JP2003509227A

JP2003509227A - 系を握持している自動適応真空

Info

Publication number: JP2003509227A
Application number: JP2001523182A
Authority: JP
Inventors: レヴィン、ダニエル; ヤスール、ユーファル
Original assignee: コアフローリミテッド
Priority date: 1999-08-25
Filing date: 2000-08-20
Publication date: 2003-03-11
Also published as: EP1218150A4; KR20020059375A; EP1218150A1; KR100743762B1; IL131591A; EP1218150B1; US6644703B1; AU6591900A; CA2382888C; ATE527087T1; WO2001019572A1; IL131591A0; CA2382888A1

Abstract

(57)【要約】以下を含んでいる自動適応真空グリップ器械：真空ソース;真空リザーバは、前記真空ソースに流体において、連結した;接触面;複数のダクトの少なくとも一つのダクト;そこにおいて、前記ダクトは、前記ダクトが備えている前記真空リザーバに、流体の前記接触面およびアウトレット連結に配置される複数のフィンが各々の反対側に大幅に2つのアレーにおいて、整えられる前記ダクト前記フィンの内部隔壁に取り付いた効果がある;そこにおいて、入口に最も近いフィンを除外している前記フィン列のいずれの一つものフィンおよび前記ダクトのアウトレットに最も近いフィンの各々は、各々の空洞がフィンの前記アレーのうちの1つの2つの連続的フィンの間で、定義した複数の空洞および前記2つの対抗しているフィン列が非対称に整えられる一部の前記ダクト・インターナル隔壁の配置された大幅に対向する一つである;それによってそのとき、複数の渦が前記渦間の集中式炉心流量を許している空力ブロッケージをこのように形づくっている前記流れおよびこのように質量流量を制限していて、ダクトの範囲内で相当な圧力低下を維持している一次元の方法の流れを抑制している前記フィンの先端部の間、少なくとも一時的に存在している前記空洞前記渦の範囲内で、形づくった前記ダクトによる流体流動。そして、それによって、対象が流れストップ前記渦が放散させる前記ダクトの入口を遮断するときに、このように前記対象は前記接触面に真空誘導された力によって、効果的に保たれるのに、入口が遮断されないときに、前記渦は形づくられる。そして、前記真空リザーバの必須の真空レベルがかなり維持される前記対象によって、前記ダクトによる流れおよび前記ダクト入口が否定である時が抑止した空力のブロックは必須の真空条件を発生させるために出力される動力消費を減らした。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】発明の技術分野本発明は、真空支援体系に関する。特にそれは自己適応真空支援体系に関する。
そして、空気力を使う。

【０００２】発明の背景真空支援体系は、多数工業地域において、広く使われている。それが1つの所在
からもう一方まで運ばれると共に、真空支援体系は位の対象を固定するか対象を
つかむのに役立つことができる。真空支援体系は、広くハイテク工業において、
使われて、中にある。自動のオプティカル検査（AOI工業）の間のプリント回路基板（PCB）またはフラ
ットスクリーンをつかむか、またはアルミニウム版面を印刷か技術図式で表わし
た工業の回転太鼓につかんで、その成形加工プロセスの間、または半導体（SC）
工業の除氷の間、ウェファをつかむことは、真空支援体系が利用されている実例
のちょうど短いリストを作る。真空支援体系は、対象上側表面上の行動および対
象に賦課される真空が曲面を下げるより高い周囲圧力間の圧差を使う。圧差（実
効面積によって、増加させられる）は、対象をつかむ力をやめる（「真空-力」
様に、この後関連される）。

【０００３】従来システムにおいて、真空-力は、線形に圧差および実効面積に依存している
。従来の真空-支援体系は、以下を含む：複数の穿設された円筒孔に対する真空
管による流体の真空ポンプ連結は、系接触面に整えた。ほとんどの場合、接触面
は平地または柱体である。多くの実際的な事実において、この種の単純な解答は、受け入れられない。複数
の真空-ダクト（すなわちホール）がそれらの有意個数以外はあるときに、一般
の真空支援体系失敗は起こる保たれる対象が真空-構造より小さいので、おおわ
れなくてある。この種の系の一般の他の課題は起こることができる。そのとき、
逃げる気中および切れるを相当な真空力を得るのを許して、対象の曲面が空洞お
よび／または溝を有する接触面または時に対象は完全に取り付けられない。加え
て、いくつかの最初に閉じた真空-ダクトがプロセス（プロセスを小立方体にす
ることのような）の間、露出される状況は、SC工業において、非常に共通である
。全ての真空-ダクトが遮断されるときに、ダクトによる気中の寄生体質量流量
（この後MFRと称する）は説明可能で受け入れられる、しかし、真空-ダクトの有
意個数が開けられる時、MFRが厳格に増やす寄生体、レベルが批判的に等級を下
げることができる真空および真空-力は消失できる。多くの即席で作った解答は
、寄生体MFRの起生を減らすために提案された：オペレーションの前の露出され
た真空-ダクトをおおうかまたは真空-構造の「活性の」右逆写像だけに、真空を
導入するために真空-構造のセクターだけを起動させることは、いくつかのこの
種の解答である。しかし、これらは部分的な半有効解だけである。寄生体MFR
の課題は、信頼できる真空支援体系をなしとげるために解決されなければならな
い。

【０００４】 1つの一般的な方法は、寄生体MFRの共存系のための会計に、必須の真空レベルを
提供するために強力な真空ポンプを使用することである。この種の解答は、費用
のかかっ（強力なポンプおよび補助装置の原価および系が働く無駄になるエネル
ギー）て、不必要な音量およびウェイトを占める。それは、また、有意ノイズお
よび機械振動のための強力なソースであってもよい。特に、単純な真空-ダクト
の使用は、容認できないノイズに結果としてなることができる。単純な真空-ダ
クトは内部圧力低下を支えることができない、そして、したがって、真空-ダク
トが開いて、外界圧に従属するときに、ギャップ（外界圧緩和（真空-ダクト出
口で）の機械）は雑音が多いジェットを含むことができる。外部の圧格差が十分に大きい事実において、超音速の（極めてノイズが多い）ジ
ェットは、現れることができる。この種の雑音が多い状況において、真空支援体
系の使用は疑わしくてもよい。そのとき、「静かな空間」条件は必要である。拡
大された実効面積によって、終わって、小さい直径真空-ダクトが使われる所で
、他の解答が存在する。そして、このように、MFRは減らされる。そして、必須
の真空-力は得られる。この種の動物の力解答は、汚染物質（極小量または液体
であること）によって、厳格に機械のブロッケージの危険を増やす。しかし、真
空-力およびそれの喪失のこの種の機械のブロッケージ結果は、劇的にメンテナ
ンス経費を増やすことができる。加えて、小さい直径真空-ダクトは劣等な時間
応答によって、特徴づけられる。そして、指令を制御するために応答を含む。特
に多数の真空-ダクトが使われるときに、各々の真空-ダクトのための個々の電子
管のような運転制御装置を使用することに基づいてMFRを制御する解答は実際的
でない。電子管はより費用のかかって、機械であるか電気機械手段を含むことができる、
このように、メンテナンス・タスクは実行できなくなる。よく機能している真空
支援体系のための実際的な要求を満たすために、寄生体MFRを制御することは、
有利な道において、解かれなければならない。自己適応分割されたオリフィス（
SASO）デバイスおよび手段とタイトルをつけられる我々のイスラエルの特許出願
の細目にて説明したように、適応真空支持器械が本発明において、開示した自己
はSASO概念に基づく。そして、本出願によって、同時にやすりをかけられる。そ
れを通過している流体が実際に非圧縮性（気中または他のガスに対して）である
水である所で、本発明へのなんらかの関連を有する唯一の関連した先行技術参考
は潅漑エミッタを取扱う。

【０００５】米国の特許番号3,896,999（Barragan）は、反対の詰まりドリップ潅漑電子管を
開示した、上記は、以下を含む：複数の分割手段（一体的に、ラビリンス・ダク
ト・アウトレットによるその出口の前に、水圧を減らすために、ラビリンス・ダ
クトを形づくって、ダクト隔壁が形成された）を備えている広いダクト。米国の特許番号4,573,640（Mehoudar）は、米国の特許番号3,896,999の電子管に
、同様にラビリンス・ダクトを提供している潅漑エミッタ・ユニットを開示した
。ダクトに沿って圧力低下を提供するためにラビリンス・ダクトを提供している
他のデバイスの実例は、米国特許第4,060,200号（Mehoudar）、米国特許第4,413
,787号（Gileadその他）、米国特許第3,870,236号（Sahagun-Barragan）、米国
特許No.4,880,167（Langa）、米国特許No.5,620,143（Delmerその他）、米国特
許第4,430,020号（ロビンス）、米国特許第4,209,133号（Mehoudar）、米国特許
第4,718,608号（Mehoudar）、米国特許第5,207,386号（Mehoudar）において、見
つかる。ラビリンス・ダクトにおいて、空力抗力はダクト（流れの向きの反対側に行うこ
と）の隔壁により発揮される粘性摩擦のために、大幅に大きい、そして、通路が
曲がりくねってより冗長に（それは、ラビリンスの基本的特色である）なるよう
に、粘性摩擦を増やして、より多くの隔壁接触面は流れに作用している。場合に
よっては、空洞は汚染物質を妨害するために、そして、流れ通路を解くために提
供される。これらのパテント（それは主要部として2つの次元の幾何学（非常に
小さいかまたは退化している三分の一）を取扱う）のどれも、渦巻のような空力
のブロッケージ機械（すなわち本発明の基本的特色）の使用を言及しないかまた
は作らない。上述したパテントがダクトによる水の送出しを取扱うと共に、本発
明が、流体（単にこの力を発生させて、他方ダクトの入口での真空グリップが消
失するダクトによる寄生体質量流量を減らすための手段として役立つだけで、大
部分の事実の気中）については、提供して、空力の誘導された真空グリップ力を
利用しようとすると強調される。条項肩書のある「FLOW VISUALIZATION STUDY OF THE FLOW IN A 2D ARRAY OF FI
NS」（S. Brokman、Dレヴィン、Fluids 14のExperiments、241-245（1993）にお
いて、フィンの2D順列の流れの場の学習は、垂直流トンネルの流れの可視化によ
り実行された。学習は、概念上のヒートシンクとしてフィン順列を調べた以前の
研究に関した。上述した学習は、熱対流プロセスのより良い理解を得るために複
雑なフロー場構造を調べるためにそれ以上になった。モデルはフィンのいくつか
の級数から造られた。そして、空間的に無制限の多室構造物をシミュレーション
した。ンの影響のためのそれはフィンに再び取り付けられた）の立上りからの流
れの剥離が閉じた分離ゾーンおよび渦をつくって、それはその閉じた分離ゾーン
を充てんした。

【０００６】本発明の概略説明本発明の好適な実施例に従って、それはしたがって、提供される上記の自動適応
真空グリップ器械は、以下を含む：真空ソース;真空リザーバは、前記真空ソー
スに流体において、連結した;接触面;複数のダクトの少なくとも一つのダクト;
そこにおいて、前記ダクトは、前記ダクトが備えている前記真空リザーバに、流
体の前記接触面およびアウトレット連結に配置される複数のフィンが各々の反対
側に大幅に2つのアレーにおいて、整えられる前記ダクト前記フィンの内部隔壁
に取り付いた効果がある;そこにおいて、入口に最も近いフィンを除外している
前記フィン列のいずれの一つものフィンおよび前記ダクトのアウトレットに最も
近いフィンの各々は、各々の空洞がフィンの前記アレーのうちの1つの2つの連続
的フィンの間で、定義した複数の空洞および前記2つの対抗しているフィン列が
非対称に整えられる一部の前記ダクト・インターナル隔壁の配置された大幅に対
向する一つである;それによって。そのとき、複数の渦が前記渦間の集中式炉心
流量を許している空力ブロッケージをこのように形づくっている前記流れおよび
このように質量流量を制限していて、ダクトの範囲内で相当な圧力低下を維持し
ている一次元の方法の流れを抑制している前記フィンの先端部の間、少なくとも
一時的に存在している前記空洞前記渦の範囲内で、形づくった前記ダクトによる
流体流動;そして、それによって、対象が流れストップ前記渦が放散させる前記
ダクトの入口を遮断するときに、このように前記対象は前記接触面に真空誘導さ
れた力によって、効果的に保たれるのに、入口が遮断されないときに、前記渦は
形づくられる。そして、前記真空リザーバの必須の真空レベルがかなり維持され
る前記対象によって、前記ダクトによる流れおよび前記ダクト入口が否定である
時が抑止した空力のブロックは必須の真空条件を発生させるために出力される動
力消費を減らした。

【０００７】さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記流体は、気中である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、薄い炉心流量が前記渦によって、二次
元の方法において、抑制される所で、前記フィンはL形である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、薄い炉心流量が前記渦によって、二次
元の方法において、抑制される所で、前記フィンはＵ字形である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、ダクトはまっすぐな軌道をたどる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクトは、曲がりくねった軌道を
たどる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面は、大幅に長方形で
ある。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面は、大幅に多角形で
ある。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面は、大幅に円である
。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面面積の下流側超関数
は、一様である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面面積の下流側超関数
は、末広がりである。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面面積の下流側超関数
は、一点に集まる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィンは、大幅にダクトの前記内
部隔壁に対する垂線である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィンは、全体的な炉心流量運動
方向に、そして、ダクト・インターナル隔壁に関係によって、傾けられる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィン代表的な厚さは、同じ前記
フィン列の2つの連続的フィン間の距離に、比較を有するより小さいオーダーの
中である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィン横断面は、大幅に長方形で
ある。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィン横断面は、大幅に台形であ
る。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィン横断面は、一方に少なくと
も大幅に凹である。

