JP2004052032A - 鍍金装置 - Google Patents

Abstract

【課題】フープに鍍金する金属を容易に変更できる鍍金装置を提供する。
【解決手段】鍍金装置１は端子金具に加工されるフープ２を鍍金する。鍍金装置１は前処理ユニット１０とニッケル鍍金ユニット１１と金鍍金ユニット１２と後処理ユニット１４を備えている。ユニット１０，１１，１２，１４は互いに着脱自在なフレームを備えている。前処理ユニット１０は脱脂槽２３と純水槽２４，２５と脱脂タンクと純水タンクを備えている。脱脂槽２３と脱脂タンクとの間で水酸化ナトリウム溶液が循環する。純水槽２４，２５と純水タンクとの間で純水が循環する。前処理ユニット１０はフープ２に脱脂と酸づけを行う。ニッケル鍍金ユニット１１はフープ２をニッケルで鍍金する。金鍍金ユニット１２はフープ２の一部を金で鍍金する。後処理ユニット１４はフープ２を錫で鍍金して洗浄・乾燥する。
【選択図】　　　図２

Description

【０００１】
【発明の属する技術分野】
本発明は、例えば端子金具などに加工されるフープ（Ｈｏｏｐ）に鍍金を施す鍍金装置に関する。
【０００２】
【従来の技術】
例えば、自動車などに配索されるワイヤハーネスは、電線と該電線の端部に取り付けられる端子金具と、を備えている。前記電線は、銅などの金属からなる芯線と、該芯線を被覆する絶縁性の被覆部と、を備えている。端子金具は、帯状の板金（フープともいい、以下フープと呼ぶ）２０６（図１３に示す）からなる。端子金具は、帯状のフープ２０６に打ち抜き加工などを施した後、該フープ２０６が所望の形状に折り曲げられて得られる。打ち抜き加工が施されたフープ２０６には、折り曲げられて端子金具に形成される部分が多数形成されている。このため、フープ２０６から多数の端子金具が得られる。
【０００３】
また、前記フープ２０６は、帯状の銅または黄銅などからなる母材の表面に錫や金などが鍍金されている。前述したフープ２０６の表面を錫や金などで鍍金するために、例えば図１３に示す鍍金装置２００が用いられている。
【０００４】
図１３に例示された鍍金装置２００は、脱脂槽２０１と、酸づけ槽２０２と、鍍金槽２０３と、後処理槽２０４と、複数の洗浄槽２０５と、を備えている。脱脂槽２０１は、例えば水酸化ナトリウム溶液などのフープ２０６の表面から油分を除去するために用いられる薬液を収容する。脱脂槽２０１には、脱脂液供給源２０７から前述した薬液が供給される。
【０００５】
酸づけ槽２０２は、例えば、脱脂槽２０１で油分が除去されたフープ２０６の表面に形成された酸化物薄膜を除去する硫酸などの酸性の水溶液を収容する。酸づけ槽２０２には、酸供給源２０８から前述した酸性の水溶液が供給される。鍍金槽２０３は、溶解した電解質液などからなる鍍金液を収容する。鍍金槽２０３には、鍍金液供給源２０９から前述した鍍金液が供給される。後処理槽２０４は、加熱された純水を収容する。後処理槽２０４には、後処理液供給源２１０から加熱された純水が供給される。
【０００６】
洗浄槽２０５は、純水を収容する。一つの洗浄槽２０５は、脱脂槽２０１と酸づけ槽２０２との間に設けられている。他の一つの洗浄槽２０５は、酸づけ槽２０２と鍍金槽２０３との間に設けられている。更に他の一つの洗浄槽２０５は、鍍金槽２０３と後処理槽２０４との間に設けられている。洗浄槽２０５には、洗浄液供給源２１１から純水が供給される。前述した供給源２０７，２０８，２０９，２１０，２１１は、互いに独立した別体のタンク（容器）などからなる。
【０００７】
前述した構成の鍍金装置２００は、フープ２０６を、脱脂槽２０１と洗浄槽２０５と酸づけ槽２０２と洗浄槽２０５と鍍金槽２０３と洗浄槽２０５と後処理槽２０４とに順に通す。そして、脱脂槽２０１でフープ２の表面から油分を除去した後、酸づけ槽２０２でフープ２の表面から酸化物薄膜を除去する。そして、鍍金槽２０３で、フープ２の表面に鍍金を施すとともに、後処理槽２０４でフープ２を加熱した純水（熱水）で洗浄した後、乾燥する。こうして、前述した構成の鍍金装置２００は、フープ２０６の表面に所定の金属で鍍金（電気めっき）を施してきた。
【０００８】
【発明が解決しようとする課題】
前述した従来の鍍金装置２００では、前記フープ２０６の表面に鍍金する金属を変更する際には、前記鍍金槽２０３をフープ２の表面に鍍金する金属に応じて、適宜変更する必要がある。また、一つの洗浄液供給源２１１から複数の洗浄槽２０５内に純水を供給する。
【０００９】
このため、前記鍍金槽２０３を変更する際に、前記洗浄液供給源２１１から洗浄槽２０５に純水を供給する配管などを一旦取り外した後、再度連結する必要が生じる。このため、図１３に例示された鍍金装置２００では、鍍金する金属を変更する際に、前述した脱脂槽２０１と酸づけ槽２０２と鍍金槽２０３と後処理槽２０４と洗浄槽２０５などをレイアウトしなおす際にかかる手間が増加する。このように、レイアウト変更にかかる手間が増加して、フープ２０６の鍍金即ち端子金具の生産効率が低下する傾向であった。
【００１０】
また、前述したフープ２０６の鍍金作業には、より高速化が求められている。このため、前記フープ２０６の移動速度を高速化すると、特に鍍金槽２０３内で十分に鍍金出来なくなることが考えられる。このため、前述した鍍金槽２０３を複数設けて、これら複数の鍍金槽２０３内にフープ２０６を順に通して、フープ２０６を十分に鍍金することが考えられる。この場合、鍍金装置２００の設置にかかるスペースが増加することとなる。
【００１１】
したがって、本発明の目的は、フープに鍍金する金属を容易に変更できる鍍金装置を提供することにある。
【００１２】
【課題を解決するための手段】
前記課題を解決し目的を達成するために、請求項１に記載の本発明の鍍金装置は、帯状でかつ金属からなるフープに鍍金を施す鍍金装置において、前記フープを脱脂するとともに酸づけする前処理ユニットと、前記前処理ユニットにより脱脂と酸づけが施されたフープを鍍金する鍍金ユニットと、前記鍍金ユニットにより鍍金されたフープを熱水で洗浄する後処理ユニットと、を備え、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとは、それぞれ、フレームと、前記フレームに取り付けられかつ前記脱脂、酸づけ、鍍金、洗浄を行う際に前記フープが漬けられる処理液を収容する処理槽と、前記フレームに取り付けられかつ前記処理槽の処理液中に漬けられたフープを洗浄するための純水を収容する純水槽と、前記フレームに取り付けられかつ前記処理槽に供給される処理液を蓄える処理液タンクと、前記フレームに取り付けられかつ前記純水槽に供給される純水を蓄える純水タンクと、を備え、前記フープを処理槽中の処理液中に通した後、前記純水槽中の純水に通すとともに、前記処理液を前記処理液タンクと処理槽との間で循環させ、かつ前記純水を前記純水タンクと純水槽との間で循環させるとともに、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットのフレームは、互いに着脱自在であることを特徴としている。
【００１３】
請求項２に記載の本発明の鍍金装置は、請求項１に記載の鍍金装置において、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとのうち少なくとも一つは、前記純水槽として、前記処理槽の後にフープが通される第１の純水槽と、前記第１の純水槽の後にフープが通される第２の純水槽とを備え、前記純水タンクとして、前記第１の純水槽との間で純水を循環する第１の純水タンクと、前記第２の純水槽との間で純水を循環しかつ外部から純水が供給される第２の純水タンクとを備え、処理槽中の処理液の量に応じて、前記第１の純水タンク中の純水を前記処理液タンクに供給しかつ前記第２の純水タンク中の純水を前記第１の純水タンクに供給することを特徴としている。
【００１４】
請求項３に記載の本発明の鍍金装置は、請求項１または請求項２に記載の鍍金装置において、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとのうち少なくとも一つは、前記純水槽を前記処理槽の両端に連結しかつこれらの純水槽中に回転自在なローラを設け、前記フープを純水槽中のローラ間に掛け渡して、前記処理槽内の処理液中に複数回通すことを特徴としている。
【００１５】
請求項４に記載の本発明の鍍金装置は、請求項１ないし請求項３のうちいずれか一項に記載の鍍金装置において、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットのフレームは、前記フープが前記処理槽と純水槽とのうち一方の中を移動する方向に沿って、互いに連結していることを特徴としている。
【００１６】
請求項１に記載された本発明の鍍金装置によれば、各処理ユニットが処理槽と純水槽とこれらの槽内に処理液または純水を供給するタンクを備えている。また、ユニットのフレーム同士が着脱自在となっている。このように、各ユニットの処理液及び純水を処理槽または純水槽に供給する系統が、互いに独立している。このため、フレームを着脱することにより、各ユニットのレイアウトを容易に変更できる。また、フレームを着脱することにより、鍍金ユニットを容易に交換できる。
【００１７】
請求項２に記載された本発明の鍍金装置によれば、第２の純水タンク中の純水を第１の純水タンクに供給しかつ第１の純水タンク中の純水を処理液タンクに供給する。第２の純水タンクに純水が供給される。このため、第２の純水タンク即ち第２の純水槽中の純水を、極めて純水に近く即ち極めて不純物を少なく保つことができる。
