JP2004080027A - One-side multilayer wiring board and its manufacturing method - Google Patents

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Sumio Ota
太田 純雄
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a one-side multilayer wiring board in which a build-up layer having an insulating layer and a wiring layer is only formed on one main surface of a core substrate and which can be reduced in warping, and to provide a method by which the wiring board can be manufactured appropriately. <P>SOLUTION: In the one-side multilayer wiring board 1 in which the build-up layer having the insulating layer 4 and wiring layer 5 is only formed on one main surface of the core substrate 2, the insulating layer 4 is formed by using a film-like insulating resin material and, at the same time, the content of a solvent component contained in the insulating resin material is adjusted to ≤4 wt%. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

 本発明は、片面積層配線基板およびその製造方法に関し、詳細には、反りの低減が可能とされる片面積層配線基板およびその製造に適した製造方法に関する。 {Circle over (1)} The present invention relates to a single-area wiring board and a method of manufacturing the same, and more particularly, to a single-area wiring board capable of reducing warpage and a manufacturing method suitable for manufacturing the same.

 多層プリント配線基板を製造する方法にビルドアップ法がある。これは、コア基板上に、絶縁樹脂材からなる層間絶縁体膜を用いて絶縁体層を積層形成し、その上に配線層を形成することで多層化される。また、絶縁樹脂材からなる層間絶縁膜は、コア基板上に被覆形成させた後に硬化処理がなされることで、所定の絶縁体層となるものである。つまり、ビルドアップ法を用いることで、コア基板上に、絶縁体層および配線層を有するビルドアップ層が形成されることになる。近年、絶縁樹脂材からなる層間絶縁膜をフィルム状のものとし、これをコア基板上にラミネートしてビルドアップ層を形成する方法が、製造プロセスを簡略化する手法として注目されている。 ビ ル ド There is a build-up method as a method of manufacturing a multilayer printed wiring board. This is achieved by laminating and forming an insulating layer on a core substrate using an interlayer insulating film made of an insulating resin material, and forming a wiring layer thereon. In addition, the interlayer insulating film made of an insulating resin material becomes a predetermined insulator layer by being subjected to a curing treatment after being formed on the core substrate. That is, by using the build-up method, a build-up layer having an insulator layer and a wiring layer is formed on the core substrate. In recent years, a method of forming a build-up layer by laminating an interlayer insulating film made of an insulating resin material on a core substrate to form a build-up layer has attracted attention as a technique for simplifying a manufacturing process.

 また、上記ビルドアップ層では、絶縁体層を隔てた2つの配線層をなす配線パターンがビアと呼ばれる層間導体により電気的に接続される。このビアは絶縁体層に孔設されるビアホールに導体をメッキすることにより形成される。このビアホールの形成には、主に2つの方法が用いられている。1つは、層間絶縁体膜に感光性樹脂成分を含有させ絶縁体層に感光性を付与させるとともに、マスクを通して紫外線を絶縁体層に照射し露光、現像することにより、所定位置にビアホールのパターンを形成させるものである。もう1つは、積極的に層間絶縁体膜に感光性樹脂成分を含有させることなく、レーザを用いて、絶縁体層の所定位置にビアホールのパターンを形成させるものである。 {Circle around (2)} In the build-up layer, wiring patterns forming two wiring layers separated by an insulator layer are electrically connected by an interlayer conductor called a via. This via is formed by plating a conductor in a via hole formed in the insulator layer. Two methods are mainly used to form this via hole. One is to add a photosensitive resin component to the interlayer insulator film to impart photosensitivity to the insulator layer, and irradiate the insulator layer with ultraviolet rays through a mask to expose and develop the via hole pattern at a predetermined position. Is formed. The other is to form a pattern of a via hole at a predetermined position of an insulator layer using a laser without positively including a photosensitive resin component in an interlayer insulator film.

 上述のような形態とされるビルドアップ層であるが、このビルドアップ層が形成された多層プリント配線基板には、コア基板の一方の主表面上にのみビルドアップ層が形成された片面積層配線基板と、コア基板の両主表面上にビルドアップ層が形成された両面積層配線基板とがある。これら片面積層配線基板および両面積層配線基板は、使用用途に応じて適宜どちらかの形態になるように製造される。特には、多層プリント配線基板の低コスト化の要請に応じる形で、種々の機能を片面積層配線基板で負えるように図ることがなされている。片面積層配線基板に関する特許文献としては、例えば、特開2002−290031号公報がある。 Although the build-up layer has the form described above, the multilayer printed wiring board on which the build-up layer is formed has a single-area layer wiring in which the build-up layer is formed only on one main surface of the core substrate. There are a substrate and a double-sided laminated wiring substrate in which build-up layers are formed on both main surfaces of a core substrate. These single-area wiring boards and double-sided laminated wiring boards are manufactured so as to take one of the forms depending on the intended use. In particular, in order to meet the demand for cost reduction of a multilayer printed wiring board, various functions have been designed to be provided by a single area layered wiring board. As a patent document relating to a single-area wiring board, there is, for example, JP-A-2002-290031.

特開2002−290031号公報(図1等)JP-A-2002-290031 (FIG. 1 etc.)

 しかしながら、コア基板の一方の主表面上にのみビルドアップ層を形成する場合、そのビルドアップ層をなす絶縁体層や配線層を積層形成していく過程において、コア基板に過度の反りが発生し、例えば、絶縁体層の所定位置にビアホールのパターンを形成する際の位置合わせ精度の悪化や、絶縁体層および配線層を順次積層形成する際のずれが増大するなどの問題がある。このことは、結果として、片面積層配線基板を所望のものとして良品化する妨げとなるとともに、製品歩留まりの低下を招くことになる。また、コア基板の反り量が増大すると、製造された片面積層配線基板上に電子部品などを実装する際の位置ずれ等にも影響を及ぼすので、このコア基板の反り量を制御することは、片面積層配線基板の場合、避けることができない問題とされる。 However, when the build-up layer is formed only on one main surface of the core substrate, excessive warpage occurs in the core substrate in the process of laminating and forming the insulator layer and the wiring layer that constitute the build-up layer. For example, there are problems such as deterioration of alignment accuracy when forming a via hole pattern at a predetermined position of an insulator layer, and an increase in misalignment when sequentially forming an insulator layer and a wiring layer. This, as a result, hinders the production of a single-layer wiring board as a desired one and makes it non-defective, and causes a reduction in product yield. Also, if the amount of warpage of the core substrate increases, it also affects the displacement and the like when mounting electronic components and the like on the manufactured single-area wiring board, so controlling the amount of warpage of the core substrate is difficult. In the case of a single-area wiring board, this is an unavoidable problem.

 このように、コア基板の一方の主表面上にビルドアップ層を形成した場合に、コア基板の反り量、つまりは片面積層配線基板の反り量を制御することは、重要な課題とされる。まさに、本発明は、かかる課題を鑑みてなされたものであって、即ち、本発明は、反りの低減が可能とされる片面積層配線基板および、その製造に適した製造方法を提供することを目的する。 As described above, when the build-up layer is formed on one main surface of the core substrate, it is important to control the amount of warpage of the core substrate, that is, the amount of warpage of the one-layer wiring board. Indeed, the present invention has been made in view of such a problem, that is, the present invention provides a one-area layer wiring board capable of reducing warpage and a manufacturing method suitable for manufacturing the same. Aim.

 上記課題を解決するための本発明の片面積層配線基板の製造方法は、
 コア基板の一方の主表面上にのみ、絶縁体層および配線層を有するビルドアップ層を形成する片面積層配線基板の製造方法であって、
 前記絶縁体層は、フィルム状の絶縁樹脂材を前記コア基板の一方の主表面上に被覆形成し、硬化処理を施すことにより形成し、
 かつ、該硬化処理における前記絶縁樹脂材の熱収縮により前記片面積層基板に発生する反りを抑制させるために、前記絶縁樹脂材に含有される溶剤成分の含有率は、4重量%以下とされることを特徴とする。
In order to solve the above problems, a method for manufacturing a single area layer wiring board according to the present invention includes:
Only one main surface of the core substrate, a method for manufacturing a single-area layer wiring board to form a build-up layer having an insulator layer and a wiring layer,
The insulator layer is formed by coating a film-shaped insulating resin material on one main surface of the core substrate and performing a curing process;
In addition, in order to suppress the warpage generated in the one-area layer substrate due to the heat shrinkage of the insulating resin material in the curing treatment, the content of the solvent component contained in the insulating resin material is set to 4% by weight or less. It is characterized by the following.

 また、上記課題を解決するための本発明の片面積層配線基板は、
 コア基板の一方の主表面上にのみ、絶縁体層および配線層を有するビルドアップ層が形成されてなる片面積層配線基板であって、
 前記絶縁体層は、フィルム状の絶縁樹脂材を前記コア基板の一方の主表面上に被覆形成し、硬化処理を施すことにより形成されてなるものであり、
かつ、該硬化処理における前記絶縁樹脂材の熱収縮により前記片面積層基板に発生する反りを抑制させるために、前記絶縁樹脂材に含有される溶剤成分の含有率は、4重量%以下とされてなることを特徴とする。
In addition, the one-area layer wiring board of the present invention for solving the above problems,
Only one main surface of the core substrate, a single-area layer wiring board in which a build-up layer having an insulator layer and a wiring layer is formed,
The insulator layer is formed by coating a film-shaped insulating resin material on one main surface of the core substrate and performing a curing process,
In addition, in order to suppress warpage generated in the one-layer substrate due to heat shrinkage of the insulating resin material in the curing treatment, the content of the solvent component contained in the insulating resin material is set to 4% by weight or less. It is characterized by becoming.