【０００８】さらに、本発明の好適な実施例に従って、2つの連続的フィン間の距離は、ダク
トに沿った恒数である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、2つの連続的フィン間の距離は、ダク
トに沿って変化する。さらに、本発明の好適な実施例に従って、各々の前記フィンのスパンは、ダクト
に沿ったユニフォームである。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィンのスパンは、ダクトに沿っ
て変化する。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィンのスパンは、横に一様であ
る。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィンのスパンは、横に変化する
。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィンの先端は、鋭い。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィンの先端は、鈍い。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィンの先端は、曲がっている。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記フィンの各々は、大幅にダクト・
ラテラル広さの半分を抑止する。さらに、本発明の好適な実施例に従って、2つの対向するフィン列は、重ならな
い。さらに、本発明の好適な実施例に従って、2つの対向するフィン列は、重なる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、フィンの同じアレーのそのフィンおよ
び連続的フィン間のフィン・スパンおよびギャップ間の割合は、1:2まで1：1の
範囲である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、割合は約1：1.5である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記2つの対向するフィン列のうちの1
つおよび前記2つの対向するフィン列の秒のフィン先端部を連結している仮想の
平面のフィン先端部を連結している仮想の平面間のギャップの絶対値は、前記ダ
クトの横の広さより小さいオーダーの中である。

【０００９】さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ギャップの前記絶対値は、前記ダ
クトの隣接の横の広さの20%を超えない。さらに、本発明の好適な実施例に従って、各々の前記空洞の寸法は、わずかに前
記空洞内部で形づくられる渦の渦度と関連する一体的に定義された自然尺度より
小さい。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記渦仮想の軸と大幅に平行して前記
炉心流量運動にディメンションおよび大幅に垂線として定義される前記ダクト受
動ディメンションは、フィン・スパンのオーダーにおいて、ある。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記受動的なディメンションは、大幅
に両方の渦軸に対する。そして、炉心流量運動に対する垂線であるダクトの他の
横のディメンションより大幅に大きい。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記受動的なディメンションは、近い
大幅に環状のルートをたどる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、レイノルズNo.が増加する内側の前記
ダクトであるときに、それ以上の二次の渦は形づくられる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記コア-流れ下流側運動は、大幅に
シヌソイドに関する。さらに、本発明の好適な実施例に従って、正弦波の炉心流量は、その運動を正面
削りしているフィンの表層を有する炉心流量の局所型衝突によって、強くフィン
と相互に作用する。さらに、レイノルズNo.が増加する内側の前記ダクトであるときに、本発明の好
適な実施例に従って、前記炉心流量は局所的に壊れて、頻繁に集中的に炉心流量
と相互に作用しているかまたは表面仕上げフィンの表層に当たっている不安定な
二次の渦を発生させる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記真空リザーバの範囲内の真空が、
真空ポンプによって、生じる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記真空リザーバは、真空-多様体で
ある。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクトは、自動化された電子管を
備えている。さらに、本発明の好適な実施例に従って、デバイスはさらに真空レベルを制御す
ることによって、前記電子管を発動させることによって、制御タスクに奉仕する
コントロールおよび検知手段を備えているかまたはコントロールのいかなる他の
手段も使用する。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクトは、大幅に前記接触面に対
する緯線である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクトは、前記接触面に一般にダ
クト・マウントである。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記接触面は、平らな真空構造である
。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記真空構造は、長方形である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記真空構造は、円である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記接触面は、太鼓のような接触面を
示すために円筒状である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記接触面は、溝を含む。さらに、本発明の好適な実施例に従って、デバイスは前記接触面に接触を有する
対象を運んだものである。さらに、本発明の好適な実施例に従って、それは重量に関して働く。さらに、本発明の好適な実施例に従って、重量の向きを軽蔑したそれは、働く。

【００１０】さらに、本発明の好適な実施例に従って、それは以下を含んでいる自動適応真空
グリップ器械を提供される：真空ソース;真空リザーバは、前記真空ソースに流
体において、連結した;接触面;複数のダクトの少なくとも一つのダクト;そこに
おいて、前記ダクトは、前記ダクトがこのように前記ダクトの内部隔壁に取り付
けられる螺旋形フィンによって、提供される前記真空リザーバに、流体の前記接
触面およびアウトレット連結に配置されるつる巻の空洞が前記螺旋形フィンおよ
び前記内部隔壁により定義されて形づくられる効果がある;そこにおいて、流体
がつる巻の渦が形づくられる前記ダクトの中を流れるときに、前記つる巻の空洞
前記つる巻の渦がこのように前記螺旋形フィンの渦および先端部間の集中式炉心
流量を許している空力ブロッケージを形づくっていて、二次元の方法の流れを抑
制している前記流れの間、少なくとも一時的に存在する。そして、このように質
量流量を制限して、ダクトの範囲内で相当な圧力低下を維持する; 螺旋形フィン・インターナルにより定義される中央通路による前記炉心流量流れ
は、じりじり進んで、隣接のつる巻の通路をたどることによって、局所的に前記
中央通路の障害を迂回できるそれによって、螺旋形フィン;そして。それによっ
て、対象が流れが止める前記ダクトの入口を遮断する時、前記つる巻の渦はこの
ように前記対象を放散させる前記接触面に対する真空誘導された力によって、効
果的に保つ、入口が遮断された前記渦でない時は形づくられる。そして、前記真
空リザーバの必須の真空レベルがかなり維持される前記対象によって、前記ダク
トが否定である前記ダクトおよび時による流れが抑止した空力のブロッキングは
必須の真空条件を発生させるために出力される動力消費を減らした。

【００１１】さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記流体は、気中である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、複数の柵関数の少なくとも一つの柵関
数は流れがつる巻の軌道をたどるのを防止するためにつる巻の軌道をこのように
して局所的に遮断している前記螺旋形フィン曲面に、大幅に一般に取り付けられ
る。そして、このように、前記つる巻の渦は少なくとも2つの破片に前記柵関数
によって、局所的に割れる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、2つの柵関数からの少なくとも一つの
柵関数は、前記つる巻の渦のための停泊として行動に前記螺旋形フィンの2つの
末端のうちの1つ上のフィン曲面に、大幅に一般に取り付けられる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクトは、まっすぐな軌道をたど
る。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクトは、曲がりくねった軌道を
たどる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面は、大幅に円である
。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面は、大幅に長方形で
ある。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面は、大幅に多角形で
ある。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面面積の下流側超関数
は、一様である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面面積の下流側超関数
は、末広がりである。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクト横断面面積の下流側超関数
は、一点に集まる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィンは、大幅にダクトの
前記内部隔壁に対する垂線である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、フィンが傾けられる前記ヘリカルが全
体的な炉心流量運動方向に対する両方とも尊重すること、そして、ためにダクト
隔壁。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィン厚さは、前記螺旋形
フィン・ピッチに比較を有するより小さいオーダーの中である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィン横断面は、大幅に長
方形である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィン横断面は、大幅に台
形である。

【００１２】さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィン横断面は、フィン先
端部より大きいフィン・ルートを有する一方で、少なくとも大幅に凹である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、螺旋形フィン・ピッチは、ダクトに沿
った恒数である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィン・ピッチは、ダクト
に沿って変化する。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィンのスパンは、一様で
ある。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィンのスパンは、ダクト
に沿って変化する。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィンの先端は、鋭い。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィンの先端は、鈍い。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィンの先端は、曲がって
いる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記螺旋形フィン・スパンは、大幅に
ダクト・ラテラル広さの半分である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、螺旋形フィン・スパンおよび螺旋形フ
ィン・ピッチ間の割合は、1:2まで1：1の範囲である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、割合は約1：1.5である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、螺旋形フィン先端部により定義される
中央通路は、前記ダクトの水力直径と比較するとより小さいオーダーの中である
。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記通路は、前記ダクトの隣接の横の
広さの30%を超えない。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記つる巻の空洞の寸法は、わずかに
つる巻の渦の渦度と関連する一体的に定義された自然の横のスケールより小さい
。さらに、本発明の好適な実施例に従って、レイノルズNo.が増加する内側の前記
ダクトであるときに、それ以上の二次の渦は形づくられる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、炉心流量はその運動を正面削りしてい
る螺旋形フィンの表層を有する局所型衝突によって、強く前記螺旋形フィンと相
互に作用する。さらに、本発明の好適な実施例に従って、レイノルズNo.が増加する内側の前記
ダクトであるときに、前記炉心流量は局所的に壊れて、頻繁に不安定な二次の渦
を発生させる。そして、集中的に炉心流量と相互に作用するかまたは表面仕上げ
フィンに当たる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記真空リザーバの範囲内の真空が、
真空ポンプによって、生じる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記真空リザーバは、真空-多様体で
ある。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクトは、自動化された電子管を
備えている。

【００１３】さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記デバイスは、以下によって、制御
タスクに奉仕するためにさらにコントロールおよび検知手段を備えている：作動
前記電子管、そして、真空を制御することは、コントロールのいかなる他の手段もの使用を平
らにするかまたは作る。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクトは、前記ダクトが前記接触
面に対する緯線である前記接触面に対する流体の連結である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記ダクトは、前記ダクトが前記接触
面に一般に取り付く前記接触面に対する流体の連結である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記接触面は、平らな真空構造である
。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記真空構造は、長方形である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記真空構造は、円である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記接触面は、太鼓のような接触面を
示すために円筒状である。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記接触面は、溝を含む。さらに、本発明の好適な実施例に従って、前記デバイスは、前記接触面に接触を
有する対象を運ぶために用いる。さらに、本発明の好適な実施例に従って、それは重量の方向に働く。最後に、本発明の好適な実施例に従って、重量の向きを軽蔑したそれは、働く。

【００１４】図面の簡単な説明よりよく本発明を理解して、その実際的な出願を認めるために、次の図は、提供
されて、将来で示される。図が実例だけとして与えられて、請求の範囲を追加することに記載の本発明のス
コープを決して制限しない点に留意する必要がある。構成部分が参照番号の類の
により示されるように。

【００１５】発明の詳細な説明空力のブロッケージ機械は、本発明の最も重要な要旨である。それは、改良され
た指標の新しい真空支援体系を提供するSASO-科学技術のエッセンスである。こ
れによって、SASO発明は、図に関して説明される。本発明の好適な実施例に従うSASO-デバイス基礎の2つの次元の構成は、以下を含
む：ダクト(1)（図1aにて図示したように、ダクト隔壁(12)の内部上の側に対抗する
ことで大幅に2つのアレー（4、5）において、整えられる複数のフィンを有する
、入口(2)およびアウトレット(3)を備えている。2つのフィン列は、相対的なシ
フトされた位置において、整えられる、そこにおいて、フィン（両方の末端フィ
ンから離れた）の第1のアレーの2つの連続したフィンの間で形づくられるギャッ
プの反対側に、第2のアレーの1つの対向するフィンが存在する。そして、このよ
うにSASO-デバイスを特徴づける代表的な非対称構成をつくる。従って、セルの2
つの非対称アレーは形づくられる。そして、各セルがそれらの間に同じアレーお
よび一部のダクト隔壁の2つの連続的フィンによって、制限する。このように、
空洞は定義される、そこにおいて、流体がダクト、この空洞、SASO-セルと称さ
れ将来の中を流れるときに、大きい渦はそれ内部で現れることができる。 SASO-デバイス内部配置はダクト内部で確定される独特な渦度流れ電磁界パター
ンを書き取らせる。そのとき、流体はそれの中を流れる。フィンのそれぞれは、
フィンの先端部から流れ下流側の分離を課す。さらに下流に、大きい流体構造（
渦）は、各々のSASO-セル内部で発生させられる。渦は、仮想の軸のまわりの流
体の円運動である、そこにおいて、項「循環」は、渦強さを定義する。渦は分離
された断流の周知のロールアップ機械によって、発生させられる。そして、各々
のSASO-セルの上流フィンから、流れの剥離をたどる。主要な支配的な渦と比べ
て、副振動体渦は現れることができる。そして、SASO-デバイス性能のエンハン
スメントで、重要な役割を演ずる。任意の顕著な特色は、渦度流れが作る、小説
のために使われるためにかなり空力のブロッケージ結果を増やすことができる副
振動体の不安定なモードと同じく、主要な渦の不安定な自然であるSASOに基づく
真空支援体系。実際問題として、渦（6,7）の2つの対向する並びのフローパター
ンは、開発されて、非対称に整えられる、図1aに示すように。

