JP2003504376A - 金属錯体用ジホスフィン配位子 - Google Patents

金属錯体用ジホスフィン配位子

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JP2003504376A
JP2003504376A JP2001509740A JP2001509740A JP2003504376A JP 2003504376 A JP2003504376 A JP 2003504376A JP 2001509740 A JP2001509740 A JP 2001509740A JP 2001509740 A JP2001509740 A JP 2001509740A JP 2003504376 A JP2003504376 A JP 2003504376A
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Abstract

(57)【要約】 ジホスフィン骨組中に可溶化置換基たとえば−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｈ）3を有するキラルまたは非キラルジ第３級ジホスフィンは、極性媒質たとえば水またはアルコールに可溶でありかつ炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合を有する化合物用の非対称または対称水素化触媒として用いられ得るｄ8金属錯体用の優秀な配位子である。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明は、可溶化基に因り極性反応媒質たとえば水および有機溶媒（メタノー
ルのような）に可溶でありかつ、おそらくpHを変えることにより、水素化後に反
応混合物から容易に分離され得る水素化触媒としての金属錯体用のジ第３級ジホ
スフィン配位子に関する。
【０００２】 たとえばロジウム、イリジウムまたはルテニウムとアキラルまたはキラルジ第
３級ジホスフィン配位子の金属錯体を用いての、エナンチオ選択性またはジアス
テレオ選択性であり得る水素化法は、中間体または活性物質（農薬および製薬の
ような）の合成のための重要な方法になっている。有機溶媒中における反応に加
えて、水性または極性反応媒質は、出発化合物の溶解性の故にしばしば選り抜き
の媒質であるが、しかしその場合これはまた、抽出により反応生成物から容易に
分離され得る水溶性水素化触媒を必要とする。
【０００３】 水性媒質に可溶ないくつかの水素化触媒が既に知られている。かくして、K. W
an等はJ. Chem. Soc.，Chem. Com.，第１２６２−１２６４頁（１９９３）にお
いておよびI. Toth等はTetrahydron：Asymmetry，第１巻，第９１３−９３０頁
（１９９０）において、かかる触媒用のジ第３級ジホスフィン配位子を記載する
。これらの配位子において、ホスフィン基中のフェニル基は、アミノまたは−Ｓ
Ｏ3Ｈのいずれかにより置換されている。しかしながら、これらの置換基は触媒
性質を変え、その結果所望の結果はしばしばもはや達成され得ない。
【０００４】 EP-A-0 329 043は、ジイソシアネート橋を介してポリエチレングリコールに結
合されたピロリジンジホスフィンを記載する。これらのロジウム錯体は、水溶液
中における２，３−デヒドロホスフィノトリシン誘導体の水素化のために用いら
れる。該錯体の化学量論量的組成は、制御するのが困難であり、従って再現性は
必ずしも確保されない。ポリアクリル酸に結合されたピロリジンジホスフィンは
、同じ問題の難点がある。すなわち、それらの錯体は水溶性であるけれども、ジ
ホスフィンでの負荷量は十分には制御可能でない〔T. Malmastroem等，J. of Mo
l. Cat. A：Chemical，１３９，第２５９−２７０頁（１９９７）〕。加えて、
エナンチオ選択性はジホスフィンでの負荷量に依存し、また触媒活性は比較的低
い。
【０００５】 水性媒質（Ｎａ2ＨＰＯ4０．１mol）中における水素化触媒としてのトリメリ
ット酸ジホスフィノピロリジンアミドのロジウム錯体の使用もまた、既に提案さ
れている。しかしながら、触媒活性およびアセトアミドケイ皮酸の水素化におい
て達成される光学収率は低すぎる。
【０００６】 極性反応媒質に可溶であり、良好な触媒活性を有し、水素化触媒がキラルであ
る場合高い光学収率が達成されるのを可能にし、最適化反応条件を設定するため
に水性反応媒質の酸性から塩基性の範囲において用いられ得、アルコールのよう
な極性溶媒中で用いられ得、基質対触媒の高い比率（たとえば、１００を越える
）にてさえ高い触媒活性を有し、高い光学収率に通じ、また反応混合物から容易
に分離され得る水素化触媒用の配位子に対するニーズがある。
【０００７】 これらの目的は、極性反応媒質中で可溶化効果を奏しそして加水分解性であり
得る基がウレタンまたはカルバメート基を介してジ第３級ジホスフィンの骨組に
結合されている場合達成される、ということが今般驚くべきことに見出された。
【０００８】 本発明は、第１に、式ＩおよびＩａ
【０００９】
【化７】
【００１０】 〔式中、 Ａは、Ｃ原子を介して結合されたジ第３級ジホスフィンの一価ないし四価の骨
組であり、 Ａ1は、Ｎ原子を介して結合された３−８員Ｎ−複素環式ジ第３級ジホスフィ
ンの一価の骨組であり、 Ｘ1は、−Ｏ−、−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であり、 Ｘ1′は、−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であり；あるいはＸ1 ′は、Ｘ1が−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であるとき−Ｏ−で
あり、 Ｙ1は、直接結合、
【００１１】
【化８】
【００１２】 （ｙ＋１）価のベンゼン基、または３−８員シクロアルカンの（ｙ＋１）価の基
であり、そしてＹ1が−Ｏ−または−Ｎ＝であるときｎは１から４であり、 Ｒは、中断されていなくても、または−Ｏ−、−Ｎ＝もしくは−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4 アルキル）−により中断されていてもよいＣ1−Ｃ12アルカンの線状または分岐
状の（ｙ＋１）価の基であり、あるいは Ｒは、直接結合であり、かつＹ1は−Ｏ−または−Ｎ＝でなく、 Ｙは、−ＣＯ2Ｍ、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）2−、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4アルキル） 2 Ｈ+Ｘ2 -または−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）3 +Ｘ2 -であり、 ｘは１であり、かつｍは２から４であり、あるいはｘは０であり、 ｍは、０、または１から４の整数であり、 ｎは、０、または１から４の整数であり、 ｒは、１から４の整数であり、 ｙは、１から５の整数であり、 Ｍは、Ｈ、アルカリ金属、または１から１８個のＣ原子を有する一価の炭化水
素基であり、そして Ｘ2は、無機または有機酸の陰イオンである〕の化合物を提供する。
【００１３】 水素化触媒用の多数のアキラルおよびキラルジ第３級ジホスフィンが文献に記
載されており、たとえば、H. BrunnerおよびW. Zettlmeier，Handbook of Enant
ioselective Catalysis，Vol.II：Ligand References，VCH Verlagsgesellschaf
t mbH ワインハイム（１９９３）が参照される。ヒドロキシルまたはアミン基で
官能化されたジ第３級ジホスフィンは、同様に公知であるかまたは公知のもしく
は類似の方法により製造され得る。水素化触媒が配位子としてキラルジ第３級ジ
ホスフィンを含有する場合、エナンチオ選択性またはジアステレオ選択性水素化
についての非対称誘導がしばしば達成され得る。本発明によれば、基ＡおよびＡ 1 は、キラルまたはアキラルのいずれかのジ第３級ジホスフィンであり得る。
【００１４】 ジ第３級ジホスフィンは、それらのホスフィン基が（ａ）２から６個のＣ原子
を有する鎖好ましくは２から４個のＣ原子を有する炭素鎖の様々なＣ原子にまた
は（ｂ）直接的にまたは式−ＣＲaＲb−の架橋基を介してフェロセニル基のシク
ロペンタジエニル環にシクロペンタジエニル環のオルト位にてか、または各々の
いずれかにて結合されているものであり得、ここでＲaおよびＲbは、同一または
異なりそしてＨ、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ1−Ｃ4フルオロアルキル、Ｃ5−Ｃ6シク
ロアルキル、フェニル、ベンジル、または１から３個のＣ1−Ｃ4アルキルもしく
はＣ1−Ｃ4アルコキシ基により置換されたフェニルもしくはベンジルである。Ｒ b は、好ましくは水素である。Ｒaは、好ましくは、水素またはＣ1−Ｃ4アルキル
である。
【００１５】 個々のホスフィン基は、同一または異なる炭化水素基を含有し得る。個々のホ
スフィン基は、好ましくは、２個の同一の炭化水素基を含有し、しかしてこのタ
イプの様々なホスフィン基がジホスフィンの骨組に結合され得る。炭化水素基は
、置換されていなくてもまたは置換されていてもよく、そして１から２０個好ま
しくは１から１２個のＣ原子を含有し得る。ジ第３級ジホスフィンの中で、特に
好ましいものは、個々のホスフィン基が線状または分岐状Ｃ1−Ｃ12アルキル；
未置換またはＣ1−Ｃ6アルキル−もしくはＣ1−Ｃ6アルコキシ−置換Ｃ5−Ｃ12
シクロアルキルまたはＣ5−Ｃ12シクロアルキル−ＣＨ2−；フェニルおよびベン
