JP3625866B2 - フルオロアルキル置換フェロセニルジホスフィン - Google Patents

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Description

【0001】
【産業上の利用分野】
本発明は、ラセミ体及び立体異性体の形態での1−〔2−(ホスフィノ)フェロセニル〕アルキリデンホスフィン、これらの製造の方法、これらの配位子を有するイリジウム錯体及びロジウム錯体、及びプロキラル不飽和化合物を均一水素化するためのエナンチオ選択的水素化触媒としてのその用途に関する。
【0002】
【従来の技術及び発明が解決しようとする課題】
T.Hayashi らは、Bull.Chem.Soc.Jpn.,53,pp.1136−1151 に、不斉合成用の遷移金属錯体の配位子としてのキラルなフェロセニルホスフィン、すなわち〔(R)−〔(S)−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル〕エチル〕ジフェニルホスフィンの合成について、記載している。これらの化合物の用途は、記載されていない。
【0003】
これまでに、フルオロアルキル置換の1−〔2−(ホスフィノ)フェロセニル〕アルキリデンホスフィンが不斉水素化のための有効な触媒であること、及びまた短い反応時間で高いエナンチオ選択性が達成できることが、見いだされた。さらに、これらの化合物の利点は、これらから合成されるロジウム錯体、特にイリジウム錯体の失活傾向がほんのわずかであり、そのために水素化反応を上昇した温度で行うことができ、その結果、より大きな触媒生産性を得ることができるということである。
【0004】
【課題を解決するための手段】
その特徴の一つとして、本発明は、式(I):
【0005】
【化8】
Figure 0003625866
【0006】
(式中、R は、C −C アルキル、フェニル、又は1から3個のC −C アルキル若しくはC −C アルコキシで置換されたフェニル基であり、R は、式(II):
【0007】
【化9】
Figure 0003625866
【0008】
(式中、R12は、部分的又は完全にフッ素化されたC −C アルキルであり、R13は、C −C アルキル、C −C アルコキシ、−SiR 、ハロゲン、−SO M、−CO M、−PO M、−NR 又は−〔 NR 〕X であり、mは、1から3の整数であり、nは、0又は1から4の整数であり、そしてm+nの合計は、1から5である)で示される基であり、R 、R10及びR11は、それぞれ互いに独立して、R と同義であるか、或はそれぞれ互いに独立して、C −C12アルキル、C −C12シクロアルキル、フェニル、又はC −C アルキル−若しくはC −C アルコキシ−置換C −C12シクロアルキル、或はC −C アルキル、C −C アルコキシ、−SiR 、ハロゲン、−SO M、−CO M、−PO M、−NR 及び−〔 NR 〕X からなる群より選ばれる1から3個の同一若しくは異なる基で置換されたフェニルであり、R 、R 及びR は、それぞれ互いに独立して、C −C12アルキル又はフェニルであり、R 及びR は、水素、C −C12アルキル若しくはフェニルであるか、又はR とR は、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレン又は3−オキサ−1,5−ペンチレンであり、R は、水素又はC −C アルキルであり、Mは、水素又はアルカリ金属であり、X は、一塩基酸のアニオンであり、そして*は、立体異性炭素原子である)で示される光学異性体若しくはそのジアステレオマーの形態又はジアステレオマーの混合物の形態の化合物に関する。
【0009】
式(II)において、mは好ましくは1又は2であり、そしてnは0、1又は2である。好ましくはnは0である。
【0010】
アルキル基と定義されたR は、直鎖状又は分岐状であってよく、好ましくは1から4個の炭素原子を有している。典型的な例は、メチル、エチル、n−及びイソプロピル、n−、イソ−及びtert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、並びにオクチルである。メチル及びエチルが好ましく、特にメチルが好ましい。
【0011】
置換フェニルと定義されたR は、好ましくは1又は2個の置換基を有している。アルキル置換基は、典型的にはメチル、エチル、n−及びイソプロピル、並びにn−、イソ−及びtert−ブチルであってよい。メチル及びエチルが好ましい。アルコキシ置換基は、メトキシ、エトキシ、n−及びイソプロピル並びにn−、イソ−及びtert−ブトキシであってよい。メトキシ及びエトキシが好ましい。式(I)の化合物の好適な例の中で、R は、好ましくはフェニル、又は1若しくは2個のC −C アルキル若しくはC −C アルコキシで置換されたフェニルである。
【0012】
アルキルと定義された、R 、R10及びR11は、直鎖状又は分岐状であってよく、好ましくは1から8個、最も好ましくは1から4個の炭素原子を有している。典型例は、メチル、エチル、n−及びイソプロピル、n−、イソ−及びtert−ブチル、ペンチル、ヘキシル、ヘプチル、オクチル、ノニル、デシル、ウンデシル、並びにドデシルである。メチル、エチル、n−及びイソプロピル、並びにn−、イソ−、及びtert−ブチルが好ましい。R とR 及び/又はR10とR11が、同一であり、かつアルキルの意味であるとき、それらはイソプロピル又はtert−ブチルであるのが最も好ましい。
【0013】
シクロアルキルと定義された、R 、R10及びR11は、好ましくは5から8個、最も好ましくは5個又は6個の環員炭素原子を有している。シクロアルキルの典型例は、シクロペンチル、シクロヘキシル、シクロヘプチル、シクロオクチル、シクロデシル及びシクロドデシルである。シクロペンチル及びシクロヘキシルが好ましく、シクロヘキシルが特に好ましい。
【0014】
シクロアルキルは、好都合には1から3個の、アルキル又はアルコキシで置換されていてもよい。このような置換基の例は、上述した通りである。メチルと及びエチルが好ましく、メトキシ及びエトキシも好ましい。置換シクロアルキルは、典型的にはメチル−及びメトキシシクロペンチル、並びにメチル−及びメトキシシクロヘキシルである。
【0015】
置換フェニルと定義された、R 、R10及びR11は、好ましくは1又は2個の置換基を有している。フェニルが2又は3個の置換基を有する場合、これらは同一又は異なっていてもよい。
【0016】
アルキル置換基及びアルコキシ置換基の例は、上述した通りである。フェニルの好適なアルキル置換基及びアルコキシ置換基は、メチル及びエチル並びにメトキシ及びエトキシである。
【0017】
フェニルの置換基としてのハロゲンは、−F、−Cl及び−Brよりなる群から好適に選択される。
【0018】
、R 及びR は、好ましくは1から8個、最も好ましくは1から4個の炭素原子を有する直鎖状あるいは分岐状のものであってよい。アルキル置換基の例は、上述した通りである。好適なアルキルは、メチル、エチル、n−プロピル、n−ブチル及びtert−ブチルである。置換基:−SiR は、最も好ましくはトリメチルシリルである。