【００１８】
請求項３に記載された本発明の鍍金装置によれば、処理槽中に複数回フープを通す。このため、フープの移動速度を高速化しても、フープを十分に処理液中に漬けておくことができる。また、フープの移動速度を高速化しても十分に処理液中にフープを漬けておくことができるため、一つの工程で処理槽を数多く設置する必要が生じない。
【００１９】
請求項４に記載された本発明の鍍金装置によれば、フープの処理槽と純水槽との中での移動方向に沿って、複数のユニットが互いに連結している。このため、作業員が、全てのユニットの特に処理槽の近傍まで近づくことができる。
【００２０】
【発明の実施の形態】
以下、本発明の一実施形態にかかる鍍金装置を図１ないし図１２を参照して説明する。本発明の一実施形態にかかる鍍金装置１は、図１２に示す端子金具などに加工されるフープ（Ｈｏｏｐ）２に鍍金加工を施す。フープ２は、幅が数センチメートル程度の帯状をなしている。フープ２は、黄銅などの銅合金からなる薄板を素材としている。フープ２は、金属からなる。このため、フープ２は、図１２に示すように、前述した薄板を素材としてプレス加工などにより端子金具に相当する部分３と、これらの部分３を連結する連結部４とが予め別工程で形成されている。
【００２１】
前記連結部４は、フープ２の長手方向に沿って延びた帯状に形成されており、長手方向に略等間隔に孔５を設けている。前記端子金具に相当する部分３の長手方向は、前記連結部４即ちフープ２の長手方向に対し直交している。端子金具に相当する部分３は、長手方向の一端が前記連結部４に連なっている。鍍金装置１は、前記端子金具に相当する部分３の所定箇所を金で鍍金するとともに、全体を錫で鍍金する。
【００２２】
また、フープ２は、図示しない供給リールなどに巻かれており、この供給リールから鍍金装置１の後述する前処理ユニット１０内に供給される。そして、フープ２は、前処理ユニット１０内とニッケル鍍金ユニット１１内と金鍍金ユニット１２内と金除去ユニット１３内と後処理ユニット１４内とに順に搬送されて、金及び錫で鍍金され、図示しない巻き取りリールなどに巻かれる。
【００２３】
鍍金装置１は、図１及び図２に示すように、前処理ユニット１０と、鍍金ユニットとしてのニッケル鍍金ユニット１１と、金鍍金ユニット１２と、金除去ユニット１３と、後処理ユニット１４とを備えている。
【００２４】
前処理ユニット１０は、図３及び図４に示すように、フレーム１５と、脱脂部１６と、酸づけ部１７と、制御部１８などを備えている。フレーム１５は、枠部１９と、底板２０と、中間板２１と、天井板２２とを備えている。枠部１９は、複数の棒状または筒状の部材からなり枠状に形成されている。底板２０は、枠部１９の下端部に取り付けられている。底板２０の表面は水平方向に沿っている。
【００２５】
中間板２１は、枠部１９の上下方向の中央に取り付けられている。中間板２１の表面は水平方向に沿っている。天井板２２は、枠部１９の上端部に取り付けられている。天井板２２の表面は、水平方向に沿っている。前述した構成によって、フレーム１５は、下から順に底板２０と中間板２１と天井板２２とを枠部１９に取り付けている。これらの底板２０と中間板２１と天井板２２とは、鉛直方向に沿って互いに間隔をあけている。、
【００２６】
脱脂部１６は、図７などに示すように、処理槽としての脱脂槽２３と、一対の第１の純水槽２４と、第２の純水槽２５と、処理液タンクとしての脱脂タンク２６と、第１の純水タンク２７と、第２の純水タンク２８とを備えている。脱脂槽２３は、図３などに示すように、フレーム１５の中間板２１上に取り付けられている。脱脂槽２３は、容器であり、フープ２の表面に付着した油分を除去するための処理液を収容する。本実施形態では、脱脂槽２３は、処理液として水酸化ナトリウム溶液を収容する。また、脱脂槽２３内には、図７などに示すように、フープ２の表面から油分を除去する際に、電解脱脂法を行うための電極２９が取り付けられている。
【００２７】
一対の第１の純水槽２４は、フレーム１５の中間板２１上に取り付けられている。一方の第１の純水槽２４は、脱脂槽２３内でのフープ２の移動方向Ｋ（図７など中矢印で示す）の上流側に配されている。なお、矢印Ｋは、フープ２の移動方向をなしており、該フープ２が処理槽と純水槽とのうち一方の中を移動する方向をなしている。他方の第１の純水槽２４は、脱脂槽２３のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。一対の第１の純水槽２４は、容器であり、フープ２の表面に付着した水酸化ナトリウム溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。なお、純水とは、不純物をできる限り取り除いた純水の水と殆ど同一とみなすことができる純度の高い水である。
【００２８】
また、一対の第１の純水槽２４は、互いの間に脱脂槽２３を位置させている。こうして、第１の純水槽２４は、脱脂槽２３の両端に連結している。一対の純水槽２４内には、それぞれ、ローラ３０が回転自在に設けられている。ローラ３０は、外周面にフープ２が接触して、該フープ２の移動方向を案内する。さらに、一対の第１の純水槽２４内には、前記フープ２を陰極するための電極３１が複数設けられている。
【００２９】
第２の純水槽２５は、他方の第１の純水槽２４のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。第２の純水槽２５は、容器であり、フープ２の表面に付着した水酸化ナトリウム溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【００３０】
脱脂タンク２６は、フレーム１５の底板２０上に取り付けられている。脱脂タンク２６は、前記脱脂槽２３内に満たされる処理液としての水酸化ナトリウム溶液を蓄えておく。脱脂タンク２６と脱脂槽２３とには、図４に示すように、配管３２が連結している。また、前記配管３２には、ポンプ３３が取り付けられている。ポンプ３３は、処理液としての水酸化ナトリウム溶液を、脱脂槽２３と脱脂タンク２６との間で循環させる。
【００３１】
第１の純水タンク２７は、フレーム１５の底板２０上に取り付けられている。第１の純水タンク２７は、前記第１の純水槽２４内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第１の純水タンク２７と、一対の第１の純水槽２４とには、図４に示すように、配管３４が連結している。
【００３２】
また、前記配管３４には、ポンプ３５が取り付けられている。ポンプ３５は、処理液としての純水を、第１の純水タンク２７と一方の第１の純水槽２４との間で循環させるとともに、第１の純水タンク２７と他方の第１の純水槽２４との間で循環させる。
【００３３】
第２の純水タンク２８は、フレーム１５の底板２０上に取り付けられている。第２の純水タンク２８は、前記第２の純水槽２５内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第２の純水タンク２８と第２の純水槽２５とには、図４に示すように、配管３６が連結している。また、前記配管３６には、ポンプ３７が取り付けられている。ポンプ３７は、処理液としての純水を、第２の純水タンク２８と第２の純水槽２５との間で循環させる。
【００３４】
また、前述したタンク２６，２７，２８には、タンク２６，２７，２８同士などを連結する配管３８が取り付けられている。配管３８は、第２の純水タンク２８内の純水を第１の純水タンク２７内に供給するために用いられるとともに、第１の純水タンク２７内の純水を脱脂タンク２６内に供給するために用いられる。また、前記配管３８は、第２の純水タンク２８内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【００３５】
前述した構成の脱脂部１６は、フープ２を、一方の第１の純水槽２４内と脱脂槽２３内と他方の第１の純水槽２４内とに順に通す。そして、他方の第１の純水槽２４内のローラ３０の外周面に接触させて、フープ２を再度脱脂槽２３内と一方の第１の純水槽２４内とに順に通す。その後、一方の第１の純水槽２４内のローラ３０の外周面に接触させて、フープ２を脱脂槽２３内と他方の第１の純水槽２４内と第２の純水槽２５内に順に通して、酸づけ部１７に向かって送り出す。
【００３６】
こうして、脱脂部１６は、脱脂槽２３の両端に第１の純水槽２４を連結し、これら第１の純水槽２４それぞれにローラ３０を設けている。さらに、脱脂部２３は、一対のローラ３０にフープ２を掛け渡すことにより、フープ２を脱脂槽２３内の水酸化ナトリウム溶液中に三回通す。
【００３７】
電極２９，３１に印加するとともに、脱脂槽２３内の処理液としての水酸化ナトリウム溶液を加熱して所定の温度に保っておく。こうして、脱脂部１６は、脱脂槽２３内の水酸化ナトリウム溶液にフープ２を漬けて（浸漬して）、該フープ２の表面に付着した油分を除去する（脱脂する）。
【００３８】
酸づけ部１７は、処理槽としての酸づけ槽３９と、純水槽４０と、処理液タンクとしての酸づけタンク４１と、純水タンク４２を備えている。酸づけ槽３９は、フレーム１５の中間板２１上に取り付けられている。酸づけ槽３９は、容器であり、脱脂処理されたフープ２の表面に形成された酸化物薄膜を除去するための酸性の処理液を収容する。本実施形態では、酸づけ槽３９は、処理液として硫酸を収容する。
【００３９】