ジル；およびハロゲン（たとえば、Ｆ、ＣｌおよびＢｒ）、Ｃ1−Ｃ6アルキル、
Ｃ1−Ｃ6ハロアルキル（たとえば、トリフルオロメチル）、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ
、Ｃ1−Ｃ6ハロアルコキシ（たとえば、トリフルオロメトキシ）、（Ｃ6Ｈ5）3
Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12アルキル）3Ｓｉまたは−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6アルキル（たとえ
ば、−ＣＯ2ＣＨ3）により置換されたフェニルまたはベンジルから成る群から選
択された２個の同一または異なる基を含有するものである。
【００１６】 ホスフィン基中の二つの基はまた、一緒になって、未置換またはハロゲン−、
Ｃ1−Ｃ6アルキル−もしくはＣ1−Ｃ6アルコキシ−置換ジメチレン、トリメチレ
ン、テトラメチレン、ペンタメチレンまたは３−オキサペンタン−１，５−ジイ
ルであり得る。置換基は、好ましくは、Ｐ原子に関して二つのオルト位にて結合
される。
【００１７】 ホスフィン基はまた、式
【００１８】
【化９】
【００１９】 〔式中、ｏおよびｐは、互いに独立して、２から１０の整数であり、そしてｏ＋
ｐの和は、４から１２好ましくは５から８である。〕の基であり得る。それらの
例は、式
【００２０】
【化１０】
【００２１】 の〔３．３．１〕−および〔４．２．１〕−ホビルである。Ｐにおけるアルキル
置換基好ましくは１から６個のＣ原子を含有するものの例は、メチル、エチル、
ｎ−プロピル、ｉ−プロピル、ｎ−ブチル、ｉ−ブチル、ｔ−ブチル、並びにペ
ンチルおよびヘキシルの異性体である。Ｐにおける未置換またはアルキル置換シ
クロアルキル置換基の例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、メチルシクロヘ
キシルおよびエチルシクロヘキシル並びにジメチルシクロヘキシルである。Ｐに
おけるアルキル−、アルコキシ−、ハロアルキル−およびハロアルコキシ−置換
フェニルおよびベンジル置換基の例は、メチルフェニル、ジメチルフェニル、ト
リメチルフェニル、エチルフェニル、メチルベンジル、メトキシフェニル、ジメ
トキシフェニル、トリフルオロメチルフェニル、ビストリフルオロメチルフェニ
ル、トリストリフルオロメチルフェニル、トリフルオロメトキシフェニルおよび
ビストリフルオロメトキシフェニルである。
【００２２】 好ましいホスフィン基は、Ｃ1−Ｃ6アルキル、未置換またはＣ1−Ｃ4アルキル
−もしくはＣ1−Ｃ4アルコキシ−一置換ないし三置換シクロブチル、シクロペン
チルまたはシクロヘキシル、ベンジルおよび特に、置換されていないかまたは１
から３個のＣ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ、Ｆ、Ｃｌ、Ｃ1−Ｃ4フルオ
ロアルキルもしくはＣ1−Ｃ4フルオロアルコキシ置換基により置換されているフ
ェニルから成る群から選択された同一または異なる好ましくは同一の基を含有す
るものである。
【００２３】 式ＩおよびＩａにおけるジホスフィン基ＡおよびＡ1は、好ましくは、式II、I
IａおよびIIｂ
【００２４】
【化１１】
【００２５】 〔式中、 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は各々、互いに独立して、置換されていないかまたは
ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ 1 −Ｃ6ハロアルコキシ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12アルキル）3Ｓｉもしく
は−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6アルキルにより置換されている１から２０個のＣ原子を有
する炭化水素基であり；あるいはＲ1とＲ2またはＲ4とＲ5は、各場合に一緒にな
って、未置換またはハロゲン−、Ｃ1−Ｃ6アルキル−もしくはＣ1−Ｃ6アルコキ
シ−置換の、テトラメチレン、ペンタメチレンまたは３−オキサペンタン−１，
５−ジイルであり；そして Ｒ3は、未置換またはＣ1−Ｃ6アルキル−、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−、Ｃ5シクロ
アルキル−もしくはＣ6シクロアルキル−、フェニル−、ナフチル−もしくはベ
ンジル−置換Ｃ2−Ｃ4アルキレン；未置換またはＣ1−Ｃ6アルキル−、フェニル
−もしくはベンジル−置換の、４から１０個のＣ原子を有する１，２−もしくは
１，３−シクロアルキレン、１，２−もしくは１，３−シクロアルケニレン、１
，２−もしくは１，３−ビシクロアルキレンまたは１，２−もしくは１，３−ビ
シクロアルケニレン；メチレンまたはＣ2−Ｃ4アルキリデンが１および／もしく
は２位にてまたは３位にて結合されている未置換またはＣ1−Ｃ6アルキル−、フ
ェニル−もしくはベンジル−置換の、４から１０個のＣ原子を有する１，２−も
しくは１，３−シクロアルキレン、１，２−もしくは１，３−シクロアルケニレ
ン、１，２−もしくは１，３−ビシクロアルキレンまたは１，２−もしくは１，
３−ビシクロアルケニレン；２，３位にてＲ6Ｒ7Ｃ（Ｏ−）2により置換されて
おりかつ未置換であるか、または１および／または４位にてＣ1−Ｃ6アルキル、
フェニルもしくはベンジルにより置換されている１，４−ブチレン（ここで、Ｒ 6 およびＲ7は、互いに独立して、水素、Ｃ1−Ｃ6アルキル、フェニルまたはベン
ジルである）；Ｎ原子が水素、Ｃ1−Ｃ12アルキル、フェニル、ベンジル、Ｃ1−
Ｃ12アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ8アシル、Ｃ1−Ｃ12アルキルアミノカルボ
ニルにより置換されている３，４−もしくは２，４−ピロリジニレンまたはメチ
レン−４−ピロリジン−４−イル；または未置換またはハロゲン−、−ＯＨ−、
Ｃ1−Ｃ6アルキル−、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−、フェニル−、ベンジル−、フェニ
ルオキシ−もしくはベンジルオキシ−置換の１，２−フェニレン、２−ベンジレ
ン、１，２−キシリレン、１，８−ナフチレン、２，２′−ビナフチレンまたは
２，２′−ビフェニレンであり；あるいはＲ3は、式
【００２６】
【化１２】
【００２７】 （式中、Ｒ8は、水素、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ1−Ｃ4フルオロアルキル、未置換
フェニル、または１から３個のＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ4ア
ルコキシもしくはフルオロメチル置換基により置換されたフェニルである）の基
であり； 式IIａ中のｑは、０、または１から６の整数であり、式IIａの基は、縮合され
ていないかまたは環状脂肪族、ヘテロ環状脂肪族、芳香族もしくはヘテロ芳香族
基と縮合されており、また式IIａの基は、置換されていないかまたはハロゲン、
Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6ハロ
アルコキシ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12アルキル）3Ｓｉもしくは−ＣＯ2−
Ｃ1−Ｃ6アルキルにより置換されており；そして Ｒ9およびＲ10は、互いに独立して、Ｃ1−Ｃ4アルキレンである〕に相当する
。
【００２８】 Ｒ9およびＲ10は、好ましくは、メチレン、エチレン、または線状もしくは分
岐状プロピレンもしくはブチレンである。Ｒ9、Ｒ10およびＮにより形成された
鎖は、好ましくは、３から５個の原子を含有する。
【００２９】 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は、好ましくは、分岐状Ｃ3−Ｃ6アルキル、未置換ま
たはＣ1−Ｃ4アルキル−もしくはＣ1−Ｃ4アルコキシ−一置換ないし三置換シク
ロペンチルまたはシクロヘキシル、未置換またはＣ1−Ｃ4アルキル−もしくはＣ 1 −Ｃ4アルコキシ−一置換ないし三置換ベンジルおよび特に未置換またはＣ1−
Ｃ4アルキル−、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ−、ＮＨ2−、ＯＨ−、Ｆ−、Ｃｌ−、Ｃ1
−Ｃ4フルオロアルキル−もしくはＣ1−Ｃ4フルオロアルコキシ−一置換ないし
三置換フェニルから成る群から選択された同一または異なる特に同一の基である
。
【００３０】 式IIおよびIIａにおいて、Ｙ1は、好ましくは、−Ｎ＝、−ＣＨ＝または第４
級Ｃ原子である。
【００３１】 式IIおよびIIａにおいて、Ｒは、好ましくは、１から３個の−Ｏ−または−Ｎ
（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−基により中断されていてもよいＣ1−Ｃ8アルキル特に好
ましくはＣ1−Ｃ6アルキルである。
【００３２】 基Ｎ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）2中のアルキルは、好ましくは線状であり、そして
メチル、エチル、ｎ−プロピルまたはｎ−ブチルであり得る。
【００３３】 式IIおよびIIａにおいて、Ｙは、特に好ましくは、−ＣＯ2Ｍ、−Ｎ（ＣＨ3） 2 −、−Ｎ（ＣＨ3）2Ｈ+Ｘ2 -または−Ｎ（ＣＨ3）3 +Ｘ2 -（ここで、Ｍは、Ｈ、
Ｌｉ、Ｎａ、ＫまたはＣ1−Ｃ4アルキルであり、そしてＸ2は、無機または有機
酸の陰イオンである）である。