【0019】
酸フェニル置換基:−SO M、−CO M、及び−PO Mの中では、−SO Mが好ましい。Mは、好ましくはH、Li、Na及びKである。
【0020】
アルキルと定義された、R 及びR は、好ましくは1から6個、最も好ましくは1から4個の炭素原子を有している。アルキルは、直鎖状であるのが好ましい。好適な例は、メチル、エチル、n−プロピル及びn−ブチルである。アルキルと定義されたR は、好ましくはメチルである。
【0021】
一塩基酸のアニオンとしてのX は、好ましくはCl 、Br 又はカルボン酸のアニオンであり、典型的にはホーメート、アセテート、トリクロロアセテート又はトリフルオロアセテートである。
【0022】
置換フェニル基の代表例は、2−メチルフェン−1−イル、3−メチルフェン−1−イル、4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−エチルフェン−1−イル、2−若しくは4−イソプロピルフェン−1−イル、2−若しくは4−tert−ブチルフェン−1−イル、2−メトキシフェン−1−イル、3−メトキシフェン−1−イル、4−メトキシフェン−1−イル、2−若しくは4−エトキシフェン−1−イル、4−トリメチルシリルフェン−1−イル、2−若しくは4−フルオロフェン−1−イル、2,4−ジフルオロフェン−1−イル、2−若しくは4−クロロフェン−1−イル、2,4−ジクロロフェン−1−イル、2,4−ジメチルフェン−1−イル、3,5−ジメチルフェン−1−イル、2−メトキシ−4−メチルフェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−若しくは4−アミノフェン−1−イル、2−若しくは4−メチルアミノフェン−1−イル、2−若しくは4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−若しくは4−SO H−フェン−1−イル、2−若しくは4−SO Na−フェン−1−イル、2−若しくは4−〔 NH Cl 〕フェン−1−イル、3,4,5−トリメチルフェン−1−イル又は2,4,6−トリメチルフェン−1−イルである。
【0023】
12は、好ましくはC −C アルキル、最も好ましくは、部分的若しくは完全にフッ素化されたC −C アルキルである。部分的にフッ素化されたC −C アルキルの代表例は、モノ−ないしデカフルオロペンチル、モノ−ないしオクタフルオロブチル、モノ−ないしヘキサフルオロプロピル、モノ−ないしテトラフルオロエチル並びにモノ−及びジフルオロメチルの位置異性体である。部分的にフッ素化されたアルキル基の中で、式−CF H及び−CF (C −C アルキル)のそれらが、特に好ましい。R12は、最も好ましくは、過フッ素化アルキル基である。このような基の典型例は、パーフルオロペンチル、パーフルオロブチル、パーフルオロプロピル、パーフルオロエチルであり、そして好ましくはトリフルオロメチルである。フッ素化アルキル基は、好ましくは3−、4−及び5−位に位置している。
【0024】
特に好ましい実施態様においては、R が、4−トリフルオロメチルフェニル又は3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニルである。
【0025】
nが1のとき、R13は、好ましくはC −C アルキル又はC −C アルコキシである。好ましくはnは0である。好ましいアルキル基及びアルコキシ基の代表例は、既に上述した通りである。
【0026】
好ましい実施態様としては、R 、R10及びR11が、同一であり、かつフェニル、シクロヘキシル、tert−ブチル、2−若しくは4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−メトキシフェン−1−イル、2−若しくは4−(ジメチルアミノ)−フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル又は3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イルである。
【0027】
及びR は、最も好ましくは同一置換基であり、かつ式(II)であり、ここで、R10及びとR11は、好ましくは同一であり、かつフェニル、シクロヘキシル、tert−ブチル、2−若しくは4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−メトキシフェン−1−イル、2−若しくは4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル又は3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イルである。
【0028】
さらに好ましい実施態様としては、R 及びR が、同一置換基であり、かつ式(II)の基であり、R10が、フェニルであり、そしてR11が、シクロヘキシル、2−若しくは4−メチルフェン−1−イル、4−メトキシフェン−1−イル、4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル又は4−tert−ブチルフェン−1−イルである。
【0029】
及びR が同一であり、かつ式(II)の基であるとき、R は、最も好ましくはメチルであり、そしてR10及びR11は、フェニル又はシクロヘキシルである。
【0030】
他の好ましい実施態様としては、R 、R 、R10及びR11が、同一であり、かつ式(II)の基である。
【0031】
式(I)の化合物は、R が、メチルであり、R 、R 、R10及びR11が、同一であり、かつ式(II)の基であり、R12が、4−トリフルオロメチル又は3,5−ビス(トリフルオロメチル)であり、そしてnが、0であるそれらが、非常に特に好適である。他の特に好ましい実施態様としては、R が、メチルであり、R 及びR が、同一であり、かつ式(II)の基であり、R10及びR11が、フェニルであり、R12が、トリフルオロメチル又は3,5−ビス(トリフルオロメチル)であり、そしてnが、0である。
【0032】
式(I)の化合物の特に好ましい例は、典型的には、
{(R)−1−〔(S)−2−ジフェニルホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン、
{(R)−1−〔(S)−2−ジフェニルホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン、
{(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン、
{(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン、
{(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジシクロヘキシルホスフィン、
{(R)−1−〔(S)−2−ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン、
{(R)−1−〔(S)−2−ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジフェニルホスフィン、及び
{(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジフェニルホスフィンである。
【0033】
式(I)の化合物は、式(III ):
【0034】
【化10】
Figure 0003625866
【0035】
(式中、R 、R10、R11及び*は、上記と同義である)で示される化合物を、不活性溶媒の存在下、室温または上昇した温度で、式(IV):
【0036】
【化11】
Figure 0003625866
【0037】
(式中、R 及びR は、上記と同義である)で示されるホスフィンと反応させるか、又は式(VII ):
【0038】
【化12】
Figure 0003625866
【0039】
(式中、R 、R10、R11及び*は、式(I)と同義である)で示される化合物を、不活性溶媒の存在下、室温又は上昇した温度で、式(IV):
【0040】
【化13】
Figure 0003625866
【0041】
(式中、R 及びR は、上記と同義である)で示されるホスフィンと反応させることによって製造される。
【0042】
この方法は、本発明のもう一つの目的である。
【0043】
この反応は、それ自体知られており、T.Hayashi らにより Bull. Chem. Soc.Jpn.,53, 1136−1151 に記載されている。また、式(III )及び式(VII )の化合物のすべての立体異性体の合成も、この文献に記載されているか、又は類似の方法で実施することができる。式(IV)のホスフィンは、公知であるか、又は類似の方法の知られた方法により得ることができる。
【0044】
反応温度は、20から150℃の範囲、好ましくは40から100℃の範囲であってよい。適切な溶媒は、極性のプロトン性及び非プロトン性溶媒であり、単独又は2種若しくはそれ以上の溶媒の混合物として使用することができる。溶媒の典型例は、メタノール及びエタノールのようなアルカノール並びにギ酸及び酢酸のようなカルボン酸である。
【0045】
式(I)の化合物は、式(III )の化合物がラセミ体、立体異性体混同物又は立体異性体として用いられたかに従い、ラセミ体、立体異性体混合物又は立体異性体として得られる。ラセミ体及び立体異性体混合物は、公知の方法によって、好ましくは一般的にはクロマトグラフィの方法により分離することができる。
【0046】
式(I)の化合物は、公知の方法、典型的には蒸留、抽出、結晶化及び/又はクロマトグラフィー法によって単離、精製される。
【0047】
式(I)の化合物は、ロジウム錯体及びイリジウム錯体の配位子としての用途に適している。その別の特徴として、本発明は、式(V)及び式(VI):
【0048】
【化14】
Figure 0003625866
【0049】
(式中、X は、2つのC −C12オレフィン又はC −C12ジエンであり、Zは、Cl、Br又はIであり、A は、酸素酸又は錯体酸のアニオンであり、M は、Rh又はIrであり、そしてYは、式(I)のジホスフィンである)で示される錯体に関する。式(VI)の錯体が好ましい。
【0050】
式(I)のジホスフィンに関して、同じような好適例及び例を、前述の通りに提示できる。オレフィンとしてのX は、好ましくは2から6個、最も好ましくは2から4個の炭素原子を有する。特にエチレンが好ましい。さらなる例はプロペン及び1−ブテンである。ジエンとしてのX は、好ましくは5から8個の炭素原子を有する。ジエンは、開鎖又は一環式又は二環式のジエンである。ジエンの2つのオレフィン基は、1又は2個のCH 基を介して連結しているのが好ましい。典型例は、1,3−ペンタジエン、シクロペンタジエン、1,5−ヘキサジエン、1,4−シクロヘキサジエン、1,4−若しくは1,5−ヘプタジエン、1,4−若しくは1,5−シクロヘプタジエン、1,4−若しくは1,5−オクタジエン、1,4−若しくは1,5−シクロオクタジエン又はノルボルナジエンである。X は、2個のエチレン、1,5−ヘキサジエン、1,5−シクロオクタジエン又はノルボルナジエンであるのが好ましい。
【0051】
式(V)中のZは、好ましくはCl又はBrである。式(VI)中のA の典型例は、ClO 、FSO 、CH SO 、CF SO 、BF 、PF 、SbCl 、AsF 及びSbF である。好ましくは、A は、ClO 、CF SO 、BF 、PF 及びSbF である。
【0052】
この新規な錯体は、式(I)の化合物の等モル量を、式:〔M (X )Z〕 又はM (X (ここで、M 、X 、Z及びA は、上記と同義である)で示される金属錯体と反応させることによって、それ自体公知の方法で得ることができる。金属錯体は、公知であり、それに関連してとりわけEP−A−0 302 021及びUS−A−5 011 995で言及されている。
【0053】
反応は、不活性ガス、典型的にはアルゴン雰囲気下で好都合に行われ、好都合には0〜40℃の温度範囲、好ましくは室温で行われる。単一溶媒又は混合溶媒を(不活性ガス)と同時に使用することが有利であり、好都合には、炭化水素(ベンゼン、トルエン、キシレン)、ハロゲン化炭化水素(塩化メチレン、クロロホルム、クロロベンゼン)、アルカノール(メタノール、エタノール、2−メトキシエタノール)及びエーテル(ジエチルエーテル、ジブチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサン)、又はその混合物からなる群より選ばれる。この新規な錯体は、通常の方法によって分離、精製するか、又は水素化に先だってその場所で調製し、次いで水素化触媒として直接に溶解状態で使用することができる。
【0054】
この新規な錯体は、炭素二重結合及び炭素/ヘテロ原子二重結合を有するプロキラルな化合物、典型的にはC=C、C=N、C=O、C=C−N又はC=C−O〔K.E.Konig,The Applicability of Asymmetric Homogeneous Catalysis,in James D.Morrison(ed.),Asymmetric Synthesis,Vol.5,Academic Press,1985〕から選ばれる基を有する化合物を、エナンチオ選択的に水素化するための均一系触媒として使用するのに極めて適している。このような化合物の例は、プロキラルなオレフィン、エナミン、イミン及びケトンである。正常な化学量論的転換でさえ、短い反応時間で、驚くほど高い収率が得られる。特に驚くべきことは、この新規錯体で得られる非常に高い光学的収率である。エナンチオマー過剰(ee)は、90%以上であることができる。式(V)及び式(VI)の錯体の、ラセミ体、立体異性体混合物又は立体異性体を使用することができ、立体異性体混合物又は立体異性体が好ましい。
【0055】
