JP2003503828A - 縦列パラボラリフレクタを用いる集光光学システム - Google Patents
縦列パラボラリフレクタを用いる集光光学システムInfo
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Abstract
Description
のために電磁放射線を非常に小さいスポットサイズにまで集光するための光学シ
ステムに関する。
つは、ターゲットにおける光の輝度の最大化である。同軸上の楕円およびパラボ
ラリフレクタ、ならびにさまざまな形の軸外れのリフレクタを用いるさまざまな
構成が用いられてきた。理論上ターゲットにおいて生成される像の輝度は理想的
な光学システムにおいてのみ保存できる(非理想的システムにおいては減少する
)ため、ターゲットにおける合計線束を光源によって放射される量よりも多く増
加させることは不可能である。
フレクタと組合せて光源としてアークランプを用いることによって、アークラン
プの片側から放射された光がリトロリフレクタによって再方向付けられてアーク
に戻るようにすることである。アークによる反射光の吸収は非常に少ないため、
アークランプの反対側から放射される光はアーク自身から放射する光と逆反射さ
れた光との両方を含む。よってランプのリトロリフレクタの反対側から放射され
る合計光束は事実上2倍になる。その他の先行技術の方法は、ゴールデンバーグ
らの米国特許第4,957,759号に記載されるように、アークからの光をそ
れ自身に複数回反射させてさらに線束を増加させることによってこの概念を拡張
した。
複数の凹状リフレクタとともに複数のランプを用いることによって、軸外れに縦
列にした構成で第1のランプのアークの像を別のランプのアークに焦点合わせす
ることを開示する。図1aおよび1bは、前述の特許に記載されるような、縦列
にされる一連のリフレクタおよび軸外れの関係に整列された光源を用いて光をタ
ーゲットに結合するという概念を例示する。このシステムは3つの主要な構成要
素を含む。すなわち複数の光源Siと、複数のリフレクタMiと、少なくとも1つ
のターゲットIとである。
の電磁放射線の点光源である。しかし、小さい放射領域を有するあらゆるコンパ
クトな電磁放射線の光源が好適である。
トIに焦点合わせする。米国特許第5,707,131号において、リフレクタ
は光源およびターゲットに面する凹状の表面を有する鏡である。当該技術分野に
おいて公知であるとおり、リフレクタの反射面は軸外れ反射が得られるような球
面、環状または楕円体の形である。
能な最も高密度の電磁放射線を有する照明が与えられる小さい物体である。
約1:1の倍率である最小倍率を生成するが、第5,707,131号特許に開
示される縦列にされた構成ではより多くのランプおよびリフレクタが縦列式に加
えられるため、軸外れシステムによって生成される小量の倍率が増しかつ伝搬す
る。したがって線束密度の減少に対応してターゲットスポットではしばしばかな
りの拡大が起こり、ターゲットに結合される光の量が減少する。先行技術に固有
の前述およびその他の欠点のため、より多くのランプを加えても縦列の効果が減
少しないように光源を1:1の倍率で縦列にできるような、改善された結合シス
テムがなおも必要とされている。
学的光ガイドなどのターゲットに入力されるような態様で、複数の光源およびリ
フレクタが縦列の関係で与えられる光学システムを提供する。
とを含む、小さい領域中に比較的高い放射線束を有する高輝度光出力を与えるた
めの電磁放射線集光光学システムを提供する。このようなシステムは光源からタ
ーゲットまでの距離に実質的に依存せずにターゲットにおけるアークの1:1の
倍率に近づくため、効率を減少させることなく複数のランプを縦列にできる。
合よりも高くなり、特定の構成において縦列に置かれる光源およびリフレクタの
数によってのみ制限される。この発明はまた代替的に、ただ1つの出力の代わり
に2つの出力に対して構成されてもよい。さらに連続する2つまたはそれ以上の
光源を縦列にすることによって、個々の光源をオンおよびオフにすることによっ
て強度および波長の制御を行なってもよい。この発明の付加的な特徴は、複数の
光源を縦列にすることによって与えられる冗長性である。すべての光源よりも少
ない光強度が必要とされる適用に対しては、この発明の実施例に従うと、1つの
光源がバックアップ光源の役割をして、別の光源が故障したときに事実上の中断
時間なしにオンにされてもよい。
