JP2003531098A - アリールホスフィンの調製 - Google Patents

アリールホスフィンの調製

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JP2003531098A
JP2003531098A JP2000557259A JP2000557259A JP2003531098A JP 2003531098 A JP2003531098 A JP 2003531098A JP 2000557259 A JP2000557259 A JP 2000557259A JP 2000557259 A JP2000557259 A JP 2000557259A JP 2003531098 A JP2003531098 A JP 2003531098A
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aryl
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catalyst
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スティーブン・ベネディクト・デイビッド・ウィンター
イアン・キャンベル・レノン
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Chirotech Technology Ltd
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Chirotech Technology Ltd
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    • C07—ORGANIC CHEMISTRY
    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
    • C07F9/02—Phosphorus compounds
    • C07F9/28—Phosphorus compounds with one or more P—C bonds
    • C07F9/50—Organo-phosphines
    • C07F9/505—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation
    • C07F9/5063—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation from compounds having the structure P-H or P-Heteroatom, in which one or more of such bonds are converted into P-C bonds
    • C07F9/5072—Preparation; Separation; Purification; Stabilisation from compounds having the structure P-H or P-Heteroatom, in which one or more of such bonds are converted into P-C bonds from starting materials having the structure P-H
    • C—CHEMISTRY; METALLURGY
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    • C07F—ACYCLIC, CARBOCYCLIC OR HETEROCYCLIC COMPOUNDS CONTAINING ELEMENTS OTHER THAN CARBON, HYDROGEN, HALOGEN, OXYGEN, NITROGEN, SULFUR, SELENIUM OR TELLURIUM
    • C07F9/00—Compounds containing elements of Groups 5 or 15 of the Periodic System