純水槽４０は、フレーム１５の中間板２１上に取り付けられている。純水槽４０は、脱脂槽２３のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。純水槽４０は、容器であり、フープ２の表面に付着した硫酸などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【００４０】
又、酸づけ部１７は、回転自在な一対のローラ４３を備えている。ローラ４３は、外周面にフープ２が接触して、該フープ２の移動方向を案内する。一対のローラ４３は、互いの間に酸づけ槽３９を位置させている。
【００４１】
酸づけタンク４１は、フレーム１５の底板２０上に取り付けられている。酸づけタンク４１は、前記酸づけ槽３９内に満たされる処理液としての硫酸を蓄えておく。酸づけタンク４１と酸づけ槽３９とには、図４に示すように、配管４４が連結している。また、前記配管４４には、ポンプ４５が取り付けられている。ポンプ４５は、処理液としての硫酸を、酸づけ槽３９と酸づけタンク４１との間で循環させる。
【００４２】
純水タンク４２は、フレーム１５の底板２０上に取り付けられている。純水タンク４２は、前記純水槽４０内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。純水タンク４２と、純水槽４０とには、図４に示すように、配管４６が連結している。また、前記配管４６には、ポンプ４７が取り付けられている。ポンプ４７は、処理液としての純水を、純水タンク４２と純水槽４０との間で循環させる。
【００４３】
前述した構成の酸づけ部１７は、脱脂部２３から送り出されたフープ２を酸づけ槽３９内に通して、一方のローラ４３の外周面に接触させて、再度酸づけ槽３９内に通す。その後、さらに、他方のローラ４３の外周面に接触させて、フープ２を酸づけ槽３９内と純水槽４０内とに順に通して、ニッケル鍍金ユニット１１に向かって送り出す。こうして、酸づけ部１７は、一対のローラ４３にフープ２を掛け渡すことにより、フープ２を酸づけ槽３９内に複数回通して、フープ２を硫酸などに漬けて（浸漬して）、酸づけする。
【００４４】
また、前述した各槽２３，２４，２５，３９，４０は、互いに区画されているとともに、互いに水密に保たれている。このため、前記フープ２を通す開口部などを通して、槽２３，２４，２５，３９，４０の相互間で水酸化ナトリウム溶液、硫酸及び純水などが移動することを防止する。しかしながら、前記フープ２に付着した水酸化ナトリウム、硫酸及び純水は、若干、槽２３，２４，２５，３９，４０間を相互に移動する。
【００４５】
制御部１８は、前述したポンプ３３，３５，４５，４７のオン・オフを制御するとともに、脱脂槽２３内の水酸化ナトリウム溶液を加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部１８は、タンク２６，２７，２８間を連結した配管３８などに取り付けられたポンプなども制御する。
【００４６】
制御部１８は、脱脂槽２３内の加熱された水酸化ナトリウム溶液の水分が蒸発するなどして、脱脂槽２３内の水酸化ナトリウム溶液が減少すると、適宜、脱脂タンク２６内に第１の純水タンク２７内の純水を供給する。また、第１の純水タンク２７または第１の純水槽２４内の純水が減少すると、適宜、第２の純水タンク２８内の純水を第１の純水タンク２７に供給する。
【００４７】
こうして、制御部１８は、脱脂槽２３及び脱脂タンク２６内の水酸化ナトリウムの量に応じて、第１の純水タンク２７内の純水を脱脂タンク２６に供給するとともに、第２の純水タンク２８内の純水を第１の純水タンク２７に供給する。
【００４８】
前述した構成の前処理ユニット１０は、フープ２を脱脂部１６の一方の純水槽２４、脱脂槽２３、他方の第１の純水槽２４、脱脂槽２３、一方の純水槽２４、脱脂槽２３、他方の第１の純水槽２４、第２の純水槽２５とに順に通す。こうして、フープ２を脱脂槽２３内の水酸化ナトリウム溶液中に三回通して脱脂する。その後、前処理ユニット１０は、フープ２を、酸づけ槽３９内の硫酸中に三回通して酸づけする。その後、前処理ユニット１０は、フープ２を純水槽４０に通して、ニッケル鍍金ユニット１１に向かって送り出す。
【００４９】
ニッケル鍍金ユニット１１は、前処理ユニット１０に連結している。ニッケル鍍金ユニット１１は、前処理ユニット１０の前述したフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。ニッケル鍍金ユニット１１は、図５及び図６に示すように、フレーム５０と、処理槽としてのニッケル鍍金槽５１と、一対の第１の純水槽５２と、第２の純水槽５３と、第３の純水槽５４と、処理液タンクとしてのニッケル鍍金タンク５５と、第１の純水タンク５６と、第２の純水タンク５７と、第３の純水タンク５８と、制御部５９などを備えている。
【００５０】
フレーム５０は、前述した前処理ユニット１０のフレーム１５と構成が等しいため、同一部分に同一符号を付して説明を省略する。ニッケル鍍金槽５１は、フレーム５０の中間板２１上に取り付けられている。ニッケル鍍金槽５１は、容器であり、フープ２の表面にニッケルで鍍金するための処理液を収容する。本実施形態では、ニッケル鍍金槽５１は、処理液としてスルファミン酸ニッケル溶液を収容する。また、ニッケル鍍金槽５１内には、フープ２の表面をニッケルで鍍金する際に、電気鍍金を行うための電極６０が取り付けられている。
【００５１】
一対の第１の純水槽５２は、フレーム５０の中間板２１上に取り付けられている。一方の第１の純水槽５２は、ニッケル鍍金槽５１のフープ２の移動方向Ｋの上流側に配されている。他方の第１の純水槽５２は、ニッケル鍍金槽５１のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。一対の第１の純水槽５２は、容器であり、フープ２の表面に付着したスルファミン酸ニッケル溶液を洗い流すための純水を収容する。
【００５２】
また、一対の第１の純水槽５２は、互いの間にニッケル鍍金槽５１を位置させている。こうして、第１の純水槽５２は、ニッケル鍍金槽５１の両端に連結している。一対の第１の純水槽５２内には、それぞれ、ローラ６１が回転自在に設けられている。ローラ６１は、外周面にフープ２が接触して、該フープ２の移動方向を案内する。さらに、一対の第１の純水槽５２内には、前記フープ２を陰極するための電極６２が複数設けられている。
【００５３】
第２の純水槽５３は、他方の第１の純水槽５２のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。第２の純水槽５３は、容器であり、フープ２の表面に付着したスルファミン酸ニッケル溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【００５４】
第３の純水槽５４は、第２の純水槽５３のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。第３の純水槽５４は、容器であり、フープ２の表面に付着したスルファミン酸ニッケル溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【００５５】
ニッケル鍍金タンク５５は、フレーム５０の底板２０上に取り付けられている。ニッケル鍍金タンク５５は、前記ニッケル鍍金槽５１内に満たされる処理液としてのスルファミン酸ニッケル溶液を蓄えておく。ニッケル鍍金タンク５５とニッケル鍍金槽５１とには、図６に示すように、配管６３が連結している。また、前記配管６３には、ポンプ６４が取り付けられている。ポンプ６４は、処理液としてのスルファミン酸ニッケル溶液を、ニッケル鍍金槽５１とニッケル鍍金タンク５５との間で循環させる。
【００５６】
第１の純水タンク５６は、フレーム５０の底板２０上に取り付けられている。第１の純水タンク５６は、前記第１の純水槽５２内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第１の純水タンク５６と、一対の第１の純水槽５２とには、図６に示すように、配管６５が連結している。また、前記配管６５には、ポンプ６６が取り付けられている。ポンプ６６は、処理液としての純水を、第１の純水タンク５６と一方の第１の純水槽５２との間で循環させるとともに、第１の純水タンク５６と他方の第１の純水槽５２との間で循環させる。
【００５７】
第２の純水タンク５７は、フレーム５０の底板２０上に取り付けられている。第２の純水タンク５７は、前記第２の純水槽５３内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第２の純水タンク５７と第２の純水槽５３とには、図６に示すように、配管６７が連結している。また、前記配管６７には、ポンプ６８が取り付けられている。ポンプ６８は、処理液としての純水を、第２の純水タンク５７と第２の純水槽５２との間で循環させる。
【００５８】
第３の純水タンク５８は、フレーム５０の底板２０上に取り付けられている。第３の純水タンク５８は、前記第３の純水槽５４内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第３の純水タンク５８と第３の純水槽５４とには、図６に示すように、配管６９が連結している。また、前記配管６９には、ポンプ７０が取り付けられている。ポンプ７０は、処理液としての純水を、第３の純水タンク５８と第３の純水槽５４との間で循環させる。
【００５９】
