JP2004050091A - 光触媒用多孔質酸化チタン及びその製造方法並びに成形光触媒 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】含水酸化チタンを乾燥、焼成した多孔質酸化チタンが、下記の計算式
細孔非対称係数 N = (A−C)/(B−A)
[A:メディアン径の対数値、B:2%細孔容積の細孔径の対数値、C:98%細孔容積の細孔径の対数値]で表される細孔非対称係数Nが1.5≦N≦4の範囲内であって、その平均結晶粒子径が6.5〜30nmである光触媒用多孔質酸化チタン、及びその製造方法、並びにかかる光触媒用多孔質酸化チタンを用いて製造された成形光触媒である。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、平均結晶粒子径が6.5〜30nmの範囲であって制御された細孔径を有すると共に高比表面積を有し、優れた光触媒活性を有するだけでなく、吸着能が高く、機械的強度にも優れており、種々の光触媒成形体を製造するのに適した光触媒用多孔質酸化チタン及びその製造方法並びに成形光触媒に関する。
【0002】
【従来の技術】
近年、空気中に飛散する悪臭や有害物質を分解して除去したり、あるいは、排水処理や浄水処理等を行うための環境浄化材料として、温度、pH値、ガス雰囲気、毒性等の反応条件の制約が少なく、しかも、高活性で取扱が容易であることから、光触媒活性を有する多孔質酸化チタン(チタニア)が着目されており、例えば、アルデヒド、メルカプタン、アンモニア、各種のアミン類等の悪臭物質の分解脱臭、NOX、SOX、PCB、ダイオキシン、有機ハロゲン化合物、有機リン化合物、界面活性剤等の有害物質の分解除去、各種の菌類や藻類等の殺菌・藻処理等の多くの用途に応用されている。
【0003】
しかしながら、この多孔質酸化チタンについては、一般に、その比表面積が小さくて酸化チタンが有する本来の光触媒活性を充分に引き出すのが難しく、また、光触媒自体の吸着能が低くて非照射時における有害物の吸着除去が困難である。また、この多孔質酸化チタンは、その細孔構造が比較的均一な大きさに形成されるので、処理可能な物質の分子サイズが制限され、多種類の分子サイズのものが混在する場合には不向きであり、しかも、かかる多孔質酸化チタンの粒子はその機械的強度が低く、例えば排水処理や浄水処理等の水処理剤として必要な所定の形状の剤形に成形した際に得られる水処理剤の強度が不足する場合がある。
【0004】
そこで、従来においては、このような多孔質酸化チタンを高比表面積で吸着能が高く、機械的強度に優れた光触媒として使用するために、例えば、多孔質のセラミックス、ガラス、金属、活性炭、活性アルミナ、シリカゲル、珪藻土、プラスチック等により粒状、板状、円筒状、角柱状、円錐状、球状、ハニカム状、繊維状、布状等の形状の支持体を形成し、この支持体の表面に酸化チタンを塗布し、あるいは、支持体の表面を酸化チタン皮膜で被覆し、所定の形状を有する光触媒として使用することが行われている(例えば、特開平8−196,903号、特開平8−266,897号、特開2000−61,314号及び特開2002−177,952号の各公報参照)。
【0005】
しかしながら、このように支持体の表面に酸化チタンを塗布したり、酸化チタン皮膜を形成せしめた場合には、得られた光触媒が熱履歴に晒されたり、あるいは、外部から機械的衝撃が作用した際に、支持体と光触媒との間の熱膨張係数の違いや物理的凝集による弱い結合に起因して、支持体の表面から容易に酸化チタンが剥離し、光触媒としての活性が低下し、又は、失われるため、寿命が短くなるという問題がある。
【0006】