 上記本発明は、コア基板の一方の主表面上にのみ、絶縁体層および配線層を有するビルドアップ層が形成された片面積層配線基板を対象とするものである。また、該片面積層配線基板に発生する反り量を制御するためになされたものである。本発明者は、種々の実験・考察を繰り返し鋭意検討した結果、ビルドアップ層をなす絶縁体層を積層形成する際に用いる、フィルム状の絶縁樹脂材(以下、樹脂フィルムとも称する)の組成が、片面積層配線基板に発生する反り量に対して非常に密接な依存性をもつことが分かった。該樹脂フィルムには、樹脂成分、硬化剤成分、フィラー成分、溶剤成分などの多くの成分が所定の比率にて含有されてなるが、具体的には、溶剤成分の含有率が問題であることが分かった。そこで、本発明においては、絶縁体層を積層形成する際に用いる樹脂フィルムに含有される溶剤成分の含有率は、4重量%以下とする。このように樹脂フィルムに含有される溶剤成分を適正化することで、片面積層基板に発生する反り量を効果的に抑制することが可能となる。 The present invention is directed to a single-area wiring board in which a build-up layer having an insulating layer and a wiring layer is formed only on one main surface of a core board. Further, the purpose of the present invention is to control the amount of warpage generated in the one-layer wiring board. The present inventor has repeatedly conducted various experiments and studies, and as a result of intensive studies, found that the composition of a film-shaped insulating resin material (hereinafter, also referred to as a resin film) used when forming an insulating layer as a build-up layer is formed. It has been found that there is a very close dependence on the amount of warpage generated in the one-layer wiring board. The resin film contains many components such as a resin component, a curing agent component, a filler component, and a solvent component in a predetermined ratio. Specifically, the content of the solvent component is a problem. I understood. Therefore, in the present invention, the content of the solvent component contained in the resin film used when forming the insulating layer by lamination is set to 4% by weight or less. By optimizing the solvent component contained in the resin film in this manner, it is possible to effectively suppress the amount of warpage generated in the one-layer substrate.

 上記の樹脂フィルムに含有される溶剤成分は、溶媒として機能とするものであるが、樹脂フィルムをコア基板の一方の主表面上にラミネート(はり合わせ)にて被覆形成し、所定の加熱雰囲気や露光雰囲気にて硬化処理を施した際、概ね気化して最終的に絶縁体層には残存しない成分とされる。そのため、この溶剤成分の気化により樹脂フィルムは、所望の絶縁体層に完全硬化変形する過程にて、その熱収縮度が大きくなる。このことが、片面積層配線基板に発生する反りの主要因であると想定される。つまり、樹脂フィルムに含有される溶剤成分の増大により、片面積層配線基板に発生する反り量も増大とする。その意味で、本発明においては、使用する樹脂フィルムに含有される溶剤成分の含有率を4重量%以下とし、4重量%を超えると発生する反り量が過度に増大する傾向となるので、この4重量%を上限値として適正化させてある。 The solvent component contained in the resin film functions as a solvent. The resin film is formed by laminating (bonding) the resin film on one main surface of the core substrate, and is heated in a predetermined heating atmosphere. When a curing treatment is performed in an exposure atmosphere, the components are substantially vaporized and finally become components that do not remain in the insulator layer. Therefore, the heat shrinkage of the resin film increases during the process of completely curing and deforming the resin film into a desired insulator layer due to the vaporization of the solvent component. It is assumed that this is the main cause of the warpage that occurs in the single-area wiring board. That is, an increase in the solvent component contained in the resin film also increases the amount of warpage generated in the one-layer wiring board. In that sense, in the present invention, the content of the solvent component contained in the resin film used is set to 4% by weight or less, and if it exceeds 4% by weight, the amount of warpage tends to be excessively increased. The upper limit is set at 4% by weight, which is optimized.

 上述のごとく、本発明においては、片面積層配線基板に発生する反りを効果的に抑制できるので、製造方法上においては、例えば、絶縁体層の所定位置にビアのパターンを形成する際にも位置精度よく形成することができ、また、絶縁層および配線層を積層形成させる際にも位置精度よくずれの発生を抑制した形で積層形成させることが可能となる。その結果、片面積層配線基板を、電気的接続や電気的特性などが抑制されることなく所望の機能を有したものとして良品化することを容易にし、製品歩留まりを高めることができる。また、片面積層配線基板に発生する反り量が低減することで、実装される電子部品との実装信頼性を高めることができるとともに、実装される電子部品のサイズ、その接続端子間の距離や接続端子の高さなどの許容範囲を設定しやすくなるといった具合に、片面積層配線基板を有用なものとすることができる。 As described above, in the present invention, the warpage generated in the one-layer wiring board can be effectively suppressed. Therefore, in the manufacturing method, for example, the position of a via pattern at a predetermined position of an insulator layer can be reduced. The insulating layer and the wiring layer can be formed with high accuracy, and also when the insulating layer and the wiring layer are formed in a stacked manner, it is possible to form the stacked layers in a form in which the occurrence of the displacement is suppressed with high accuracy. As a result, it is easy to improve the single-area layer wiring board as a product having a desired function without suppressing electrical connection and electrical characteristics, and it is possible to increase the product yield. In addition, by reducing the amount of warpage generated in the single-layer wiring board, the mounting reliability of the mounted electronic component can be increased, and the size of the mounted electronic component, the distance between its connection terminals and the connection. The single-area wiring board can be useful, for example, in that the allowable range such as the terminal height can be easily set.

 次に、本発明のビルドアップ層において積層形成する絶縁体層の積層数は2層以上とされることを特徴とする。樹脂フィルムを用いて絶縁体層を形成する際、硬化処理にて増大する樹脂フィルムの熱収縮度に起因して発生する、コア基板の反りは、当然、絶縁体層の積層数の増加に伴い大きくなる。つまり、絶縁体層の積層数が増加するに従い、片面積層配線基板に発生する反り量はますます無視できないものとなる。そこで、ビルドアップ層に絶縁体層が2層以上形成される片面積層配線基板においては、本発明に示す溶剤量が適正化された樹脂フィルムを用いて絶縁体層を形成した場合、その効果がより顕在化するとともに、反りが低減された有用な片面積層配線基板とすることができる。また、製造上においても、絶縁体層の積層数の増加に伴いコア基板の反りが増大した場合、絶縁体層の所定位置にビアのパターンを形成する際の位置合わせ精度や、絶縁体層および配線層を積層形成させる際の位置合わせ精度の悪化がより顕著となる。しかしながら、ビルドアップ層において積層形成する絶縁体層の積層数が2層以上とされる場合においても、本発明に示す溶剤が適正化された樹脂フィルムを用いて絶縁体層を形成することで、精度よくビアパターン形成や絶縁体層および配線層を積層形成することができるとともに、製品歩留まりを高めることが可能となる。 Next, the number of laminated insulator layers in the build-up layer of the present invention is two or more. When forming an insulator layer using a resin film, the warpage of the core substrate, which occurs due to the heat shrinkage of the resin film that increases in the curing process, naturally accompanies the increase in the number of laminated insulator layers. growing. That is, as the number of stacked insulating layers increases, the amount of warpage generated in the one-layer wiring board cannot be ignored. Therefore, in the case of a single-area wiring board in which two or more insulator layers are formed in the build-up layer, when the insulator layer is formed using a resin film in which the amount of solvent is optimized according to the present invention, the effect is reduced. A more effective single-layer wiring board with more obvious and reduced warpage can be obtained. Also, in manufacturing, when the warpage of the core substrate increases with an increase in the number of stacked insulating layers, the alignment accuracy when forming a via pattern at a predetermined position of the insulating layer, and the insulating layer and The deterioration of the positioning accuracy when the wiring layers are stacked is more remarkable. However, even in the case where the number of laminated insulating layers to be formed in the build-up layer is two or more, by forming the insulating layer using a resin film in which the solvent according to the present invention is optimized, The formation of the via pattern and the lamination of the insulator layer and the wiring layer can be accurately performed, and the product yield can be improved.

 上記のように、ビルドアップ層に2層以上の絶縁体層が積層形成される場合に、本発明に示す溶剤量が適正化された樹脂シートの効果が、特に顕著となるとともに、片面積層配線基板に対する反り低減もより効果的になる。なお、ビルドアップ層における絶縁体層の積層数の上限値は、製品として共される際の常識的な数値範囲であり、例えば、4層程度とされる。 As described above, when two or more insulator layers are laminated on the build-up layer, the effect of the resin sheet in which the amount of solvent is optimized according to the present invention is particularly remarkable, and the single-area layer wiring The warpage reduction for the substrate is also more effective. Note that the upper limit of the number of stacked insulating layers in the build-up layer is a common-sense numerical range when shared as a product, and is, for example, about four layers.