また、図８に示すように、前述したタンク５５，５６，５７，５８には、タンク５５，５６，５７，５８同士などを連結する配管７１が取り付けられている。配管７１は、第３の純水タンク５８内の純水を第２の純水タンク５７内に供給するために用いられるとともに、第２の純水タンク５７内の純水を第１の純水タンク５６内に供給するために用いられる。
【００６０】
また、配管７１は、第１の純水タンク５６内の純水をニッケル鍍金タンク５５内に供給するために用いられる。さらに、前記配管７１は、第３の純水タンク５８内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【００６１】
また、前述した各槽５１，５２，５３，５４は、互いに区画されているとともに、互いに水密に保たれている。このため、前記フープ２を通す開口部などを通して、槽５１，５２，５３，５４の相互間でスルファミン酸ニッケルや純水が移動することを防止する。しかしながら、前記フープ２に付着したスルファミン酸ニッケルや純水は、若干、槽５１，５２，５３，５４間を相互に移動する。
【００６２】
制御部５９は、前述したポンプ６４，６６，６８，７０のオン・オフを制御するとともに、ニッケル鍍金槽５１内のスルファミン酸ニッケル溶液を加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部５９は、タンク５５，５６，５７，５８間を連結した配管７１などに取り付けられたポンプなども制御する。
【００６３】
制御部５９は、ニッケル鍍金槽５１内の加熱されたスルファミン酸ニッケル溶液の水分が蒸発するなどして、ニッケル鍍金槽５１内のスルファミン酸ニッケル溶液が減少すると、適宜、ニッケル鍍金タンク５５内に第１の純水タンク５６内の純水を供給する。また、第１の純水タンク５６または第１の純水槽５２内の純水が減少すると、適宜、第２の純水タンク５７内の純水を第１の純水タンク５６に供給する。さらに、第２の純水タンク５７または第２の純水槽５３内の純水が減少すると。適宜、第３の純水タンク５８内の純水を第２の純水タンク５７に供給する。
【００６４】
こうして、制御部５９は、ニッケル鍍金槽５１及びニッケル鍍金タンク５５内のスルファミン酸ニッケルの量に応じて、第１の純水タンク５６内の純水をニッケル鍍金タンク５５に供給し、第２の純水タンク５７内の純水を第１の純水タンク５６に供給するとともに、第３の純水タンク５８内の純水を第２の純水タンク５７に供給する。
【００６５】
前述した構成のニッケル鍍金ユニット１１は、前処理ユニット１０により脱脂と酸づけが施されたフープ２を、一方の第１の純水槽５２内とニッケル鍍金槽５１内と他方の第１の純水槽５２内とに順に通す。そして、他方の第１の純水槽５２内のローラ６１の外周面に接触させて、フープ２を再度ニッケル鍍金槽５１内と一方の第１の純水槽５２内とに順に通す。
【００６６】
その後、一方の第１の純水槽５２内のローラ６１の外周面に接触させて、フープ２をニッケル鍍金槽５１内と他方の第１の純水槽５２内と第２の純水槽５３内と第３の純水槽５４内に順に通して、金鍍金ユニット１２に向かって送り出す。
【００６７】
こうして、ニッケル鍍金ユニット１１は、ニッケル鍍金槽５１の両端に第１の純水槽５２を連結し、これら第１の純水槽５２それぞれにローラ６１を設けている。さらに、ニッケル鍍金ユニット１１は、一対のローラ６１にフープ２を掛け渡すことにより、フープ２をニッケル鍍金槽５１内のスルファミン酸ニッケル溶液中に三回通している。
【００６８】
電極６０，６２に印加するとともに、ニッケル鍍金槽５１内の処理液としてのスルファミン酸ニッケル溶液を加熱して所定の温度に保っておく。こうして、ニッケル鍍金ユニット１１は、ニッケル鍍金槽５１内のスルファミン酸ニッケル溶液にフープ２を漬けて（浸漬して）、該フープ２の表面をニッケルで鍍金する。
【００６９】
金鍍金ユニット１２は、ニッケル鍍金ユニット１１に連結している。金鍍金ユニット１２は、図２に示すように、ニッケル鍍金ユニット１１の前述したフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。金鍍金ユニット１２は、図９に示すように、フレーム７２（図１に示す）と、処理槽としての金鍍金槽７３と、一対の純水槽７４と、金鍍金タンク７５と、第１の純水タンク７６と、第２の純水タンク７７と、制御部９２などを備えている。
【００７０】
フレーム７２は、前述した前処理ユニット１０とニッケル鍍金ユニット１１のフレーム１５，５０と構成が等しいため、同一部分には同一符号を付して説明を省略する。金鍍金槽７３は、フレーム７２の中間板２１上に取り付けられている。金鍍金槽７３は、容器であり、内側に一対の金鍍金部７９と、一つの案内ローラ８０とを備えている。
【００７１】
金鍍金部７９は、円環状のローラ８１と、該ローラ８１内に設けられた図示しない鍍金ノズルとを備えている。ローラ８１は、内側に前述した処理液を通す孔を備えている。本実施形態では、処理液としてシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を用いる。孔は、ローラ８１を該ローラ８１の径方向に沿って貫通しているとともに、ローラ８１の周方向に等間隔に配されている。
【００７２】
鍍金ノズルは、前述した処理液としてシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を、ローラ８１の孔に向けて噴出する。こうして、鍍金ノズルは、シアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を、ローラ８１の孔内を通して、フープ２の金鍍金を施す部分に吹き付ける。
【００７３】
前述した一対の金鍍金部７９は、互いに間隔をあけて、前述した金鍍金槽７３内に収容されている。ローラ８０は、一対の金鍍金部７９のローラ８１のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。
【００７４】
ローラ８０は、外周面に前記フープ２の孔５内に浸入可能な突起を設けている。突起は、ローラ８０の外周面から外周方向に突出しているとともに、ローラ８０の周方向に等間隔に配されている。前述したローラ８０は、突起をフープ２の孔５に通し、回転することによりフープ２を移動させる。また、突起をフープ２の孔５に通すと、ローラ８１の孔はフープ２の金鍍金を施す部分に相対する。ローラ８０は、突起をフープ２の孔５に通すことにより、ローラ８０，８１とフープ２との相対位置を予め定められる位置関係に保つ（位置決めする）。ローラ８０は、外周面にフープ２を接触させることにより、一対の金鍍金部７９のうちフープ２の移動方向Ｋの下流側に位置する一方の金鍍金部７９から送り出されてきたフープ２を、他方の純水槽７４に向けて送り出す。
【００７５】
一対の純水槽７４は、フレーム７５の中間板２１上に取り付けられている。一方の純水槽７４は、金鍍金槽７３内でのフープ２の移動方向Ｋの上流側に配されており、金鍍金槽７３とニッケル鍍金ユニット１１との間に配されている。他方の純水槽７４は、金鍍金槽７３内でのフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。一対の純水槽７４は、容器であり、フープ２の表面に付着したシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を洗い流すための純水を収容する。
【００７６】
また、一対の純水槽７４は、互いの間に金鍍金槽７３を位置させている。こうして、純水槽７４は、金鍍金槽７３の両端に連結している。一対の純水槽７４内には、それぞれ、ローラ８２が回転自在に設けられている。ローラ８２は、外周面にフープ２が接触して、該フープ２の移動方向を案内する。
【００７７】
金鍍金タンク７５は、フレーム７２の底板２０上に取り付けられている。金鍍金タンク７５は、前述した処理液としてシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を蓄えておく。金鍍金タンク７５と金鍍金槽７３とには、図９に示すように、配管８３が連結している。また、前記配管８３には、ポンプ８４が取り付けられている。ポンプ８４は、処理液としてのシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を、金鍍金タンク７５から前記金鍍金槽７３内の金鍍金部７９の各鍍金ノズルに供給する。
【００７８】
第１の純水タンク７６は、フレーム７２の底板２０上に取り付けられている。第１の純水タンク７６は、前記一方の純水槽７４内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第１の純水タンク７６と、一方の純水槽７４とには、図９に示すように、配管８５が連結している。また、前記配管８５には、ポンプ８６が取り付けられている。ポンプ８６は、処理液としての純水を、第１の純水タンク７６と一方の純水槽７４との間で循環させる。
【００７９】
第２の純水タンク７７は、フレーム７２の底板２０上に取り付けられている。第２の純水タンク７７は、前記他方の純水槽７４内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第２の純水タンク７７と、他方の純水槽７４とには、図９に示すように、配管８７が連結している。また、前記配管８７には、ポンプ８８が取り付けられている。ポンプ８８は、処理液としての純水を、第２の純水タンク７７と他方の純水槽７４との間で循環させる。
【００８０】
