JP2003518650A - マイクロミラー - Google Patents
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Abstract
Description
動ミラーに関する。
特許明細書DE19857946.2に提案されている。ここでは十分に自由に
支持されたミラー面と周囲の支持体とが接続されており、この接続は、対になっ
て互いに向き合う2つまたは場合によっては4つのばねウェブまたはトーション
ビームによって行われる。
公知である。ここでも同様に十分に自由に支持されたダイアフラムが、互いに向
き合う2つのトーションビームを介して周囲の支持体に接続されている。ミラー
面の下側には導体ループまたは巻線の形態の導体路が設けられていおり、これら
を通して電流を流すことができ、これによって外部の磁界を加えれば、回転モー
メントがミラー面に作用する。
いミラー設計を開発することである。ここでこの高い機械的負荷容量をつぎのよ
うにして達成する。すなわちミラー面を支持体に接続するトーションビームまた
はばねウェブを、ねじれおよび振動に対して強くないしは負荷容量を大きく構成
することによって高い機械的負荷容量を達成するのである。
に対する高い安定性を有するという利点を有し、同時にミラー面を静止位置から
変位させるないしは励振してねじれ振動を発生させるために比較的低い電圧しか
必要としない。
知のマイクロミラーの場合に比して、ミラー面を変位させるために全体としてよ
り大きな駆動力が必要であり、これは上記の高い安定性に結びつく。
でガイドされるトーションビームを介してミラー面と支持体とを接続することよ
り、同程度の曲げ強さであれば、これらの平行なトーションビームとその間にあ
る中間空間との合計の幅を有する単一のトーションビームに比して、低減された
ねじり剛性が得られる。これによって全体的なミラー設計の安定性を高めると同
時にミラー面のより大きな変位角が可能になる。
平行に並んでガイドされた2つのトーションビームによりそれぞれ支持体に接続
する場合である。これにより各トーションビームの表面に導体路を被着すること
ができ、ここでこの導体路はトーションビームの全面積を占めることができ、こ
れにより導体路が互いに絶縁されるのと同時に、トーションビームの幅が最適に
利用される。これによって殊に有利にも、トーションビームの表面に設けられた
導体路を介して、例えば10mA〜1Aの殊に大きな電流を流すことができる。
とができる。それは導体路相互の電気的な絶縁という問題が生じないからである
。
て高い電流負荷容量が得られ、これは磁気駆動器の場合に高い磁力ないしは回転
モーメントに結びつく。したがって本発明によるマイクロミラーの設計によって
比較的に大きな力が形成されることに起因して、有利にもトーションビームのよ
り頑強な設計を選択することができる。
の間にある中間空間とを合計した全体的な幅は、従来技術から公知の相応する単
一のトーションビームの幅よりも大きい。
合計の幅を有する単一のトーションビームのねじり剛性よりも低いねじり剛性が
得られ有利である。
ミラーに有利に転用することもできる。
ンタクト面と、ミラー面の表面でガイドされる導体路とを、表面メタライゼーシ
ョンのそれ自体公知の方法によって簡単に形成することができ有利である。
ことができる。
を有することによってつぎのような利点が得られる。すなわちこれらのループを
同時にミラー面に対するストッパとして使用することができ、ひいてはこれらと
、殊にトーションビームとを衝突および一時的な過負荷から保護することできる
ことである。ここで上記のループにより、ミラー面の表面でガイドされる導体路
によって包囲される、外部の磁界の磁束が格段に増大する。このために有利には
ミラー面が過剰にねじれた際、これらのループが上部ないしは下部のケーシング
面または支持体に当接して、トーションビームの折れが阻止されるようにする。
ミラーを静的に変位させたい場合、およびできる限り小さなエアーダンパーを達
成するためにミラー面と周囲の支持体との間に空隙を設ける場合である。
れるという利点を有し、ここでは同時にマイクロミラーの改善された安定性と、
作製の際の高い歩留まりとが得られる。それは形成されるマイクロ構造体が全体
的に比較的頑強だからである。この他に本発明のマイクロミラーは完全にそれ自
体公知の作製手法によって作製することができ、このため加工の際に新たな方法
ステップおよび作製技術は不要である。
は、磁気駆動器を有する第2実施形態を示しており、図3は、磁気駆動器を有す
るマイクロミラーの第3実施形態を示している。
る。
のように図示のマイクロミラー5が加工構造化される。典型的には100μm×
100μm〜400μm×400μmのサイズを有する矩形のミラー面10が設
けられ、これらのミラー面の互いに向き合う2つの面には、離隔して平行に並ん
でガイドされた2つずつのトーションビーム13,13′が設けられている。ば
ねウェブとして作用するトーションビーム13,13′によって、ミラー面10
と、このミラー面を例えば側方において、かつ下方の領域において包囲する支持
体11,12とが接続され、これによってミラー面10は十分に自由に支持され
る。また支持体11,12は例えばシリコンウェーハである。
m〜10μmの高さと、5μm〜15μmの幅とを有している。さらにこれらは
2μm〜5μmの間隔で互いに平行に配置されており、これによってこの間隔に
相応する中間空間が、トーションビーム13,13′の間に生じる。
に公知のように電極18が被着されている。さらにこのミラー面には少なくとも
一部に、例えば下側にメタライゼーション部を有しており、これらはトーション
ビーム13,13′によってガイドされる導体路を介して外部の電圧供給部に接
続されている。
静電気力をミラー面10と電極18との間に作用させることができ、トーション
ビーム13,13′によって定められる軸に平行なねじれ軸17の周りでミラー
面10が変位する。
な制御および端子接続についてのさらなる詳細は省略する。それはこれらの詳細
は当業者には公知だからである。
の代わりに磁気駆動器が使用されている。このためにミラー面10の表面の少な
くとも一方の側に導体路15,15′が設けられている。これらの導体路は有利
にはミラー面の外側の周縁部をガイドされ、これによってこれらの導体路により
、できる限り大きな面積がミラー面10において取り囲まれるようにする。導体
路15,15′は、例えば公知のように表面メタライゼーション、例えば金から