 次に、本発明における絶縁樹脂材には、熱可塑性樹脂成分が含有されてなるとともに、その含有率が10重量%以下とされることを特徴とする。本発明にて用いる樹脂シートに含有される溶剤成分の含有量は4重量%以下とされる。この溶剤成分は溶媒として機能するものであるので、該溶剤成分が多いほど、樹脂シート作製時に他の成分の流動性を高め、圧力を印加することなく、もしくはその印加圧力を低減させて樹脂シートを作製できる利点がある。また、可撓性に優れた樹脂シートとすることができる。そこで、樹脂シート作製時の印加圧力を高めるなどすれば、本発明に用いる樹脂シートは作製可能とされるので問題はないが、樹脂シートの可撓性は、ハンドリング性に係わるので、作業上問題となる場合が考えられる。このような作業上のハンドリング性を高める観点を加味する場合は、本発明の樹脂シートに熱可塑性樹脂成分を含有させることが望ましい。その結果、ビルドアップ層を製造する際にもハンドリング性よく、高効率にて作業を行なうことが可能となる。また、熱可塑性樹脂成分を樹脂シートに含有させることで、樹脂シートをコア基板上に被覆形成する際の密着性をも高めることが可能となり、ひいては、絶縁体層と、該絶縁体層のコア基板側にて隣接する層との密着性を高めるとともに接合強度を高めることも可能となる。そこで、樹脂シートに含有させる熱可塑性樹脂成分の含有率であるが、10重量%もあれば、その効果を十分に得ることができるので、10重量%以下とされる。また、この上限値を超えると、硬化処理にて硬化させる樹脂成分や硬化剤成分などの量を十分に取れない場合があり、ひいては、絶縁体層の機械的強度などの特性が低下することにもなるので、その意味でも、樹脂シートに含有させる熱可塑性樹脂成分の含有率は、10重量%以下とするのが望ましい。なお、樹脂シートに熱可塑性樹脂成分を含有させることで、該樹脂シート作製時に他の成分の流動性を高める効果も期待できる。 Next, the insulating resin material according to the present invention is characterized in that the insulating resin material contains a thermoplastic resin component and the content is 10% by weight or less. The content of the solvent component contained in the resin sheet used in the present invention is 4% by weight or less. Since this solvent component functions as a solvent, as the amount of the solvent component increases, the fluidity of other components is increased during the production of the resin sheet, and the resin sheet is formed without applying a pressure or reducing the applied pressure. Can be produced. Further, a resin sheet having excellent flexibility can be obtained. Therefore, if the applied pressure at the time of producing the resin sheet is increased, the resin sheet used in the present invention can be produced, so that there is no problem. However, since the flexibility of the resin sheet is related to the handling property, there is a problem in operation. It is possible that When taking into account such a viewpoint of improving the handling property in work, it is desirable that the resin sheet of the present invention contains a thermoplastic resin component. As a result, even when the build-up layer is manufactured, the work can be performed with good handling and high efficiency. In addition, by including the thermoplastic resin component in the resin sheet, it becomes possible to increase the adhesion when the resin sheet is formed on the core substrate, and thus, the insulator layer and the core of the insulator layer can be formed. It is also possible to increase the adhesion between the adjacent layers on the substrate side and the bonding strength. Therefore, the content of the thermoplastic resin component contained in the resin sheet is 10% by weight or less because the effect can be sufficiently obtained if it is 10% by weight. In addition, when the amount exceeds the upper limit, the amount of the resin component or the hardener component to be hardened in the hardening process may not be sufficiently obtained, and as a result, the properties such as the mechanical strength of the insulator layer may be reduced. In this sense, the content of the thermoplastic resin component contained in the resin sheet is preferably set to 10% by weight or less. By including a thermoplastic resin component in the resin sheet, an effect of increasing the fluidity of other components during the production of the resin sheet can be expected.

 さて、上記のように樹脂シートに熱可塑性樹脂成分を含有させることで、ビルドアップ層における絶縁体層と、該絶縁体層のコア基板側にて隣接する層との接合強度をも高めることが可能である点について述べた。このように、接合強度が高められるとともに、溶剤成分のように熱可塑性樹脂成分は気化することなく、絶縁体層に残存するものであるので、コア基板に発生する反り、つまりは、片面積層配線基板に発生する反りをさらに抑制することが可能となる。そこで、ビルドアップ層の絶縁体層に含有される熱可塑性樹脂成分の含有率であるが、樹脂シートに含有される含有率が10重量%以下であることを考慮して、10重量%以下程度とされるのが望ましい。 By including the thermoplastic resin component in the resin sheet as described above, it is also possible to increase the bonding strength between the insulator layer in the build-up layer and a layer adjacent to the insulator layer on the core substrate side. He mentioned what is possible. As described above, the bonding strength is increased, and the thermoplastic resin component such as the solvent component does not evaporate and remains in the insulator layer. Therefore, the warpage generated in the core substrate, that is, the one-layer wiring Warpage occurring in the substrate can be further suppressed. Therefore, the content of the thermoplastic resin component contained in the insulator layer of the build-up layer is about 10% by weight or less in consideration that the content contained in the resin sheet is 10% by weight or less. It is desirable to be.

 次に、本発明の絶縁樹脂材には、フィラー成分が5〜30重量%(5重量%以上30重量%以下)の含有率の範囲にて含有されてなることを特徴とする。本発明にて用いるフィルム状の絶縁樹脂材、つまりは、樹脂フィルムは溶剤成分の含有量の低減化がなされたものであるので、他の成分含有量の増分が許容されることになる。そこで、フィラー成分をその増分をなす1成分とするのが望ましい。フィラー成分は、樹脂シートを硬化処理する際に、樹脂成分など他の成分において突出した流動性をもつものが発生することを抑制し、むらのない寸法性や接合性に富んだ絶縁体層とするために含有させるものである。また、フィラー成分の含有量を増加させることで、その効果の有用性は高まる。このことは、フィラー成分を増加させることで、樹脂シートを硬化処理する際の溶剤成分以外の成分における熱収縮度を、より抑制させることが可能であることを意味する。つまり、フィラー成分を増加させることで、コア基板の反り量、ひいては片面積層配線基板の反り量をさらに低減させることができる。このフィラー成分の樹脂シートにおける含有率としては、5〜30重量%の範囲とするのが望ましい。5重量%未満では、その効果を十分に有用なものとすることができない場合があり、一方、30重量%を超えると、樹脂シートを硬化処理する際に、過度に他の成分の流動性が抑制され、絶縁体層の表面平滑性が悪化してしまう場合がある。このように、樹脂シートにおける溶剤成分の低減分にて許容される増分成分として、フィラー成分を選択することは有用である。
 さらに、上記した含有範囲にて熱可塑性樹脂成分とフィラー成分とを積極的に添加させた場合、特にコア基板のそり、ひいては片面積層配線基板の反りをより低減させることが可能となる。なお、絶縁体層に含有されるフィラー成分の含有率の範囲は、樹脂シートに含有される含有率が、5〜30重量%の範囲であることを考慮して、5〜30重量%程度とするのがよい。
Next, the insulating resin material of the present invention is characterized in that the filler component is contained in a content range of 5 to 30% by weight (5 to 30% by weight). Since the film-shaped insulating resin material used in the present invention, that is, the resin film, has a reduced content of the solvent component, an increase in the content of other components is allowed. Therefore, it is desirable that the filler component be one component that forms the increment. The filler component suppresses the occurrence of prominent fluidity in other components such as the resin component during the curing treatment of the resin sheet. In order to be contained. Further, by increasing the content of the filler component, the usefulness of the effect is increased. This means that by increasing the filler component, it is possible to further suppress the heat shrinkage of components other than the solvent component when the resin sheet is cured. That is, by increasing the filler component, it is possible to further reduce the amount of warpage of the core substrate, and thus the amount of warpage of the one-layer wiring board. The content of the filler component in the resin sheet is preferably in the range of 5 to 30% by weight. If the amount is less than 5% by weight, the effect may not be sufficiently useful. On the other hand, if the amount exceeds 30% by weight, the fluidity of other components is excessively increased when the resin sheet is cured. This is suppressed, and the surface smoothness of the insulator layer may deteriorate. As described above, it is useful to select a filler component as an incremental component that is allowed by a reduced amount of the solvent component in the resin sheet.
Further, when the thermoplastic resin component and the filler component are positively added in the above-mentioned content range, it is possible to further reduce the warpage of the core substrate, and furthermore, the warpage of the one-layer wiring board, in particular. The range of the content of the filler component contained in the insulator layer is about 5 to 30% by weight in consideration of the content of the resin sheet being in the range of 5 to 30% by weight. Good to do.