【００１６】各々の渦はSASO-セルに位置する。そして、対向するフィンを正面削りする。こ
れらの渦、そして、特に、ほとんど閉じた流れが形成されたときに、線は実際に
ダクトによる流れを遮断する。そして、このように広い正弦波の流体運動の現像
を防ぐ、ラビリンスのようなダクトを特徴づける一種の流体運動。従って、かな
り薄い炉心流量(8)は、ブロッキング・フィンおよび渦の間で開発される。炉心
流量は、比較的高い下流側速さおよびそれの中でありえる渦によって、2つの側
に制限してあって、そして、さわらないダクト隔壁。炉心流量不安定性が増加す
るように、それが壊れて、不安定な二次の渦、かさ下流側および集中的に相互に
作用するを頻繁に発生させることができて、それゆえに、炉心流量を有する。表
面仕上げフィンを有する炉心流量の衝突はまた、起こることができる。そして、
炉心流量降伏をたどる。加えて、定期刊行物または混沌とした自然の波状流れパ
ターンは、現れることができる。この種の干渉は、かなり空力のブロッケージ結
果を高めることができる。パターンおよび渦が示す完全に発達した渦度流れにつ
いては、計算-1a（それは図式的に代表的なSASO-デバイス・ダクトによる2つの
次元の縦の横断面を示す）は、基礎のSASO-デバイスを示す。SASO-デバイスは、
三次元ダクトであるが、三分の一向き垂線、両方の炉心流量が合図する本質的に
二次元の自然および主要な渦仮想の軸（この後「受動向き」と称する）の中で実
際問題としてあることができる。それゆえに、SASO-デバイス屈服された図1aの
図解は、実用機の横断面とみなされなければならない。流れがダクトで存在する
ときに、渦の中でセットされる二つは流れを遮断する。そして、このように非常
にせまい炉心流量8だけが渦およびフィン先端部のアレーの間で現れることがで
きる。SASO-デバイスによるMFRが主に炉心流量によって、運ばれるので、この種
のブロッケージは劇的にMFRを減らす。さらに、炉心流量および副振動体間の非
不変の干渉が渦を流すときに、追加のMFR換算は得られることが可能であるSASO-
デバイス・ダクト内部で起こる。渦巻のような空力ブロッケージは、内部圧力低
下を大幅に増加する（進んだ（P）様に、この後関連されるダクト。それは、渦
およびSASO-セル壁間の干渉から生じる。大幅に減じたMFR、そして、強烈な中で増加（Pは、SASO-科学技術の大きな実際
的な重要性の基本振動特色である。しかし、ダクトによる流れが存在する場合に
だけ、これらの重要な特色が得られる点に留意する必要がある、そこにおいて、
流れがない場合、渦は開発されない。この「動的な」自然は、追随として定義さ
れることができるSASO-意見のエッセンスである：SASO-デバイス・ダクトの特殊
な構成が故意に現像を書き取らせるl渦巻のようなフローパターン。空力のブロ
ッケージ機械を実行することによって、渦巻のようなフローパターンが原因とな
るl自動適応方法の流れを遮断する、このようにMFRを減らして、増加する（lペ
ージItは動的な状態だけの間の有効断面である。そのとき、流れがダクトである
。渦巻のようなフローパターンが、全体の活動中の継続時間から、時間の基本的
部分の用途にだけ、有効断面であるl Unsteady事実は、また、本発明の範囲内で
含まれる。可能なSASO-デバイス構成（それらの一部は、後で後述する）の広い
多様体があると強調されなければならない。したがって、SASO-ダクトの特殊な
インターナル幾何学により口述されるように、いかなるデバイスもまたは生成が
本質的に渦巻のような空力のブロッケージ機械を実行する限り、それは本質的に
SASO-デバイスであって、本発明のスコープによって、カバーした。それは、SAS
O-デバイスの特定の幾何学に関係なく真理である。SASO-デバイスは、一般にい
かなる可動部のないも固体である。

【００１７】それは、以下を含まない：機械のいずれでもの必要は分かれる（例えばばね、膜
その他）、または、電気の機械制御手段を使う。それは、非金物（例えばプラス
チックス）と同様に金物でできていることがありえる。それにもかかわらず、外
部状況に関するその自動適応挙動は、新型のデバイスを生む、そこにおいて、MF
Rの調整、そして、（Pは、本発明の新しい真空支援体系のために使用される空力
のブロッケージ機械を適用することによって、なしとげられる。空力のブロッケ
ージ機械は、SASO-デバイスの基礎の自動適応自然である。しかし、自動適応自
然の追加の相は、それと関連する。SASO-セルの範囲内で現れる主要な渦から離
れて、自動適応自然の追加の渦度流れ機械は、異なる課された外部状況でまたは
外部状況を変化させることに応答して代わりにまたは同時に開発されるかもしれ
ない。外界圧を増やすことは落ちるときに、または、レイノルズ数が故意に増加
するときに、空力のブロッケージ機械を修正する次の渦度流れパターンは含まれ
ることができる： * 渦が強めることができる第一の強さ（循環）。 * 渦強さの下流側超関数は、変化できる。 * ダクト内部の有効断面渦の個数は、変わることができる。 * 渦フラッタリング・モードは、大部分は定期刊行物自然の中で興奮していても
よい。 * 炉心流量によって、または表面仕上げフィンで強く相互に作用している二次の
かさ渦は、現れることができる。この種のパターンは、かなり全体的な空力のブロッケージ効率を増やす。渦巻の
ような空力のブロッケージ結果の結果として、入口およびアウトレット間の圧力
低下のような外部状況が変更される起動または阻止シーケンスのような一時の活
動中のピリオドまたは時の間、SASO-デバイスは、独特な応答を有する。この種
の遷移状態に対するSASO-デバイス応答は、SASOに基づく真空支援体系の比要求
に従う有利な過渡特性（例えば固定したか低速の応答、なめらかな応答、その他
）をなしとげるように設計されていることがありえる。

【００１８】図1bは、幾何学的な本発明の態様を示す。さまざまなSASO-デバイス構造用部材
の次の詳述はSASO-デバイス指標上のその影響と同様に各々のエレメントの中で
機能している本質によって、与えられる。そして、方法で、それは流れを遮断す
る渦巻のようなフローパターンに影響を及ぼす。第1のエレメントはSASO-デバイ
ス・ダクト(9)である。そして、それは共役差積圧力の2つの「リザーバ」、入口
(2)に隣接して位置するものおよびダクトのアウトレット(3)に隣接して位置する
もう一方の間で連結する。SASO-デバイス・ダクトは、直線、図2a、200において
、伸ばされることができるかまたは曲がりくねったコース、図2a、201,202に沿
って一直線に並べた。図2aは2-次元の相だけを図で示すSASO-デバイス・ダクト・コースがまた、三次
元方法において、曲がりくねっていることがありえることを明らかにする、この
ように、流体はいかなる望ましい向きも、距離および所在に運ばれることができ
る。ダクトの横断面面積の下流側超関数は、ユニフォーム、図2a、200（末広がりの
、図2b、203、あるいは、他のいかなる実際的な超関数の中でも、一点に集まる
、図2b、204）であってもよい。ダクト横断面が、あるかもしれない長方形の、図6a、220,222、大幅に円の、図6
a、221,224、あるいは、特定の真空支持タスクによって、書き取る他のいかなる
外形の中でも、屈折線、図6a、223。 SASO-デバイス・ダクトの横のディメンションは、「a」（図1bを参照のこと）に
より示される。SASO-デバイス・ダクトの内部壁面はなめらかでもよいか薄い境
界層の範囲内で小規模乱れを高めるためにあらくてもよい。そして、ダクト隔壁
に取り付けられる。粗面壁の場合、表面摩擦は増やされる。同じ物質のために、ダクト・インターナ
ル隔壁は、また、壁乱流の引き金を引くローカル流れの剥離を高めるための小さ
い押出加工障害（なるべくなら境界層広さより大きい否定）を備えていることが
できる。フィン(13)は2つの対向するフィン列（14,15）のうちの1つの会員であ
る。そして、SASO-デバイスの特殊なインターナル幾何学を形づくる。フィンの
対物レンズは、力流れの剥離にある、そして、従って、渦度流れを発生させるこ
とは、模倣する。あるいは、図1bに示すフィンが全体的な炉心流量方向およびダ
クト隔壁に関して傾けられることが可能であるように、このように流れを正面削
りする。

【００１９】フィンの曲面は、平らでもよいかまたは、分離指標を操作するために、他のもの
の中で曲面幾何学を予め定めた。1つのフィン列からのフィンの代表的なフィン
・スパンは、ディメンション「図1b.に示すように、b"により示される第1のフィ
ン列の第1のフィンにとって最も近く、対向するフィン列のフィンのフィン・ス
パンは、「c".により示される両方のフィン列のフィン・スパンは、図1bまたは変化することにて図示したよう
に、ユニフォームでありえる。フィン先端部(16)は、鋭くてもよいか、あるいは
、いかなる合理的外形の中でも、鈍くてもよい。フィンの好ましくは各々は大幅
にダクトの半分を遮断する、このように、「b」および「c」は各々大幅に水力直
径「a」の半分である。フィンの2つの対向するアレー間のギャップは、「図1b.に示すように、d"=a-(b+
c)である値のための3つの実際的な可能性があるために、「d"：dは、ゼロ（図6b
（212）を参照のこと）より大きい：ほとんどまっすぐな炉心流量は、図に示す
ように開発される-5a.。ゼロ（図6b（211）を参照のこと）に接近しているd：ギャップは大幅に減らされ
る。そして、図5bにおいて、実例を示すように、炉心流量はシヌソイドに関する
ようになる。 dは、ゼロ（図6b（213）を参照のこと）より小さい：フィンは部分的に重なる。
そして、正弦波の運動は拡大される。本発明の原理のプロジェクトの実施のため
に、事件の「d」の絶対値がダクトの横のディメンションより小さいオーダーの
中でなければならないこと「」。なるべくなら前記絶対値は、前記ダクトの隣接
の横の広さの20%を超えない。横に正弦波の運動がフィンの幾何学的な細目に、また、ギャップ「d」に依存す
るだけではない炉心流量。加えて、通しのものはレイノルズNo.増加を流すとき
に、横に正弦波の運動を、拡大できる。強い炉心流量運動が存在するときに、フ
ィン接面の辺面積での炉心流量の局所型衝突は図5cに示すように開発されること
ができる。フィン先端部のフィン外形および特に外形はかなりSASO-デバイス性能に影響を
及ぼすことができる。−その理由は、次のことにある。流れはフィン先端部と分
離する。フィン先端部は、鋭くなることができる（図6c,230）か、丸くなることができる
（図6c,231）かまたは太針の中で切ることができる、図6a、232,233。フィン先
端部は通常本当の3つの次元の事実の曲線である。そして、「はく離点」は事実
「分離曲線」である。そして、それは大幅にコア-流れ運動向きに対する垂直線
である。「分離曲線」は、あるいは、フィン先端部曲率に対する対応またはフィ
ン・スパンの側方分布において、いかなる予め定められた曲率の中でも、直線で
あってもよい。フィン・スパンは横にユニフォーム、図7c、241、対称的に丸く
カーブする、図7c、242でありえる形づくられる、図7c、243かまたは横に傾けら
れる、図7c、244「Ｖ字」、あるいは、非据え付けの挙動の中で、「分離曲線」
は大幅に鋭いか鈍いフィン先端部に固定できる（事務用品）。非据え付けの挙動
は、丸いフィン-先端部の使用によって、書き取ることができる。フィン曲面は
、なめらかでもよいか、小規模境界層乱れを発生させるために、あらくてもよい
。事項において、特に丸いフィン-先端部事実のフィン-先端部多角形領域の粗さ
を使用することによって、流れの剥離の指標は、操作されるかもしれない。流れ
の剥離の不安定な指標はかなりSASO-デバイス性能を改良できる、それがそうす
ることができるように、より能率的に直通流れを遮断できる複雑な不安定な渦度
流れパターンの引き金を引く、このように、真空支援体系の寄生体MFRはよりは
るかに減じていることがありえる。

【００２０】実際問題として、SASO-デバイスは、以下を含む：複数のフィン。このように、S
ASO-デバイスに改良された指標を供給するために、さまざまなフィン結合は、ダ
クト内部で構成されることができる。一般性を減じずに、次の結合は、手に入る
： * 全体のSASO-デバイスの全体にわたる一定の幾何学的な縦断面図を有する1つの
フィン形。 * 下流側向きのフィン幾何学的な外形変化以外の、1つのフィン形。例えば、自由の末広がりの超関数は「d」（図7dを参照のこと）にすき間をつく
る、または、代わりに、一点に集まる超関数。 * フィン形の結合。 1つのフィン形の使用が好ましいにもかかわらず。 * フィンは、主流運動と関連して傾けられることが可能である。フィンを離れた流れの剥離からの結果として、渦巻のような空力のブロッケージ
機械の基本的なSASO-意見が確定される限り、上で言及されるいかなる幾何学の
細目の中でも、フィンのいかなる外形も、SASO-デバイスにおいて、許される。
定義される最後の幾何学的なエレメントはSASO-セル(17)である。そして、図1b
の対角線におおわれる。 SASO-セルは、2つの連続的フィン（18,19）、ダクト隔壁(20)およびダクトの中
心線（21）によって、制限する空洞である。SASO-デバイスは、連続的SASO-セル
の2つの大幅に対向するアレーから成る、そこにおいて、図1bに示すように、対
向する集合の1つのフィンが、第1の集合の各々のSASO-セルの反対側に、そこに
存在する。SASO-セルの基礎の横のスケールは、大幅にフィン高さ、「b」（また
は「c）またはおおよそダクト・ラテラル・ディメンション（「a/2」）の半分で
ある。フィン（図1bの「e」により示される）間の縦のギャップは、SASO-セル・
ピッチである。それが通常事実であるにもかかわらず、のが常に対向する集合の
SASO-セルの正確なセンターリングを正面削りしている対向するフィンを配置す
ることが、必要でない、そして、それがセンターリングを離れてあってもよい。
あるいは、いかなる実際的な下流側超関数の中でも、SASO-セル・ピッチ「e」は
、一定でありえる。SASO-セルの空洞において、主要な渦は、開発される。発達
した渦は、通しの流れがダクト内部で維持される場合にだけ、開発して、SASO-
セルを生存する動的流体構造である。渦は、まわりの流体の渦運動である固定し
た、または、不安定な仮想の軸。不変の渦は、不変の速度場を誘導する完全に発
達した渦である。定常状態状況の場合には、主要な渦は、図1aおよび1bにて図示
したように、クローズド流線によって、特徴づけられる。それは質量の流れ垂直
線が渦にないことを意味する、このように、それは有効な流体柵関数として役立
つことができる、固体がそれにフィンを取り付けるように、入って来る流れを正
面削りする。主要な渦が不安定な自然の中であるときに、SASO-セルの範囲内で
大幅に維持されるスチル以外は、周期的にまたは無秩序にさえ動くと共に、それ
はゆがめられることが可能である。この種の不安定な事実において、渦流線が必
ずしも閉じているというわけではない、そして、炉心流量を有する若干の質量交
換がある。それにもかかわらず、実際に話して、渦スチルは、効果的な「流体」
柵関数として役立つ。

