JP2004117215A - Probe unit and manufacturing method therefor - Google Patents
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Abstract
Description
【0001】
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体集積回路等の電気的諸特性の測定に使用されるプローブユニット及びその製造方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
従来のプローブカードには、プローブの型式の違いによって、カンチレバー型と呼ばれる横型( 例えば、特許文献1及び2参照) と、垂直型と呼ばれる縦型( 例えば、特許文献3) の2タイプがある。何れのプローブカードにおいても、測定対象物における多数の電極パッドに、それらに対応して配置された多数個のプローブを同時に弾性的に接触させて、多数点の同時測定を行う。
【0003】
【特許文献1】
特開2002−022771号公報
【特許文献2】
特開2000−088884号公報
【特許文献3】
特開平10−221374号公報
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
しかしながら、プローブカードによる測定対象物である半導体集積回路、LCDデバイスなどでは、高集積化及び微細化が急激に進行しており、これに伴ってプローブカードにおけるプローブ本数が急増している。プローブカードにおけるプローブは従来、手作業によって一本づつ取り付けているので、プローブ本数の急増により生産性の低下やプローブ位置の精度低下が大きな問題になってきた。
【0005】
本発明はかかる事情に鑑みて創案されたものであり、プローブ本数が増加しても生産性の低下やプローブ位置の精度低下を回避できるプローブユニット及びその製造方法を提供することを目的としている。
【0006】
【課題を解決するための手段】
本発明に係るプローブユニットは、一方の面に導電性を有する複数の突起部が設けられる一方、他方の面に前記突起部と電気的に接続された複数のランド部が設けられた配線基板と、この配線基板の一方の面に取り付けられる基部とこの基部から延出された複数の針状体であって、前記基部が前記配線基板に取り付けられると、前記突起部に当接する針部とを有するプローブとを具備している。
【0007】
また、本発明に係る別のプローブユニットは、一方の面に導電性を有する複数の突起部が設けられる一方、他方の面に前記突起部と電気的に接続された複数のランド部が設けられた配線基板と、この配線基板の他方の面に対向するように設けられており且つ複数の配線パターンが形成された基板と、この基板の配線パターンと前記配線基板のランド部とを電気的に接続する接続手段と、前記配線基板の一方の面に取り付けられる基部とこの基部から延出された複数の針状体であって、前記基部が前記配線基板に取り付けられると、前記突起部に当接する針部とを有するプローブとを具備するプローブとを具備している。
【0008】
より好ましくは、前記接続手段には、基板間接続装置が用いられていることが望ましい。
【0009】
より好ましくは、半導体集積回路の電気的諸特性を測定する請求項1、2又は3記載のプローブユニットであって、前記プローブは、前記配線基板の突起部に当接させると、前記針部が半導体集積回路の電極に向けて斜め方向に折れ曲がることが望ましい。
【0010】
より好ましくは、半導体集積回路の電気的諸特性を測定する上記プローブユニットであって、前記プローブの針部の先端部には、半導体集積回路の電極と接触する接触部が設けられていることが望ましい。
【0011】
また、本発明に係るプローブユニットの製造方法は、上記プローブを作製する工程と、前記配線基板に導電性を有する突起部を形成する工程と、前記プローブの基部を前記配線基板に取り付け、前記プローブの針部を前記突起部に当接させる工程とを具備している。
【0012】
より好ましくは、上記プローブを作製する工程は、凹部が形成された基板に金属性の皮膜を作製する工程と、この基板に対して、一端に前記凹部を露出させた開口を有するレジスト層を形成する工程と、この開口に金属を電鋳し、一端部に凸部を有する金属体を作製する工程と、前記レジスト層を除去し、前記金属体を露出させる工程と、前記金属体の他端部に第1の固定部材を接着させる工程と、前記基板を除去し、前記第1の固定部材に第2の固定部材を接着させる工程と具備することが望ましい。
【0013】
より好ましくは、前記配線基板に導電性を有する突起部を形成する工程は、配線基板に形成された凹部に金属を電鋳する工程と、この配線基板に対して、前記配線基板の凹部の上に開口を有するレジスト層を塗布する工程と、前記開口に金属を電鋳する工程と、前記レジスト層を除去する工程と具備することが望ましい。
【0014】
【発明の実施の形態】
