
X represents a counter ion necessary for neutralizing the charge, and is not always necessary when the dye cation portion has an anionic substituent. Q represents a polymethine group selected from a trimethine group, a pentamethine group, a heptamethine group, a nonamethine group, or an undecamethine group, and is preferably a pentamethine group, a heptamethine group, or a nonamethine group from the viewpoint of wavelength suitability to infrared rays used for exposure. It is preferable in terms of stability to have a cyclohexene ring or a cyclopentene ring containing three consecutive methine chains on the carbon.

【0091】Qは、アルコキシ基、アリールオキシ基、
アルキルチオ基、アリールチオ基、ジアルキルアミノ
基、ジアリールアミノ基、ハロゲン原子、アルキル基、
アラルキル基、シクロアルキル基、アリール基、オキシ
基、イミニウム塩基、下記一般式(Q1)で表される置
換基より選択される基で置換されていても良く、好まし
い置換基としては塩素原子等のハロゲン原子、ジフェニ
ルアミノ基等のジアリールアミノ基、フェニルチオ基等
のアリールチオ基が挙げられる。
Q is an alkoxy group, an aryloxy group,
Alkylthio group, arylthio group, dialkylamino group, diarylamino group, halogen atom, alkyl group,
It may be substituted with a group selected from an aralkyl group, a cycloalkyl group, an aryl group, an oxy group, an iminium base and a substituent represented by the following general formula (Q1), and a preferable substituent is a chlorine atom or the like. Examples thereof include a halogen atom, a diarylamino group such as a diphenylamino group, and an arylthio group such as a phenylthio group.

【0092】[0092]

【化21】 [Chemical 21]

【0093】式中、R3及びR4はそれぞれ独立に水素原
子又は炭素数1〜8のアルキル基、又は炭素数6〜10
のアリール基を表し、Y3は酸素原子又は硫黄原子を表
す。
In the formula, R 3 and R 4 are each independently a hydrogen atom or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, or 6 to 10 carbon atoms.
Represents an aryl group, and Y 3 represents an oxygen atom or a sulfur atom.

【0094】一般式(a)で示されるシアニン色素のう
ち、波長800〜840 nmの赤外線で露光する場合は、特
に好ましいものとしては下記一般式(a−1)〜(a−
4)で示されるヘプタメチンシアニン色素を挙げること
ができる。
Among the cyanine dyes represented by the general formula (a), when exposed to infrared rays having a wavelength of 800 to 840 nm, particularly preferable ones are the following general formulas (a-1) to (a-
The heptamethine cyanine dye represented by 4) can be mentioned.

【0095】[0095]

【化22】 [Chemical formula 22]

【0096】一般式(a−1)中、X1は、水素原子又
はハロゲン原子を表す。R1及びR2は、それぞれ独立
に、炭素原子数1〜12の炭化水素基を示す。記録層塗
布液の保存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個
以上の炭化水素基であることが好ましく、さらに、R1
とR2とは互いに結合し、5員環又は6員環を形成して
いることが特に好ましい。
In formula (a-1), X 1 represents a hydrogen atom or a halogen atom. R 1 and R 2 each independently represent a hydrocarbon group having 1 to 12 carbon atoms. The storage stability of the recording layer coating liquid, R 1 and R 2 are preferably a hydrocarbon group having two or more carbon atoms, further, R 1
And R 2 are particularly preferably bonded to each other to form a 5-membered ring or a 6-membered ring.

【0097】Ar1及びAr2は、それぞれ同じでも異な
っていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化
水素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベ
ンゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好まし
い置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素
基、ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基が挙げられる。Y1及びY2は、それぞれ同じでも異な
っていても良く、硫黄原子又は炭素原子数12個以下の
ジアルキルメチレン基を示す。R3及びR4は、それぞれ
同じでも異なっていても良く、置換基を有していても良
い炭素原子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい
置換基としては、炭素原子数12個以下のアルコキシ
基、カルボキシル基、スルホ基が挙げられる。R5
6、R7及びR8は、それぞれ同じでも異なっていても
良く、水素原子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基
を示す。原料の入手性から、好ましくは水素原子であ
る。また、Za-は、電荷の中和に必要な対アニオンを
示し、R1〜R8のいずれかがアニオン性置換基で置換さ
れている場合は、Za-は必要ない。好ましいZa-は、
記録層塗布液の保存安定性から、ハロゲンイオン、過塩
素酸イオン、テトラフルオロボレートイオン、ヘキサフ
ルオロホスフェートイオン、及びスルホン酸イオンであ
り、特に好ましくは、過塩素酸イオン、テトラフルオロ
ボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオン、
及びスルホン酸イオンである。上記一般式(a−1)で
示されるヘプタメチン色素は、ポジ型の画像記録材料に
好適に用いることができ、特にフェノール性水酸基を有
するアルカリ可溶性樹脂と組み合わせたいわゆる相互作
用解除型のポジ画像記録材料に好ましく用いられる。
Ar 1 and Ar 2, which may be the same or different, each represents an aromatic hydrocarbon group which may have a substituent. Preferred aromatic hydrocarbon groups include a benzene ring and a naphthalene ring. Examples of preferable substituents include a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, a halogen atom, and an alkoxy group having 12 or less carbon atoms. Y 1 and Y 2 may be the same or different and each represents a sulfur atom or a dialkylmethylene group having 12 or less carbon atoms. R 3 and R 4, which may be the same or different, each represents a hydrocarbon group having 20 or less carbon atoms, which may have a substituent. Preferred substituents include an alkoxy group having 12 or less carbon atoms, a carboxyl group and a sulfo group. R 5 ,
R 6 , R 7 and R 8 may be the same or different and each represents a hydrogen atom or a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. From the availability of raw materials, hydrogen atom is preferable. Za represents a counter anion necessary for neutralizing the charge, and when any of R 1 to R 8 is substituted with an anionic substituent, Za is not necessary. Preferred Za is
From the storage stability of the recording layer coating liquid, halogen ion, perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexafluorophosphate ion, and sulfonate ion, particularly preferably perchlorate ion, tetrafluoroborate ion, hexa Fluorophosphate ion,
And sulfonate ion. The heptamethine dye represented by the above general formula (a-1) can be suitably used for a positive image recording material, and is a so-called interaction-release type positive image recording in combination with an alkali-soluble resin having a phenolic hydroxyl group. It is preferably used as a material.

【0098】[0098]

【化23】 [Chemical formula 23]

【0099】一般式(a−2)中、Rl及びR2はそれぞ
れ独立に、水素原子又は炭素原子数1〜12の炭化水素
基を示し、RlとR2とは互いに結合し環構造を形成して
いても良く、形成する環としては5員環又は6員環が好
ましく、5員環が特に好ましい。Arl及びAr2は、そ
れぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を有してい
ても良い芳香族炭化水素基を示す。好ましい芳香族炭化
水素基としては、ベンゼン環及びナフタレン環が挙げら
れる。また、該芳香族炭化水素基上の好ましい置換基と
しては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、ハロゲン
原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、アルコキ
シカルボニル基、アルキルスルホニル基、ハロゲン化ア
ルキル基等が挙げられ、電子吸引性の置換基が特に好ま
しい。Y l及びY2は、それぞれ同じでも異なっていても
良く、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアルキル
メチレン基を示す。R3及びR4は、それぞれ同じでも異
なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原子
数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基とし
ては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボキ
シル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及びR8
は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原子又
は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料の入
手性から、好ましくは水素原子である。R9及びR
10は、それぞれ同じでも異なっていても良く、置換基を
有していても良い炭素原子数6〜10の芳香族炭化水素
基、炭素原子数1〜8のアルキル基、水素原子又はR9
とR10とが互いに結合し下記構造の環を形成しても良
い。
In the general formula (a-2), RlAnd R2Is that
Independently, a hydrogen atom or a hydrocarbon having 1 to 12 carbon atoms
Group, RlAnd R2And are bonded to each other to form a ring structure
A 5-membered ring or 6-membered ring is preferable as the ring to be formed.
A 5-membered ring is particularly preferable. ArlAnd Ar2Is that
Each of which may be the same or different and has a substituent
It also represents an aromatic hydrocarbon group. Preferred aromatic carbonization
Examples of the hydrogen group include a benzene ring and a naphthalene ring.
Be done. In addition, preferred substituents on the aromatic hydrocarbon group
Is a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms, halogen
Atoms, alkoxy groups with 12 or less carbon atoms, alkoxy
Cycarbonyl group, alkylsulfonyl group, halogenated
Examples thereof include an alkyl group, and an electron-withdrawing substituent is particularly preferable.
Good Y lAnd Y2Are the same or different
Well, dialkyls with 12 or less sulfur atoms or carbon atoms
Indicates a methylene group. R3And RFourAre the same or different
A carbon atom which may be substituted or may have a substituent
The number of hydrocarbon groups is 20 or less. As a preferred substituent
Is an alkoxy group having 12 or less carbon atoms,
Examples thereof include a sil group and a sulfo group. RFive, R6, R7And R8
May be the same or different, and may be a hydrogen atom or
Represents a hydrocarbon group having 12 or less carbon atoms. Input of raw materials
From the viewpoint of hand property, it is preferably a hydrogen atom. R9And R
TenMay be the same or different, and
Aromatic hydrocarbon having 6 to 10 carbon atoms which may be contained
Group, alkyl group having 1 to 8 carbon atoms, hydrogen atom or R9
And RTenAnd may combine with each other to form a ring having the structure below.
Yes.

【0100】[0100]

【化24】 [Chemical formula 24]

【0101】R9及びR10は上記のうち、フェニル基等
の芳香族炭化水素基が最も好ましい。また、X-は、電
荷の中和に必要な対アニオンを上記一般式(a−1)の
Za-と同様の定義である。上記一般式(a−2)で示
されるヘプタメチン色素は、オニウム塩等の酸及び/又
はラジカル発生剤を併用した画像記録材料に好適に用い
ることができ、特にスルホニウム塩やヨードニウム塩等
のラジカル発生剤を併用したネガ型画像記録材料に好ま
しく用いられる。
Of the above, R 9 and R 10 are most preferably an aromatic hydrocarbon group such as a phenyl group. Further, X is the same definition as Za − in the above general formula (a-1) for the counter anion necessary for neutralizing the charge. The heptamethine dye represented by the general formula (a-2) can be preferably used for an image recording material in which an acid and / or a radical generator such as an onium salt is used in combination, and particularly, a radical generating agent such as a sulfonium salt or an iodonium salt is generated. It is preferably used for a negative type image recording material in which an agent is used in combination.

【0102】[0102]

【化25】 [Chemical 25]

【0103】式中、Rl〜R8、Arl、Ar2、Yl、Y2
及びX-は、それぞれ前記一般式(a−2)におけるの
と同義である。Ar3はフェニル基、ナフチル基等の芳
香族炭化水素基、又は窒素、酸素及び硫黄原子のうち少
なくとも1つを含有する単環又は多環の複素球基を示
し、チアゾール系、ベンゾチアゾール系、ナフトチアゾ
ール系、チアナフテノ−7′,6′,4,5−チアゾー
ル系、オキサゾール系、ベンゾオキサゾール系、ナフト
オキサゾール系、セレナゾール系、ベンゾセレナゾール
系、ナフトセレナゾール系、チアゾリン系、2−キノリ
ン系、4−キノリン系、1−イソキノリン系、3−イソ
キノリン系、ベンゾイミダゾール系、3,3−ジアルキ
ルベンゾインドレニン系、2−ピリジン系、4−ピリジ
ン系、3,3−ジアルキルベンゾ[e]インドール系、
テトラゾール系、トリアゾール系、ピリミジン系、及び
チアジアゾール系よりなる群から選択される複素環基が
好ましく、特に好ましい複素環基としては下記構造のも
のが挙げられる。
In the formula, R 1 to R 8 , Ar 1 , Ar 2 , Y 1 , and Y 2
And X each have the same meaning as in the general formula (a-2). Ar 3 represents a phenyl group, an aromatic hydrocarbon group such as a naphthyl group, or a monocyclic or polycyclic heterosphere group containing at least one of nitrogen, oxygen and sulfur atoms, and a thiazole-based, benzothiazole-based, Naphthothiazole type, thianaphtheno-7 ', 6', 4,5-thiazole type, oxazole type, benzoxazole type, naphthoxazole type, selenazole type, benzoselenazole type, naphthoselenazole type, thiazoline type, 2-quinoline type , 4-quinoline-based, 1-isoquinoline-based, 3-isoquinoline-based, benzimidazole-based, 3,3-dialkylbenzoindolenine-based, 2-pyridine-based, 4-pyridine-based, 3,3-dialkylbenzo [e] indole system,
A heterocyclic group selected from the group consisting of a tetrazole type, a triazole type, a pyrimidine type, and a thiadiazole type is preferable, and particularly preferable heterocyclic groups include those having the following structures.

【0104】[0104]

【化26】 [Chemical formula 26]

【0105】[0105]

【化27】 [Chemical 27]

【0106】式中、Rl〜R8、Arl、Ar2、Yl及び
2は、それぞれ前記一般式(a−2)におけるのと同
義である。R11及びR12は、それぞれ同じでも異なって
いても良く、水素原子、アリル基、シクロへキシル基又
は炭素原子数1〜8のアルキル基を示す。Zは酸素原子
又は硫黄原子を示す。
In the formula, R 1 to R 8 , Ar 1 , Ar 2 , Y 1 and Y 2 have the same meanings as in formula (a-2). R 11 and R 12 may be the same or different and each represents a hydrogen atom, an allyl group, a cyclohexyl group or an alkyl group having 1 to 8 carbon atoms. Z represents an oxygen atom or a sulfur atom.

【0107】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特開2001−1339
69号公報の段落番号[0017]〜[0019]、特
開2002−40638号公報の段落番号[0012]
〜[0038]、特開2002−23360号公報の段
落番号[0012]〜[0023]、に記載されたもの
を挙げることができる。
Specific examples of the cyanine dye represented by the general formula (a) which can be preferably used in the present invention include those shown below and JP-A 2001-1339.
Paragraph Nos. [0017] to [0019] of Japanese Patent Laid-Open No. 69, paragraph [0012] of Japanese Patent Laid-Open No. 2002-40638.
To [0038], paragraphs [0012] to [0023] of JP-A-2002-23360.

【0108】[0108]

【化28】 [Chemical 28]

【0109】[0109]

【化29】 [Chemical 29]

【0110】[0110]

【化30】 [Chemical 30]

【0111】[0111]

【化31】 [Chemical 31]

【0112】[0112]

【化32】 [Chemical 32]

【0113】[0113]

【化33】 [Chemical 33]

【0114】[0114]

【化34】 [Chemical 34]

【0115】一般式(b)中、Lは共役炭素原子数7以
上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有していて
もよく、置換基が互いに結合して環構造を形成していて
もよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カチオ
ンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホニウ
ム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カチオ
ン(Ni+、K+、Li+)などが挙げられる。R9〜R14
及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル
基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選択
される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組み
合わせた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成し
ていてもよい。ここで、前記一般式(b)中、Lが共役
炭素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14
及びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容
易性と効果の観点から好ましい。
In the general formula (b), L represents a methine chain having a conjugated carbon atom number of 7 or more, and the methine chain may have a substituent, and the substituents are bonded to each other to form a ring structure. May be. Zb + represents a counter cation. Preferred counter cations include ammonium, iodonium, sulfonium, phosphonium, pyridinium, alkali metal cations (Ni + , K + , Li + ) and the like. R 9 to R 14
And R 15 to R 20 each independently represent a hydrogen atom, a halogen atom, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, or an amino group. It represents a selected substituent or a substituent in which two or three of them are combined and may be bonded to each other to form a ring structure. Here, in the general formula (b), L represents a methine chain having a conjugated carbon atom number of 7, and R 9 to R 14
It is preferable that R 15 to R 20 all represent hydrogen atoms from the viewpoint of easy availability and effects.

【0116】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
Specific examples of the dye represented by the general formula (b) which can be preferably used in the invention include the followings.

【0117】[0117]

【化35】 [Chemical 35]

【0118】[0118]

【化36】 [Chemical 36]

【0119】一般式(c)中、Y3及びY4は、それぞ
れ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原子
を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。R
21〜R 24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても異
なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Z
-は対アニオンを表し、前記一般式(a−1)におけ
るZa-と同義である。
In the general formula (c), Y3And YFourIs that
Oxygen atom, sulfur atom, selenium atom, or tellurium atom
Represents M represents a methine chain having a conjugated carbon number of 5 or more. R
twenty one~ R twenty fourAnd Rtwenty five~ R28Are the same or different
May be, hydrogen atom, halogen atom, cyano
Group, alkyl group, aryl group, alkenyl group, alkyn
Group, carbonyl group, thio group, sulfonyl group, sulfi group
It represents a nyl group, an oxy group, or an amino group. Also, in the formula Z
a-Represents a counter anion, and in the general formula (a-1)
Za-Is synonymous with.

【0120】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (c) which can be preferably used include the followings.

【0121】[0121]

【化37】 [Chemical 37]

【0122】[0122]

【化38】 [Chemical 38]

【0123】一般式(d)中、R29〜R32は各々独立
に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示す。R
33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキシ基、
又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に0ない
し4の整数を示す。R29とR30、又はR31とR32はそれ
ぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び/又は
30はR33と、またR31及び/又はR32はR34と結合し
て環を形成しても良く、さらに、R33 又はR34が複数
存在する場合に、R33同士又はR34同士は互いに結合し
て環を形成してもよい。X2及びX3は各々独立に、水素
原子、アルキル基、又はアリール基を示す。Qは置換基
を有していてもよいトリメチン基又はペンタメチン基で
あり、2価の有機基とともに環構造を形成してもよい。
Zc-は対アニオンを示し、前記一般式(a−1)にお
けるZa-と同義である。
In formula (d), R 29 to R 32 each independently represents a hydrogen atom, an alkyl group or an aryl group. R
33 and R 34 are each independently an alkyl group, a substituted oxy group,
Alternatively, it represents a halogen atom. n and m each independently represent an integer of 0 to 4. R 29 and R 30 , or R 31 and R 32 may be bonded to each other to form a ring, and R 29 and / or R 30 is R 33, and R 31 and / or R 32 is R 34 . They may be bonded to each other to form a ring, and when a plurality of R 33 or R 34 are present, R 33's or R 34's may be bonded to each other to form a ring. X 2 and X 3 each independently represent a hydrogen atom, an alkyl group, or an aryl group. Q is a trimethine group or a pentamethine group which may have a substituent, and may form a ring structure with a divalent organic group.
Zc - represents a counter anion, Za in the general formula (a-1) - synonymous.

【0124】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (d) which can be preferably used include the followings.