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    • C07F9/50—Organo-phosphines
    • C07F9/5022—Aromatic phosphines (P-C aromatic linkage)

Abstract

(57)【要約】 式Ｒ1ＯＣ-Ａｒ-ＰＲ2Ｒ3(式中、Ａｒはアリールまたはヘテロアリールであり、Ｒ1はアルコキシ基またはアミン基であり、および、Ｒ2およびＲ3はそれぞれいずれかの有機基であり、および、各基のそれぞれは任意にいずれかの非干渉基で置換されてもよい)のアリールホスフィンの調製法は、式Ｒ1ＯＣ-Ａｒ-ＯＳＯ2Ｒ4(式中、Ｒ4はアルキル、ハロアルキル、ペルハロアルキル、アリール、アラルキルまたはアルカリルである)のスルホニルオキシ化合物の、式ＨＰＲ2Ｒ3の第一ホスフィンとの、溶媒中パラジウム触媒と塩基の存在下での反応から成る。アリールホスフィンは次いでキラルなホスフィンリガンドに容易に変換することができる。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、アリールホスフィン、特に不斉アリル基置換触媒のリガンドプレカ
ーサーまたはリガンドとして有用なアリールホスフィンの大規模調製に適した方
法に関する。
【０００２】 (発明の背景) (１)および(２)
【化４】 のようなキラルホスフィンリガンドおよびその反対のエナンチオマーが、パラジ
ウム(Ｏ)触媒不斉アリル基置換反応に有効であることは既に示されている。概説
としては、Trost and Van Vranken, Chem Rev. (1996) 96:395を参照されたい。
US-A-5739396も参照されたい。 そのような触媒は、工業上に適用するのに、特にフサリミドビニルグリシノー
ルのようなキラルな薬剤中間体を高いエナンチオマー純度で供給するのにとりわ
け適している。この目的のために、および、風味および芳香精薬品のような他の
工業適用において、製造法の発達により、今度は大量の、例えばキログラム量ま
たはそれ以上の(１)または(２)のようなリガンドが必要とされている。つまり、
そのようなリガンドの合成のための有効かつ計測可能な方法が必要とされている
。
【０００３】 これらのリガンドの合成における重要な中間体は、２-ジフェニルホスフィノ-
１-ナフトエ酸およびその誘導体である。アリールトリフラートからのアリール
ホスフィンの合成に関してはいくつかの方法が文献中に開示されている。 例えば、WO-A-9312260およびUS-A-5739396は、トリメチルシリルジフェニルホ
スフィン、アリールヨーダイドおよびビス(ベンゾニトリル)パラジウムジクロラ
イドのトルエン中、還流下での反応を開示する。トリメチルシリルジフェニルホ
スフィンは高価で、容易には入手できない。この方法では並の収率(６０％)しか
得られず、生成物の精製のためのシリカクロマトグラフィーを必要とする。ビス
(ベンゾニトリル)パラジウムジクロライドも高価で、高触媒ローディングを使用
する(５ｍｏｌ％)。
【０００４】 もう一つの公知の方法は、アリールトリフラートのクロロジフェニルホスフィ
ン、還元剤(亜鉛)およびニッケル触媒のＤＭＦ中、１００℃での反応から成る。
Ager et al, Chem. Commun. (1997)2359を参照されたい。この方法は概して高い
触媒ローディング(４-１０ｍｏｌ％)を必要とし、還流にて長期加熱を必要とし
得る。ニッケル触媒はかなり毒性が高く、技師の安全に対する考慮および残存物
処理、シリカ栓を通したろ過が、触媒を除去するために概して必要とされる。 Cai et al, J. Org. Chem. (1994) 59:7180-1およびUS-5399771は、適当なア
リールトリフラートをジフェニルホスフィンと共に用いるＢＩＮＡＰの調製を開
示する。好ましい触媒は全く反応を生じないニッケル、パラジウム触媒である。
Cai et alはＤＭＦが唯一の十分な溶媒であると報告している。キレートホスフ
ィンも存在した。
【０００５】 Gilbertson et al, J. Org. Chem. (1996) 61:2922-3は、アリールトリフラー
ト、特にチロシン誘導体の対応するアリールジフェニルホスフィンヘの、ジフェ