以下に本発明の実施形態を図面に基づいて詳細に説明する。図1は本発明の一実施形態に係るプローブユニットの縦断面図、図2は同プローブユニットに使用されているプローブの平面図、図3は図2中のA−A線矢示図、図4は同プローブユニットの使用状態を示す縦断面図、図5は同プローブユニットにおけるプローブの取り付け工程の説明図、図6は同プローブユニットにおけるプローブの製造工程の説明図、図7は同プローブユニットの配線基板の突起部の製造工程の説明図、図8は同プローブユニットにおけるプローブの取り付け工程の説明図、図9は同プローブユニットにおける接続手段の別の例を示す縦断面図、図10は同接続手段の別の例を示す縦断面図である。
【0015】
本実施形態に係るプローブユニットAは、図1に示すように、半導体集積回Bの電気的特性を測定するプローブユニットであって、一方の面210に導電性を有する突起部211が設けられる一方、他方の面220に突起部211と電気的に接続されたランド部221が設けられた配線基板200と、この配線基板200の他方の面220に対向するように設けられており且つランド部110(配線パターン)が形成された基板100と、この基板100のランド部110と配線基板200のランド部221とを電気的に接続する接続手段300と、配線基板200の一方の面210に取り付けられる基部410とこの基部から延出された針状体であって、基部410が配線基板200に取り付けられると、突起部211に当接する針部420とを有するプローブ400とを具備している。以下、各部を詳しく説明する。
【0016】
基板100は、プリント基板(PCB)からなり、表面側(即ち配線基板200の対向面)には、複数のランド部110が所定間隔毎に各々設けられている。このランド部110は、図外のテスタに接続されている。なお、基板100はプリント基板(PCB)からなるとしたが、プリント基板(PWB)、間隔変換器板(ST)等の基板を用いることができる。
【0017】
配線基板200は、リソグラフィ及び電鋳技術を用いて作製された金属薄板であって、基板100の下側に配設されている。この配線基板200は、一方の面210に半導体集積回路Bの電極1と同じピッチ間隔で設けられた導電性を有する複数の突起部211と、他方の面220に基板100のランド部110と同じピッチ間隔で設けられたランド部221と、突起部211とランド部221とを電気的に導通させる導通部230とを有している。導通部230は、突起部211と、ランド部221とのピッチ間隔が異なるため、配線基板200の内部で折れ曲がって形成されている。なお、突起部211は、高さ寸法が10〜500μmとなっている。また、突起部211の材質は、Ni,NiCo等のNi系合金、Pd、Pt、Rh、Au、Ag等の貴金属及びそれらの合金、Cu及びCu系合金を用いることが可能である。
【0018】
この配線基板200は、基板100から垂下された支持部材500によって支持されている。この支持部材500は、基板100に取り付けられた一対の垂下部510と、この垂下部510から互いに向かい合うように延出されており且つ配線基板200を支持する延出部520とを有している。このようにして、配線基板200は基板100の下側に支持される。
【0019】
そして、この配線基板200と基板100との間には、接続手段300が介在している。接続手段300には、後述する基板間接続装置(いわゆるインターポーザー)が用いられている。
【0020】
この接続手段300は、基板100と配線基板200との間に介在する中間基板310と、この中間期板310の表面(基板100の対向面)に設けられており且つ基板100のランド部110と導通する第1のスプリング320と、中間期板310の裏面(配線基板200の対向面)に設けられており且つ配線基板200のランド部221と導通する第2のスプリング330とを有している。このようにして、基板100のランド部110と、配線基板200のランド部221とを電気的に接続すると共に、基板100のランド部110と、配線基板200のランド部221との間に一定の接触圧を常時与え、接続状態を安定させることができる。
【0021】
また、この配線基板200の一方の面210には、プローブ400が取り付けられる。プローブ400は、後述するリソグラフィー及び電鋳技術を用いて作製されており、図2及び3に示すように、中央に開口411を有する基部410と、この基部410のから開口411に向けて延出された複数の針部420と、針部420の先端部から延出された下向きの四角錐であって、半導体集積回路Bの電極1(図4参照)と接触する接触部430とを有している。なお、接触部430を設けることは任意である。
【0022】
針部420の長さ寸法は、100〜3500μmであり、接触部430は、横寸法が10〜150μm、縦寸法が10〜150μm、厚みが5〜100μmとなっている。そして、針部420及び接触部430の材質は、Ni,NiCo等のNi系合金、Pd、Pt、Rh、Au、Ag等の貴金属及びそれらの合金、Cu及びCu系合金、Fe及びFe系合金、SUS等が用いることが可能である。
【0023】