なる表面メタライゼーションを部分的に被着することによって形成される。図2
の導体路15,15′ができる限り大きな電流に耐られるようにするため、さら
に有利であるのは、導体路15,15′できる限り厚くかつ平らに構成すること
である。
ビーム13ないしは13′を介して電気的なコンタクト面14,14′にガイド
される。これらは例えば公知のように支持体11,12に被着されている。ここ
で各導体路15,15′は、それらにそれぞれ対応付けられたトーションビーム
13ないしは13′の全面積を占める。
の間に設けられている中間空間によって保証される。
mに達することも可能である。その幅は有利には5μm〜50μmである。その
他に導体路15,15′は有利には金からなる。
のマイクロミラー5が外部の磁界内にあることである。
合う2つのコンタクト面14,14′に印加することにより、また反対側の残り
の2つのコンタクト面14,14′を用いて電流路を閉じることにより、例えば
10mA〜500mAの電流Iが導体路15,15′を流れ、これによって、説
明した導体路15,15′の配置構成により、ミラー面10のサイズによって定
められる面積Aを取り囲む閉じられた導体ループが形成される。
ミラー面10に作用し、ここではつぎが成り立つ。すなわち
ープによって取り囲まれた面積Aに比例するこの回転モーメントTは、ねじり軸
17の周りのミラー面10の旋回ないしはねじれを発生させる。これにより、加
えられる電流Iおよび/または外部の磁界Hを適切に、例えば周期的に変化させ
ることによって簡単にミラー面10のねじり振動を励振することができる。
である。
り大きな回転モーメントを達成するために、説明した実施例において有利である
のは、導体路15,15′をミラー面10の表面の少なくとも一方の側に案内し
て、外部の磁界Hのできる限り多くの磁束が、導体路15,15′によって取り
囲まれるようにすることである。
例は、図2とつぎの点だけが異なる。すなわちミラー面10は、支持体11,1
2からの相応する有利な加工構造化によって、側方のループ16,16′を有す
る点だけが図2と異なるのである。ループ16,16′は有利には対称に配置さ
れており、導体路15,15′によって取り囲まれる面積が増すことによって、
取り囲まれる磁束を増大させるないしは回転モーメントを増大させるためにもっ
ぱら使用される。
m〜500μmの全幅とを有している。その厚さはミラー面10の厚さに等しい
。ループ16,16′はさらにトーションビーム13,13′と類似に形成され
ている。すなわちこれらは空間を取り囲む狭いウェブの形状を有しており、ここ
でこのウェブの表面にはそれぞれ対応する導体路15ないしは15′が延在して
おり、これらの導体路によって有利には表面が完全に覆われている。
じた際に発生する導体ループは全体として比較的大きな面積を取り囲み、このた
め電流Iと磁界Hとが同じであれば、格段に大きな回転トルクTを形成すること
ができる。
有し、かつ例えばミラー面10の周囲に配置される永久磁石または電磁石によっ
て形成される。
Claims (14)
- 【請求項1】 少なくとも1つのねじれ軸(17)の周りに静止位置から変
位可能な、少なくとも十分に自由に支持されたミラー面(10)を有するマイク
ロミラー、例えばマイクロ振動ミラーにおいて、 前記ミラー面(10)は、少なくとも近似的に平行に並んでガイドされた少な
くとも2つのトーションビーム(13,13′)を介して、少なくとも1つの支
持体(11,12)に接続されていることを特徴とする、 マイクロミラー。 - 【請求項2】 前記トーションビーム(13,13′)は、離隔して平行に
並んでガイドされている、 請求項1に記載のマイクロミラー。 - 【請求項3】 前記ミラー面(10)は、4つのトーションビーム(13,
13′)を介して前記支持体(11,12)に接続されており、 前記の2つずつのトーションビーム(13,13′)は、離隔して並んで配置
されており、 前記の4つのトーションビーム(13,13′)は共通のねじり軸(17)を
定める、 請求項1または2に記載のマイクロミラー。 - 【請求項4】 前記ミラー面(10)の少なくとも一部は、表面がメタライ
ゼーションされているか、または導体路(15,15′)を有している、 請求項1に記載のマイクロミラー。 - 【請求項5】 前記ミラー面(10)は、少なくとも1つの導体路(15,
15′)を介して電気的に支持体(11,12)に接続されており、 該支持体(11,12)は、例えば少なくとも1つのコンタクト面(14,1
4′)を有する、 請求項1から4までのいずれか1項に記載のマイクロミラー。 - 【請求項6】 前記ねじれ軸(17)の周りのミラー面(10)の変位、例
えば静的なねじれまたはねじれ振動を発生させる手段が設けられている、 請求項1から5までのいずれか1項に記載のマイクロミラー。 - 【請求項7】 前記手段は、ミラー面(10)の周囲に配置された少なくと
も1つの電極(18)であり、 該電極を介して、静電気相互作用によってミラー面(10)が静止位置から変
位させられるか、または励振されてねじれ振動が発生する、 請求項6に記載のマイクロミラー。 - 【請求項8】 ミラー面(10)の表面には部分的に導体路(15,15′
)が設けられており、 該導体路は、トーションビーム(13,13′)を介して導電的に支持体(1
1,12)に、例えば該支持体(11,12)に設けられたコンタクト面(14
,14′)に接続されている、 請求項1から7までのいずれか1項に記載のマイクロミラー。 - 【請求項9】 前記の各導体路(15,15′)は、対応付けられたトーシ
ョンビーム(13,13′)の表面の少なくとも一方の側に平らに延在しており
、かつ例えばトーションビーム(13,13′)の当該表面を少なくとも十分に
覆う、 請求項8に記載のマイクロミラー。 - 【請求項10】 前記導体路(13,13′)は、ミラー面(10)の表面
の少なくとも一方の側に延在しており、これによって外部の磁界(H)のできる
限り多くの磁束が、前記導体路(13,13′)によって取り囲まれる、 請求項1から9までのいずれか1項に記載のマイクロミラー。 - 【請求項11】 前記導体路(13,13′)は、ミラー面(10)の表面
の少なくとも一方の側に延在しており、これによって外部の磁界(H)にて、前
記導体路(13,13′)を通して電流が流れる際に、できる限り大きな回転ト
ルクがミラー面(10)に作用する、 請求項1から10までのいずれか1項に記載のマイクロミラー。 - 【請求項12】 前記導体路(13,13′)は、ミラー面(10)の表面