るものではない以下の詳細な説明および添付の図面によって、より完全に理解さ
れるであろう。
のシステムを概略的に例示し、このシステムは単一の光源21と、パラボラコリ
メーティングリフレクタ22と、焦点合わせリフレクタ23とを含む。これら3
つの要素が組合されて、この発明に対する基本ユニットとなる。
ィングリフレクタ22の焦点に置かれる。この発明の実施例において用いるため
に特に好適なアークランプは、パラボラリフレクタ22の焦点距離に関して小さ
くかつターゲットIの所望の大きさに匹敵するアークギャップを有する。このよ
うなランプは水銀ランプ、水銀キセノンランプ、キセノンランプ、メタルハライ
ドランプ、HIDランプ、タングステンハロゲン、またはハロゲンランプであっ
てもよい。この発明の特定の適用に基づいてランプの種類および電力定格を選択
する必要があることが通常の当業者に容易に認識される。
に照らすことが望ましいあらゆる領域であってもよい。このような領域はたとえ
ばレンズの表面、光ガイドの入力面などであってもよく、それはシングルファイ
バまたはファイババンドル、ホモジナイザ、中空の内部反射する管およびその他
のファイバオプティクス、光ガイド、およびそれらの組合せであってもよいがこ
れに制限されない。この発明の実施例において用いるために好適なホモジナイザ
は、先細の、または先細でない多角形の導波管、単心光ファイバ、光ファイバの
融合または非融合バンドル、またはファイババンドルを含む。
うに断面が多角形であっても、または図7に示すように断面が円形であってもよ
い。さらにターゲットIは図8aに示すように段々太くなる光ガイドであっても
、または図8bに示すように段々細くなる光ガイドであってもよい。
銀などの非常に高反射性の光学コーティングを有する鏡である。このような鏡は
紫外線、可視光線および赤外線を含むあらゆる形の放射線を反射するために非常
に有効である。特定の適用に対して、この発明のリフレクタはガラスで作られか
つ波長選択的多層誘電体コーティングで被覆された鏡を含んでもよい。たとえば
、視覚的適用に対しては、可視波長においてのみ高い反射率を有するコールドコ
ーティングを用いてもよい。通常の当業者に認められるとおり、この発明の実施
例においてさまざまなコーティングを単独で、または組合せて用いてもよい。
リフレクタ22は実質的に半放物面(half-paraboloid)様の形である。このシ
ステムは、光源21に一致する曲率中心を有する球面リトロリフレクタ24aを
有することによって、光源21のアークギャップに光を反射するリトロリフレク
タ24aが実質的に像の拡大を起こさないことが好ましい。この逆反射は、光ガ
イド26の端部であることが好ましいターゲットIに向けられる光束の量を(お
よそ倍に)増加させる。
光線にコリメートされ、それはパラボラコリメーティングリフレクタ22の軸2
8に対して平行に移動する。これらの平行光線は、パラボラコリメーティングリ
フレクタ22と実質的に同じ円錐パラメータを有する実質的に半放物面の形を有
する焦点合わせリフレクタ23によって、ターゲットIにおけるスポットに焦点
合わせされる。この焦点合わせリフレクタ23はその軸29が第1の放物面部分
の軸と実質的に同一線上になるよう置かれることにより、単位倍率を有しかつ最
も明るい強度スポットを生成するシステムが可能になる。
球面のリトロリフレクタ24aが、第2の半放物面の形のリフレクタ22aと、
第1および第3の放物面部分の軸28に対して垂直に置かれた平面鏡リトロリフ
レクタ24bとによって置き換えられる。当業者に容易に認識されるとおり、平
面鏡のリトロリフレクタ24bが用いられるとき、第1の半放物面部分22およ
び第2の半放物面部分22aは実質的に全放物面(full paraboloid)の形を有
する単一のリフレクタによって交換可能に置き換えられてもよい。
ユニットシステムが縦列の関係に配置される。第1の光源31aは、実質的に全
放物面の形のリフレクタ32aの焦点に配置されるため、リフレクタ32aによ
って集められる光は平行光線にコリメートされる。平面鏡を含むリトロリフレク
タ34は、パラボラリフレクタ32aの出力面の前に、リフレクタの開口の半分
を覆うようにかつリフレクタの軸38aに垂直に整列されて位置するため、光は
反射されてそれ自身の経路を戻り、第1の光源31aを通って再焦点合わせされ
る。パラボラリフレクタの上半分によってコリメートされる光は、アーク自身か
ら直接来る光と逆反射による光とを含んでほぼ2倍になる。それによって第1の