【0125】[0125]

【化39】 [Chemical Formula 39]

【0126】[0126]

【化40】 [Chemical 40]

【0127】一般式(e)中、R35〜R50はそれぞれ独
立に、水素原子又は置換基を有してもよい、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オ
ニウム塩構造を示す。R36とR37、R40とR41、R44
45及びR48とR49は、連結して脂肪族環、芳香族環又
は複素環を形成してもよく、その環は縮合環を有しても
よい。Mは2つの水素原子若しくは金属原子、ハロメタ
ル基、オキシメタル基を示すが、そこに含まれる金属原
子としては、周期律表のIA、IIA、IIIB、IVB族原
子、第一、第二、第三周期の遷移金属、ランタノイド元
素が挙げられ、中でも、銅、ニッケル、マグネシウム、
鉄、亜鉛、スズ、コバルト、アルミニウム、チタン、バ
ナジウムが好ましく、バナジウム、ニッケル、亜鉛、ス
ズが特に好ましい。これら金属原子は原子価を適切にす
るために酸素原子、ハロゲン原子等と結合していても良
い。
In formula (e), R 35 to R 50 are each independently a halogen atom, which may have a hydrogen atom or a substituent, a cyano group, an alkyl group, an aryl group, an alkenyl group, an alkynyl group, A hydroxyl group, a carbonyl group, a thio group, a sulfonyl group, a sulfinyl group, an oxy group, an amino group, and an onium salt structure are shown. R 36 and R 37 , R 40 and R 41 , R 44 and R 45, and R 48 and R 49 may be linked to form an aliphatic ring, an aromatic ring or a heterocycle, and the ring is a condensed ring. May have. M represents two hydrogen atoms or a metal atom, a halometal group, or an oxymetal group, and the metal atom contained therein is a group IA, IIA, IIIB, IVB atom, first, second, or group of the periodic table. Examples include transition metal of three cycles and lanthanoid element, and among them, copper, nickel, magnesium,
Iron, zinc, tin, cobalt, aluminum, titanium and vanadium are preferable, and vanadium, nickel, zinc and tin are particularly preferable. These metal atoms may be bonded to oxygen atoms, halogen atoms or the like in order to make the valence appropriate.

【0128】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。
In the present invention, specific examples of the dye represented by formula (e) which can be preferably used include the followings.

【0129】[0129]

【化41】 [Chemical 41]

【0130】[0130]

【化42】 [Chemical 42]

【0131】一般式(f−1)及び(f−2)中、R51
〜R58はそれぞれ独立に、水素原子又は置換基を有して
もよいアルキル基、アリール基を示す。X-は、前記一
般式(a−2)におけるものと同義である。
In the general formulas (f-1) and (f-2), R 51
To R 58 each independently represent a hydrogen atom or an alkyl group or an aryl group which may have a substituent. X has the same meaning as in the general formula (a-2).

【0132】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(f−1)及び(f−2)で示される染料の具
体例としては、以下に例示するものを挙げることができ
る。
Specific examples of the dyes represented by formulas (f-1) and (f-2) which can be preferably used in the present invention include the followings.

【0133】[0133]

【化43】 [Chemical 43]

【0134】上記以外の赤外線吸収剤としては、特開20
01-242613号公報に記載の複数の発色団を有する染料、
特開2002-97384号公報、米国特許第6,124,425号明細書
に記載の高分子化合物に共有結合で発色団が連結された
色素、米国特許6,248,893号明細書に記載のアニオン染
料、特開2001-347765号公報に記載の表面配向性基を有
する染料等を好適に用いることができる。
Infrared absorbing agents other than the above are disclosed in JP-A No.
A dye having a plurality of chromophores described in JP-A-01-242613,
JP-A-2002-97384, a dye in which a chromophore is covalently linked to a polymer compound described in US Pat.No. 6,124,425, an anionic dye described in US Pat. No. 6,248,893, and JP-A-2001-347765. Dyes having a surface-orienting group described in JP-A No. 1994-242242 can be preferably used.

【0135】本発明において赤外線吸収剤として使用さ
れる顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協会
編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC出
版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出版、
1984年刊)に記載されている顔料が挙げられる。
The pigment used as the infrared absorber in the present invention includes commercially available pigments and color indexes.
(CI) Handbook, "Latest Pigment Handbook" (edited by Japan Pigment Technology Association, 1977), "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986), "Printing Ink Technology" CMC Publishing,
Pigments described in 1984).

【0136】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。
The types of pigments include black pigments, yellow pigments, orange pigments, brown pigments, red pigments, purple pigments,
Blue pigment, green pigment, fluorescent pigment, metal powder pigment, etc.
Polymer bound dyes may be mentioned. Specifically, insoluble azo pigments, azo lake pigments, condensed azo pigments, chelate azo pigments, phthalocyanine pigments, anthraquinone pigments,
Perylene and perinone pigments, thioindigo pigments, quinacridone pigments, dioxazine pigments, isoindolinone pigments, quinophthalone pigments, dyed lake pigments,
Azine pigment, nitroso pigment, nitro pigment, natural pigment, fluorescent pigment, inorganic pigment, carbon black and the like can be used.
Preferred among these pigments is carbon black.

【0137】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。
These pigments may be used without surface treatment or may be used after surface treatment. The surface treatment method includes a method of surface-coating a resin or wax, a method of attaching a surfactant, a method of binding a reactive substance (for example, a silane coupling agent, an epoxy compound, polyisocyanate, etc.) to the pigment surface, etc. Can be considered. The above surface treatment method is "property and application of metal soap" (Koushobo),
It is described in "Printing Ink Technology" (CMC Publishing, 1984) and "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1986).

【0138】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。この範囲内で、分散物の
記録層塗布液中での良好な安定性及び記録層の良好な均
一性が得られる。
The particle size of the pigment is preferably in the range of 0.01 μm to 10 μm, more preferably in the range of 0.05 μm to 1 μm, and particularly preferably 0.1 μm to 1 μm.
It is preferably in the range of. Within this range, good stability of the dispersion in the coating solution for the recording layer and good uniformity of the recording layer can be obtained.

【0139】顔料を分散する方法としては、インキ製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。
As a method for dispersing the pigment, a known dispersion technique used in ink production, toner production and the like can be used. Examples of the disperser include an ultrasonic disperser, a sand mill, an attritor, a pearl mill, a super mill, a ball mill, an impeller, a disperser, a KD mill, a colloid mill, a dynatron, a three-roll mill and a pressure kneader. For details, see "Latest Pigment Application Technology" (CMC Publishing, 1
986).

【0140】これらの顔料又は染料は、記録層を構成す
る全固形分に対し0.01〜50質量%、好ましくは
0.1〜10質量%、染料の場合特に好ましくは0.5
〜10質量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜10
質量%の割合で添加することができる。この範囲内で、
記録層の均一性や、記録層の耐久性に好ましくない影響
を与えるおそれがなく、良好な感度が得られる。また、
用いられる染料又は顔料は単一の化合物であっても、2
種以上の化合物を混合したものでもよく、複数の波長の
露光機へ対応するために、吸収波長の異なる染料又は顔
料を併用することも好ましくおこなわれる。
These pigments or dyes are used in an amount of 0.01 to 50% by mass, preferably 0.1 to 10% by mass, based on the total solids constituting the recording layer, and particularly preferably 0.5 in the case of dyes.
10 to 10% by mass, particularly preferably 0.1 to 10 in the case of pigment
It can be added in a mass% ratio. Within this range,
Good sensitivity can be obtained without the possibility of adversely affecting the uniformity of the recording layer or the durability of the recording layer. Also,
The dye or pigment used may be a single compound or 2
A mixture of two or more compounds may be used, and it is also preferable to use dyes or pigments having different absorption wavelengths in combination in order to cope with an exposure device having a plurality of wavelengths.

【0141】[平版印刷版原版]本発明の画像記録材料
が適用される平版印刷版原版としては、赤外レーザ露光
により画像形成可能なポジ型平版印刷版原版及びネガ型
型平版印刷版原版が挙げられる。
[Lithographic printing plate precursor] As the lithographic printing plate precursor to which the image recording material of the present invention is applied, there are a positive lithographic printing plate precursor and a negative lithographic printing plate precursor capable of forming an image by infrared laser exposure. Can be mentioned.

【0142】(ポジ型平版印刷版原版)本発明の画像記
録材料を適用されるポジ型平版印刷版原版としては、
(1)水不溶性且つアルカリ可溶性樹脂(以下、適宜、
アルカリ可溶性樹脂と称する)と該アルカリ可溶性樹脂
と相互作用してアルカリ溶解性を抑制する物質(溶解阻
止剤)とを含有し、加熱によって相互作用が解かれアル
カリ可溶性が増大することを利用して画像形成を行うタ
イプのポジ型平版印刷版原版、及び(2)酸の作用で現
像液(例えばアルカリ水溶液)可溶性に変換する化合物
と熱によって酸を発生する酸発生剤とを含有し、加熱に
よって発生する酸の作用で現像液可溶性が増大すること
を利用して画像形成を行うタイプのポジ型平版印刷版原
版が挙げられる。
(Positive lithographic printing plate precursor) As the positive lithographic printing plate precursor to which the image recording material of the present invention is applied,
(1) Water-insoluble and alkali-soluble resin (hereinafter, appropriately
It is referred to as an alkali-soluble resin) and a substance (dissolution inhibitor) that interacts with the alkali-soluble resin to suppress alkali solubility, and utilizes the fact that the interaction is released by heating to increase alkali solubility. An image forming type positive lithographic printing plate precursor, and (2) containing a compound which is converted into a developing solution (for example, an alkaline aqueous solution) by the action of an acid and an acid generator which generates an acid by heat, and by heating A positive type lithographic printing plate precursor of the type in which an image is formed by utilizing the fact that the solubility of the developer is increased by the action of the acid generated can be mentioned.

【0143】上記(1)のアルカリ可溶性樹脂と溶解阻
止剤とを用いるポジ型平版印刷版原版としては、例え
ば、米国特許第3,628,953号明細書、米国特許
第4,708,925号明細書、特開平7−28527
5号公報、国際公開第97/39,894号パンフレッ
ト、特開平11−44956号、特開平11−2685
12号、及び特開2001−324808号各公報など
に記載のポジ型平版印刷版原版が挙げられる。しかし、
上記の原理によって画像形成されるポジ型平版印刷版原
版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
Examples of the positive type lithographic printing plate precursor using the above-mentioned (1) alkali-soluble resin and dissolution inhibitor include, for example, US Pat. No. 3,628,953 and US Pat. No. 4,708,925. Description, JP-A-7-28527
5, JP-A-97 / 39,894, JP-A-11-44956, and JP-A-11-2685.
No. 12, and the positive planographic printing plate precursors described in JP-A No. 2001-324808 and the like. But,
Any positive type planographic printing plate precursor may be used as long as an image is formed according to the above principle, and the present invention is not limited thereto.

【0144】本発明の画像記録材料を適用した上記
(1)のポジ型平版印刷版原版としては、具体的には、
支持体上に、(a)赤外線吸収剤、(b)動摩擦係数を
0.38〜0.6の比率に低下させる長鎖アルキル含有
モノマーと親水性モノマーの共重合体、及び(c)アル
カリ可溶性樹脂を含有する記録層を有するポジ型平版印
刷版原版が挙げられる。より好ましくは、該記録層が、
更に(d)溶解阻止剤及び(e)その他必要に応じて加
えられる公知の添加物類を含有するポジ型平版印刷版原
版が挙げられる。
The positive planographic printing plate precursor of the above (1) to which the image recording material of the present invention is applied is specifically as follows:
On the support, (a) an infrared absorber, (b) a copolymer of a long-chain alkyl-containing monomer and a hydrophilic monomer that reduces the dynamic friction coefficient to a ratio of 0.38 to 0.6, and (c) an alkali-soluble A positive type lithographic printing plate precursor having a recording layer containing a resin can be mentioned. More preferably, the recording layer is
Further, there can be mentioned a positive lithographic printing plate precursor containing (d) a dissolution inhibitor and (e) other known additives which are optionally added.

【0145】上記アルカリ可溶性樹脂は、水不溶性且つ
アルカリ可溶性樹脂であり、高分子中の主鎖及び/又は
側鎖に酸性基を含有する単独重合体、これらの共重合体
又はこれらの混合物を包含する。なかでも、下記(1)
〜(6)に挙げる酸性基を高分子の主鎖及び/又は側鎖
中に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶解性の
点及び溶解抑制能発現の点で好ましい。
The above-mentioned alkali-soluble resin is a water-insoluble and alkali-soluble resin, and includes homopolymers containing an acidic group in the main chain and / or side chain in the polymer, copolymers thereof or mixtures thereof. To do. Above all, the following (1)
Those having an acidic group listed in (6) to (6) in the main chain and / or side chain of the polymer are preferable from the viewpoint of solubility in an alkaline developing solution and manifestation of dissolution inhibiting ability.

【0146】(1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2 NH−R) (3)活性イミド基〔−SO2 NHCOR、−SO2
HSO2 R、−CONHSO2 R〕 (4)カルボン酸基(−CO2 H) (5)スルホン酸基(−SO3 H) (6)リン酸基(−OPO3 2
(1) Phenol group (-Ar-OH) (2) Sulfonamide group (-SO 2 NH-R) (3) Active imide group [-SO 2 NHCOR, -SO 2 N
HSO 2 R, -CONHSO 2 R] (4) carboxylic acid group (-CO 2 H) (5) sulfonic acid group (-SO 3 H) (6) phosphoric acid group (-OPO 3 H 2)

【0147】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(1)フェノール
基、(2)スルホンアミド基(3)活性イミド基、及び
(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂が好ま
しく、特に、(1)フェノール基又は(2)スルホンア
ミド基、及び(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶
性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解性、現像ラチ
チュード、膜強度を十分に確保する点から最も好まし
い。
Among the alkali-soluble resins having an acidic group selected from the above (1) to (6), (1) phenol group, (2) sulfonamide group (3) active imide group, and (4) carboxylic acid group The alkali-soluble resin having (1) a phenol group or (2) a sulfonamide group and (4) a carboxylic acid group is particularly preferable for the alkali-soluble resin having a solubility, a developing latitude and a film strength. It is the most preferable from the point of securing sufficient.

【0148】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、米国特許
3,628,953号明細書、米国特許4,708,9
25号明細書、特開平7−285275号公報、国際公
開第97/39,894号パンフレット、特開平11−
44956号公報、特開平11−268512号公報、
特開2001−324808号公報、特開平7-282
44号公報、特開平7-36184号公報、特開昭51-
34711号公報、特開平2-866号公報、等に記載
のフェノール樹脂、ポリヒドロキシスチレン、ポリハロ
ゲン化ヒドロキシスチレン、N-(4-ヒドロキシフェニ
ル)メタクリルアミドの共重合体、ハイドロキノンモノ
メタクリレート共重合体、スルホニルイミド系ポリマ
ー、カルボキシル基含有ポリマー、フェノール性水酸基
を含有するアクリル系樹脂、スルホンアミド基を有する
アクリル系樹脂、ウレタン系の樹脂等が挙げられる。
Examples of the alkali-soluble resin having an acidic group selected from the above (1) to (6) include, for example, US Pat. No. 3,628,953 and US Pat. No. 4,708,9.
25, JP-A-7-285275, International Publication No. 97 / 39,894 pamphlet, JP-A-11-
No. 44956, JP-A No. 11-268512,
JP-A-2001-324808, JP-A-7-282
44, JP-A-7-36184, JP-A-51-
No. 34711, JP-A-2-866, etc., phenol resin, polyhydroxystyrene, polyhalogenated hydroxystyrene, copolymer of N- (4-hydroxyphenyl) methacrylamide, hydroquinone monomethacrylate copolymer. , A sulfonylimide-based polymer, a carboxyl group-containing polymer, a phenolic hydroxyl group-containing acrylic resin, a sulfonamide group-containing acrylic resin, and a urethane-based resin.

【0149】上記ポジ型平版印刷版原版の記録層に必要
に応じて用いられる溶解阻止剤としては、特開平7−2
85275号公報、特開2002−55446号公報な
どに記載のオニウム塩、o−キノンジアジド化合物、芳
香族スルホン化合物、芳香族スルホン酸エステル化合物
などの熱分解性であり、分解しない状態では、画像部の
現像液への溶解を抑制できる化合物が好ましい。オニウ
ム塩としては、ジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホス
ホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレノ
ニウム塩、アルソニウム塩等を挙げることができる。
As a dissolution inhibitor which is optionally used in the recording layer of the positive type lithographic printing plate precursor, there is disclosed JP-A-7-2.
No. 85275, JP-A No. 2002-55446, etc. are thermally decomposable, such as onium salts, o-quinonediazide compounds, aromatic sulfone compounds, and aromatic sulfonic acid ester compounds. A compound capable of suppressing dissolution in a developing solution is preferable. Examples of onium salts include diazonium salts, ammonium salts, phosphonium salts, iodonium salts, sulfonium salts, selenonium salts, arsonium salts and the like.

【0150】ポジ型平版印刷版原版のうち(2)の酸の
作用で現像液可溶性に変換する化合物と酸発生剤とを含
有するポジ型平版印刷版原版としては、特開平9−17
1254号、特開平10−55067号、特開平10−
87733号、特開平10−268507号各公報など
に記載のポジ型平版印刷版原版が挙げられる。しかし、
上記の原理によって画像形成されるポジ型平版印刷版原
版であれば、いずれでもよく、これらに限らない。
Among the positive type lithographic printing plate precursors, the positive type lithographic printing plate precursor containing (2) a compound capable of being converted into a developing solution by the action of an acid and an acid generator is described in JP-A-9-17.
1254, JP-A-10-55067, JP-A-10-
The positive planographic printing plate precursors described in JP-A No. 87733, JP-A No. 10-268507 and the like can be mentioned. But,
Any positive type planographic printing plate precursor may be used as long as an image is formed according to the above principle, and the present invention is not limited thereto.

【0151】本発明の画像記録材料を適用した上記
(2)のポジ型平版印刷版原版としては、具体的には、
支持体上に、(a)赤外線吸収剤、(b)動摩擦係数を
0.38〜0.60に低下させる長鎖アルキル含有モノ
マーと親水性モノマーの共重合体、(c)活性光線の照
射により酸を発生し得る化合物(酸発生剤)、及び
(d)酸で分解し得る結合を少なくとも1つ有する化合
物(酸分解性化合物)を含有する記録層を有するポジ型
平版印刷版原版が挙げられる。
The positive planographic printing plate precursor of (2) above to which the image recording material of the present invention is applied is specifically as follows:
On the support, (a) an infrared absorber, (b) a copolymer of a long-chain alkyl-containing monomer and a hydrophilic monomer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60, and (c) irradiation with actinic rays. A positive lithographic printing plate precursor having a recording layer containing a compound capable of generating an acid (acid generator) and (d) a compound having at least one bond capable of decomposing with an acid (acid decomposable compound) can be mentioned. .