また、成形されて所定の形状を有する光触媒として、酸化チタンを主体とする光触媒材料で所定の形状の成形体を形成し、この成形体を焼成して多孔質の光触媒を得ることも提案されている(特開2001−269,574号及び特開2002−113,369号の各公報参照)。この方法によれば、支持体を用いることなくブロック状(塊状)、線状、ペレット状、粒状等の形状を有する光触媒を製造することができるが、光触媒としての多孔質酸化チタンそれ自体の機械的強度については全く考慮されておらず、基本的には何らかの支持体(基板)に固着させて用いられるものであり、また、結晶粒子径の大きなルチルを含有することが特徴とされているため、アナタース単独のものに比べて必然的にその比表面積が低くなり、また、アナタースの微粒子との混合によって細孔径分布がブロードになり、分解効率が低下することも避けられず、更に、比表面積の低下により光触媒自体の吸着能が低下し、非照射時における有害物質に対する対応も難しくなる。
【0007】
【発明が解決しようとする課題】
そこで、本発明者らは、制御された細孔径を有すると共に均一球状粒子に制御された多孔質酸化チタンより更に高比表面積を有し、優れた光触媒活性を有するだけでなく、吸着能が高く、しかも、機械的強度に優れた成形体を製造することができる光触媒用多孔質酸化チタンについて鋭意検討した結果、平均結晶粒子径が6.5〜30nmであって細孔分布がシャープであると共に所定の範囲で小細孔を含んで細孔分布が非対称となるように制御された細孔制御含水酸化チタンを合成することにより、目的を達成できることを見出し、本発明を完成した。
【0008】
従って、本発明の目的は、平均結晶粒子径が6.5〜30nmの範囲内であって任意の細孔径に制御され、かつ反応分子量分布に沿った細孔分布形状を有し、均一粒子径に制御された多孔質酸化チタンより更に高比表面積を有し、吸着能が高く、しかも、機械的強度にも優れた光触媒用多孔質酸化チタンを提供することにある。
また、本発明の他の目的は、このような光触媒用多孔質酸化チタンを製造することができる光触媒用多孔質酸化チタンの製造方法を提供することにある。
更に、本発明の他の目的は、このような光触媒用多孔質酸化チタンを用いて所定の形状に成形された成形光触媒を提供することにある。
【0009】
【課題を解決するための手段】
すなわち、本発明は、含水酸化チタンを乾燥、焼成した多孔質酸化チタンが、下記の計算式
細孔非対称係数 N = (A−C)/(B−A)
[A:メディアン径の対数値、B:2%細孔容積の細孔径の対数値、C:98%細孔容積の細孔径の対数値]で表される細孔非対称係数Nが1.5≦N≦4の範囲内であって、その平均結晶粒子径が6.5〜30nmであることを特徴とする光触媒用多孔質酸化チタンである。
【0010】
また、本発明は、チタン原料とpH調整剤を交互に添加し、pHをスイングしながら含水酸化チタンを合成し、次いで乾燥し、焼成して上述した多孔質酸化チタンを製造する方法において、含水酸化チタンの合成時にpHを1<pH(a)≦4と5.6≦pH(e)≦6.5の間、あるいは9≦pH(b)≦12と5.6≦pH(e)≦6.5の間をスイングさせることを特徴とする光触媒用多孔質酸化チタンの製造方法である。
【0011】
更に、本発明は、チタン原料とpH調整剤を交互に添加し、pHをスイングしながら含水酸化チタンを合成し、次いで乾燥し、焼成して請求項1に記載の多孔質酸化チタンを製造する方法において、含水酸化チタンの合成時に、pHを1<pH(a)≦4と9≦pH(b)≦12との間でスイングさせると共に、pHが5.6≦pH(e)≦6.5の範囲でチタニアの粒子成長に充分な熟成時間をとることを特徴とする光触媒用多孔質酸化チタンの製造方法である。
【0012】
そして、本発明は、上記の方法で製造された光触媒用多孔質酸化チタンを用いて所定の形状に成形された成形光触媒である。
【0013】
ここで、具体的なpHスイング方法は、チタン原料とpH調整剤を交互に添加し、pHをスイングしながら含水酸化チタンを合成する方法において、pHを1<pH(a)≦4と5.6≦pH(e)≦6.5の間、あるいは8≦pH(b)≦12と5.6≦pH(e)≦6.5の間をスイングさせることにより調製するか、もしくはチタン原料とpH調整剤を交互に添加し、pHをスイングしながら含水酸化チタンを合成する方法において、pHを1<pH(a)≦4と8≦pH(b)≦12の間をスイングさせる場合に、pHが5.6≦pH(e)≦6.5の範囲でチタニアの粒子成長に充分な熟成時間をとることにより行われる。
