JP2003502130A5 - - Google Patents

Description

【特許請求の範囲】
【請求項１】 イメージング・システムを利用して被検体の画像を再構成するための方法であって、 被検体内の関心領域（ＲＯＩ）の周囲は包含し被検体自体の周囲までは包含しないように選択されたファンビーム角度範囲を有する限定幅の放射線ビームを、被検体に向けて放出するステップと、 被検体を透過した前記限定幅の放射線ビームからの放射線を検出することにより、ＲＯＩの投影データを含む被検体の切り詰めた投影データの組を取得するステップと、 前記切り詰めた投影データの組のうちの低周波数成分を推定するステップと、 前記切り詰めた投影データの組及び前記推定した低周波数成分を利用して被検体内のＲＯＩの画像を再構成するステップと、を含む方法。
【請求項２】 前記限定幅の放射線ビームが限定幅のＸ線ビームであり、限定幅の放射線ビームを被検体に向けて放出する前記ステップがＸ線ビームを被検体に向けて放出するステップを含む、請求項１に記載の方法。
【請求項３】 前記方法は、さらに、限定幅のＸ線ビームと比べてより大きなファンビーム角度範囲を有する幅広Ｘ線ビームを被検体に向けて放出するステップと、前記幅広Ｘ線ビームからの放射線を検出することにより被検体の少なくとも１つの完全な投影を取得するステップとを含み、切り詰めた投影データの組のうちの低周波数成分を推定する前記ステップが被検体の前記少なくとも１つの完全な投影を利用して切り詰めた投影データの組のうちの低周波数成分を推定するステップを含む請求項２に記載の方法。
【請求項４】 前記イメージング・システムがスキャン式のイメージング・システムであり、かつ前記限定幅のＸ線ビーム及び前記幅広Ｘ線ビームは前記スキャン式イメージング・システムの回転するガントリ上に取り付けられたＸ線源により放出され、且つ画像の再構成に十分である切り詰めた投影と完全な投影の合計のうち、完全な投影が１０％以下である請求項３に記載の方法。
【請求項５】 前記イメージング・システムがスキャン式のイメージング・システムであり、前記幅広Ｘ線ビーム及び前記限定幅のＸ線ビームは前記スキャン式イメージング・システムの回転するガントリ上に取り付けられたＸ線源により放出されており、さらに、幅広Ｘ線ビーム及び限定幅のＸ線ビームを選択的に発生するためにマスクキング用スリーブをＸ線源の周りに回転するステップを含む請求項３に記載の方法。
【請求項６】 被検体の画像を再構成するためのイメージング・システムであって、 被検体内の関心領域（ＲＯＩ）の周囲を包含しているが被検体自体の周囲までは包含しないように選択されたファンビーム角度範囲を有する限定幅の放射線ビームを、被検体に向けて放出すること、 被検体を透過した前記限定幅の放射線ビームからの放射線を検出することにより、ＲＯＩの投影データを含む被検体の切り詰めた投影データの組を取得すること、 前記切り詰めた投影データの組のうちの低周波数成分を推定すること、 前記切り詰めた投影データの組及び前記推定した低周波数成分を利用して被検体内のＲＯＩの画像を再構成すること、を行うように構成されているイメージング・システム。
【請求項７】 前記限定幅の放射線ビームが限定幅のＸ線ビームであり、かつ被検体に向けて放出される前記限定幅の放射線ビームが前記限定幅のＸ線ビームである請求項６に記載のシステム。
【請求項８】 さらに、前記限定幅のＸ線ビームと比べてより大きなファンビーム角度範囲を有する幅広Ｘ線ビームを被検体に向けて放出し、かつ前記幅広Ｘ線ビームからの放射線を検出することにより被検体の少なくとも１つの完全な投影を取得するように構成されると共に、被検体の前記少なくとも１つの完全な投影を利用して切り詰めた投影データの前記組のうちの低周波数成分を推定するように構成されている請求項７に記載のシステム。
【請求項９】 回転するガントリと、前記回転するガントリ上に取り付けられたＸ線源とをさらに備え、 前記切り詰めた投影データ及び前記少なくとも１つの完全な投影を取得するために前記限定幅のＸ線ビーム及び前記幅広Ｘ線ビームを選択的に放出する前記Ｘ線源を用いて被検体をスキャンするように構成されており、かつ画像の再構成に十分である前記切り詰めた投影と前記完全な投影の合計のうち、完全な投影が１０％以下であるように構成されている請求項８に記載のシステム。
【請求項１０】 回転するガントリと、 前記回転するガントリ上に取り付けられたＸ線源であって、前記システムは前記切り詰めた投影データ及び前記少なくとも１つの完全な投影を取得するために該Ｘ線源を用いて被検体をスキャンするように構成されている、Ｘ線源と、 前記Ｘ線源を覆っているマスクキング用スリーブであって、前記Ｘ線源を選択的にマスキングし前記Ｘ線源が前記限定幅のＸ線ビーム及び前記幅広Ｘ線ビームを選択的に放出するようにしているマスクキング用スリーブと、をさらに備える請求項８に記載のシステム。