その別の特徴として、本発明は、炭素二重結合又は炭素/ヘテロ原子二重結合を有するプロキラルな化合物、特にC=C、C=N、C=O、C=C−N又はC=C−O基を有するものを不斉水素化するための均一系触媒としての、式(V)及び式(VI)の新規錯体の用途に関する。好ましい用途は、不斉炭素二重結合、ケチミン及びケトンを水素化するためのものである。イリジウム錯体の形態における式(V)及び式(VI)の触媒は、プロキラルなN−アリルケチミンを水素化して光学活性な第2アミンとするに好適である。ロジウム錯体の形態における式(V)及び式(VI)の触媒は、炭素二重結合、例えばプロキラルな炭素二重結合を水素化する場合に好適に使用される。
【0056】
その特徴のさらに別のものとして、本発明は、炭素二重結合又は炭素/ヘテロ原子二重結合を有するプロキラルな化合物を、均一系反応条件下で不斉水素化する方法を提供するものであり、この方法は、−20から+80℃の温度範囲で、また水素圧10 から10 Paで、式(V)又は式(VI)の錯体の触媒量の存在で、前記化合物を水素化することを含む。
【0057】
好ましいプロキラルな化合物は、前述した通りである。不斉ケチミン及びケトンは知られている。適切なN−アリルケチミンは、とりわけEP−A−0 256 982に開示されている。N−脂肪族ケチミンは、とりわけEP−A−0 301 457に開示されている。このようなイミンは、相当する不斉ケトンから合成できることが知られ、商業的に入手することもでき、又は公知の方法で得ることもできる。適当な置換アルケンは、上述したK.E.Keonigの文献に記載されている。
【0058】
この方法は、−10から50℃の温度範囲、及び好ましくは1×10 から6×10 Paの水素圧範囲で行われる。
【0059】
触媒の量は、好ましくは水素化するべき化合物(基質)の式(V)又は式(VI)の化合物に対するモル比が、好ましくは100000から20、より好ましくは20000から40、最も好ましくは1000から50となるように選択される。
【0060】
反応を行う好適な方法は、特に新規イリジウム触媒を使用する際には、アンモニウム若しくはアルカリ金属の、塩化物、臭化物又はヨウ化物を付加的に同時使用することを含む。この量は、典型的には、式(V)又は式(VI)の錯体に基づいて、0.1から100、好ましくは1から50、最も好ましくは2から20当量である。ヨウ化物の添加が好ましい。アンモニウムは、アルキル基中に1から6個の炭素原子を有するテトラアルキルアンモニウムが好ましく、好ましいアルカリ金属は、リチウム、ナトリウム及びカリウムである。
【0061】
水素化は、溶媒の存在又は不存在で行われる。単独又は混合して使用できる適当な溶媒は、典型的には、脂肪族及び芳香族炭化水素(ペンタン、ヘキサン、シクロヘキサン、メチルシクロヘキサン、ベンゼン、トルエン、キシレン)、メタノール、エタノール、プロパノール及びブタノールのようなアルコール、ジエチルエーテル、2−メトキシエチルエーテル、1,2−ジメトキシエタン、テトラヒドロフラン、ジオキサンのようなエーテル、塩化メチレン、クロロホルム、1,1,2,2−テトラクロロエタン及びクロロベンゼンのようなハロゲン化炭化水素、酢酸エチル、ブチロラクトン又はバレロラクトンのようなエステル及びラクトン、並びにジメチルホルムアミド、ジメチルアセトアミド、N−メチルピロリドンのようなカルボキシアミド及びラクタムである。好ましい混合物は、アルコールと芳香族炭化水素のそれであり、典型的にはメタノール/ベンゼン又はメタノール/トルエンである。好適な溶媒は、メタノールそれ自身又はベンゼン若しくはトルエンとの混合物である。
【0062】
この新規な水素化反応によって、生物学的に活性な化合物の合成における有用な中間物、特に製薬学的及び農薬学的な領域で有用な中間物である光学的に純粋な化合物を得ることが可能となる。このように、例えば雑草の制御に使われる除草活性な5−イミダゾールカルボン酸誘導体(EP−A−0 207 563)は、第二級アミン、特にN−カルバルコキシメチルアミンから合成される。光学的に純粋なα−アミノカルボン酸は、ペプチドの合成に適している。有用な合成成分である光学的に純粋なアミノカルボン酸は、不飽和アミノカルボン酸から得ることができる。
【0063】
以下に示す実施例は、本発明をより詳細に説明するためのものである。化学転換率は、ガスクロマトグラフィー〔カラムDB 17/30W(15m)、JCW Scientific Inc.,USA 製、温度プログラム:220℃まで60℃/1分、△T:10°/min 〕によって測定した。光学的収率(エナンチオマー過剰(ee))の測定は、ガスクロマトグラフィー〔カラム Chirasil−Val、50m、FS−Lipodex(50m)〕又はHPLC(固定相:Chiralcel OD)によって行った。
【0064】
【実施例】
式(I)の化合物の合成
実施例A1:{(R)−1−〔(S)−2−ジフェニルホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン(A)
1.2 g(2.73mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ジフェニルホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い調製した〕、25mlの酢酸及び1 g(3.1mmol)のビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィンを、アルゴン雰囲気下で、50mlのシュレンクフラスコに、連続的に充填し、混合物を100℃で撹拌しながら60分加熱した。次いで、粗生成物を水/トルエンで抽出した。有機相を硫酸マグネシウムで乾燥し、溶媒をロータリーエバポレーターで留去した。残留物をシリカゲル(溶媒:ヘキサン/ジクロロメタン(4:1))によるクロマトグラフィに付した。粗生成物を熱エタノールから再結晶し、1.49 gのA(収率76%)を、オレンジ色−黄色の結晶物質として得た。
31P−NMR(CDCl):−26.4(d,J=24),6.6(d,J=24)
【0065】
実施例A2:{(R)−1−〔(S)−2−ジフェニルホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン(B)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
0.85 g(1.92mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ジフェニルホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン、1.0 g(2.18mmol)のビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン及び17mlの酢酸を反応させ、1.30 gのB(収率:80%)を、オレンジ色の結晶物質として得た。
31P−NMR(CDCl):−27.4(d,J=30),8.8(d,J=30)