 次に本発明におけるコア基板は、セラミックからなることを特徴とする。コア基板をセラミックから構成させることで、有機材料からなるものに比べて発生するコア基板自体の反り量を効果的に抑制させることができる。その結果、片面積層基板に発生する反り量をより効果的に抑制することが可能となる。また、製造方法上においても、例えば、絶縁体層の所定位置にビアのパターンを形成する際にもより位置精度よく形成することができ、また、絶縁層および配線層を積層形成させる際にもより位置精度よくずれの発生を抑制した形で積層形成させることが可能となる。 Next, the core substrate of the present invention is characterized by being made of ceramic. When the core substrate is made of ceramic, the amount of warpage of the core substrate itself, which occurs as compared with the case where the core substrate is made of an organic material, can be effectively suppressed. As a result, it is possible to more effectively suppress the amount of warpage generated in the one-layer substrate. Further, also in the manufacturing method, for example, when forming a via pattern at a predetermined position of the insulator layer, it can be formed with higher positional accuracy, and also when forming an insulating layer and a wiring layer in a stacked manner. It is possible to form the layers in a form in which the occurrence of the displacement is suppressed with higher positional accuracy.

 以下、本発明の片面積層配線基板に係わる実施形態について図面を併用して説明する。
 図1は、本発明の片面積層配線基板の一実施形態を示す概略断面図である。片面積配線基板1においては、以下のような構造をなすものである。耐熱性樹脂板(例えば、ビスマレイミド−トリアジン樹脂板)や、繊維強化樹脂板(例えばガラス繊維強化エポキシ樹脂)等で構成された板状のコア基板2(例えば厚さ800μm)の両表面に、所定のパターンにコア配線パターン層3、13(例えば厚さ20μm)がそれぞれ形成されてなる。これらコア配線パターン層3、13はコア基板2の表面の大部分を被覆するように形成され、電源層または接地層として用いられるものである。他方、コア基板2には、ドリルまたはレーザ等により穿設されたスルーホール12が形成され、その内壁面にはコア配線パターン層3、13を互いに導通させるスルーホール導体30が形成されてなる。また、スルーホール12は、エポキシ樹脂等の樹脂製穴埋め材31により充填されている。
Hereinafter, an embodiment of a one-area wiring board according to the present invention will be described with reference to the drawings.
FIG. 1 is a schematic sectional view showing one embodiment of a one-area layer wiring board of the present invention. The single-area wiring board 1 has the following structure. On both surfaces of a plate-shaped core substrate 2 (for example, 800 μm in thickness) made of a heat-resistant resin plate (for example, a bismaleimide-triazine resin plate) or a fiber reinforced resin plate (for example, a glass fiber reinforced epoxy resin), The core wiring pattern layers 3 and 13 (for example, a thickness of 20 μm) are formed in a predetermined pattern. These core wiring pattern layers 3 and 13 are formed so as to cover most of the surface of the core substrate 2 and are used as power supply layers or ground layers. On the other hand, a through hole 12 formed by a drill or a laser or the like is formed in the core substrate 2, and a through hole conductor 30 for conducting the core wiring pattern layers 3 and 13 to each other is formed on the inner wall surface. The through hole 12 is filled with a resin filling material 31 such as an epoxy resin.

 また、コア配線パターン層3の上層には、本発明に示す樹脂シートを用いた第一層目の絶縁体層4(例えば厚さ30μm)が形成されている。さらに、その表面には、第一層目の配線層5(例えば厚さ15μm)がCuメッキにより形成されている。なお、コア配線パターン層3、13と配線層5とはビア導体32により層間接続がなされている。同様にして、さらに第一層目の配線層5の上層には、本発明に示す樹脂シートを用いた第二層目の絶縁体層4が形成されている。その表面には第二層目の配線層5がCuメッキにより形成されている。これら第一層目および第二層目の配線層5は、ビア導体32により層間接続がなされている。なお、コア配線パターン層3、第一層目および第二層目の配線層5の各表面は、上層の絶縁体層4を形成する際に用いる樹脂フィルム、ひいては形成される絶縁体層4との密着強度を上げるために表面粗化処理(例えば黒化処理やキレートエッチング等の化学的な処理に基づくもの)が施されている。 {Circle around (1)} On the upper layer of the core wiring pattern layer 3, a first insulating layer 4 (for example, a thickness of 30 μm) using the resin sheet shown in the present invention is formed. Further, a first wiring layer 5 (for example, a thickness of 15 μm) is formed on the surface by Cu plating. The core wiring pattern layers 3 and 13 and the wiring layer 5 are interconnected by via conductors 32. Similarly, a second insulator layer 4 using the resin sheet according to the present invention is further formed on the first wiring layer 5. A second wiring layer 5 is formed on the surface by Cu plating. The first and second wiring layers 5 are connected to each other by via conductors 32. The surfaces of the core wiring pattern layer 3 and the first and second wiring layers 5 are formed of a resin film used for forming the upper insulating layer 4 and the insulating layer 4 to be formed. Has been subjected to a surface roughening treatment (for example, a treatment based on a chemical treatment such as a blackening treatment or a chelate etching) in order to increase the adhesion strength.

 次に、第二層目の絶縁体層4上には、第二層目の配線層5と導通する下地導電性パッド10が多数設けられている。これら下地導電性パッド10は、配線層5の表面に図示しない無電解Ni−PメッキおよびAuメッキが施され、基板のほぼ中央部分に正方形状に配列し、各々その上に形成されたハンダバンプ11とともにICチップ等の電子部品を実装させる際の搭載部となる。第二層目の配線層5が形成されている側および、コア配線パターン層13が形成されている側には、それら配線層5およびコア配線パターン層13を覆う形でソルダーレジスト層8、18が形成されている。また、コア配線配線パターン層13側にも、同様に該層13と導通する下地導電性パッド10が多数設けられている。そして、この下地導線性パッド10を介して、片面積層配線基板1をマザーボードや他の配線基板に接続させることができる形態とされる。 Next, on the second insulator layer 4, a number of underlying conductive pads 10 that are electrically connected to the second wiring layer 5 are provided. These underlying conductive pads 10 are provided with an electroless Ni—P plating and an Au plating (not shown) on the surface of the wiring layer 5, are arranged in a square shape at a substantially central portion of the substrate, and have solder bumps 11 formed thereon. In addition, it serves as a mounting portion for mounting electronic components such as an IC chip. On the side where the second wiring layer 5 is formed and on the side where the core wiring pattern layer 13 is formed, the solder resist layers 8 and 18 are formed so as to cover the wiring layer 5 and the core wiring pattern layer 13. Is formed. Similarly, a large number of underlying conductive pads 10 electrically connected to the core wiring pattern layer 13 are also provided on the core wiring pattern layer 13 side. The single-layer wiring board 1 can be connected to a motherboard or another wiring board via the base conductive pad 10.

 さて、このようにコア基板2の一方の主表面上に、絶縁体層4および配線層5を有するビルドアップ層が形成されてなる片面積層配線基板1において、絶縁体層4を形成するために用いられる樹脂シートに含有される溶剤成分の含有量は、4重量%以下とされる。絶縁体層4は、樹脂シートをロールラミネートや積層プレスにてコア基板2上にラミネートするとともに、該樹脂シートに対して所定の加熱温度にて硬化処理を行なうことで形成される。この際、樹脂シートが感光性樹脂シートであれば、所定の露光雰囲気や加熱雰囲気、もしくは両雰囲気とした状態で硬化処理を行なう。この硬化処理の際、溶剤成分は概ね気化するために、樹脂シートが完全硬化して絶縁体層となる変形過程にて過度の熱収縮が発生する。図2の模式図に示すように、コア基板を基体とする基板本体70にラミネートされた樹脂シート71が、硬化処理の際に、基板本体70の内側に向かい収縮するため、結果、基板本体70に上側に凹状の反りが発生してしまう。また、この反り量は、形成する絶縁体層の積層数に伴い、その増加率は低下するものの基本的に増加傾向を示す。そこで、本発明は、絶縁体層を形成するために用いる樹脂シートに含有させる溶剤成分の含有量を4重量%以下に適正化してある。その結果、本発明の片面積層配線基板を反りが効果的に抑制されたものとすることができる。また、その製造上においても、各工程における位置合わせ精度がコア基板の反りにより悪化することが抑制されるといった具合に、製品歩留まり等を高めることが可能となる。 Now, in order to form the insulator layer 4 in the single-area layer wiring board 1 in which the build-up layer having the insulator layer 4 and the wiring layer 5 is formed on one main surface of the core substrate 2 as described above. The content of the solvent component contained in the resin sheet used is set to 4% by weight or less. The insulator layer 4 is formed by laminating a resin sheet on the core substrate 2 by roll lamination or a laminating press, and performing a curing treatment on the resin sheet at a predetermined heating temperature. At this time, if the resin sheet is a photosensitive resin sheet, the curing treatment is performed in a predetermined exposure atmosphere, a heating atmosphere, or both atmospheres. During this curing treatment, the solvent component is substantially vaporized, so that excessive heat shrinkage occurs during a deformation process in which the resin sheet is completely cured and becomes an insulator layer. As shown in the schematic diagram of FIG. 2, the resin sheet 71 laminated on the substrate main body 70 having the core substrate as a base contracts toward the inside of the substrate main body 70 during the curing treatment. Then, a concave warp occurs on the upper side. In addition, the amount of warpage basically increases according to the number of insulator layers to be formed, although the rate of increase decreases. Therefore, in the present invention, the content of the solvent component contained in the resin sheet used for forming the insulator layer is optimized to 4% by weight or less. As a result, the one-area layer wiring board of the present invention can be made such that warpage is effectively suppressed. In addition, even in the manufacture thereof, it is possible to increase the product yield and the like, for example, in which the alignment accuracy in each step is prevented from being deteriorated by the warpage of the core substrate.