光源31aの出力は、実質的に放物面の形を有しその焦点に光源31bが置かれ
た第2のパラボラリフレクタ32bに向けられる。リフレクタ31bからの光は
、リフレクタ32bによって光源31bのアークに焦点合わせされる。
出力は、第2のリフレクタ32bの下半分によって平行光線にコリメートされる
。リフレクタ32bの軸38bに関するある角度において位置する平面鏡である
ことが好ましい再方向付けリフレクタ35は、リフレクタ32bからの出力を焦
点合わせリフレクタ33に再方向付けし、そこでその出力はターゲットIのスポ
ットに焦点合わせされる。
32bの上半分の方向に放射される光の部分は、リフレクタ32bによってコリ
メートされ、リフレクタ32aの上半分によって光源31aのアークを通って焦
点合わせされ、次いでリフレクタ32aの下半分およびリトロリフレクタ34の
組合せによって光源31aのアークに逆反射される。この逆反射された光は次に
リフレクタ32aによってコリメートされ、リフレクタ32bによって光源31
bのアークを通って焦点合わせされ、再方向付けリフレクタ35によって再方向
付けされ、ターゲッティングリフレクタ33によって前述の他の光とともにター
ゲットIにおけるスポットに集められる。不完全性および同一の光源による損失
がないと仮定するとき、このような縦列システムによって生成されるターゲット
Iにおける輝度は、逆反射のない単一光源の輝度の4倍に近づく。
のターゲットIおよびIaを用いること以外は、図3aに示されるものと類似の
レイアウトを有する。図3aおよび3bに示される実施例を比較すると、図3a
の実施例からリトロリフレクタ34が省かれ、再方向付けリフレクタ35および
ターゲッティングリフレクタ33と同様の態様で指向された第2の再方向付けリ
フレクタ35aおよび第2のターゲッティングリフレクタ33aによって置き換
えられることによって、光源31aおよび31bからの光が一緒にターゲットI
aに入れられることが示される。
て同様に用いられていたような)リトロリフレクタとして球面の凹面鏡44が用
いられること以外は、図3aに示される実施例と類似の構成である。図4のシス
テムの性能は図3aのそれと本質的に同じである。すなわち、ターゲットIに集
められる合計線束は逆反射のない単一光源のものの本質的に4倍である。図2a
と同様、図3aに示される実施例に用いられる全放物面のリフレクタ32aに対
し、リフレクタ42aは半放物面である。
際には光源およびパラボラリフレクタの同じ基本ユニットを用いてより多くのラ
ンプを縦列にできる。図5は好ましい実施例を示し、ここでは3つの光源51a
、51bおよび51cが一連のパラボラコリメーティングリフレクタ52a、5
2bおよび52cと、リトロリフレクタ54と、再方向付けリフレクタ55と、
焦点合わせリフレクタ53とによって縦列にされてターゲットIにおけるスポッ
トに入る。この場合、リフレクタにおける鏡の損失および光源におけるランプエ
ンベロープ反射を考慮しなければ、ターゲットIにおける理論上の合計線束は逆
反射を用いない単一光源によって得られるものの6倍である。
ーティングリフレクタとともに同様に縦列にできる。
ゲットにおける線束を顕著に改善しながらこの発明に従って何個のランプを縦列
にできるかなどに制限がある。リフレクタの反射率の程度と、アークランプに対
するランプエンベロープのガラス/空気界面におけるフレネル反射と、リフレク
タ、アークランプのガラスエンベロープおよび多重通過によって誘導されるあら
ゆる光学収差とを含む、システム中の不完全性のさまざまな原因によって光束は
失われ得る。
線束を増加させることに加えて、他の望ましい結果を生成するために用いられて
もよい。たとえば、この発明に従って縦列にされた複数の光源は、放射線光源に
おける冗長性を与えるために有利に用いられ得る。2つの光源を有する図3aお
よび3bに類似の縦列システムにおいて、ターゲットスポットに焦点合わせされ
る出力放射線は両方の光源からの放射線の組合せであっても、または各光源から
の別々の放射線であってもよい。そのシステムの通常の動作中にただ1つの光源
が用いられ、その光源が何らかの理由で故障するときに、故障した光源を交換す
る代わりに第2の光源を用いることができる。この発明に従った縦列システムを
用いると、システムに対するいかなる物理的変化も必要とすることなく故障した
光源を簡単に遮断でき、かつ数秒以内に第2の光源をスイッチオンできる。この