【0066】
実施例A3:{(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン(C)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
4.28 g(7.42mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い、N−〔(R)−1−フェロセニル〕エチル ジメチルアミンとビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン クロライドから調製した〕、2.75 g(8.53mmol)のビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン及び55mlの酢酸を反応させて、5.89 gのC(収率:93%)を得た。
31P−NMR(CDCl):−25.7(d,J=30),8.4(d,J=30)
【0067】
実施例A4:{(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン(D)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
1.21 g(2.1mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い、N−〔(R)−1−フェロセニル〕エチル ジメチルアミンとビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン クロライドから調製した〕、0.53 g(2.2mmol)のビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン及び15mlの酢酸を反応させて、460mgのDを、オレンジ色の結晶物質として得た(収率:28%)。
31P−NMR(CDCl):−24.7(d,J=23),8.7(d,J=23)
【0068】
実施例A5:{(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジシクロヘキシルホスフィン(E)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
1.73 g(3.0mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い、N−〔(R)−1−フェロセニル〕エチル ジメチルアミンとビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン クロライドから調製した〕、0.69 g(3.4mmol)のジシクロヘキシルホスフィン及び20mlの酢酸を反応させて、1.69 gのEを、オレンジ色の結晶物質として得た(収率:77%)。
31P−NMR(CDCl):−25.5(d,J=42),15.65(d,J=42)
【0069】
実施例A6:{(R)−1−〔(S)−2−ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン(F)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
1.07 g(1.5mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い調製した〕、0.41 g(1.7mmol)のビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィン及び15mlの酢酸を反応させて、0.95 gのF(理論値の69.3%)を、オレンジ色の結晶物質として得た。
31P−NMR(CDCl):−22.8(d,J=35),11.7(d,J=35)
【0070】
実施例A7:{(R)−1−〔(S)−2−ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジフェニルホスフィン(G)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
1.0 g(1.4mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い調製した〕、0.3 g(1.6mmol)のジフェニルホスフィン及び14mlの酢酸を反応させて、1.1 gのG(理論値の91.7%)を、オレンジ色の結晶物質として得た。
31P−NMR(CDCl):−22.9(d,J=36),10.7(d,J=36)
【0071】
実施例A8:{(R)−1−〔(S)−2−ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3−メトキシフェニル)ホスフィン(H)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
1.0 g(1.4mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い調製した〕、0.39 g(1.6mmol)のビス(3−メトキシフェニル)ホスフィン及び15mlの酢酸を反応させて、0.37 gのH(理論値の30.5%)を、オレンジ色のレジン(これは、後にエーテルから泡状になる)として得た。
31P−NMR(CDCl):−23.0(d,J=33),12.2(d,J=33)
【0072】
実施例A9:{(R)−1−〔(S)−2−ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン(I)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
1.0 g(2.0mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い調製した〕、1.05 g(2.3mmol)のビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン及び15mlの酢酸を反応させて、310mgのI(理論値の17%)を、オレンジ色の結晶物質として得た。
31P−NMR(CDCl):−27.1(d,J=30),9.3(d,J=30)
【0073】
実施例A10:{(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジフェニル)ホスフィン(J)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
1.04 g(1.8mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い調製した〕、0.37 g(1.8mmol)のジフェニルホスフィン及び15mlの酢酸を反応させて、1.03 gのJ(理論値の80%)を、オレンジ色の結晶物質として得た。
31P−NMR(CDCl):−25.0(d,J=27),8.4(d,J=27)
【0074】