第３の純水タンク７８は、フレーム７２の底板２０上に取り付けられている。第３の純水タンク７８は、金除去ユニット１３の後述する第１の純水槽６４内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第３の純水タンク７８と第１の純水槽９４とには、図９に示すように、配管８９が連結している。また、前記配管８９には、ポンプ９０が取り付けられている。ポンプ９０は、処理液としての純水を、第３の純水タンク７８と第１の純水槽９４との間で循環させる。
【００８１】
また、前述したタンク７５，７６，７７，７８には、タンク７５，７６，７７，７８同士を連結する配管９１が取り付けられている。配管９１は、第３の純水タンク７８内の純水を第２の純水タンク７７内に供給するために用いられるとともに、第２の純水タンク７７内の純水を金鍍金タンク７５内に供給するために用いられる。さらに、前記配管９１は、第３の純水タンク７８内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【００８２】
制御部９２は、前述したポンプ８４，８６，８８，９０のオン・オフを制御するとともに、金鍍金タンク７５内のシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液を加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部９２は、タンク７５，７６，７７，７８間を連結した配管９１などに取り付けられたポンプなども制御する。
【００８３】
制御部９２は、金鍍金タンク７５内の加熱されたシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液の量が減少すると、適宜、金鍍金タンク７５内に第２の純水タンク７７内の純水を供給する。また、第２の純水タンク７７または他方の純水槽７４内の純水が減少すると、適宜、第３の純水タンク７８内の純水を第２の純水タンク７７に供給する。
【００８４】
こうして、制御部９２は、金鍍金タンク７５内のシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液の量に応じて、第２の純水タンク７７内の純水を金鍍金タンク７５に供給し、第３の純水タンク７８内の純水を第２の純水タンク７７に供給する。
【００８５】
前述した構成の金鍍金ユニット１２は、ニッケル鍍金ユニット１１によりニッケルが鍍金されたフープ２を、一方の純水槽７４内に通すとともに、前記ローラ８２の外周面に接触させて、金鍍金槽７３内に通す。金鍍金槽７３内では、一対の金鍍金部７９のうち一方のローラ８１の外周面に接触させた後、他方のローラ８１の外周面に接触させる。このとき、ローラ８０の突起をフープ２の孔５内に通しておく。
【００８６】
他方の金鍍金部７９のローラ８１からローラ８０を介して、他方の純水槽７４に向けてフープ２を送り出す。金鍍金槽７３内では、ローラ８１の孔を通して、処理液としてのシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液が、フープ２の所定箇所に付着する。そして、フープ２の所定箇所が金で鍍金される。そして、フープ２は、他方の純水槽７４のローラ８２の外周面に接触した後、金除去ユニット１３に向けて送り出される。
【００８７】
こうして、金鍍金ユニット１２は、一方の純水槽７４を介して金鍍金槽７３内にフープ２を通す。金鍍金ユニット１２は、金鍍金槽７３では、一対の金鍍金部７９のローラ８１の外周面によりフープ２を案内するとともにローラ８０の突起でフープ２を位置決めして、該フープ２の所定箇所を金で鍍金する。その後、金鍍金ユニット１２は、金鍍金槽７３のローラ８０の外周面により案内して、フープ２を他方の純水槽７４内に通した後、金除去ユニット１３に向けて送り出す。
【００８８】
金除去ユニット１３は、金鍍金ユニット１２に連結している。金除去ユニット１３は、図２に示すように、金鍍金ユニット１２の前述したフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。金除去ユニット１３は、図１０に示すように、フレーム９３（図１に示す）と、第１の純水槽９４と、金除去槽９５と、第２の純水槽９６と、第３の純水槽９７と、洗浄槽９８と、金除去タンク９９と、第１の純水タンク１００と、第２の純水タンク１０１と、制御部１０２（図１に示す）などを備えている。
【００８９】
フレーム９３は、前述したユニット１０，１１，１２のフレーム１５，５０，７２と構成が等しいため、同一部分に同一符号を付して説明を省略する。第１の純水槽９４は、フレーム９３の金鍍金ユニット１２寄りの端に配されている。第１の純水槽９４は、容器であり、フープ２の表面に付着したシアン化金カリウムとクエン酸塩とを混合した溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【００９０】
金除去槽９５は、フレーム９３の中間板２１上に取り付けられている。金除去槽９５は、第１の純水槽９４のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。金除去槽９５は、容器であり、フープ２の表面の一部を鍍金した金のうち余分なものを除去するための処理液を収容する。本実施形態では、金除去槽９５は、処理液としてシアン化カリウム溶液を収容する。
【００９１】
第２の純水槽９６は、フレーム９３の中間板２１上に取り付けられている。第２の純水槽９６は、金除去槽９５のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。第２の純水槽９６は、容器であり、フープ２の表面に付着したシアン化カリウム溶液を洗い流すための純水を収容する。また、第２の純水槽９６内には、ローラ１０３が回転自在に設けられている。ローラ１０３は、外周面にフープ２が接触して、該フープ２の移動方向を案内する。
【００９２】
第３の純水槽９７は、第２の純水槽９６のフープ２の移動方向Ｋの上流側に配されている。第３の純水槽９７は、容器であり、フープ２の表面に付着したシアン化カリウム溶液を洗い流すための純水を収容する。また、第３の純水槽９７内の金鍍金ユニット１２寄りの端には、ローラ１０４が回転自在に設けられている。ローラ１０４は、外周面にフープ２が接触して、該フープ２の移動方向を案内する。
【００９３】
洗浄槽９８は、第３の純水槽９７のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。洗浄槽９８は、容器であり、フープ２の表面に付着したシアン化カリウム溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【００９４】
金除去タンク９９は、フレーム９３の底板２０上に取り付けられている。金除去タンク９９は、前記金除去槽９５内に満たされる処理液としてのシアン化カリウム溶液を蓄えておく。シアン化カリウムは、フープ２に付着した金を溶かす。金除去タンク９９と金除去槽９５とには、図１０に示すように、配管１０５が連結している。また、前記配管１０５には、ポンプ１０６が取り付けられている。ポンプ１０６は、処理液としてのシアン化カリウム溶液を、金除去槽９５と金除去タンク９９との間で循環させる。
【００９５】
第１の純水タンク１００は、フレーム９３の底板２０上に取り付けられている。第１の純水タンク１００は、前記第２の純水槽９６内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第１の純水タンク１００と、第２の純水槽９６とには、図１０に示すように、配管１０７が連結している。また、前記配管１０７には、ポンプ１０８が取り付けられている。ポンプ１０８は、処理液としての純水を、第１の純水タンク１００と第２の純水槽９６との間で循環させる。
【００９６】
第２の純水タンク１０１は、フレーム９３の底板２０上に取り付けられている。第２の純水タンク１０１は、前記第３の純水槽９７内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第２の純水タンク１０１と第３の純水槽９７とには、図１０に示すように、配管１０９が連結している。また、前記配管１０９には、ポンプ１１０が取り付けられている。ポンプ１１０は、処理液としての純水を、第２の純水タンク１０１と第３の純水槽９７との間で循環させる。
【００９７】
また、洗浄槽９８には、配管１１１を介してイオン交換装置１１２が連結している。洗浄槽９８内の純水は、イオン交換装置１１２と洗浄槽９８との間を循環している。イオン交換装置１１２は、洗浄槽９８内の純水中の溶在イオンを除去する。イオン交換装置１１２は、洗浄槽９８内の純水を清浄に保つ。
【００９８】
また、前述したタンク９９，１００，１０１には、タンク９９，１００，１０１同士などを連結する配管１１３が取り付けられている。配管１１３は、第２の純水タンク１０１内の純水を第１の純水タンク１００内に供給するために用いられるとともに、第１の純水タンク１００内の純水を金除去タンク９９内に供給するために用いられる。さらに、前記配管１１３は、第２の純水タンク１０１内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【００９９】
また、前述した各槽９４，９５，９６，９７，９８は、互いに区画されているとともに、互いに水密に保たれている。このため、前記フープ２を通す開口部などを通して、槽９４，９５，９６，９７，９８の相互間でシアン化カリウム溶液や純水が移動することを防止する。