【００３４】 式IIおよびIIａにおいて、ｍは、好ましくは、０、１または２であり、そして
ｎは、好ましくは、０、１または２である。
【００３５】 式IIおよびIIａにおいて、ｒは、好ましくは１から３、特に好ましくは１また
は２、非常に特に好ましくは１である。
【００３６】 式IIおよびIIａにおいて、ｙは、好ましくは１から４、特に好ましくは１から
３、非常に特に好ましくは１または２である。
【００３７】 式IIおよびIIａにおいて、シクロアルカン基Ｙ1は、好ましくは、５または６
員シクロアルカン基である。
【００３８】 基Ｓｉ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）2において、アルキルは、好ましくはメチルであ
る。
【００３９】 アルカリ金属Ｍとして、Ｌｉ、ＮａまたはＫが好ましい。
【００４０】 無機酸から誘導された陰イオンＸ2は、たとえば、塩化物、臭化物およびヨウ
化物のようなハロゲン化物、亜硫酸、硫酸、硫酸水素、炭酸、炭酸水素、硝酸、
亜リン酸、亜リン酸水素、リン酸、リン酸水素、テトラフルオロホウ酸またはヘ
キサフルオロリン酸であり得る。
【００４１】 有機酸から誘導された陰イオンＸ2は、１から１８個好ましくは１から１２個
特に好ましくは１から８個のＣ原子を含有し得るカルボン酸、スルホン酸および
ホスホン酸の陰イオンである。有機酸の陰イオンのいくつかの好ましい例は、酢
酸、プロピオン酸、酪酸、モノクロロ酢酸、ジクロロ酢酸およびトリクロロ酢酸
、モノフルオロ酢酸、ジフルオロ酢酸およびトリフルオロ酢酸、ヒドロキシ酢酸
、シュウ酸、マロン酸、およびまたシクロヘキサンモノカルボン酸およびシクロ
ヘキサンジカルボン酸、安息香酸、フタル酸およびテレフタル酸、トリフルオロ
メチル安息香酸、フェニル酢酸、フェニルホスホン酸、メチルスルホン酸、エチ
ルスルホン酸、プロピルスルホン酸、ブチルスルホン酸、シクロヘキシルスルホ
ン酸、フェニルスルホン酸、メチルフェニルスルホン酸、トリフルオロメチルフ
ェニルスルホン酸、モノクロロメチルスルホン酸、ジクロロメチルスルホン酸お
よびトリクロロメチルスルホン酸並びにモノフルオロメチルスルホン酸、ジフル
オロメチルスルホン酸およびトリフルオロメチルスルホン酸の陰イオンである。
特に好ましいものは、未置換および置換フェニルスルホン酸の陰イオンである。
【００４２】 式Ｉの基中の基−〔Ｓｉ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）2〕x−ＣmＨ2m−Ｘ1−は、好
ましくは、−Ｓｉ（ＣＨ3）2−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−ＮＨ−または−Ｓｉ（ＣＨ3） 2 −ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−である。
【００４３】 基−ＣmＨ2m−のいくつかの特定の具体的態様は、メチレン、エチレン、１，
２−または１，３−プロピレン、１，２−、１，３−、１，４−または２，３−
ブチレン、エチリデン、プロピリデンおよびブチリデンである。
【００４４】 式Ｉの基中の基−Ｘ1−Ｃ（Ｏ）−Ｘ1′−ＣnＨ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）yのいく
つかの特定の具体的態様は、たとえば、
【００４５】
【表１】
【００４６】 である。上記の基中において、（ＣＨ3）2Ｎ基は、（Ｃ2Ｈ5）2Ｎ基により置き
換えられ得る。
【００４７】 特に好ましい基は、−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ
Ｏ2Ｈ）3、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｈ）3、−
ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2〕2、−Ｎ
Ｈ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3） 2 〕2および−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2〕2（ここで、Ｎ
（ＣＨ3）2基は、Ｎ（Ｃ2Ｈ5）2基により置き換えられ得る）である。
【００４８】 基−Ｃ（Ｏ）−Ｘ1′−ＣnＨ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）yのいくつかの特定の具体的
態様は、上記に列挙されているものであるが、しかし初めにおける−ＮＨ−また
は−Ｏ−は除去される。特に好ましい基は、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（ＣＨ2−Ｏ
−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｈ）3、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2 ＣＯ2Ｈ）3、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2〕 2 および−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2〕 2 （ここで、Ｎ（ＣＨ3）2基は、Ｎ（Ｃ2Ｈ5）2基により置き換えられ得る）であ
る。
【００４９】 式ＩおよびＩａの第３級ジホスフィンの好ましい亜群は、式
【００５０】
【化１３】
【００５１】 〔式中、 Ｒ11およびＲ12は、互いに独立して、線状または分岐状Ｃ1−Ｃ4アルキレンで
あり、かつ鎖−Ｐ−Ｒ11−Ｎ−Ｒ12−Ｐ−は、５から８個の原子を有し、 Ｒ13およびＲ14は、未置換またはＣ1−Ｃ4アルキル−、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ−
もしくはトリフルオロメチル−置換Ｃ5シクロアルキルまたはＣ6シクロアルキル
および未置換またはＣ1−Ｃ4アルキル−、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ−、Ｆ−、Ｃｌ−
もしくはトリフルオロメチル−置換フェニルの中から選択された同一または異な
る基であり、 Ｒ15およびＲ16は、一緒になって、Ｃ2−Ｃ6アルキレンであり、 Ｒ17は、互いに独立して、結合またはメチレンもしくはエチリデンであり、 Ｌは、式−Ｃ（Ｏ）−Ｘ1′−ＣnＨ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）yの基であり、そして Ｌ1は、式−〔〔Ｓｉ−（ＣＨ3）2〕x−ＣmＨ2m−Ｘ1−Ｃ（Ｏ）−Ｘ1′−Ｃn Ｈ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）y〕rの基であり、 Ｘ1は、−Ｏ−、−ＮＨ−または−ＮＣＨ3−であり、 Ｘ1′は、−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であり；あるいはＸ1 ′は、Ｘ1が−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であるとき−Ｏ−で
あり、 Ｙ1は、直接結合、
【００５２】
【化１４】
【００５３】 であり、そしてＹ1が−Ｏ−または−Ｎ＝であるときｎは２から４であり、 Ｒは、中断されていなくてもまたは−Ｏ−、−Ｎ＝もしくは−Ｎ（ＣＨ3）−
により中断されていてもよい線状または分岐状Ｃ1−Ｃ8アルカン基であり、 Ｙは、−ＣＯ2Ｍ、−Ｎ（ＣＨ3）2、−Ｎ（ＣＨ3）2Ｈ+Ｘ2 -または−Ｎ（ＣＨ 3 ）3 +Ｘ2 -であり、 ｘは１であり、かつｍは２または３であり、あるいはｘは０であり、 ｍは、０、または２から４であり、 ｎは、０、または２から４であり、 ｒは、１または２であり、 ｙは、１から３の整数であり、 Ｍは、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａ、ＫまたはＣ1−Ｃ4アルキルであり、そして Ｘ2は、無機または有機酸の陰イオンである〕のものから成る。
【００５４】 Ｘ2について、上記の具体的態様および好ましい事項が適用される。Ｘ2は、た
とえば、塩化物、臭化物、ヨウ化物、硫酸水素、リン酸二水素、酢酸、安息香酸
、トシレートおよびメチルスルホン酸から成る群から選択された陰イオンであり
得る。
【００５５】 式ＩおよびＩａの新規なキラル配位子のいくつかの特定の例は、
【００５６】
【化１５】
【００５７】 およびまたそれらのＮａおよびＫ塩並びにメチルまたはエチルエステルである。
【００５８】 式ＩおよびＩａの化合物は、ＯＨ−またはＮＨ−官能性ジ第３級ジホスフィン
を可溶化化合物のイソシアネートまたはキャップドイソシアネートと反応させる
ことにより、それ自体公知の態様にて製造され得る。本発明は更に、式Ｉおよび
Ｉａの化合物を製造する方法において、 ａ）式IIIおよびIIIａ
【００５９】
【化１６】
【００６０】 のＯＨ−またはＮＨ−官能性ジ第３級ジホスフィンが式IV
【００６１】
【化１７】
【００６２】 の化合物またはその活性化尿素誘導体と反応されるか、あるいはｂ）式IVｂ
【００６３】
【化１８】
【００６４】 のＯＨ−またはＮＨ−官能性化合物が式IIIｂ
【００６５】
【化１９】
【００６６】 の化合物もしくはその活性化尿素誘導体または式IIIａの化合物Ａ1−Ｈの活性化
尿素誘導体と反応される〔式中、Ａ、Ａ1、Ｘ1、Ｘ1′、Ｙ1、Ｙ、Ｒ、ｘ、ｍ、
ｎ、ｙおよびｒは、上記に定義されたとおりである〕上記方法を提供する。
【００６７】 式Ａ−〔〔Ｓｉ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）2〕x−ＣmＨ2m−ＮＨ2〕rのＮＨ2官能