特徴は、結合システムに対する顕著な休止時間が望ましくないときに特に有利で
ある。
異なる波長、強度など)を生成する2つのものが選択されてもよい。たとえば2
光源システムにおいて、第1の光源は水銀アークランプであってもよく、第2の
光源はナトリウムアークランプであってもよい。これらのアークランプは両方と
も非常に効率的なエネルギ節約型ランプであることが公知である。水銀ランプは
青色領域の波長を有する可視光を放射し、ナトリウムランプは黄色領域の波長を
有する可視光を放射する。これらの種類のランプを個別に用いると、手術用照明
などの照明に対して望ましくない光を生成するが、これら2つの波長の光を組合
せて用いると、全体の色出力光は白色光により近くなる。当業者に容易に認識さ
れるとおり、このように異なるスペクトル出力を生成するランプを組合せ得るこ
とは、この発明に従ったシステムをさまざまなスペクトル出力特性に対して容易
に適応可能にする。
に依存してその円形範囲をより大きくもしくはより小さくしてもよい。実施例の
1つに従うと、放物面部分は半放物面よりも小さく、たとえば4分の1放物面(
quarter paraboloids)よりも大きいが半放物面よりも小さい。
くこれを多様に修正および変更してもよいことが当業者に明らかになるであろう
。あらゆる、およびすべてのこうした修正形は添付の請求項の範囲内に含まれる
ことが意図される。
に配置された縦列ランプおよびリフレクタを有する集光システムの概略図である
。
フレクタ、および球面リトロリフレクタを組合せて用いる、この発明に従った集
光システムの基本ユニットの概略図である。
フレクタ、および平面鏡リトロリフレクタを組合せて用いる、この発明に従った
集光システムの基本ユニットの概略図である。
合わせリフレクタと、逆反射のための平面鏡とを用いて2つのランプの出力を単
一のターゲットに結合させる、2つのパラボラシステム基本ユニットの縦列を示
す概略図である。
面焦点合わせリフレクタとを用いて2つのランプの出力を2つのターゲットに結
合させる、2つのパラボラシステム基本ユニットの縦列を示す概略図である。
ングリフレクタと、半放物面焦点合わせリフレクタと、逆反射のための球面鏡と
によって2つのランプの出力を単一のターゲットに結合させる、2つのパラボラ
システム基本ユニットの縦列を示す概略図である。
わせリフレクタと、平面鏡リトロリフレクタとによって3つのランプの出力を単
一のターゲットに結合させる、この発明に従った3つのパラボラシステム基本ユ
ニットの縦列を示す概略図である。
形光ガイド(導波管)ターゲットの断面を示す概略図である。
す概略図である。
ゲットを例示する概略的側面図である。
ットを例示する概略的側面図である。
Claims (31)
- 【請求項1】 小さい領域に比較的高い放射線束を有する高輝度光出力を与
えるための電磁放射線集光光学システムであって、 焦点を有する第1の凹状リフレクタを含み、前記第1のリフレクタは実質的に
放物面の形を有し、さらに 前記第1の凹状リフレクタの前記焦点の近くに位置する電磁放射線の第1の線
源と、 電磁放射線を前記第1の線源の第1の側を通って戻りかつ前記第1の線源の第
2の側を通って出るよう再方向付けすることにより、前記第1の線源から放射さ
れる実質的にすべての放射線が前記第1のリフレクタの放物面部分に向けられる
よう設計されたリトロリフレクタと、 焦点を有する第2の凹状リフレクタとを含み、前記第2のリフレクタは実質的
に放物面の形を有し、さらに 前記第2の凹状リフレクタの前記焦点の近くに位置する電磁放射線の第2の線
源と、 焦点を有する凹状焦点合わせリフレクタとを含み、前記焦点合わせリフレクタ
は少なくとも部分的に放物面の形を有し、さらに 前記焦点合わせリフレクタの前記焦点の近くに置かれるターゲットを含み、 前記第1のリフレクタおよび前記リトロリフレクタは前記第1の線源からの実
質的にすべての放射線をコリメートして前記第2のリフレクタに向けるよう指向
され、前記第2のリフレクタは前記第1のリフレクタおよび前記第2の線源から
の実質的にすべての放射線をコリメートして前記焦点合わせリフレクタに再方向
付けするよう指向され、前記焦点合わせリフレクタは前記第2のリフレクタによ
って反射される放射線を集めて放射線を前記ターゲット上に焦点合わせするよう
指向される、システム。 - 【請求項2】 前記放物面部分は半放物面である、請求項1に記載のシステ
ム。 - 【請求項3】 前記放物面部分は半放物面よりも小さく4分の1放物面より