にて導体ループの形態でガイドされている、 請求項1から11までのいずれか1項に記載のマイクロミラー。 - 【請求項13】 前記ミラー面(10)は、回転モーメントおよび/または
磁束を増大するために少なくとも1つのループ(16,16′)、例えば対称に
形成された2つのループ(16,16′)を有しており、 該ループの表面に導体路(15,15′)が1つずつ延在する、 請求項1から12までのいずれか1項に記載のマイクロミラー。 - 【請求項14】 前記ループ(16,16′)は、できるかぎり少ない重さ
を有しており、同時に外部の磁界(H)のできる限り多くの磁束を取り囲み、お
よび/または電流が導体路(13,13′)を通して導かれる際にはできる限り
大きな回転モーメントをミラー面(10)に作用する、 請求項1から13までのいずれか1項に記載のマイクロミラー。
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Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019534477A (ja) * | 2016-11-07 | 2019-11-28 | ブリックフェルト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 少なくとも2つのファイバを有するファイバ走査器 |
Families Citing this family (56)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
US5910854A (en) | 1993-02-26 | 1999-06-08 | Donnelly Corporation | Electrochromic polymeric solid films, manufacturing electrochromic devices using such solid films, and processes for making such solid films and devices |
US5668663A (en) | 1994-05-05 | 1997-09-16 | Donnelly Corporation | Electrochromic mirrors and devices |
US6891563B2 (en) | 1996-05-22 | 2005-05-10 | Donnelly Corporation | Vehicular vision system |
US6172613B1 (en) | 1998-02-18 | 2001-01-09 | Donnelly Corporation | Rearview mirror assembly incorporating vehicle information display |
US8294975B2 (en) | 1997-08-25 | 2012-10-23 | Donnelly Corporation | Automotive rearview mirror assembly |
US6326613B1 (en) | 1998-01-07 | 2001-12-04 | Donnelly Corporation | Vehicle interior mirror assembly adapted for containing a rain sensor |
US6124886A (en) | 1997-08-25 | 2000-09-26 | Donnelly Corporation | Modular rearview mirror assembly |
US8288711B2 (en) | 1998-01-07 | 2012-10-16 | Donnelly Corporation | Interior rearview mirror system with forwardly-viewing camera and a control |
US6445287B1 (en) | 2000-02-28 | 2002-09-03 | Donnelly Corporation | Tire inflation assistance monitoring system |
US6477464B2 (en) | 2000-03-09 | 2002-11-05 | Donnelly Corporation | Complete mirror-based global-positioning system (GPS) navigation solution |
US6329925B1 (en) | 1999-11-24 | 2001-12-11 | Donnelly Corporation | Rearview mirror assembly with added feature modular display |
US6693517B2 (en) | 2000-04-21 | 2004-02-17 | Donnelly Corporation | Vehicle mirror assembly communicating wirelessly with vehicle accessories and occupants |
US7167796B2 (en) | 2000-03-09 | 2007-01-23 | Donnelly Corporation | Vehicle navigation system for use with a telematics system |
US7370983B2 (en) | 2000-03-02 | 2008-05-13 | Donnelly Corporation | Interior mirror assembly with display |
AU2001243285A1 (en) | 2000-03-02 | 2001-09-12 | Donnelly Corporation | Video mirror systems incorporating an accessory module |
AU2002251807A1 (en) | 2001-01-23 | 2002-08-19 | Donnelly Corporation | Improved vehicular lighting system for a mirror assembly |