性ジホスフィンの場合において、式Ａ−〔〔Ｓｉ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）2〕x−
ＣmＨ2m−ＮＣＯ〕rのイソシアネートまたはそれらのキャップドイソシアネート
を最初に製造し、そして次いでこれらを式Ｈ−Ｘ1−ＣnＨ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）y の官能性化合物と反応させることも可能である。式IIIａのＮＨ官能性化合物Ａ1 −Ｈの場合において、キャップドイソシアネートを製造しそしてこれらを式Ｈ−
Ｘ1−ＣnＨ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）yの官能性化合物と反応させることは、同様に可
能である。
【００６８】 式III、IIIａ、IIIｂ、IVｂおよびIVの化合物は、公知であるかまたは公知の
もしくは類似の方法により製造され得る。かかる製造において、カルボン酸（Ｙ
は−ＣＯ2Ｈである）の代わりにカルボン酸のエステル（たとえば、メチルまた
はエチルエステル）を用いそして引き続いて加水分解および塩形成により酸およ
び塩を得ることが有利であり得る。
【００６９】 活性化尿素誘導体はまた、キャップドイソシアネートと称される。これらは、
たとえば、式IVａ
【００７０】
【化２０】
【００７１】 〔式中、Ｙ、Ｙ1、Ｒ、ｎ、ｙおよびｒは、上記に定義されたとおりであり、そ
してＲ19は、活性化性アミンのＮ−結合基である〕に相当し得る。かかるアミン
は、本質的に環式の第２級アミン、好ましくはピロールおよび特にイミダゾール
のようなＮ−ヘテロ芳香族化合物である。式IVおよびIVａの化合物は、適切な尿
素たとえばカルボニルビスイミダゾールと式Ｈ2Ｎ−ＣnＨ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）y 〕rの化合物との反応により得られ得る。ここで、化学平衡におけるイソシアネ
ートとキャップドイソシアネートの混合物が形成され得、そして同様に用いられ
得る。反応は、一般に、トルエンのような不活性溶媒中で室温またはわずかに高
められた温度にて行われる。反応生成物は、イソシアネート／キャップドイソシ
アネートを単離することなく、更なる反応において直接的に用いられ得る。アゾ
リデンを用いる合成は、H. A. StaabによりAngew. Chem.，１２，１９６２，第
４０７−４１９頁に記載されている。
【００７２】 官能性ジ第３級ジホスフィンおよびイソシアネート／キャップドイソシアネー
トの反応またはその逆は、一般に、不活性溶媒中で行われる。適当な溶媒の例は
、脂肪族、環状脂肪族または芳香族炭化水素、ハロゲン化炭化水素、エーテル、
カルボン酸エステル、ラクトン、Ｎ−置換カルボキサミド、ラクタムおよびケト
ンである。反応は、−２０℃から１００℃の温度にて行われ得る。
【００７３】 式ＩおよびＩａの化合物は、金属錯体用、特に水素化触媒として用いられ得そ
して水または非プロトン性もしくはプロトン性で極性の有機溶媒たとえばアルコ
ールのような極性反応媒質に可溶でありかつ水素化後、適切ならエステル基の加
水分解および／またはpHを変化させた後に、たとえば抽出により分離除去され得
るもの用の非常に有用な配位子である。
【００７４】 本発明は更に、ｄ8金属と式ＩおよびＩａの化合物との金属錯体、特に式Ｖ、
ＶａおよびＶｂ
【００７５】
【化２１】
【００７６】 〔式中、 Ａ3は、式ＩまたはＩａの化合物であり； Ｘは、２個のモノオレフィン配位子または１個のジエン配位子であり； Ｍｅは、ＩｒおよびＲｈより成る群から選択されたｄ8金属であり； Ｄは、−Ｃｌ、−Ｂｒまたは−Ｉであり； Ｅは、オキソ酸または錯酸の陰イオンであり；そして Ｘ3およびＸ4は、同一または異なりそしてＤまたはＥについて定義されたとお
りであり、あるいはＸ3およびＸ4は、アリルまたは２−メタリルであり、あるい
はＸ3は、ＤまたはＥについて定義されたとおりであり、かつＸ4は、水素化物で
ある〕の金属錯体を提供する。
【００７７】 好ましいものは、Ｘが１，５−ヘキサジエン、１，５−シクロオクタジエンま
たはノルボルナジエンである金属錯体である。本発明の金属錯体において、Ｄは
、−Ｃｌ、−Ｂｒまたは−Ｉである。好ましい金属錯体において、Ｅ-は、Ｃｌ
Ｏ４-、ＣＦ3ＳＯ3 -、ＣＨ3ＳＯ3 -、ＨＳＯ4 -、ＢＦ4 -、Ｂ（フェニル）4 -、Ｐ
Ｆ6 -、ＳｂＣｌ6 -、ＡｓＦ6 -またはＳｂＦ6 -である。
【００７８】 更なる可能なルテニウム錯体は、文献から公知であり、そしてたとえばUS 4 6
91 037、US 4 739 085、US 4 739 084、EP 269395、EP 271310、EP 271311、EP
307168、EP 366390、EP 470756、JP 08081484、JP 08081485、JP 09294932、EP
831099、EP 826694、EP 841343、J. P. Genet，Arcos Organics Acta，１（１９
９５）４、N. C. Zanetti等，Organometallics １５（１９９６）８６０に記載
されている。
【００７９】 式Ｖ、ＶａおよびＶｂの金属錯体は、文献から公知の方法により製造される。
【００８０】 本発明の金属錯体は、有機二重結合および三重結合の水素化用の触媒として非
常に有用である。それらの例は、基Ｃ＝Ｃ、Ｃ＝Ｎ、Ｃ＝Ｏ、Ｃ＝Ｃ−Ｎまたは
Ｃ＝Ｃ−Ｏを含有する化合物である（たとえば、James D. Morrison（編者），A
symmetric Synthesis，Vol. 5，Academic Press，１９８５におけるK. E. Koeni
g，非対称均質触媒作用の適用可能性が参照される）。特に、本発明の金属錯体
は、プロキラルの炭素−炭素および炭素−ヘテロ原子二重結合を含有する化合物
のエナンチオ選択性水素化のために有用である。かかる化合物の例は、プロキラ
ルアルケン、イミンおよびケトンである。
【００８１】 それ故、本発明の更なる観点は、極性反応媒質中における水素化用好ましくは
炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合を有するプロキラル化合物の非対称
水素化用の不均質または均質触媒としての、新規なｄ8金属の金属錯体の使用で
ある。金属錯体は、好ましくは、炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合を
有するプロキラル化合物の非対称水素化のために、特に、Ｉｒ錯体がプロキラル
ケチミンの水素化のためにそしてＲｈ錯体がプロキラルケチミンおよびプロキラ
ルアルケンの水素化のために用いられる。
【００８２】 本発明は更に、炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合を有する化合物の
水素化方法であって、該化合物を−２０から１５０℃の温度にて、極性反応媒質
中で本発明の１種以上の金属錯体の触媒量の存在下で水素と反応させることを含
む上記方法を提供する。
【００８３】 本発明の金属錯体は、水素化条件下で活性化されるところの、水素化触媒また
はかかる触媒の前駆体である。金属錯体は、その場で製造されそして水素化触媒
として用いられ得る。水素化は、有利には、貴ガス（アルゴン）のような保護ガ
ス下で行われる。
【００８４】 方法は、１から５００bar好ましくは１−１５０bar特に好ましくは１から１２
０bar特に１から１００barの水素圧下で行われ得る。
【００８５】 反応温度は、たとえば、０から１５０℃好ましくは１０から１２０℃特に好ま
しくは３０から１００℃であり得る。
【００８６】 触媒の量は、主として、所望反応時間および経済的考慮事項に依存する。より
多量の触媒は、本質的に、より短い反応時間を促進する。触媒は、好ましくは、
水素化される化合物を基準として０．０００１から１０mol%特に好ましくは０．
００１から１０mol%特に０．０１から５mol%の量にて用いられる。基質対触媒の
モル比は、たとえば、３０から１０００００好ましくは５０から５００００特に
好ましくは５０から３００００特に１００から２０００であり得る。
【００８７】 特に有利な観点は、水素化が極性反応媒質たとえば極性有機または水性媒質中
でかつ酸性、中性または塩基性範囲にて行われ得、従って特定の基質について最
適化される反応条件が設定され得、また触媒はたとえば抽出により容易に分離除
去され得ることである。式ＩおよびＩａ中のＹがエステル基である場合、これは
、前もって加水分解されて酸基を形成し得る。
【００８８】 本発明の目的のために、水性反応媒質は、水のみまたは水混和性もしくは水不
混和性有機溶媒と混合した水から成るものである。水の割合は、好ましくは少な
くとも３０容量パーセント、特に好ましくは少なくとも５０容量パーセント、特
に少なくとも７０容量パーセントである。反応媒質は、非常に特に好ましくは、
水のみを含有する。適当な溶媒の例は、メタノール、エタノール、プロパノール
、ブタノール、エチレングリコールおよびエチレングリコールモノメチルエーテ
ルのようなアルコール；ジエチルエーテル、ジイソブチルエーテル、テトラヒド
ロフランおよびジオキサンのようなエーテル；エチルアセテート、メチルアセテ
ートおよびバレロラクトンのようなエステルおよびラクトン；ジメチルスルホキ
シド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホンのようなスルホキシドおよび
スルホン；アセトンまたはメチルイソブチルケトンのようなケトン；メチレンク
ロライド、クロロホルム、テトラクロロエタンおよびクロロベンゼンのようなハ
ロゲン化炭化水素；並びにＮ−メチルピロリドンおよびジメチルホルムアミドの
ようなＮ−置換カルボキサミドおよびラクタムである。有機溶媒が水と混和性で