【００２１】主要な渦の不安定な自然は本発明に一致において、非常に重要である。−その理
由は、次のことにある。それは渦および炉心流量間の複素数干渉の引き金を引く
ことができる。それは、また、渦間の縦の干渉の引き金を引くことができる。これらの干渉は、
故意に呼び出されることができて、かなり空力のブロッケージ効率を改良するこ
とができて、さらに本発明のSASOに基づく真空支援体系の性能を高めた。渦巻の
ようなフローパターンは強くSASO-セルの隔壁と相互に作用する。そして、粘い
壁面摩擦を含む。不変で不安定な粘い干渉の事実は、別に処理されなければなら
ない。一般性を減じずに、図3a-3hは、SASO-セル壁を有するさまざまな渦巻のよ
うなフローパターン間の可能な若干の干渉を図で示す、そこにおいて、炉心流量
を有する干渉は、こみ入っていてもよい。不変の指標の干渉は、図3aに示される、そこにおいて、原理大幅に据え付けの渦
(6)は、SASO-セル内部で開発される。図3bは、大部分は時間-定期刊行物自然の
中で、弱い非不変の干渉が渦が内部を変形させて、シフトする位にSASO-セルを
持っていって、炉心流量と相互に作用する事実である。渦は揺動する（矢（30）
により表される向きの）。そして、それは炉心流量に、自由な通路をたどるため
にそのコースを局所的に変更することによって、調整されさせる。そして、それ
は矢（31）の方向にしたがって、シフトする。例えばそばにSASO-デバイスの所
望のスケールを選んで、非定常性が流れに導入されるときに、空力のブロッケー
ジ結果はかなり増やされることができる。代わりに話すこと、本発明の2つの基
本的な特色、MFRの強烈な換算および有意は、増加する（Pは、両方とも修正され
る。通常、不安定な渦巻のようなパターンの場合には、空力のブロッケージ結果
のさまざまな相は、時間の平均化された数量に関して処理されなければならない
。図3aおよび3bに示される流れを有するSASO-セル壁の干渉は特徴的な本発明の
態様に光を与えた。そして、その独特な渦度流れ機械から生じた。そのような場合、ダクト隔壁に作用する粘い摩擦力は、従来であるかラビリンス
のようなダクトで見つけられる粘性力に、反対方向において、ある。それは、粘
い摩擦力の向きを変更するSASO-セルの渦内部である。SASO-科学技術を使うこと
によって、二次の渦巻のようなフローパターンを使用することによって、隔壁粘
性摩擦力の向きを、操作できる。

【００２２】本質的に据え付けの自然の副振動体渦（33）は、原理渦およびSASO-セルすみ（
図3cを参照のこと）の間で現れることができる。この種の小規模渦は特殊なセル
幾何学を用いて、故意に始められることが可能である、図3dを参照のこと、そこ
において、ダクト隔壁(12)は、押出し成形している構成エレメント（34）を備え
ている。あるいは、フィン・スパン「b」が拡大されるときに、主な渦のこれら
と同様のスケールの中で、二次渦（35）は現れることができる（図3eを参照のこ
と）。この二次渦（35）は、通常減じた循環の中である。他の場合には、原理渦
(6)は、SASO-セル空洞内部で、傾斜した位置決めに炉心流量(8)によって、しい
られていてもよい。この種の場合、小さい二次渦（35）またはいくつかの渦は、
SASO-セルの図3fに示す様に「空いている」すみ多角形領域において、現れるこ
とができる。粘性摩擦を操作するための多くの可能なSASO-科学技術ツールの少
しが強制する事件において、図3c、3d、3eおよび3fにおいて、図で示される結果
として生じる渦は、ある。この種の制流は、かなり本発明のSASOの2つの基本的
な特色を修正できる−MFRを減らして、そして、増加する（P、このように、新し
い真空支援体系は、それ以上の減らされた寄生体MFRによって、そして、ノイズ
を減らすことにより修正されることができる。「自由な」発達した（幾何学上強
制されてない）渦は、水理特性およびそれ自身の構成経歴に依存するそれ自身の
「自然の」スケール（この項によって、我々はその渦度と関連する一体的に定義
されたスケールを意味する）を有する。渦間の整合の疑問は一体的に自然尺度を定義した、そして、SASO-セル（項「ス
ペーシング」により表される）内部で手に入る実際の宇宙空間は本発明において
、非常に重要である。二次元の事実において、渦空間的成長は、二次元の方法の
SASO-セル壁によって、制限する。このように、スペーシングの渦断面相だけは
、現在の吟味に関連する、そこにおいて、受動的な向きの幾何学的な限界は、さらに議論される。確かな状
況の、そこにおいて、SASO-格子サイズは効果的により大きいか一体的に定義された自
然が拡大・縮小する、実際に話して、渦がなしとげない渦より小さいその十分の
ポテンシャル、このように、それは空力のブロッケージ機械に関するより少ない
有効断面である。実際に話して、「最適のスペーシング」の状態はなしとげられるかもしれない。
そのとき、渦が一体的に自然尺度を定義したより、SASO-セルの大きさはわずか
に少ない。この種の場合、それがわずかに変形させられて、集中的にSASO-セル壁によって
、そして、炉心流量によって、相互に作用すると共に、渦は実際にその十分のポ
テンシャルをなしとげる。

【００２３】スペーシング問題は、SASO-デバイス性能に影響を及ぼすとても重要な相である
。特定のSASO-応用に関する最適の構成であることを定義して、真空支援体系にお
いて、使われるために、ベスト性能のSASO-デバイス計画のために、実用設計ガ
イドライン（最適のスペーシングをなしとげるために）を提供することは、SASO
-科学技術のタスクである。不変の渦パターンという場合は、e/bの推薦された近
似の割合は、1：2およびなるべくなら約1まで1：1の範囲である：1.5。3つの次
元のエレメントが含まれる事項において、または副振動体渦がある不変であるか
非不変の自然または時のより複雑な渦巻のようなフローパターンにおいて、SASO
-ダクト内部配置がより複雑である時は炉心流量および／または主要な渦を開発
して、相互に作用する、または、渦巻のようなフローパターンが本質的に三次元
のときに、この割合は計画の初めのガイドラインと、もはやみなされることがで
きない。SASO-デバイス渦度流れパターンは、より複雑になって、レイノルズ数
（re）が増加するように、非定常流機械を含む。Re個数が増加するときに、不安
定な二次の渦は炉心流量および主な渦の間で開発されることができる。これらの
渦の代表的なスケールは炉心流量広さに同様である。そして、かなり原理渦より
小さい。これらは、複素数周期数についてはまたは混沌とした道にさえおいて、開発する
ことができて、周期的なモードの下流側を移動できるかさ渦である。これらのか
さ渦は激しく炉心流量と相互に作用する。そして、不安定な指標の炉心流量は達
成される。かさ渦が直接に炉心流量（不安定なコア-流れ「故障」）に直面する
時が、起こることができる。加えて、表面仕上げフィン上の炉心流量のローカル衝突は、起こることができる
。図3gにて図示したように、かさ渦（36）は、地元にSASO-セルの中に存在でき
る。それらは、また、下流側を移動することができて、連続的SASO-セルと相互
に作用できると、図3hが知る。流れの不安定な自然は、かなり基本振動が本発明
の中で特徴とする空力のブロッケージ結果および影響を修正できる、すなわちMF
Rを減らして、増加する。（P. 不安定な渦度流れパターンの恩典を実行して、利用することは、SASO-科学技術
の範囲内である。強く炉心流量によって、そして、原理渦によって、相互に作用
するトラベリング渦の外観は、波形のモードを伝播している下流側をつくること
ができる、そこにおいて、複数の渦は、各々と「通信する」。二次の渦および炉
心流量間の直接の干渉の結果として、ラテラルの、そして、縦の炉心流量速さの
瞬間的な大きい換算は、局所的に開発されることができる。従って、表面仕上げ
フィンに関して、強く乱された炉心流量は、不安定なやり方で打つことができる
。レイノルズ数に（に関して）よりさらに増加する（例えば、SASO-ダクト横の
スケールを増やすことによって、）、副振動体渦は発生させられることが可能で
ある。そして、渦および炉心流量間の直接の干渉はより激しくなる。従って、空
力のブロッケージ結果は、かなり増やされることができる。

【００２４】さらに、SASO-科学技術は、これらの不安定な渦/炉心流量干渉を改良された指標
のSASO-デバイスの計画のために利用することを必要とする必要なノウハウを提
供する。本発明は、全てのこれらの不安定な二次の渦パターンをおおう。したがって、SA
SO-意見は、即座に炉心流量を遮断できるまた、二次のかさ渦を含むためにこの
後のばされる。炉心流量ラテラル・スケール（または炉心流量広さ）は、SASO-ダクト水力直径
よりかなりせまい。炉心流量速度分布およびその広さは、外部の圧力低下（さま
ざまなSASO-デバイス内部配置）によって、そして、特にSASO-ダクト内部で開発
される渦度流れ-電磁界パターンによって、本質的に決定される。流れが残余残
高から速力を増すときに、大きい横の振幅の正弦波の下流側流体運動によって、
特徴づけられて、初めの炉心流量はより広い。そして、フィンおよびダクト隔壁
によって、制限する。この一審で、流れは従来のラビリンス式デバイスの流れと
、非常に同様である。後のステージで、全く異なる流れの場は、SASO-デバイス
・ダクト内部で現れる。流れは、特殊なSASO-デバイス構成の隔壁により定義さ
れる内部通路をたどることができない。従って、流れはフィン先端部で分かれる
。そして、2列の対抗している強い原理渦はSASO-セル内部で開発される。渦のこ
れらの並びは、ダクトによる流れの通路を制限する。そして、引き離す、厳格に
よりせまくて、コア-流れ得る。多くの場合、予め定められたRe個数（Re個数が
増加するときに）に関して、炉心流量は不安定な渦巻のようなフローパターンを
含む。支援体系が、個数に関してSASO-ダクトの「水力直径」によって、そして、真空
の活動中の真空レベルにより指定されてあることがありえる。コア-水理特性は
、SASO-デバイス内部配置の幾何学によって、そして、ギャップ（「フィンの2つ
の対向するアレーとの間に、d"）による大きな外延に影響を受ける。ほとんどの
場合、「d」が減らされるように、炉心流量はよりせまくなる、しかし、「d」が
よりはるかに減じているように、横の正弦波の運動は現れることができる。さら
に、ギャップがフィンが重なる（「d"<0）クローズド（「d"=0）または時である
ように、横の正弦波の運動は増やされる。そして、炉心流量広さは増加できる。
これらの2つの矛盾した結果は、b/10の< d <-b/10間の「d」の値が特に好ましく
てもよいという概念をもたらす。これらの矛盾した結果のうちの1つが故意に支
配的になるように、それが、例えば、MFRの換算が重要なときに、実際的な要求
、しかし、否定にできるだけ広義に解釈することを出すことができて、の（Pお
よびその逆。フィン-オーバーラップの次数が確かな値より上に増加するように
、炉心流量がダクト隔壁に再び付着することを強制されるかもしれない点に注意
されなければならない。SASO-意見がもはや支えられないというこの場合におい
て、流れは運動のラビリンス式を採用する。そして、渦巻のようなフローパター
ンは消える。それにもかかわらず、炉心流量が大幅にフィンから切り離されて、
主要部としてこのようにラビリンス・フロー型からの共役差積であって、流れを
遮断する様々な形の渦度流れパターンによって、炉心流量もの長い間支配される
限り、それは本発明に記載されているSASO-意見を維持する。SASO-意見は、特に
寄生体MFR課題に関して、真空支援体系を改良するために直接に実行される。炉
心流量の代表的な広さは、SASO-セル・ダクトの効果的な水力直径である。この
ように、従来のダクトと比較したMFRに関して、大きい横の物理的な寸法（「a"
）を有するSASO-デバイスは、非常によりせまい有効幅員の中で実際にある。

【００２５】代表的な事実において、物理的な寸法および、SASO-ダクトによるMFRに関して、
有効径は、オーダーによって、異なる。この二つからなるスケール挙動（MFRお
よび大きい物理的なディメンションに関する小さい効果的なスケール）は、本発
明の基本的な特色である。特に、大きい物理的なスケールは、汚染物質を含んで
いる流体の場合汚染ブロッケージの危険をかなり減らすことに関して重要である
。SASO-ダクト（すなわち、フィンとの間に、ダクトの範囲内の巻き線通路）内
部の物理的な通路が少なくとも10%流体内部で汚染物質極小量の認識された大き
さより大きいことをさらに示唆される。SASO-デバイスが特定のSASO-応用に指定
されるときに、汚染物質寸法を、予測できる、したがって、その物理的な通路に関連するSASO-ダクト・スケールを、指定でき
る。流れの場およびその構造のプレゼンテーションを単純化するために、今まで
の吟味は、SASO-デバイスの2つの次元の事実に限られていた。しかし、本当の3つの次元のSASO-デバイスのための「受動ディメンション」（受
動 ― 位相的な見解から ― 粘いエッジ効果がごくわずかでなければならないた
めに、広さ「w」により示される物理的なスケールは十分大きいでなければなら
ない。渦および側壁間の大きい速度勾配が渦強さを減らすように、あまりに小さ
い「w」によって、SASO-デバイスが効果がなくなる。最小の広さがしたがって、
少なくとも「b」（図-1bを参照のこと）と同じオーダーの中でなければならない
ことは、推薦される。本発明の自動適応分割されたオリフィス（SASO）は、約2
つの主な概念を持ってくる：自動適応ゲート・ユニット。