【0152】上記酸分解性化合物としては、特開昭48
−89603号、同51−120714号、同53−1
33429号、同55−12995号、同55−126
236号、同56−17345号各公報に記載のC−O
−C結合を有する化合物、特開昭60−37549号、
同60−121446号各公報に記載のSi−O−C結
合を有する化合物、特開昭60−3625号、同60−
10247号各公報に記載されているその他の酸分解化
合物を挙げることができ、更に特開昭62−22224
6号公報に記載されているSi−N結合を有する化合
物、特開昭62−251743号公報に記載されている
炭酸エステル、特開昭62−209451号公報に記載
されているオルト炭酸エステル、特開昭62−2808
41号公報に記載されているオルトチタン酸エステル、
特開昭62−280842号公報に記載されているオル
トケイ酸エステル、特開昭63−010153号、特開
平9−171254号、同10−55067号、同10
−111564号、同10−87733号、同10−1
53853号、同10−228102号、同10−26
8507号、同282648号、同10−282670
号各公報、欧州特許出願公開第0884547Al号明
細書に記載されているアセタール、ケタール及びオルト
カルボン酸エステル、特開昭62−244038号公報
に記載されているC−S結合を有する化合物を用いるこ
とができる。
Examples of the acid-decomposable compound include those described in JP-A-48.
-89603, 51-1207714, 53-1
33429, 55-12995, 55-126.
C-O described in each publication of No. 236 and No. 56-17345.
Compounds having a -C bond, JP-A-60-37549,
Compounds having a Si-O-C bond described in JP-A-60-121446, JP-A-60-3625 and JP-A-60-
Other acid-decomposable compounds described in JP-A-10247 can be mentioned, and further, JP-A-62-22224.
No. 6, a compound having a Si—N bond, a carbonic acid ester described in JP-A No. 62-251743, an orthocarbonic acid ester described in JP-A No. 62-209451, Kaisho 62-2808
41, orthotitanate ester,
Orthosilicic acid esters described in JP-A-62-280842, JP-A-63-010153, JP-A-9-171254, JP-A-10-55067 and JP-A-10-55067.
-11156, 10-87733, 10-1
53853, 10-228102, 10-26.
No. 8507, No. 282648, No. 10-282670.
Use of the acetals, ketals and orthocarboxylic acid esters described in European Patent Application Publication No. 0888447Al and compounds having a C—S bond described in JP-A No. 62-244038. You can

【0153】中でも、C−O−C結合を有する化合物、
Si−O−C結合を有する化合物、オルト炭酸エステ
ル、アセタール類、ケタール類及びシリルエーテル類が
好ましい。また、主鎖中に繰り返しアセタール又はケタ
ール部分を有し、アルカリ現像液中でその溶解度が発生
した酸により上昇する高分子化合物が好ましく用いられ
る。
Among them, compounds having a C--O--C bond,
Compounds having a Si-O-C bond, orthocarbonates, acetals, ketals and silyl ethers are preferred. Further, a polymer compound having an acetal or ketal moiety in the main chain repeatedly and whose solubility in an alkaline developer is increased by the acid generated is preferably used.

【0154】上記酸分解性化合物とともに用いられる酸
発生剤としては、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、ホ
スホニウム塩、ジアゾニウム塩等のオニウム塩が挙げら
れる。具体的には、米国特許第4,708,925号明
細書や特開平7−20629号公報に記載されている化
合物を挙げることができる。特に、スルホン酸イオンを
対イオンとするヨードニウム塩、スルホニウム塩、ジア
ゾニウム塩が好ましい。ジアゾニウム塩としては、米国
特許第3,867,147号明細書記載のジアゾニウム
化合物、米国特許第2,632,703号明細書記載の
ジアゾニウム化合物や特開平1−102456号及び特
開平1−102457号の各公報に記載されているジア
ゾ樹脂も好ましい。また、米国特許第5,135,83
8号明細書や米国特許第5,200,544号明細書に
記載されているベンジルスルホナート類も好ましい。更
に、特開平2−100054号、特開平2−10005
5号及び特開平9−197671号各公報に記載されて
いる活性スルホン酸エステルやジスルホニル化合物類も
好ましい。他にも、特開平7−271029号公報に記
載されている、ハロアルキル置換されたS−トリアジン
類も好ましい。
Examples of the acid generator used together with the above acid decomposable compound include onium salts such as iodonium salts, sulfonium salts, phosphonium salts and diazonium salts. Specific examples thereof include compounds described in US Pat. No. 4,708,925 and JP-A-7-20629. Particularly, iodonium salts, sulfonium salts, and diazonium salts having sulfonate ion as a counter ion are preferable. Examples of the diazonium salt include diazonium compounds described in U.S. Pat. No. 3,867,147, diazonium compounds described in U.S. Pat. No. 2,632,703, JP-A-1-102456, and JP-A-1-102457. The diazo resins described in each of the above publications are also preferable. Also, US Pat. No. 5,135,83
The benzyl sulfonates described in US Pat. No. 8, and US Pat. No. 5,200,544 are also preferred. Furthermore, JP-A Nos. 2-100054 and 2-10005.
Active sulfonic acid esters and disulfonyl compounds described in JP-A No. 5 and JP-A No. 9-197671 are also preferable. In addition, haloalkyl-substituted S-triazines described in JP-A-7-271029 are also preferable.

【0155】(ネガ型平版印刷版原版)本発明の画像記
録材料を適用されるネガ型平版印刷版原版としては、熱
によってラジカル重合反応を起こし、生成物が現像液に
対して不溶性となることを利用した平版印刷版原版、及
び、熱によって架橋反応(カチオン重合も含む)を起こ
し、生成物が現像液に対して不溶性となることを利用し
た平版印刷版原版が挙げられる。
(Negative type lithographic printing plate precursor) As a negative type lithographic printing plate precursor to which the image recording material of the present invention is applied, a radical polymerization reaction is caused by heat and the product becomes insoluble in a developing solution. And a lithographic printing plate precursor utilizing the fact that a product becomes insoluble in a developer by causing a crosslinking reaction (including cationic polymerization) by heat, and the like.

【0156】熱による重合反応を利用した平版印刷版原
版としては、例えば、特開2001−183825号、
特開2001−337447号、特開2002−023
360号、特開2002−040638号、特開200
2−62642号、特開2002−62648号、特開
2002−69109号各公報などに記載の赤外レーザ
露光による発熱で重合するタイプのネガ型平版印刷版原
版が挙げられる。これらのネガ型平版印刷版原版におい
ては、露光による発熱によって、ラジカル発生剤(重合
開始剤)がラ6ジカルを発生して重合性化合物を重合さ
せ、生成物が現像液に不溶化することを用いている。し
かし、本発明の画像記録材料が適用されるネガ型平版印
刷版原版としては、上記の原理によって画像形成される
ネガ型平版印刷版原版であれば、いずれでもよく、これ
らに限らない。
As a lithographic printing plate precursor utilizing a polymerization reaction by heat, for example, JP-A-2001-183825,
JP 2001-337447 A, JP 2002-023 A
360, JP-A-2002-040638, JP-A-200
2-62642, JP-A-2002-62648, JP-A-2002-69109, and the like, and negative type lithographic printing plate precursors of the type that are polymerized by heat generated by infrared laser exposure. In these negative type lithographic printing plate precursors, the radical generator (polymerization initiator) generates ra-6 radical to polymerize the polymerizable compound by heat generation due to exposure, and the product is insolubilized in a developing solution. ing. However, the negative lithographic printing plate precursor to which the image recording material of the present invention is applied may be any negative lithographic printing plate precursor as long as it is an image formed according to the above principle, and is not limited thereto.

【0157】上記画像記録材料を適用したこのようなネ
ガ型平版印刷版原版としては、例えば、支持体上に、
(a)赤外線吸収剤、(b)動摩擦係数を0.38〜
0.60に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水
性モノマーの共重合体、(c)ラジカル発生剤、(d)
ラジカル重合性化合物、及び(e)その他必要に応じて
加えられるバインダーポリマーや公知の添加物類を含有
する記録層を有するネガ型平版印刷版原版が挙げられ
る。
As such a negative type lithographic printing plate precursor to which the above image recording material is applied, for example, on a support,
(A) infrared absorber, (b) dynamic friction coefficient of 0.38 to
Copolymer of long-chain alkyl-containing monomer and hydrophilic monomer to reduce to 0.60, (c) radical generator, (d)
Examples thereof include a negative-working lithographic printing plate precursor having a recording layer containing a radically polymerizable compound, and (e) other optional binder polymers and known additives.

【0158】本発明に用いられるラジカル発生剤として
は、光、熱或いはその両方のエネルギーによりラジカル
を発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の重合を開
始、促進する化合物を示す。本発明に使用できるラジカ
ル発生剤としては、ラジカル重合による高分子合成反応
に用いられる公知の熱重合開始剤や結合解離エネルギー
の小さな結合を有する化合物、光重合開始剤などを使用
することができる。本発明において好適に用いられるラ
ジカルを発生する化合物としては、熱エネルギーにより
ラジカルを発生し、重合性の不飽和基を有する化合物の
重合を、開始、促進させる化合物を挙げることができ
る。また、ラジカル発生剤は、単独又は2種以上を併用
して用いることができる。
The radical generator used in the present invention is a compound which generates radicals by the energy of light, heat or both to initiate and accelerate the polymerization of the compound having a polymerizable unsaturated group. As the radical generator that can be used in the present invention, a known thermal polymerization initiator used in a polymer synthesis reaction by radical polymerization, a compound having a bond with a small bond dissociation energy, a photopolymerization initiator, or the like can be used. Examples of the radical-generating compound preferably used in the present invention include compounds that generate radicals by thermal energy to initiate and accelerate the polymerization of the compound having a polymerizable unsaturated group. The radical generators can be used alone or in combination of two or more.

【0159】このようなラジカル発生剤として、例え
ば、特開平8−220758号、特開平10−2605
36号、特開2001−337447号、特開2002
−023360号各公報などに記載の有機ハロゲン化化
合物、カルボニル化合物、有機過酸化化合物、アゾ系重
合開始剤、アジド化合物、メタロセン化合物、ヘキサア
リールビイミダゾール化合物、有機ホウ酸化合物、ジス
ルホン酸化合物、オニウム塩化合物などが挙げられる。
オニウム塩は、前記ポジ型平版印刷版原版において説明
したものと同じものが用いられるが、かかる重合系にお
いては、オニウム塩は酸発生剤ではなく、イオン性のラ
ジカル重合の開始剤として機能する。
As such a radical generator, for example, JP-A-8-220758 and JP-A-10-2605 can be used.
36, JP 2001-337447 A, 2002
-023360, etc. Organic halogenated compounds, carbonyl compounds, organic peroxide compounds, azo-based polymerization initiators, azide compounds, metallocene compounds, hexaarylbiimidazole compounds, organic boric acid compounds, disulfonic acid compounds, onium Examples thereof include salt compounds.
As the onium salt, the same one as described in the positive type lithographic printing plate precursor is used, but in such a polymerization system, the onium salt functions not as an acid generator but as an initiator of ionic radical polymerization.

【0160】本発明に用いられるラジカル重合性化合物
としては、ラジカル重合反応を行う末端エチレン性不飽
和基(例えば、アクリロイル基、メタクリロイル基、ビ
ニル基、アリル基など)を少なくとも1個、好ましくは
2個以上有する化合物を好適なものとして挙げられる。
このような化合物群は、当該産業分野において光重合性
又は熱重合性組成物用のモノマー又は架橋剤として広く
知られるものであり、本発明においては、これらを特に
限定しないで用いることができる。化学的形態として
は、モノマー、プレポリマー、すなわち2量体、3量
体、オリゴマー、重合体又は共重合体、又はこれらの混
合物である。
As the radically polymerizable compound used in the present invention, at least one terminal ethylenically unsaturated group (eg, acryloyl group, methacryloyl group, vinyl group, allyl group, etc.) for radical polymerization reaction, preferably 2 Suitable examples are compounds having one or more.
Such a compound group is widely known in the industrial field as a monomer or a cross-linking agent for a photopolymerizable or thermopolymerizable composition, and these can be used in the invention without particular limitation. The chemical form is a monomer, a prepolymer, that is, a dimer, a trimer, an oligomer, a polymer or a copolymer, or a mixture thereof.

【0161】ラジカル重合性化合物の具体例としては、
特開平8−220758号、特開2001−18382
5号、特開2002−62648号各公報などに記載の
重合性化合物と同じものが挙げられる。
Specific examples of the radically polymerizable compound include:
JP-A-8-220758 and JP-A-2001-18382
The same polymerizable compounds as those described in JP-A No. 5, JP-A-2002-62648 and the like can be mentioned.

【0162】熱による架橋反応を利用した平版印刷版原
版としては、例えば、米国特許第5,340,699号
明細書、特開平7−20629号、特開平7−2710
29号、特開平10−111564号、特開平11−8
4649号、特開平11−95419号、特開平11−
102071号、特開平11−119428号、特開平
11−216965号、特開平11−218903号、
特開平11−231509号、特開平11−25485
0号各公報、国際公開第98/51544号パンフレッ
ト及び国際公開第98/31545号パンフレットなど
に記載のネガ型平版印刷版原版が挙げられる。これらの
ネガ型平版印刷版原版においては、露光による発熱によ
って、酸発生剤が酸を発生しその酸が触媒となって架橋
剤の架橋反応を起こし、生成物が現像液に不溶化する酸
触媒架橋反応を用いている。酸触媒架橋反応を開始又は
促進するために、露光の後で原版を加熱してから現像す
ることも好適に行われる。しかし、本発明の画像記録材
料を適用されるネガ型平版印刷版原版としては、上記の
原理によって画像形成されるネガ型平版印刷版原版であ
れば、いずれでもよく、これらに限らない。
Examples of the lithographic printing plate precursor utilizing the crosslinking reaction by heat include, for example, US Pat. No. 5,340,699, JP-A-7-20629, and JP-A-7-2710.
29, JP-A-10-111564, JP-A-11-8.
4649, JP-A-11-95419, JP-A-11-
No. 102071, JP-A-11-119428, JP-A-11-216965, and JP-A-11-218903,
JP-A-11-231509, JP-A-11-25485
The negative type lithographic printing plate precursors described in each publication No. 0, WO 98/51544 pamphlet, WO 98/31545 pamphlet and the like can be mentioned. In these negative-working lithographic printing plate precursors, the heat generated by exposure causes the acid generator to generate an acid, and the acid acts as a catalyst to cause a crosslinking reaction of the crosslinking agent, resulting in acid-catalyzed crosslinking of the product. The reaction is used. In order to initiate or accelerate the acid-catalyzed crosslinking reaction, it is also preferable to heat the original plate after the exposure and then develop it. However, the negative type lithographic printing plate precursor to which the image recording material of the present invention is applied may be any negative type lithographic printing plate precursor as long as it is an image formed according to the above principle, and is not limited thereto.

【0163】上記画像記録材料を適用したこのようなネ
ガ型平版印刷版原版としては、例えば、支持体上に、
(a)赤外線吸収剤、(b)動摩擦係数を0.38〜
0.60に低下させる長鎖アルキル含有モノマーと親水
性モノマーの共重合体、(c)活性光線の照射により酸
を発生し得る化合物(酸発生剤)、(d)酸触媒によっ
て反応する架橋剤、及び(e)その他必要に応じて加え
られるバインダーポリマーや公知の添加物類を含有する
記録層を有するネガ型平版印刷版原版が挙げられる。
As such a negative type lithographic printing plate precursor to which the above image recording material is applied, for example, on a support,
(A) infrared absorber, (b) dynamic friction coefficient of 0.38 to
Copolymer of long-chain alkyl-containing monomer and hydrophilic monomer to reduce to 0.60, (c) compound capable of generating acid upon irradiation with actinic rays (acid generator), (d) cross-linking agent which reacts with an acid catalyst , And (e) and other negative-working lithographic printing plate precursors having a recording layer containing a binder polymer added as necessary and known additives.

【0164】上記架橋剤の具体例としては、特開平7−
20629号、特開平11−102071号、特開平1
1−254850号各公報等に記載されている(i)ア
ルコキシメチル基又はヒドロキシメチル基で置換された
芳香族化合物、(ii)N−ヒドロキシメチル基、N−ア
ルコキシメチル基又はN−アシルオキシメチル基を有す
る化合物、(iii)エポキシ化合物などの同じ化合物が
挙げられる。
Specific examples of the cross-linking agent are described in JP-A-7-
20629, JP-A-11-102071, JP-A-1
(I) an aromatic compound substituted with an alkoxymethyl group or a hydroxymethyl group, (ii) an N-hydroxymethyl group, an N-alkoxymethyl group or an N-acyloxymethyl group described in JP-A No. 1-254850. And the same compounds such as (iii) epoxy compounds.

【0165】架橋剤と共に用いられる酸発生剤として
は、前記のポジ型平版印刷版原版に用いられる酸発生剤
と同じ化合物を好適なものとして挙げることができる。
Suitable examples of the acid generator used together with the crosslinking agent include the same compounds as the acid generator used in the positive lithographic printing plate precursor described above.

【0166】(平版印刷版原版用支持体)本発明に使用
される支持体としては、寸度的に安定な板状物であり、
印刷版の支持体として公知の支持体が好適に使用でき
る。かかる支持体としては、紙、プラスチックス(例え
ばポリエチレン、ポリプロピレン、ポリスチレンなど)
がラミネートされた紙、例えばアルミニウム(アルミニ
ウム合金も含む)、亜鉛、鉄、銅などのような金属の
板、例えば二酢酸セルロース、三酢酸セルロース、プロ
ピオン酸セルロース、酪酸セルロース、酪酸酢酸セルロ
ース、硝酸セルロース、ポリエチレンテレフタレート、
ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロピレン、ポリカ
ーボネート、ポリビニルアセタールなどのようなプラス
チックスのフイルム、上記のような金属がラミネート又
は蒸着された紙又はプラスチックフィルムなどが含まれ
るが、特にアルミニウム板が好ましい。アルミニウム板
には純アルミニウム板及びアルミニウム合金板が含まれ
る。アルミニウム合金としては種々のものが使用でき、
例えばケイ素、銅、マンガン、マグネシウム、クロム、
亜鉛、鉛、ビスマス、ニッケルなどの金属とアルミニウ
ムの合金が用いられる。これらの組成物は、いくらかの
鉄及びチタンに加えてその他無視し得る程度の量の不純
物をも含むものである。
(Support for lithographic printing plate precursor) The support used in the present invention is a dimensionally stable plate-like material,
A well-known support can be preferably used as a support for the printing plate. Examples of such a support include paper and plastics (for example, polyethylene, polypropylene, polystyrene, etc.)
Laminated paper such as aluminum (including aluminum alloy), zinc, iron, copper and other metal plates such as cellulose diacetate, cellulose triacetate, cellulose propionate, cellulose butyrate, cellulose acetate butyrate, cellulose nitrate ,polyethylene terephthalate,
Films of plastics such as polyethylene, polystyrene, polypropylene, polycarbonate, polyvinyl acetal, and the like, papers or plastic films laminated or vapor-deposited with the metals described above are included, and aluminum plates are particularly preferable. The aluminum plate includes a pure aluminum plate and an aluminum alloy plate. Various types of aluminum alloy can be used,
For example, silicon, copper, manganese, magnesium, chromium,
An alloy of aluminum with a metal such as zinc, lead, bismuth, or nickel is used. These compositions include some iron and titanium, as well as other negligible amounts of impurities.

