JP2004095819A - Mim容量 - Google Patents
Mim容量 Download PDFInfo
- Publication number
- JP2004095819A JP2004095819A JP2002254370A JP2002254370A JP2004095819A JP 2004095819 A JP2004095819 A JP 2004095819A JP 2002254370 A JP2002254370 A JP 2002254370A JP 2002254370 A JP2002254370 A JP 2002254370A JP 2004095819 A JP2004095819 A JP 2004095819A
- Authority
- JP
- Japan
- Prior art keywords
- metal layer
- capacitance
- value
- metal
- mim capacitor
- Prior art date
- Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
- Granted
Links
Images
Landscapes
- Semiconductor Integrated Circuits (AREA)
Abstract
【解決手段】MIM容量の金属層−基板間における寄生容量のQ値を向上させるために、寄生容量と並列にQ値の高い容量が入る構造にすることにより寄生容量のQ値を向上させ、寄生素子込みでのMIM容量全体でのQ値も向上させる。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、半導体において金属−絶縁体−金属のサンドイッチ構造によって構成する容量(Metal−Insulator−Metal容量、以下、MIM容量という。)において、容量のQ値を調整することのできるMIM容量の構造に関するものである。
【0002】
【従来の技術】
従来の半導体で構成されているMIM容量の構造図を図7に示す。このようなMIM構造は、例えば特開平7−326712号公報として知られている。
【0003】
金属層1と金属層2の間に絶縁体4を挟んだ構成をしており容量の容量値は金属層1と金属層2の重なっている面積で決まっている。
【0004】
従来構造におけるMIM容量の寄生素子を含んだ一般的に広く使用されている等価回路を図8に示す。
【0005】
容量7が金属−絶縁体−金属の構成において金属面の重なりの面積で決まる容量値であり本来の目的とする容量値である。それに対し、容量8、10は下部電極と基板間の容量、9、11は基板内の半導体の容量、抵抗14は上部電極の寄生抵抗、抵抗15〜16は基板内の半導体の抵抗、インダクタ18は上部電極の寄生インダクタンス、基板20はエピタキシャル層もしくはサブストレートである。
【0006】
このような構造について、3層構造を備えたものがある(例えば特開平5−283614号公報参照)。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
高周波回路において容量を必要とする場合にはMIM容量が一般的に多く用いられている。これはMOS容量等の、その他の構造の容量に比べてシリコン基板(エピタキシャル層(以降、基板と記述))との間に対する寄生素子が相対的に小さいため回路の劣化が少ないためである。しかし、最近の通信分野ではGHz帯の高周波で動作する回路が増え、MIM容量の高性能化が必要となってきている。例えば電圧制御発振器(以降、VCOと記述)ではMIM容量のQ値がその発振器の性能を決定する要素の一つとなっている。しかし、従来構成のMIM容量では金属層−基板間の寄生素子の容量におけるQ値が悪いために寄生素子を含めたMIM容量全体のQ値も悪くなってしまうという問題がある。
【0008】
容量のQは、例えば容量値がC、その内部直列損失抵抗がRで示され、その容量が使用される周波数をω(=2×π×f:周波数)とした場合、次式で示される。
【0009】
Q=1/(R×ω×C)
MIM容量のQ値の劣化はVCO等の性能の悪化を招き、MIM容量のQ値を更に高くすることが求められており、そのためには金属層−基板間の寄生容量のQ値を改善することが必要となる。
【0010】
【課題を解決するための手段】
MIM容量の金属層−基板間における寄生容量のQ値を向上させるために、Q値の低い寄生容量と並列に別のQ値の高い寄生容量が入る構造にすることにより、寄生容量全体のQ値を向上させ、これにより寄生素子込みでのMIM容量全体でのQ値も向上させる事が可能となる。これは、MIM容量を構成する基板側の下部金属層−基板間に更に別の金属層を設け、下部金属層−基板間に構成した別の金属層を接地することにより実現できる。
【0011】
MIM容量を構成している下部金属層−基板間に、新たに接地電位の別の金属層をMIM容量の下部金属層を全面覆うように入れた構造のときが寄生素子の容量のQ値は最も高くなる。
【0012】
ただし、下部電極−接地間の寄生容量も最大となるので、インピーダンス整合に用いるなどの使い方により対接地容量の増大が許容できる場合に最も有効な構造となる。
【0013】
しかし、MIM容量を回路内で直列に入るように構成する場合において、対接地容量が問題になる場合は下部金属層−基板間に入れる別の接地電位の金属層面積をMIM容量の金属層の面積より小さくすることによりQ値と寄生容量値を調整し最適化することができる。
【0014】