基部410は、第1の固定シート412(第1の固定部材)と第2の固定シート413(第2の固定部材)とを有しており、この第1、2の固定シート412、413の間に針部420が挟み込まれている。第1、2の固定シート412、413としては、セラミックス材、カプトン等の樹脂シート、シリコン樹脂等が用いられる。また、開口411に延出された針部420は、配線基板200の突起部211に当接し得るように、交互に配置されている。
【0024】
このようなプローブ400は、基部410が、図4又は5に示すように、配線基板200の一方の面210に取り付けられると、針部420は配線基板200の突起部211に当接して、斜め下方(半導体集積回路Bの電極1の方向)に向けて折れ曲がるようになっている。これにより、プローブ400の接触部430を半導体集積回路Bの電極1に適切な針圧で弾性的に押し付けることが可能となる。
【0025】
また、プローブ400の針部420を配線基板200の一方の面210に取り付けると、針部420が突起部211に当接するので、配線の引回しなしに、両者間の導通を確保することができる。このため、組立作業が容易になると共に、高周波への対応が容易となり、設計の自由度も上がる。
【0026】
以下、プローブユニットAの製造方法について説明する。まず、プローブ400を図6に基づき作製する。プローブ400を作製するために使用する基板10としては、ウエハ等のシリコン基板を用いる。
【0027】
この基板10には、図6の(a)に示すように、一面に異方性エッチング等により複数個の凹部11が形成されている。この凹部11は、プローブ400の接触部430が作製される部分であって、下向きの四角錐状に形成されている。また、この凹部11は、配線基板200の突出部211の配置パターンに対応した位置に形成されており、横寸法が10〜150μm、縦寸法が10〜150μm、深さが5〜100μmとなっている。
【0028】
そして、この基板10には、一面に後述する金属体50を形成する際の電極となるCu等からなるシード層(導電性金属の皮膜)20がスパッタ、蒸着法等によって作製される。かかる基板10の一面には、シード層20の上にフォトレジスト30をスピンコート等の適切な方法で塗布される。
【0029】
その後、フォトレジスト30に対しては、基板10の凹部11の配置パターンに対応、即ち一端部に凹部11が露出する位置に、開口(図示省略)が設けられたマスク(図示省略)を用いて露光が行われる。そして、図6の(b)に示すように、露光後のフォトレジスト30に対して現像が行われ、一端部に凹部11が露出するようにフォトレジスト30が取り除かれた開口41を有するレジスト層40が形成される。
【0030】
この基板10に対して、図6の(c)に示すように、電気メッキ、無電解メッキ、スパッタ又はCVD等を行いて、Ni等を凹部11と開口41とにわたって電鋳し、一端部に凸部51を有する金属体50を作製する(図6の(d)参照)。この金属体50及び凸部51が、プローブ400の針部420及び接触部430となる。
【0031】
その後、図6の(d)に示すように、レジスト層40を除去し、金属体50を露出させる。この金属体50の他端部にアクリル等の樹脂60を塗布し、第1の固定シート412を接着させる。
【0032】
そして、基板10を除去する。その後、第1の固定シート412に樹脂60を塗布し、第2の固定シート413を接着させ、プローブ400を作製する(図6の(e)参照)。
【0033】
次に、配線基板200に突起部211を作製する方法を図7に基づき説明する。配線基板200には、スペーストランスフォーマーが用いられている。配線基板200の一方の面210には、突起部211となるべきランド部12’が形成されている。
【0034】
そして、この配線基板200の一方の面210には、フォトレジスト30’をスピンコート等の適切な方法で塗布される。
【0035】
その後、フォトレジスト30’に対しては、配線基板200のランド部12’の配置パターンに対応、即ちランド部12’のみを露出させる位置に、開口(図示省略)が設けられたマスク(図示省略)を用いて露光が行われる。そして、図7の(b)に示すように、露光後のフォトレジスト30’に対して現像が行われ、一端部にランド12’が露出するようにフォトレジスト30’が取り除かれた開口41’を有するレジスト層40’が形成される。
【0036】
この配線基板200に対して、電気メッキ、無電解メッキ、スパッタ又はCVD等を行いて、Ni等を開口41’に電鋳し、ランド部12’を成長させる。その後、レジスト層40’を除去し、ランド部12’を露出させる。このランド部12’が突起部211となる。
【0037】
最後に、突起部211が作製された配線基板200にプローブ400を取り付ける方法を図8に基づき説明する。
【0038】
配線基板200に樹脂60’を塗布し、プローブ400の基部410を接着させると、プローブ400の針部420が配線基板200の突起部211に当接し、折れ曲がる。このようにしてプローブユニットAが完成する。
【0039】