【0167】支持体は、必要に応じて表面処理される。
感光性平版印刷版の支持体の表面は、親水化処理が施さ
れることが好ましい。また金属、特にアルミニウムの表
面を有する支持体の場合には、砂目立て処理、ケイ酸ソ
ーダ、弗化ジルコニウム酸カリウム、リン酸塩等の水溶
液への浸漬処理、又は陽極酸化処理などの表面処理がな
されていることが好ましい。陽極酸化処理は、例えば、
リン酸、クロム酸、硫酸、ホウ酸等の無機酸、若しくは
シュウ酸、スルファミン酸等の有機酸又はこれらの塩の
水溶液又は非水溶液の単独又は二種以上を組み合わせた
電解液中でアルミニウム板を陽極として電流を流すこと
により実施される。
The support is surface-treated if necessary.
The surface of the support of the photosensitive lithographic printing plate is preferably hydrophilized. Further, in the case of a support having a surface of metal, particularly aluminum, surface treatment such as graining treatment, sodium silicate, potassium fluorozirconate, dipping in an aqueous solution of phosphate, or anodizing treatment Is preferably done. Anodizing treatment is, for example,
Inorganic acids such as phosphoric acid, chromic acid, sulfuric acid, boric acid, or organic acids such as oxalic acid, sulfamic acid, etc. It is carried out by passing an electric current as an anode.

【0168】また、米国特許第2,714,066号明
細書に記載されているように、砂目立てしたのちケイ酸
ナトリウム水溶液に浸漬処理したアルミニウム板、米国
特許第3,181,461号明細書に記載されているよ
うにアルミニウム板を陽極酸化処理した後にアルカリ金
属ケイ酸塩の水溶液に浸漬処理したものも好適に使用さ
れる。また、米国特許第3,658,662号明細書に
記載されているようなシリケート電着も有効である。こ
れらの親水化処理は、支持体の表面を親水性とする為に
施される以外に、その上に設けられる感光性組成物との
有害な反応を防ぐ為や、記録層との密着性を向上させる
為に施されるものである。
Further, as described in US Pat. No. 2,714,066, an aluminum plate which has been grained and then immersed in an aqueous sodium silicate solution, US Pat. No. 3,181,461. An aluminum plate which has been subjected to anodizing treatment and then immersed in an aqueous solution of an alkali metal silicate as described in 1. is also preferably used. Further, silicate electrodeposition as described in US Pat. No. 3,658,662 is also effective. These hydrophilization treatments are performed to make the surface of the support hydrophilic, in addition to prevent harmful reaction with the photosensitive composition provided thereon and to improve the adhesion to the recording layer. It is given to improve.

【0169】アルミニウム板を砂目立てするに先立っ
て、必要に応じて表面の圧延油を除去すること及び清浄
なアルミニウム面を表出させるためにその表面の前処理
を施しても良い。前者のためには、トリクレン等の溶
剤、界面活性剤等が用いられている。又後者のためには
水酸化ナトリウム、水酸化カリウム等のアルカリ・エッ
チング剤を用いる方法が広く行われている。
Prior to graining the aluminum plate, if necessary, the surface rolling oil may be removed and the surface of the aluminum plate may be pretreated to expose a clean aluminum surface. For the former, solvents such as trichlene and surfactants are used. For the latter, a method using an alkali etching agent such as sodium hydroxide or potassium hydroxide is widely used.

【0170】砂目立て方法としては、機械的、化学的及
び電気化学的な方法のいずれの方法も有効である。機械
的方法としては、ボール研磨法、ブラスト研磨法、軽石
のような研磨剤の水分散スラリーをナイロンブラシで擦
りつけるブラシ研磨法などがあり、化学的方法として
は、特開昭54-31187号公報に記載されているよ
うな鉱酸のアルミニウム塩の飽和水溶液に浸漬する方法
が適しており、電気化学的方法としては塩酸、硝酸又は
これらの組み合わせのような酸性電解液中で交流電解す
る方法が好ましい。このような粗面化方法の内、特に特
開昭55-137993号公報に記載されているような
機械的粗面化と電気化学的粗面化を組み合わせた粗面化
方法は、感脂性画像の支持体への接着力が強いので好ま
しい。上記の如き方法による砂目立ては、アルミニウム
板の表面の中心線表面粗さ(Ra)が0.3〜1.0μ
mとなるような範囲で施されることが好ましい。
As the graining method, any of mechanical, chemical and electrochemical methods is effective. Mechanical methods include a ball polishing method, a blast polishing method, and a brush polishing method in which a water-dispersed slurry of an abrasive such as pumice is rubbed with a nylon brush. As a chemical method, JP-A-54-31187 is used. A method of immersing in a saturated aqueous solution of an aluminum salt of a mineral acid as described in the publication is suitable, and an electrochemical method is a method of alternating-current electrolysis in an acidic electrolytic solution such as hydrochloric acid, nitric acid or a combination thereof. Is preferred. Among such surface-roughening methods, a surface-roughening method combining mechanical surface-roughening and electrochemical surface-roughening as described in JP-A-55-137993 is particularly suitable for the oil-sensitive image. This is preferable because it has a strong adhesion to the support. In the graining by the above method, the center line surface roughness (Ra) of the surface of the aluminum plate is 0.3 to 1.0 μm.
It is preferably applied in a range such that m.

【0171】このようにして砂目立てされたアルミニウ
ム板は必要に応じて水洗及び化学的にエッチングされ
る。エッチング処理液は、通常アルミニウムを溶解する
塩基又は酸の水溶液より選ばれる。この場合、エッチン
グされた表面に、エッチング液成分から誘導されるアル
ミニウムと異なる被膜が形成されないものでなければな
らない。好ましいエッチング剤を例示すれば、塩基性物
質としては水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、リン酸
三ナトリウム、リン酸二ナトリウム、リン酸三カリウ
ム、リン酸二カリウム等;酸性物質としては硫酸、過硫
酸、リン酸、塩酸及びその塩等であるが、アルミニウム
よりイオン化傾向の低い金属例えば亜鉛、クロム、コバ
ルト、ニッケル、銅等の塩はエッチング表面に不必要な
被膜を形成するから好ましくない。これ等のエッチング
剤は、使用濃度、温度の設定において、使用するアルミ
ニウム又は合金の溶解速度が浸漬時間1分あたり0.3
グラムから40g/m2になる様に行なわれるのが最も
好ましいが、これを上回る又は下回るものであっても差
支えない。エッチングは上記エッチング液にアルミニウ
ム板を浸漬する方法や、該アルミニウム板にエッチング
液を塗布すること等により行われ、エッチング量が0.
5〜10g/m2の範囲となるように処理されることが
好ましい。上記エッチング剤としては、そのエッチング
速度が早いという特長から塩基の水溶液を使用すること
が望ましい。この場合、スマットが生成するので、通常
デスマット処理される。デスマット処理に使用される酸
は、硝酸、硫酸、リン酸、クロム酸、フッ酸、ホウフッ
化水素酸等が用いられる。
The grained aluminum plate is washed with water and chemically etched if necessary. The etching treatment liquid is usually selected from an aqueous solution of a base or an acid that dissolves aluminum. In this case, the etched surface must not form a coating different from aluminum derived from the etching solution component. Examples of preferable etching agents include sodium hydroxide, potassium hydroxide, trisodium phosphate, disodium phosphate, tripotassium phosphate, dipotassium phosphate as basic substances; sulfuric acid, persulfuric acid as acidic substances. , Phosphoric acid, hydrochloric acid, and salts thereof, but salts having a lower ionization tendency than aluminum, for example, salts of zinc, chromium, cobalt, nickel, copper, etc. are not preferable because they form an unnecessary film on the etched surface. These etching agents have a dissolution rate of 0.3 or less per minute of immersion time when the concentration of use and temperature are set.
Most preferably, it is carried out at a rate of 40 g / m 2 to gram, but higher or lower levels may be used. The etching is performed by immersing the aluminum plate in the above-mentioned etching solution or by coating the aluminum plate with the etching solution.
It is preferable that the treatment is performed in the range of 5 to 10 g / m 2 . As the above-mentioned etching agent, it is desirable to use an aqueous solution of a base because of its high etching rate. In this case, smut is generated, and thus desmutting is usually performed. As the acid used for the desmutting treatment, nitric acid, sulfuric acid, phosphoric acid, chromic acid, hydrofluoric acid, borofluoric acid or the like is used.

【0172】エッチング処理されたアルミニウム板は、
必要により水洗及び陽極酸化される。陽極酸化は、この
分野で従来から行なわれている方法で行うことができ
る。具体的には、硫酸、リン、クロム酸、シュウ酸、ス
ルファミン酸、ベンゼンスルホン酸等又はそれらの二種
類以上を組み合わせた水溶液又は非水溶液中でアルミニ
ウムに直流又は交流の電流を流すと、アルミニウム支持
体表面に陽極酸化皮膜を形成させることができる。
The etched aluminum plate is
If necessary, it is washed with water and anodized. The anodic oxidation can be performed by a method conventionally used in this field. Specifically, when a direct current or an alternating current is applied to aluminum in an aqueous solution or a non-aqueous solution containing sulfuric acid, phosphorus, chromic acid, oxalic acid, sulfamic acid, benzenesulfonic acid, etc., or a combination of two or more thereof, aluminum is supported. An anodized film can be formed on the body surface.

【0173】陽極酸化の処理条件は使用される電解液に
よって種々変化するので一般には決定され得ないが一般
的には電解液の濃度が1〜80質量%、液温5〜70
℃、電流密度0.5〜60アンペア/dm2、電圧1〜10
0V、電解時間30秒〜50分の範囲が適当である。こ
れらの陽極酸化処理の内でも、とくに英国特許第1,4
12,768号明細書に記載されている硫酸中で高電流
密度にて陽極酸化する方法及び米国特許第3,511,
661号明細書に記載されているリン酸を電解浴として
陽極酸化する方法が好ましい。
The treatment conditions for the anodic oxidation cannot be generally determined because they vary depending on the electrolytic solution used, but generally the concentration of the electrolytic solution is 1 to 80% by mass, and the liquid temperature is 5 to 70%.
C, current density 0.5-60 amps / dm 2 , voltage 1-10
A range of 0 V and electrolysis time of 30 seconds to 50 minutes is suitable. Among these anodizing treatments, especially British Patent Nos. 1,4
A method for anodizing in sulfuric acid at high current density as described in US Pat. No. 3,511,511
The method of anodic oxidation using phosphoric acid described in Japanese Patent No. 661 as an electrolytic bath is preferable.

【0174】上記のように粗面化され、さらに陽極酸化
されたアルミニウム板は、必要に応じて親水化処理して
も良く、その好ましい例としては米国特許第2,71
4,066号及び同第3,181,461号各明細書に
開示されているようなアルカリ金属シリケート、例えば
ケイ酸ナトリウム水溶液又は特公昭36-22063号
公報に開示されている弗化ジルコニウム酸カリウム及び
米国特許第4,153,461号明細書に開示されてい
るようなポリビニルホスホン酸で処理する方法がある。
The aluminum plate which has been surface-roughened and anodized as described above may be subjected to a hydrophilic treatment if necessary, and a preferable example thereof is US Pat. No. 2,71.
Alkali metal silicates such as those disclosed in US Pat. Nos. 4,066 and 3,181,461, for example, aqueous sodium silicate solutions or potassium fluorozirconate disclosed in JP-B-36-22063. And the treatment with polyvinylphosphonic acid as disclosed in US Pat. No. 4,153,461.

【0175】上記支持体には、記録層の現像残膜減少な
どの目的で、記録層を塗設する前に有機下塗層を設ける
ことができる。かかる有機下塗層に用いられる有機化合
物としては例えば、カルボキシメチルセルロース、デキ
ストリン、アラビアガム、2-アミノエチルホスホン酸
などのアミノ基を有するホスホン酸類、置換基を有して
もよいフェニルホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アル
キルホスホン酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホス
ホン酸及びエチレンジホスホン酸などの有機ホスホン
酸、置換基を有してもよいフェニルリン酸、ナフチルリ
ン酸、アルキルリン酸及びグリセロリン酸などの有機リ
ン酸、置換基を有してもよいフェニルホスフィン酸、ナ
フチルホスフィン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセ
ロホスフィン酸などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ
-アラニンなどのアミノ酸類、及びトリエタノールアミ
ンの塩酸塩などのヒドロキシル基を有するアミンの塩酸
塩などから選ばれるが、二種以上混合して用いてもよ
い。
The support may be provided with an organic undercoat layer before coating the recording layer for the purpose of reducing the development residual film thickness of the recording layer. Examples of the organic compound used in such an organic undercoat layer include phosphonic acids having an amino group such as carboxymethyl cellulose, dextrin, gum arabic, and 2-aminoethylphosphonic acid, phenylphosphonic acid which may have a substituent, and naphthyl. Organic phosphonic acids such as phosphonic acid, alkylphosphonic acid, glycerophosphonic acid, methylenediphosphonic acid and ethylenediphosphonic acid, phenylphosphoric acid which may have a substituent, naphthylphosphoric acid, alkylphosphoric acid and glycerophosphoric acid Phosphoric acid, organic phosphinic acids such as phenylphosphinic acid which may have a substituent, naphthylphosphinic acid, alkylphosphinic acid and glycerophosphinic acid, glycine and β
It is selected from amino acids such as alanine and hydrochlorides of amines having a hydroxyl group such as triethanolamine hydrochloride, but two or more kinds may be used in combination.

【0176】また、有機下塗層にオニウム基を有する化
合物を含有することも好ましい。オニウム基を有する化
合物は特開2000−10292号、特開2000−1
08538号各公報等に詳述されている。
It is also preferable that the organic undercoat layer contains a compound having an onium group. Compounds having an onium group are disclosed in JP-A Nos. 2000-10292 and 2000-1.
No. 08538 is described in detail.

【0177】その他ポリ(p-ビニル安息香酸)などで
代表される構造単位を分子中に有する高分子化合物群の
中から選ばれる少なくとも1種の化合物を用いることが
できる。より具体的にはp-ビニル安息香酸とビニルベン
ジルトリエチルアンモニウム塩との共重合体、p-ビニル
安息香酸とビニルベンジルトリメチルアンモニウムクロ
リドとの共重合体などが挙げられる。
In addition, at least one compound selected from the group of polymer compounds having a structural unit represented by poly (p-vinylbenzoic acid) or the like in the molecule can be used. More specific examples include a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltriethylammonium salt, and a copolymer of p-vinylbenzoic acid and vinylbenzyltrimethylammonium chloride.

【0178】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤又はそれらの混合溶
剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニウム
板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノー
ル、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤又
はそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶
液に、アルミニウム板を浸漬して上記有機化合物を吸着
させ、しかる後、水などによって洗浄、乾燥して有機下
塗層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機
化合物の濃度0.005〜10質量%溶液を種々の方法
で塗布できる。例えば、バーコーター塗布、回転塗布、
スプレー塗布、カーテン塗布などいずれの方法を用いて
もよい。また、後者の方法では、溶液の濃度は0.01
〜20質量%、好ましくは0.05〜5質量%であり、
浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜50℃であ
り、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは2秒〜1
分である。
This organic undercoat layer can be provided by the following method. That is, water or methanol, ethanol,
A method in which the above-mentioned organic compound is dissolved in an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof is applied onto an aluminum plate and dried, and water or methanol, ethanol, an organic solvent such as methyl ethyl ketone or a mixed solvent thereof. Is a method in which an aluminum plate is immersed in a solution in which the above organic compound is dissolved to adsorb the above organic compound, followed by washing with water or the like and drying to provide an organic undercoat layer. In the former method, a 0.005 to 10 mass% solution of the above organic compound can be applied by various methods. For example, bar coater coating, spin coating,
Any method such as spray coating or curtain coating may be used. In the latter method, the solution concentration is 0.01
-20% by mass, preferably 0.05-5% by mass,
The immersion temperature is 20 to 90 ° C, preferably 25 to 50 ° C, and the immersion time is 0.1 second to 20 minutes, preferably 2 seconds to 1
Minutes.

【0179】これに用いる溶液は、アンモニア、トリエ
チルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質や、塩
酸、リン酸などの酸性物質によりpHを調節し、pH1
〜12の範囲で使用することもできる。
The solution used for this is adjusted to pH 1 by adjusting the pH with a basic substance such as ammonia, triethylamine or potassium hydroxide, or an acidic substance such as hydrochloric acid or phosphoric acid.
It can also be used in the range of -12.

【0180】さらにこの溶液には、下記一般式(V)で
示される化合物を添加することもできる。 一般式(V) (HO)x-R5-(COOH)y 但し、R5は置換基を有してもよい炭素数14以下のア
リーレン基を表し、x,yは独立して1から3の整数を
表す。
Further, a compound represented by the following general formula (V) can be added to this solution. General formula (V) (HO) x -R 5- (COOH) y However, R 5 represents an arylene group having 14 or less carbon atoms which may have a substituent, and x and y are independently 1 to 3 Represents the integer.

【0181】上記一般式(V)で示される化合物の具体
的な例として、3-ヒドロキシ安息香酸、4-ヒドロキシ
安息香酸、サリチル酸、1-ヒドロキシ-2-ナフトエ
酸、2-ヒドロキシ-1-ナフトエ酸、2-ヒドロキシ-3-
ナフトエ酸、2,4-ジヒドロキシ安息香酸、10-ヒド
ロキシ-9-アントラセンカルボン酸などが挙げられる。
Specific examples of the compound represented by the general formula (V) include 3-hydroxybenzoic acid, 4-hydroxybenzoic acid, salicylic acid, 1-hydroxy-2-naphthoic acid and 2-hydroxy-1-naphthoic acid. Acid, 2-hydroxy-3-
Examples thereof include naphthoic acid, 2,4-dihydroxybenzoic acid and 10-hydroxy-9-anthracenecarboxylic acid.

【0182】有機下塗層の乾燥後の塗布量は、1〜10
0mg/m2が適当であり、好ましくは2〜70mg/
2である。上記の塗布量が2mg/m2より少ないと十
分な耐刷性能が得られない。また、100mg/m2
り大きくても同様である。
The coating amount of the organic undercoat layer after drying is 1 to 10
0 mg / m 2 is suitable, and preferably 2 to 70 mg / m 2.
m 2 . If the coating amount is less than 2 mg / m 2 , sufficient printing durability cannot be obtained. The same applies when the amount is larger than 100 mg / m 2 .

【0183】支持体の裏面には、必要に応じてバックコ
ートが設けられる。かかるバックコートとしては特開平
5-45885号公報記載の有機高分子化合物及び特開
平6-35174号公報記載の有機又は無機金属化合物
を加水分解及び重縮合させて得られる金属酸化物からな
る被覆層が好ましく用いられる。これらの被覆層のう
ち、Si(OCH3)4、Si(OC25)4、Si(OC
37)4、Si(OC49)4などのケイ素のアルコキシ化合
物が安価で入手し易く、それから得られる金属酸化物の
被覆層が耐現像液に優れており特に好ましい。
A back coat is provided on the back surface of the support, if necessary. As such a back coat, a coating layer composed of a metal oxide obtained by hydrolyzing and polycondensing an organic polymer compound described in JP-A-5-45885 and an organic or inorganic metal compound described in JP-A-6-35174 Is preferably used. Among these coating layers, Si (OCH 3 ) 4 , Si (OC 2 H 5 ) 4 , Si (OC
Silicon alkoxy compounds such as 3 H 7 ) 4 and Si (OC 4 H 9 ) 4 are particularly preferable because they are inexpensive and easily available, and a metal oxide coating layer obtained from them is excellent in developing solution resistance.