つまりQ値と寄生容量値がその回路にとって最適点になるように接地電位の金属層の面積を調整することにより回路に必要なQ値を持ったMIM容量を構成することができる。
【0015】
【発明の実施の形態】
以下、本発明におけるMIM容量について、図示の実施の形態により詳細に説明する。
【0016】
図1は本発明の一実施形態で、図1において、金属層を1〜3、絶縁体を4〜6、シリコン基板(エピタキシャル層)を20で表している。金属層1と金属層2がMIM容量の端子となり、その対向面積で容量値が決まっている。そして金属層3が接地電位に接続されている。
【0017】
図1のMIM容量の構成を寄生素子も含んだ等価回路で示すと図5のようになる。
【0018】
7〜13は容量、14〜17は抵抗、18はインダクタを示している。
【0019】
容量7がMIM容量の金属層1と金属層2から決まる容量で、その他の素子は寄生素子を示している。容量8、9と抵抗15が図1における金属層1−基板間の寄生素子、容量10、11と抵抗16が金属層2−基板間の寄生素子であり、容量12、13と抵抗17が金属層3−基板間の寄生素子であり、12は金属層3−基板間の容量で、この容量の損失抵抗が抵抗17である。
【0020】
これら寄生素子の影響を検討するために影響の小さい素子を除いて考えるものとする。
【0021】
インダクタ18、金属層1−基板間の寄生容量8および容量9の影響は小さいので等価回路を図6のように表すことができる。
【0022】
金属層3は接地され、金属層2−金属層3間は絶縁体のため抵抗17は金属層2と3の金属抵抗のみになり、抵抗16に比べ小さく、金属層2−金属層3間のQ値は金属層2−基板間に対して高いものとなる。
【0023】
図1の構成は金属層3が金属層2と基板間に全面に入っているため容量10と抵抗16の影響はほとんど無い状態となっている。
【0024】
ただし、容量12の値も大きくなっているので、MIM容量の下層電極(金属層2)を接地間の容量を回路素子として許容できない場合は、問題となる。
【0025】
図2は図1の金属層3の面積を変化させる構成を成している。
【0026】
等価回路は図6と同等となり、金属層3の無い部分の金属層2−基板間の寄生素子が容量10と抵抗16である。
【0027】
金属層3の面積を調整することにより、金属層2の対接地寄生容量のQ値と接地間の寄生容量値の制御をすることができる。
【0028】
一例として金属層3の面積/金属層2(=Aとおく)の面積の比と寄生容量のQ値及び寄生容量を計算する。
【0029】
容量12と抵抗17で決まる金属層2−3間の寄生容量の値をQ1=50、金属層−基板間の寄生容量10と抵抗16で決まる寄生容量の値をQ2=10とし、容量7が1pF時の金属層2の容量10を0.06pF、金属層2と同じ面積の金属層3を入れた場合の寄生容量を0.1pFとする。
【0030】
下部金属層2の対接地寄生容量の合計C、寄生容量の合計Qは次式のようになる。
【0031】
C=C1×A+C2×(1−A)
Q=(Q1×Q2×A×C1+Q1×Q2×(1−A)×C2)
÷(Q1×(1−A)×C2+Q2×A×C1)
上式に前記の具体例の値を代入して、CとQを計算すると次のようになる。
【0032】
C=0.1×A+0.06×(1−A) (pF)
Q=(50×10×A×0.1+50×10×(1−A)×0.06)
÷(50×(1−A)×0.06+10×A×0.1)
で表される。
【0033】
Cの結果のグラフを図9に、Qの結果のグラフを図10に示す。
【0034】
例えば寄生容量のQを20以上にしたいときは金属層3の面積/金属層2の面積比を0.5つまり金属層2の半分を金属層3でシールドすればよいことになる。
【0035】
その時の対接地容量Cは0.08pFとなっている。
【0036】
つまりこの構成によりMIM容量を使用する回路によってQ値と接地間の寄生容量を調整することを可能としている。
【0037】
図3はMIM容量の面内でのQ値の変動をさけるためにレイアウトバランスを考慮したものである。
【0038】
図4は図1〜3の金属層3を上部側から見た形状である。
【0039】
ただし、本発明は図2の実施形態において金属層3の形状を金属層の本数を変更したもの、もしくは金属層3どうしの距離を自由に変更したものを含む。
【0040】
また、図2、図3の実施形態において金属層3の形状を網目状、円形等の自由な形状で実現したものを含むものとする。
【0041】
また、本発明の1〜3の実施形態において、上部電極の上に更に別の電極を設けてもよい。
【0042】
【発明の効果】
以上のように本発明は、MIM容量の寄生素子のQ値を調整する構成により、使用する回路に合わせて最適なQ値と最低限の寄生容量値を得ることを可能とし、高周波回路の性能向上を実現するための手段を提供するものである。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明におけるMIM容量において第1の実施形態を示す図
【図2】本発明におけるMIM容量において第2の実施形態を示す図
【図3】本発明におけるMIM容量において第3の実施形態を示す図
【図4】本発明におけるMIM容量において第1〜3の発明におけるMIM容量の金属層2と重なっている部分の金属層3の形状を示す図
【図5】本発明におけるMIM容量において寄生素子を含んだ等価回路図
【図6】本発明におけるMIM容量において影響の大きい寄生素子のみにした等価回路図
【図7】従来のMIM容量の構造図
【図8】従来の構造におけるMIM容量において寄生素子を含んだ等価回路図
【図9】金属層3の比率に対する接地電位間の寄生容量のグラフ