ない場合、二相水素化が起こる。
【００８９】 緩衝剤、塩基または酸は、水性反応媒質に添加され得る。反応は、たとえば、
１から１２好ましくは２から１０特に好ましくは３から９のpHにて行われ得る。
適当には緩衝剤は特にリン酸塩緩衝剤であるが、しかしカルボン酸、炭酸、リン
酸およびホウ酸を用いることも可能である。適当な塩基の例は、アルカリ金属水
酸化物およびアルカリ土類金属水酸化物、アミン、並びにカルボン酸、炭酸、リ
ン酸およびホウ酸のアルカリ金属塩である。適当な酸の例は、ＨＣｌ、ＨＢｒ、
ＨＩ、ＨＢＦ4、ＨＣｌＯ4、カルボン酸（未置換、フッ素化または塩素化酢酸、
安息香酸、クエン酸）、ホウ酸、リン酸、メタンスルホン酸、硫酸および炭酸で
ある。塩基および酸はまた、イオン交換樹脂のような可溶性または不溶性ポリマ
ーであり得る。塩基、酸および／または緩衝剤の量は、たとえば、水１リットル
当たり０から２好ましくは０から１特に好ましくは０から０．５molであり得る
。
【００９０】 適当な有機溶媒の例は、エチルアセテートおよびメチルアセテート並びにバレ
ロラクトンのようなエステルおよびラクトン；アセトンまたはメチルイソブチル
ケトンのようなケトン；メチレンクロライド、クロロホルム、テトラクロロエタ
ンおよびクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素；ジエチルエーテル、ジイ
ソブチルエーテル、テトラヒドロフランおよびジオキサンのようなエーテル；ジ
メチルスルホキシド、ジメチルスルホン、テトラメチレンスルホンのようなスル
ホキシドおよびスルホン；Ｎ−メチルピロリドンおよびジメチルホルムアミドの
ようなＮ−置換カルボキサミドおよびラクタム；並びに特にアルコールである。
【００９１】 本発明の目的のために、アルコール性反応媒質は、単独または別の有機溶媒と
混合したのいずれかのアルコールの存在を意味する。適当なアルコールは、脂肪
族、環状脂肪族、環状脂肪族−脂肪族および芳香族脂肪族アルコールである。い
くつかの好ましい例は、メタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノール
、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブタノール、ペンタノール、ヘキサノール、シクロヘキ
サノール、シクロヘキサンジオール、ヒドロキシメチルシクロヘキサンまたはジ
ヒドロキシメチルシクロヘキサン、ベンジルアルコール、エチレングリコール、
ジエチレングリコール、プロパンジオール、ブタンジオール、エチレングリコー
ルモノメチルエーテルまたはエチレングリコールモノエチルエーテル、およびジ
エチレングリコールモノメチルエーテルまたはジエチレングリコールモノエチル
エーテルである。好ましいものは、メタノールおよびエタノールである。アルコ
ールの割合は、好ましくは少なくとも３０容量パーセント、特に好ましくは少な
くとも５０容量パーセント、特に少なくとも７０容量パーセントである。非常に
特に好ましいのは、アルコールのみを用いることである。
【００９２】 用いられるジホスフィン触媒の触媒性質が助触媒、変性剤、金属ハロゲン化物
およびアンモニウムハロゲン化物の添加により影響され得る、ということが知ら
れている。それ故、アルカリ金属またはアンモニウムの塩化物、臭化物またはヨ
ウ化物、たとえばＬｉＣｌ、ＬｉＢｒ、ＬｉＩ、ＮａＩ、ＮａＢｒまたはテトラ
ブチルアンモニウムヨーダイドを反応混合物に添加することが、有利であり得る
。その量は、たとえば、溶媒１リットル当たり０．００１から５molであり得る
。公知の変性剤は、フタルイミドおよびパラバン酸である。
【００９３】 水素化は、様々なタイプの反応器において連続的にまたは回分的に行われ得る
。好ましいものは、比較的良好な混合および良好な熱除去を可能にする反応器た
とえばループ反応器である。このタイプの反応器は、少量の触媒を用いる場合に
特に有用であることが分かっている。
【００９４】 本発明により製造され得る水素化有機化合物は、特に製薬および農薬の製造の
際の、活性物質またはかかる物質を製造するための中間体である。かくして、た
とえば、ｏ，ｏ−ジアルキルアリールアミン誘導体、特にアルキルおよび／また
はアルコキシアルキル基を有するものは、殺真菌剤として、特に除草剤として作
用する。該誘導体は、アミン塩、酸アミド（たとえば、クロロ酢酸の）、第３級
アミンおよびアンモニウム塩であり得る（たとえば、EP-A-0 077 755およびEP-A
-0 115 470参照）。
【００９５】 次の例は、本発明を例示する。
【００９６】Ａ）出発化合物の製造例Ａ１ ： （Ｃ2Ｈ5Ｏ2Ｃ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−）3
Ｃ−ＮＣＯ （Ａ１）の製造 トルエン（１mmol当たり７ml）中の（Ｃ2Ｈ5Ｏ2Ｃ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2−
）3Ｃ−ＮＨ2（G. R. Newcome等，Aldrichimica Acta，２５（１９９２）３１−
８に記載されているようにして製造された）１mmolの溶液をカルボニルジイミダ
ゾール等モル量に添加し、そしてこの混合物を一晩撹拌する。イソシアネートと
イミダゾリル尿素の混合物が形成される。この溶液を、下記の反応のために直接
的に用いる。
【００９７】例Ａ２ ： Ｈ2Ｎ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ−（Ｃ2Ｈ5）〕2 （Ａ
２）の製造ａ）アセトニトリル５ml中のＮ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラエチルジエ
チレントリアミン１ml（３．５mmol）とＮ−（３−ブロモプロピル）フタルイミ
ド９３８mg（３．５mmol）と炭酸カリウム９７７mg（７mmol）の混合物を、室温
にて週末にわたって撹拌する。この反応混合物をメチレンクロライド／水で抽出
し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥しそしてロータリーエバポレーターにて蒸
発させ、そしてこの粗生成物をクロマトグラフィー（シリカゲル： Merck 60，
溶離剤： ５０／１のエタノール／トリエチルアミンの混合物）により精製する
。生成物が、８０％の収率にて油として得られる。
【００９８】
【表２】
【００９９】 ｂ）エタノール１０ml中の例Ａ２ａに記載された生成物１．５２ｇ（３．７９mm
ol）をヒドラジン水和物溶液１mlで処理し、そしてこの混合物を還流下で１時間
撹拌する。室温に冷却した後、メチレンクロライド２５mlを添加し、そしてこの
混合物を濾過する。濾液をロータリーエバポレーターにて蒸発乾固し、そしてこ
の生成物Ａ２を固体ＮａＯＨ上で乾燥する（収率９７％）。
【０１００】
【表３】
【０１０１】Ｂ）ジホスフィン配位子の製造例Ｂ１ ： 配位子Ｋ１の製造ａ）トリエステルの
製造 トルエン２．５ml中の２−ジフェニルホスフィノメチル−４−ジフェニルホス
フィノピロリジン（ＰＰＭ）３７７mg（０．８３mmol）の溶液を、例Ａ１に記載
されたようにして製造された溶液（イソシアネートトリエステル１．１mmol）に
添加し、そしてこの混合物を一晩撹拌する。ロータリーエバポレーターでの蒸発
および減圧下でのトルエンの部分的除去後、この粗生成物をクロマトグラフィー
（シリカゲル： Merck 60，溶離剤： エチルアセテート）により精製する。生
成物６０５mgが得られる（収率： ８１％）。
【０１０２】 ｂ）三酸の製造 水１mlおよびＫＯＨ０．６ｇを、エタノール５ml中のＢ１ａに記載されたよう
にして製造されたトリエステル５９０mgの溶液に添加し、そしてこの混合物を３
時間撹拌する。次いで、エタノールを減圧下で蒸発させ、そしてこの混合物を水
２５ml中に溶解する。引き続いて、この溶液を２N−ＨＣｌを用いて酸性化し、
そしてエチルアセテートで数回抽出する。有機相を収集し、水で洗浄し、硫酸ナ
トリウム上で乾燥し、そして最後に減圧下で蒸発乾固する。生成物は、８８％の
収率にて白色固体として得られる。
【０１０３】例Ｂ２ ： 配位子Ｋ２の製造ａ）トリエステルの製造 ３，４−ジフェニルホスフィノピロリジン（pyrphos）を出発化合物として用
いること以外は、例Ｂ１ａの手順を繰り返す。反応生成物は、６３％の収率にて
得られる。
【０１０４】 ｂ）三酸の製造 例Ｂ１ｂの手順を繰り返す。生成物は、９５％の収率にて白色固体として得ら
れる。
【０１０５】例Ｂ３ ： 配位子Ｋ３の製造ａ）トリエステルの製造 ２，２′−ビス（ジフェニルホスフィノ）−５−メチル−５′−ヒドロキシメ
チルビフェニル（ＨＯ−biphemp）を出発化合物として用いること以外は、例Ｂ
１ａの手順を繰り返す。反応生成物は、８２％の収率にて得られる。
【０１０６】 ｂ）三酸の製造 例Ｂ１ｂの手順を繰り返す。生成物は、９２％の収率にて白色固体として得ら
れる。
【０１０７】例Ｂ４ ： 配位子Ｋ４の製造ａ）トリエステルの製造
【０１０８】
【化２２】
【０１０９】 （アミン配位子Ａ，WO 98/01457参照） メチレンクロライド８ml中のアミン配位子Ａ１ｇ（１．５mmol）の溶液を、メ
チレンクロライド６ml中のカルボニルジイミダゾール等モル量に０℃にて添加し
、そして引き続いてこの反応混合物を室温にて２時間撹拌する。次いで、Ｈ2Ｎ
−Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2Ｃ（Ｏ）−ＯＣＨ2ＣＨ3１．６当量およびジブチ
ルスズジラウレート５mgを添加し、そしてこの混合物を５０℃にて４８時間撹拌
する。クロマトグラフィー（シリカゲル： Merck 60，溶離剤： １：１のヘキ