US7255451B2 (en) | 2002-09-20 | 2007-08-14 | Donnelly Corporation | Electro-optic mirror cell |
WO2006124682A2 (en) | 2005-05-16 | 2006-11-23 | Donnelly Corporation | Vehicle mirror assembly with indicia at reflective element |
US7581859B2 (en) | 2005-09-14 | 2009-09-01 | Donnelly Corp. | Display device for exterior rearview mirror |
US6918674B2 (en) | 2002-05-03 | 2005-07-19 | Donnelly Corporation | Vehicle rearview mirror system |
EP1514246A4 (en) | 2002-06-06 | 2008-04-16 | Donnelly Corp | COMPASS INTERIOR COURTESY MIRROR SYSTEM |
US7329013B2 (en) | 2002-06-06 | 2008-02-12 | Donnelly Corporation | Interior rearview mirror system with compass |
US7310177B2 (en) | 2002-09-20 | 2007-12-18 | Donnelly Corporation | Electro-optic reflective element assembly |
WO2004026633A2 (en) | 2002-09-20 | 2004-04-01 | Donnelly Corporation | Mirror reflective element assembly |
AU2002335243A1 (en) * | 2002-10-10 | 2004-05-04 | Fujitsu Media Devices Limited | Micro moving element comprising torsion bar |
US7177068B2 (en) | 2002-12-20 | 2007-02-13 | Robert Bosch Gmbh | Apparatus, method and system for providing enhanced mechanical protection for thin beams |
US7014115B2 (en) | 2003-08-25 | 2006-03-21 | Advanced Nano Systems, Inc. | MEMS scanning mirror with distributed hinges and multiple support attachments |
US7446924B2 (en) | 2003-10-02 | 2008-11-04 | Donnelly Corporation | Mirror reflective element assembly including electronic component |
US7308341B2 (en) | 2003-10-14 | 2007-12-11 | Donnelly Corporation | Vehicle communication system |
US7864398B2 (en) | 2004-06-08 | 2011-01-04 | Gentex Corporation | Electro-optical element including metallic films and methods for applying the same |
US7706046B2 (en) * | 2004-06-08 | 2010-04-27 | Gentex Corporation | Rearview mirror element having a circuit mounted to the rear surface of the element |
DE102005033800B4 (de) * | 2005-07-13 | 2016-09-15 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Mikromechanisches optisches Element mit einer reflektierenden Fläche sowie dessen Verwendung |
EP1949666B1 (en) | 2005-11-01 | 2013-07-17 | Magna Mirrors of America, Inc. | Interior rearview mirror with display |
US7643196B2 (en) | 2005-12-16 | 2010-01-05 | The Charles Stark Draper Laboratory, Inc. | Systems, methods and devices for actuating a moveable miniature platform |
US8169681B2 (en) | 2006-03-03 | 2012-05-01 | Gentex Corporation | Thin-film coatings, electro-optic elements and assemblies incorporating these elements |
US8368992B2 (en) * | 2006-03-03 | 2013-02-05 | Gentex Corporation | Electro-optical element including IMI coatings |
US8274729B2 (en) * | 2006-03-03 | 2012-09-25 | Gentex Corporation | Thin-film coatings, electro-optic elements and assemblies incorporating these elements |
EP2426552A1 (en) | 2006-03-03 | 2012-03-07 | Gentex Corporation | Electro-optic elements incorporating improved thin-film coatings |