 上記した本発明に示す樹脂シートに含有される溶剤成分としては、特に限定されるものでなく公知のものが適用可能であるが、例えば、キシレン、エチレングリコールモノエチルエーテルアセテート、エチレングリコールモノメチルエーテルアセテート、ジエチレングリコールモノメチルエーテル、N,N’-ジメチルアセトアミド、シクロヘキサノン、C4アルキルベンゼン、N,N-ジメチルホルムアミドなどである。ここに例示したものは、樹脂シートに対して硬化処理を行なう際の加熱温度150〜200℃にて概ね気化するものである。その意味では、該加熱温度範囲程度以下の沸点をもつもので、樹脂シートにおいて溶媒として機能とする公知ものが、溶剤成分として適宜選択されることになる。 The solvent component contained in the resin sheet according to the present invention is not particularly limited and may be a known solvent component. Examples thereof include xylene, ethylene glycol monoethyl ether acetate, and ethylene glycol monomethyl ether acetate. , Diethylene glycol monomethyl ether, N, N'-dimethylacetamide, cyclohexanone, C4 alkylbenzene, N, N-dimethylformamide and the like. What is illustrated here is that which is substantially vaporized at a heating temperature of 150 to 200 ° C. when the curing treatment is performed on the resin sheet. In this sense, a known material having a boiling point not higher than the heating temperature range and functioning as a solvent in the resin sheet is appropriately selected as the solvent component.

 さて、本発明に示す樹脂シートに含有される溶剤成分の含有量は、4重量%以下とされるが、その下限値は特に限定されない。つまり、溶剤成分が0の範囲も含まれる。ここで溶剤成分が0である樹脂シートとしては、例えば、ガラスクロスなどのガラス基材に樹脂を含浸させたプレプレグ(例えば、ガラス繊維強化エポキシ樹脂など)や公知のドライフィルムなどを挙げることができる。 Now, the content of the solvent component contained in the resin sheet according to the present invention is set to 4% by weight or less, but the lower limit is not particularly limited. That is, the range in which the solvent component is 0 is also included. Here, examples of the resin sheet having a solvent component of 0 include a prepreg (for example, a glass fiber reinforced epoxy resin) in which a glass substrate such as a glass cloth is impregnated with a resin, a known dry film, and the like. .

 上記のように溶剤成分の含有量が適正化された樹脂シートであるが、特には、熱可塑性樹脂成分を含有させるのがよい。この成分を含有させることで、溶剤成分を低減したことによる樹脂シートの可撓性を補うことなどが可能となる。さらに、片面積層配線基板が高周波信号に対応した用途に用いられる場合、絶縁体層の低誘電率化を図る観点においても有用な成分として寄与する。また、熱可塑性樹脂成分としても、公知の熱可塑性樹脂から適宜選択すればよいが、例えば、ブタジエンオキシド、ポリエーテルスルホンなどを挙げることができる。次に樹脂シートに含有させるフィラー成分を5〜30重量%とするのがよい。溶剤成分の低減化により、このように含有可能なフィラー成分の含有量の範囲を広くとることが可能となる。その結果、フィラー成分の含有量を増加させることができ、ひいては、さらに片面積層配線基板に発生する反り量を低減することが可能となる。ここで、フィラー成分としては、シリカフィラー、エポキシフィラー、ベントナイトなどの公知のものから適宜選択して用いればよい。 (4) The resin sheet has a proper content of the solvent component as described above, and particularly preferably contains a thermoplastic resin component. By including this component, the flexibility of the resin sheet due to the reduction of the solvent component can be compensated for. Furthermore, when the one-layer wiring board is used for an application corresponding to a high-frequency signal, it contributes as a useful component from the viewpoint of reducing the dielectric constant of the insulator layer. The thermoplastic resin component may be appropriately selected from known thermoplastic resins, and examples thereof include butadiene oxide and polyether sulfone. Next, the content of the filler component contained in the resin sheet is preferably 5 to 30% by weight. By reducing the solvent component, it becomes possible to widen the range of the content of the filler component that can be contained in this manner. As a result, the content of the filler component can be increased, and furthermore, it is possible to further reduce the amount of warpage generated in the one-layer wiring board. Here, as the filler component, a known one such as a silica filler, an epoxy filler, and bentonite may be appropriately selected and used.

 次に、本発明に用いる樹脂シートに含有させる樹脂成分であるが、この樹脂成分は、樹脂シートの主となる含有成分(例えば、70〜90重量%の含有率)であり、絶縁体層の強度、耐熱性や絶縁性等の機械的・電気的特性などの確保のために根幹をなす成分である。そこで、樹脂成分とされる樹脂としては、特にエポキシ樹脂を用いるのがよく、樹脂シートをエポキシ樹脂が主成分とし含有してなるものとするのが好適である。樹脂成分をなし、樹脂シートにおいて主成分とされる樹脂としては、一般的にポリイミドやポリテトラフルオロエチレン、ブロモ化ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールA型エポキシ樹脂、ビスフェノールF型エポキシ樹脂などがあるが、安価であるとともに、絶縁体層の機械的・電気的特性などの確保の点でも優良であることから、特に、樹脂シートに主成分としてエポキシ樹脂を含有させることが望ましい。なお、本明細書における主成分とは、該主成分の重量含有率が、他のいずれの物質単独の重量含有率よりも高くなっていることを意味する。さらに、エポキシ樹脂とは、2炭素原子と1酸素原子からなるエポキシ環を一分子中に2個以上もち、3次元構造をとり得る物質の総称を指すものである。 Next, the resin component contained in the resin sheet used in the present invention is a main component (for example, a content of 70 to 90% by weight) of the resin sheet, and It is a fundamental component for ensuring mechanical and electrical properties such as strength, heat resistance and insulation. Therefore, an epoxy resin is particularly preferably used as the resin as the resin component, and it is preferable that the resin sheet contains the epoxy resin as a main component. Examples of the resin that forms the resin component and is the main component in the resin sheet include polyimide, polytetrafluoroethylene, brominated bisphenol A epoxy resin, bisphenol A epoxy resin, and bisphenol F epoxy resin. In particular, it is preferable that the resin sheet contains an epoxy resin as a main component because it is inexpensive and is excellent in securing mechanical and electrical characteristics of the insulator layer. In this specification, the main component means that the weight content of the main component is higher than the weight content of any other substance alone. Further, the epoxy resin is a general term for a substance having two or more epoxy rings composed of two carbon atoms and one oxygen atom in one molecule and capable of forming a three-dimensional structure.

 上記したように、樹脂シートにエポキシ樹脂を主成分として含有させるのが望ましいが、エポキシ樹脂以外に、例えば、耐熱性をさらに高める観点よりポリイミドをといったように、種々の目的で他の樹脂を樹脂成分として含有させてもよい。また、上述した熱可塑性樹脂成分を含有させる場合は、これらも樹脂成分とみなすこととする。 As described above, it is desirable that the resin sheet contains an epoxy resin as a main component.In addition to the epoxy resin, for example, polyimide is used for various purposes such as polyimide from the viewpoint of further increasing heat resistance. It may be contained as a component. When the above-mentioned thermoplastic resin components are contained, these are also regarded as resin components.

 ここまでに述べてきたように、樹脂シートには、樹脂成分、フィラー成分、溶剤成分などがそれぞれの目的に応じて所定の比率にて含有されることになる。また、さらに樹脂シートに対して、硬化剤成分、難燃剤成分、感光性成分などの種々の成分を含有させても勿論かまわない。 よ う As described above, the resin sheet contains a resin component, a filler component, a solvent component, and the like at a predetermined ratio according to each purpose. Various components such as a curing agent component, a flame retardant component, and a photosensitive component may be added to the resin sheet.

 また、樹脂シートは、ビルドアップ層を形成させる際の製造方法に依存する形で、その材料は、感光性樹脂シート、熱硬化性樹脂シートおよび銅箔付き樹脂シートの3つに大別することができる。感光性樹脂シートは、硬化処理を露光雰囲気や加熱雰囲気下、または両者の雰囲気下にて行い、絶縁体層へのスルーホール形成を、マスクを通した紫外線照射による露光処理にて行なう目的で使用される。また、熱硬化性樹脂シートは、硬化処理を加熱雰囲気下で行い、絶縁体層へのスルーホール形成をレーザ照射処理にて行なう目的で使用する。最後に、銅箔付き樹脂シートであるが、これの硬化処理は熱硬化性樹脂シートと同様であるが、上層に位置する銅箔に対してサブトラクティブ法を用いてエッチングすることにより配線層とすることが可能であり、そのような目的で使用される。 In addition, the resin sheet is roughly classified into a photosensitive resin sheet, a thermosetting resin sheet, and a resin sheet with a copper foil in a form depending on a manufacturing method at the time of forming the build-up layer. Can be. The photosensitive resin sheet is used for the purpose of performing the curing process in an exposure atmosphere, a heating atmosphere, or both atmospheres, and performing the through-hole formation in the insulator layer by the exposure process using ultraviolet irradiation through a mask. Is done. The thermosetting resin sheet is used for the purpose of performing a curing process in a heated atmosphere and forming a through hole in the insulator layer by a laser irradiation process. Finally, the resin sheet with copper foil is cured in the same manner as the thermosetting resin sheet, but the copper layer located on the upper layer is etched by using the subtractive method to form a wiring layer. And can be used for such purposes.