実施例A11:{(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(4−ターシャリ−ブチルフェニル)ホスフィン(K)
反応条件を次のように変えた以外は、実施例A1と同じ操作を繰り返した。
1.15 g(1.9mmol)のN−{(R)−1−〔(S)−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ジメチルアミン〔Bull.Chem.Soc.Jpn.,53, 1138 (1980)に従い調製した〕、0.7 g(2.1mmol)のビス(4−tert−ブチルフェニル)ホスフィン及び15mlの酢酸を反応させて、170mgのK(理論値10%)を、オレンジ色の結晶物質として得た。
31P−NMR(CDCl):−24.5(d,J=30),6.6(d,J=30)
【0075】
使用例
実施例B1:N−(2’−メチル−6’−エチル−フェン−1’−イル)−N−(1−メトキシメチル)−エチルアミンの合成
24.1 g(0.033mmol)のAを、10.2mg(0.015mmol)の〔Ir(1,5−シクロオクタジエン)Cl〕 のテトラヒドロフランと塩化メチレンの3:1混合溶液10mlに加え、混合物を15分間撹拌した。独立して、5ml(2.4mmol)のN−(2’−メチル−6’−エチルフェン−1’−イル)−N−(1−メトキシメチル)エタ−1−イリデン−アミンを、10mlのテトラヒドロフラン/塩化メチレン(3:1)に溶解した。このイミン及び触媒溶液を、不活性ガス雰囲気下で50mlのスチール製オートクレーブに、スチール製キャピラリーによって連続的に注入した。3回のサイクル(20バール、常圧)を繰り返して、不活性ガスを水素で追いだした。次いで、25バールで水素化を行い、オートクレーブを30℃に加熱した。反応を、6時間後に中止した。化学的転換率は100%であり、光学的な収率は56%(S)であった。
【0076】
実施例B2:N−(2’−メチル−6’−エチルフェン−1’−イル)−N−(1−メトキシメチル)−エチルアミンの合成
10.2 g(0.015mmol)の〔Ir(1,5−シクロオクタジエン)Cl〕 及び28.5mg(0.033ml)のBとの混合物を、5ml(24mmol)のN−(2’−メチル−6’−エチルフェン−1’−イル)−N−(1−メトキシメチル)エタ−1−イリデン−アミンの相で覆い、次いで、スチール製キャピラリーで50mlオートクレーブに移送した。さらに実施例B1の操作を行った。
反応を、6時間後に中止した。化学的転換率は87%であり、エナンチオマー純度は62%(S)であった。
【0077】
表1及び表2の実施例B3−B17は、実施例B1に記載した方法にしたがって行ったものである。
以下の略語は、表1及び2で用いたものである。
Rh =〔Rh(ノルボルナジエン) 〕BF
Rh =〔Rh(ノルボルナジエン)Cl〕
Ir =〔Ir(1,5−シクロオクタジエン)Cl〕
S1:メチル−Z−2−アセトアミドシンナメート
S2:Z−2−アセトアミドシンナミック酸
S3:ジメチル イタコネート
S4:メチル アセチルアセテート
S5:エチル ピルベート
S6:N−(2’−メチル−6’−エチルフェン−1’−イル)−N−(1−メトキシメチル)エタ−1−イリデン−アミン
M/T:MeOH/トルエン(1:1)
*)150mgのテトラブチルアンモニウム イオダイドの付加
【0078】
【表1】
Figure 0003625866
【0079】
【表2】
Figure 0003625866

Claims (54)

  1. 式(I):
    Figure 0003625866
    (式中、R1 は、C1 −C8 アルキル、フェニル又は1から3個のC1 −C4 アルキル若しくはC1 −C4 アルコキシ基で置換されたフェニルであり、R2 は、式(II):
    Figure 0003625866
    (式中、R12は、部分的又は完全にフッ素化されたC1 −C5 アルキルであり、R13は、C1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、−SiR456 、ハロゲン、−SO3 M、−CO2 M、−PO3 M、−NR78 又は−〔 +NR789 〕X- であり、mは、1から3の整数であり、nは、0又は1から4の整数であり、そしてm+nの合計は、1から5である)で示される基であり、R3 、R10及びR11は、それぞれ互いに独立して、R2 と同義であるか、或はそれぞれ互いに独立して、C1 −C12アルキル、C5 −C12シクロアルキル、フェニル、又はC1 −C4 アルキル−若しくはC1 −C4 アルコキシ−置換C5 −C12シクロアルキル、或はC1 −C4 アルキル、C1 −C4 アルコキシ、−SiR456 、ハロゲン、−SO3 M、−CO2 M、−PO3 M、−NR78 及び−〔+ NR789 〕X- からなる群より選ばれる1から3個の同一若しくは異なる基で置換されたフェニル基であり、R4 、R5 及びR6 は、それぞれ互いに独立して、C1 −C12アルキル又はフェニルであり、R7 及びR8 は、水素、C1 −C12アルキル若しくはフェニルであるか、又はR7 とR8 は、一緒になって、テトラメチレン、ペンタメチレン、又は3−オキサ−1,5−ペンチレンであり、R9 は、水素又はC1 −C4 アルキルであり、Mは、水素又はアルカリ金属であり、X- は、一塩基酸のアニオンであり、そして*は、立体異性炭素原子である)で示される、ラセミ体若しくはそのジアステレオマーの形態又はジアステレオマー混合物の形態の化合物(但し、{(R)−1−[(S)−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル]}エチル ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィンを除く)
  2. アルキルとしてのR1 が、直鎖状である請求項1記載の式(I)の化合物。
  3. 1 が、C1 −C4 アルキルである請求項2記載の式(I)の化合物。
  4. 1 が、メチル又はエチルである請求項3記載の式(I)の化合物。
  5. 1 が、フェニル、或は1若しくは2個の、C1 −C4 アルキル基又はC1 −C4 アルコキシ基で置換されたフェニルである請求項1記載の式(I)の化合物。
  6. 3 、R10及びR11が、C1 −C8 アルキルである請求項1記載の式(I)の化合物。
  7. シクロアルキルとしての、R3 、R10及びR11が、5から8個の環員炭素原子を有する請求項1記載の式(I)の化合物。
  8. シクロアルキルとしての、R3 、R10及びR11が、シクロペンチル又はシクロヘキシルである請求項7記載の式(I)の化合物。