も大きい、請求項1に記載のシステム。 - 【請求項4】 焦点を有する第3の凹状リフレクタをさらに含み、前記第3
のリフレクタは実質的に放物面の形を有し、さらに 前記第3の凹状リフレクタの前記焦点の近くに位置する電磁放射線の第3の線
源を含み、 前記第3のリフレクタは前記第1のリフレクタと前記第2のリフレクタとの間
に指向されることによって、前記第1のリフレクタを出る実質的にすべての放射
線と前記第3の線源によって放射される実質的にすべての放射線とをコリメート
して前記第2のリフレクタに再方向付けする、請求項1に記載の電磁放射線集光
光学システム。 - 【請求項5】 前記ターゲットは光学的光ガイドである、請求項1に記載の
電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項6】 前記光学的光ガイドは、レンズ、ホモジナイザ、内部反射す
る管、光ファイバ、および光ファイババンドルからなる群より選択される種類の
ものである、請求項5に記載の電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項7】 前記光ガイドは、円形の断面の光ガイド、多角形の断面の光
ガイド、先細の光ガイド、およびそれらの組合せからなる群より選択される、請
求項6に記載のシステム。 - 【請求項8】 前記第1および第2の線源の少なくとも1つは高輝度アーク
ランプである、請求項1に記載の電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項9】 前記高輝度アークランプは、水銀キセノン、キセノン、メタ
ルハライド、HID、タングステンハロゲン、およびハロゲンからなる群より選
択される種類のものである、請求項8に記載の電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項10】 前記第1および第2の線源は異なる強度を有する放射線を
放射する、請求項1に記載の電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項11】 前記第1および第2の線源は異なる波長を有する放射線を
放射する、請求項1に記載の電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項12】 前記第1および第2のリフレクタの少なくとも1つは、予
め定められた波長を有する放射線を選択的にフィルタリングするよう処理される
、請求項1に記載の電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項13】 前記第1のリフレクタは光学軸を有し、前記リトロリフレ
クタは前記光学軸に垂直に向けられる平らなリフレクタを含む、請求項1に記載
の電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項14】 前記リトロリフレクタは曲率中心を有する凹状球面リフレ
クタを含み、前記球面リフレクタは前記第1の線源を前記曲率中心の近くに置く
よう整列される、請求項1に記載の電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項15】 小さい領域に高い放射線束を有する高輝度光出力を与える
ための縦列電磁放射線集光光学システムであって、 各々が光学軸および焦点を有する複数の凹状リフレクタを含み、前記複数の凹
状リフレクタの各々は実質的に放物面の形を有し、さらに 複数の電磁放射線の線源を含み、前記複数の線源の各線源は前記複数のリフレ
クタの1つのリフレクタと対にされ、前記線源の各々はそれが対にされたリフレ
クタの前記焦点の近くに位置し、線源およびリフレクタ対の各々は、前記リフレ
クタの各々がそれが対にされた前記線源からの電磁放射線を受取って前記放射線
を前記リフレクタの前記光学軸に平行な光線にコリメートするよう指向され、さ
らに 焦点を有する第1の焦点合わせリフレクタを含み、前記焦点合わせリフレクタ
は少なくとも部分的に放物面の形を有し、さらに 前記焦点合わせリフレクタの焦点の近くに置かれるターゲットを含み、 前記複数のリフレクタは前記複数の線源から放射される電磁放射線を前記焦点
合わせリフレクタに縦列の態様で再方向付けし、前記焦点合わせリフレクタは前
記再方向付けされた放射線を前記ターゲット上に集光する、システム。 - 【請求項16】 前記放物面部分は半放物面である、請求項15に記載のシ