このようなプローブユニットAによる場合、プローブ400の基部410を配線基板200に取り付けるだけで、プローブ400の複数の針部420が簡単に取り付けることができ、その結果、製造コストを安く抑えることができ、且つ、製造工数を少なくすることができる。しかも、プローブ400及び配線基板200の突起部211がリソグラフィ及び電鋳技術を利用して作製されているので、針部420の位置精度が高く、これまでできなかった狭ピッチのものも製造することができる。なお、プローブユニットAは、以下のように設計変更可能である。
【0040】
プローブユニットAは、ここでは、基板100及び接続手段300を備えるとしたが、少なくとも配線基板200とプローブ400とを備えていれば良い。また、配線基板200のランド部221と基板100のランド部110とを電気的に接続する接続手段300は、ここでは、図9に示すように、先端部341がく字状に折れ曲がった一本のスプリング340を用いた基板間接続装置とすることもできるし、図10に示すように、スプリングピン350を用いた基板間接続装置とすることもできる。なお、接続手段300は、基板間接続装置だけに限定されるものではなく、単に導線で配線基板200のランド部221と基板100のランド部110と接続するようにしてもよい。
【0041】
プローブ400の基部410は、ここでは、第1、2の固定シート412、413の間に針部420が挟み込まれているとしたが、複数の針部420を1枚の第1の固定用シート412又は第2の固定シート413に取り付けることも可能である。
【0042】
【発明の効果】
以上に説明したとおり、本発明の請求項1に係るプローブユニットは、一方の面に導電性を有する複数の突起部が設けられる一方、他方の面に前記突起部と電気的に接続された複数のランド部が設けられた配線基板と、この配線基板の一方の面に取り付けられる基部とこの基部から延出された複数の針状体であって、前記基部が前記配線基板に取り付けられると、前記突起部に当接する針部とを有するプローブとを具備している。
【0043】
本発明の請求項2に係るプローブユニットは、一方の面に導電性を有する複数の突起部が設けられる一方、他方の面に前記突起部と電気的に接続された複数のランド部が設けられた配線基板と、この配線基板の他方の面に対向するように設けられており且つ複数の配線パターンが形成された基板と、この基板の配線パターンと前記配線基板のランド部とを電気的に接続する接続手段と、前記配線基板の一方の面に取り付けられる基部とこの基部から延出された複数の針状体であって、前記基部が前記配線基板に取り付けられると、前記突起部に当接する針部とを有するプローブとを具備している。
【0044】
本発明の請求項1及び2に係るプローブユニットによる場合、プローブの基部を配線基板に取り付けるだけで、複数のプローブの針部を簡単に取り付けることができる。その結果、製造コストを安く抑えることができ、且つ、製造工数を少なくすることができる。しかも、プローブの針部は、予め位置決めされているので、位置精度が高く、これまでできなかった狭ピッチのものも製造することができる。
【0045】
本発明の請求項3に係るプローブユニットは、請求項2記載のプローブユニットにおいて、前記接続手段には、基板間接続装置が用いられている。このような構成によると、前記基板のランド部と前記配線基板のランド部との間の接触圧を一定にすることができるので、非常に接続状態が安定する。
【0046】
本発明の請求項4に係るプローブユニットは、半導体集積回路の電気的諸特性を測定する請求項1、2又は3記載のプローブユニットにおいて、前記プローブは、前記配線基板の突起部に当接させると、前記針部が半導体集積回路の電極に向けて斜め方向に折れ曲がるようになっている。このような構成によると、プローブの針部を半導体集積回路の電極に適切な針圧で弾性的に押し付けることが可能となる。
【0047】
本発明の請求項5に係るプローブユニットは、半導体集積回路の電気的諸特性を測定する請求項1、2、3又は4記載のプローブユニットにおいて、前記プローブの針部の先端部には、半導体集積回路の電極と接触する接触部が設けられている。このような構成によると、前記接触部が半導体集積回路の電極に接触するので、安定した接触を得ることができる。
【0048】
本発明の請求項6に係るプローブユニットの製造方法は、請求項1、2、3又は4のプローブを作製する工程と、前記配線基板に導電性を有する突起部を形成する工程と、前記プローブの基部を前記配線基板に取り付け、前記プローブの針部を前記突起部に当接させる工程とを具備している。このような製造方法による場合、プローブの基部を配線基板に取り付けるだけで、複数の針部を簡単に取り付けることができる。その結果、製造コストを安く抑えることができ、且つ、製造工数を少なくすることができる。
【0049】