【図10】金属層3の比率に対する寄生容量のQ値グラフ
【符号の説明】
1〜3 金属層
4〜6 絶縁体
7〜13 容量
14〜17 抵抗
18 インダクタ
20 基板
Claims (4)
- 半導体において金属−絶縁体−金属のサンドイッチ構造によって構成する容量(Metal−Insulator−Metal容量(以降、MIM容量と記述))であって、
第1の金属層と第2の金属層の間に第1の絶縁体層を備え、基板と第2の金属層の間に第3の金属層を備えており、
第2の金属層と第3の金属層の間に第2の絶縁体層を備え、第3の金属層が接地電位に接続されている構造をしているMIM容量。 - 請求項1記載のMIM容量において、第2の金属層と重なる第3の金属層の主面の面積が、第2の金属層主面の面積より小さくした構成をしているMIM容量。
- 請求項2記載のMIM容量において、第3の金属層主面の形状が、第2の金属層に対して、半導体基板の主面上部から見て上下または左右対称となる形状をしているMIM容量。
- 請求項1〜3において第3の金属層の代わりに導電性のあるその他の拡散層で構成したMIM容量。
Priority Applications (6)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002254370A JP3937983B2 (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | Mim容量 |
TW092124060A TW200403872A (en) | 2002-08-30 | 2003-08-29 | MIM capacitor |
EP03791437A EP1533844A1 (en) | 2002-08-30 | 2003-09-01 | Mim capacitor |
US10/501,865 US7030443B2 (en) | 2002-08-30 | 2003-09-01 | MIM capacitor |
PCT/JP2003/011132 WO2004021439A1 (ja) | 2002-08-30 | 2003-09-01 | Mim容量 |
CNB038063603A CN1300849C (zh) | 2002-08-30 | 2003-09-01 | 金属绝缘体金属电容器 |
Applications Claiming Priority (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
---|---|---|---|
JP2002254370A JP3937983B2 (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | Mim容量 |
Publications (2)
Publication Number | Publication Date |
---|---|
JP2004095819A true JP2004095819A (ja) | 2004-03-25 |
JP3937983B2 JP3937983B2 (ja) | 2007-06-27 |
Family
ID=32060152
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
---|---|---|---|
JP2002254370A Expired - Fee Related JP3937983B2 (ja) | 2002-08-30 | 2002-08-30 | Mim容量 |
Country Status (1)
Country | Link |
---|---|
JP (1) | JP3937983B2 (ja) |
-
2002
- 2002-08-30 JP JP2002254370A patent/JP3937983B2/ja not_active Expired - Fee Related
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
JP3937983B2 (ja) | 2007-06-27 |
Similar Documents
Publication | Publication Date | Title |
---|---|---|
US7547970B2 (en) | Semiconductor device | |
US7295096B2 (en) | Inductor, resonant circuit, semiconductor integrated circuit, oscillator, and communication apparatus | |
US7838919B2 (en) | Capacitor structure | |
US7988744B1 (en) | Method of producing capacitor structure in a semiconductor device | |
US7251115B2 (en) | Multilayer capacitor | |
US7164184B2 (en) | Multilayer capacitor | |
US7906831B2 (en) | Semiconductor device with capacitor arrangement electrically coupled to inductor coil | |
US20080225463A1 (en) | Layered capacitor and mounting structure | |
