JP2003515142A - X線ビーム位置モニタ - Google Patents

X線ビーム位置モニタ

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JP2003515142A
JP2003515142A JP2001538831A JP2001538831A JP2003515142A JP 2003515142 A JP2003515142 A JP 2003515142A JP 2001538831 A JP2001538831 A JP 2001538831A JP 2001538831 A JP2001538831 A JP 2001538831A JP 2003515142 A JP2003515142 A JP 2003515142A
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plane
electrode
monitor
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アーント,ウルリッヒ・ボルフガング
カイト,マーティン・ポール
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    • G01TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/29Measurement performed on radiation beams, e.g. position or section of the beam; Measurement of spatial distribution of radiation
    • GPHYSICS
    • G01MEASURING; TESTING
    • G01TMEASUREMENT OF NUCLEAR OR X-RADIATION
    • G01T1/00Measuring X-radiation, gamma radiation, corpuscular radiation, or cosmic radiation
    • G01T1/16Measuring radiation intensity
    • G01T1/26Measuring radiation intensity with resistance detectors

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  • Spectroscopy & Molecular Physics (AREA)
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Abstract

(57)【要約】 X線ビーム位置モニタは、垂直軸(26)を中心とするX線ビームの回転位置を検出するための第1の一連の3つの集電極(1a、1b、1c)と第1のバイアス電極(3)とを有する。モニタはまた、水平軸(27)を中心とするX線ビームの回転位置を検出するための第2の一連の3つの集電極(5a、5b、5c)と第2のバイアス電極(7)とを有する。集電極で生成された信号は処理され、2つの軸(26、27)を中心とするビームの回転位置を導き出すために使われる。これらの信号は、水平面および垂直面におけるX線ビームの並進位置を導き出すためにも使われる。ビームは中心合わせされ、モニタはゼロ探索モニタとして作動する。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】 この発明はX線ビーム位置モニタに関し、この出願人の同時係属中の英国特許
出願番号9913615.2に開示された発明が進歩したものを示す。
【0002】 X線回折実験を行なうには、X線回折計またはX線カメラに対しX線発生装置
を整列させる必要がある。X線ビームを完全に整列させるには、並進位置決めお
よび回転位置決めを両方行なわなければならない。用途によって、X線発生装置
を固定したまま回折計を動かして整列させる方が便利な場合もあれば、回折計を
固定したままそれに対して発生装置を動かす方が簡単な場合もある。いずれの場
合も、X線ビーム位置モニタによって、整列は非常に楽になり、これは、並進と
回転とを制御して整列を自動的に行なうために使用できる電気出力を有するもの
であることが好ましい。この発明の目的は、X線ビームの少なくとも回転位置、
好ましくは並進位置と回転位置の両方のモニタリングを提供することにある。