 上記のような材料が樹脂シートとしては選択可能である。感光性樹脂シートにおいては、感光性樹脂成分を含有させなければならず、そのため、他の樹脂成分の特性が犠牲になる場合があり、感光性樹脂成分も含めて含有させる成分の選択如何によっては、溶剤成分の含有量の低減化が妨げられる場合が想定される。また、銅箔付き樹脂シートは、絶縁体樹脂材に含有される熱硬化性樹脂をBステージ(半硬化)の状態にて、該絶縁体樹脂材を銅箔に塗布することで作製される。そのため、この絶縁体樹脂材と銅箔との密着性や安定性などを確保する必要があり、その側面を考慮した場合、溶剤成分の含有量の低減化が妨げられる場合が想定される。しかしながら、これらに比べて熱硬化性樹脂シートにおいては、含有させる成分やその含有量を自由に選択することができるので、本発明にて用いる樹脂シートしては、熱硬化性樹脂シートとすることが特に好適である。 材料 The above materials can be selected as the resin sheet. In the photosensitive resin sheet, the photosensitive resin component must be contained, and therefore, the characteristics of other resin components may be sacrificed, and depending on the selection of the component to be contained including the photosensitive resin component. It is assumed that the reduction of the content of the solvent component is hindered. The resin sheet with a copper foil is produced by applying a thermosetting resin contained in an insulating resin material to a copper foil in a B-stage (semi-cured) state. Therefore, it is necessary to ensure adhesion and stability between the insulating resin material and the copper foil, and in consideration of the aspect, it is assumed that reduction of the content of the solvent component is hindered. However, in comparison with these, in the thermosetting resin sheet, the components to be contained and the content thereof can be freely selected. Therefore, the resin sheet used in the present invention should be a thermosetting resin sheet. Is particularly preferred.

 次に、図1に示した片面積層配線基板も含め、その製造方法の一例を以下に説明する。
 まず、耐熱性樹脂材(例えば、ビスマレイミド−トリアジン樹脂材)や、繊維強化樹脂材(例えばガラス繊維強化エポキシ樹脂)等で構成された板状のコア基板を形成する。そして、コア基板の所定位置にドリルやレーザにてスルーホールを穿設する。次に、該コア基板の両主表面に所定の配線パターンからなるコア配線パターン層および、スルーホールの内壁面にコア配線パターン層に導通するスルーホール導体を形成する。これらコア配線パターン層およびスルーホール導体は銅などの金属導体より形成するとともに、コア基板の主表面に予め銅箔などの導体箔を形成させる場合はサブトラクティブ法にて、そうでない場合はアディティブ法にて形成する。また、図1のように、このコア配線パターン層およびスルーホール導体が形成されたコア基板を1層のみで用いるのではなく、複数層用いる場合は、図3の模式図の上図に示すように、例えば、銅箔などの導体箔72が表面に形成されたコア基板2にて、所定の配線パターンからなるコア配線パターン層3が形成されたコア基板2を、プリプレグ71を介挿するとともに挟みこむ形で積層プレス処理を施すことで下図のような内部にコア配線パターン層3が形成されたコア基板2とすることができる。そして、このコア基板2の所定位置にスルーホールをドリルやレーザにて穿設するとともに、サブトラクティブ法にて、コア基板2の両主表面にさらにコア配線パターン層を、スルーホール内壁面にスルホール導体をそれぞれ形成する。このようにして、コア基板の内部にコア配線パターン層を有するか否かの違いだけで、コア基板の両主表面には、図1と同様にしてコア配線パターン層が形成される。
Next, an example of the manufacturing method including the single-area wiring board shown in FIG. 1 will be described below.
First, a plate-shaped core substrate made of a heat-resistant resin material (for example, bismaleimide-triazine resin material) or a fiber-reinforced resin material (for example, glass fiber-reinforced epoxy resin) is formed. Then, through holes are drilled at predetermined positions on the core substrate with a drill or laser. Next, a core wiring pattern layer composed of a predetermined wiring pattern is formed on both main surfaces of the core substrate, and a through-hole conductor that is electrically connected to the core wiring pattern layer is formed on the inner wall surface of the through-hole. These core wiring pattern layers and through-hole conductors are formed from metal conductors such as copper, and a subtractive method is used when a conductor foil such as copper foil is previously formed on the main surface of the core substrate, and an additive method otherwise. Formed at In addition, as shown in FIG. 1, the core substrate on which the core wiring pattern layer and the through-hole conductor are formed is not used only in one layer, but when a plurality of layers are used, as shown in the upper part of the schematic diagram of FIG. For example, the core substrate 2 on which the core wiring pattern layer 3 having a predetermined wiring pattern is formed on the core substrate 2 having the conductor foil 72 such as a copper foil formed on the surface thereof, with the prepreg 71 interposed therebetween. By performing the laminating press process in the sandwiched shape, the core substrate 2 having the core wiring pattern layer 3 formed therein as shown in the figure below can be obtained. Then, through holes are drilled at predetermined positions of the core substrate 2 with a drill or a laser, and a core wiring pattern layer is further formed on both main surfaces of the core substrate 2 by a subtractive method. Conductors are respectively formed. Thus, the core wiring pattern layer is formed on both main surfaces of the core substrate in the same manner as in FIG. 1 only by the difference between the presence or absence of the core wiring pattern layer inside the core substrate.

 上記のようにコア基板に、コア配線パターン層およびスルーホール導体を形成した後、スルーホールを例えば樹脂製穴埋め材にて充填する。このようにして、ビルドアップ層を形成させるための基板本体が形成される。この後、該基板本体の一方の主表面、つまり、コア基板の一方の主表面上に、樹脂シートをラミネートにて被覆形成する。このラミネートの方法としては、積層プレス法や、ロールラミネート法などを用いて行なう。また、特には真空チャンバー内で行なう。そして、これらラミネートを行なうとともに硬化処理を施すことで絶縁体層とする。この硬化処理は、ラミネート時に一括して行なう、または、ラミネート後に所定の雰囲気下で行なう、または両者を併用して行なわれる。このようにして絶縁体層を形成した後、絶縁体層の所定の位置にビアホールを形成し、所定の配線パターンからなる配線層およびビア導体をCuメッキにて形成することで、絶縁体層の表面上に配線層が形成される。また、絶縁体層および配線層を複数層形成させる場合はこの作業を繰り返すことにより、ビルドアップ層の多層化がなされる。 (4) After forming the core wiring pattern layer and the through-hole conductor on the core substrate as described above, the through-hole is filled with, for example, a resin filling material. Thus, a substrate main body for forming a build-up layer is formed. Thereafter, a resin sheet is formed by lamination on one main surface of the substrate body, that is, on one main surface of the core substrate. The lamination is performed by a lamination press method, a roll lamination method, or the like. Particularly, it is performed in a vacuum chamber. Then, by performing these laminations and performing a curing treatment, an insulator layer is obtained. This curing treatment is carried out at the time of lamination, at a time after lamination under a predetermined atmosphere, or both. After forming the insulator layer in this manner, a via hole is formed at a predetermined position of the insulator layer, and a wiring layer and a via conductor having a predetermined wiring pattern are formed by Cu plating, whereby the insulator layer is formed. A wiring layer is formed on the surface. In the case where a plurality of insulator layers and wiring layers are formed, this operation is repeated so that the build-up layers are multi-layered.

 上記のようにして、コア基板の一方の主表面上に、絶縁体層および配線層を有するビルドアップ層が形成される。また、コア基板を含む基板本体の一方の主表面に樹脂シートをラミネートするとともに硬化処理を施す際に、樹脂シートの樹脂成分にて基板本体のスルーホールを充填させることも可能である。この場合は、スルーホールが充填されていない基板本体に、樹脂シートがラミネートされることになり、作業効率を高めることが可能となる。さらに、本発明に示す樹脂シートを用いることで、その硬化処理時においてコア基板に発生する反りを抑制させることができるので、スルーホールをより均一に樹脂成分にて充填させることができる。 ビ ル ド As described above, a build-up layer having an insulator layer and a wiring layer is formed on one main surface of the core substrate. Further, when laminating the resin sheet on one main surface of the substrate main body including the core substrate and performing the curing treatment, it is also possible to fill the through holes of the substrate main body with the resin component of the resin sheet. In this case, the resin sheet is laminated on the substrate body that is not filled with the through-holes, so that the working efficiency can be improved. Furthermore, by using the resin sheet according to the present invention, it is possible to suppress the warpage generated in the core substrate during the curing treatment, so that the through holes can be more uniformly filled with the resin component.