【０１００】
制御部１０２は、前述したポンプ１０６，１０８，１１０のオン・オフを制御するとともに、金除去タンク９９内のシアン化カリウム溶液を加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部１０２は、タンク１０６，１０８，１１０間を連結した配管１１３などに取り付けられたポンプなども制御する。
【０１０１】
制御部１０２は、金除去槽９５内の加熱されたシアン化カリウム溶液の水分が蒸発するなどして、金除去槽９５内のシアン化カリウム溶液が減少すると、適宜、金除去タンク９９内に第１の純水タンク１００内の純水を供給する。また、第１の純水タンク１００または第２の純水槽９６内の純水が減少すると、適宜、第２の純水タンク１０１内の純水を第１の純水タンク１００に供給する。
【０１０２】
こうして、制御部１０２は、金除去槽９５及び金除去タンク９９内のシアン化カリウム溶液の量に応じて、第１の純水タンク１００内の純水を金除去タンク９９に供給し、第２の純水タンク１０１内の純水を第１の純水タンク１００に供給する。
【０１０３】
前述した構成の金除去ユニット１３は、金鍍金ユニット１２により所定箇所に金鍍金が施されたフープ２を、第１の純水槽９４内と金除去槽９５内と第２の純水槽９６内とに順に通す。金除去槽９５内では、余分な金が、シアン化カリウムに溶かされて、フープ２から除去される。
【０１０４】
そして、第２の純水槽９６内のローラ１０３の外周面に接触させて、フープ２を、金鍍金ユニット１２に向かって送り出し、第３の純水槽９７内に通す。第３の純水槽９７内では、ローラ１０４の外周面に接触させて、フープ２を、洗浄槽９８に向かって送り出す。フープ２を洗浄槽９８内に通して、後処理ユニット１４に向かって送り出す。こうして、金除去ユニット１３は、余分な金をフープ２から除去する。
【０１０５】
後処理ユニット１４は、金除去ユニット１３に連結している。後処理ユニット１４は、図２に示すように、金除去ユニット１３の前述したフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。後処理ユニット１４は、図１１に示すように、フレーム１１５（図１に示す）と、錫鍍金部１１６と、温洗部１１７と、制御部１１８（図１に示す）などを備えている。フレーム１１５は、前述したユニット１０，１１，１２，１３のフレーム１５，５０，７２，９３と構成が等しいため、同一部分に同一符号を付して説明を省略する。
【０１０６】
錫鍍金部１１６は、処理槽としての錫鍍金槽１１９と、一対の第１の純水槽１２０と、第２の純水槽１２１と、第３の純水槽１２２と、処理液タンクとしての錫鍍金タンク１２３と、第１の純水タンク１２４と、第２の純水タンク１２５と、第３の純水タンク１２６を備えている。錫鍍金槽１１９は、フレーム１１５の中間板２１上に取り付けられている。
【０１０７】
錫鍍金槽１１９は、容器であり、フープ２の表面を錫で鍍金するための処理液を収容する。本実施形態では、錫鍍金槽１１９は、処理液としてメタンスルフォン酸錫溶液を収容する。また、錫鍍金槽１１９内には、フープ２の表面に錫鍍金を施す際に、電気鍍金を行うための電極１２７が取り付けられている。
【０１０８】
一対の第１の純水槽１２０は、フレーム１１５の中間板２１上に取り付けられている。一方の第１の純水槽１２０は、錫鍍金槽１１９のフープ２の移動方向Ｋの上流側に配されている。他方の第１の純水槽１２０は、錫鍍金槽１１９のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。一対の第１の純水槽１２０は、容器であり、フープ２の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【０１０９】
また、一対の第１の純水槽１２０は、互いの間に錫鍍金槽１１６を位置させている。こうして、第１の純水槽１２０は、錫鍍金槽１１９の両端に連結している。一対の第１の純水槽１２０内には、それぞれ、ローラ１２８が回転自在に設けられている。ローラ１２８は、外周面にフープ２が接触して、該フープ２の移動方向を案内する。さらに、一対の第１の純水槽１２０内には、前記フープ２を陰極するための電極１２９が複数設けられている。
【０１１０】
第２の純水槽１２１は、他方の第１の純水槽１２０に連なっている。第２の純水槽１２１は、容器であり、フープ２の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【０１１１】
第３の純水槽１２２は、他方の第１の純水槽１２０と第２の純水槽１２１との双方のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。第３の純水槽１２２は、容器であり、フープ２の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などの処理液を洗い流すための純水を収容する。
【０１１２】
錫鍍金タンク１２３は、フレーム１１５の底板２０上に取り付けられている。錫鍍金タンク１２３は、前記錫鍍金槽１１９内に満たされる処理液としてのメタンスルフォン酸錫溶液を蓄えておく。錫鍍金タンク１２３と錫鍍金槽１１９とには、図１１に示すように、配管１３０が連結している。また、前記配管１３０には、ポンプ１３１が取り付けられている。ポンプ１３１は、処理液としてのメタンスルフォン酸錫溶液を、錫鍍金槽１１９と錫鍍金タンク１２３との間で循環させる。
【０１１３】
第１の純水タンク１２４は、フレーム１１５の底板２０上に取り付けられている。第１の純水タンク１２４は、前記第１の純水槽１２０内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第１の純水タンク１２４と、一対の第１の純水槽１２０とには、図１１に示すように、配管１３２が連結している。
【０１１４】
また、前記配管１３２には、ポンプ１３３が取り付けられている。ポンプ１３３は、処理液としての純水を、第１の純水タンク１２４と一方の第１の純水槽１２０との間で循環させるとともに、第１の純水タンク１２４と他方の第１の純水槽１２０との間で循環させる。
【０１１５】
第２の純水タンク１２５は、フレーム１１５の底板２０上に取り付けられている。第２の純水タンク１２５は、前記第２の純水槽１２１内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第２の純水タンク１２５と第２の純水槽１２１とには、図１１に示すように、配管１３４が連結している。また、前記配管１３４には、ポンプ１３５が取り付けられている。ポンプ１３５は、処理液としての純水を、第２の純水タンク１２５と第２の純水槽１２１との間で循環させる。
【０１１６】
第３の純水タンク１２６は、フレーム１１５の底板２０上に取り付けられている。第３の純水タンク１２６は、前記第３の純水槽１２２内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。第３の純水タンク１２６と第３の純水槽１２２とには、図１１に示すように、配管１３６が連結している。また、前記配管１３６には、ポンプ１３７が取り付けられている。ポンプ１３７は、処理液としての純水を、第３の純水タンク１２６と第３の純水槽１２２との間で循環させる。
【０１１７】
また、前述したタンク１２３，１２４，１２５，１２６には、タンク１２３，１２４，１２５，１２６同士などを連結する配管１３８が取り付けられている。配管１３８は、第３の純水タンク１２６内の純水を第２の純水タンク１２５内に供給するために用いられ、第２の純水タンク１２５内の純水を第１の純水タンク１２４内に供給するために用いられるとともに、第１の純水タンク１２４内の純水を錫鍍金タンク１２３内に供給するために用いられる。また、前記配管１３８は、第３の純水タンク１２６内に、外部の純水供給源から純水を供給するために用いられる。
【０１１８】
前述した構成の錫鍍金部１１６は、金除去ユニット１３から送り出されてきたフープ２を、一方の第１の純水槽１２０内と錫鍍金槽１１９内と他方の第１の純水槽１２０内とに順に通す。そして、他方の第１の純水槽１２０内のローラ１２８の外周面に接触させて、フープ２を再度錫鍍金槽１１９内と一方の第１の純水槽１２０内とに順に通す。
【０１１９】
その後、一方の第１の純水槽１２０内のローラ１２８の外周面に接触させて、フープ２を錫鍍金槽１１９内と他方の第１の純水槽１２０内と第２の純水槽１２１内と第３の純水槽１２２内とに順に通して、温洗部１１７に向かって送り出す。
【０１２０】
こうして、錫鍍金部１１６は、錫鍍金槽１１９の両端に第１の純水槽１２０を連結し、これら第１の純水槽１２０それぞれにローラ１２８を設けている。さらに、錫鍍金部１１６は、一対のローラ１２８にフープ２を掛け渡すことにより、フープ２を錫鍍金槽１１９内のメタンスルフォン酸錫溶液中に三回通している。
【０１２１】
電極１２７，１２９に印加するとともに、錫鍍金槽１１９内の処理液としてのメタルスルフォン酸錫溶液を加熱して所定の温度に保っておく。こうして、錫鍍金部１１６は、錫鍍金槽１１９内のメタルスルフォン酸錫溶液にフープ２を漬けて（浸漬して）、該フープ２の表面を錫で鍍金する。
【０１２２】