  9. 3 、R10及びR11が、フェニル、2−メチルフェン−1−イル、3−メチルフェン−1−イル、4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−エチルフェン−1−イル、2−若しくは4−イソプロピルフェン−1−イル、2−若しくは4−tert−ブチルフェン−1−イル、2−メトキシフェン−1−イル、3−メトキシフェン−1−イル、4−メトキシフェン−1−イル、2−若しくは4−エトキシフェン−1−イル、4−トリメチルシリルフェン−1−イル、2−若しくは4−フルオロフェン−1−イル、2,4−ジフルオロフェン−1−イル、2−若しくは4−クロロフェン−1−イル、2,4−ジクロロフェン−1−イル、2,4−ジメチルフェン−1−イル、3,5−ジメチルフェン−1−イル、2−メトキシ−4−メチルフェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−若しくは4−アミノフェン−1−イル、2−若しくは4−メチルアミノフェン−1−イル、2−若しくは4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−若しくは4−SO3 H−フェン−1−イル、2−若しくは4−SO3 Na−フェン−1−イル、2−若しくは4−〔+ NH3 Cl- 〕フェン−1−イル、2,4,6−トリメチルフェン−1−イル又は3,4,5−トリメチルフェン−1−イルである請求項1記載の式(I)の化合物。
  10. 12が、C1 −C3 パーフルオロアルキルである請求項1に記載の式(I)の化合物。
  11. 13が、C1 −C4 アルキル又はC1 −C4 アルコキシである請求項1記載の式(I)の化合物。
  12. 12が、4−トリフルオロメチル又は3,5−ビス(トリフルオロメチル)である請求項1記載の式(I)の化合物。
  13. 3 、R10及びR11が、同一であり、かつフェニル、シクロヘキシル、tert−ブチル、2−若しくは4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−メトキシフェン−1−イル、2−若しくは4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル又は3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イルである請求項1に記載式(I)の化合物。
  14. 2 及びR3 が、同一置換基であり、かつ式(II)の基であり、そしてR10及びR11が、同一置換基であり、かつフェニル、シクロヘキシル、tert−ブチル、2−若しくは4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−メトキシフェン−1−イル、2−若しくは4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル又は3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イルである請求項1記載の式(I)の化合物。
  15. 2 及びR3 が、同一置換基であり、かつ式(II)の基であり、R10が、フェニルであり、そしてR11が、シクロヘキシル、2−若しくは4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−メトキシフェン−1−イル、4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル又は4−tert−ブチルフェン−1−イルである請求項1記載の式(I)の化合物。
  16. 1 が、メチルであり、R2 及びR3 が、同一であり、かつ式(II)の基であり、そしてR10及びR11が、同一置換基であり、かつフェニル又はシクロヘキシルである請求項1記載の式(I)の化合物。
  17. 2 、R3 、R10及びR11が、同一であり、かつ式(II)の基である請求項1記載の式(I)の化合物。
  18. 1 が、メチルであり、R2 、R3 、R10及びR11が、同一であり、かつ式(II)の基であり、R12が、4−トリフルオロメチル又は3,5−ジ(トリフルオロメチル)であり、そしてnが、0である請求項1記載の式(I)の化合物。
  19. 1 が、メチルであり、R2 及びR3 が、同一であり、かつ式(II)の基であり、R10及びR11が、フェニルであり、R12が、4−トリフルオロメチル又は3,5−ジ(トリフルオロメチル)であり、そしてnが、0である請求項1記載の式(I)の化合物。
  20. {(R)−1−〔(S)−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン、
    {(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン、及び
    {(R)−1−〔(S)−2−ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィンからなる群より選ばれる請求項1記載の式(I)の化合物。
  21. 請求項1記載の式(I)の化合物を製造する方法であって、
    式(III ):
    Figure 0003625866
    (式中、R1 、R10、R11及び*は、請求項1記載の式(I)と同義である)で示される化合物を、不活性溶媒の存在下で、室温又は上昇した温度で、式(IV):
    Figure 0003625866
    (式中、R2 及びR3 は、請求項1と同義である)で示されるホスフィンと反応させるか、又は式(VII ):
    Figure 0003625866
    (式中、R1 、R10、R11及び*は、請求項1記載の式(I)と同義である)で示される化合物を、不活性溶媒存在下で、室温又は上昇した温度で、式(IV):
    Figure 0003625866
    (式中、R2 及びR3 は請求項1と同義である)で示されるホスフィンと反応させることを特徴とする方法。
  22. 式(V)又は式(VI):
    Figure 0003625866
    (式中、X1 は、2個のC2 −C12オレフィン又はC5 −C12ジエンであり、Zは、Cl、Br又はIであり、A1 - は、酸素酸又は錯体酸のアニオンであり、M1 は、Rh又はIrであり、そしてYは、請求項1記載の式(I)の化合物である)で示される錯体。
  23. 式(VI)の錯体である請求項22記載の錯体。
  24. 1 が、2個のエチレン、1,5−ヘキサジエン、1,5−シクロオクタジエン又はノルボルナジエンである請求項22記載の錯体。
  25. Zが、Cl又はBrである請求項22記載の錯体。
  26. Zが、ClO4 - 、FSO3 - 、CH3 SO3 - 、CF3 SO3 - 、BF4 - 、PF6 - 、SbCl6 - 、AsF6 - 、SbF6 - からなる群より選ばれる基である請求項22記載の錯体。
  27. アルキル基としてのR1 が、直鎖状である請求項22記載の錯体。
  28. 1 が、C1 −C4 アルキルである請求項27記載の錯体。
  29. 1 が、メチル又はエチルである請求項28記載の錯体。
  30. 1 が、フェニル、或は1若しくは2個の、C1 −C4 アルキル又はC1 −C4 アルコキシで置換されたフェニルである請求項22記載の錯体。