【００２６】分割概念これらの2つの概念の吟味は、たどる。各々の渦および対抗しているフィンは「
自動適応ゲート・ユニット」（この後SAGUと称する）を定義する。そして、それ
は、本発明の好適な実施例に従ってSASO-デバイスの断面図を表して、図1bにて
図示したように、本発明の基本単位である。SAGUは、2つの相補的エレメントか
らなる「仮想の」オリフィス・ユニットである、固体元素−フィン、そして、動
的要素（対向するフィン列(15)の2つのフィンの間に位置する渦巻のような流体
構造）。それゆえに、SAGUはダクトによる流体運動が維持される限り、存在する
動的な構成要素である。2つのはっきりしたSAGUタイプは、本発明のために関連
する：放射状SAGU。ここで、フィン(13)は、渦(6)コア（図で示す対向するフィ
ン列（18,19）の2つの連続的フィンの間で、対向するSASO-セルに置かれる）の
方へ、大幅に示す-4a.。接線のSAGU（ダクト隔壁(12)に関して傾けられるフィン
については、フィン(13)が渦(6)の円運動に、大幅に接線であるところ）フィン
および隔壁(12)間の角「α」を定義すること、1つのフィン列のフィンおよび第2
の大幅に対向するフィン列の最も近いフィンの先端部間の最短距離である代表的
な距離「f」を導入することは、図4bを見る。「f」が実質的にフィン列に対抗す
ること間のギャップを定義するように、ギャップ「d」に注意することより上に
与えられる冗長な会計は必要な改正を有する「f」にあてはまる。両方のSAGUタ
イプからなる複合型SASO-デバイスは、また、本発明のスコープに含まれる。有
意のために、流体-動作抵抗（数個SAGUsを組み入れているSASO-デバイス）の増
加は、2つの相の訴える工学強みの中でありえる： * 通過流は、渦によって、大幅に遮断される、そして、従って、同じ水力直径の従来のダクトによるMFRと関連して、MFRは劇的
に減らされる。 * かなり増加する内部の圧力低下（P）、従来のダクトと比較して、ダクトの範
囲内で開発する。これらの2つの相が機能的に関することはここで強調されなければならない、そ
して、それはこの相互の依存を操作して、利用するSASO-科学技術である。

【００２７】本発明のSASOの第2の基本的な物質は、分割概念である。実際問題として、か
なり機能しているSASO-デバイスを構成するために、SAGUsの結合を使うことは、
有益である。これは、さまざまな真空支援体系応用のための要求を設計している
比を果たすために、SASO-デバイスに新規であるか改良された予め定められた特
色を供給するSASO-科学技術のエッセンスである。基本的な本発明の態様は、S
ASO-デバイスの自動適応自然である。この種のデバイスは、従来のデバイスとは
異なって変わることまたは不安定な外部状況に応答する。特に、SASO-デバイス
は、外部の条件が安定でないかまたは故意に変わらなかった、または、調節でき
る官能性が異なる工学要求を満たすことを必要とする上限である。最終的に、渦
巻のようなフローパターンの動的な自然および炉心流量を有する渦の可能な干渉
は、SASOをその適応挙動とする。SASO-科学技術は、2つの本質的に異なる工学相
を操作するために用いることがありえる： * 空力ブロッケージを発生させることによって、SASO-デバイスは、使って制限
するかまたはダクトによるいかなる流体もの運動を制御する。 * SASO-デバイスは、空力ブロッケージを発生させることによって、相当な内部
圧力低下を控えるために用いることがありえる。本発明の基本的な意見は、次の計算書によって、明らかにされる： SASO-デバイス特殊な構成が渦度流れ電磁界パターンの現像を課す限り、本発明
の自動適応分割されたオリフィスにより課される空力のブロッケージ機械の好適
な実施例に従うSASOは効果的である。そして、このようにダクトによる流れの上
の相当なコントロールをなしとげる。ダクトによる流れが始まるときに、渦はま
だ開発されない、したがって、頭文字MFRは比較的大きい（移り変わるピリオド
の間）。ショート移り変わるピリオドが終わっているように、渦巻のようなフロ
ーパターンが完全に開発されて、能率的にダクトによる流れを遮断して後で。そ
の結果、MFRは徹底的に減じていて内部の圧力低下である（P）かなり増加する。
この移り変わる結果は、本発明の自動適応自然の原因となる。渦巻のようなフロ
ーパターンとしてのダクト（自動適応方法のSASO-デバイス「リアクタ」）によ
る流体開始自噴が即座に開発されて、空力である時は、流れを遮断する。移り変
わるピリオドも、SASO（本発明のとても重要な特色）の複合の機能している自然
を呈する、そこにおいて、共役差積性能は、共役差積使用条件でのSASO-デバイ
スまたはそれが作業条件を変化させることで働く時により呈される。渦および従
ってMFRの指標、そして、（Pは、強くさまざまな流れの場現象に、そして、最も
重要なことに内部渦度流れパターンを書き取らせるSASO-デバイス・ダクトの内
部配置に依存する。自動適応ゲート・ユニット（SAGU）は、構造用部材および流
れの場エレメントを特徴とする本発明の基礎成分である。

【００２８】したがって、SAGUはゲートの「動的な」タイプと考えられることが可能である。
SAGUは、次のエレメントを含む：SASO-デバイス・ダクト隔壁一方の側に、uもの
SASO-セル。フィン（対向するダクト隔壁上の）の対向するアレーのuものフィン
。不変であるか非不変の自然の可能な二次の渦については、u一つの原理渦。1つ
のSAGU（対角線でおおわれる）の図解は、図1bにおいて、与えられる。SASO-デ
バイスは一つ以上のSAGUsから成ることができる。そして、図1bで示す非対称構
成において、順番に整えられる。複数のSAGUsが使われるときに、不安定な渦巻
のようなフローパターン、強い渦/炉心流量干渉およびSAGUs間の通信はかなりSA
SO-デバイスの実際的な指標を修正できる。プレゼンテーションの透明度のため
に、1種類のSAGUだけは、これまで導入された。本発明のSASOに対する一致にお
いて、SAGUの2つのはっきりしたタイプを、考慮できる：u／放射状SAGU（大幅に
SAGUフィンに対して垂直な炉心流量によって、特徴づけられる）。このSAGUタイ
プは、示されて、図1a、1b、3を図で示されて、さらに図4aに記載されていたも
のである。u接線のSAGU（図4b.に示すように、SAGUフィンに局所的に大幅に平行
の炉心流量によって、特徴づけられる）接線で放射状のSAGUsの結合がそうする
ことができるuは、異なるSASO-応用要求を果たすために、単一のSASO-デバイス
において、インプリメントされてあって、また、ある本発明のSASO-意見が維持
される限りスコープによって、おおう。接線のSAGUの物理的なディメンションの
デフィニションは、無関係になるギャップ「d」を除いて、放射状のSAGUのため
に定義されるディメンションに同様である。二変数（角）「（「そして、距離「
f"、図4bで示す接線のSAGUの効果的なギャップを定義する。角「（「ダクト隔壁
に関するフィンの位置決めを定義して、そして、全てのフィンで同一である必要
があるというわけではない。ディメンション「f」は、図4bに示すように、第2の
集合のフィンに対抗することへの1つの集合からのフィンの先端部間の最短距離
である。て、本発明の基礎の意見はまた、接線のSAGUの場合支配的である、しか
し、細目は異なってもよい。接線のSAGUおよび放射状SAGU間の基本的階差は、フ
ィンに対する緯線である炉心流量運動のために、開発される局部的な隔壁-噴流
である。2つの有意相は接線のSAGU流れの場と放射状のSAGU流れの場を区別する
。そして、表面仕上げ上の炉心流量のコア-流れ横の波形の運動および比較的激
しい局部的な衝突の増加する振幅はフィン（放射状のSAGUを有する比較のための
図4aを参照のこと）である。従って、流体-動力力の異なる超関数は、SASO-セル
壁に発生させられる。これらの現象は、すなわち、本管がMFRを減らして、増加して本発明の中で大き
な位置を占めることをかなり影響を及ぼすかもしれない（P、新しい真空におい
て、有益に実行される重要な特色は、本発明の系を支持する。放射状のSAGUと比
較すると接線のSAGUのはっきりした他の相は流体-動作抵抗の換算である。その
とき、流体流動方向は逆にされている。放射状のSAGUが流向に関して「対称形の
」自然の中である間、その点で、接線のSAGUが「非対称」自然を有することは、
事件による。たとえば、この接線のSAGU「二つからなる挙動」は有益でもよい。
そのとき、異なる流体-動作抵抗は、異なるMFR要求については、異なる活動中の
ステージにおいて、噴射するかまたは流体を吸い込むことを必要とする。

【００２９】本発明およびSASO-科学技術のSASOの第2の原理概念は、分割概念である。それは
、要求を設計している比が複数のSAGUsの連鎖配列によって、果たされることが
できると述べる。このように、SASO-デバイスは、複数の同一のタイプSAGUsによ
って、または複数のSAGUタイプの結合を使用することにより構成されることがで
きる。換言すれば、各々のSASO-デバイスは、特定のSAGU順列、SAGUsの個数および使用するSAGUsの
タイプによって、特徴づけられる。同じ基礎成分（SAGUs）があることがありえ
るこの道の-、広範囲にわたるSASO-応用のためにインプリメントされるために、
共役差積指標のSASO-デバイスを設計するために利用する。このように、分割概
念（計画のSASO-科学技術手順に含まれる）は、特定のSASO-デバイスに沿って、
SAGUがタイプする選出および使われるSAGUsおよびSAGU軸の順列の最適の個数を
含む。したがって、計画において、一緒に組立てられるSASO-デバイス入口また
はアウトレット右逆写像のいかなる構成も有する会社において、SAGUsのいかな
る結合も、本発明によって、おおわれる全部である。大幅に、さまざまな工学学
科の中で、さまざまな受動または能動手段を有する可能な法人設立を含んでいる
渦巻のような空力ブロッケージのSASO-意見に基づくSASO-デバイスのいかなる変
化も真空支援体系において、実行される本発明のスコープによって、おおわれる
点にさらに注意される。

【００３０】本発明は、以下を含む：はっきりした構成を有する多種多様なSASO-デバイス。
添付の請求項に記載の本発明のスコープを制限せずに、任意の若干のSASO-デバ
イスは、この後記載されている。基礎のSASO-デバイスは、矩形断面で「SASO-
チューブ」である、図7aの図で示す。それは、本質的に三次元SASO-デバイスで
ある、そこにおいて、代表的な広さ「l2」の第三次元は、「受動向き」である。主要な流体動的なパタ
ーンが二次元の指標の中であるにもかかわらず、三次元指標の二次流れ影響は現
れることができる。側壁（「受動」向きの）に接近するときに、流れは三次元自
然の中である。「l2」（図7a）が十分に小さい値に着くように、流れはかなり三
次元自然に起こる。そして、粘い結果はかなりSASO-チューブ性能に影響を及ぼ
すことができる。それが渦巻のようなフローパターンの強いディケイに引き起こ
すことができる事項において、このように、空力のブロッケージ機械は、厳格に
悪化できる。「l2」の寸法が、少なくとも、実際に上記のウォール効果を避ける
ために「l1」と同様でなければならないことは、推薦される。基礎の二次元の構
成の2つの側面図および1つの上面図は、図7bにおいて、図で示される。2つの対
向するフィン列については、私が「活性の」ディメンションに見せるラテラル側
面図。側面図IIは、インタレース（真理でなく画角が交錯している結果に提供するコー
スの中で、これはある）ように見えている両方のフィン列の断面図を示す。上面図IIIは、入口で最初の2つの対向するフィン（4,5）を示す。すでに、言及
されるように、図7cに示すように、スパン超関数のフィンは別に横に任意である
。

【００３１】図6bは、横断面またはフィンが輪郭を描く、フィン縦断面図がそうすることがで
きる任意のいくつかのフィンは、長方形（212）で、鋭くて、曲がっている（211
）（210の）、または、異なるフィンの側面（215）のである。フィン・ケンス・
オーバーラップ（213）または否定（212）のまたはそれら（211）間のギャップ
のないアレー。フィンは、SASO-ダクト隔壁（212）に、垂直に取り付けられるこ
とが可能であるかまたはSASO-デバイス・ダクト隔壁（214）に関して傾いた。フ
ィン順列は、流れ方向（214-215）に関して異なる挙動を提供できる、または、
流向（210-213）に感覚によらないこと。共役差積フィンを使用することによっ
て、さまざまなSASO-チューブ指標は、比要求を果たすために操作されることが
できる。明記しとしてよく機能している真空支援体系のための特定のSASO-応用
要求に従う計画のSASO-科学技術手順によって、この基礎のSASO-デバイスは、同
一のSAGUsの予め定められた個数から成る。修正されたSASO-デバイス、すなわち
「SASO-スロット」、「l2」が受動的な向きに沿ったフィンの横長である事実の
定義する「l1」（第2の横の向き）にそれからかなりより大きくある、そのこと
は図6a（222）において、実例を示す。伸ばされた長方形の横断面のこの基礎のS
ASO-スロットの範囲内で、境界層および、スロットの端で、結果として生じる粘
い結果の横のスケールが「l2".に関して実際にごくわずかであるように、流れは
本質的に二次元である、従って,炉心流量広さの一次元の横の抑制（渦によって
、）、または、あるいは、談話（空力のブロッケージ機械）はかなり改善される
ことができる。具体化が図7d、7eおよび7fにおいて、与えられる方向SASO-デバ
イス、そこにおいて、流れが向きにおいて、逆転するときに、流体-動作抵抗は
かなり共役差積になる。非対称縦断面図（215）および傾いたフィン（214）は、方向SASO-デバイスであ
ると、図6bが知る。また、収束およびダイバージェンス・ダクト（図2b 203,204
）は、方向SASO-デバイスを確定する。その上、図7dは「方向」SASO-デバイスで
ある、そこにおいて、フィン（14,15）のスパンは、予め定められた流向xにおいて、徐々に短くなる。
本実施例において、流向が逆にされている場合、空力抗力が両方の向きにおいて
、同様であるというわけではないように、炉心流量は向きxまたは近似分数にお
いて、末広がりである。