温洗部１１７は、図１１に示すように、純水槽としての洗浄槽１３９と、処理槽としての温水槽１４０と、乾燥槽１４１と、純水タンク１４２と、処理液タンクとしての温水タンク１４３とを備えている。洗浄槽１３９は、錫鍍金部１１６の第３の純水槽１２２のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。洗浄槽１３９は、フレーム１１５の中間板２１上に取り付けられている。洗浄槽１３９は、容器であり、フープ２の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などを除去するための処理液としての純水を収容する。
【０１２３】
温水槽１４０は、フレーム１１５の中間板２１上に取り付けられている。温水槽１４０は、洗浄槽１３９のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。温水槽１４０は、容器であり、フープ２の表面に付着したメタンスルフォン酸錫溶液などを除去するための処理液としての加熱された純水（熱水）を収容する。
【０１２４】
乾燥槽１４１は、温水槽１４０のフープ２の移動方向Ｋの下流側に配されている。乾燥槽１４１は、フレーム１１５の中間板２１上に取り付けられている。乾燥槽１４１は、容器であり、フープ２の表面から純水などを除去するための加熱されてフープ２に吹き付けられる気体（温風）を通す。
【０１２５】
純水タンク１４２は、フレーム１１５の底板２０上に取り付けられている。純水タンク１４２は、前記洗浄槽１３９内に満たされるフープ２を洗浄するための処理液としての純水を蓄えておく。純水タンク１４２と洗浄槽１３９とには、図１１に示すように、配管１４４が連結している。また、前記配管１４４には、ポンプ１４５が取り付けられている。ポンプ１４５は、処理液としての純水を、洗浄槽１３９と純水タンク１４２との間で循環させる。
【０１２６】
温水タンク１４３は、フレーム１１５の底板２０上に取り付けられている。温水タンク１４３は、前記温水槽１４０内に満たされる処理液としての加熱された純水（熱水）を蓄えておく。温水タンク１４３と、温水槽１４０とには、図１１に示すように、配管１４６が連結している。また、前記配管１４６には、ポンプ１４７が取り付けられている。ポンプ１４７は、処理液としての加熱された純水（熱水）を、温水タンク１４３と温水槽１４０との間で循環させる。
【０１２７】
前述した構成の温洗部１１７は、錫鍍金部１１６から送り出されたフープ２を洗浄槽１３９内に通した後、温水槽１４０内に通して、乾燥槽１４１内に通す。その後、フープ２を乾燥槽１４１などから前述した巻き取りリールに向かって送り出す。こうして、温洗部１１７は、洗浄槽１３９と温泉槽１４０内にフープ２を通して、純水で洗い流して該フープ２の表面から不純物を除去する。そして、乾燥槽１４１内でフープ２を乾燥させて、該フープ２の表面を清浄に保って、巻き取りリールに巻き取らせる。
【０１２８】
また、前述した各槽１１９，１２０，１２１，１２２，１３９，１４０，１４１は、互いに区画されているとともに、互いに水密に保たれている。このため、前記フープ２を通す開口部などを通して、槽１１９，１２０，１２１，１２２，１３９，１４０，１４１の相互間でメタンスルフォン酸錫溶液や純水などが移動することを防止する。しかしながら、前記フープ２に付着したメタンスルフォン酸錫溶液や純水などが、若干、槽１１９，１２０，１２１，１２２，１３９，１４０，１４１間を相互に移動する。
【０１２９】
制御部１１８は、前述したポンプ１３１，１３３，１３５，１３７，１４５，１４７のオン・オフを制御するとともに、錫鍍金槽１１９、温水槽１４０及び乾燥槽１４１内のメタンスルフォン酸錫溶液や純水や気体などを加熱する図示しないヒータのオン・オフなどを制御する。また、制御部１１８は、タンク１２３，１２４，１２５，１２６間を連結した配管１３８などに取り付けられたポンプなども制御する。
【０１３０】
制御部１１８は、加熱された錫鍍金槽１１９内のメタンスルフォン酸錫溶液の水分が蒸発するなどして、錫鍍金槽１１９内のメタンスルフォン酸錫溶液が減少すると、適宜、錫鍍金タンク１２３内に第１の純水タンク１２４内の純水を供給する。また、第１の純水タンク１２４または第１の純水槽１２０内の純水が減少すると。適宜、第２の純水タンク１２５内の純水を第１の純水タンク１２４に供給する。
【０１３１】
さらに、第２の純水タンク１２５または第２の純水槽１２１内の純水が減少すると。適宜、第３の純水タンク１２６内の純水を第２の純水タンク１２５に供給する。こうして、制御部１１８は、錫鍍金槽１１９及び錫鍍金タンク１２３内のメタンスルフォン酸錫溶液の量に応じて、第１の純水タンク１２４内の純水を錫鍍金タンク１２３に供給し、第２の純水タンク１２５内の純水を第１の純水タンク１２４に供給するとともに、第３の純水タンク１２６内の純水を第２の純水タンク１２５に供給する。
【０１３２】
前述した構成の後処理ユニット１４は、フープ２を錫鍍金部１１６の一方の第１の純水槽１２０、錫鍍金槽１１９、他方の第１の純水槽１２０、錫鍍金槽１１９、一方の第１の純水槽１２０、錫鍍金槽１１９、他方の第１の純水槽１２０、第２の純水槽１２１、第３の純水槽１２２とに順に通す。フープ２を、錫鍍金槽１１９内のメタンスルフォン酸錫溶液中に三回通して、該フープ２の表面を錫で鍍金する。その後、フープ２を、温洗部１１７の洗浄槽１３９と温水槽１４０内で洗浄して、乾燥槽１４１内で乾燥させて、巻き取りリールに巻き取らせる。
【０１３３】
また、前述した鍍金装置１の各ユニット１０，１１，１２，１３，１４のフレーム１５，５０，７２，９３，１１５は、周知のボルトとナットなどにより互いに着脱自在である。又、フレーム１５，５０，７２，９３，１１５は、フープ２の方向Ｋ（処理槽と純水槽とのうち一方の中を移動する方向）に沿って互いに連結している。さらに、これらフレーム１５，５０，７２，９３，１１５の下端には、図１に示すように、工場のフロア上などを移動するための移動手段としてのキャスタ（Ｃａｓｔｅｒ）１４８が取り付けられている。
【０１３４】
また、前述した各ユニット１０，１１，１２，１３，１４の槽間には、図２などに示すように、エアノズル１４９が設けられている。これらのエアノズル１４９は、フープ２の表面に加圧した気体などを吹き付けて、該フープ２の表面から各溶液や純水などを除去する。なお、エアノズル１４９を、図７ないし図１１中に白三角で示す。
【０１３５】
さらに、前記フレーム１５，５０，７２，９３，１１５には、各槽から発生するガスを吸引・排気するためのダクト１５０と、各純水タンク２８，５８，７８，１０１，１２６などに純水を供給するための配管１５１（図３ないし図６に一部示す）と、各エアノズル１４９に加圧された気体を供給するための配管１５２（図３ないし図６に一部示す）とが取り付けられている。ユニット１０，１１，１２，１３，１４のダクト１５０同士は、周知の管フランジにより着脱する。また、ユニット１０，１１，１２，１３，１４の配管１５１，１５２同士は、周知のねじ込み形管継手により着脱する。
【０１３６】
また、鍍金装置１は、処理槽としての各槽２３，５１，１１９内をフープ２が移動する方向Ｋに沿って、各ユニット１０，１１，１２，１３，１４が互いに連結している。さらに、図１及び図２に示すように、鍍金装置１が上方からみてコ字形となるように、各ユニット１０，１１，１２，１３，１４は、互いに連結している。
【０１３７】
本実施形態によれば、前処理ユニット１０が脱脂槽２３と複数の純水槽２４，２５と各槽２３，２４，２５に水酸化ナトリウム溶液と純水を供給するタンク２６，２７，２８を備えている。ニッケル鍍金ユニット１１がニッケル鍍金槽５１と複数の純水槽５２，５３，５４と各槽５１，５２，５３，５４にスルファミン酸ニッケル溶液と純水を供給するタンク５５，５６，５７，５８を備えている。
【０１３８】
金鍍金ユニット１２が、金鍍金槽７３と複数の純水槽７４と各槽７３，７４にシアン化金カリウムとクエン酸塩とからなる溶液と純水を供給するタンク７５，７６，７７を備えている。金除去ユニット１３が、金除去槽９５と複数の純水槽９６，９７と各槽９５，９６，９７にシアン化カリウム溶液と純水を供給するタンク９９，１００，１０１を備えている。後処理ユニット１４が、錫鍍金槽１１９と複数の純水槽１２０，１２１，１２２と各槽１１９，１２０，１２１，１２２にメタンスルフォン酸錫溶液と純水を供給するタンク１２３，１２４，１２５，１２６を備えている。
【０１３９】
また、ユニット１０，１１，１２，１３，１４のフレーム１５，５０，７２，９３，１１５同士が着脱自在となっている。このように、各ユニット１０，１１，１２，１３，１４の処理液及び純水を処理槽または純水槽に供給する系統が互いに独立している。このため、フレーム１０，１１，１２，１３，１４を着脱することにより、各ユニット１０，１１，１２，１３，１４のレイアウトを容易に変更できる。
【０１４０】
また、フレーム１０，１１，１２，１３，１４を着脱することにより、金と錫以外の金属を鍍金する鍍金ユニットに容易に交換できる。したがって、フープ２に鍍金する金属を容易に変更でき、フープ２の鍍金にかかる作業の効率の低下を抑制できる。
【０１４１】
第２の純水槽２５，５３，１２１中の純水を第１の純水槽２４，５２，１２０に供給しかつ第１の純水槽２４，５２，１２０中の純水を脱脂槽２３、ニッケル鍍金槽５１、錫鍍金槽１１９に供給する。第２の純水槽２５，５３，１２１に純水が供給される。このため、第２の純水槽２５，５３，１２１中の純水を、極めて不純物を少なく保つことができる。また、各ユニット１０，１１，１４では、第１の純水槽２４，５２，１２０に通した後に、第２の純水槽２５，５３，１２１にフープ２を通す。したがって、各ユニット１０，１１，１４で各種の処理が施されたフープ２を清浄に保つことができる。
【０１４２】