 以上、本発明に係わる実施形態について説明したが、これら実施形態に本発明は限定されない。例えば、コア基板の材質に関して述べれば、有機材料以外にもセラミック材料を用いることもできる。また、前者の有機材料としては、ガラス繊維または炭素繊維を含むものであれよく、具体的には、上述したビスマレイミドートリアジン樹脂やガラス繊維強化エポキシ樹脂以外にも、ポリイミド系樹脂や、連続気孔を有するPTFEなど3次元網目構造のフッ素系樹脂にガラス繊維などを含有させた複合材料などを用いることもできる。そして、後者のセラミック材料としては、例えば、アルミナ、珪酸、ガラスセラミック、窒化アルミニウムなどを含有したものを用いることができ、更には、約1000℃以下の比較的低温で焼成可能なものを用いることもできる。このような低温にて焼成可能なセラミック材料からなる低温焼成基板を含めて、セラミック基板をコア基板として用いた場合においても、該基板を図1のコア基板2と見なせば、上述した製造方法を用いて同様なビルドアップ層を形成することができる。 Although the embodiments according to the present invention have been described above, the present invention is not limited to these embodiments. For example, regarding the material of the core substrate, a ceramic material can be used in addition to the organic material. The former organic material may be a material containing glass fiber or carbon fiber.Specifically, in addition to the above-mentioned bismaleimide-triazine resin and glass fiber reinforced epoxy resin, a polyimide-based resin and continuous pores It is also possible to use a composite material in which a glass fiber or the like is contained in a fluororesin having a three-dimensional network structure such as PTFE having a three-dimensional network structure. As the latter ceramic material, for example, a material containing alumina, silicic acid, glass ceramic, aluminum nitride, or the like can be used, and further, a material that can be fired at a relatively low temperature of about 1000 ° C. or less is used. You can also. Even when a ceramic substrate is used as a core substrate, including a low-temperature fired substrate made of a ceramic material that can be fired at a low temperature, if the substrate is regarded as the core substrate 2 in FIG. Can be used to form a similar build-up layer.

 上述のように、コア基板の材質としては、有機材料やセラミック材料を用いることができるが、特には、コア基板は、セラミックからなるようにすることが望ましい。コア基板をセラミックからなるようにすることで、コア基板自体を反りにくいものとすることが可能となり、ひいては、片面積層基板に発生する反り量をより効果的に抑制することが可能となる。また、製造方法上においても、例えば、絶縁体層の所定位置にビアのパターンを形成する際にもより位置精度よく形成することができ、また、絶縁層および配線層を積層形成させる際にもより位置精度よくずれの発生を抑制した形で積層形成させることが可能となる。 As described above, as the material of the core substrate, an organic material or a ceramic material can be used. In particular, it is desirable that the core substrate be made of ceramic. By making the core substrate made of ceramic, the core substrate itself can be made less likely to warp, and thus the amount of warpage generated in the single-layer substrate can be more effectively suppressed. Further, also in the manufacturing method, for example, when forming a via pattern at a predetermined position of the insulator layer, it can be formed with higher positional accuracy, and also when forming an insulating layer and a wiring layer in a stacked manner. It is possible to form the layers in a form in which the occurrence of the displacement is suppressed with higher positional accuracy.

 また、セラミック基板とされるコア基板の製造は、例えば次のようにして行うことができる。まず、未焼成のアルミナなどからなるセラミックグリーンシートにレーザ加工または金属加工にて、スルホールを形成する。次に、かかるスルホールにWなどの金属粉末を含む導電性ペーストを印刷して充填する。尚、この導電性ペーストは、セラミックグリーンシートの焼成時に同時焼成されてスルホール導体となる。また、セラミックグリーンシート表面上の所定位置にも、導電性ペーストが所定の配線パターンにて印刷される。この表面に印刷された導電ペーストは、セラミックグリーンシートの焼成時に同時焼成されて、コア配線パターン層となる。
 更に、導電性ペーストが印刷された単層または複数層の未焼成セラミックグリーンシートをラミネートして熱圧着することにより一体化し、未焼成のコア基板とする。そして、かかる未焼成のコア基板を約1300℃にて焼成することで、単層または複数層のコア基板が得られる。尚、セラミック基板をコア基板とする場合は、図1のようにスルホール12の内側に樹脂製穴埋め材31を形成せず、省略される。そして、このように形成したコア基板の表面上に、樹脂フィルムからなる絶縁体層などを順次形成していくことにより、上述同様なビルドアップ層が形成される。
 尚、上記した導電性ペーストの材質としては、W以外にも、例えば、MoやCu、更にはAg、Au、Ag−Pt、Ag−Pdなどを用いることもできる。また、有機材料からなるコア基板も含めて、スルホール導体、コア配線パターン層の材質としては、Cuの他、Ag、Ni、Ni−Au系材料を用いることができ、形成方法に関しても、メッキ法を用いず導電性樹脂を塗布するなどの方法を用いることができる。
The production of the core substrate, which is a ceramic substrate, can be performed, for example, as follows. First, through holes are formed in a ceramic green sheet made of unfired alumina or the like by laser processing or metal processing. Next, a conductive paste containing a metal powder such as W is printed and filled in the through holes. The conductive paste is simultaneously fired when the ceramic green sheets are fired to form through-hole conductors. Also, a conductive paste is printed in a predetermined wiring pattern at a predetermined position on the surface of the ceramic green sheet. The conductive paste printed on the surface is simultaneously fired at the time of firing the ceramic green sheet to form a core wiring pattern layer.
Further, a single or multiple layers of unfired ceramic green sheets on which the conductive paste is printed are laminated and thermocompression-bonded to form an unfired core substrate. Then, by firing the unfired core substrate at about 1300 ° C., a single-layer or multiple-layer core substrate is obtained. When the ceramic substrate is used as the core substrate, the resin filling material 31 is not formed inside the through hole 12 as shown in FIG. Then, an insulating layer made of a resin film or the like is sequentially formed on the surface of the core substrate thus formed, whereby a build-up layer similar to the above is formed.
In addition, as a material of the above-mentioned conductive paste, in addition to W, for example, Mo or Cu, furthermore, Ag, Au, Ag-Pt, Ag-Pd, or the like can be used. In addition to the Cu, Ag, Ni, and Ni—Au-based materials can be used as the material of the through-hole conductor and the core wiring pattern layer, including the core substrate made of an organic material. A method such as applying a conductive resin without using a resin can be used.

 本発明の効果を確認するために行った実施例を以下に示す。 実 施 Examples performed to confirm the effects of the present invention are shown below.

 まず、ビスマレイミド−トリアジン樹脂からなるコア基板を作成した。また、高さ0.8mm、面積400×500mmの寸法サイズの長方体となるように作成した。さらに、このコア基板の一方の主表面のみに銅箔からなる導体箔を積層プレスにて積層形成させた。この導体箔の層厚は12μmとした。このように基板本体を作成した後、該基板本体の導体箔の表面に、種々の含有組成からなる樹脂シートをロールラミネートにて被覆形成するとともに、150〜175℃の加熱雰囲気下で樹脂成分を完全硬化させて絶縁体層を形成した。また、絶縁体層の積層数を種々のものとするために、同様の方法・条件にて順次絶縁体層を積層形成させた。図4(a)の模式図に示すように、基板本体70の表面に種々の積層数(1〜3層)の絶縁層4が形成された試験品を作成した。これら絶縁体層の層厚はすべて33μmとした。また、1つの試験品における絶縁体層は、同一組成に調整された樹脂シートを用いて形成した。このように形成した試験品における、用いた樹脂シートの含有組成を表1にしめす。 First, a core substrate made of a bismaleimide-triazine resin was prepared. Further, it was formed so as to be a rectangular body having a height of 0.8 mm and an area of 400 × 500 mm 2 . Further, a conductor foil made of copper foil was laminated on only one main surface of the core substrate by a lamination press. The layer thickness of this conductor foil was 12 μm. After preparing the substrate body in this manner, a resin sheet having various compositions is coated on the surface of the conductor foil of the substrate body by roll lamination, and the resin component is heated under a heating atmosphere at 150 to 175 ° C. It was completely cured to form an insulator layer. Further, in order to make the number of stacked insulating layers various, insulating layers were sequentially formed under the same method and conditions. As shown in the schematic diagram of FIG. 4A, test pieces in which various numbers (1 to 3 layers) of the insulating layers 4 were formed on the surface of the substrate main body 70 were prepared. The thickness of each of these insulator layers was 33 μm. Further, the insulator layer in one test article was formed using a resin sheet adjusted to the same composition. Table 1 shows the composition of the resin sheet used in the test sample thus formed.

Figure 2004080027
Figure 2004080027

 上記のように作成した試験品(No.1〜9)それぞれに対して反り量を測定した。測定は、ハイトゲージを用いて、図4(b)の模式図に示すように、絶縁体層4側に凹状に反りが発生した試験品73を、支持体74にて支持した後に、層厚方向の最大高さh1を測定した。そして、その位置での層厚h2を測定するとともに、h1からh2を除した値を反り量とした。 反 The amount of warpage was measured for each of the test pieces (Nos. 1 to 9) prepared as described above. As shown in the schematic diagram of FIG. 4B, the test specimen 73 having a concave warp on the insulator layer 4 side was supported by a support 74 using a height gauge, and then measured in a layer thickness direction. Was measured for the maximum height h1. The layer thickness h2 at that position was measured, and the value obtained by dividing h2 from h1 was defined as the amount of warpage.