本発明の請求項7に係るプローブユニットの製造方法は、請求項6記載のプローブユニットの製造方法において、前記請求項4のプローブを作製する工程は、凹部が形成された基板に金属性の皮膜を作製する工程と、この基板に対して、一端に前記凹部を露出させた開口を有するレジスト層を形成する工程と、この開口に金属を電鋳し、一端部に凸部を有する金属体を作製する工程と、前記レジスト層を除去し、前記金属体を露出させる工程と、前記金属体の他端部に第1の固定部材を接着させる工程と、前記基板を除去し、前記第1の固定部材に第2の固定部材を接着させる工程と具備することを特徴とするプローブユニットの製造方法。このような製造方法による場合、プローブはリソグラフィ及び電鋳技術を用いて作製されるので、簡単且つ高精度のものをえることができ、その結果、針部の位置精度が高く、これまでできなかった狭ピッチのものも製造することができる。
【0050】
本発明の請求項8に係るプローブユニットの製造方法は、請求項6又は7記載のプローブユニットの製造方法において、前記配線基板に導電性を有する突起部を形成する工程は、配線基板に形成された凹部に金属を電鋳する工程と、この配線基板に対して、前記配線基板の凹部の上に開口を有するレジスト層を塗布する工程と、前記開口に金属を電鋳する工程と、前記レジスト層を除去する工程と具備している。このような製造方法による場合、配線基板の突起部はリソグラフィ及び電鋳技術を用いて作製されるので、簡単且つ高精度のものをえることができ、その結果、突起部の位置精度が高く、これまでできなかった狭ピッチのものも製造することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施形態に係るプローブユニットの縦断面図である。同プローブユニットにおける接続手段の別の例を示す縦断面図である。
【図2】同プローブユニットに使用されているプローブの平面図である。
【図3】図2中のA−A線矢示図である。
【図4】同プローブユニットの使用状態を示す縦断面図である。
【図5】同プローブユニットにおけるプローブの取り付け工程の説明図である。
【図6】同プローブユニットにおけるプローブの製造工程の説明図である。
【図7】同接続構造の別の例を示す縦断面図である。
【図8】同プローブユニットの配線基板の突起部の製造工程の説明図である。
【図9】同プローブユニットにおけるプローブの取り付け工程の説明図である。
【図10】同接続手段の別の例を示す縦断面図である。
【符号の説明】
A プローブユニット
100 基板
110 ランド部
200 配線基板
210 配線基板の一方の面
211 突起部
220 配線基板の他方の面
221 ランド部
300 接続手段
400 プローブ
410 基部
420 針部
B 半導体集積回路
1 電極[0001]
TECHNICAL FIELD OF THE INVENTION
The present invention relates to a probe unit used for measuring various electrical characteristics of a semiconductor integrated circuit and the like, and a method for manufacturing the same.
[0002]
[Prior art]
There are two types of conventional probe cards, a horizontal type called a cantilever type (for example, see
[0003]
[Patent Document 1]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2002-022771 [Patent Document 2]
Japanese Patent Application Laid-Open No. 2000-088884 [Patent Document 3]
JP-A-10-221374
[Problems to be solved by the invention]
However, in a semiconductor integrated circuit, an LCD device, and the like, which are objects to be measured by a probe card, high integration and miniaturization are rapidly advancing, and accordingly, the number of probes in the probe card is rapidly increasing. Conventionally, probes in a probe card are manually attached one by one, so that a sudden increase in the number of probes has caused a serious problem of a decrease in productivity and a decrease in probe position accuracy.