【００３２】図7eは、異なる方向SASO-デバイスである。そこにおいて、フィン（14,15）の1
つの曲面は、例えば、平らである。そして、フィンの向側は曲がっている。この
場合、渦巻のようなフローパターンおよび炉心流量の指標は異なって操作される
。そして、空力抗力は変化する。そのとき、流れはその向きを変える。実際、接
線のSAGUに基づくSASO-デバイスは、方向SASO-デバイスの代表的な実例である。
図7fは、異なる「方向」SASO-デバイスを示す、そこにおいて、2つの連続的フィ
ン間のピッチまたは距離は、予め定められた流向xにおいて、徐々に変わった。
これまで議論される実例は、開いた曲がった渦線（2つの末端を有すること）を
取扱っている全部である。SASO-スロットの特殊な事実は環状のSASO-スロット（
図-8に示される）である。そして、それは閉ループ渦（この場合、渦環の2つの
アレー）の2つのアレーをつくる可能性を呈する。図8aは、2つの対向する環形のフィン・アレー（トップ2つのフィンは、図8aに示
されて、また、図8bのフィン（53、54）を見る）を有して、環状のSASO-スロッ
ト（50）である。そこにおいて、図8bに示すように、環状のSASO-スロット・ダ
クトは、半径r2の半径r1および外壁（51）の内部隔壁（52）を有する。図8bは、
環状のSASO-スロットの断面図である。そこにおいて、環形のフィン（53,54）の
2つのアレーは、円環流路の内部隔壁（51、52）の範囲内で配置される。環状のS
ASO-スロットにおいて、形づくられる渦巻のようなパターンは、渦環（55、56）
の2つのアレーの形である。この構成において、渦環による炉心流量抑制がまた、一次元の指標の中である点
に注意する。

【００３３】 3つの次元の指標の中で、SASO-デバイスで異なるタイプは、図9aにおいて、示さ
れる。 SASO-デバイスのこのタイプは、ラテラルの「L」を有する矩形断面（図9b）が連
続的にすみに対抗することに位置するフィン（14,15）を形づくった効果がある
。図9cは、SASO-デバイスの最初の2つのフィン（弓形Ｕ字形および弓形D）の
縦の横断面見解を表す。SASO-デバイスのこの3つの次元のタイプにおいて、炉心
流量は2つの次元の方法の渦によって、横に抑制される。この種の抑制は、SASO-
デバイスの3つの次元の変化の最上位の問題である、そこにおいて、1つの2つの
次元のSASO-デバイス変化において、炉心流量抑制は、1つの次元の指標の中であ
る。2つの次元の横の炉心流量抑制の結果として、3つの次元のSASO-デバイス構
成の空力のブロッケージ効率は、改善されると思われる。同様の他の二者択一は、図9dに示される、そこにおいて、「Ｕ字形」形づくられ
たフィン（14,15）は、屈折線横断面を有するダクトの範囲内で取り付けられる
。内部螺旋構造を示している単一のフィン（41）については、円の横の横断面を
ここで所有して、図-10はダクト（40）から成るSASO-デバイスの縦の横断面見解
を図で示す。それは事実1つの螺旋形フィンである。そして、任意に流れの剥離
を実施して、幾何学パラメータの比結合で引き起こされることができる螺旋流れ
運動の自然の選出を防ぐためにデバイスに沿って分配される柵関数（42）を備え
ている。この種の柵関数の共存系が重要でなくて、流れの剥離を改良できる点に
注意する。これは、炉心流量がつる巻の渦によって、2つの次元の周囲の方法の
全ての向きから、横に抑制されている次元のSASO-デバイス・タイプが開発した
三である。したがって、SASO-デバイスのこの種の構成は、本質的に有効な異な
る高めている空力のブロッケージ結果である。さらに、この構成は、二つからなる通路を流体流動に対して提供する。流れは、中央通路のフィンおよび手番と分離できるかまたはフィンに沿って円周
方向に動くことができる。柵関数の有無にかかわらず、幾何学的な計画は、流れ
を作るために狙いを定められる第1のルートに選んで、そして、SASO-チューブと
してのこのように得ている同様のパターンが記載したフィン（つる巻の渦を有す
るフィンの後につる巻の空洞を充てんすること）から、分かれる。しかし、局所
的に物理的に流れを遮断して、いかなる種類の汚染が中央通路に入れられる場合
、SASO-チューブのこのタイプは二者択一通路（局所的にこの障害を克服するつ
る巻のルート）を提供する、そうすると、履歴書、中心の分離ルート、自己適応
方法の、または、次の柵関数（それが存在する場合）により強制される。それが
機械のブロッケージで「ほとんど自由である」その強みを有するSASO-デバイス
を提供して、このように厳しい汚染環境が存在する応用の井戸を動かすことがで
きた時から、この二つからなる通路指標は非常に重要である。螺旋形フィン先端
部により定義される中央通路は、前記ダクトの水力直径と比較するとより小さい
オーダーの中である。なるべくなら前記通路は、前記ダクトの隣接の横の広さの
30%を超えない。任意に、両方のフィン末端は、つる巻の渦をつかむためにシー
トとして使用する押出加工リム（フィン曲面に大幅に垂直線を突設すること）を
備えていることができるでその両方の末端。

【００３４】 SASO-デバイス（例えばフィン構成、寸法、テクスチャおよび外形、その他）の
内側形体は、したがって、螺旋形フィンSASO-デバイスにもあてはまる。本発明の好適な実施例に従う自己適応真空支持器械は、一つであるか数真空-ダ
クトを含んでいるロボットアームでありえるかまたは、代わりに話して、パッド
を掃除機で掃除できる。事務用品位置において、固定されるウェファをつかむか
または観測点から観測点までそれを運ぶために、この種の系は、SC工業に奉仕で
きる。真空支援体系は、以下を含むまっすぐな真空-フィーダであってもよい：例えば
、論文辺をつかむ論文フィーダとして使われるために、真空-ダクトのコラム。
真空支援体系は、真空-構造（複数の真空-ダクトが使われる平面）でありえる。
真空構造の使用のための1つの実例は、AOI工業の間のPCB物質の待機である、そ
こにおいて、真空支援体系官能性は、直接にAOIプロセスの晶質および効率に影
響を及ぼす。真空支援体系は、複数の真空-ダクトを備えている真空-太鼓であり
える。実例は、印刷および技術-図学工業の回転真空-太鼓に、版面をつかむ真空
手段の使用である。実際、（一般的に言って）、対象を正面削りする真空支援体
系接触面は、いかなる合理的な幾何学の中でもあることができる。この接触面は
、それがそうすることができる空洞または溝を含むことができる一つ以上の真空
-ダクトを連結する。それは、実効面積を増やすために共通にされる。真空支援体系は、1つのバール（この後「真空と称する）より通常低く、対象お
よび低気圧一方の側に作用している周囲圧力間の圧差を使用することで握持する
かまたは対象（この後「対象と称する）を支えて、待機のための一般の中項であ
る。そして、対象が側に対抗することに導入される。

【００３５】本発明の自動適応真空支持器械は、空力ブロッケージの流体-力学機構を使う系
である。本発明の主要な対物レンズは、寄生体MFR（システムの故障に対する一般のソー
ス）の実際的な問題解決法を提供することになっている。支援体系がそれらの有
意個数以外の複数の真空-ダクトが否定である効果がある真空が保たれる対象に
よって、カバーするときに、かなり大きい寄生体MFRはしばしば分かる。真空支
援体系が渦巻のような空力のブロッケージ機械（この後SASO-ダクトと称する）
に基づいて、新しい真空-ダクトを備えるときに、寄生体MFRは劇的に減らされる
、それでも、必須の真空力は維持される。 SASO-ダクトは、空力ブロッケージを書き取らせる特殊なインターナル幾何学を
有する。 SASO-ダクトが開いている。そして、通しの流れが存在する場合にだけ、この種
のブロッケージは明白である。SASO-ダクトが閉じるときに、流れは止まる。そ
して、真空は対象に途切れずに導入される、このように、静止の状態が本質的に
存在する。従来の真空-ダクトに基づく一般の真空支援体系と関連して、外の環境に関するS
ASO-ダクトのこの自動適応挙動は、上限指標の真空支援体系を提供する。本発明の特殊なSASO-ダクトは事実大きい物理的なスケールのダクトである、し
かし、それは動的な状態の小規模開渠として、効果的にふるまう。そのとき、通
しの流れが存在する。SASO-ダクトの大きい物理的なスケールは空電状態におい
て、支配的である。そのとき、それは閉じる。そして、真空は対象に導入される
。物理的なスケールもまた、システムの故障のためのソースでありえる機械のブ
ロッケージの危険を減らすのに役立つことは、大きい。動的な状態でのSASO-ダ
クトの小さい効果的なスケールは、寄生体MFRの劇的な換算を提供する。空力ブ
ロッケージを適用することによるSASO-ダクトによるMFRのコントロールは、本発
明の基本的特色である。大きな実際的な重要性の基本的な他の特色は、SASO-ダ
クト内部で現れる高い内部圧力低下である。これらの特色は、真空-力に関して
、そして、雑音源の減衰に重要な役割を演ずる。渦巻のような流体構造に基づく
空力のブロッケージ機械は、SASO-ダクト特殊なインターナル幾何学によって、
つくられる。SASO-ダクトの特殊な幾何学は、非対称に整えられる分離-フィンの
2つの対向するアレーである。SASO-ダクト特殊な内部流動-電磁界パターンは渦
の2つの対抗しているアレーである。そして、流れがフィンの先端部から切り離
されたあと、フィン間の空洞内部で開発される。実際的には、渦は大部分のSASO
-ダクト・インターナル宇宙空間を占める、このように、薄い、本質的に中心、
中心的な流れは開発される。渦巻のようなフローパターンは、定期刊行物または
混沌とした自然さえの副振動体非定常流を含むことができる。渦がフィンもする
流れを遮断できることは、事務用品渦によるMFRがこのようにないという事実で
ある。それにもかかわらず、不安定な二次流れを有する渦はほとんど閉じた流せ
んの中である、このように実際的には、それらはまた、固体柵関数として役立つ
ことができる。さらに、コントロールの可動部またはいかなる他の手段も有しない「固体の」流
量調節器は、SASO-ダクト。本発明の基本的な物質は、動的な種類のそれの一
部が固体の構成部分であるオリフィスである−フィン、そして、それ相補的半分
が動力（流体の構成要素）（実際に近い流せんの渦）であることを秒に効果があ
る。SASO-ダクトが開いている場合にだけ、この人工のオリフィスは明白である
。そして、流れがそれである。本発明のSASOベースの真空支援体系は、協同しているSASO-ダクトの一つである
か、数か大きい数を備えている。本発明の対物レンズは、特殊な自動適応SASO-
ダクトに基づいて、かなり真空支援体系を改良することである。

【００３６】本発明の代表的なSASOベースの真空支援体系は、図11に示される真空-構造であ
る。この種の系（対象（50）をつかむために用いる）は、次の構成部分から成る
。真空-ソース（51）はいかなるタイプもの真空ポンプであってもよい。そして
、真空ポンプのベンチュリー形を含む。真空-パイプライン（52）（任意にマニ
ュアルまたは自動制御弁（53）を備えている）は、真空ポンプを真空-リザーバ
（54）または真空-多様体と連結する。複数の真空ダクトがそうなときに、真空リザーバまたは真空多様体が使われる1
またはSASO-ダクト2、3のエレメントが中古であるか、一つであるか数真空管で
あるときに、一方、使用するSASO-ダクト入口に、真空を導入するために用い直
接にあることができる。一つの、数、または、真空支援体系で異なるタイプを有
する関係において、複数のSASO-ダクト・エレメント（55）は、使用中である。
図-11に示されるSASO-ダクト・エレメントは真空リザーバ隔壁の広さを減らすそ
の曲面と平行した真空-構造具体化の取り付けられた内部である、しかし、また
、構造曲面（図14）に、SASO-ダクト・エレメント垂直線を取り付けることが可
能である。両方の実例のSASO-ダクトの多数が接触面（56）（多数の真空-ダク
トが使われる事実の習慣）で対象に直接に真空を導入すること。真空支援体系は
、制御手段（57）またはセンサー（58）（電子管（53）を発動させることによっ
て、おそらく制御タスクに奉仕するために）を備えていることができるかまたは
備えていることができない。真空計（59）が、また、使うことができる。本発
明の真空-ダクト（55）は、空力のブロッケージ機械に基づいて事実SASO-ダクト
・エレメントである。この種の自己適応可能な、二つからなる機能しているエレ
メントは、新規で改良された指標の新しい真空支援体系を確定する。本発明は、
全ての変化、視点または、空力のブロッケージ機械に基づいて、真空-ダクトが
含まれる真空支援体系のタイプをおおう。本発明の一般性を減じずに、SASO-ダ
クト・エレメントに基づく真空支援体系の一般のいくつかのモデルは、さらに記
載されている。真空-力は、小規模応用のためのグラム（数百にほんの少しの）に関して、本発
明によれば測定されることができる。この力は、また、大スケール応用のための
キログラムに関して測定されることができる。本発明を有する関係の代表的なSA
SO-ダクト直径は、1つのミリメートルより小さくありえる。あるいは、それはミ
リメートルまたはセンチメートルに関して測定されることができる。真空支援体
系は本発明によればロボットアームとして作用するのに適していることがありえ
る。そして、エレメントが真空として使用したSASO-ダクトが詰め物をする1また
は数個を備えている。