ニルホスフィンを用いた反応によるパラジウム触媒変換を開示する。溶媒はＤＭ
ＳＯである。パラジウムを用いても、ＤＭＦ中では反応はおこらないことが報告
されている。「補足物質」には、５ｍｏｌ％の触媒Ｐｄ(ＯＡＣ)2および１,４-
ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン、すなわちキレートホスフィンそれぞれを用
いることが示されている。純粋なアリールジフェニルホスフィン生成物の単離に
は、対応する硫化ホスフィンへの変換、カラムクロマトグラフィーおよびラネー
ニッケルを用いた脱硫が必要である。 ジフェニルホスフィン、塩基、パラジウム触媒およびアリールヨーダイド(ま
たはブロマイド)の反応も、対応するトリアリールホスフィンを生じる。Werd et
al, J. Organomet. Chem. (1996), 522:69を参照されたい。しかし、リガンド(
１)または(２)の合成に関しては、２-ヨード-または２-ブロモ-１-ナフトエ酸誘
導体は容易には入手できない。
【０００６】 (発明の概要) 本発明は、アリールホスフィンを調製するための既存のものに代わる発見であ
って、先行技術の限界を克服する発見に基く。詳細には、アリールスルホニルオ
キシ化合物が、ジフェニルホスフィンとパラジウム触媒を用いた交差カップリン
グ反応に、ホスフィンの有効で、大規模化可能で経済的な合成の進行を害する多
くの制限を伴わずに関係することができることが発見された。本発明は、親フェ
ノールからホスフィン(ＨＰＲ2Ｒ3)を用いて容易に調製されるスルホニルオキシ
誘導体、塩基およびパラジウム触媒の、次の反応における使用に関する。： Ｒ1ＯＣ-Ａｒ-ＯＳＯ2Ｒ4→Ｒ1ＯＣ-Ａｒ-ＰＲ2Ｒ3
【０００７】 Ｒ1基はアルコキシ基またはアミノ基であってもよい。Ｒ2およびＲ3は例えば
アリールまたはアルキルを含むいずれかの炭化水素基である。Ｒ4はハロゲン置
換を有するものを含むアリールまたはアルキル基であってもよい。 各Ｒ基のそれぞれは、任意に１またはそれ以上の非干渉基で置換されてもよい
。そのような基はそれぞれ、例えば２０までの炭素原子から成る基であってもよ
い。 本発明の一つの利点は、キレートホスフィンが必要とされないことである。も
う一つの利点は、溶媒が重要ではなく、それゆえ、トルエンおよびアセトニトリ
ルのような一般の扱い易い有機溶媒を使用することができるということである。
理論により拘束されることを望むものではないが、これらの２つの要因は関連し
ている可能性がある。
【０００８】 本発明のさらなる利点は、触媒添加量が特に高い必要がないことである。例え
ば、それは概して１％未満であり、しばしば０．５％(スルホネートに関してｍ
ｏｌ％)未満である。特にホスフィンとスルホニルオキシ化合物の１対１の化学
量を用いてもよく、例えば０．４ｍｏｌ％の低い触媒添加量を用いて、生成物の
精製は比較的簡単である。 概して、本発明は、アリールホスフィンが経済的に大規模で製造されるのを可
能にする。再現可能な質の物質を高い収率で製造することができる。
【０００９】 (発明の記載) Ａｒは、Ｎ、ＯまたはＳのようなヘテロ原子を有する、または有しないいずれ
かの芳香族環核、単環または多環を表してもよい。環核上のＣＯＲ1およびＰＲ2 Ｒ3基の置換の各場所は重要であるとは考えられないが、それらは概して、任意
に他で置換されてもよく、および／またはもう一つの環または環系に縮合するベ
ンゼン環上で１,２、１，３または１，４‐関係にある。つまり、例えば、本発
明における使用のための出発物質は式：
【化５】 (式中、Ｒはいずれかの非干渉置換基であり、および／または縮合環を表す)を有
していてもよい。 Ａｒは最も好ましくはナフチルである。Ｒ1は好ましくはアルコキシであり、
より好ましくはメトキシである。 本発明の好ましい態様は、２-ジフェニルホスフィノ-１-ナフトエ酸およびそ
の誘導体、例えばＲ2およびＲ3が共にフェニルであり、Ｒ1ＯＣ-Ａｒが１-カル
ボアルコキシ-２-ナフチルである化合物の調製法である。実施例１に示す反応を
参照されたい。 本発明の好ましい触媒は、パラジウム(ＩＩ)塩、より好ましくは酢酸パラジウ
ム(ＩＩ)である。好ましい塩基は第三アミン、より好ましくはトリエチルアミン