【0014】
本発明方法において、含水酸化チタンは、乾燥、焼成後にその細孔非対称係数Nが1.5≦N≦4の範囲内に制御されているものであれば、どのような方法で調製されたものであってもよいが、通常は、含水酸化チタンのスラリー中にチタン原料とpH調整剤とを交互に添加し、このスラリーのpH値を、酸化チタンの電気化学ポテンシャル図[M.Pourbaix,”Atlas of Electrochemical Equilibria in Aquieous Solution”,Pergamon Press,London(1966),p.218]に示される含水酸化チタンの非溶解pH領域内で、かつ、含水酸化チタンの等電点を境に、その酸側領域とアルカリ側領域との間でpHスイングさせることにより調製される。ここで、酸化チタンの電気化学ポテンシャル図に示される含水酸化チタンの非溶解pH領域は1<pH≦12の範囲内であり、また、含水酸化チタンの等電点におけるpH値はpH6.1である。
【0015】
ここで細孔非対象係数が1から1.5の範囲のものは、均一な粒子の集合体であり、機械的強度が比較的弱く、比表面積も粒径により一義的に決まって均一細孔径となり、また、細孔径分布がシャープになることより、反応対象物の分子サイズがより均一なものに限られてしまう。また、細孔非対象係数が4以上のものは種々の粒子径をもつものの集合体となり、各粒子径のものが細密に充填された状態となることからpHスイング回数を増加しても細孔径を制御することができず、かつ細孔径および細孔容積が小さなものが得られるために好ましい細孔構造とはならない。
【0016】
これに対して細孔非対象係数が1.5から4の範囲のものは、小粒子径のものを含有することから、均一粒子径のものより更に高表面積となり、かつ、小粒子が補強剤となって機械的強度の向上が図られ、更に、分子量分布をもつ反応物質に対して有効な細孔径分布とすることで活性をより一層高めることができるという特徴を有する。
【0017】
そして、含水酸化チタン合成溶液のpH値をpHスイングさせる際の酸側領域とアルカリ側領域のpH値については、好ましくは酸側領域のpH値が1<pH(a)≦4、より好ましくは1.1≦pH(a)≦2.0であり、また、好ましくはアルカリ側領域のpH値が9≦pH(b)≦12、より好ましくは10≦pH(b)≦11.9である。ここで、酸側領域のpH値について、pH(a)1以下またはアルカリ側領域のpH値が12より高いと微小粒子が溶解し均一粒子となり比表面積および機械的強度が改善されず、均一な細孔径となることから分子量に分布を持つ反応対象物に対して効果的ではないという問題が生じ、反対に、pH(a)が4より高いまたはpH(b)が9より低いと細孔径制御ができず、細孔容積が低下し不適切な細孔構造になるという問題が生じる。
【0018】
このpHスイングを実施する回数については、特に制限はなく、通常1〜20回スイングせしめるのがよく、この際の酸側領域のpH値、アルカリ側領域のpH値、スイングの回数等を調整することにより、合成される含水酸化チタンの粒子径及び細孔分布形状等の細孔構造をより高度に制御することができる。
【0019】
例えば、pH(a)1.5とpH(e)6.2との間を4回スイングさせた時には、平均結晶粒子径が9.5nm、細孔分布において細孔径のピークが10nm、及び細孔非対称係数Nが2であり、また、pH(b)11.5とpH(e)5.9との間を5回スイングさせた時には、平均結晶粒子径が12nm、細孔分布において細孔径のピークが22nmであって細孔非対称係数Nが3.4である等、細孔構造が厳密に制御された多孔質酸化チタンを製造することができる。
【0020】