【００３７】それが、図12に示すように、ウェファ辺（60）をつかむために半導体工業におい
て、使うことができる。この種の系は、以下を含む：真空-ソース（61）（真空
ポンプを真空-多様体（64）と連結する可能な制御弁、63）を有する真空-パイプ
ライン62。単一のSASO-ダクト・エレメント（65）はロボットアーム具体化内部
ですえ付けられることが可能である。そして、また、ロボットアームにSASO-ダ
クトいくつかのエレメントを備えることが可能である。あるいは、単一のSASO-
ダクト・エレメントは真空パイプラインに沿って取り付けられることが可能であ
る。そして、このように全ての真空-ダクトに奉仕する。他の実算は、真空-多様
体を接触面（66）と連結するSASO-ダクト・エレメントの直接の使用である。真
空は、ロボットアーム接触面で提供される。結果として生じる真空-力は、重量
に関していかなる空間位置覚もの対象をつかむために適用されることができる。
加えて、横の摩擦力は、標準的な真空力から生じる。この種の系は、真空制御タ
スク、おそらくそばにコントロールバルブ、63のための制御手段（67）およびセ
ンサー（68）を含むことができる。真空計（69）が、また、使うことができる。
真空-力を増やす一般の方法は、系実効面積を拡大することになっている。例え
ば、それはSASO-ダクト出口を膨張させることによって、または接触面上の薄い
溝をつくることによって、されることができる、一つ以上の真空-ダクトを接続
できる溝。より良い機能している真空支援体系を提供するためにSASO-ダクト・
エレメントの2つ以上のタイプを結合することが可能である。真空支援体系は、
本発明によれば真空-フィーダであってもよい、そこにおいて、いくつかのSASO-ダクトの並びが、使われる。

【００３８】この種の系のための代表的な応用は、真空-押湯システムが、図-13に示すように
、論文辺（70）を上げるために用いる印刷機の論文-フィーダである。真空-押
湯システムは、真空ソース（71）、おそらくコントロールバルブ（73）を有する
真空-パイプライン（72）および細長い真空-多様体（74）を含む。真空-フィー
ダは、以下を含む：複数のSASO-ダクト・エレメント（75）は、真空-フィーダ具
体化（図-13に示すように多様体から接触面（76）まで、真空を発送するために
）に沿って整えた。あるいは、全てのダクトによる流れを制御するために真空パ
イプラインに沿って単一のSASO-ダクト・エレメントを取り付けることが可能で
ある。真空-押湯システムは、制御タスクに奉仕するために制御手段（77）およ
びセンサー（78）を含むことができる。真空計（79）が、また、使うことができ
る。真空-力を増やす一般の方法は、系実効面積を拡大することになっている。
例えば、それはSASO-ダクト出口を膨張させることによって、または接触面上の
薄い溝をつくることによって、されることができる、一つ以上の真空-ダクトを
接続できる溝。より良い機能している真空支援体系を提供するためにSASO-ダクト・エレメント
の2つ以上のタイプを結合することが可能である。真空支援体系は本発明によれ
ば真空-構造でありえる。そして、平面がSASO-ダクトの多数（第10、何百および
より多く）を備えている。この種の系のための代表的な応用は、AOI工業におい
て、より小さいディメンション（構造ディメンションと関連して）のPCBをつか
む長方形の真空-構造である。それは、また、図-14に示すように、SC成形加工プロセスの間、ウェファ（80）
をつかむ環状であるか長方形のチャックであってもよい。

【００３９】真空-構造系は、以下を含む：可能な制御弁（83）および真空-リザーバ（84）を
有する真空-ソース（81）、真空-パイプライン82。真空-構造のうしろの側に対
する真空-リザーバ大使館員は1つの空洞であってもよい、または、あるいは、そ
れはいくつかのセクター（分離された空洞）に対する按分線であってもよい。そ
して、このように、真空は各個に各々のセクターに導入される。まだ、各々のセ
クターも、複数のSASO-ダクトを含む。SASO-ダクト・エレメント（85）は、垂直
線を適応できる（図-14を参照のこと）かまたは対象（80）を取り付ける真空-構
造接触面（86）と平行である（図-11を参照のこと）。要求を設計している比を
果たすために、より良い機能している真空-構造系を提供するためにSASO-ダクト
・エレメントの2つ以上の変化を結合することが可能である。真空-構造系は制御タスクに奉仕するために制御手段（87）およびセンサー（88
）を備えていることができるかまたは備えていることができない。真空計（89）
はまた、含まれることができる。真空-構造支保工力を増やす一般の方法は、実
効面積を増やすことになっている。それは、真空-構造接触面で、SASO-ダクト出
口または複数の小さい溝の幾何学の拡大によって、されることができる。この種
の溝は、おそらく2つ以上のSASO-ダクト・エレメントを接続する。真空支援体系
は本発明によれば真空-太鼓でありえる。そして、SASO-ダクト・エレメントの多
数（第10、何百およびより多く）を備えている管状曲面を有する。ホールド、例
えば図-15で示すアルミニウム版面、90にとって、この種の系は、印刷において
、そして、技術-グラフィック工業において、広く使われている。

【００４０】真空-太鼓系は、以下を含む：真空-ソース（91）、可能なコントロールバルブ（
93）を有する真空パイプライン（92）および回転真空リザーバ（94）。真空リザ
ーバは太鼓の全体のインターナル宇宙空間に膨張できる、または、あるいは、そ
れは換算体積（太鼓具体化に取り付けられる）の中でありえる。この種のリザー
バのために、特殊な回転真空-継目（100）が、使われなければならない。各個に
制御セクター（分離されたいくつかのリザーバ）の使用は、真空-太鼓系のため
に、また、採用されることができる。SASO-ダクト・エレメント（95）の多数は
、真空-太鼓接触面（96）で、真空を導入するために用いる。真空-太鼓系は、制
御タスクに奉仕するために制御手段（97）およびセンサー（98）を備えているこ
とができる。真空計（99）は、また、こみ入っていてもよい。要求を設計している比によれば、より良い機能している真空-太鼓系を提供する
ためにSASO-ダクト・エレメントの2つ以上の変化を結合することが可能である。
真空力を増やす一般の方法は、実効面積を増やすことである。例えば、それは太
鼓接触面でのSASO-ダクト出口または小さい溝の拡大でありえる。そのようなも
のは、おそらくコネクション2またはよりSASO-ダクト・エレメントにみぞをつけ
る。本発明によれば、真空支援体系の上述した代表者モデルは、共有空地使用に
おいて、ある。ダクトのSASO-ダクト・タイプおよびその有益な特色（本発明の
基本的意見）の使用を作る他のいかなる器械もまた、本発明（SASO-ダクト・ベ
ースの真空支援体系）のスコープに含まれると強調されなければならない。この
仕様に記載される具体化および取り付けられた図の記述が本発明のより良い理解
の用途にだけ、サーブすることは、明白でなければならない,そのスコープを制
限することに次の請求の範囲によって、おおう。名士が従来技術において、取り
付けられた図に、そして、次の請求の範囲によって、まだおおわれる記載されて
いる具体化より上に本願明細書を読みとった後に調整または改正を作ってもよい
ことは、また、明白でなければならない。

【００４１】

【図面の簡単な説明】

よりよく本発明を理解して、その実際的な出願を認めるために、次の図は、提供
されて、将来で示される。図が実例だけとして与えられて、請求の範囲を追加することに記載の本発明のス
コープを決して制限しない点に留意する必要がある。構成部分が参照番号の類の
により示されるように。

【図１】図1aは、既存の通過流および形づくられた渦については、本発明の好適な実施例
に従って、自動適応分割されたオリフィス・デバイスの縦の横断面見解である。
図1bは、説明的な目的のためのいくつかのその特色を強調して、本発明の好適な
実施例に従って、自動適応分割されたオリフィス・デバイスの縦の横断面見解で
ある。

【図２】図2は、本発明の好適な実施例に従うSASO-デバイス・ダクトの任意の若干の構成
である。

【図３】図3a-hは、SASO-セル壁を有する。そして、炉心流量を有するさまざまな渦巻の
ようなフローパターン間の可能な若干の干渉を図で示す。

【図４】図4aは、放射状の自動適応ゲート・ユニット（SAGU）を表して、本発明の好適な
実施例に従うSASO-デバイスの断面の部分図である。図4bは、接線の自動適応ゲート・ユニット（SAGU）を表して、本発明の好適な実
施例に従うSASO-デバイスの断面の部分図である。

【図５】図5は、本発明の好適な実施例に従ってSASO-デバイスのフィンを有する衝突を含
んで、炉心流量運動のラテラル相である。

【図６】図6は、フィン構造の、そして、本発明の好適な実施例に従うSASO-デバイスのフ
ィン順列の幾何学的な相である。

【図７】本発明の好適な実施例に従って、図7a-cは、本発明の好適な実施例および現在任
意のフィン-曲面構成に従ってSASO-デバイスの三次元見解および3つの断面側面
図を表示する。図7d-fは、本発明の好適な実施例に従って、SASO-デバイスにおいて、組み入れ
られる3つの任意のフィン・アラインメントおよびフィン構成を表す。そして、
「方向」SASO-デバイスを描く。

【図８】図8は、本発明の好適な実施例に対する一致において、環状のSASO-スロットであ
る。

【図９】図9は、三次元炉心流量抑制を呈して、L形のフィン（そして、Ｕ字形のフィン）
については、他の本発明の好適な実施例に従って、SASO-デバイスである。

【図１０】図10は、単一体螺旋形フィン、呈している三次元炉心流量抑制および二つからな
る通路指標については、他の本発明の好適な実施例に従って、SASO-デバイスで
ある。

【図１１】図11は、本発明の好適な実施例に従って、自己適応真空支持器械である。

【図１２】図12は、本発明の好適な実施例に従って、適応真空支持器械がロボットアームと
して使用した自己である。

【図１３】図13は、本発明の好適な実施例に従って、適応真空支持器械が真空-フィーダと
して使用した自己である。

【図１４】図14は、真空-構造を表して、本発明の好適な実施例に従って、自己適応真空支
持器械である。

【図１５】図15は、真空-太鼓の形の本発明の好適な実施例に従って、自己適応真空支持器
械である。

【符号の説明】

２入口３アウトレット６原理渦８炉心流量９デバイス・ダ
クト１７セル１８，１９フィン２０ダクト隔壁２１中心線３０，３１矢３３副振動体渦３４構成エレメント３５二次渦

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ，ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，ＩＴ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ，ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，ＫＥ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＢＺ，ＣＡ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ【要約の続き】る一次元の方法の流れを抑制している前記フィンの先端部の間、少なくとも一時的に存在している前記空洞前記渦の範囲内で、形づくった前記ダクトによる流体流動。そして、それによって、対象が流れストップ前記渦が放散させる前記ダクトの入口を遮断するときに、このように前記対象は前記接触面に真空誘導された力によって、効果的に保たれるのに、入口が遮断されないときに、前記渦は形づくられる。そして、前記真空リザーバの必須の真空レベルがかなり維持される前記対象によって、前記ダクトによる流れおよび前記ダクト入口が否定である時が抑止した空力のブロックは必須の真空条件を発生させるために出力される動力消費を減らした。