である。Ｒ4に関して好ましい基は、トリフルオロメチルおよびペルフルオロ-１
-ブチルを含むペルフルオロアルキル基である。 典型的には、試薬は一緒に、還流にて、適当な溶媒、例えばトルエンまたはア
セトニトリル中で、例えばおよそ１６時間加熱する。溶媒はＤＭＳＯよりも揮発
性がより小さいもの、例えば１２５℃未満で沸騰するものであってもよい。反応
の進行はＴＬＣにより、または、1ＨＮＭＲまたは31ＰＮＭＲによる分析のため
にアリコートをとることにより測定することができる。 次の実施例により本発明を説明する。調製法は出発物質を説明する。
【００１０】調製法１ メチル２-ヒドロキシ-１-ナフトエート ジシクロヘキシルカルボジイミド(１．２０Ｋｇ、５．８ｍｏｌ、１．１ｅｑ)
を、冷却して機械的に攪拌した２-ヒドロキシ-１-ナフトエ酸(１．００Ｋｇ、５
．３ｍｏｌ)のメタノール溶液(３Ｌ)のスラリーに窒素下で４．５時間かけて滴
下した。添加中、内部の温度は１０から１５℃の間に保った。添加終了後は混合
物を室温まで暖め、１６時間攪拌した。メタノールを減圧下で除去し、残存物を
酢酸エチル(５Ｌ)中で集め、攪拌しながら６４℃(内部の温度)まで加熱し、次い
で再び室温まで冷却した。混合物をろ過し、個体を酢酸エチル(０．７Ｌ)で洗浄
した。酢酸エチル溶液を合わせ、減圧下で濃縮した。残存物(２．５Ｋｇ)をエタ
ノール-水(９：１、３．３Ｌ)から再結晶化し、真空下、室温にて乾燥させた。 収量０．９２Ｋｇ、８５％。
【００１１】調製法２ メチル２-トリフルオロメタンスルホニルオキシ-１-ナフトエート トリフルオロメタンスルホン酸無水物(４９２ｇ、１．７４ｍｏｌ、１．１ｅ
ｑ)のジクロロメタン溶液(０．５Ｌ)を、-７０から-５０℃の内部温度に維持し
たメチル２-ヒドロキシ-１-ナフトエート(３１９ｇ、１．５８ｍｏｌ)とピリジ
ン(３３０ｍｌ、４．０８ｍｏｌ、２．６ｅｑ)のジクロロメタン懸濁液(１．７
Ｌ)に、窒素下で１．５時間かけて添加した。添加終了後、混合物を室温まで暖
め、１６時間攪拌し、その後、全固体を溶解した。メチルｔ-ブチルエーテル(Ｍ
ＴＢＥ、２．５Ｌ)を添加し、沈殿を得た。固体をろ過により除去し、ＭＴＢＥ(
０．５Ｌ)で洗浄した。ＭＴＢＥ溶液を合わせ、２ＮのＨＣｌ水溶液(０．３Ｌ次
いで０．２Ｌ)、水(２×２．５Ｌ)および塩水(２Ｌ)で洗浄した。有機層を乾燥
させ(ＭｇＳＯ4)、ろ過し、減圧下で濃縮した。残存物をトルエン(２．５Ｌ)中
に溶解し、１ＮのＮａＯＨ水溶液(０．５Ｌ)、水(２．５Ｌ)および塩水(１Ｌ)で
洗浄した。トルエン溶液を乾燥させ(ＭｇＳＯ4)、ろ過し、減圧下で濃縮した。
最初、わずかに褐色のオイルである生成物を静置して結晶化した。 収量４３８．５ｇ、８３％
【００１２】調製法３ メチル２-トリフルオロメタンスルホニルオキシサリチレート トリフルオロメタンスルホン酸無水物(２８．４ｍＬ、１６９ｍｍｏｌ、１．
１ｅｑ)を、約-４０℃の内部温度に維持したメチルサリチレート(２０ｍＬ、１
５４ｍｍｏｌ)およびピリジン(３１ｍＬ、３８５ｍｍｏｌ、２．５ｅｑ)のジク
ロロメタン溶液(１５０ｍＬ)に窒素下で添加した。添加終了後、混合物を室温ま
で暖め、１６時間攪拌した。トルエン(１５０ｍＬ)を添加し、沈殿を得た。固体
をろ過により除去し、トルエン(２０ｍＬ)で洗浄した。有機溶液を合わせ、２Ｎ
のＨＣｌ水溶液(２×５０ｍＬ)、水(１００ｍＬ)、飽和炭酸ナトリウム水溶液(
１００ｍＬ)および塩水(１００ｍＬ)で洗浄した。有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ4)
、ろ過し、減圧下で濃縮した。 収率４１，９３ｇ、９６％。
【００１３】調製法４ メチル２-(ペルフルオロ-１-ブタンスルホニルオキシ)-１-ナフトエ
ート ペルフルオロ-１-ブタンスルホニルフルオライド(１９ｍＬ、１０６ｍｍｏｌ
、１ｅｑ)を、約０℃の内部温度に維持したメチル２-ヒドロキシ-１-ナフトエー
ト(２１．２５ｇ、１０５ｍｍｏｌ、１ｅｑ)およびトリエチルアミン(１５ｍＬ
、１０８ｍｍｏｌ、１ｅｑ)のテトラヒドロフラン溶液(１５０ｍＬ)に窒素下で
添加した。添加終了後、混合物を室温まで暖め、６４時間攪拌した。トルエン(