【0003】 この発明によれば、X線ビーム位置モニタは、平面に直交する軸を中心とする
X線ビームの回転位置を検出するための、第1の一連の3つの集電極と第1のバ
イアス電極とを含む第1の電極アセンブリと、前記平面を横切るもう1つの平面
に直交するもう1つの軸を中心とするX線ビームの回転位置を検出するための、
第2の一連の3つの集電極と第2のバイアス電極とを含む第2の電極アセンブリ
と、バイアス電極にバイアス電圧を印加するための手段と、集電極で生成された
電気信号を処理し、そこから前記軸を中心とするX線ビームの回転位置を示す信
号を導き出すための信号処理手段とを含んでいる。
【0004】 第1の一連の3つの集電極は、平行四辺形の形をした中間電極と、それに隣接
する各々三角形の形をした2つの端電極とから構成されることが好ましく、この
一連の3つの集電極は、全体の輪郭がほぼ長方形であることが好ましい。
【0005】 処理手段は、端電極からの信号を合計し、そこから中間電極からの信号を減じ
て、前記平面におけるX線ビームの回転位置を示す信号を導き出すよう動作する
ことが好ましい。この後者の信号は、3つの電極からの信号の合計でそれを除す
ることで正規化されてもよい。
【0006】 X線ビームの回転位置を検出することに加え、モニタは、前記平面におけるX
線ビームの並進位置も検出してもよい。この場合、信号処理手段は、2つの端電
極からの信号間の差を求めて、前記平面におけるX線ビームの並進位置を示す信
号を導き出すようにも動作する。この後者は、中間電極からの信号でそれを除す
ることで正規化されてもよい。
【0007】 同様に、第2の一連の3つの集電極は平行四辺形の形をした第2の中間電極と
、それに隣接する各々三角形の形をした2つの第2の端電極とから構成されるこ
とが好ましく、第2の一連の3つの集電極は、全体の輪郭がほぼ長方形であるこ
とが好ましい。
【0008】 処理手段は、第2の端電極からの信号を合計し、そこから第2の中間電極から
の信号を減じて、前記もう1つの平面におけるX線ビームの回転位置を示す信号
を導き出すよう動作することが好ましい。
【0009】 前記もう1つの平面におけるX線ビームの回転位置を検出することに加えて、
モニタは、前記もう1つの平面におけるX線ビームの並進位置も検出してもよい
。この場合、信号処理手段は、2つの第2の端電極からの信号間の差を求めて、
前記もう1つの平面におけるX線ビームの並進位置を示す信号を導き出すように
も動作する。
【0010】 第1の電極アセンブリと第2の電極アセンブリとは、X線ビームの伝搬方向に
沿ってほぼ同じ軸位置に配置されていてもよい。その場合、バイアス電圧を印加
するための手段は、第1のバイアス電極または第2のバイアス電極にバイアス電
圧を印加するためのスイッチング手段を含む。第1の電極アセンブリと第2の電
極アセンブリとをX線ビームの伝搬方向に沿ってほぼ同じ軸位置に配置させるこ
とで、コンパクトな構成が提供され、これによりモニタは、X線回折計とともに
使用される場合、および一般に実験室で使用される場合に特に便利になる。
【0011】 他の実施例においては、第1の電極アセンブリと第2の電極アセンブリとは、
X線ビームの伝搬方向に沿って同じ軸位置に配置されていない。
【0012】 第1のアセンブリの電極は第2のアセンブリの電極と直交し、前記一方の平面
と前記他方の平面とが互いに直交するようになることが好ましい。第1および第
2の電極アセンブリがX線ビームの伝搬方向に沿ってほぼ同じ軸位置に配置され
ている場合、第1および第2の電極アセンブリは、好ましくは、断面が正方形の
トンネル状の構造の4つの壁を構成し、そこを通ってX線ビームが伝搬される。
【0013】 X線ビーム位置センサはゼロ探索装置として動作し、X線ビームを中心合わせ
した位置を電気信号が示すようになるまで、2つの位置決め平面における調整に
よって、(並進および回転両方の意味において)ビームの中心位置が合わせられ
る。この調整は、第1および第2の電極アセンブリが軸方向に間隔をおいて配置
されている場合は同時に行なえるが、第1および第2の電極アセンブリが同じ軸
位置にある場合は、2つの位置決め平面において順次行なわれる。調整は、ビー
ム、アセンブリ、またはビームとアセンブリ両方の組合せに、中心合わせ運動を
加えることで実現されてもよい。
【0014】 この発明に従ったX線ビーム位置センサの2つの実施例を、添付図面を参照し
ながら、これから例示として述べる。
【0015】 図1を参照すると、センサは、第1の陽極基板2上にプリントされた第1の一