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】以下を含んでいる自動適応真空グリップ器械：真空ソース; 真空リザーバは、前記真空ソースに流体において、連結した; 接触面; 複数のダクトの少なくとも一つのダクト;そこにおいて、前記ダクトは、前記ダ
クトが備えている前記真空リザーバに、流体の前記接触面およびアウトレット連
結に配置される複数のフィンが各々の反対側に大幅に2つのアレーにおいて、整
えられる前記ダクト前記フィンの内部隔壁に取り付いた効果がある; そこにおいて、入口に最も近いフィンを除外している前記フィン列のいずれの一
つものフィンおよび前記ダクトのアウトレットに最も近いフィンの各々は、各々
の空洞がフィンの前記アレーのうちの1つの2つの連続的フィンの間で、定義した
複数の空洞および前記2つの対抗しているフィン列が非対称に整えられる一部の
前記ダクト・インターナル隔壁の配置された大幅に対向する一つである; それによってそのとき、複数の渦が前記渦間の集中式炉心流量を許している空力
ブロッケージをこのように形づくっている前記流れおよびこのように質量流量を
制限していて、ダクトの範囲内で相当な圧力低下を維持している一次元の方法の
流れを抑制している前記フィンの先端部の間、少なくとも一時的に存在している
前記空洞前記渦の範囲内で、形づくった前記ダクトによる流体流動。そして、それによって、対象が流れストップ前記渦が放散させる前記ダクトの入
口を遮断するときに、このように前記対象は前記接触面に真空誘導された力によ
って、効果的に保たれるのに、入口が遮断されないときに、前記渦は形づくられ
る。そして、前記真空リザーバの必須の真空レベルがかなり維持される前記対象
によって、前記ダクトによる流れおよび前記ダクト入口が否定である時が抑止し
た空力のブロックは必須の真空条件を発生させるために出力される動力消費を減
らした。
【請求項２】前記流体は、気中であることを特徴とする請求項1記載の器械
。
【請求項３】前記フィンは、L形であるどこで,薄い炉心流量は、前記渦に
よって、二次元の方法において、抑制されることであることを特徴とする請求項
1記載の器械。
【請求項４】前記フィンは、Ｕ字形であるどこで,薄い炉心流量は、前記渦
によって、二次元の方法において、抑制されることであることを特徴とする請求
項1記載の器械。
【請求項５】前記ダクトがまっすぐな軌道をたどる請求項1に記載の器械。
【請求項６】前記ダクトが曲がりくねった軌道をたどる請求項1に記載の器
械。
【請求項７】前記ダクト横断面は、大幅に長方形であるであることを特徴
とする請求項1記載の器械。
【請求項８】前記ダクト横断面は、大幅に多角形であるであることを特徴と
する請求項1記載の器械。
【請求項９】前記ダクト横断面は、大幅に円であるであることを特徴とする
請求項1記載の器械。
【請求項１０】前記ダクト横断面面積の下流側超関数が一様である請求項1
に記載の器械。
【請求項１１】前記ダクト横断面面積の下流側超関数が末広がりである請求
項1に記載の器械。
【請求項１２】前記ダクト横断面面積の下流側超関数が一点に集まる請求
項1に記載の器械。
【請求項１３】前記フィンが大幅にダクトの前記内部隔壁に対する垂線で
ある請求項1に記載の器械。
【請求項１４】前記フィンが全体的な炉心流量運動方向に、そして、ダクト
・インターナル隔壁に関係によって、傾けられる請求項1に記載の器械。
【請求項１５】前記フィン代表的な厚さは、同じ前記フィン列の2つの連続
的フィン間の距離に対する比較を有するより小さいオーダーのであることを特徴
とする請求項1記載の器械。
【請求項１６】前記フィン横断面は、大幅に長方形であるであることを特
徴とする請求項1記載の器械。
【請求項１７】前記フィン横断面は、大幅に台形であるであることを特徴と
する請求項1記載の器械。
【請求項１８】前記フィン横断面は、大幅に凹の少なくとも続けて一つの側
であることを特徴とする請求項1記載の器械。
【請求項１９】2つの連続的フィン間の距離がダクトに沿った恒数である請
求項1に記載の器械。
【請求項２０】2つの連続的フィン間の距離がダクトに沿って変化する請求
項1に記載の器械。
【請求項２１】各々の前記フィンのスパンがダクトに沿ったユニフォーム
である請求項1に記載の器械。
【請求項２２】前記フィンのスパンがダクトに沿って変化する請求項1に記
載の器械。
【請求項２３】前記フィンのスパンが横に一様である請求項1に記載の器械
。
【請求項２４】前記フィンのスパンが横に変化する請求項1に記載の器械。
【請求項２５】前記フィンの先端が鋭い請求項1に記載の器械。
【請求項２６】前記フィンの先端が鈍い請求項1に記載の器械。
【請求項２７】前記フィンの先端が曲がっている請求項1に記載の器械。
【請求項２８】前記フィンの各々が大幅にダクト・ラテラル広さの半分を抑
止する請求項1に記載の器械。
【請求項２９】2つの対向するフィン列が重ならない請求項1に記載の器械。
【請求項３０】2つの対向するフィン列が重なる請求項1に記載の器械。
【請求項３１】フィンの同じアレーのそのフィンおよび連続的フィン間のフ
ィン・スパンおよびギャップ間の割合が1の範囲である請求項1に記載の器械：1:
2に対する1。
【請求項３２】割合が約1である請求項31に記載の器械：1.5。
【請求項３３】前記2つの対向するフィン列のうちの1つおよび前記2つの対
向するフィン列の秒のフィン先端部を連結している仮想の平面のフィン先端部を
連結している仮想の平面間のギャップの絶対値が前記ダクトの横の広さより小さ
いオーダーの中である請求項1に記載の器械。
【請求項３４】前記前記ギャップの絶対値は、前記ダクトの隣接の横の広さ
の20%以上でないであることを特徴とする請求項33記載の器械。
【請求項３５】各々の前記空洞の寸法がわずかに渦の渦度と関連する一体的
に定義された自然尺度より小さい請求項1に記載の器械は、内側の前記空洞を形
づくった。
【請求項３６】前記渦仮想の軸と大幅に平行して前記炉心流量運動にディ
メンションおよび大幅に垂線として定義されるダクト受動ディメンションがフィ
ン・スパンのオーダーにおいて、ある請求項1に記載の器械。
【請求項３７】前記受動ディメンションが、ダクトの他の横のディメンショ
ンより大幅に大きくそれであるは、大幅に、両方の渦軸に対する。そして、炉心
流量に対する垂線が、合図するであることを特徴とする請求項36記載の器械。
【請求項３８】前記受動的なディメンションが近い大幅に環状のルートを
たどる請求項36に記載の器械。
【請求項３９】レイノルズ数が前記ダクトそれ以上の二次の渦内部で増加
する時が形づくられる請求項1に記載の器械。
【請求項４０】前記炉心流量下流側運動は、大幅に正弦波であるであること
を特徴とする請求項1記載の器械。
【請求項４１】正弦波の炉心流量がその運動を正面削りしているフィンの
表層を有する炉心流量の局所型衝突によって、強くフィンと相互に作用する請求
項40に記載の器械。
【請求項４２】レイノルズ数が前記ダクト前記炉心流量内部で増加する時
が局所的に、そして、頻繁に壊れる請求項1に記載の器械は、集中的に炉心流量
と相互に作用しているかまたは表面仕上げフィンの表層に当たっている不安定な
二次の渦を発生させる。
【請求項４３】前記真空リザーバの範囲内の真空が真空ポンプによって、生
じる請求項1に記載の器械。
【請求項４４】前記真空リザーバは、真空-多様体であることを特徴とする
請求項1記載の器械。
【請求項４５】前記ダクトが自動化された電子管を備えている請求項1に記
載の器械。
【請求項４６】それがさらに真空レベルを制御することによって、前記電子
管を発動させることによって、制御タスクに奉仕するコントロールおよび検知手
段を備えているかまたはコントロールのいかなる他の手段もの使用を作る請求項
45に記載の器械。
【請求項４７】ダクトが大幅に前記接触面に対する緯線である請求項1に記
載の器械。
【請求項４８】前記ダクトが前記接触面に一般にダクト・マウントである請
求項1に記載の器械。
【請求項４９】前記接触面が平らな真空構造である請求項1に記載の器械。
【請求項５０】前記真空構造は、長方形であるであることを特徴とする請求
項49記載の.器械。
【請求項５１】前記真空構造は、円型であることを特徴とする請求項49記載
の器械。
【請求項５２】前記接触面は、太鼓のような接触面を示すために円筒状であ
るであることを特徴とする請求項1記載の器械。
【請求項５３】前記接触面が溝を含む請求項1に記載の器械。
【請求項５４】それが前記接触面に接触を有する対象を運んだものである請
求項1に記載の器械。
【請求項５５】それが重量に関して働く請求項1に記載の器械。
【請求項５６】それが働く請求項1に記載の器械重量の向きの失礼な。
【請求項５７】以下を含んでいる自動適応真空グリップ器械：真空ソース;
真空リザーバは、前記真空ソースに流体において、連結した; 接触面; 複数のダクトの少なくとも一つのダクト;そこにおいて、前記ダクトは、前記ダ
クトがこのように前記ダクトの内部隔壁に取り付けられる螺旋形フィンによって
、提供される前記真空リザーバに、流体の前記接触面およびアウトレット連結に
配置されるつる巻の空洞が前記螺旋形フィンおよび前記内部隔壁により定義され
て形づくられる効果がある; そこにおいて、流体がつる巻の渦が形づくられる前記ダクトの中を流れるときに
、前記つる巻の空洞前記つる巻の渦がこのように前記螺旋形フィンの渦および先
端部間の集中式炉心流量を許している空力ブロッケージを形づくっていて、二次
元の方法の流れを抑制している前記流れの間、少なくとも一時的に存在する。そ
して、このように質量流量を制限して、ダクトの範囲内で相当な圧力低下を維持
する;それによって、螺旋形フィン・インターナルにより定義される中央通路に
よる前記炉心流量流れは、じりじり進んで、隣接のつる巻の通路をたどることに
よって、局所的に前記中央通路の障害を迂回できる螺旋形フィン。そして。それ
によって、対象が流れが止める前記ダクトの入口を遮断する時、前記つる巻の渦
はこのように前記対象を放散させる前記接触面に対する真空誘導された力によっ
て、効果的に保つ、入口が遮断された前記渦でない時は形づくられる。そして、
前記真空リザーバの必須の真空レベルがかなり維持される前記対象によって、前
記ダクトが否定である前記ダクトおよび時による流れが抑止した空力のブロッキ
ングは必須の真空条件を発生させるために出力される動力消費を減らした。
【請求項５８】前記流体は、気中であることを特徴とする請求項57記載の器
械。
【請求項５９】複数の柵関数の少なくとも一つの柵関数が局所的に流れがつ
る巻の軌道をたどるのを防止するためにつる巻の軌道をこのようにして局所的に
遮断している前記螺旋形フィン曲面およびこのように前記つる巻の渦に大幅に一
般に取り付けられる請求項57に記載の器械は、少なくとも2つの破片に前記柵関
数によって、割れる。
【請求項６０】2つの柵関数からの少なくとも一つの柵関数が前記つる巻の
渦のための停泊として行動に前記螺旋形フィンの2つの末端のうちの1つ上のフィ
ン曲面に、大幅に一般に取り付けられる請求項57に記載の器械。
【請求項６１】前記ダクトがまっすぐな軌道をたどる請求項57に記載の器械
。
【請求項６２】前記ダクトが曲がりくねった軌道をたどる請求項57に記載の
器械。
【請求項６３】前記ダクト横断面は、大幅に円であるであることを特徴とす
る請求項57記載の器械。
【請求項６４】前記ダクト横断面は、大幅に長方形であるであることを特徴
とする請求項57記載の器械。
【請求項６５】前記ダクト横断面は、大幅に多角形であるであることを特徴
とする請求項57記載の器械。
【請求項６６】前記ダクト横断面面積の下流側超関数が一様である請求項57
に記載の器械。
【請求項６７】前記ダクト横断面面積の下流側超関数が末広がりである請求
項57に記載の器械。
【請求項６８】前記ダクト横断面面積の下流側超関数が一点に集まる請求項
57に記載の器械。
【請求項６９】前記螺旋形フィンは、ダクトの大幅に垂直な、前記内部隔壁
であることを特徴とする請求項57記載の器械。
【請求項７０】前記螺旋形フィンは、全体的な炉心流量運動方向に両方とも
関係を有する傾いた、そして、ためにダクト隔壁であることを特徴とする請求項
57記載の器械。
【請求項７１】前記螺旋形フィン厚さは、前記螺旋形フィン・ピッチに対
する比較を有するより小さいオーダーのであることを特徴とする請求項57記載の
器械。
【請求項７２】前記螺旋形フィン横断面は、大幅に長方形であるであるこ
とを特徴とする請求項57記載の器械。
【請求項７３】前記螺旋形フィン横断面は、大幅に台形であるであることを
特徴とする請求項57記載の器械。
【請求項７４】前記螺旋形フィン横断面は、大幅に、凹が少なくともフィン
先端部より大きいフィン・ルートを有する、一致して側に立つであることを特徴
とする請求項57記載の器械。
【請求項７５】螺旋形フィン・ピッチがダクトに沿った恒数である請求項57
に記載の器械。
【請求項７６】前記螺旋形フィン・ピッチがダクトに沿って変化する請求項
57に記載の器械。
【請求項７７】前記螺旋形フィンのスパンが一様である請求項57に記載の器
械。
【請求項７８】前記螺旋形フィンのスパンがダクトに沿って変化する請求項
57に記載の器械。
【請求項７９】前記螺旋形フィンの先端が鋭い請求項57に記載の器械。
【請求項８０】前記螺旋形フィンの先端が鈍い請求項57に記載の器械。
【請求項８１】前記螺旋形フィンの先端が曲がっている請求項57に記載の器
械。
【請求項８２】前記螺旋形フィン・スパンは、大幅に半ばダクト・ラテラル
広さのであることを特徴とする請求項57記載の器械。
【請求項８３】螺旋形フィン・スパンおよび螺旋形フィン・ピッチ間の割合
が1：1から1:2の範囲である請求項57に記載の器械：。
【請求項８４】割合が約1：1.5である請求項83に記載の器械。
【請求項８５】螺旋形フィン先端部により定義される中央通路が前記ダク
トの水力直径と比較するとより小さいオーダーの中である請求項57に記載の器械
。
【請求項８６】前記通路は、前記ダクトの隣接の横の広さの30%以上でない
であることを特徴とする請求項85記載の器械。
【請求項８７】前記つる巻の空洞の寸法がわずかに一体的に定義された自
然の横のスケールより小さい請求項57に記載の器械は、つる巻の渦の渦度と関連
した。
【請求項８８】レイノルズ数が前記ダクトそれ以上の二次の渦内部で増加す
る時が形づくられる請求項57に記載の器械。
【請求項８９】炉心流量がその運動を正面削りしている螺旋形フィンの表
層を有する局所型衝突によって、強く前記螺旋形フィンと相互に作用する請求項
57に記載の器械。
【請求項９０】レイノルズ数が前記ダクト前記炉心流量内部で増加する時
が局所的に、そして、頻繁に壊れる請求項57に記載の器械は不安定な二次の渦を
発生させる。そして、集中的に炉心流量と相互に作用するかまたは表面仕上げフ
ィンに当たる。
【請求項９１】前記真空リザーバの範囲内の真空が真空ポンプによって、生
じる請求項57に記載の器械。
【請求項９２】前記真空リザーバは、真空-多様体であることを特徴とする
請求項57記載の器械。
【請求項９３】前記ダクトが自動化された電子管を備えている請求項57に記
載の器械。
【請求項９４】それが以下によって、制御タスクに奉仕するためにさらにコ
ントロールおよび検知手段を備えている請求項93に記載の器械：作動前記電子管、そして、真空を制御することは、コントロールのいかなる他の
手段もの使用を平らにするかまたは作る。
【請求項９５】前記ダクトが前記ダクトが前記接触面に対する緯線である
前記接触面に対する流体の連結である請求項57に記載の器械。
【請求項９６】前記ダクトが前記ダクトが前記接触面に一般に取り付く前
記接触面に対する流体の連結である請求項57に記載の器械。
【請求項９７】前記接触面が平らな真空構造である請求項57に記載の器械。
【請求項９８】前記真空構造は、長方形であるであることを特徴とする請求
項97記載の器械。
【請求項９９】前記真空構造は、円型であることを特徴とする請求項97記載
の器械。
【請求項１００】前記接触面は、太鼓のような接触面を示すために円筒状
であるであることを特徴とする請求項57記載の器械。
【請求項１０１】前記接触面が溝を含む請求項57に記載の器械。
【請求項１０２】それが前記接触面に接触を有する対象を運んだものである
請求項57に記載の器械。
【請求項１０３】それが重量の方向に働く請求項69に記載の器械。
【請求項１０４】それが働く請求項69に記載の器械重量の向きの失礼な。
【請求項１０５】自動適応真空グリップ器械大幅に図を伴っていて、請求の
範囲を追加している上記の仕様にて説明したように。