サン／エチルアセテート）による精製後、生成物は、６５％の収率にて実質的に
固体の橙色油として得られる。
【０１１０】 ｂ）三酸の製造 ジホスフィントリエステル１ｇをエタノール１０ml中に溶解し、そして２０％
ＫＯＨ水溶液１mlで処理する。２時間撹拌した後、エタノールを減圧下で蒸発さ
せ、そしてこの生成物を水２０ml中に溶解する。生成物を２N−ＨＣｌの添加に
より沈殿させ、濾別し、水で数回洗浄し、そして最後に高真空中で５０℃にて乾
燥する。生成物は、９２％の収率にて橙黄色固体として得られる。
【０１１１】例Ｂ５ ： 配位子Ｋ５の製造ａ）トリエステルの製造
【０１１２】
【化２３】
【０１１３】 （アミン配位子Ｂ，WO 98/01457参照） メチレンクロライド２ml中の官能化配位子２１５mg（０．３４mmol）の溶液を
、メチレンクロライド２ml中のカルボニルジイミダゾール等モル量に０℃にて添
加し、そして引き続いてこの反応混合物を室温にて２時間撹拌する。次いで、ア
ミン配位子Ｂ２当量およびジブチルスズジラウレート５mgを添加し、そしてこの
混合物を５０℃にて４８時間撹拌する。クロマトグラフィー（シリカゲル： Me
rck 60，溶離剤： １：１のヘキサン／エチルアセテート）による精製後、生成
物は、７２％の収率にて実質的に固体の橙色油として得られる。
【０１１４】 ｂ）三酸の製造 例Ｂ４ｂの手順を繰り返す。橙色固体生成物が、９７％の収率にて得られる。 ＣＤＣｌ3中の化合物Ｋ１ないしＫ５の31Ｐ−ＮＭＲ（Ｐｈ＝フェニル、ｘｙ
ｌ＝キシリル、ｃｙ＝シクロヘキシル）：
【０１１５】
【表４】
【０１１６】 1ＨーＮＭＲ： すべての場合において、エチルエステル基の特性シグナル（
δ＝１．２における三重線およびδ＝４．１における四重線）は、トリエステル
の鹸化後に消失した。
【０１１７】例Ｂ６ ： 配位子Ｋ６の製造 メチレンクロライド１．５ml中のアミン配位子Ｂ８３mg（０．１３３mmol）の
溶液を、メチレンクロライド２ml中の１，１′−カルボジイミダゾール２２mg（
０．１３３mmol）の溶液に０℃にて添加し、そして引き続いてこの混合物を室温
にて２時間撹拌する。次いで、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラエチルジエチレント
リアミン２当量およびジブチルスズジラウレート２mgを添加し、そしてこの混合
物を一晩撹拌する。引き続いて、メチレンクロライドを蒸発し、そしてこの粗生
成物をクロマトグラフィー（シリカゲル： Merck 60，溶離剤： １００／１の
エタノール／トリエチルアミンの混合物）により精製する。生成物は、８７％の
収率にて橙色粘稠油として得られる。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）： １．０２および２．６におけるＣＨ3−ＣＨ2−Ｎ
基についての典型的シグナルを示す。
【０１１８】
【表５】
【０１１９】例Ｂ７ ： 配位子Ｋ７の製造 メチレンクロライド１．５ml中のテトラアミンＡ２ ９７mg（０．３３５mmol
）を、メチレンクロライド４ml中の１，１′−カルボジイミダゾール５８mg（０
．３５mmol）の溶液に０℃にて添加し、そして引き続いてこの反応混合物を室温
にて１時間撹拌する。次いで、メチレンクロライド２ml中の（２Ｓ，４Ｓ）−（
−）−４−ジフェニルホスフィノ−２−（ジフェニルホスフィノメチル）−ピロ
リジン１５４mg（０．３４mmol）の溶液を添加し、そしてこの混合物を還流下で
６時間撹拌する。最後に、メチレンクロライドを蒸発させ、そしてこの粗生成物
をクロマトグラフィー（シリカゲル： Merck 60，溶離剤： ２５／１のエタノ
ール／トリエチルアミンの混合物）により精製する。生成物は、６７％の収率に
て粘稠な無色油として得られる。1 Ｈ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）： １．０２および２．５５におけるＣＨ3−ＣＨ2−
Ｎ基についての典型的シグナルを示す。31 Ｐ−ＮＭＲ（ＣＤＣｌ3）： −７．６（ｓ）、−２１．５（ｓ）
【０１２０】ｃ）使用例 試験反応：
【０１２１】
【化２４】
【０１２２】 Ｒ＝ＨまたはＫ、Ｎａ： アセトアミドケイ皮酸（ＡＣ） Ｒ＝メチル： メチルアセトアミドシンナメート（ＭＡＣ） 操作はすべて、保護ガスとしてのアルゴン下で行われる。水素化は、２５mlガ
ラスフラスコ（１barの水素圧）または磁気撹拌機および真空／ガス連結部を備
えた５０ml鋼製オートクレーブ（＞１barの水素圧）中で行われる。水素化用溶
液は、アルゴンの向流下で、ガラスフラスコの場合には針付き注射器により、オ
ートクレーブの場合にはセプタムを通じて導入される。水素化用溶液の添加後、
不活性ガスは、水素により置換される（ガラス装置： 真空、大気圧における水
素の４サイクル；鋼製オートクレーブ： ５−１０barの水素での加圧および圧
力解放の４サイクル）。水素化は、撹拌機のスイッチを入れることにより開始さ
れる。
【０１２３】 次のリン酸塩緩衝剤が用いられる。すなわち、pH７＝Ｎａ2ＨＰＯ4０．０４１
molおよびＫＨ2ＰＯ4０．０２８mol／リットル；pH８＝Ｎａ2ＨＰＯ4０．０６３
molおよびＫＨ2ＰＯ4０．００４mol／リットル。
【０１２４】 転化度および光学収率（エナンチオマー過剰率＝ee）は、ＧＣ（カラム： Ch
irasil-Val）を用いて、反応生成物について決定される。アセトアミドケイ皮酸
の水素化の場合、反応生成物は、最初に、トリメチルオキソニウムテトラフルオ
ロボラートを用いてエステル化される。
【０１２５】例Ｃ１−Ｃ１５ ：方法ａ ： 水中における水素化 〔Ｒｈ（ノルボルナジエン）2〕ＢＦ4および配位子をメタノール（ＭｅＯＨ）
２ml中に溶解し、この溶液を１０分間撹拌し、そして次いでＭｅＯＨを減圧下で
２０−４０℃にて蒸発させる。第２容器中で、アセトアミドケイ皮酸を水５ml中
にスラリー化し、そして２N−ＮａＯＨを透明溶液が得られるまでゆっくり滴加
する。引き続いて、リン酸塩緩衝剤（pH７）を添加する。pHをpH紙またはpH電極
を用いて検査しそして必要な場合０．１N−ＮａＯＨまたはメタンスルホン酸に
よりpH７に調整し、そしてこの溶液を水の添加により１０mlの容量にする。この
溶液を前もって製造された固体触媒に添加し、そしてこの混合物を触媒が溶解す
るまで撹拌する（溶解は超音波により促進され得る）。得られた溶液を水素化装
置に移し、そして水素化する。
【０１２６】方法ｂ ： 水中における水素化 配位子を容器中に入れ、そして撹拌しながら０．１N−ＮａＯＨ（カルボン酸
官能基１当量当たりＮａＯＨ１当量）の援助でもって溶解する。水１mlの添加後
、この配位子溶液を〔Ｒｈ（ノルボルナジエン）2〕ＢＦ4に添加し、そしてこの
混合物を透明溶液が得られるまで撹拌する。基質溶液を方法ａに記載されたよう
にして製造するが、しかし触媒溶液の添加後のみに水でもって１０mlにする。こ
の溶液を水素化装置に移し、そして水素化する。
【０１２７】方法ｃ ： 水中における水素化 配位子を容器中に入れ、水１ml中に懸濁させ、そしてメタンスルホン酸（水中
の１容量％）（アミン官能基１当量当たりメタンスルホン酸１当量）の添加によ
り溶解する。この配位子溶液を〔Ｒｈ（ノルボルナジエン）2〕ＢＦ4に添加し、
そしてこの混合物を透明溶液が得られるまで撹拌する。基質溶液を方法ａ）に記
載されたようにして製造するが、しかし触媒溶液の添加後のみに水でもって１０
mlにする。この溶液を水素化装置に移し、そして水素化する。
【０１２８】方法ｄ ： メタノール中における水素化 〔Ｒｈ（ノルボルナジエン）2〕ＢＦ4および配位子をＭｅＯＨ２ml中に溶解し
、そしてこの溶液を１０分間撹拌する。ＭｅＯＨ８ml中に溶解された基質を、こ
の触媒溶液に添加する。生じた溶液を水素化装置に移し、そして水素化する。
【０１２９】抽出による触媒分離の例 ： 例Ｃ９からの水素化用溶液を、水素化後、減圧下で蒸発乾固し、そして引き続
いてこの混合物をエチルアセテートおよび水（リン酸塩緩衝剤pH８と共に）で抽
出する。有機相を収集し、水で洗浄し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、そして最後
にロータリーエバポレーターにて蒸発乾固する。有機生成物の分析により、ロジ
ウムの９５％より多くが分離除去されたことが指摘される。
【０１３０】 反応条件は、第１表に示されている。例Ｃ５およびＣ９においてＭＡＣが基質
として用いられ、一方ＡＣがその他のもののすべてにおいて用いられる。水素化
は、例Ｃ１およびＣ１０においては方法ａ）により、例Ｃ２ないしＣ７において
は方法ｂ）により、そして例Ｃ７、Ｃ８、Ｃ１１、Ｃ１２およびＣ１５において
は方法ｃ）により行われる。例Ｃ２ないしＣ４およびＣ７においては水素圧は１
５barであり、その他の例のすべてにおいては１barである。例Ｃ１−Ｃ４、Ｃ６
、Ｃ７およびＣ１０においては溶媒は水であり、例Ｃ８、Ｃ９、Ｃ１１、Ｃ１２
およびＣ１５においてはそれはメタノールであり、そして例Ｃ５においてはそれ
は水（リン酸塩緩衝剤pH８）１０mlとエチルアセテート７mlの混合物である（二
相水素化）。反応温度： 例Ｃ１−Ｃ５およびＣ１０−Ｃ１１においては２５℃
、例Ｃ６ないしＣ９およびＣ１２−Ｃ１５においては４０℃。
【０１３１】
【表６】
【０１３２】 第１表中に列挙された例の結果は、第２表に示されている。
【０１３３】
【表７】
【０１３４】例Ｃ１６−Ｃ２３ ： 葉酸の水素化 配位子０．００２５mmolを、水５mlおよび緩衝剤pH７（水１l中のＮａ2ＨＰＯ 4 ０．０４１molおよびＫＨ2ＰＯ4０．０２８mol）０．５ml中に溶解する。次い
で、配位子のカルボン酸基を、透明な溶液が形成されるまで０．１N−ＮａＯＨ
と反応させる。生じた溶液を〔Ｒｈ（ＮＢＤ）2〕ＢＦ4７．４mg（０．０２mmol