【0184】[製版及び印刷]本発明の平版印刷版原版
は熱により画像形成される。具体的には、熱記録ヘッド
等による直接画像様記録、赤外レーザによる走査露光、
キセノン放電灯などの高照度フラッシュ露光や赤外線ラ
ンプ露光などが用いられるが、波長700〜1200n
mの赤外線を放射する半導体レーザ、YAGレーザ等の
固体高出力赤外レーザによる露光が好適である。
[Plate making and printing] The planographic printing plate precursor of the invention is image-formed by heat. Specifically, direct image-like recording with a thermal recording head, scanning exposure with an infrared laser,
High-intensity flash exposure such as xenon discharge lamp and infrared lamp exposure are used, but wavelength 700-1200n
Exposure with a solid-state high-power infrared laser such as a semiconductor laser or a YAG laser that emits infrared rays of m is suitable.

【0185】露光された本発明の平版印刷版原版は、現
像処理及びフィニッシャーや保護ガムなどによる後処理
を施されて印刷版となる。上記酸触媒架橋反応を利用し
たネガ型平版印刷版原版の場合のように、必要に応じて
現像処理の前に版を加熱することもできる。
The exposed planographic printing plate precursor of the invention is subjected to development processing and post-treatment with a finisher or protective gum to give a printing plate. As in the case of the negative type lithographic printing plate precursor utilizing the above acid-catalyzed crosslinking reaction, the plate can be heated before the development treatment, if necessary.

【0186】本発明の平版印刷版原版の現像処理及び後
処理に用いられる処理剤としては、公知の処理剤の中か
ら適宜選択して用いることができる。好適な現像液とし
ては、pHが9.0〜14.0の範囲、好ましくは1
2.0〜13.5の範囲にある現像液である。現像液に
は、従来から知られているアルカリ水溶液が使用でき
る。上記のアルカリ水溶液のうち、特に好適な現像液と
して、塩基としてケイ酸アルカリを含有した、又は塩基
にケイ素化合物を混ぜてケイ酸アルカリとしたものを含
有した、従来から良く知られている所謂「シリケート現
像液」と呼ばれるpH12以上の水溶液、及び、特開平
8−305039号公報に記載の、ケイ酸アルカリを含
有せず、非還元糖(緩衝作用を有する有機化合物)と塩
基とを含有した所謂「ノンシリケート現像液」が挙げら
れる。
The processing agent used in the development processing and post-processing of the lithographic printing plate precursor according to the invention can be appropriately selected from known processing agents and used. A suitable developer has a pH in the range of 9.0 to 14.0, preferably 1.
The developer is in the range of 2.0 to 13.5. A conventionally known alkaline aqueous solution can be used as the developer. Among the above-mentioned alkaline aqueous solutions, as a particularly suitable developing solution, a solution containing an alkali silicate as a base or an alkali silicate obtained by mixing a silicon compound with a base is known, which is well known in the art. An aqueous solution having a pH of 12 or more, which is called a "silicate developer", and a so-called JP-A-8-305039, which does not contain an alkali silicate but contains a non-reducing sugar (organic compound having a buffering action) and a base. "Non-silicate developer" is mentioned.

【0187】本発明の平版印刷版をバーニング処理する
場合は、バーニング整面液を用い、バーニングプロセサ
などを用いて行う従来から知られている方法で行うこと
が好ましい。
When the lithographic printing plate of the present invention is subjected to a burning treatment, it is preferable to use a conventionally known method of using a burning surface-adjusting solution and a burning processor.

【0188】このような処理によって得られた平版印刷
版はオフセット印刷機等にかけられ、多数枚の印刷に用
いられる。
The lithographic printing plate obtained by such treatment is applied to an offset printing machine or the like and used for printing a large number of sheets.

【0189】[0189]

【実施例】以下本発明を実施例によって更に具体的に説
明するが、勿論本発明の範囲は、これらによって限定さ
れるものではない。
The present invention will be described in more detail with reference to the following examples, but the scope of the present invention is not limited by these examples.

【0190】(合成例1:長鎖アルキル基含有ポリマー
Aの合成)コンデンサー、攪拌機を取り付けた1000
ml三口フラスコに、N,N−ジメチルアセトアミド
22.0gを入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、n-
メタクリル酸ドデシル20.0g、下記化合物a1.9
g、V−65(和光純薬製)0.215gのN,N−ジ
メチルアセトアミド22.0g溶液を2時間半かけて滴
下した。更に、70℃で2時間反応させた。反応混液を
室温に冷却して、1000mlのメタノールに反応液を
注ぎ込んだ。デカンテーション後、メタノールで洗浄
し、得られた液状生成物を減圧乾燥することで長鎖アル
キル基含有ポリマーA18.5gを得た。ポリスチレン
を標準物質としたゲルパーミエーションクロマトグラフ
ィー法(GPC)により、重量平均分子量を測定した結
果、30,000であった。
(Synthesis Example 1: Synthesis of long-chain alkyl group-containing polymer A) 1000 equipped with a condenser and a stirrer
ml, three-necked flask, N, N-dimethylacetamide
22.0g was put and it heated at 70 degreeC. Under nitrogen stream, n-
Dodecyl methacrylate 20.0 g, compound a1.9 below
g, V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.215 g of N, N-dimethylacetamide 22.0 g solution was added dropwise over 2 hours and a half. Furthermore, the reaction was carried out at 70 ° C. for 2 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into 1000 ml of methanol. After decantation, the product was washed with methanol, and the obtained liquid product was dried under reduced pressure to obtain 18.5 g of long-chain alkyl group-containing polymer A. As a result of measuring the weight average molecular weight by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance, it was 30,000.

【0191】[0191]

【化44】 [Chemical 44]

【0192】(合成例2:長鎖アルキル基含有ポリマー
Bの合成)コンデンサー、攪拌機を取り付けた1000
ml三口フラスコに、1−メトキシー2−プロパノール
21.0gを入れ、70℃に加熱した。窒素気流下、
n-メタクリル酸ドデシル20.0g、メタクリル酸
0.677g、V−65(和光純薬製)0.215gの
1−メトキシー2−プロパノール21.0g溶液を2時
間半かけて滴下した。更に、70℃で2時間反応させ
た。反応混液を室温に冷却して、1000mlのメタノ
ールに反応液を注ぎ込んだ。デカンテーション後、メタ
ノールで洗浄し、得られた液状生成物を減圧乾燥するこ
とで長鎖アルキル基含有ポリマーB18.2gを得た。
ポリスチレンを標準物質としたゲルパーミエーションク
ロマトグラフィー法(GPC)により、重量平均分子量
を測定した結果、50,000であった。
(Synthesis Example 2: Synthesis of long chain alkyl group-containing polymer B) 1000 equipped with a condenser and a stirrer
21.0 g of 1-methoxy-2-propanol was put into the ml three necked flask, and it heated at 70 degreeC. Under a nitrogen stream,
20.0 g of n-dodecyl methacrylate, methacrylic acid
A solution of 0.677 g and V-65 (manufactured by Wako Pure Chemical Industries, Ltd.) 0.215 g in 1-methoxy-2-propanol (21.0 g) was added dropwise over 2 hours and a half. Furthermore, the reaction was carried out at 70 ° C. for 2 hours. The reaction mixture was cooled to room temperature and poured into 1000 ml of methanol. After decantation, the product was washed with methanol, and the obtained liquid product was dried under reduced pressure to obtain 18.2 g of a long-chain alkyl group-containing polymer B.
The weight average molecular weight was measured by gel permeation chromatography (GPC) using polystyrene as a standard substance, and as a result, it was 50,000.

【0193】(合成例3〜9:長鎖アルキル基含有ポリ
マーC〜Iの合成)合成例1又は合成例2と同様にし
て、下記表1に示した長鎖アルキル基含有モノマーと親
水性モノマーを用い、本発明の長鎖アルキル基含有ポリ
マーC〜Iを合成した。更にGPCにより分子量を測定
した。測定した結果を表1に示す。
(Synthesis Examples 3 to 9: Synthesis of long-chain alkyl group-containing polymers C to I) In the same manner as in Synthesis Example 1 or Synthesis Example 2, long-chain alkyl group-containing monomers and hydrophilic monomers shown in Table 1 below. Was used to synthesize long-chain alkyl group-containing polymers C to I of the present invention. Furthermore, the molecular weight was measured by GPC. The measured results are shown in Table 1.

【0194】[0194]

【表1】 [Table 1]

【0195】(基板Aの作製)厚さ0.24mmのアル
ミニウム板(Si:0. 06質量%、Fe:0.30質
量%、Cu:0. 014質量%、Mn:0.001質量
%、Mg:0.001質量%、Zn:0.001質量
%、Ti:0.03質量%を含有し、残部はAlと不可
避不純物のアルミニウム合金)に対し以下に示す表面処
理を連続的に行った。
(Production of Substrate A) An aluminum plate having a thickness of 0.24 mm (Si: 0.06 mass%, Fe: 0.30 mass%, Cu: 0.014 mass%, Mn: 0.001 mass%, Mg: 0.001% by mass, Zn: 0.001% by mass, Ti: 0.03% by mass, with the balance being Al and aluminum alloy of unavoidable impurities), the following surface treatment was continuously performed. .

【0196】比重1.12の研磨剤(ケイ砂)と水との
懸濁液を研磨スラリー液としてアルミニウム板の表面に
供給しながら、回転するローラー状ナイロンブラシによ
り機械的な粗面化を行った。その後、カセイソーダ濃度
2.6質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量%、
温度70℃でスプレーによるエッチング処理を行い、ア
ルミニウム板を6g/m2 溶解し、スプレーによる水洗
を行った。更に、温度30℃の硝酸濃度1質量%水溶液
(アルミニウムイオンを0.5質量%含む。)で、スプ
レーによるデスマット処理を行い、スプレーで水洗し
た。その後、60Hzの交流電圧を用いて連続的に電気
化学的な粗面化処理を行った。このときの電解液は、硝
酸10g/L水溶液(アルミニウムイオンを5g/L、
アンモニウムイオンを0.007質量%含む。)、温度
80℃であった。水洗後、アルミニウム板をカセイソー
ダ濃度26質量%、アルミニウムイオン濃度6.5質量
%でスプレーによるエッチング処理を32℃で行い、ア
ルミニウム板を0.20g/m2溶解し、スプレーによ
る水洗を行った。その後、温度60℃の硫酸濃度25質
量%水溶液(アルミニウムイオンを0.5質量%含
む。)で、スプレーによるデスマット処理を行い、スプ
レーによる水洗を行った。次に、二段給電電解処理法の
陽極酸化装置を用いて陽極酸化処理を行った。電解部に
供給した電解液としては、硫酸を用いた。その後、スプ
レーによる水洗を行った。最終的な酸化皮膜量は2.7
g/m2であった。陽極酸化処理により得られたアルミ
ニウム支持体を温度30℃の3号ケイ酸ソーダ1質量%
水溶液の処理層中へ、10秒間、浸せきすることでアル
カリ金属ケイ酸塩処理(シリケート処理)を行った。そ
の後、スプレーによる水洗を行った。
While supplying a suspension of a polishing agent (silica sand) having a specific gravity of 1.12 and water as a polishing slurry liquid to the surface of an aluminum plate, mechanical roughening was performed by a rotating roller nylon brush. It was Then, caustic soda concentration 2.6 mass%, aluminum ion concentration 6.5 mass%,
Etching treatment by spraying was performed at a temperature of 70 ° C., an aluminum plate was melted at 6 g / m 2 , and washed with water by spraying. Further, desmutting treatment was performed by spraying with a 1% by weight nitric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum ion) at a temperature of 30 ° C., and washing with water was performed by spraying. Then, electrochemical roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. The electrolytic solution at this time was 10 g / L nitric acid aqueous solution (aluminum ion was 5 g / L,
It contains ammonium ions in an amount of 0.007 mass%. ) And the temperature was 80 ° C. After washing with water, the aluminum plate was subjected to etching treatment by spraying at a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass at 32 ° C. to dissolve the aluminum plate at 0.20 g / m 2 and then washing by spraying with water. Thereafter, desmutting treatment was performed by spraying with a 25% by weight aqueous solution of sulfuric acid having a temperature of 60 ° C. (containing 0.5% by weight of aluminum ion), and washing with water was performed by spraying. Next, an anodizing treatment was performed using the anodizing device of the two-stage power feeding electrolytic treatment method. Sulfuric acid was used as the electrolytic solution supplied to the electrolysis section. Then, washing with water was performed by spraying. Final oxide film amount is 2.7
It was g / m 2 . The aluminum support obtained by the anodizing treatment was treated with 1% by mass of sodium silicate No. 3 at a temperature of 30 ° C.
Alkali metal silicate treatment (silicate treatment) was performed by immersing the treatment layer in the aqueous solution for 10 seconds. Then, washing with water was performed by spraying.

【0197】上記のようにして得られたアルカリ金属ケ
イ酸塩処理後のアルミニウム支持体上に、下記組成の下
塗液を塗布し、80℃で15秒間乾燥し、塗膜を形成さ
せた。乾燥後の塗布量は15mg/m2であった。
On the aluminum support treated with alkali metal silicate obtained as described above, the undercoat liquid having the following composition was applied and dried at 80 ° C. for 15 seconds to form a coating film. The coating amount after drying was 15 mg / m 2 .

【0198】 (下塗り液) ・下記化合物 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g[0198] (Undercoat)     ・ The following compound 0.3g     ・ Methanol 100g     ・ Water 1g

【0199】[0199]

【化45】 [Chemical formula 45]

【0200】(基板Bの作製)基板Aの作製に用いたも
のと同じ材質の厚さ0.24mmのアルミニウム板に対
し以下に示す表面処理を連続的に行った。60Hzの交
流電圧を用いて連続的に電気化学的な粗面化処理を行っ
た。このときの電解液は、硝酸10g/L水溶液(アル
ミニウムイオンを5g/L、アンモニウムイオンを0.
007質量%含む。)、温度80℃であった。水洗後、
アルミニウム板をカセイソーダ濃度26質量%、アルミ
ニウムイオン濃度6.5質量%でスプレーによるエッチ
ング処理を32℃で行い、アルミニウム板を0.20g
/m2 溶解し、スプレーによる水洗を行った。その後、
温度60℃の硫酸濃度25質量%水溶液(アルミニウム
イオンを0.5質量%含む。)で、スプレーによるデス
マット処理を行い、スプレーによる水洗を行った。
(Production of Substrate B) An aluminum plate having the same material as that used for production of the substrate A and having a thickness of 0.24 mm was continuously subjected to the following surface treatment. Electrochemical surface roughening treatment was continuously performed using an alternating voltage of 60 Hz. At this time, the electrolytic solution was a 10 g / L nitric acid aqueous solution (aluminum ion was 5 g / L, ammonium ion was 0.1 g / L).
007 mass% is included. ) And the temperature was 80 ° C. After washing with water
The aluminum plate was subjected to a spray etching treatment at 32 ° C. with a caustic soda concentration of 26% by mass and an aluminum ion concentration of 6.5% by mass to give an aluminum plate of 0.20 g.
/ M 2 It was dissolved and washed with water by spraying. afterwards,
A desmutting treatment by spraying was performed with a 25% by weight sulfuric acid aqueous solution (containing 0.5% by weight of aluminum ion) at a temperature of 60 ° C., and washing with water was performed by spraying.

【0201】次いで、基板Aの作製と同様に、陽極酸化
処理(酸化皮膜量2.7g/m2)、 シリケート処理及
び下塗液の塗布(乾燥塗布量15mg/m2)を行い、
基板Bを作製した。
Then, similarly to the preparation of the substrate A, anodization treatment (oxide film amount 2.7 g / m 2 ), silicate treatment and undercoat liquid coating (dry coating amount 15 mg / m 2 ) were carried out,
Substrate B was produced.

【0202】(基板Cの作製)99.5質量%以上のア
ルミニウムと、Fe 0.30質量%、Si 0.10質
量%、Ti 0.02質量%、Cu 0.013質量%を
含むJIS A 1050合金の溶湯に清浄化処理を施
し、鋳造した。清浄化処理には、溶湯中の水素などの不
要なガスを除去するために脱ガス処理し、セラミックチ
ューブフィルタ処理をおこなった。鋳造法はDC鋳造法
で行った。凝固した板厚500mmの鋳塊を表面から1
0mm面削し、金属間化合物が粗大化してしまわないよ
うに550℃で10時間均質化処理を行った。次いで、
400℃で熱間圧延し、連続焼鈍炉中で500℃、60
秒中間焼鈍した後、冷間圧延を行って、板圧0.30m
mのアルミニウム圧延板とした。圧延ロールの粗さを制
御することにより、冷間圧延後の中心線平均表面粗さR
aを0.2μmに制御した。その後、平面性を向上させ
るためにテンションレベラーにかけた。
(Production of Substrate C) JIS A containing 99.5% by mass or more of aluminum and 0.30% by mass of Fe, 0.10% by mass of Si, 0.02% by mass of Ti, and 0.013% by mass of Cu. The molten metal of 1050 alloy was subjected to a cleaning treatment and cast. For the cleaning treatment, degassing treatment was performed to remove unnecessary gas such as hydrogen in the molten metal, and ceramic tube filter treatment was performed. The casting method was a DC casting method. Solidified 500 mm thick ingot 1 from the surface
The surface was ground to 0 mm, and homogenized at 550 ° C. for 10 hours so that the intermetallic compound did not become coarse. Then
Hot rolled at 400 ℃, 500 ℃ in a continuous annealing furnace, 60
After the second intermediate annealing, cold rolling is performed and the plate pressure is 0.30 m.
m rolled aluminum plate. The center line average surface roughness R after cold rolling is controlled by controlling the roughness of the rolling roll.
a was controlled to 0.2 μm. Then, a tension leveler was applied to improve the flatness.

【0203】このアルミニウム板に以下の表面処理を施
した。まず、アルミニウム板表面の圧延油を除去するた
め10質量%アルミン酸ソーダ水溶液で50℃30秒間
脱脂処理を行い、30質量%硫酸水溶液で50℃30秒
間中和、スマット除去処理を行った。次いで、支持体と
記録層の密着性を良好にし、かつ非画後部に保水性を与
えるため、支持体の表面を粗面化する、いわゆる、砂目
立て処理を行った。1質量%の硝酸と0.5質量%の硝
酸アルミを含有する水溶液を45℃に保ち、アルミニウ
ムウェブを水溶液中に通搬しながら、間接給電セルによ
り電流密度20A/dm2、デューティー比1:1の交
番波形でアノード側電気量240C/dm2を与えるこ
とで電解砂目立てを行った。その後10質量%アルミン
酸ソーダ水溶液で50℃30秒間エッチング処理を行
い、30質量%硫酸水溶液で50℃30秒間中和、スマ
ット除去処理を行った。
The following surface treatment was applied to this aluminum plate. First, in order to remove the rolling oil on the surface of the aluminum plate, degreasing treatment was performed with a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, neutralization with a 30 mass% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and smut removal treatment. Next, in order to improve the adhesion between the support and the recording layer and to impart water retention to the non-image rear part, a so-called graining treatment for roughening the surface of the support was performed. An aqueous solution containing 1% by mass of nitric acid and 0.5% by mass of aluminum nitrate was kept at 45 ° C., and while carrying the aluminum web through the aqueous solution, the current density was 20 A / dm 2 and the duty ratio was 1: by an indirect power supply cell. Electrolytic graining was performed by applying an electric charge of 240 C / dm 2 on the anode side with an alternating waveform of 1. After that, an etching treatment was performed with a 10 mass% sodium aluminate aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds, and a smut removal treatment was performed with a 30 mass% sulfuric acid aqueous solution at 50 ° C. for 30 seconds.