本発明の多孔質酸化チタンの製造方法において、含水酸化チタンの合成に使用するチタン原料については、チタンの塩化物、弗化物、臭化物、ヨウ化物、硝酸塩、硫酸塩、炭酸塩、酢酸塩、燐酸塩、ホウ酸塩、蓚酸塩、フッ酸塩、ケイ酸塩、ヨウ素酸塩等のチタン塩、チタン酸、チタンのオキソ酸塩及びチタンのアルコキシド類等を挙げることができ、好ましいものとしては、例えば、四塩化チタン、硫酸チタン、硫酸チタニル、三塩化チタン、チタンメトキシド、チタンエトキシド、チタンプロポキシド、チタンイソプロポキシド、チタンテトライソプロポキシド、チタンテトラブトキシド、オルトチタン酸、メタチタン酸、四臭化チタン、四弗化チタン、三弗化チタン、チタン酸カリウム、チタン酸ナトリウム、チタン酸バリウム等を挙げることができる。これらのチタン原料は、その1種のみを単独で使用できるほか、2種以上の混合物として使用することもできる。
【0021】
また、この含水酸化チタンの合成に用いるpH調整剤としては、例えば、四塩化チタン、硫酸チタン、硫酸チタニル、三塩化チタン、四臭化チタン、四弗化チタン、三弗化チタン等の他に、硝酸、塩酸、硫酸等の酸や、アンモニア、水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナトリウム、炭酸カリウム、炭酸水素ナトリウム、炭酸水素カリウム等のアルカリを挙げることができ、これらのpH調整剤についても、その1種のみを単独で使用できるほか、2種以上の混合物として使用することもできる。これらのpH調整剤はチタン原料のみでは所定のpH値に制御できない場合には、チタン原料と共に用いて、pH値を最適に制御することにも用いられる。
【0022】
更に、含水酸化チタンを合成する際に用いる水系溶媒としては、特に制限されるものではないが、水の他、メタノール、エタノール、プロパノール、テトラヒドロフラン、アセトン、ジオキサン等の水溶性有機溶剤の水溶液等を用いることもできる。
【0023】
ここで、この含水酸化チタンを合成する際の反応条件について説明する。
先ず、含水酸化チタンを合成する時の水系溶媒中におけるチタンの濃度は、酸化チタン換算で通常0.1〜15wt%、好ましくは0.5〜10wt%であるのがよく、反応温度は常温から300℃、好ましくは常温から180℃、より好ましくは常温から100℃であり、また、反応圧力が常圧(0MPa)から9.0MPa、好ましくは0〜1.0MPa、より好ましくは0〜0.5MPaである。
【0024】
本発明の製造方法において、含水酸化チタンの調製時に、含水酸化チタン中にその粒子成長調整剤としてケイ素(Si)、燐(P)、マグネシウム(Mg)、カルシウム(Ca)、バリウム(Ba)、マンガン(Mn)、アルミニウム(Al)、ジルコニウム(Zr)、モリブデン(Mo)及びタングステン(W)から選ばれた1種又は2種以上の元素の化合物を添加し、含水酸化チタン粒子の成長を効率良く制御することもできる。
【0025】
合成した含水酸化チタンは、次にろ過、脱水、乾燥、焼成されて多孔質酸化チタンとなるが、この際に、含水酸化チタンを固形物基準で含水量200〜900wt%、好ましくは250〜600wt%にまで脱水あるいは乾燥し、所要の形状に成形した後、更に温度40〜350℃、好ましくは80〜200℃で0.5〜24時間、好ましくは0.5〜5時間乾燥し、その後に温度350〜1200℃、好ましくは400〜700℃で0.5〜24時間、好ましくは0.5〜5時間焼成する。
【0026】
このようにして製造された多孔質酸化チタンについては、これを光触媒として用いるために、より好ましくはこれを成形光触媒として用いるために、その平均結晶粒子径が6.5〜30nm、好ましくは7〜25nmである必要がある。この多孔質酸化チタンの平均結晶粒子径が30nmより大きいと、充分な比表面積を得ることができず、反対に、6.5nmより小さくなると、電子と正孔の再結合が生じたり、価電子帯と伝導帯のバンド構造がとれなくなってエネルギー順位が広がり(量子サイズ効果)、光活性を発現するためのエネルギーが高くなりかえって光触媒活性が低下する。そして、この平均結晶粒子径6.5〜30nmの多孔質酸化チタンを製造するために、pHスイング回数及び焼成温度を制御する。
【0027】
本発明によれば、上述した一連の製造操作によって、平均結晶粒子径6.5〜30nmであって任意の細孔径を有すると共にシャープであって所定の細孔非対称係数Nを有する細孔分布形状に制御され、均一粒子径に制御された多孔質酸化チタンより更に高比表面積を有し、吸着能が高く、しかも、機械的強度にも優れた光触媒用多孔質酸化チタンを製造することができる。