 上記測定にて得た反り量を、絶縁体層の積層数別に、樹脂シートに含有された溶剤量に対してプロットした図が図5である。また、ここで反り量は、樹脂シートに含有される溶剤量を13.2重量%とした、それぞれ試験品1〜3の反り量にて規格化してある。図から明らかのように、樹脂シートに含有される溶剤量が減少するに伴い、反り量は減少する。また、溶剤量を少なくとも4重量%以下とすることで、発生する反り量は効果的に低減される。また、溶剤量の減少に伴うそり量の減少率は、絶縁体層の積層数の増加に伴い大きくなっている。つまり、絶縁体層の積層数の増加に対して、溶剤量を少なくとも4重量%以下とすることで、発生する反り量を低減化させる効果がより顕著になる。 FIG. 5 is a diagram in which the amount of warpage obtained in the above measurement is plotted against the amount of solvent contained in the resin sheet for each number of laminated insulating layers. The amount of warpage is standardized by the amount of warpage of each of Test Samples 1 to 3, with the amount of solvent contained in the resin sheet being 13.2% by weight. As is clear from the figure, the amount of warpage decreases as the amount of solvent contained in the resin sheet decreases. By setting the amount of the solvent to at least 4% by weight or less, the generated warpage can be effectively reduced. In addition, the rate of decrease in the amount of warpage due to the decrease in the amount of solvent increases as the number of stacked insulating layers increases. In other words, the effect of reducing the amount of generated warpage becomes more remarkable by setting the amount of the solvent to at least 4% by weight with respect to the increase in the number of stacked insulating layers.

 上述した実施例より、樹脂シートに含有させる溶剤成分の含有量を4重量%以下に適正化することで、コア基板、ひいては片面積層配線基板に発生する反り量が効果的に低減されることの実証になった。また、No.4〜9のものは、熱可塑性樹脂成分を含有させた樹脂シートを用いて形成したが、溶剤成分の減少による可撓性の低下は作業上見られず、ハンドリング性よく作業を行なうことができた。また、樹脂シートを基板本体にラミネートする際も、接着性が低下することなく被覆させることができた。 According to the above-described embodiment, by optimizing the content of the solvent component contained in the resin sheet to 4% by weight or less, it is possible to effectively reduce the amount of warpage generated in the core substrate and, consequently, the one-layer wiring board. It was proved. No. 4 to 9 were formed using a resin sheet containing a thermoplastic resin component, but no decrease in flexibility due to a decrease in the solvent component was observed in the work, and the work could be performed with good handleability. Was. In addition, even when the resin sheet was laminated on the substrate body, the resin sheet could be covered without lowering the adhesiveness.

 最後に、No.4、No.7の絶縁体層の表面を、EPMA(電子プローブ微小分析)測定することにより、組成分析を行なった。その結果、No.4の絶縁体層に含有される、熱可塑性樹脂成分の含有量は5重量%、フィラー成分の含有量は11.6重量%であり、他方、No.7の絶縁体層に含有される、熱可塑性樹脂成分の含有量は5重量%、フィラー成分の含有量は10.7重量%であった。 Finally, No. 4, no. Composition analysis was performed on the surface of the insulator layer of No. 7 by EPMA (Electron Probe Microanalysis) measurement. As a result, no. The content of the thermoplastic resin component contained in the insulator layer of No. 4 was 5% by weight, and the content of the filler component was 11.6% by weight. The content of the thermoplastic resin component contained in the insulator layer of No. 7 was 5% by weight, and the content of the filler component was 10.7% by weight.

 なお、本発明は、上記した実施形態および実施例に限定されるものではなく、反り低減が必要とされる片面積層配線基板において、そのビルドアップ層の絶縁体層を、溶剤成分が4重量%以下の樹脂シートを用いて形成するものは、本発明に内包されるものである。 Note that the present invention is not limited to the above-described embodiments and examples. In a single-area wiring board requiring warpage reduction, the insulating layer of the build-up layer is formed with a solvent component of 4% by weight. What is formed using the following resin sheets is included in the present invention.

本発明の片面積層配線基板の一実施形態を示す概略断面図。FIG. 1 is a schematic cross-sectional view showing one embodiment of a single area layer wiring board of the present invention. 本発明に係わる樹脂シートの効果を説明するための模式図Schematic diagram for explaining the effect of the resin sheet according to the present invention 本発明の片面積層配線基板に係わる製造過程を説明するための模式図。FIG. 4 is a schematic diagram for explaining a manufacturing process relating to the one-area wiring board of the present invention. 本実施例の試験品および測定方法を説明するための模式図。FIG. 2 is a schematic diagram for explaining a test article and a measurement method according to the present embodiment. 本実施例の測定結果を示す図。FIG. 7 is a diagram showing measurement results of the present example.

符号の説明Explanation of reference numerals

 1 片面積層配線基板
 2 コア基板
 3 コア配線パターン層
 4 絶縁体層
 5 配線層
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 Single-layer wiring board 2 Core board 3 Core wiring pattern layer 4 Insulator layer 5 Wiring layer

Claims (9)

コア基板の一方の主表面上にのみ、絶縁体層および配線層を有するビルドアップ層を形成する片面積層配線基板の製造方法であって、
 前記絶縁体層は、フィルム状の絶縁樹脂材を前記コア基板の一方の主表面上に被覆形成し、硬化処理を施すことにより形成し、
 かつ、該硬化処理における前記絶縁樹脂材の熱収縮により前記片面積層配線基板に発生する反りを抑制させるために、前記絶縁樹脂材に含有される溶剤成分の含有率は、4重量%以下とされることを特徴とする片面積層配線基板の製造方法。
Only one main surface of the core substrate, a method for manufacturing a single-area layer wiring board to form a build-up layer having an insulator layer and a wiring layer,
The insulator layer is formed by coating a film-shaped insulating resin material on one main surface of the core substrate and performing a curing process;
In addition, in order to suppress warpage generated in the one-layer wiring board due to thermal shrinkage of the insulating resin material in the curing treatment, the content of the solvent component contained in the insulating resin material is set to 4% by weight or less. A method for manufacturing a single-area wiring board, comprising:
前記ビルドアップ層において積層形成する前記絶縁体層の積層数は2層以上とされることを特徴とする請求項1記載の片面積層配線基板の製造方法。 2. The method according to claim 1, wherein the number of the insulating layers laminated in the build-up layer is two or more. 前記絶縁樹脂材には、熱可塑性樹脂成分が含有されてなるとともに、その含有率が10重量%以下とされることを特徴とする請求項1または2に記載の片面積層配線基板の製造方法。 The method according to claim 1, wherein the insulating resin material contains a thermoplastic resin component, and a content of the thermoplastic resin component is 10% by weight or less. 4. 前記絶縁樹脂材には、フィラー成分が5〜30重量%の含有率の範囲にて含有されてなることを特徴とする請求項1ないし3のいずれか1項に記載の片面積層配線基板の製造方法。 4. The single-layer wiring board according to claim 1, wherein the insulating resin material contains a filler component in a content range of 5 to 30% by weight. Method. 前記絶縁樹脂材は、エポキシ樹脂を主成分とし含有してなることを特徴とする請求項3または4に記載の片面積層配線基板の製造方法。 5. The method according to claim 3, wherein the insulating resin material contains an epoxy resin as a main component. 前記フィルム状の絶縁樹脂材は、熱硬化樹脂フィルムとされることを特徴とする請求項1ないし5のいずれか1項に記載の片面積層配線基板の製造方法。 The method according to any one of claims 1 to 5, wherein the film-shaped insulating resin material is a thermosetting resin film. 前記コア基板は、セラミックからなることを特徴とする請求項1ないし6のいずれか1項に記載の片面積層配線基板の製造方法。 7. The method according to claim 1, wherein the core substrate is made of ceramic. コア基板の一方の主表面上にのみ、絶縁体層および配線層を有するビルドアップ層が形成されてなる片面積層配線基板であって、
 前記絶縁体層は、フィルム状の絶縁樹脂材を前記コア基板の一方の主表面上に被覆形成し、硬化処理を施すことにより形成されてなるものであり、
かつ、該硬化処理における前記絶縁樹脂材の熱収縮により前記片面積層基板に発生する反りを抑制させるために、前記絶縁樹脂材に含有される溶剤成分の含有率は、4重量%以下とされてなることを特徴とする片面積層配線基板。
A single-area layer wiring board in which a buildup layer having an insulator layer and a wiring layer is formed only on one main surface of the core substrate,
The insulator layer is formed by coating a film-shaped insulating resin material on one main surface of the core substrate and performing a curing process,
In addition, in order to suppress warpage generated in the one-layer substrate due to heat shrinkage of the insulating resin material in the curing treatment, the content of the solvent component contained in the insulating resin material is set to 4% by weight or less. A single-layer wiring board, comprising:
前記コア基板は、セラミックからなることを特徴とする請求項8記載の片面積層配線基板。
The single-layer wiring board according to claim 8, wherein the core substrate is made of ceramic.
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* Cited by examiner, † Cited by third party
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