【0204】更に、耐摩耗性、耐薬品性、保水性を向上
させるために、陽極酸化によって支持体に酸化皮膜を形
成させた。電解質として硫酸20質量%水溶液を35℃
で用い、アルミニウムウェブを電解質中に通搬しなが
ら、間接給電セルにより14A/dm2の直流で電解処
理を行うことで2.5g/m2の陽極酸化皮膜を作製し
た。その後、印刷版非画像部としての親水性を確保する
ため、シリケート処理を行った。処理は3号珪酸ソーダ
1.5質量%水溶液を70℃に保ちアルミウェブの接触
時間が15秒となるよう通搬し、更に水洗した。Siの
付着量は10mg/m2であった。以上により完成した
基板CのRa(中心線表面粗さ)は0.25μmであっ
た。
Further, in order to improve abrasion resistance, chemical resistance and water retention, an oxide film was formed on the support by anodic oxidation. 20% by mass aqueous solution of sulfuric acid as an electrolyte at 35 ° C
As described above, an anodized film of 2.5 g / m 2 was produced by carrying out electrolytic treatment with a direct current of 14 A / dm 2 using an indirect power supply cell while carrying the aluminum web through the electrolyte. Then, in order to secure hydrophilicity as a non-image portion of the printing plate, a silicate treatment was performed. The treatment was carried out by keeping a 1.5% by mass aqueous solution of sodium silicate No. 3 at 70 ° C. so that the contact time of the aluminum web was 15 seconds, and further washing with water. The amount of attached Si was 10 mg / m 2 . The Ra (center line surface roughness) of the substrate C completed as described above was 0.25 μm.

【0205】〔実施例1〕得られた基板Bに、以下の記
録層塗布液1を塗布量が1.0g/m2になるよう塗布
したのち、TABAI社製、PERFECT OVEN
PH200にてWind Controlを7に設定
して140℃で50秒間乾燥して記録層を形成し、平版
印刷版原版1を得た。
Example 1 The following recording layer coating liquid 1 was applied to the obtained substrate B so that the coating amount was 1.0 g / m 2, and then PERFECT OVEN manufactured by TABAI was used.
Wind Control was set to 7 in PH200, and the recording layer was formed by drying at 140 ° C. for 50 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor 1.

【0206】 (記録層塗布液1) ・長鎖アルキル基含有ポリマーA 0.02g ・m,p−クレゾールノボラック(m/pモル比=6/4、重量平均分子量 3500、未反応クレゾール0.5質量%含有) 0.474g ・特定の共重合体1(下記) 2.37g ・赤外線吸収剤(本明細書記載のIR−1) 0.155g ・2−メトキシ−4−(N−フェニルアミノ)ベンゼン ジアゾニウム・ヘキサフルオロホスフェート 0.03g ・テトラヒドロ無水フタル酸 0.19g ・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ −β−ナフタレンスルホン酸イオンに換えたもの 0.05g ・フッ素系界面活性剤(大日本インキ化学工業(株)製 メガファックF176PF(固形分20質量%)) 0.035g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・ビス−p−ヒドロキシフェニルスルホン 0.063g ・γ−ブチロラクトン 13g ・メチルエチルケトン 24g ・1−メトキシ−2−プロパノール 11g[0206] (Recording layer coating liquid 1)   ・ Long-chain alkyl group-containing polymer A 0.02 g   -M, p-cresol novolak (m / p molar ratio = 6/4, weight average molecular weight     3500, containing 0.5% by mass of unreacted cresol) 0.474 g   ・ Specific copolymer 1 (below) 2.37 g   Infrared absorber (IR-1 described in the present specification) 0.155 g   ・ 2-Methoxy-4- (N-phenylamino) benzene     Diazonium hexafluorophosphate 0.03g   ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.19g   6-hydroxy counter ion of ethyl violet     Replaced with -β-naphthalene sulfonate ion 0.05g   ・ Fluorosurfactant (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)     Megafac F176PF (solid content 20 mass%)) 0.035g   -P-toluenesulfonic acid 0.008 g   -Bis-p-hydroxyphenyl sulfone 0.063 g   ・ Γ-Butyrolactone 13 g   ・ Methyl ethyl ketone 24g   ・ 1-Methoxy-2-propanol 11 g

【0207】特定の共重合体1:N−(p−アミノスル
ホニルフェニル)メタクリルアミド/メタクリル酸エチ
ル/アクリロニトリル(モル%32/43/25)、重
量平均分子量53,000。合成法:特開平11−28
8093号公報に記載。
Specific copolymer 1: N- (p-aminosulfonylphenyl) methacrylamide / ethyl methacrylate / acrylonitrile (mol% 32/43/25), weight average molecular weight 53,000. Synthesis method: JP-A-11-28
8093.

【0208】〔実施例2〕得られた基板Bに、以下の記
録層塗布液2を乾燥塗布量が1.8g/m2になるよう
塗布したのち、実施例1と同様の条件で乾燥し記録層を
形成し、平版印刷版原版2を得た。
Example 2 The following recording layer coating liquid 2 was applied to the obtained substrate B so that the dry coating amount was 1.8 g / m 2, and then dried under the same conditions as in Example 1. A recording layer was formed to obtain a lithographic printing plate precursor 2.

【0209】 (記録層塗布液2) ・長鎖アルキル基含有ポリマーA 0.09g ・ノボラック樹脂((B)樹脂) 0.90g (m/p−クレゾール(6/4)、重量平均分子量7000、未反応クレゾー ル0.5質量%) ・メタクリル酸エチル/メタクリル酸イソブチル/メタクリル酸(35/35 /30モル%)共重合体 0.10g ・赤外線吸収剤(本明細書記載のIR−1) 0.1g ・無水フタル酸 0.05g ・p−トルエンスルホン酸 0.002g ・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒドロキシ −β−ナフタレンスルホン酸イオンに換えたもの 0.02g ・フッ素系ポリマー(ディフェンサF−176(固形分20質量%) 大日本インキ化学工業(株)製) 0.015g ・フッ素系ポリマー(ディフェンサMCF−312(固形分30質量%) 大日本インキ化学工業(株)製) 0.035g ・メチルエチルケトン 12g[0209] (Recording layer coating liquid 2)   -Long-chain alkyl group-containing polymer A 0.09 g   ・ Novolak resin ((B) resin) 0.90g   (M / p-cresol (6/4), weight average molecular weight 7,000, unreacted cresol     0.5% by mass)   ・ Ethyl methacrylate / isobutyl methacrylate / methacrylic acid (35/35     / 30 mol%) copolymer 0.10 g   Infrared absorber (IR-1 described in the present specification) 0.1 g   ・ Phthalic anhydride 0.05g   -P-toluenesulfonic acid 0.002 g   6-hydroxy counter ion of ethyl violet     Replaced with -β-naphthalene sulfonate ion 0.02g   Fluorine-based polymer (Defencer F-176 (solid content 20% by mass)       Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.015g   Fluorine-based polymer (Defencer MCF-312 (solid content 30% by mass)       Dainippon Ink and Chemicals Co., Ltd.) 0.035g   ・ Methyl ethyl ketone 12g

【0210】〔実施例3〜9〕実施例1の記録層塗布液
1において、長鎖アルキル基含有ポリマーAの代わり
に、以下の表2に記載の長鎖アルキル基含有ポリマーの
組み合わせを用いた以外は実施例1と同様にして平版印
刷版原版3〜9を得た。
[Examples 3 to 9] In the coating liquid 1 for recording layer of Example 1, instead of the long chain alkyl group-containing polymer A, combinations of long chain alkyl group containing polymers shown in Table 2 below were used. Lithographic printing plate precursors 3 to 9 were obtained in the same manner as in Example 1 except for the above.

【0211】[0211]

【表2】 [Table 2]

【0212】〔比較例1〕実施例1の記録層塗布液1に
おいて、長鎖アルキル基含有ポリマーAを添加しなかっ
た以外は、実施例1と同様にして平版印刷版原版10を
得た。
Comparative Example 1 A lithographic printing plate precursor 10 was obtained in the same manner as in Example 1 except that the long-chain alkyl group-containing polymer A was not added to the recording layer coating liquid 1 of Example 1.

【0213】〔比較例2〕実施例1の記録層塗布液1に
おいて、長鎖アルキル基含有ポリマーの代わりに、ステ
アリン酸n−ドデシル0.02gを用いた以外は実施例
1と同様にして平版印刷版原版11を得た。
[Comparative Example 2] A lithographic plate was prepared in the same manner as in Example 1 except that 0.02 g of n-dodecyl stearate was used in place of the long chain alkyl group-containing polymer in Recording Layer Coating Solution 1 of Example 1. A printing plate precursor 11 was obtained.

【0214】〔比較例3〕実施例2の記録層塗布液2に
おいて、長鎖アルキル基含有ポリマーを添加しなかった
以外は、実施例2と同様にして、平版印刷版原版12を
得た。
[Comparative Example 3] A lithographic printing plate precursor 12 was obtained in the same manner as in Example 2 except that the long-chain alkyl group-containing polymer was not added to the recording layer coating liquid 2 of Example 2.

【0215】〔実施例10〕基板Aに以下の記録層塗布
液3を乾燥塗布量が2.0g/m2になるよう塗布した
のち、TABAI社製、PERFECT OVEN P
H200にてWind Controlを7に設定して
130℃で50秒間乾燥し、その後、記録層塗布液4を
塗布量が0.40g/m2になるよう塗布したのち、1
40℃で1分間乾燥し、平版印刷版原版13を得た。
Example 10 The following recording layer coating liquid 3 was coated on the substrate A so that the dry coating amount was 2.0 g / m 2, and then PERFECT OVEN P manufactured by Tabai was applied.
After setting Wind Control to 7 on H200 and drying at 130 ° C. for 50 seconds, the coating liquid 4 for the recording layer is applied so that the coating amount becomes 0.40 g / m 2, and then 1
It was dried at 40 ° C. for 1 minute to obtain a lithographic printing plate precursor 13.

【0216】 (記録層塗布液3) ・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/ アクリロニトリル/メタクリル酸メチル共重合体 (36/34/30:重量平均分子量50000、酸価2.65) 2.133g ・赤外線吸収剤(本明細書記載のIR−1) 0.134g ・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g ・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート 0.032g ・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒイドロキシ −β−ナフタレンスルホン酸イオンに変えたもの 0.781g ・メガファックF176(大日本インキ化学工業(株)製 塗布面状改良フッ素系界面活性剤(固形分20質量%)) 0.035g ・メチルエチルケトン 25.41g ・1−メトキシ−2−プロパノール 12.97g ・γ−ブチロラクトン 13.18g[0216] (Recording layer coating liquid 3) ・ N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide /     Acrylonitrile / methyl methacrylate copolymer     (36/34/30: weight average molecular weight 50,000, acid value 2.65) 2.133 g Infrared absorber (IR-1 described in the present specification) 0.134 g * 4,4'-bishydroxyphenyl sulfone 0.126 g ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g -P-toluenesulfonic acid 0.008 g ・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine     Hexafluorophosphate 0.032 g ・ The counter ion of ethyl violet is 6-hydroxy.   -Β-naphthalene sulfonate ion 0.781g ・ Megafuck F176 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)   Coating surface condition improving fluorochemical surfactant (solid content 20% by mass)) 0.035 g ・ Methyl ethyl ketone 25.41 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 12.97 g * Γ-butyrolactone 13.18 g

【0217】 (記録層塗布液4) ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 4500、未反応クレゾール0.8質量%含有) 0.3479g ・赤外線吸収剤(本明細書記載のIR−1) 0.0192g ・エチルメタクリレート/イソブチルメタクリレート/アクリル酸 共重合体(37/37/26モル%)30質量% MEK溶液 0.1403g ・長鎖アルキル基含有ポリマーA 0.034g ・メガファックF176(20質量%)(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.022g ・メガファックMCF−312(30質量%)(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.011g ・メチルエチルケトン 13.07g ・1−メトキシ−2−プロパノール 7.7g[0217] (Recording layer coating liquid 4) -M, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight     4500, containing 0.8% by mass of unreacted cresol) 0.3479 g Infrared absorber (IR-1 described in the present specification) 0.0192 g ・ Ethyl methacrylate / isobutyl methacrylate / acrylic acid     Copolymer (37/37/26 mol%) 30 mass% MEK solution 0.1403 g -Long-chain alkyl group-containing polymer A 0.034 g ・ Megafuck F176 (20 mass%) (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)   Fluorine-based surfactant) 0.022g ・ MegaFac MCF-312 (30 mass%) (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)   Fluorine-based surfactant) 0.011g ・ Methyl ethyl ketone 13.07g ・ 1-Methoxy-2-propanol 7.7 g

【0218】〔実施例11〕実施例10で用いたのと同
じ基板に実施例10の記録層塗布液3と同様の条件で記
録層塗布液5を塗布、乾燥し、更にその上に実施例10
の記録層塗布液4と同様の条件で記録層塗布液6を塗
布、乾燥し、2層構成の記録層を有する平版印刷版原版
14を得た。
[Example 11] The recording layer coating liquid 5 was applied to the same substrate as used in Example 10 under the same conditions as the recording layer coating liquid 3 of Example 10 and dried. 10
The recording layer coating solution 6 was applied and dried under the same conditions as the recording layer coating solution 4 above to obtain a lithographic printing plate precursor 14 having a two-layer recording layer.

【0219】 (記録層塗布液5) ・N−(4−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド/ アクリロニトリル/メタクリル酸メチル共重合体 (36/34/30:重量平均分子量50000、酸価2.65) 2.133g ・赤外線吸収剤(本明細書記載のIR−1) 0.109g ・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g ・無水テトラヒドロフタル酸 0.190g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート 0.030g ・エチルバイオレットの対イオンを6−ヒイドロキシ −β−ナフタレンスルホン酸イオンに変えたもの 0.100g ・メガファックF176(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤(固形分20質量%)) 0.035g ・メチルエチルケトン 25.38g ・1−メトキシ−2−プロパノール 13.0g ・γ−ブチロラクトン 13.2g[0219] (Recording layer coating liquid 5) ・ N- (4-aminosulfonylphenyl) methacrylamide /     Acrylonitrile / methyl methacrylate copolymer     (36/34/30: weight average molecular weight 50,000, acid value 2.65) 2.133 g Infrared absorber (IR-1 described in the present specification) 0.109 g * 4,4'-bishydroxyphenyl sulfone 0.126 g ・ Tetrahydrophthalic anhydride 0.190g -P-toluenesulfonic acid 0.008 g ・ 3-Methoxy-4-diazodiphenylamine     Hexafluorophosphate 0.030 g ・ The counter ion of ethyl violet is 6-hydroxy. 0.100 g of which was changed to -β-naphthalene sulfonate ion ・ Megafuck F176 (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)   Fluorine-based surfactant (solid content 20% by mass)) 0.035 g ・ Methyl ethyl ketone 25.38 g ・ 1-Methoxy-2-propanol 13.0 g -Γ-butyrolactone 13.2 g

【0220】 (記録層塗布液6) ・m,p−クレゾールノボラック(m/p比=6/4、重量平均分子量 4500、未反応クレゾール0.8質量%含有) 0.3478g ・赤外線吸収剤(本明細書記載のIR−1) 0.0192g ・長鎖アルキル基含有ポリマーA 0.034g ・特開平2001-398047号公報実施例2で用いられている アンモニウム化合物 0.0115g ・メガファックF176(20質量%)(大日本インキ化学工業(株)製 フッ素系界面活性剤) 0.022g ・メチルエチルケトン 13.07g ・1−メトキシ−2−プロパノール 6.79g[0220] (Recording layer coating liquid 6) -M, p-cresol novolac (m / p ratio = 6/4, weight average molecular weight   4500, containing 0.8% by mass of unreacted cresol) 0.3478 g Infrared absorber (IR-1 described in the present specification) 0.0192 g -Long-chain alkyl group-containing polymer A 0.034 g -Used in Example 2 of Japanese Patent Laid-Open No. 2001-398047   Ammonium compound 0.0115g ・ Megafuck F176 (20 mass%) (manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc.)   Fluorine-based surfactant) 0.022g ・ Methyl ethyl ketone 13.07g ・ 1-Methoxy-2-propanol 6.79 g

【0221】〔実施例12〜19〕実施例10の記録層
塗布液4において、長鎖アルキル基含有ポリマーAの代
わりに下記表2に記載の長鎖アルキル基含有ポリマーを
用いた以外は実施例10と同様にして平版印刷版原版1
5〜22を得た。
[Examples 12 to 19] In the coating liquid 4 for recording layer of Example 10, the long chain alkyl group-containing polymers shown in Table 2 below were used in place of the long chain alkyl group containing polymer A. Lithographic printing plate precursor 1 as in 10.
5-22 were obtained.

【0222】[0222]

【表3】 [Table 3]

【0223】〔実施例20〜27〕実施例11の記録層
塗布液6において、長鎖アルキル基含有ポリマーAの代
わりに下記表4に記載の長鎖アルキル基含有ポリマーを
用いた以外は実施例12と同様にして平版印刷版原版2
3〜30を得た。
Examples 20 to 27 In the recording layer coating liquid 6 of Example 11, the long chain alkyl group-containing polymers shown in Table 4 below were used in place of the long chain alkyl group containing polymer A Lithographic printing plate precursor 2 as in 12
3 to 30 were obtained.

【0224】[0224]

【表4】 [Table 4]

【0225】〔比較例4〕実施例10の記録層塗布液4
において、長鎖アルキル基含有ポリマーAを添加しなか
った以外は、実施例2と同様にして、平版印刷版原版3
1を得た。
[Comparative Example 4] Coating liquid 4 for recording layer of Example 10
In the same manner as in Example 2 except that the long-chain alkyl group-containing polymer A was not added in, the lithographic printing plate precursor 3
Got 1.

【0226】[実施例1〜27及び比較例1〜4で作製
した平版印刷版原版の評価]上記のようにして作製した
平版印刷版原版に関して、動摩擦係数、耐キズ性、現像
ラチチュード及び転写性を下記の方法によって評価し
た。
[Evaluation of lithographic printing plate precursors produced in Examples 1-27 and Comparative Examples 1 to 4] With respect to the lithographic printing plate precursors produced as described above, the coefficient of dynamic friction, scratch resistance, development latitude and transferability were determined. Was evaluated by the following method.