US7688495B2 (en) * | 2006-03-03 | 2010-03-30 | Gentex Corporation | Thin-film coatings, electro-optic elements and assemblies incorporating these elements |
US7746534B2 (en) * | 2006-12-07 | 2010-06-29 | Gentex Corporation | Thin-film coatings, electro-optic elements and assemblies incorporating these elements |
TWI328139B (en) * | 2007-01-22 | 2010-08-01 | Ind Tech Res Inst | Projector |
US9274394B2 (en) | 2007-03-05 | 2016-03-01 | Gentex Corporation | Multi-zone mirrors |
US10017847B2 (en) | 2007-03-05 | 2018-07-10 | Gentex Corporation | Method and apparatus for ion milling |
US8035881B2 (en) * | 2007-03-05 | 2011-10-11 | Gentex Corporation | Multi-zone mirrors |
US8649083B2 (en) | 2007-03-05 | 2014-02-11 | Gentex Corporation | Multi-zone mirrors |
US8196874B2 (en) * | 2007-10-12 | 2012-06-12 | Maxtec, Llc | Storable intravenous stands |
JP2009229916A (ja) * | 2008-03-24 | 2009-10-08 | Nippon Telegr & Teleph Corp <Ntt> | マイクロミラー素子およびマイクロミラーアレイ |
US8154418B2 (en) | 2008-03-31 | 2012-04-10 | Magna Mirrors Of America, Inc. | Interior rearview mirror system |
DE102008026886B4 (de) | 2008-06-05 | 2016-04-28 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Verfahren zur Strukturierung einer Nutzschicht eines Substrats |
DE102013210059B4 (de) | 2013-05-29 | 2021-07-01 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Vorrichtung mit einer Feder und einem daran aufgehängten optischen Element |
CN105712290B (zh) * | 2014-12-04 | 2017-09-29 | 无锡华润上华半导体有限公司 | Mems静电驱动器的制作方法 |
DE102015216811B4 (de) | 2015-09-02 | 2023-06-29 | Robert Bosch Gmbh | Schwenkvorrichtung für einen Mikrospiegel |
DE102016220514A1 (de) * | 2016-10-19 | 2018-04-19 | Robert Bosch Gmbh | Mikromechanisches Bauteil und Herstellungsverfahren für ein mikromechanisches Bauteil |
DE102016221966A1 (de) | 2016-11-09 | 2018-05-09 | Robert Bosch Gmbh | Verfahren zum Ansteuern einer Aktoreinrichtung und mikromechanische Vorrichtung |
DE102017206252A1 (de) | 2017-04-11 | 2018-10-11 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Mikromechanische Spiegelvorrichtung |
CN116100845A (zh) * | 2023-01-06 | 2023-05-12 | 四川大学 | 一种3d打印扭转梁微型集成扫描微镜的方法 |
Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2275787A (en) * | 1993-03-05 | 1994-09-07 | British Aerospace | Silicon micro-mirror unit |
JPH08186975A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Nippon Signal Co Ltd:The | 電磁アクチュエータ及びその製造方法 |
JPH08248334A (ja) * | 1995-02-25 | 1996-09-27 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 微細ミラーアレイのミラー駆動方法及びその装置 |
EP0754958A2 (en) * | 1995-07-20 | 1997-01-22 | Texas Instruments Incorporated | Improvements in or relating to micro-mechanical devices |
DE19728598A1 (de) * | 1997-07-04 | 1999-02-04 | Bosch Gmbh Robert | Mikromechanische Spiegeleinrichtung |