１５０ｍＬ)を添加し、いくらかの沈殿を得た。固体をセライトを通したろ過に
より除去し、トルエン(２０ｍＬ)で洗浄した。有機溶液を合わせ、２ＮのＨＣｌ
水溶液(２×５０ｍＬ)、水(１００ｍＬ)、飽和炭酸ナトリウム水溶液(１００ｍ
Ｌ)および塩水(１００ｍＬ)で洗浄した。有機層を乾燥させ(ＭｇＳＯ4)、ろ過し
、減圧下で濃縮した。 収量４８．７９ｇ、９５％。
【００１４】実施例１ メチル２-ジフェニルホスフィノ-１-ナフトエート
【化６】 メチル２-トリフルオロメタンスルホニルオキシ-１-ナフトエート(５２．７ｇ
、１５８ｍｍｏｌ、１ｅｑ)、トリエチルアミン(２６．５ｍｌ、１９０ｍｍｏｌ
、１．２ｅｑ)および酢酸パラジウム(０．１５ｇ、０．７ｍｍｏｌ、０．００４
ｅｑ)のアセトニトリル攪拌溶液(６００ｍｌ)を窒素を用いて３０分間スパージ(
sparge)した。ジフェニルホスフィン(２９．４ｇ、１５８ｍｍｏｌ、１ｅｑ)を
添加し、即座に赤色の着色を見た。溶液を還流にて窒素下、１７時間加熱した。
血赤色の溶液を冷却し、減圧下でその初期体積の約半分まで濃縮した。メタノー
ル(５０ｍｌ)を添加し、混合物をさらにもう少し、減圧下で濃縮した。生成物を
この混合物から結晶化し、ろ過により集め、氷冷メタノール(２００ｍｌ)で洗浄
し、真空下、室温にて乾燥させた。31ＰＮＭＲ(１６２ｍＨｚ；ＣＤＣｌ3)：δ-
７．８。 収量５４．１ｇ、９２％。 生成物は公知の方法により、リガンド(１)または(２)またはその反対のエナン
チオマーに変換することができる。
【００１５】実施例２ メチル２-(ペルフルオロ-１-ブタンスルホニルオキシ)-１-ナフトエ
ートからのメチル２-ジフェニルホスフィノ-１-ナフトエート ジフェニルホスフィン(０．５１ｍＬｇ、２．９３ｍｍｏｌ、１ｅｑ)をメチル
２-ペルフルオロ-１-ブタンスルホニルオキシ-１-ナルトエート(１．４３１ｇ、
２．９５ｍｍｏｌ、１ｅｑ)、トリエチルアミン(０．４５ｍＬ、３．２３ｍｍｏ
ｌ、１．１ｅｑ)および酢酸パラジウム(０．００５ｇ、０．０２ｍｍｏｌ、０．
００７ｅｑ)の脱気アセトニトリル攪拌溶液(１０ｍＬ)に添加し、即座に赤色の
着色を見た。溶液を還流にて窒素下１７時間加熱した。血赤色の溶液を冷却し、
ＮＭＲ分析のためにアリコートをとった。31 ＰＮＭＲはジフェニルホスフィンの完全な消尽と、実質上一つの生成物、実施
例１に開示したものと同一の所望のトリアリルホスフィンの形成を示した。
【００１６】実施例３ メチル２-ジフェニルホスフィノ-１-ナフトエート(溶媒としてトルエ
ン) ジフェニルホスフィン(０．７２ｍＬ、４．１４ｍｍｏｌ、１ｅｑ)を、メチル
２-トリフルオロメタンスルホニルオキシ-１-ナフトエート(１．３８９ｇ、４.
１６ｍｍｏｌ、１ｅｑ)、トリエチルアミン(０．６４ｍＬ、４．５９ｍｍｏｌ、
１．１ｅｑ)および酢酸パラジウム(０．００５ｇ、０．０２ｍｍｏｌ、０．００
５ｅｑ)の脱気トルエン攪拌溶液(１０ｍＬ)に添加し、即座に赤色の着色を見た
。溶液を還流にて窒素下１７時間加熱した。血赤色の溶液を冷却し、ＮＭＲ分析
のためにアリコートをとった。31 ＰＮＭＲは、ジフェニルホスフィンの完全な消尽と、実質上一つの生成物、実
施例１に開示したものと同一の所望のトリアリルホスフィンの形成を示した。
【００１７】実施例４ メチル２-ジフェニルホスフィノ-１-ナフトエート(溶媒としてＤＭＦ
) ジフェニルホスフィン(０．７２ｍＬ、４．１４ｍｍｏｌ、１ｅｑ)を、メチル
２-トリフルオロメタンスルホニルオキシ-１-ナフトエート(１．３８４ｇ、４．
１４ｍｍｏｌ、１ｅｑ)、トリエチルアミン(０．６４ｍＬ、４．５９ｍｍｏｌ、
１．１ｅｑ)および酢酸パラジウム(０．００５ｇ、０．０２ｍｍｏｌ、０．００
５ｅｑ)の脱気ＤＭＦ攪拌溶液(１０ｍＬ)に添加し、即座に赤色の着色を見た。
溶液を還流にて窒素下１７時間加熱した。血赤色の溶液を冷却し、ＮＭＲ分析の
ためにアリコートをとった。31 ＰＮＭＲは、ジフェニルホスフィンの完全な消尽と、実質上一つの生成物、実
施例１に開示したものと同一の所望のトリアリルホスフィンの形成を示した。
【００１８】実施例５ メチル２-ジフェニルホスフィノ-１-ナフトエート(溶媒としてＤＭＳ
Ｏ) ジフェニルホスフィン(０．７２ｍＬ、４．１４ｍｍｏｌ、１ｅｑ)を、メチル