【0227】<動摩擦係数の測定>本発明の画像記録材
料の動摩擦係数(dynamic or kinetic coefficient of
friction)(μk)は、得られた実施例及び比較例の平
版印刷版原版1〜31を用いて、標準ASTM D18
94に順い、平版印刷版原版記録層の表面がステンレス
スチールと接触するように置いて測定した。結果を表5
に示した。
<Measurement of Dynamic Friction Coefficient> The dynamic friction coefficient of the image recording material of the present invention (dynamic or kinetic coefficient of
Friction) (μk) was measured using standard ASTM D18 using the planographic printing plate precursors 1 to 31 of the obtained Examples and Comparative Examples.
The measurement was carried out in the order of 94, with the surface of the lithographic printing plate precursor recording layer in contact with stainless steel. The results are shown in Table 5.
It was shown to.

【0228】<耐キズ性評価>得られた実施例及び比較
例の平版印刷版原版1〜31をロータリー・アブレーシ
ョン・テスター(TOYOSEIKI社製)を用い、2
50gの加重下、アブレーザーフェルトCS5で15回
摩擦した。その後、富士写真フイルム(株)製現像液D
T−1(1:8で希釈したもの)及び富士写真フイルム
(株)製フィニッシャーFP2W(1:1で希釈したも
の)を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッ
サー900Hを用い、液温30℃、現像時間12秒にて
現像した。この時の現像液の電導度は、45mS/cm
であった。耐キズ性の評価は、現像後、アブレーザーフ
ェルトで摩擦した部分及び摩擦しなかった部分の光学濃
度の目視観察及び反射濃度計(Gretag Macbeth D19C)
による測定によって、下記基準に従って行った。評価結
果は表5に示した。
<Evaluation of Scratch Resistance> The lithographic printing plate precursors 1 to 31 of the obtained Examples and Comparative Examples were used with a rotary ablation tester (manufactured by TOYOSEIKI) and 2
Abrazer felt CS5 was rubbed 15 times under a load of 50 g. After that, Fuji Photo Film Co., Ltd. developer D
Using a PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., which was charged with T-1 (diluted 1: 8) and Finisher FP2W manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. (diluted by 1: 1), a liquid temperature of 30 Development was carried out at a temperature of 12 ° C. for 12 seconds. At this time, the conductivity of the developer is 45 mS / cm.
Met. The scratch resistance was evaluated by visual observation of the optical density of a part rubbed with an ablazer felt and the part not rubbed after development, and a reflection densitometer (Gretag Macbeth D19C).
Was measured according to the following criteria. The evaluation results are shown in Table 5.

【0229】(耐キズ性の評価基準) A:摩擦した部分の記録層膜の光学濃度が全く変化しな
かったもの B:摩擦した部分の記録層膜の光学濃度が目視で僅かに
観測されたもの C:摩擦した部分の記録層膜の光学濃度が非摩擦部の2
/3以下になったもの
(Evaluation Criteria for Scratch Resistance) A: The optical density of the recording layer film in the rubbed portion did not change at all. B: The optical density of the recording layer film in the rubbed portion was slightly observed visually. Item C: The optical density of the recording layer film in the rubbed portion was 2 in the non-rubbed portion.
/ 3 or less

【0230】<現像ラチチュードの評価>作製した実施
例及び比較例の平版印刷版原版1〜31に、Creo社製Tr
endsetter3244VFSにて赤外レーザビーム強度9W、
ドラム回転速度150rpmの条件でテストパターンを
画像状に描き込んだ。富士写真フイルム(株)製ノンシ
リケート現像液DT−1を水道水で希釈し、種々の電導
度を有する現像液を調製した。この現像液を富士写真フ
イルム(株)製PSプロセッサー900Hに仕込み、上
記の露光済み平版印刷版原版を、液温30℃、現像時間
12秒にて現像した。なお、フィニッシャー液としてF
P−2W(1:1で水道水希釈したもの)を使用した。
<Evaluation of Development Latitude> The lithographic printing plate precursors 1 to 31 of the prepared Examples and Comparative Examples were manufactured by using Creo's Tr.
Infrared laser beam intensity 9W at endsetter 3244VFS,
The test pattern was drawn in the form of an image under the condition of the drum rotation speed of 150 rpm. Non-silicate developer DT-1 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was diluted with tap water to prepare developers having various electric conductivities. This developing solution was charged into PS processor 900H manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd., and the above exposed lithographic printing plate precursor was developed at a liquid temperature of 30 ° C. and a developing time of 12 seconds. As a finisher liquid, F
P-2W (diluted with tap water at 1: 1) was used.

【0231】この現像条件において、平版印刷版原版の
記録層非露光部(画像部)の光学濃度低下を目視評価
し、濃度低下が観測された時に使用された現像液電導度
を(X)mS/cmとする。また、同現像条件におい
て、平版印刷版原版の記録層露光部(非画像部)の光学
濃度低下を目視評価し、濃度低下が観測された時に使用
された現像液電導度を(Y)mS/cmとする。本実施
例においては、(X)-(Y)を現像ラチチュードと定
義した。現像ラチチュードの値が大きいほど、露光部
(非画像部)における残膜の発生がしにくく、かつ、未
露光部(画像部)の濃度低下も起きにくいことから、現
像液の活性に対するラチチュードが広いといえる。評価
結果は表6に示した。
Under these development conditions, the decrease in optical density of the non-exposed area (image area) of the recording layer of the lithographic printing plate precursor was visually evaluated, and the conductivity of the developer used when the decrease in density was observed was (X) mS. / Cm. Further, under the same developing conditions, the decrease in optical density of the exposed portion (non-image area) of the recording layer of the lithographic printing plate precursor was visually evaluated, and when the decrease in density was observed, the conductivity of the developer used was (Y) mS / cm. In this embodiment, (X)-(Y) is defined as the development latitude. The larger the development latitude value, the less likely it is that a residual film will be formed in the exposed area (non-image area) and the lowering of the density in the unexposed area (image area) will be less likely to occur. Can be said. The evaluation results are shown in Table 6.

【0232】<転写性の評価>転写性の評価方法は、実
施例及び比較例の平版印刷版原版1〜31の上にクロロ
プレンゴム(90mm×90mm)を置き、6kgの加
重をかけ、100℃10分加熱後、クロロプレンゴムの
平版印刷版原版記録層と接触していた表面を目視評価す
る方法で行った。評価尺度としては、下記の判定基準が
用いた。評価結果は表5に示した。 ○:色変化なし ×:色変化あり
<Evaluation of Transferability> The transferability was evaluated by placing chloroprene rubber (90 mm × 90 mm) on the planographic printing plate precursors 1 to 31 of Examples and Comparative Examples, applying a weight of 6 kg, and applying 100 ° C. After heating for 10 minutes, the surface of the chloroprene rubber in contact with the lithographic printing plate precursor recording layer was visually evaluated. The following criteria were used as the evaluation scale. The evaluation results are shown in Table 5. ○: No color change ×: Color change

【0233】[0233]

【表5】 [Table 5]

【0234】表5から明らかなように、本発明の画像形
成材料により得られた平版印刷版原版は、長鎖アルキル
基含有ポリマーを含有しない比較例1乃至3に比較し
て、良好な現像ラチチュードを示し、非画像部における
残膜の発生がしにくく、且つ、画像部の濃度低下も起き
にくいことが分かった。また、比較例1、3、4に比較
して、耐傷性に優れていることが判明した。更に、比較
例2に比較して転写性の問題がないことが判明した。
As is clear from Table 5, the lithographic printing plate precursor obtained from the image-forming material of the present invention had a better development latitude than Comparative Examples 1 to 3 containing no long chain alkyl group-containing polymer. It was found that the residual film is unlikely to occur in the non-image area and the density decrease in the image area is unlikely to occur. Further, it was found that the scratch resistance was excellent as compared with Comparative Examples 1, 3, and 4. Further, it was found that there was no problem of transferability as compared with Comparative Example 2.

【0235】〔実施例28〜30、比較例5〜7〕基板
(C)上に、下記記録層塗布液7を調製し、ワイヤーバ
ーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で45
秒間乾燥して記録層を形成し、平版印刷版原版を得た。
乾燥塗布量は1.2〜1.3g/m2の範囲内であっ
た。
[Examples 28 to 30 and Comparative Examples 5 to 7] The following recording layer coating liquid 7 was prepared on the substrate (C), coated using a wire bar, and dried at 115 ° C in a warm air dryer. At 45
A recording layer was formed by drying for 2 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor.
The dry coating amount was within the range of 1.2 to 1.3 g / m 2 .

【0236】 (記録層塗布液7) ・アルカリ可溶性高分子(表6に化合物名及び添加量を記載) ・赤外線吸収剤(本明細書記載のIR−5) 0.10g ・ラジカル発生剤(下記S−1) 0.45g ・ラジカル重合性化合物(表6に化合物名及び添加量を記載) ・長鎖アルキル基含有ポリマー(表6に記載) 0.023g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.0lg (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製(固形分20質量)) ・p−メトキシフェノール 0.001g ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g[0236] (Recording layer coating liquid 7) ・ Alkali-soluble polymer (Compound name and addition amount are shown in Table 6) Infrared absorber (IR-5 described in the present specification) 0.10 g ・ Radical generator (S-1 below) 0.45 g ・ Radical polymerizable compound (Compound name and addition amount are shown in Table 6) -Long-chain alkyl group-containing polymer (described in Table 6) 0.023 g ・ Victoria Pure Blue Naphthalene Sulfonate 0.04g ・ Fluorosurfactant 0.0 lg (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. (solid content 20 mass)) ・ P-methoxyphenol 0.001 g ・ Methyl ethyl ketone 9.0 g ・ Methanol 10.0g ・ 1-Methoxy-2-propanol 8.0 g

【0237】[0237]

【表6】 [Table 6]

【0238】なお、上記実施例及び比較例に使用したア
ルカリ可溶性高分子の構造を下記に示す。
The structures of the alkali-soluble polymers used in the above Examples and Comparative Examples are shown below.

【0239】[0239]

【化46】 [Chemical formula 46]

【0240】同様に、実施例及び比較例に使用したラジ
カル発生剤の構造を以下に示す。
Similarly, the structures of the radical generators used in Examples and Comparative Examples are shown below.

【0241】[0241]

【化47】 [Chemical 47]

【0242】同様に、本発明における実施例及び比較例
に使用したラジカル重合性化合物の構造を以下に示す。
Similarly, the structures of the radically polymerizable compounds used in Examples and Comparative Examples of the present invention are shown below.

【0243】[0243]

【化48】 [Chemical 48]

【0244】得られた前記各平版印刷版原版を、水冷式
40W赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendset
ter3244VFSにて、出力6.5W、外面ドラム回転数
81rpm、版面エネルギー188mJ/cm2、解像
度2400dpiの条件で露光した。
Each of the obtained lithographic printing plate precursors was used as a Trendset manufactured by Creo equipped with a water-cooled 40 W infrared semiconductor laser.
Exposure was performed with a ter3244VFS at an output of 6.5 W, an outer surface drum rotation speed of 81 rpm, a plate surface energy of 188 mJ / cm 2 , and a resolution of 2,400 dpi.

【0245】露光後、富士写真フイルム(株)製自動現
像機スタブロン900NPを用い現像処理した。現像液
は、下記(D−1)を仕込み液、下記(D−2)を補充
液に用いた。現像欲浴の温度は30℃、現像時間を12
秒で処理した。この際、補充液は自動現像機現像浴中の
現像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動
的に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイ
ルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
After exposure, development processing was performed using an automatic processor Stablon 900NP manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the developing solution, the following (D-1) was used as a charging solution and the following (D-2) was used as a replenishing solution. Development bath temperature is 30 ℃, development time is 12
Processed in seconds. At this time, the replenisher was automatically added while adjusting the electric conductivity of the developer in the developing bath of the automatic processor so as to be constant. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.

【0246】 (現像液(D−1)) ・水酸化カリウム 3g ・炭酸水素カリウム 1g ・炭酸カリウム 2g ・亜硫酸ナトリウム 1g ・ポリエチレングリコールモノナフチルエーテル 150g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 50g ・エチレンジアミン4酢酸4ナトリウム塩 8g ・水 785g[0246] (Developer (D-1)) ・ Potassium hydroxide 3g ・ Potassium bicarbonate 1g ・ Potassium carbonate 2g ・ Sodium sulfite 1g ・ Polyethylene glycol mononaphthyl ether 150g ・ Dibutylnaphthalenesulfonic acid sodium salt 50g ・ Ethylenediamine tetraacetic acid tetrasodium salt 8g ・ Water 785g

【0247】 (現像補充液(D−2)) ・水酸化カリウム 6g ・炭酸カリウム 2g ・亜硫酸ナトリウム 1g ・ポリエチレングリコールモノナフテルエーテル 150g ・ジブチルナフタレンスルホン酸ナトリウム塩 50g ・ヒドロキシエタンジホスホン酸カリウム塩 4g ・シリコンTSA−731 0.1g (東芝シリコーン社(株)製) ・水 786.9g[0247] (Development replenisher (D-2)) ・ Potassium hydroxide 6g ・ Potassium carbonate 2g ・ Sodium sulfite 1g ・ Polyethylene glycol mononaphthel ether 150g ・ Dibutylnaphthalenesulfonic acid sodium salt 50g ・ Hydroxyethanediphosphonic acid potassium salt 4g ・ Silicon TSA-731 0.1g   (Manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.) ・ Water 786.9g

【0248】<耐刷性の評価>次に、小森コーポレーシ
ョン(株)製印刷機リスロンを用いて印刷した。その
際、どれだけの枚数が充分なインキ濃度を保って印刷で
きるかを目視にて測定し、耐刷性を評価した。結果を表
6に記載した。
<Evaluation of Printing Durability> Next, printing was performed using a printer Lithrone manufactured by Komori Corporation. At that time, the printing durability was evaluated by visually measuring how many sheets can be printed while maintaining a sufficient ink density. The results are shown in Table 6.

【0249】<耐キズ性の評価>上記記録層を塗布した
平版印刷版原版の耐キズ性についての評価を行った。機
器としては、HEIDON社製Scratching
TESTER HEIDON−14を用い、引っ掻き針
として0.4mmRダイヤ針を用い、針上の荷重を変化
させながら、400mm/minの速さで記録層表面を
引っ掻いた。引っ掻いた後の原版を上述の現像処理を行
い、残膜が目視で観測された荷重の大きさを評価した。
荷重が大きいほど、キズ残膜が生じにくく、耐キズ性に
優れることになる。結果を表6に記載した。
<Evaluation of Scratch Resistance> The lithographic printing plate precursor coated with the recording layer was evaluated for scratch resistance. As equipment, Scruching made by HEIDON
Using TESTER HEIDON-14 and a 0.4 mmR diamond needle as a scratching needle, the surface of the recording layer was scratched at a speed of 400 mm / min while changing the load on the needle. The scratched original plate was subjected to the above-described development treatment, and the magnitude of the load at which the residual film was visually observed was evaluated.
The larger the load, the less likely a residual scratch film will be formed, and the more excellent the scratch resistance will be. The results are shown in Table 6.

【0250】表6の結果から明らかなように、本発明の
画像記録材料を記録層として用いた実施例28〜30の
平版印刷版原版は、長鎖アルキル基含有ポリマーを含有
しない比較例5〜7に比べ優れた耐キズ性を有し、耐刷
性も良好であることがわかる。また、いずれの試料に
も、露光時のアブレーションは見られなかった。
As is clear from the results shown in Table 6, the lithographic printing plate precursors of Examples 28 to 30 using the image recording material of the present invention as the recording layer contained Comparative Example 5 containing no long chain alkyl group-containing polymer. It can be seen that compared with No. 7, it has excellent scratch resistance and also has good printing durability. No ablation during exposure was observed in any of the samples.

【0251】〔実施例31〜38〕実施例29で用いた
長鎖アルキル基含有ポリマーAの代わりに、長鎖アルキ
ル基含有ポリマーB〜Iを表7に記載のように用いた以
外は実施例29と同様にして、平版印刷版原版を作製し
た。これらの原版を実施例29と同様に評価し、結果を
表7に記載した。
Examples 31 to 38 Examples except that long chain alkyl group-containing polymers B to I were used as shown in Table 7 in place of the long chain alkyl group containing polymer A used in Example 29 A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in 29. These original plates were evaluated in the same manner as in Example 29, and the results are shown in Table 7.

【0252】[0252]

【表7】 [Table 7]

【0253】実施例39〜40、比較例8〜9 アルミニウム基板C上に、下記に示す下塗り層用塗布液
を塗布し、80℃雰囲気下で30秒間乾燥した。乾燥塗
布量は、10mg/m2であった。
Examples 39 to 40, Comparative Examples 8 to 9 On the aluminum substrate C, the following undercoat layer coating solution was applied and dried in an atmosphere of 80 ° C. for 30 seconds. The dry coating amount was 10 mg / m 2 .

【0254】 (下塗り層用塗布液) ・2−アミノエチルホスホン酸 0.5g ・メタノール 40g ・純水 60g[0254] (Coating liquid for undercoat layer) ・ 2-Aminoethylphosphonic acid 0.5 g ・ Methanol 40g ・ Pure water 60g

【0255】その後、下記に示す記録層塗布液8を前記
下塗り層の形成された支持体上に、ワイヤーバーで塗布
し、温風式乾燥装置にて115℃で45秒間乾燥して平
版印刷版原版を得た。乾燥塗布量は、1.2〜1.3g
/m2の範囲内であった。
Thereafter, the recording layer coating liquid 8 shown below was applied onto the support having the undercoat layer formed thereon with a wire bar and dried at 115 ° C. for 45 seconds in a warm air dryer to obtain a lithographic printing plate. I got the original edition. Dry coating amount is 1.2-1.3g
It was within the range of / m 2 .

【0256】 (記録層塗布液8) ・アルカリ可溶性高分子(表8に記載の化合物、表8に記載の量) ・赤外線吸収剤(本明細書記載のIR−8) 0.08g ・ラジカル発生剤(前記S−2) 0.30g ・ラジカル重合性化合物(表8に記載の化合物、表8に記載の量) ・長鎖アルキル基含有ポリマー(表8に記載) 0.023g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製(固形分20質量)) ・N−ニトロソ−N−フェニルヒドロキシルアミンアルミニウム 0.001g ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g[0256] (Recording layer coating liquid 8) Alkali-soluble polymer (compounds listed in Table 8 and amount listed in Table 8) Infrared absorber (IR-8 described in the present specification) 0.08 g -Radical generator (S-2 above) 0.30 g Radical-polymerizable compound (compounds listed in Table 8 and amount listed in Table 8) -Long-chain alkyl group-containing polymer (described in Table 8) 0.023 g ・ Victoria pure blue naphthalene sulfonic acid 0.04g ・ Fluorosurfactant 0.01g   (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. (solid content 20 mass)) -N-nitroso-N-phenylhydroxylamine aluminum 0.001 g ・ Methyl ethyl ketone 9.0 g ・ Methanol 10.0g ・ 1-Methoxy-2-propanol 8.0 g

【0257】[0257]

【表8】 [Table 8]

【0258】得られた平版印刷版原版を、強制経時(強
制条件での保存)後、強制経時しないものと比較し評価
した。強制経時条件は、60℃で3日間保存、及び、4
5℃、湿度75%RHで3日間保存とした。露光は、実
施例28〜30及び比較例5〜7と同じ条件で行い、富
士写真フイルム(株)製自動現像機スタブロン900N
Pを用いて現像処理した。現像液は、仕込み液、補充液
共に富士写真フイルム(株)製DP−4の1:8水希釈
液を用いた。現像浴の温度は30℃、現像時間を12秒
で処理した。この際、補充液は自動現像機現像浴中の現
像液の電気伝導度が一定となるように調整しつつ自動的
に投入した。また、フィニッシャーは、富士写真フイル
ム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
The lithographic printing plate precursor thus obtained was evaluated by comparing it with the one which was not subjected to forced aging after forced aging (storage under forced conditions). Forced aging condition is storage at 60 ° C for 3 days, and 4
It was stored for 3 days at 5 ° C. and a humidity of 75% RH. The exposure was performed under the same conditions as in Examples 28 to 30 and Comparative Examples 5 to 7, and Fuji Photo Film Co., Ltd. automatic processor Stablon 900N was used.
Development processing was performed using P. As the developing solution, both a charging solution and a replenishing solution were DP-8 1: 8 water diluted solutions manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. The temperature of the developing bath was 30 ° C. and the developing time was 12 seconds. At this time, the replenisher was automatically added while adjusting the electric conductivity of the developer in the developing bath of the automatic processor so as to be constant. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.