[0005]
The present invention has been made in view of the above circumstances, and an object of the present invention is to provide a probe unit capable of avoiding a decrease in productivity and a decrease in probe position accuracy even when the number of probes increases, and a method of manufacturing the same.
[0006]
[Means for Solving the Problems]
A probe unit according to the present invention includes a wiring board provided with a plurality of protrusions having conductivity on one surface, and a plurality of lands electrically connected to the protrusions on the other surface. A base attached to one surface of the wiring board and a plurality of needle-like bodies extending from the base, wherein the base abuts on the projection when the base is attached to the wiring board. Having a probe.
[0007]
In another probe unit according to the present invention, a plurality of conductive protrusions are provided on one surface, and a plurality of lands electrically connected to the protrusions are provided on the other surface. A wiring board, a board provided with a plurality of wiring patterns provided so as to face the other surface of the wiring board, and a wiring pattern of the board and a land portion of the wiring board electrically connected to each other. Connecting means for connecting, a base attached to one surface of the wiring board, and a plurality of needles extending from the base, wherein the base is attached to the wiring board when the base is attached to the wiring board. A probe having a needle portion in contact with the probe.
[0008]
More preferably, it is desirable that an inter-board connection device is used for the connection means.
[0009]
More preferably, the probe unit according to
[0010]
More preferably, in the probe unit for measuring various electrical characteristics of the semiconductor integrated circuit, a contact portion that contacts an electrode of the semiconductor integrated circuit is provided at a tip of a needle portion of the probe. desirable.
[0011]
The method of manufacturing a probe unit according to the present invention may further include a step of manufacturing the probe, a step of forming a conductive protrusion on the wiring board, and a step of attaching a base of the probe to the wiring board. Contacting the needle portion with the protrusion.
[0012]
More preferably, the step of fabricating the probe includes the step of fabricating a metallic film on the substrate having the recess formed thereon, and forming a resist layer having an opening exposing the recess at one end with respect to the substrate. Performing a step of electroforming a metal in the opening to form a metal body having a convex portion at one end, removing the resist layer and exposing the metal body, and the other end of the metal body. Preferably, the method includes a step of bonding a first fixing member to the portion, and a step of removing the substrate and bonding a second fixing member to the first fixing member.
[0013]
More preferably, the step of forming the projecting portion having conductivity on the wiring board includes: a step of electroforming a metal in a recess formed in the wiring board; Preferably, the method includes a step of applying a resist layer having an opening to the opening, a step of electroforming a metal in the opening, and a step of removing the resist layer.
[0014]
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION
Hereinafter, embodiments of the present invention will be described in detail with reference to the drawings. FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a probe unit according to an embodiment of the present invention, FIG. 2 is a plan view of a probe used in the probe unit, and FIG. 3 is a view taken along the line AA in FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing a use state of the probe unit, FIG. 5 is an explanatory view of a probe mounting process in the probe unit, FIG. 6 is an explanatory diagram of a probe manufacturing process in the probe unit, and FIG. FIG. 8 is an explanatory view of a process of mounting a probe in the probe unit, FIG. 9 is a longitudinal sectional view showing another example of a connecting means in the probe unit, and FIG. It is a longitudinal section showing another example of the connecting means.
[0015]
As shown in FIG. 1, the probe unit A according to the present embodiment is a probe unit for measuring the electrical characteristics of the semiconductor integrated circuit B, in which one
[0016]
The
[0017]
The
[0018]
The
[0019]
The connection means 300 is interposed between the
[0020]
The connection means 300 is provided on an
[0021]
The
[0022]
The length of the
[0023]
The
[0024]
In such a
[0025]
Further, when the
[0026]
Hereinafter, a method for manufacturing the probe unit A will be described. First, the
[0027]
As shown in FIG. 6A, a plurality of
[0028]
Then, a seed layer (conductive metal film) 20 made of Cu or the like, which becomes an electrode when a
[0029]
Thereafter, a mask (not shown) provided with an opening (not shown) for the
[0030]
As shown in FIG. 6C, the
[0031]
Thereafter, as shown in FIG. 6D, the resist
[0032]
Then, the
[0033]
Next, a method of forming the
[0034]
Then, on one
[0035]
Thereafter, a mask (not shown) provided with an opening (not shown) at the position corresponding to the arrangement pattern of the land portion 12 'of the
[0036]
Electroplating, electroless plating, sputtering, CVD, or the like is performed on the
[0037]
Finally, a method of attaching the
[0038]
When the
[0039]
In the case of such a probe unit A, a plurality of
[0040]
Here, the probe unit A includes the
[0041]
Here, it is assumed that the
[0042]
【The invention's effect】
As described above, the probe unit according to
[0043]
The probe unit according to claim 2 of the present invention includes a plurality of conductive protrusions provided on one surface, and a plurality of lands electrically connected to the protrusions on the other surface. A wiring board, a board provided with a plurality of wiring patterns provided so as to face the other surface of the wiring board, and a wiring pattern of the board and a land portion of the wiring board electrically connected to each other. Connecting means for connecting, a base attached to one surface of the wiring board, and a plurality of needles extending from the base, wherein the base is attached to the wiring board when the base is attached to the wiring board. And a probe having a needle portion in contact therewith.