２-トリフルオロメタンスルホニルオキシ-１-ナフトエート(１．３７３ｇ、４．
１１ｍｍｏｌ、１ｅｑ)、トリエチルアミン(０．６４ｍＬ、４．５９ｍｍｏｌ、
１．１ｅｑ)および酢酸パラジウム(０．００５ｇ、０．０２ｍｍｏｌ、０．００
５ｅｑ)の脱気ＤＭＳＯ攪拌溶液(１０ｍＬ)に添加し、即座に赤色の着色を見た
。溶液を還流にて窒素下１７時間加熱した。血赤色の溶液を冷却し、ＮＭＲ分析
のためにアリコートをとった。31 ＰＮＭＲは、ジフェニルホスフィンの完全な消尽と、主要生成物として所望の
トリアリールホスフィンおよび、トリアリールホスフィンの酸化物と一致するケ
ミカルシフト、δ(１６２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3)+３１．２を有する第二生成物(混
合物の約２５％)の形成を示した。
【００１９】実施例６ メチル２-ジフェニルホスフィノ-１-ナフトエート(溶媒としてアセト
ニトリル、１，４−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン添加剤を用いる) ジフェニルホスフィン(０．５５ｍＬ、３．１６ｍｍｏｌ、１ｅｑ)を、メチル
２-トリフルオロメタンスルホニルオキシ-１-ナフトエート(１．０４７ｇ、３．
１３ｍｍｏｌ、１ｅｑ)、トリエチルアミン(０．５ｍＬ、３．５９ｍｍｏｌ、１
．１ｅｑ)、１，４−ビス(ジフェニルホスフィノ)ブタン(ｄｐｐｂ)(０．０３ｇ
、０．０７ｍｍｏｌ、０．０２ｅｑ)および酢酸パラジウム(０．００５ｇ、０．
０２ｍｍｏｌ、０．００６ｅｑ)の脱気ＭｅＣＮ攪拌溶液(１０ｍＬ)に添加し、
即座に赤色の着色を見た。溶液を還流にて窒素下１７時間加熱した。血赤色の溶
液を冷却し、ＮＭＲ分析のためにアリコートをとった。31 ＰＮＭＲは、ジフェニルホスフィンの完全な消尽と、主要生成物として所望の
トリアリールホスフィンおよび、トリアリールホスフィンの酸化物と一致するケ
ミカルシフト、δ(１６２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3)+３１．２を有する第二生成物(混
合物の約３２％)の形成を示した。
【００２０】実施例７ メチル２-ジフェニルホスフィノベンゾエート ジフェニルホスフィン(０．９４ｍＬ、５．４０ｍｍｏｌ、１ｅｑ)を、メチル
２-トリフルオロメタンスルホニルオキシベンゾエート(１．５３１ｇ、５．３９
ｍｍｏｌ、１ｅｑ)、トリエチルアミン(０．８５ｍＬ、６．１ｍｍｏｌ、１．１
ｅｑ)および酢酸パラジウム(０．００５ｇ、０．０２ｍｍｏｌ、０．００４ｅｑ
)の脱気ＭｅＣＮ攪拌溶液(１０ｍＬ)に添加し、即座に赤色の着色を見た。溶液
を還流にて窒素下１７時間加熱した。血赤色の溶液を冷却し、ＮＭＲ分析のため
にアリコートをとった。31 ＰＮＭＲは、ジフェニルホスフィンの完全な消尽と、実質上一つの生成物、所
望のトリアリールホスフィンの形成を示した。δ(１６２ＭＨｚ、ＣＤＣｌ3)-３
．３。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＵＧ，ＺＷ)，Ｅ Ａ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＵ， ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，Ｇ Ｅ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ， ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，Ｍ Ｎ，ＭＷ，ＭＸ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ， ＴＲ，ＴＴ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，Ｚ Ａ，ＺＷ (72)発明者 イアン・キャンベル・レノン イギリス、シービー４・０ダブリュージ ー、ケンブリッジ、ミルトン・ロード、ケ ンブリッジ・サイエンス・パーク、カイロ テック・テクノロジー・リミテッド Ｆターム(参考） 4G069 AA06 BA21A BA21B BA47A BC72A BC72B BE08A BE08B BE14A BE14B CB01 CB25 4H039 CA41 CA90 CD10 CD40 4H050 AA02 AD11 BA17 BA32 BA51 BB11 BB21 BB24 BB49 WA12 WA26