Family Cites Families (8)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP3003429B2 (ja) * | 1992-10-08 | 2000-01-31 | 富士電機株式会社 | ねじり振動子および光偏向子 |
EP0657760A1 (en) * | 1993-09-15 | 1995-06-14 | Texas Instruments Incorporated | Image simulation and projection system |
US5665997A (en) * | 1994-03-31 | 1997-09-09 | Texas Instruments Incorporated | Grated landing area to eliminate sticking of micro-mechanical devices |
US5670977A (en) * | 1995-02-16 | 1997-09-23 | Texas Instruments Incorporated | Spatial light modulator having single bit-line dual-latch memory cells |
US6046840A (en) * | 1995-06-19 | 2000-04-04 | Reflectivity, Inc. | Double substrate reflective spatial light modulator with self-limiting micro-mechanical elements |
US6072617A (en) * | 1996-11-26 | 2000-06-06 | Texas Instruments Incorporated | Micro mechanical device with memory metal component |
US6201629B1 (en) * | 1997-08-27 | 2001-03-13 | Microoptical Corporation | Torsional micro-mechanical mirror system |
DE19857946C1 (de) | 1998-12-16 | 2000-01-20 | Bosch Gmbh Robert | Mikroschwingspiegel |
-
1999
- 1999-12-28 DE DE19963382A patent/DE19963382A1/de not_active Ceased
-
2000
- 2000-11-22 JP JP2001549121A patent/JP4541627B2/ja not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-22 US US10/169,247 patent/US6749308B1/en not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-22 WO PCT/DE2000/004116 patent/WO2001048527A2/de active IP Right Grant
- 2000-11-22 ES ES00988634T patent/ES2228650T3/es not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-22 DE DE50007817T patent/DE50007817D1/de not_active Expired - Lifetime
- 2000-11-22 EP EP00988634A patent/EP1247131B1/de not_active Expired - Lifetime
Patent Citations (5)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
GB2275787A (en) * | 1993-03-05 | 1994-09-07 | British Aerospace | Silicon micro-mirror unit |
JPH08186975A (ja) * | 1994-12-28 | 1996-07-16 | Nippon Signal Co Ltd:The | 電磁アクチュエータ及びその製造方法 |
JPH08248334A (ja) * | 1995-02-25 | 1996-09-27 | Samsung Electro Mech Co Ltd | 微細ミラーアレイのミラー駆動方法及びその装置 |
EP0754958A2 (en) * | 1995-07-20 | 1997-01-22 | Texas Instruments Incorporated | Improvements in or relating to micro-mechanical devices |
DE19728598A1 (de) * | 1997-07-04 | 1999-02-04 | Bosch Gmbh Robert | Mikromechanische Spiegeleinrichtung |
Cited By (1)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2019534477A (ja) * | 2016-11-07 | 2019-11-28 | ブリックフェルト ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 少なくとも2つのファイバを有するファイバ走査器 |
Also Published As
Publication number | Publication date |
---|---|
ES2228650T3 (es) | 2005-04-16 |
JP4541627B2 (ja) | 2010-09-08 |
WO2001048527A2 (de) | 2001-07-05 |
DE50007817D1 (de) | 2004-10-21 |
EP1247131B1 (de) | 2004-09-15 |
EP1247131A2 (de) | 2002-10-09 |
DE19963382A1 (de) | 2001-07-12 |
US6749308B1 (en) | 2004-06-15 |
WO2001048527A3 (de) | 2002-02-14 |
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