ステム。 - 【請求項17】 前記放物面部分は半放物面よりも小さく4分の1放物面よ
りも大きい、請求項15に記載のシステム。 - 【請求項18】 焦点を有する第2の凹状焦点合わせリフレクタをさらに含
み、前記第2の焦点合わせリフレクタは少なくとも部分的に実質的に半放物面の
形を有し、さらに 前記第2の焦点合わせリフレクタの前記焦点の近くに置かれる第2のターゲッ
トを含み、 前記複数のリフレクタは前記複数の線源から放射される電磁放射線を縦列の態
様でターゲッティングリフレクタおよび前記第2の焦点合わせリフレクタに再方
向付けし、前記第1の焦点合わせリフレクタは前記再方向付けされた放射線の第
1の部分を前記ターゲットに集光し、前記第2の焦点合わせリフレクタは前記再
方向付けされた放射線の第2の部分を前記第2のターゲットに集光する、請求項
15に記載の縦列電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項19】 リトロリフレクタをさらに含み、 前記リトロリフレクタは電磁放射線を前記複数の線源の第1の線源の第1の側
を通って戻りかつ前記第1の線源の第2の側を通って出るよう再方向付けするこ
とにより、前記第1の線源から放射される実質的にすべての放射線が、前記第1
の線源が対にされるリフレクタの実質的に半放物面の部分に向けられる、請求項
15に記載の縦列電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項20】 前記第1の線源が対にされる前記リフレクタは光学軸を有
し、前記リトロリフレクタは前記光学軸に垂直に向けられる平らなリフレクタを
含む、請求項19に記載の縦列電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項21】 前記リトロリフレクタは曲率中心を有する凹状球面リフレ
クタを含み、前記球面リフレクタは前記第1の線源を前記曲率中心の近くに置く
ように整列される、請求項19に記載の縦列電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項22】 前記ターゲットは光学的光ガイドである、請求項15に記
載の縦列電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項23】 前記光学的光ガイドは、レンズ、ホモジナイザ、内部反射
する管、光ファイバ、および光ファイババンドルからなる群より選択される種類
のものである、請求項22に記載の縦列電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項24】 前記光学的光ガイドは、円形の断面の光ガイド、多角形の
断面の光ガイド、先細の光ガイド、およびそれらの組合せからなる群より選択さ
れる、請求項23に記載のシステム。 - 【請求項25】 前記複数の線源の少なくとも1つは高輝度アークランプで
ある、請求項15に記載の縦列電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項26】 前記高輝度アークランプは、水銀キセノン、キセノン、メ
タルハライド、HID、タングステンハロゲン、およびハロゲンからなる群より
選択される種類のものである、請求項25に記載の縦列電磁放射線集光光学シス
テム。 - 【請求項27】 前記複数の線源のうち少なくとも2つの線源は異なる強度
を有する放射線を放射する、請求項15に記載の縦列電磁放射線集光光学システ
ム。 - 【請求項28】 前記複数の線源のうち少なくとも2つの線源は異なる波長
を有する放射線を放射する、請求項15に記載の縦列電磁放射線集光光学システ
ム。 - 【請求項29】 前記複数のリフレクタは少なくとも3つのリフレクタを含
む、請求項15に記載の縦列電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項30】 前記複数の線源は少なくとも3つの線源を含む、請求項1
5に記載の縦列電磁放射線集光光学システム。 - 【請求項31】 前記複数のリフレクタのうち少なくとも1つのリフレクタ
は、予め定められた波長を有する放射線を選択的にフィルタリングするよう処理
される、請求項15に記載の縦列電磁放射線集光光学システム。
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