連の3つの集電極1a、1b、1cと、第1の陰極基板4上にプリントされた第
1のバイアス電極3とを含む第1の電極アセンブリを含んでいる。陽極基板2お
よび陰極基板4は、第1の一連の集電極1a、1b、1cが第1のバイアス電極
3と面した状態で、垂直に間隔があいた水平面を占めている。第1のバイアス電
極3は長方形の形をしており、第1の一連の3つの集電極1a、1b、1cは、
全体の輪郭が同様の長方形で、傾斜しているが互いに平行な2本の分割線により
分割されて、電極1bが平行四辺形の形をした中間電極を規定し、2つの電極1
aおよび1cが各々直角三角形の形をした端電極となっている。
【0016】 図1に示すように、1対の基板2、8は1対の基板3、6から少し距離をおい
て離れている。わかりやすくするため、第1の陽極基板2とその3つの集電極1
a、1b、1cとを図2に示す。3つの電極1a、1b、1cへのそれぞれの電
気接続も図2に図示する。
【0017】 同様に、第2の電極アセンブリは、第2の陽極基板6上にプリントされた第2
の一連の3つの集電極5a、5b、5cと、第2の陰極基板8上にプリントされ
た第2のバイアス電極7とを含む。第2の陽極基板および陰極基板は、第2の一
連の集電極5a、5b、5cが第2のバイアス電極7と面した状態で、水平に間
隔があいた垂直面を占めている。第2のバイアス電極7は長方形の形をしており
、第2の一連の3つの集電極5a、5b、5cは、全体の輪郭が同様の長方形で
、傾斜しているが互いに平行な2本の分割線により分割されて、電極5bが平行
四辺形の形をした中間電極を規定し、2つの端電極5aおよび5bが各々直角三
角形の形をしている。
【0018】 各電極1a、1b、1c、5a、5b、5c、3、7は、適切な基板上に蒸着
された銅の領域によって形成される。
【0019】 第1および第2の電極アセンブリは、X線ビームの伝搬方向に沿って同じ軸位
置に配置され、その中心合わせされた方向は図1において9で示されている。第
1および第2の電極アセンブリはこのように、断面が正方形の形をしたトンネル
状の構造を形成し、そこを通ってX線ビームが伝搬される。
【0020】 断面が正方形のトンネル構造は、管の中に収容される。好ましい実施例におい
ては、各基板は幅8mm、長さ36mmの長方形で、陽極と陰極の間に10mm
の間隔があいている。空気が充填されたトンネル状構造は長さ36mmで、縁の
寸法が10mmの正方形の断面を有している。この構造は直径25mmの管の中
にぴったり入り、したがってコンパクトな構成を提供する。
【0021】 図3を参照すると、2つの陰極電極またはバイアス電極3、7が2極スイッチ
10に接続されていて、その一方の位置(図3に図示)では、電極7が接地され
、電極3が−300ボルト電圧源12に接続されており、他方の位置では、電極
7が−300ボルト電圧源12に接続され、電極3が接地されている。6つの電
極1a、1b、1c、5a、5b、5cすべてを示すにあたり、図3は模式的な
ものである。というのは、この6つの電極すべてを示す横断面はないからである
【0022】 3つの集電極1a、1b、1cはそれぞれ、3つの電流電圧増幅器13、14
、15に電気的に接続され、それら各々はそれぞれ、典型的には20GΩのフィ
ードバックレジスタ16、17、18を有する。増幅器13、14、15はそれ
ぞれ、X線ビームにより発生したイオン化の結果、電極1a、1b、1cに集め
られた電荷にそれぞれ比例する電圧出力Va1、Vb1、Vc1を有する。同様に
、3つの集電極5a、5b、5cはそれぞれ、3つの電流電圧増幅器19、20
、21に電気的に接続され、それら各々はそれぞれ、20GΩのフィードバック
レジスタ23、24、25を有する。増幅器19、20、21はそれぞれ、X線
ビームにより発生したイオン化の結果、電極5a、5b、5cに集められた電荷
にそれぞれ比例する電圧出力Va2、Vb2、Vc2を有する。
【0023】 スイッチ10が図3に図示する位置にある場合、電圧Va1、Vb1、Vc1
用いて、中心軸からのX線ビームの(中央の垂直軸26を中心とする)回転変位
を示す第1の信号R1が導き出される。
【0024】
【数1】
【0025】 R1は、X線ビームを中心軸に平行にするために必要な(垂直軸26を中心と
する)回転を示す。R1についての上記式における分母が信号を正規化する。
【0026】 2Lが電極の長さ、Wがそれらの幅、Θが水平面における、すなわち軸26を
中心とする傾斜角である場合、これは
【0027】
【数2】