[0044]
In the case of the probe unit according to
[0045]
In a probe unit according to a third aspect of the present invention, in the probe unit according to the second aspect, an inter-board connection device is used as the connection means. According to such a configuration, the contact pressure between the land of the substrate and the land of the wiring substrate can be kept constant, so that the connection state is very stable.
[0046]
The probe unit according to claim 4 of the present invention measures the electrical characteristics of the semiconductor integrated circuit. The probe unit according to
[0047]
The probe unit according to claim 5 of the present invention is a probe unit according to
[0048]
According to a sixth aspect of the present invention, there is provided a method of manufacturing a probe unit, the method comprising: fabricating the probe according to any one of the first to third aspects; Attaching the base of the probe to the wiring board, and bringing the needle portion of the probe into contact with the protrusion. According to such a manufacturing method, a plurality of needle portions can be easily attached simply by attaching the base of the probe to the wiring board. As a result, the manufacturing cost can be reduced and the number of manufacturing steps can be reduced.
[0049]
According to a seventh aspect of the present invention, there is provided a probe unit manufacturing method according to the sixth aspect, wherein the step of manufacturing the probe according to the fourth aspect further comprises: A step of forming a resist layer having an opening exposing the concave portion at one end with respect to the substrate, and electroforming a metal into the opening to form a metal body having a convex portion at one end. Forming, removing the resist layer, exposing the metal body, bonding a first fixing member to the other end of the metal body, removing the substrate, and removing the first substrate. A method for manufacturing a probe unit, comprising: attaching a second fixing member to a fixing member. In the case of such a manufacturing method, since the probe is manufactured by using lithography and electroforming techniques, it is possible to obtain a simple and high-precision one. Those having a narrow pitch can also be manufactured.
[0050]
According to a method of manufacturing a probe unit according to claim 8 of the present invention, in the method of manufacturing a probe unit according to claim 6 or 7, the step of forming the conductive protrusion on the wiring board is performed on the wiring board. Electroforming a metal in the recessed portion, applying a resist layer having an opening on the recessed portion of the wiring substrate to the wiring board, electroforming a metal in the opening, Removing the layer. In the case of such a manufacturing method, since the protruding portion of the wiring board is manufactured using lithography and electroforming techniques, a simple and highly accurate one can be obtained, and as a result, the positional accuracy of the protruding portion is high, Narrow pitches that could not be made before can also be manufactured.
[Brief description of the drawings]
FIG. 1 is a longitudinal sectional view of a probe unit according to an embodiment of the present invention. It is a longitudinal cross-sectional view which shows another example of the connection means in the same probe unit.
FIG. 2 is a plan view of a probe used in the probe unit.
FIG. 3 is a diagram showing an arrow AA in FIG. 2;
FIG. 4 is a longitudinal sectional view showing a use state of the probe unit.
FIG. 5 is an explanatory view of a probe attaching process in the probe unit.
FIG. 6 is an explanatory diagram of a process of manufacturing a probe in the probe unit.
FIG. 7 is a longitudinal sectional view showing another example of the connection structure.
FIG. 8 is an explanatory diagram of a manufacturing process of a protruding portion of the wiring board of the probe unit.
FIG. 9 is an explanatory diagram of a probe attaching process in the probe unit.
FIG. 10 is a longitudinal sectional view showing another example of the connecting means.
[Explanation of symbols]
A
Claims (8)
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