また、フープ２を脱脂槽２３、酸づけ槽３９、ニッケル鍍金槽５１、錫鍍金槽１１９内に複数回（三回）通す。このため、フープ２の移動速度を高速化しても、フープ２を十分に処理液中に漬けておくことができる。また、鍍金作業の一つの工程で処理槽を数多く設置する必要が生じない。このため、鍍金装置１の設置かかるスペースが増加しないとともに、フープ２の鍍金にかかる作業の効率化を図ることができる。
【０１４３】
脱脂槽２３、ニッケル鍍金槽５１、錫鍍金槽１１９内でのフープ２の移動方向Ｋに沿って、複数のユニット１０，１１，１２，１３，１４が互いに連結している。これらのユニット１０，１１，１２，１３，１４が互いに連結して、鍍金装置１はコ字形をなしている。このため、作業員が、全てのユニット１０，１１，１２，１３，１４の特に各処理槽の近傍まで近づくことができる。さらに、鍍金装置１が、コ字形をなしているため、鍍金装置１自体の小型化を図ることができる。したがって、各ユニット１０，１１，１２，１３，１４を確実にメンテナンス（手入れ）することができる。
【０１４４】
本発明では、前処理ユニット１０とニッケル鍍金ユニット１１と後処理ユニット１４とのうち少なくとも一つは、純水槽と純水タンクとを複数備えていれば良い。即ち、前処理ユニット１０とニッケル鍍金ユニット１１と後処理ユニット１４とのうち一つのみが、純水槽と純水タンクとを複数備えても良い。また、前処理ユニット１０とニッケル鍍金ユニット１１と後処理ユニット１４とのうちすべてが、純水槽と純水タンクとを複数備えても良い。
【０１４５】
また、本発明では、前記前処理ユニット１０とニッケル鍍金ユニット１１と後処理ユニット１４とのうち少なくとも一つは、フープ２を処理槽内の処理液中に複数回通せば良い。即ち、前処理ユニット１０とニッケル鍍金ユニット１１と後処理ユニット１４とのうち一つのみが、フープ２を処理槽内の処理液中に複数回通しても良い。また、前処理ユニット１０とニッケル鍍金ユニット１１と後処理ユニット１４とのうちすべてが、フープ２を処理槽内の処理液中に複数回通しても良い。
【０１４６】
【発明の効果】
以上説明したように、請求項１に記載の本発明は、各処理ユニットが処理槽と純水槽とこれらの槽内に処理液または純水を供給するタンクを備えている。また、ユニットのフレーム同士が着脱自在となっている。このように、各ユニットの処理液及び純水を処理槽または純水槽に供給する系統が互いに独立している。このため、フレームを着脱することにより、各ユニットのレイアウトを容易に変更できる。また、フレームを着脱することにより、鍍金ユニットを容易に交換できる。したがって、フープに鍍金する金属を容易に変更でき、フープの鍍金にかかる作業の効率の低下を抑制できる。
【０１４７】
請求項２に記載の本発明は、第２の純水タンク中の純水を第１の純水タンクに供給しかつ第１の純水タンク中の純水を処理液タンクに供給する。第２の純水タンクに純水が供給される。このため、第２の純水タンク即ち第２の純水槽中の純水を、極めて純水に近く即ち極めて不純物を少なくできる。したがって、フープに鍍金する金属を容易に変更できることにくわえ、各ユニットで各種の処理が施されたフープを清浄に保つことができる。
【０１４８】
請求項３に記載の本発明は、処理槽中に複数回フープを通す。このため、フープの移動速度を高速化しても、フープを十分に処理液中に漬けておくことができる。また、フープの移動速度を高速化しても十分に処理液中にフープを漬けておくことができるため、一つの工程で処理槽を数多く設置する必要が生じない。このため、設置かかるスペースが増加しないとともに、フープの鍍金にかかる作業の効率化を図ることができる。
【０１４９】
請求項４に記載の本発明は、フープの移動方向に沿って、複数のユニットが互いに連結している。このため、作業員が、全てのユニットの特に処理槽の近傍まで近づくことができる。したがって、各ユニットを確実にメンテナンス（手入れ）することができる。
【図面の簡単な説明】
【図１】本発明の一実施形態にかかる鍍金装置の全体の構成を示す斜視図である。
【図２】図１中のＩＩ−ＩＩ線に沿う断面図である。
【図３】図１に示された鍍金装置の前処理ユニットの正面方向からみた斜視図である。
【図４】図３に示された前処理ユニットの背面方向からみた斜視図である。
【図５】図１に示された鍍金装置のニッケル鍍金ユニットの正面方向からみた斜視図である。
【図６】図５に示されたニッケル鍍金ユニットの背面方向からみた斜視図である。
【図７】図１に示された鍍金装置の前処理ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図８】図１に示された鍍金装置のニッケル鍍金ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図９】図１に示された鍍金装置の金鍍金ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図１０】図１に示された鍍金装置の金除去ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図１１】図１に示された鍍金装置の後処理ユニットの構成を模式的に示す説明図である。
【図１２】図１に示された鍍金装置で鍍金されるフープの平面図である。
【図１３】従来の鍍金装置の構成を模式的に示す説明図である。
【符号の説明】
１　鍍金装置
２　フープ
１０　前処理ユニット
１１　ニッケル鍍金ユニット（鍍金ユニット）
１２　金鍍金ユニット
１３　金除去ユニット
１４　後処理ユニット
１５　フレーム
２３　脱脂槽（処理槽）
２４　第１の純水槽
２５　第２の純水槽
２６　脱脂タンク（処理液タンク）
２７　第１の純水タンク
２８　第２の純水タンク
３０　ローラ
３９　酸づけ槽（処理槽）
４０　純水槽
４１　酸づけタンク（処理液タンク）
４２　純水タンク
５０　フレーム
５１　ニッケル鍍金槽（処理槽）
５２　第１の純水槽
５３　第２の純水槽
５４　第３の純水槽
５５　ニッケル鍍金タンク（処理液タンク）
５６　第１の純水タンク
５７　第２の純水タンク
５８　第３の純水タンク
６１　ローラ
１１５　フレーム
１１９　錫鍍金槽（処理槽）
１２０　第１の純水槽
１２１　第２の純水槽
１２２　第３の純水槽
１２３　錫鍍金タンク（処理液タンク）
１２４　第１の純水タンク
１２５　第２の純水タンク
１２６　第３の純水タンク
１２８　ローラ
１３９　洗浄槽（純水槽）
１４０　温水槽（処理槽）
１４２　純水タンク
１４３　温水タンク（処理液タンク）
Ｋ　フープの移動方向

Claims (4)

1. 帯状でかつ金属からなるフープに鍍金を施す鍍金装置において、
   前記フープを脱脂するとともに酸づけする前処理ユニットと、
   前記前処理ユニットにより脱脂と酸づけが施されたフープを鍍金する鍍金ユニットと、
   前記鍍金ユニットにより鍍金されたフープを熱水で洗浄する後処理ユニットと、を備え、
   前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとは、それぞれ、フレームと、
   前記フレームに取り付けられかつ前記脱脂、酸づけ、鍍金、洗浄を行う際に前記フープが漬けられる処理液を収容する処理槽と、
   前記フレームに取り付けられかつ前記処理槽の処理液中に漬けられたフープを洗浄するための純水を収容する純水槽と、
   前記フレームに取り付けられかつ前記処理槽に供給される処理液を蓄える処理液タンクと、
   前記フレームに取り付けられかつ前記純水槽に供給される純水を蓄える純水タンクと、を備え、
   前記フープを処理槽中の処理液中に通した後、前記純水槽中の純水に通すとともに、前記処理液を前記処理液タンクと処理槽との間で循環させ、かつ前記純水を前記純水タンクと純水槽との間で循環させるとともに、前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットのフレームは、互いに着脱自在であることを特徴とする鍍金装置。
2. 前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとのうち少なくとも一つは、
   前記純水槽として、前記処理槽の後にフープが通される第１の純水槽と、前記第１の純水槽の後にフープが通される第２の純水槽とを備え、
   前記純水タンクとして、前記第１の純水槽との間で純水を循環する第１の純水タンクと、前記第２の純水槽との間で純水を循環しかつ外部から純水が供給される第２の純水タンクとを備え、
   処理槽中の処理液の量に応じて、前記第１の純水タンク中の純水を前記処理液タンクに供給しかつ前記第２の純水タンク中の純水を前記第１の純水タンクに供給することを特徴とする請求項１記載の鍍金装置。
3. 前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットとのうち少なくとも一つは、前記純水槽を前記処理槽の両端に連結しかつこれらの純水槽中に回転自在なローラを設け、前記フープを純水槽中のローラ間に掛け渡して、前記処理槽内の処理液中に複数回通すことを特徴とする請求項１または請求項２記載の鍍金装置。
4. 前記前処理ユニットと鍍金ユニットと後処理ユニットのフレームは、前記フープが前記処理槽と純水槽とのうち一方の中を移動する方向に沿って、互いに連結していることを特徴とする請求項１ないし請求項３のうちいずれか一項に記載の鍍金装置。

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