【0028】 のように示すことができる。 また、電圧Va1、Vb1、Vc1を用いて、水平面における、チャンバの中心
からのX線ビームの並進変位を示す第1の信号T1が以下により導き出される。
【0029】
【数3】
【0030】 ここでも分母が信号を正規化する。 ビームの位置が電極の1つの長端から中心を通ってもう1つの長端へ動くにつ
れて、T1が+1から0を通って−1へ変動することが示される。正規化の結果
、R1およびT1の値は、X線ビームの強度には左右されず、ビームの位置のみに
左右される。
【0031】 スイッチが別の位置(すなわち図3に図示していない位置)にある場合、電圧
Va2、Vb2、Vc2を用いて、中心軸からのX線ビームの(横断する水平軸2
7を中心とする)回転変位を示す第2の信号R2が導き出される。
【0032】
【数4】
【0033】 R2は、ビームを中心軸に平行にするために必要な(水平軸27を中心とする
)回転を示す。2Lが電極の長さ、Wがそれらの幅、Φが垂直面における、すな
わち軸27を中心とする傾斜角である場合、これは
【0034】
【数5】
【0035】 のように示すことができる。 また、電圧Va2、Vb2、Vc2を用いて、(垂直面における、チャンバの中
心からの)X線ビームの並進変位を示す第2の信号T2が以下により導き出され
る。
【0036】
【数6】
【0037】 ビームの位置が電極の1つの長端から中心を通ってもう1つの長端へ動くにつ
れて、T2がへ+1から0を通って−1へ変動することが示される。以前と同様
、R2およびT2の値は、X線ビームの強度には左右されず、ビームの位置のみに
左右される。
【0038】 ビームは、その整列された中心位置に保たれるよう配置され、このビームの整
列は、R1、T1、R2、T2がすべて0になるまで、水平面および垂直面において
順次調整を行なうことで実行される。この中心合わせ工程は、中央処理装置によ
り自動的に実行することができる。
【0039】 図1の実施例は、第1および第2の一連の電極が、X線ビームの伝搬方向に沿
って同じ軸位置に位置している、コンパクトな構成である。
【0040】 図4の第2の実施例では、第1の一連の電極1a、1b、1c、3は、X線ビ
ームの伝搬方向に沿って、第2の一連の電極5a、5b、5c、7とは異なる位
置に位置している。図4では、X線ビームはまず第1の一連の電極を通過し、次
に第2の一連の電極を通過する。図4の実施例に対する信号処理は図2に対する
ものと同じだが、切換スイッチ10を使う必要はない。これはバイアス電圧12
を両方の集電極に同時に加えることができ、したがって信号R1、T1、R2、T2 が、選択された期間にわたって、同時に、および連続して得られるからである。
【図面の簡単な説明】
【図1】 第1の実施例の集電極およびバイアス電極の構成を示す図である
【図2】 第1の実施例の3つの集電極を示す図である。
【図3】 図1の実施例の電気回路を示す図である。
【図4】 第2の実施例の集電極およびバイアス電極の構成を示す図である
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 EP(AT,BE,CH,CY, DE,DK,ES,FI,FR,GB,GR,IE,I T,LU,MC,NL,PT,SE),OA(BF,BJ ,CF,CG,CI,CM,GA,GN,GW,ML, MR,NE,SN,TD,TG),AP(GH,GM,K E,LS,MW,MZ,SD,SL,SZ,TZ,UG ,ZW),EA(AM,AZ,BY,KG,KZ,MD, RU,TJ,TM),AE,AL,AM,AT,AU, AZ,BA,BB,BG,BR,BY,CA,CH,C N,CR,CU,CZ,DE,DK,DM,EE,ES ,FI,GB,GD,GE,GH,GM,HR,HU, ID,IL,IN,IS,JP,KE,KG,KP,K R,KZ,LC,LK,LR,LS,LT,LU,LV ,MA,MD,MG,MK,MN,MW,MX,NO, NZ,PL,PT,RO,RU,SD,SE,SG,S I,SK,SL,TJ,TM,TR,TT,TZ,UA ,UG,US,UZ,VN,YU,ZA,ZW

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 平面に直交する軸を中心とするX線ビームの回転位置を検出
    するための、第1の一連の3つの集電極と第1のバイアス電極とを含む第1の電
    極アセンブリと、 前記平面を横切るもう1つの平面に直交するもう1つの軸を中心とする前記X