  31. 3 、R10及びR11が、C1 −C8 アルキルである請求項22記載の錯体。
  32. シクロアルキル基としてのR3 、R10及びR11が、5から8個の環員炭素原子を有する請求項22記載の錯体。
  33. シクロアルキル基としてのR3 、R10及びR11が、シクロペンチル又はシクロヘキシルである請求項22記載の錯体。
  34. 3 、R10及びR11が、フェニル、2−メチルフェン−1−イル、3−メチルフェン−1−イル、4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−エチルフェン−1−イル、2−若しくは4−イソプロピルフェン−1−イル、2−若しくは4−tert−ブチルフェン−1−イル、2−メトキシフェン−1−イル、3−メトキシフェン−1−イル、4−メトキシフェン−1−イル、2−若しくは4−エトキシフェン−1−イル、4−トリメチルシリルフェン−1−イル、2−若しくは4−フルオロフェン−1−イル、2,4−ジフルオロフェン−1−イル、2−若しくは4−クロロフェン−1−イル、2,4−ジクロロフェン−1−イル、2,4−ジメチルフェン−1−イル、3,5−ジメチルフェン−1−イル、2−メトキシ−4−メチルフェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−若しくは4−アミノフェン−1−イル、2−若しくは4−メチルアミノフェン−1−イル、2−若しくは4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、2−若しくは4−SO3 H−フェン−1−イル、2−若しくは4−SO3 Na−フェン−1−イル、2−若しくは4−〔+ NH3 Cl- 〕フェン−1−イル、2,4,6−トリメチルフェン−1−イル又は3,4,5−トリメチルフェン−1−イルである請求項22記載の錯体。
  35. 12が、C1 −C3 パーフルオロアルキルである請求項22記載の錯体。
  36. 13が、C1 −C4 アルキル又はC1 −C4 アルコキシである請求項22記載の錯体。
  37. 12が、4−トリフルオロメチル又は3,5−ビス(トリフルオロメチル)である請求項22記載の錯体。
  38. 3 、R10及びR11が、同一であり、かつフェニル、シクロヘキシル、tert−ブチル、2−若しくは4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−メトキシフェン−1−イル、2−若しくは4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル又は3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イルである請求項22記載の錯体。
  39. 2 及びR3 が、同一置換基であり、かつ式(II)の基であり、そしてR10及びR11が、同一置換基であり、かつフェニル、シクロヘキシル、tert−ブチル、2−若しくは4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−メトキシフェン−1−イル、2−若しくは4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル又は3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イルである請求項22記載の錯体。
  40. 2 及びR3 が、同一置換基であり、かつ式(II)の基であり、R10が、フェニルであり、そしてR11が、シクロヘキシル、2−若しくは4−メチルフェン−1−イル、2−若しくは4−メトキシフェン−1−イル、4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−(ジメチルアミノ)フェン−1−イル、3,5−ジメチル−4−メトキシフェン−1−イル又は4−tert−ブチルフェン−1−イルである請求項22記載の錯体。
  41. 1 が、メチルであり、R2 及びR3 が、同一であり、かつ式(II)の基であり、そしてR10及びR11が同一置換基であり、かつフェニル又はシクロヘキシルである請求項22記載の錯体。
  42. 2 、R3 、R10及びR11が、同一であり、かつ式(II)の基である請求項22記載の錯体。
  43. 1 が、メチルであり、R2 、R3 、R10及びR11が同一であり、かつ式(II)の基あり、R12が、4−トリフルオロメチル又は3,5−ビス(トリフルオロメチル)であり、そしてnが、0である請求項22記載の錯体。
  44. 1 が、メチルであり、R2 及びR3 が、同一であり、かつ式(II)の基であり、R10及びR11が、フェニルであり、R12が、4−トリフルオロメチル又は3,5−ビス(トリフルオロメチル)であり、そしてnが、0である請求項22記載の錯体。
  45. Yが、{(R)−1−〔(S)−2−(ジフェニルホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィン、
    {(R)−1−〔(S)−2−ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(4−トリフルオロメチルフェニル)ホスフィン、及び
    {(R)−1−〔(S)−2−ビス(3,5−ジメチルフェニル)ホスフィノ)フェロセニル〕}エチル ビス(3,5−ビス(トリフルオロメチル)フェニル)ホスフィンからなる群から選ばれる請求項22記載の錯体。
  46. 炭素二重結合又は炭素/ヘテロ原子二重結合を有するプロキラルな化合物を不斉水素化するための均一系触媒としての請求項22記載の式(V)又は式(VI)の錯体の使用方法
  47. 不斉炭素二重結合、ケチミン又はケトンを水素化するための請求項46記載の使用方法
  48. 式(V)又は式(VI)のロジウム錯体で不斉炭素二重結合を水素化するための請求項46記載の使用方法
  49. 均一系反応条件下で、炭素二重結合又は炭素/ヘテロ原子二重結合を有する化合物を不斉水素化する方法であって、
    請求項19記載の式(V)又は式(VI)の錯体の触媒量の存在下で、温度範囲−20から+80℃、水素圧104 から107 Paで、該化合物を水素化することを特徴とする方法。
  50. 水素圧が、105 から6×106 Paである請求項49記載の方法。
  51. 温度範囲が、−10から+50℃である請求項49記載の方法。
  52. 水素化するべき化合物(基質)の、式(V)又は式(VI)の錯体に対するモル比が、100000から20となるように、触媒量を選ぶ請求項49記載の方法。
  53. 溶媒の存在下で反応を行う請求項49記載の方法。
  54. 溶媒が、メタノール、又はメタノール及びベンゼン若しくはトルエンの混合溶媒である請求項49記載の方法。
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