）に添加し、そして溶液が形成するまで撹拌する（ＮＢＤはノルボルナジエンで
ある）。この溶液を水１１mlおよび緩衝剤pH７ １．５ml中の葉酸二ナトリウム
塩２mmolの溶液に添加し、そしてこの混合物を、スパージング撹拌機を備えた水
素化オートクレーブに、アルゴンの向流下で注射器により移す。オートクレーブ
を閉鎖し、アルゴンを水素により置換し、そして最後に水素を所望圧が達成され
るまで注入する。水素圧を、貯槽から減圧弁を経て更なる供給により維持する。
水素化は、撹拌機のスイッチを入れることにより開始される。下記の表において
、記載された水素化時間は、反応が停止する（もはや水素は何ら消費されない）
時間である。別段指摘されていなければ、これは、葉酸の完全な転化に相当する
。圧力は８０barであり、そして反応温度は７０℃（例Ｃ２１においては３０℃
）である。基質対触媒（Ｓ／Ｃ）のモル比は、例Ｃ１６−Ｃ２２においては１０
０でありそして例Ｃ２３においては１０００である。光学収率ＤＥは、葉酸のＳ
，Ｓ立体配置について記載される。結果は、第３表に要約されている。
【０１３５】
【表８】
【０１３６】 脚注： １）緩衝剤pH６： 水１l中のＮａ2ＨＰＯ4０．０１molおよびＫＨ2ＰＯ4０．０
７１mol；反応の終わりに、１N−ＫＨ2ＰＯ4更に４mlが添加される。 ２）葉酸二ナトリウム塩５mmol、〔Ｒｈ（ＮＢＤ）2〕ＢＦ4０．００５mmolおよ
び配位子０．００６７５mmolが、合計して水１６mlおよび緩衝剤pH７ ２ml中に
おいて用いられる。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｃ０７Ｆ 9/50 Ｃ０７Ｆ 9/50 15/00 15/00 Ｂ 17/02 17/02 // Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｂ 61/00 ３００ Ｃ０７Ｍ 7:00 Ｃ０７Ｍ 7:00 (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＭＺ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ ，ＺＷ)，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ， ＲＵ，ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ， ＡＵ，ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＢＺ，Ｃ Ａ，ＣＨ，ＣＮ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ ，ＤＺ，ＥＥ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ， ＧＭ，ＨＲ，ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，Ｋ Ｅ，ＫＧ，ＫＰ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ ，ＬＴ，ＬＵ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ， ＭＷ，ＭＸ，ＭＺ，ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，Ｒ Ｕ，ＳＤ，ＳＥ，ＳＧ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ， ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ Ｆターム(参考） 4G069 AA02 AA06 BA27A BC29A BC69A BC71A BC71B BC74A BE26A BE26B BE27A BE27B BE32A BE32B BE33A BE36A BE36B BE37B BE38A CB02 4H006 AA02 AC11 AC81 BA24 BA48 BA61 BB14 BB31 BC10 BC11 BC32 BC34 BE20 BJ50 BS10 BT12 BV34 4H039 CA12 CB10 4H050 AA01 AA03 AB40

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式ＩまたはＩａ 【化１】 〔式中、 Ａは、Ｃ原子を介して結合されたジ第３級ジホスフィンの一価ないし四価の骨
    組であり、 Ａ1は、Ｎ原子を介して結合された３−８員Ｎ−複素環式ジ第３級ジホスフィ
    ンの一価の骨組であり、 Ｘ1は、−Ｏ−、−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であり、 Ｘ1′は、−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であり；あるいはＸ1 ′は、Ｘ1が−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であるとき−Ｏ−で
    あり、 Ｙ1は、直接結合、 【化２】 （ｙ＋１）価のベンゼン基、または３−８員シクロアルカンの（ｙ＋１）価の基
    であり、そしてＹ1が−Ｏ−または−Ｎ＝であるときｎは１から４であり、 Ｒは、中断されていなくても、または−Ｏ−、−Ｎ＝もしくは−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4 アルキル）−により中断されていてもよいＣ1−Ｃ12アルカンの線状または分岐
    状の（ｙ＋１）価の基であり、あるいは Ｒは、直接結合であり、かつＹ1は−Ｏ−または−Ｎ＝でなく、 Ｙは、−ＣＯ2Ｍ、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）2−、−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4アルキル） 2 Ｈ+Ｘ2 -または−Ｎ（Ｃ1−Ｃ4アルキル）3 +Ｘ2 -であり、 ｘは１であり、かつｍは２から４であり、あるいはｘは０であり、 ｍは、０、または１から４の整数であり、 ｎは、０、または１から４の整数であり、 ｒは、１から４の整数であり、 ｙは、１から５の整数であり、 Ｍは、Ｈ、アルカリ金属、または１から１８個のＣ原子を有する一価の炭化水
    素基であり、そして Ｘ2は、無機または有機酸の陰イオンである〕の化合物。
  2. 【請求項２】 ジ第３級ジホスフィンの二つのホスフィン基が、線状または
    分岐状Ｃ1−Ｃ12アルキル；未置換またはＣ1−Ｃ6アルキル−もしくはＣ1−Ｃ6
    アルコキシ−置換Ｃ5−Ｃ12シクロアルキルまたはＣ5−Ｃ12シクロアルキル−Ｃ
    Ｈ2−；フェニルおよびベンジル；およびハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ 6 ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6ハロアルコキシ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓ
    ｉ、（Ｃ1−Ｃ12アルキル）3Ｓｉまたは−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6アルキルにより置換
    されたフェニルおよびベンジルより成る群から選択された２個の同一または異な
    る基を含有し；あるいはホスフィン基が、未置換またはハロゲン−、Ｃ1−Ｃ6ア
    ルキル−もしくはＣ1−Ｃ6アルコキシ−置換の、ジメチレン、トリメチレン、テ
    トラメチレン、ペンタメチレンまたは３−オキサペンタン−１，５−ジイルを含
    有する、請求項１に記載の化合物。
  3. 【請求項３】 第３級ジホスフィンが、それらのホスフィン基が（ａ）２か
    ら６個の原子を有する鎖の異なるＣ原子にまたは（ｂ）直接的にまたは架橋基−
    ＣＲaＲb−を介してフェロセニル基のシクロペンタジエニル環にシクロペンタジ
    エニル環のオルト位にてか、または各々のいずれかにて結合されているものであ
    り、ここでＲaおよびＲbは、同一または異なりそしてＨ、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ 1 −Ｃ4フルオロアルキル、Ｃ5−Ｃ6シクロアルキル、フェニル、ベンジル、また
    はＣ1−Ｃ4アルキル−もしくはＣ1−Ｃ4アルコキシ−一置換ないし三置換フェニ
    ルもしくはベンジルである、請求項１に記載の化合物。
  4. 【請求項４】 式ＩおよびＩａにおけるジホスフィン基ＡおよびＡ1が、式I
    I、IIａおよびIIb 【化３】 〔式中、 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ4およびＲ5は各々、互いに独立して、置換されていないかまたは
    ハロゲン、Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ 1 −Ｃ6ハロアルコキシ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12アルキル）3Ｓｉもしく
    は−ＣＯ2−Ｃ1−Ｃ6アルキルにより置換されている１から２０個のＣ原子を有
    する炭化水素基であり；あるいはＲ1とＲ2またはＲ4とＲ5は、各場合に一緒にな
    って、未置換またはハロゲン−、Ｃ1−Ｃ6アルキル−もしくはＣ1−Ｃ6アルコキ
    シ−置換の、テトラメチレン、ペンタメチレンまたは３−オキサペンタン−１，