JP2002009166A (ja) | 集積された誘導性回路 | |
CA2550882A1 (en) | Capacitor | |
JP4509390B2 (ja) | 改善された集積型の発振器及び調整可能な回路 | |
JP4519418B2 (ja) | 半導体装置 | |
US6922126B1 (en) | Inductor element | |
KR100529581B1 (ko) | 초고주파 윌켄슨 전력분배기 | |
US10700003B2 (en) | Integrated circuit structure, voltage-controlled oscillator and power amplifier | |
US20100133652A1 (en) | Semiconductor device and method of manufacturing the same | |
JP3937983B2 (ja) | Mim容量 | |
JP2001015384A (ja) | 積層セラミックコンデンサ | |
US7030443B2 (en) | MIM capacitor | |
JP4013734B2 (ja) | Mim容量 | |
US20060109605A1 (en) | Decoupling module for decoupling high-frequency signals from a voltage supply line | |
JP2000252164A (ja) | 積層セラミックフィルタ | |
CN109273427B (zh) | 集成电路结构、压控振荡器及功率放大器 | |
JP2004320556A (ja) | 受動部品 | |
KR100415547B1 (ko) | 초고주파 집적회로용 고충실도 다결정 실리콘 캐패시터 |
Legal Events
Date | Code | Title | Description |
---|---|---|---|
A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040827 |
|
RD01 | Notification of change of attorney |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A7421 Effective date: 20050707 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20061107 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20061207 |
|
A131 | Notification of reasons for refusal |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A131 Effective date: 20070116 |
|
A521 | Written amendment |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A523 Effective date: 20070214 |
|
TRDD | Decision of grant or rejection written | ||
A01 | Written decision to grant a patent or to grant a registration (utility model) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A01 Effective date: 20070306 |
|
A61 | First payment of annual fees (during grant procedure) |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A61 Effective date: 20070319 |
|
R151 | Written notification of patent or utility model registration |
Ref document number: 3937983 Country of ref document: JP Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: R151 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20110406 Year of fee payment: 4 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20120406 Year of fee payment: 5 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20130406 Year of fee payment: 6 |
|
FPAY | Renewal fee payment (event date is renewal date of database) |
Free format text: PAYMENT UNTIL: 20140406 Year of fee payment: 7 |
|
LAPS | Cancellation because of no payment of annual fees |