【0028】
また、このようにして製造された光触媒用多孔質酸化チタンについては、これをそのまま光触媒として使用することもできるが、優れた機械的強度を有するので、必要により所定の形状、例えば粒状、板状、円筒状、角柱状、円錐状、球状、ハニカム状、繊維状、布状、不織布状等の形状に成形し、得られた成形物を焼成して成形光触媒としてもよい。本発明の多孔質酸化チタンを用いて得られた成形光触媒は、多孔質酸化チタンそれ自体の機械的強度が反映されて優れた機械的強度を発揮する。
【0029】
本発明の成形光触媒を製造する方法については、従来より知られている方法をそのまま採用することができ、特に制限はなく、例えば、押出成形機、転動造粒機、スプレードライヤー等を用いて成形することができる。
【0030】
【発明の実施の形態】
以下、実施例及び比較例に基づいて、本発明の好適な実施の形態を具体的に説明する。なお、ここで記載する実施例は、本発明を具体的に説明するためのものであって、これらの実施例及び比較例によって本発明が限定されるものではない。また、以下の実施例及び比較例において、比表面積、細孔容積(TPV)、細孔非対称係数N、機械的強度[SCS(Side Crushing Strength)]、平均結晶粒子径(nm)、及びアセトアルデヒドに対する光触媒活性(分解率wt%)は以下の方法により測定した。
【0031】
〔比表面積〕
多孔質酸化チタンの比表面積は、測定機器としてマウンテック社製Macsorb Model−1201を使用し、BET(詳しくは、S. Brunauer, P. H. Emmett, E. Teller., J. Am. Chem., Soc., 60, 309(1938))の三点法により測定した。
【0032】
〔細孔容積(TPV)〕
多孔質酸化チタンの細孔容積は、測定機器として島津製作所製オートポア9200形(水銀ポロシメータ)を使用し、水銀圧入法(詳しくは、E. W. Washburn, Proc. Natl. Acad. Sci., 7, 115(1921), H. L. Ritter, L. E. Drake, Ind. Eng.Chem. Anal., 17, 782, 787(1945), L. C. Drake, Ind. Eng. Chem., 41, 780(1949),及びH. P. Grace, J. Amer. Inst. Chem. Engrs., 2. 307(1965)などの文献に記載されている)により測定した。水銀の表面張力は0.48N/mとし、使用接触角は140°とし、絶対水銀圧力を0.08〜414MPaまで変化させて測定した。
【0033】
〔細孔非対称係数N〕
細孔非対称係数 N = (A−C)/(B−A)は、図1に示す水銀ポロシメータで測定した累積細孔容積(縦軸)を細孔直径(横軸:対数表示)との関係で表した図を用いて求めた。すなわち、全細孔容積の50%のところの細孔径(メディアン直径)の対数値をAとし、全細孔容積の2%のところの細孔径の対数値をBとした。また、全細孔容積の98%のところの細孔径の対数値をCとして、上記関係式で示すように、AB間の距離とCA間の距離の比として表した。
【0034】
〔円柱状押出成形物の調製〕
合成した含水酸化チタンのゲルを水分除去して固形分濃度10〜30wt%とし、40個の孔(孔径約2.0mmφ)を有するダイスをシリンダーの下部に取り付け、このシリンダー内に水分調整した含水酸化チタンのゲルを装入し、油圧式ピストンにより押し出して円柱状のゲルを成形し、次いで120℃で乾燥し、500℃で焼成し、1.4mmφ×長さ3mm相当の円柱状押出成形物を得た。
【0035】
〔機械的強度(SCS)〕
機械的強度(SCS)は木屋式強度計を用いて測定した。すなわち、上で得られた円柱状押出成形物を直径10mmの円盤で圧縮し、下式により、その破壊時の加重を円柱状押出成形物の長さで割って求めた。