Claims (25)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式： Ｒ1ＯＣ-Ａｒ-ＰＲ2Ｒ3 (式中、Ａｒはアリールまたはヘテロアリールであり、Ｒ1はアルコキシ基または
    アミン基であり、およびＲ2およびＲ3はそれぞれいずれかの有機基であり、およ
    び各基のそれぞれは任意にいずれかの非干渉基で置換されてもよい)のアリール
    ホスフィンの調製法であって、式： Ｒ1ＯＣ-Ａｒ-ＯＳＯ2Ｒ4 (式中、Ｒ4はアルキル、ハロアルキル、ペルハロアルキル、アリール、アラルキ
    ルまたはアルカリルである)のスルホニルオキシ化合物の式ＨＰＲ2Ｒ3の第二ま
    たは第一ホスフィンとの溶媒中、パラジウム触媒および塩基の存在下での反応か
    ら成る調製法。
  2. 【請求項２】 触媒がパラジウム(ＩＩ)塩である請求項１記載の方法。
  3. 【請求項３】 触媒が酢酸パラジウム(ＩＩ)である請求項２記載の方法。
  4. 【請求項４】 塩基が第三アミンである前記請求項いずれか一項に記載の方
    法。
  5. 【請求項５】 塩基がトリエチルアミンである請求項４記載の方法。
  6. 【請求項６】 Ｒ2およびＲ3がそれぞれアリールまたはアルキルである前記
    請求項いずれか一項に記載の方法。
  7. 【請求項７】 Ｒ2およびＲ3がそれぞれ任意に置換されるフェニルである請
    求項６記載の方法。
  8. 【請求項８】 ＡｒがＣＯＲ1とＯＳＯ2Ｒ4基を１,２-関係で有する前記請
    求項いずれか一項に記載の方法。
  9. 【請求項９】 スルホニルオキシ化合物が式： 【化１】 (式中、Ｒはいずれかの非干渉置換基であり、および／または縮合環を表す)を有
    する前記請求項いずれか一項に記載の方法。
  10. 【請求項１０】 Ａｒがナフチルである請求項８または請求項９記載の方法
    。
  11. 【請求項１１】 Ｒ1がアルコキシ、例えばメトキシである前記請求項いず
    れか一項に記載の方法。
  12. 【請求項１２】 アリールホスフィンが式： 【化２】 を有する請求項８記載の方法。
  13. 【請求項１３】 Ｒ4がペルフルオロアルキルである前記請求項いずれか一
    項に記載の方法。
  14. 【請求項１４】 Ｒ4がトリフルオロメチルである請求項１３記載の方法。
  15. 【請求項１５】 Ｒ4がペルフルオロ-1-ブチルである請求項１３記載の方法
    。
  16. 【請求項１６】 溶媒が１２５℃未満の沸点を有する前記請求項いずれか一
    項に記載の方法。
  17. 【請求項１７】 減圧下での溶媒の除去によりアリールホスフィンを濃縮す
    ることをさらに含む請求項１６記載の方法。
  18. 【請求項１８】 溶媒が芳香族炭化水素である請求項１６または請求項１７
    記載の方法。
  19. 【請求項１９】 溶媒がトルエンである請求項１８記載の方法。
  20. 【請求項２０】 溶媒がアセトニトリルである請求項１６または請求項１７
    記載の方法。
  21. 【請求項２１】 反応混合物がキレートホスフィンを実質上含まない前記請
    求項いずれか一項に記載の方法。
  22. 【請求項２２】 触媒添加量が１％未満である前記請求項いずれか一項に記
    載の方法。
  23. 【請求項２３】 触媒添加量が０．５％未満である請求項２２記載の方法。
  24. 【請求項２４】 アリールホスフィンをキラルホスフィンリガンドに変換す
    るさらなるステップを含む前記請求項いずれか一項に記載の方法。
  25. 【請求項２５】 キラルホスフィンリガンドがエナンチオマーに富む式(１)
    または(２)の化合物： 【化３】 またはその反対のエナンチオマーである請求項２４記載の方法。
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