JP2003500380A - メトキシイミノアセトアミドの製造法 - Google Patents

メトキシイミノアセトアミドの製造法

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JP2003500380A JP2000619761A JP2000619761A JP2003500380A JP 2003500380 A JP2003500380 A JP 2003500380A JP 2000619761 A JP2000619761 A JP 2000619761A JP 2000619761 A JP2000619761 A JP 2000619761A JP 2003500380 A JP2003500380 A JP 2003500380A
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クリユガー，ベルント−ビーラント
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Abstract

(57)【要約】 本発明はメトキシイミノアセトアミドの新規製造方法に関する。

Description

【発明の詳細な説明】
【０００１】 本発明はメトキシイミノアセトアミドの製造法に関する。
【０００２】 Ｎ−メチル−［２−（２−ヒドロキシ）フェニル］２−メトキシイミノアセト
アミドの製造法は既に報告されている（ヨーロッパ特許０ ３９８ ６９２ Ａ
２号参照）。しかしこの方法で製造された化合物は中程度の収率で得られるに過
ぎない。
【０００３】 本発明においては、工程部分（１）に従って、式（Ｉ）
【０００４】
【化２３】
【０００５】 但し式中 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は同一または相異なり、互いに独立にそれぞれ水
素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれの場合随時ハロゲンで置換されたアル
キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニルまたはアルキルスルフ
ォニルを表し、 Ｒ5は置換基をもちまたはもたないアルキルを表し、 Ｒ6は水素、置換基をもちまたはもたないアルキルを表すものとする、 の化合物は、 （Ａ）工程段階（２）に従い式（ＩＶ）
【０００６】
【化２４】
【０００７】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上記定義の通りである、 の化合物を、酸または酸性イオン交換剤の存在下において、式（Ｖ） Ｒ7−ＯＨ （Ｖ） 但し式中Ｒ7は置換基をもちまたはもたないアルキルを表す、 のアルコールと、またオキシムを生じる反応において除去される塩化ヒドロキシ
ルアンモニウムと結合するカルボニル化合物と反応させて式（ＶＩ）
【０００８】
【化２５】
【０００９】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ7は上記定義の通りである、 の化合物をつくり、得られた化合物（ＶＩ）を （ａ）工程段階（３）に従い、随時希釈剤を存在させ、さらにまた随時酸また
は酸受容体を存在させてヒドロキシルアンモニウム塩と反応させ、式（ＶＩＩ）
【００１０】
【化２６】
【００１１】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ7は上記定義の通りである、 の化合物をつくり、得られた化合物（ＶＩＩ）を工程段階（４）に従って式（Ｖ
ＩＩＩ） Ｒ5−Ｘ （ＶＩＩＩ） 但し式中Ｒ5は上記定義のとおりであり、 Ｘはハロゲン、−Ｏ−ＣＯ−ＯＲ5または−Ｏ−ＳＯ2−Ｏ−Ｒ5を表し、
ここにＲ5は上記定義のとおりである、 のアルキル化剤と、随時希釈剤を存在させ、また随時塩基を存在させて反応させ
るか、または （ｂ）工程段階（５）に従って式（ＩＸ） Ｒ5−Ｏ−ＮＨ2 （ＩＸ） 但し式中Ｒ5は上記定義のとおりである、 のアルコキシアミンまたはその酸付加錯体と、随時希釈剤を存在させ、また随時
酸または酸受容体を存在させて反応させるか、 或いは （Ｂ）工程段階（６）に従って、式（ＩＶ）
【００１２】
【化２７】
【００１３】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上記定義の通りである、 の化合物を、式（ＩＸ） Ｒ5−Ｏ−ＮＨ2 （ＩＸ） 但し式中Ｒ5は上記定義のとおりである、 のアルコキシアミンまたはその酸付加錯体と、随時希釈剤を存在させ、また随時
酸を存在させて反応させるか、 或いは （Ｃ）工程段階（７）に従って、式（ＩＶ）
【００１４】
【化２８】
【００１５】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上記定義の通りである、 の化合物を、酸または酸性イオン交換剤の存在下において、式（Ｖ） Ｒ7−ＯＨ （Ｖ） 但し式中Ｒ7は上記定義の通りである、、 のアルコールと、随時ヒドロキシルアンモニウム塩を加えて反応させ、得られた
化合物（ＶＩＩ）
【００１６】
【化２９】
【００１７】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ7は上記定義の通りである、 を工程（４）に従って反応させるか、 或いは （Ｄ）工程段階（８）に従って、式（Ｘ）
【００１８】
【化３０】
【００１９】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は上記定義の通りである、 を、酸または酸性イオン交換剤の存在下において、式（Ｖ） Ｒ7−ＯＨ （Ｖ） 但し式中Ｒ7は上記定義の通りである、 のアルコールと、随時オキシムを生じる反応において除去される塩化ヒドロキシ
ルアンモニウムと結合するカルボニル化合物の存在下において反応させ； 工程（Ａ）〜（Ｄ）で得られた化合物（ＩＩ）
【００２０】
【化３１】
【００２１】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は上記定義の通りであり、 Ｒ7は置換基をもちまたはもたないアルキルである、 を、随時式（ＩＩ）の化合物を中間的に分離することなく（一工程反応）、随時
希釈剤を存在させて式（ＩＩＩ） Ｒ6−ＮＨ2 （ＩＩＩ） 但し式中Ｒ6は上記定義の通りである、 のアルキルアミンと工程段階（１）に従って反応させることによって得られるこ
とが見出だされた。
【００２２】 さらに本発明においては、式（ＸＩ）
【００２３】
【化３２】
【００２４】 但し式中 Ｚは置換基をもちまたはもたないシクロアルキル、アリールまたは複素環
式の基であり、 Ｑは酸素または硫黄を表し、 Ｙはハロゲンを表し、 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ7は上記定義の通りである、 の化合物は、式（Ｉ）の化合物を新規工程部分（１）に従って反応させることに
よって得られるが、この際上記式（ＸＩ）の化合物は該化合物（Ｉ）を、 （Ｅ）工程段階（９）に従って、式（ＸＩＩ）
【００２５】
【化３３】
【００２６】 但し式中 Ｔ1およびＴ2は同一または相異なり、ハロゲンまたは−ＳＯ2−Ｒ8を表し
、ここにＲ8はアルキル、アリールまたはベンジルであり、 Ｙは上記定義の通りである、 のピリミジン誘導体と、随時希釈剤を存在させ、また随時塩基を存在させて反応
させ、得られた式（ＸＩＩＩ）の化合物
【００２７】
【化３４】
【００２８】 但し式中Ｔ2、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ7は上記定義の通り
である、 を工程段階（１０）に従って一般式（ＸＩＶ） Ｚ−Ｑ−Ｈ （ＸＩＶ） 但し式中ＺおよびＱは上記定義の通りである、 の環式化合物と、随時希釈剤を存在させ、また随時酸受容体を存在させ、さらに
また随時触媒を存在させて反応させるか、 或いは （Ｆ）工程段階（１１）に従って、式（ＸＶ）の化合物
【００２９】
【化３５】
【００３０】 但し式中Ｚ、Ｑ、Ｔ1およびＹは上記定義の通りである、 と、随時希釈剤を存在させ、また随時塩基を存在させて反応させることことによ
り得られることがが見出だされた。
【００３１】 さらに本発明においては、式（ＸＩ）のＺ異性体化合物は、式（ＸