JP2004015459A - 光信号生成装置及び方法 - Google Patents
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Abstract
【解決手段】データ発生回路10は、クロック発生回路12の出力クロックに従いデューティ比50%の光パルスからなる送信データを発生する。光源14は、データ発生回路10から出力される送信データを搬送する光キャリアとなるレーザ光を発生し、データ変調器16に印加する。データ変調器16は、データ発生回路10からの送信データに従い光源14からのレーザ光を強度変調し、送信データを搬送するRZ光パルス列の光信号を生成する。正弦波発生回路20は、クロック発生回路12からのクロックに同期して、同じ周波数の正弦波信号を発生する。位相シフト回路22は、正弦波発生回路20の出力する正弦波の位相をπ/2だけシフトして位相変調器18に印加する。位相変調器18は、位相シフト回路22からの正弦波に従い、データ変調器16からの各光パルスの光位相を変調する。光フィルタ24は、位相変調器18で強調されたサイドバンドの高調波成分を除去する。
【選択図】 図1
Description
【発明の属する技術分野】
本発明は、光信号生成装置及び方法に関し、より具体的には、光残留側波帯(VSB)変調の光信号を生成する装置及び方法に関する。
【0002】
【従来の技術】
波長分割多重伝送技術の進歩により、光ファイバの伝送容量は増大し続けている。しかし、一般的な光変調方式(両側波帯(BSB)変調)では、限られた帯域の中に詰め込むことができる光信号波長数が限られる。波長間隔をより狭くすることを可能にする技術として、単側波帯(SSB)変調及び残留側波帯(VSB)変調技術が検討されている(例えば、“LiNbO3 Optical Single−Sideband Modulator”,Electronics OFC2000PD16、及び“10Gbit/s optical signal sideband system”,Electronics Letters vo1.33 pp.970−973)。
【0003】
VSB又はSSB光信号を生成する方法として、代表的には、位相変調により片方のサイドバンドを強調する方法(以下、位相変調法と呼ぶ。)と、光フィルタ(例えば、インターリーバ)により不要な帯域成分を除去する方法(以下、光フィルタ法と呼ぶ。)がある。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】
位相変調法では、位相変調により片方のサイドバンドを強調する際に、そのサイドバンドの外側の高調波も強調されてしまう。これにより、隣接波長間のクロストークが増大し、伝送特性が劣化する。
【0005】
フィルタ法では、光フィルタにより信号成分を除去するので、時間軸上の光パルス幅が拡がってしまう。これにより、ビットレートを上げることが難しくなる。
【0006】
本発明は、隣接波長間のクロストークが少なく、且つ、光パルス幅が広くならない光信号生成装置及び方法を提示することを目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】
本発明に係る光信号生成装置は、光キャリア波を発生する光源と、当該光源から出力される当該光キャリアを送信データに従い変調するデータ変調器と、当該データ変調器の出力光に同期して、当該データ変調器の出力光の位相を変調し、もって、一方のサイドバンドを強調する光位相変調器と、当該光位相変調器の出力光から、当該サイドバンドより外側の高調波成分を除去する光フィルタとを具備することを特徴とする。
【0008】
本発明に係る光信号生成方法は、光キャリア波を送信データに従い変調してデータ変調光を生成し、当該データ変調光の位相を変調することにより一方のサイドバンドを強調し、当該サイドバンドより外側の高調波成分を除去することからなることを特徴とする。
【0009】
【実施例】
以下、図面を参照して、本発明の実施例を詳細に説明する。
【0010】
図1は、本発明の一実施例の概略構成ブロック図を示す。データ発生回路10は、クロック発生回路12から出力されるクロックに従って、デューティ比50%のパルスからなる送信データを発生し、出力する。光源14は、データ発生回路10から出力される送信データを搬送する光キャリアとなるレーザ光を発生し、データ変調器16に印加する。データ変調器16は、データ発生回路10からの送信データに従い、光源14からのレーザ光を強度変調し、送信データを搬送するRZ光パルス列の光信号を生成する。生成された光パルス列は、位相変調器18に印加される。
【0011】
他方、正弦波発生回路20は、クロック発生回路12から出力されるクロックに従い、そのクロックに同期する同じ周波数の正弦波信号を発生する。位相シフト回路22は、正弦波発生回路20の出力する正弦波の位相をπ/2だけシフトして位相変調器16に印加する。
【0012】
位相変調器18は、位相シフト回路22からの正弦波に従い、データ変調器16からの光パルス列の各光パルスの光位相を変調する。位相変調された光パルス列は、位相変調器18により強調された高調波成分を除去する光フィルタ24を介して光ファイバ伝送路に送出される。
【0013】
位相変調は、従来、光ファイバの非線形効果による自己位相変調を抑制する目的で事前に信号光に施される。その場合、光パルスと位相変調の変調信号の位相関係は、図2に示すように、光パルスの立上がりで、正弦波の一方の極値にあり、光パルスの立ち下がりで正弦波の他方の極値にあるようなものになっている。換言すると、光パルスの中央付近で変調信号の極性が変化するような位相関係である。1ビット期間の中央に光パルスが存在すると考えた場合、変調信号(位相変調器の駆動信号)は、光パルスに対して同相(位相差0)又は逆相(位相差π)である。図2において、30は位相変調の対象となる光パルス、32は同相の変調信号、34は逆相の変調信号をそれぞれ示す。
【0014】
これに対し、本実施例では、位相シフト回路22を設けて、正弦波信号の位相を+π/2又は−π/2だけシフトしてから、変調信号(駆動信号)として位相変調器18に印加している。図3は、本実施例の位相変調器18における波形タイミング図を示す。40はデータ変調器16から位相変調器18に印加される光パルス、42は、位相シフト回路22から位相変調器18に印加されるπ/2の位相シフト量の変調信号(駆動信号)、44は、位相シフト回路22から位相変調器18に印加される−π/2の位相シフト量の変調信号(駆動信号)をそれぞれ示す。説明の都合上、位相シフト回路22における位相シフト量がπ/2又は−π/2であると説明しているが、実際には、それは、位相変調器18内における光パルスと変調信号との間の位相差である。
【0015】
本実施例のように位相変調の位相を意図的にずらすと、データ変調器16におけるデータ変調(強度変調)により生成される2つの信号側波帯の内の片方が強調され、他方が抑圧される。図4に示すようなスペクトルを具備する光パルスに本実施例を適用した結果のスペクトルを図5に示す。図5から分かるように、一方の側波帯が強調され、他方が抑圧されている。
【0016】
位相変調の位相をずらす結果、光ファイバの非線形効果による自己位相変調を打ち消す効果が少なくなり、波長分散との相互作用によって伝送特性が劣化する。このような伝送特性の劣化を克服するには、例えば、伝送距離を短くして累積波長分散を小さくする方法、及び/又は、分散スロープが平坦化される組み合わせのファイバ(分散マネジメントファイバ)を使用して累積波長分散を小さくする方法を採用すればよい。後者の方法を採用することで、本実施例を長距離伝送にも適用可能になる。
【0017】
位相シフト回路22における位相シフト量、より具体的には、位相変調回路18における光パルスと変調信号との位相差がサイドバンドに与える影響を調べた。図6は、位相差0(従来例)の場合、図7は、位相差−π/4の場合、図8は位相差−π/2の場合、図9は、位相差−3π/4の場合、図10は位相差−π(従来例)の場合のスペクトルの模式図をそれぞれ示す。図6〜図10から分かるように、位相差をπ/2又は−π/2とすると、一方のサイドバンドを最も抑圧でき、π/2−π/4からπ/2+π/4の範囲、又は、−π/2−π/4から−π/2+π/4の範囲であれば、十分なサイドバンド抑圧効果が得られる。
【0018】
例えば、波長間隔0.15nmのWDM信号光で、位相変調器18における位相差が伝送特性に与える影響を調べた。その結果を図11に示す。横軸は位相変調器18における位相差を示し、縦軸は、位相差が−π/2におけるQ値に対するペナルティを示す。波長間隔0.15nmの場合、位相差を0又はπに設定すると、隣の波長との重なりを無視できなくなり、Q値を測定できない。図11からも、位相変調器18における光パルスと変調信号との位相差をπ/2又は−π/2とすることが最も好ましいが、π/2−π/4からπ/2+π/4の範囲、又は、−π/2−π/4から−π/2+π/4の範囲でも、十分なQ値が得られることが分かる。
【0019】
光パルスのデューティ比が50%以外の場合でも、位相変調器18における光パルスと変調信号との位相差を上述の関係にすることで、良好なVSB変調を得られる。更に、光パルスの立上がり及び立ち下がりのタイミングで変調信号のレベルが0になり、光パルスの期間内で変調信号が一方の極性の値のみを持つように変調信号の波形を歪ませれば、より効果的である。このような変調信号波形の変形は、アンプの入出力特性を調節することで簡単に得られる。
【0020】
本実施例では更に、光フィルタ24が、位相変調器18により強調されたサイドバンドより外側の高調波成分を除去する。図12はデータ変調器16の出力光のスペクトルを示し、図13は、位相変調器18の出力光のスペクトルを示し、図14は、光フィルタ24の出力光のスペクトルを示す。光フィルタ24は、以上の説明のように、位相変調器18により強調されるサイドバンドより外側の高調波成分を除去する光フィルタであってもよいが、キャリアと位相変調器18により強調されるサイドバンドのみを通過する光バンドパスフィルタであってもよい。図14は、後者の場合のスペクトル例を示す。
【0021】
【発明の効果】
以上の説明から容易に理解できるように、本発明によれば、非常に簡単な構成で良好な伝送特性のVSB変調された信号光を生成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の一実施例の概略構成ブロック図である。
【図2】従来の位相変調における波形図である。
【図3】本実施例の位相変調における波形図である。
【図4】DSBスペクトルの例である。
【図5】本実施例によるVSBスペクトルの例である。
【図6】位相差0(従来例)の場合のスペクトル例である。
【図7】位相差−π/4の場合のスペクトル例である。
【図8】位相差−π/2の場合のスペクトル例である。
【図9】位相差−3π/4の場合のスペクトル例である。
【図10】位相差−π(従来例)の場合のスペクトル例である。
【図11】位相差に対するQ値ペナルティの測定例である。
【図12】データ変調器16の出力光のスペクトル例である。
【図13】位相変調器18の出力光のスペクトル例である。
【図14】光フィルタ24の出力光のスペクトル例である。
【符号の説明】
10:データ発生回路
12:クロック発生回路
14:光源
16:データ変調器
18:位相変調器
20:正弦波発生回路
22:位相シフト回路
24:光フィルタ
30:光パルス
32:同相の変調信号
34:逆相の変調信号
40:光パルス
42:位相シフト量π/2の変調信号
44:位相シフト量−π/2の変調信号
Claims (5)
- 光キャリア波を発生する光源と、
当該光源から出力される当該光キャリア波を、送信データに従い変調するデータ変調器と、
当該データ変調器の出力光に同期して、当該データ変調器の出力光の位相を変調し、もって、一方のサイドバンドを強調する光位相変調器と、
当該光位相変調器の出力光から、当該サイドバンドより外側の高調波成分を除去する光フィルタ
とを具備することを特徴とする光信号生成装置。 - 当該光位相変調器が、
当該送信データに同期し、且つ、所定位相量ずれた変調信号を生成する変調信号発生装置と、
当該変調信号発生装置からの当該変調信号に従い、当該データ変調器から入力する光パルスの光位相を変調する位相変調器
とからなり、当該光パルスが1ビット期間の中央に位置する場合に、当該位相変調器における当該1ビット期間に対する当該変調信号の位相差が、π/4から3π/4の範囲及び−π/4から−3π/4の範囲に入る
請求光1に記載の光信号生成装置。 - 当該光位相変調器における当該1ビット期間に対する当該変調信号の位相差が、実質的に、π/2及び−π/2の何れかである請求項2に記載の光信号生成装置。
- 当該光フィルタが、当該光位相変調器の出力光から、キャリア及び当該サイドバンドの通過する光バンドパスフィルタである請求項1に記載の光信号生成装置。
- 光キャリア波を送信データに従い変調してデータ変調光を生成し、
当該データ変調光の位相を変調することにより一方のサイドバンドを強調し、当該サイドバンドより外側の高調波成分を除去する
ことからなることを特徴とする光信号生成方法。
【請求光6】当該サイドバンドより外側の高調波成分を除去するステップが、位相変調された信号光からキャリア及び当該サイドバンドを抽出するステップからなる請求項1に記載の光信号生成方法。
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