    線ビームの回転位置を検出するための、第2の一連の3つの集電極と第2のバイ
    アス電極とを含む第2の電極アセンブリと、 前記バイアス電極にバイアス電圧を印加するための手段と、 前記集電極にて生成された電気信号を処理し、そこから前記軸を中心とするX
    線ビームの回転位置を示す信号を導き出すための信号処理手段とを含む、X線ビ
    ーム位置モニタ。
  2. 【請求項2】 各々の一連の3つの集電極は、平行四辺形の形をした中間電
    極と、各々三角形の形をした2つの端電極とから構成される、請求項1に記載の
    X線ビーム位置モニタ。
  3. 【請求項3】 各々の一連の3つの集電極は、全体の輪郭がほぼ長方形であ
    る、請求項2に記載のX線ビーム位置モニタ。
  4. 【請求項4】 各々の一連の電極に対し、処理手段は、端電極からの信号を
    合計し、そこから中間電極からの信号を減じて、前記一方の平面または他方の平
    面におけるX線ビームの回転位置を示す信号を導き出すよう動作する、請求項2
    または3に記載のX線ビーム位置モニタ。
  5. 【請求項5】 前記一方の平面または他方の平面におけるX線ビームの回転
    位置を示す信号は、対応する一連の3つの電極からの信号の合計でそれを除する
    ことで正規化される、請求項4に記載のX線ビーム位置モニタ。
  6. 【請求項6】 X線ビームの回転位置を検出することに加え、モニタは、前
    記一方の平面におけるX線ビームの並進位置も検出し、信号処理手段は、第1の
    一連の2つの端電極からの信号間の差を求めて、前記一方の平面におけるX線ビ
    ームの並進位置を示す信号を導き出すようにも動作する、請求項2から5のいず
    れかに記載のX線ビーム位置モニタ。
  7. 【請求項7】 前記一方の平面におけるX線ビームの並進位置を示す信号は
    、第1の一連の中間電極からの信号でそれを除することで正規化される、請求項
    6に記載のX線ビーム位置モニタ。
  8. 【請求項8】 X線ビームの回転位置を検出することに加え、モニタは、前
    記もう1つの平面におけるX線ビームの並進位置も検出し、信号処理手段は、第
    2の一連の2つの端電極からの信号間の差を求めて、前記もう1つの平面におけ
    るX線ビームの並進位置を示す信号を導き出すようにも動作する、請求項2から
    7のいずれかに記載のX線ビーム位置モニタ。
  9. 【請求項9】 前記もう1つの平面におけるX線ビームの並進位置を示す信
    号は、第2の一連の中間電極からの信号でそれを除することで正規化される、請
    求項8に記載のX線ビーム位置モニタ。
  10. 【請求項10】 第1の電極アセンブリと第2の電極アセンブリとが、X線
    ビームの伝搬方向に沿ってほぼ同じ軸位置に配置されている、請求項1から9の
    いずれかに記載のX線ビーム位置モニタ。
  11. 【請求項11】 バイアス電圧を印加するための手段は、第1のバイアス電
    極または第2のバイアス電極にバイアス電圧を印加するためのスイッチング手段
    を含む、請求項10に記載のX線ビーム位置モニタ。
  12. 【請求項12】 第1の電極アセンブリと第2の電極アセンブリとが、X線
    ビームの伝搬方向に沿って同じ軸位置にない、請求項1から9のいずれかに記載
    のX線ビーム位置モニタ。
  13. 【請求項13】 第1のアセンブリの電極は第2のアセンブリの電極と直交
    し、そのため前記一方の平面と前記他方の平面とが互いに直交する、請求項1か
    ら12のいずれかに記載のX線ビーム位置モニタ。
  14. 【請求項14】 第1および第2の電極アセンブリが、断面が正方形のトン
    ネル状の構造の4つの壁を構成し、そこを通ってX線ビームが伝搬される、請求
    項10および13に記載のX線ビームモニタ。
  15. 【請求項15】 X線ビーム位置センサがゼロ探索装置として作動し、X線
    ビームを中心合わせした位置を電気信号が示すようになるまで、2つの位置決め
    平面における調整によってビームの中心位置が合わせられる、請求項1から14
    のいずれかに記載のX線ビーム位置モニタ。
JP2001538831A 1999-11-16 2000-10-12 X線ビーム位置モニタ Pending JP2003515142A (ja)

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