【0259】得られた平版印刷版を、前記実施例28〜
30及び前記比較例5〜7と同様の印刷を行い、耐刷性
及び汚れ性を評価した。結果を前記表8に併記した。
The lithographic printing plate thus obtained was used in Examples 28 to
Printing was performed in the same manner as in No. 30 and Comparative Examples 5 to 7 to evaluate printing durability and stain resistance. The results are also shown in Table 8 above.

【0260】表8から、本発明の画像記録材料を記録層
として用いた実施例39〜40の平版印刷版原版は、長
鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例8〜9に
比べ、高温、高湿環境下で保存した後も、耐刷性及び非
画像部の汚れ性が低下せず、経時安定性に優れているこ
とが分かる。
From Table 8, it can be seen that the lithographic printing plate precursors of Examples 39 to 40 using the image recording material of the present invention as the recording layer were higher in temperature than Comparative Examples 8 to 9 containing no long chain alkyl group-containing polymer. It can be seen that even after storage in a high humidity environment, printing durability and stain resistance of the non-image area do not deteriorate, and stability with time is excellent.

【0261】〔実施例41〜48〕実施例40で用いた
長鎖アルキル基含有ポリマーAの代わりに、長鎖アルキ
ル基含有ポリマーB〜Iを表9に記載のように用いた以
外は実施例40と同様にして、平版印刷版原版を作製し
た。これらの原版を実施例40と同様に評価し、結果を
表9に記載した。
[Examples 41 to 48] In place of the long chain alkyl group-containing polymer A used in Example 40, long chain alkyl group containing polymers B to I were used as shown in Table 9 A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in 40. These original plates were evaluated in the same manner as in Example 40, and the results are shown in Table 9.

【0262】[0262]

【表9】 [Table 9]

【0263】実施例49〜50、比較例10〜11アル
ミニウム基板C上に、下記記録層塗布液9を、ワイヤー
バーを用いて塗布し、温風式乾燥装置にて115℃で4
5秒間乾燥して平版印刷版原版を得た。乾燥塗布量は
1.2〜1.3g/m2の範囲内であった。
Examples 49 to 50, Comparative Examples 10 to 11 The following recording layer coating liquid 9 was applied onto an aluminum substrate C using a wire bar and dried at 115 ° C. for 4 hours in a warm air dryer.
It was dried for 5 seconds to obtain a lithographic printing plate precursor. The dry coating amount was within the range of 1.2 to 1.3 g / m 2 .

【0264】 (記録層塗布液9) ・アルカリ可溶性高分子(表10に記載の化合物、表10に記載の量) ・赤外線吸収剤(本明細書記載のIR−9) 0.10g ・ラジカル発生剤(前記S−1) 0.50g ・長鎖アルキル基含有ポリマー(表10に記載) 0.023g ・ビクトリアピュアブルーのナフタレンスルホン酸塩 0.04g ・フッ素系界面活性剤 0.01g (メガファックF−176,大日本インキ化学工業(株)製(固形分20質量)) ・メチルエチルケトン 9.0g ・メタノール 10.0g ・1−メトキシ−2−プロパノール 8.0g[0264] (Recording layer coating liquid 9) Alkali-soluble polymer (compounds listed in Table 10 and amounts listed in Table 10) -Infrared absorber (IR-9 described in the present specification) 0.10 g Radical generator (S-1 above) 0.50 g -Long-chain alkyl group-containing polymer (described in Table 10) 0.023 g ・ Victoria Pure Blue Naphthalene Sulfonate 0.04g ・ Fluorosurfactant 0.01g   (Megafuck F-176, manufactured by Dainippon Ink and Chemicals, Inc. (solid content 20 mass)) ・ Methyl ethyl ketone 9.0 g ・ Methanol 10.0g ・ 1-Methoxy-2-propanol 8.0 g

【0265】[0265]

【表10】 [Table 10]

【0266】得られた平版印刷版原版を、水冷式40W
赤外線半導体レーザを搭載したCreo社製Trendsetter3
244VFSにて、出力9W、外面ドラム回転数210r
pm、版面エネルギー100mJ/cm2、解像度24
00dpiの条件で露光した。
The lithographic printing plate precursor thus obtained was water-cooled 40 W
Trendsetter3 made by Creo equipped with infrared semiconductor laser
At 244VFS, output 9W, outer drum rotation speed 210r
pm, plate energy 100 mJ / cm 2 , resolution 24
It was exposed under the condition of 00 dpi.

【0267】露光後、富士写真フイルム(株)製自動現
像機スタブロン900Nを用い現像処理した。現像液
は、仕込み液、補充液ともに富士写真フイルム(株)製
DN−3Cの1:1水希釈液を用いた。現像欲浴の温度
は30℃とした。また、フィニッシャーは、富士写真フ
イルム(株)製FN−6の1:1水希釈液を用いた。
After exposure, development processing was performed using an automatic processor Stablon 900N manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. As the developing solution, a 1: 1 water dilution solution of DN-3C manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used for both the charging solution and the replenishing solution. The temperature of the developing bath was 30 ° C. As the finisher, a 1: 1 water dilution of FN-6 manufactured by Fuji Photo Film Co., Ltd. was used.

【0268】次に、ハイデルベルク社SOR−KZ印刷
機を用いて印刷した。この際、どれだけの枚数が充分な
インキ濃度を保って印刷できるかを計測し、耐刷性を評
価した。また、実施例28〜30及び比較例5〜7と同
様に耐キズ性について評価を行った。
Next, printing was performed using a SOR-KZ printing machine manufactured by Heidelberg. At this time, the printing durability was evaluated by measuring how many sheets can be printed while maintaining a sufficient ink density. In addition, scratch resistance was evaluated in the same manner as in Examples 28 to 30 and Comparative Examples 5 to 7.

【0269】表10から、本発明の画像記録材料を記録
層として用いた実施例49〜50の平版印刷版原版は、
長鎖アルキル基含有ポリマーを含有しない比較例10〜
11に比べ、優れた耐キズ性を達成し、優れた耐刷性も
維持していることが分かる。
From Table 10, the lithographic printing plate precursors of Examples 49 to 50 using the image recording material of the present invention as the recording layer are
Comparative Examples 10 to 10 containing no long chain alkyl group-containing polymer
It can be seen that, as compared with No. 11, excellent scratch resistance is achieved and excellent printing durability is maintained.

【0270】〔実施例51〜58〕実施例49で用いた
長鎖アルキル基含有ポリマーAの代わりに、長鎖アルキ
ル基含有ポリマーB〜Iを表11に記載のように用いた
以外は実施例49と同様にして、平版印刷版原版を作製
した。これらの原版を実施例49と同様に評価し、結果
を表11に記載した。
[Examples 51 to 58] In place of the long chain alkyl group-containing polymer A used in Example 49, long chain alkyl group containing polymers B to I were used as shown in Table 11 A lithographic printing plate precursor was prepared in the same manner as in 49. These original plates were evaluated in the same manner as in Example 49, and the results are shown in Table 11.

【0271】[0271]

【表11】 [Table 11]

【0272】(平版印刷版原版の搬送性評価)実施例2
8の平版印刷版原版を30枚積層し、版材供給装置に装
填し、全自動で連続して、露光、現像処理し、ストッカ
ーへ排出した。装置の運転中、平版印刷版原版同士の接
着や、それに起因する搬送不良などが見られなかったこ
とから、良好な滑り性を有し、支持体裏面に対する滑り
剤の転写も抑制されていることが分かった。また、実施
例29〜34の平版印刷版原版を用いて行った搬送評価
においても同様の結果が得られた。
(Evaluation of transportability of planographic printing plate precursor) Example 2
Thirty sheets of planographic printing plate precursors of No. 8 were stacked, loaded into a plate material supply device, continuously and fully automatically exposed and developed, and discharged to a stocker. Adhesion between lithographic printing plate precursors and defective transport due to the same were not observed during the operation of the device, so that it has good slidability and the transfer of the slip agent to the back surface of the support is also suppressed. I understood. Further, similar results were obtained in the transport evaluation performed using the planographic printing plate precursors of Examples 29 to 34.

【0273】以上の実施例で明らかなように、本発明の
画像記録材料を記録層として用いた平版印刷版原版(本
発明の平版印刷版原版)は、耐キズ性、耐刷性及び滑り
性に優れ、更に、滑り性素材(摩擦係数低下素材)の転
写が抑制されているという優れた効果を示した。
As is clear from the above examples, the planographic printing plate precursor using the image recording material of the present invention as the recording layer (planographic printing plate precursor of the present invention) has scratch resistance, printing durability and slipperiness. In addition, the excellent effect that the transfer of the slippery material (material having a reduced friction coefficient) was suppressed was exhibited.

【0274】[0274]

【発明の効果】本発明によれば、良好な耐キズ性及び広
い現像ラチチュードを有し、かつ、製造、搬送時のロー
ラー及び保護紙(合紙)や支持体裏面への転写問題を起
こさない画像記録材料、及び該画像記録材料を記録層に
用いることによって、同様の特性を有するダイレクト製
版用の赤外レーザ用平版印刷版原版を提供することがで
きる。
EFFECTS OF THE INVENTION According to the present invention, it has good scratch resistance and a wide development latitude, and does not cause a transfer problem to the roller and the protective paper (interleaving paper) or the back surface of the support at the time of production and transportation. By using the image recording material and the image recording material in the recording layer, it is possible to provide an infrared laser lithographic printing plate precursor for direct plate making having the same characteristics.

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 曽呂利 忠弘 静岡県榛原郡吉田町川尻4000番地 富士写 真フイルム株式会社内 Fターム(参考) 2H025 AA04 AA13 AA15 AA18 AB03 AC08 AD03 CB13 CB14 CB15 CB17 CB43 CB45 CB51 CC13 FA10 FA17 2H096 AA06 BA11 EA04 EA23 GA08 4J100 AA07P AA15P AB07P AE09P AF10P AJ02Q AL03P AL03Q AL03S AL04P AL05P AL08P AL34P AM02Q AM15R AM17P AM19P AM21P AM21R AP01P AP01Q AQ08Q AQ11Q AQ12Q BA03P BA03R BA04P BA10P BA53P BA56Q BA59P BA59R BC04P BC43P BC43R BD10Q BD12Q CA04 CA05 CA06 DA28 JA07 JA38    ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continued front page    (72) Inventor Tadahiro Soroshi             Fuji-Sha, 4000 Kawajiri, Yoshida-cho, Haibara-gun, Shizuoka Prefecture             Shin Film Co., Ltd. F-term (reference) 2H025 AA04 AA13 AA15 AA18 AB03                       AC08 AD03 CB13 CB14 CB15                       CB17 CB43 CB45 CB51 CC13                       FA10 FA17                 2H096 AA06 BA11 EA04 EA23 GA08                 4J100 AA07P AA15P AB07P AE09P                       AF10P AJ02Q AL03P AL03Q                       AL03S AL04P AL05P AL08P                       AL34P AM02Q AM15R AM17P                       AM19P AM21P AM21R AP01P                       AP01Q AQ08Q AQ11Q AQ12Q                       BA03P BA03R BA04P BA10P                       BA53P BA56Q BA59P BA59R                       BC04P BC43P BC43R BD10Q                       BD12Q CA04 CA05 CA06                       DA28 JA07 JA38

Claims (2)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 (a)赤外線吸収剤及び(b)動摩擦係
数を0.38〜0.60に低下させるポリマーを含有
し、赤外レーザの露光により画像形成可能であることを
特徴とする画像記録材料。
1. An image containing (a) an infrared absorbent and (b) a polymer that reduces the dynamic friction coefficient to 0.38 to 0.60, and capable of forming an image by exposure to an infrared laser. Recording material.
【請求項2】 支持体上に、(a)赤外線吸収剤、
(c)水不溶性かつアルカリ可溶性樹脂、及び(d)下
記一般式(1)で表される構造単位を有するポリマーを
含有し、赤外レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対
する溶解性が増大する記録層を有する平版印刷版原版。 【化1】 (nは4以上の整数を表し、mは0.6≦m≦20を表
す。XはpKaが12以下のアルカリ可溶性基を有する
骨格を表し、Rはアルキル基又は水素原子を表す。)
2. An infrared absorbent (a) on a support,
A recording layer containing (c) a water-insoluble and alkali-soluble resin, and (d) a polymer having a structural unit represented by the following general formula (1), the solubility of which in an alkaline aqueous solution is increased by exposure to an infrared laser. Original planographic printing plate. [Chemical 1] (N represents an integer of 4 or more, m represents 0.6 ≦ m ≦ 20, X represents a skeleton having an alkali-soluble group having a pKa of 12 or less, and R represents an alkyl group or a hydrogen atom.)
JP2002332267A 2002-02-08 2002-11-15 Image recording material and lithographic printing plate precursor Pending JP2003302750A (en)

Priority Applications (10)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002332267A JP2003302750A (en) 2002-02-08 2002-11-15 Image recording material and lithographic printing plate precursor
AT08002311T ATE446191T1 (en) 2002-02-08 2003-02-07 IMAGE RECORDING MATERIAL AND LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR
EP08002311A EP1914070B1 (en) 2002-02-08 2003-02-07 Image recording material and lithographic printing plate precursor
DE60329794T DE60329794D1 (en) 2002-02-08 2003-02-07 Image recording material and lithographic printing plate precursor
DE60320471T DE60320471T2 (en) 2002-02-08 2003-02-07 Lithographic printing plate precursor
EP03002591A EP1334823B1 (en) 2002-02-08 2003-02-07 Lithographic printing plate precursor
EP09167972A EP2111983B1 (en) 2002-02-08 2003-02-07 Image recording material and method for its preparation
AT03002591T ATE393020T1 (en) 2002-02-08 2003-02-07 LITHOGRAPHIC PRINTING PLATE PRECURSOR
US10/359,711 US6958206B2 (en) 2002-02-08 2003-02-07 Image recording material and lithographic printing plate precursor
AT09167972T ATE528135T1 (en) 2002-02-08 2003-02-07 IMAGE RECORDING MATERIAL AND METHOD FOR PRODUCING

Applications Claiming Priority (3)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2002-32904 2002-02-08
JP2002032904 2002-02-08
JP2002332267A JP2003302750A (en) 2002-02-08 2002-11-15 Image recording material and lithographic printing plate precursor

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2003302750A true JP2003302750A (en) 2003-10-24

Family

ID=29405020

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2002332267A Pending JP2003302750A (en) 2002-02-08 2002-11-15 Image recording material and lithographic printing plate precursor

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2003302750A (en)

Cited By (8)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2365389A1 (en) 2010-03-08 2011-09-14 Fujifilm Corporation Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate
EP2366546A2 (en) 2010-03-18 2011-09-21 FUJIFILM Corporation Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate
EP2439070A2 (en) 2010-08-31 2012-04-11 Fujifilm Corporation Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate
EP2497639A2 (en) 2011-03-11 2012-09-12 Fujifilm Corporation Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate
EP2506077A2 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2551113A2 (en) 2011-07-25 2013-01-30 Fujifilm Corporation Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate
EP2644378A1 (en) 2012-03-30 2013-10-02 Fujifilm Corporation Method of making planographic printing plate and planographic printing plate
EP2796929A2 (en) 2011-03-31 2014-10-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same

Cited By (9)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
EP2365389A1 (en) 2010-03-08 2011-09-14 Fujifilm Corporation Positive-working lithographic printing plate precursor for infrared laser and process for making lithographic printing plate
EP2366546A2 (en) 2010-03-18 2011-09-21 FUJIFILM Corporation Process for making lithographic printing plate and lithographic printing plate
EP2439070A2 (en) 2010-08-31 2012-04-11 Fujifilm Corporation Image forming material, planographic printing plate precursor, and method for manufacturing a planographic printing plate
EP2497639A2 (en) 2011-03-11 2012-09-12 Fujifilm Corporation Thermal positive-type planographic original printing plate and method of making planographic printing plate
EP2506077A2 (en) 2011-03-31 2012-10-03 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2796929A2 (en) 2011-03-31 2014-10-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2796928A2 (en) 2011-03-31 2014-10-29 Fujifilm Corporation Lithographic printing plate precursor and method of preparing the same
EP2551113A2 (en) 2011-07-25 2013-01-30 Fujifilm Corporation Photosensitive planographic printing plate precursor and method of producing a planographic printing plate
EP2644378A1 (en) 2012-03-30 2013-10-02 Fujifilm Corporation Method of making planographic printing plate and planographic printing plate

Similar Documents

Publication Publication Date Title
US6958206B2 (en) Image recording material and lithographic printing plate precursor
JP2006258980A (en) Positive photosensitive composition and image recording material using the same
JP4210039B2 (en) Positive image forming material
JP2003302750A (en) Image recording material and lithographic printing plate precursor
JP2006293162A (en) Lithographic printing original plate
JP4085006B2 (en) Master for lithographic printing plate
JP2004012770A (en) Imaging material and planographic printing plate original using the same
JP4657783B2 (en) Image forming material and planographic printing plate precursor
JP2006084592A (en) Photosensitive composition
JP4343800B2 (en) Positive photosensitive composition
JP4497833B2 (en) Positive lithographic printing plate precursor
JP4401103B2 (en) Image recording material
JP4054261B2 (en) Image recording material and method for producing image recording material
JP2004279806A (en) Platemaking method for thermosensitive lithographic printing plate
JP4043898B2 (en) Positive lithographic printing plate precursor for infrared laser
JP4064841B2 (en) Image recording material
JP2005189698A (en) Image recording material
JP4340572B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP2005024646A (en) Resin composition and planographic printing plate precursor
JP2004117546A (en) Image forming material
JP2004118017A (en) Image recording element and planographic printing plate original
JP4462846B2 (en) Planographic printing plate precursor
JP2004126048A (en) Image forming material
JP2005274607A (en) Lithographic printing plate precursor
JP2005049756A (en) Image recording material