    ５−ジイルであり；そして Ｒ3は、未置換またはＣ1−Ｃ6アルキル−、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−、Ｃ5シクロ
    アルキル−もしくはＣ6シクロアルキル−、フェニル−、ナフチル−もしくはベ
    ンジル−置換Ｃ2−Ｃ4アルキレン；未置換またはＣ1−Ｃ6アルキル−、フェニル
    −もしくはベンジル−置換の、４から１０個のＣ原子を有する１，２−もしくは
    １，３−シクロアルキレン、１，２−もしくは１，３−シクロアルケニレン、１
    ，２−もしくは１，３−ビシクロアルキレンまたは１，２−もしくは１，３−ビ
    シクロアルケニレン；メチレンまたはＣ2−Ｃ4アルキリデンが１および／もしく
    は２位にてまたは３位にて結合されている未置換またはＣ1−Ｃ6アルキル−、フ
    ェニル−もしくはベンジル−置換の、４から１０個のＣ原子を有する１，２−も
    しくは１，３−シクロアルキレン、１，２−もしくは１，３−シクロアルケニレ
    ン、１，２−もしくは１，３−ビシクロアルキレンまたは１，２−もしくは１，
    ３−ビシクロアルケニレン；２，３位にてＲ6Ｒ7Ｃ（Ｏ−）2により置換されて
    おりかつ未置換であるか、または１および／または４位にてＣ1−Ｃ6アルキル、
    フェニルもしくはベンジルにより置換されている１，４−ブチレン（ここで、Ｒ 6 およびＲ7は、互いに独立して、水素、Ｃ1−Ｃ6アルキル、フェニルまたはベン
    ジルである）；Ｎ原子が水素、Ｃ1−Ｃ12アルキル、フェニル、ベンジル、Ｃ1−
    Ｃ12アルコキシカルボニル、Ｃ1−Ｃ8アシル、Ｃ1−Ｃ12アルキルアミノカルボ
    ニルにより置換されている３，４−もしくは２，４−ピロリジニレンまたはメチ
    レン−４−ピロリジン−４−イル；または未置換またはハロゲン−、−ＯＨ−、
    Ｃ1−Ｃ6アルキル−、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ−、フェニル−、ベンジル−、フェニ
    ルオキシ−もしくはベンジルオキシ−置換の１，２−フェニレン、２−ベンジレ
    ン、１，２−キシリレン、１，８−ナフチレン、２，２′−ビナフチレンまたは
    ２，２′−ビフェニレンであり；あるいはＲ3は、式 【化４】 （式中、Ｒ8は、水素、Ｃ1−Ｃ8アルキル、Ｃ1−Ｃ4フルオロアルキル、未置換
    フェニル、または１から３個のＦ、Ｃｌ、Ｂｒ、Ｃ1−Ｃ4アルキル、Ｃ1−Ｃ4ア
    ルコキシもしくはフルオロメチル置換基により置換されたフェニルである）の基
    であり； 式IIａ中のｑは、０、または１から６の整数であり、式IIａの基は、縮合され
    ていないかまたは環状脂肪族、ヘテロ環状脂肪族、芳香族もしくはヘテロ芳香族
    基と縮合されており、また式IIａの基は、置換されていないかまたはハロゲン、
    Ｃ1−Ｃ6アルキル、Ｃ1−Ｃ6ハロアルキル、Ｃ1−Ｃ6アルコキシ、Ｃ1−Ｃ6ハロ
    アルコキシ、（Ｃ6Ｈ5）3Ｓｉ、（Ｃ1−Ｃ12アルキル）3Ｓｉもしくは−ＣＯ2−
    Ｃ1−Ｃ6アルキルにより置換されており；そして Ｒ9およびＲ10は、互いに独立して、Ｃ1−Ｃ4アルキレンである〕に相当する
    、請求項１に記載の化合物。
  5. 【請求項５】 式Ｉにおける基−Ｘ1−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣnＨ2n−Ｙ1−（
    Ｒ−Ｙ）yが、−ＮＨ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｈ）3 、−Ｏ−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｈ）3、−ＮＨ−Ｃ
    （Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2〕2、−ＮＨ−Ｃ（
    Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2〕2または−ＮＨ
    −Ｃ（Ｏ）−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2〕2（ここで、Ｎ（ＣＨ3）2基は、
    Ｎ（Ｃ2Ｈ5）2基により置き換えられ得る）であり、そして式Ｉａにおける基−
    Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣnＨ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）yが、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−Ｃ（ＣＨ2 −Ｏ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＯ2Ｈ）3、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2Ｃ（ＣＨ2−Ｏ−ＣＨ2
    ＣＨ2ＣＯ2Ｈ）3、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3） 2 〕2、−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2〕2 または−Ｃ（Ｏ）−ＮＨ−ＣＨ2ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ〔ＣＨ2ＣＨ2−Ｎ（ＣＨ3）2〕2 （ここで、Ｎ（ＣＨ3）2基は、Ｎ（Ｃ2Ｈ5）2基により置き換えられ得る）であ
    る、請求項１に記載の化合物。
  6. 【請求項６】 次の式 【化５】 〔式中、 Ｒ11およびＲ12は、互いに独立して、線状または分岐状Ｃ1−Ｃ4アルキレンで
    あり、かつ鎖−Ｐ−Ｒ11−Ｎ−Ｒ12−Ｐ−は、５から８個の原子を有し、 Ｒ13およびＲ14は、未置換またはＣ1−Ｃ4アルキル−、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ−
    もしくはトリフルオロメチル−置換Ｃ5シクロアルキル、またはＣ6シクロアルキ
    ルおよび未置換またはＣ1−Ｃ4アルキル−、Ｃ1−Ｃ4アルコキシ−、Ｆ−、Ｃｌ
    −もしくはトリフルオロメチル−置換フェニルの中から選択された同一または異
    なる基であり、 Ｒ15およびＲ16は、一緒になって、Ｃ2−Ｃ6アルキレンであり、 Ｒ17は、互いに独立して、結合またはメチレンもしくはエチリデンであり、 Ｌは、式−Ｃ（Ｏ）−Ｘ1′−ＣnＨ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）yの基であり、そして Ｌ1は、式−〔〔Ｓｉ−（ＣＨ3）2〕x−ＣmＨ2m−Ｘ1−Ｃ（Ｏ）−Ｘ1′−Ｃn Ｈ2n−Ｙ1−（Ｒ−Ｙ）y〕rの基であり、 Ｘ1は、−Ｏ−、−ＮＨ−または−ＮＣＨ3−であり、 Ｘ1′は、−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であり；あるいはＸ1 ′は、Ｘ1が−ＮＨ−または−Ｎ−（Ｃ1−Ｃ4アルキル）−であるとき−Ｏ−で
    あり、 Ｙ1は、直接結合、 【化６】 であり、そしてＹ1が−Ｏ−または−Ｎ＝であるときｎは２から４であり、 Ｒは、中断されていなくても、または−Ｏ−、−Ｎ＝もしくは−Ｎ（ＣＨ3）
    −により中断されていてもよい線状または分岐状Ｃ1−Ｃ8アルカン基であり、 Ｙは、−ＣＯ2Ｍ、−Ｎ（ＣＨ3）2、−Ｎ（ＣＨ3）2Ｈ+Ｘ2 -または−Ｎ（ＣＨ 3 ）3 +Ｘ2 -であり、 ｘは１であり、かつｍは２または３であり、あるいはｘは０であり、 ｍは、０、または２から４であり、 ｎは、０、または２から４であり、 ｒは、１または２であり、 ｙは、１から３の整数であり、 Ｍは、Ｈ、Ｌｉ、Ｎａ、ＫまたはＣ1−Ｃ4アルキルであり、そして Ｘ2は、無機または有機酸の陰イオンである〕の一つを有する、請求項１に記
    載の式ＩまたはＩａの化合物。
  7. 【請求項７】 ｄ8金属と式ＩまたはＩａの化合物との金属錯体。
  8. 【請求項８】 式Ｖ、ＶａまたはＶｂ、Ａ3ＭｅＸＤ （Ｖ）、 〔Ａ3Ｍｅ
    Ｘ〕+Ｅ- （Ｖａ）、 Ａ3Ｒｕ（II）Ｘ3Ｘ4 （Ｖｂ） 〔式中、 Ａ3は、式ＩまたはＩａの化合物であり； Ｘは、２個のモノオレフィン配位子または１個のジエン配位子であり； Ｍｅは、ＩｒおよびＲｈより成る群から選択されたｄ8金属であり； Ｄは、−Ｃｌ、−Ｂｒまたは−Ｉであり； Ｅは、オキソ酸または錯酸の陰イオンであり；そして Ｘ3およびＸ4は、同一または異なりそしてＤまたはＥについて定義されたとお
    りであり、あるいはＸ3およびＸ4は、アリルまたは２−メタリルであり、あるい
    はＸ3は、ＤまたはＥについて定義されたとおりであり、かつＸ4は、水素化物で
    ある〕を有する、請求項７に記載の金属錯体。
  9. 【請求項９】 炭素−炭素または炭素−ヘテロ原子二重結合を有する化合物
    の水素化方法であって、該化合物を−２０から１５０℃の温度にて、極性反応媒
    質中で請求項８に記載の１種以上の金属錯体の触媒量の存在下で水素と反応させ
    ることを含む方法。
  10. 【請求項１０】 極性反応媒質中における水素化用好ましくは炭素−炭素ま
    たは炭素−ヘテロ原子二重結合を有するプロキラル化合物の非対称水素化用の不
    均質または均質触媒としての、請求項８に記載のｄ8金属の金属錯体の使用。
JP2001509740A 1999-07-14 2000-07-12 金属錯体用ジホスフィン配位子 Pending JP2003504376A (ja)

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