SCS=W/L
W=破壊時の加重(kg)
L=円柱状押出成形物の長さ(mm)
【0036】
〔平均結晶粒子径(nm)〕
粉末X線回折におけるチタニア(アナタース)のメインピーク2θ=25.5の半価幅を測定し、以下に示すScherrerの式から平均結晶粒子径を求めた。
D=0.9λ/βcosθ
D=平均結晶粒子径(Å)
λ=X線の波長
β=2θの半価幅
θ=回折角
【0037】
〔アセトアルデヒドに対する光触媒活性(分解率wt%)〕
容量1.1リットルでボトル型のガラス製反応容器に試料の成形光触媒0.25gを入れ、これにアセトアルデヒド2.0μlを注入し、30分間放置し、次いでこの反応容器の外部から2本の8Wブラックライトで紫外光を照射し、ガスクロマトグラフィーにより経時的にアセトアルデヒド濃度を測定し、90分の試験終了後にガス検知管により反応容器内に生成した二酸化炭素(CO2)濃度を測定し、アセトアルデヒドの気相酸化反応の有無を確認すると共に、下記式からアセトアルデヒドの分解率(%)を求めた。
分解率(%)
=[(生成CO2の1/2モル数)/(注入アセトアルデヒドのモル数)]×100
【0038】
実施例1
(含水酸化チタン粒子の合成工程)
水11kg中に、500g/l濃度の四塩化チタン水溶液330gを加え合成溶液のpH値を1.5とし、その後14wt%濃度のアンモニア水340mlとを加えpH値を6.5とすることによって、含水酸化チタンのヒドロゾルスラリーを合成した。この際の合成温度は60℃であった。
【0039】
次に、得られた含水酸化チタンのヒドロゾルスラリー中に、500g/l濃度の四塩化チタン水溶液330gを加えてこのスラリーのpH値を含水酸化チタンの酸側領域のpH(a)1.5に戻し、次いで14wt%濃度のアンモニア水355mlを加えてスラリーのpH値を含水酸化チタンの等電点付近のpH(b)6.5とするpHスイング操作を繰り返して行い、合計5回のpHスイング操作を行って含水酸化チタンの粒子を合成した。
【0040】
(ろ過・洗浄工程)
pHスイング操作で合成した含水酸化チタンのヒドロゲルスラリーをろ過し、得られたゲル中の塩素及びアンモニウムイオンを洗い出すため、ゲル中に洗浄水として7.5リットルの水を混合し、次いでろ過・洗浄の操作を2回繰り返して行った。このろ過・洗浄操作終了後、最終的に吸引ろ過を行って含水酸化チタンのゲルを得た。このゲルの含水量は固形物基準で300wt%であった。
【0041】
(押出成形工程)
2.3mmφのダイスサイズのピストン型ゲル押出成形器を用い、各pHスイング操作で合成した含水酸化チタンのゲルを円柱状に成形した。
【0042】
(乾燥・焼成工程)
押出成形工程で得られた各pHスイング操作で合成した含水酸化チタンのヒドロゲルの円柱状成形物を、乾燥器により120℃、3時間の条件で乾燥し、得られた乾燥物を電気炉により500℃、3時間の条件で焼成し、大きさ1.4mmφ×長さ3mm程度の多孔質酸化チタンを得た。なお、焼成後はデシケータ内で放冷した。
合成した含水酸化チタンより得られた多孔質酸化チタンからなる実施例1の成形光触媒の物性を表1に示す。
【0043】
実施例2
水11kg中に、500g/l濃度の四塩化チタン水溶液330gを加え合成溶液のpH値を1.5とし、その後14wt%濃度のアンモニア水355mlを加えpH値を7.5とすることによって、含水酸化チタンのヒドロゾルスラリーを合成した。このときの合成温度は75℃とした。
【0044】
次に、得られた含水酸化チタンのヒドロゾルスラリー中に、500g/l濃度の四塩化チタン水溶液330gを加えてこのスラリーのpH値を含水酸化チタンの酸側領域のpH(a)1.5に戻し、次いで14wt%濃度のアンモニア水355mlを加えてスラリーのpH値を含水酸化チタンの等電点を越えてpH(b)を7.5とするpHスイング操作を繰り返して行い、合計3回のpHスイング操作を行って含水酸化チタンの粒子を合成した。
得られた合成含水酸化チタンを用い、上記実施例1と同様にして多孔質酸化チタンからなる成形光触媒を調製した。この実施例2の成形光触媒の物性を表1に示す。
【0045】
比較例1
pHスイング操作として、pH(a)0.5とpH(b)6.5との間を合計2回行った以外は、上記実地例1と同様にして多孔質酸化チタンを調製した。
得られた多孔質酸化チタンを用い、実施例1と同様にして多孔質酸化チタンからなる成形光触媒を調製した。この比較例1の成形光触媒の物性を表1に示す。
【0046】
比較例2
pHスイング操作として、pH(a)7.5とpH(b)9.5との間を合計1回行った以外は、実地例1と同様にして多孔質酸化チタンを調製した。
得られた多孔質酸化チタンを用い、実施例1と同様にして多孔質酸化チタンからなる成形光触媒を調製した。この比較例2の成形光触媒の物性を表1に示す。
【0047】
比較例3
乾燥・焼成工程での焼成温度を800℃とした以外は、上記実施例1と同様にして多孔質酸化チタンを調製した。
得られた多孔質酸化チタンを用い、実施例1と同様にして多孔質酸化チタンからなる成形光触媒を調製した。この比較例3の成形光触媒の物性を表1に示す。
【0048】
比較例4
光触媒として上市されている市販品の多孔質酸化チタンを500℃で焼成し、成形光触媒を調製した。この比較例4の成形光触媒の物性を表1に示す。
【0049】
【表1】
【0050】
実施例3〜7
pHスイング操作の条件及び焼成温度を表2に示す条件及び温度とした以外は、実施例1と同様にして多孔質酸化チタンからなる成形光触媒を調製した。この実施例3〜7の成形光触媒の物性を表2に示す。
【0051】
【表2】
【0052】
また、上記実施例1〜7及び比較例1〜4の各成形光触媒について、その結晶粒子径(nm)−光触媒活性(分解率wt%)との関係を図2に示す。
【0053】
【発明の効果】
本発明によれば、平均結晶粒子径が6.5〜30nmの範囲であって任意の細孔径に制御され、かつ反応分子量分布に沿った細孔分布形状を有し、均一粒子径に制御された多孔質酸化チタンより更に高比表面積を有し、吸着能が高く、しかも、機械的強度にも優れた光触媒用多孔質酸化チタンを提供することができ、特に光触媒活性だけでなく機械的強度にも優れていて多くの用途に有用な成形光触媒を提供することができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】図1は、細孔非対称係数Nの求め方を模式的に示したグラフ図である。
【図2】図2は、実施例1〜7及び比較例1〜4の成形光触媒における結晶粒子径(nm)−光触媒活性(分解率wt%)との関係を示すグラフ図である。
Claims (4)
- 含水酸化チタンを乾燥、焼成した多孔質酸化チタンが、下記の計算式
細孔非対称係数 N = (A−C)/(B−A)
[A:メディアン径の対数値、B:2%細孔容積の細孔径の対数値、C:98%細孔容積の細孔径の対数値]で表される細孔非対称係数Nが1.5≦N≦4の範囲内であって、その平均結晶粒子径が6.5〜30nmであることを特徴とする光触媒用多孔質酸化チタン。 - チタン原料とpH調整剤を交互に添加し、pHをスイングしながら含水酸化チタンを合成し、次いで乾燥し、焼成して請求項1に記載の多孔質酸化チタンを製造する方法において、含水酸化チタンの合成時に、pHを1<pH(a)≦4と5.6≦pH(e)≦6.5との間、あるいは9≦pH(b)≦12と5.6≦pH(e)≦6.5との間でスイングさせることを特徴とする光触媒用多孔質酸化チタンの製造方法。
- チタン原料とpH調整剤を交互に添加し、pHをスイングしながら含水酸化チタンを合成し、次いで乾燥し、焼成して請求項1に記載の多孔質酸化チタンを製造する方法において、含水酸化チタンの合成時に、pHを1<pH(a)≦4と9≦pH(b)≦12との間でスイングさせると共に、pHが5.6≦pH(e)≦6.5の範囲でチタニアの粒子成長に充分な熟成時間をとることを特徴とする光触媒用多孔質酸化チタンの製造方法。
- 請求項1に記載の光触媒用多孔質酸化チタンを所定の形状に成形してなる成形光触媒。
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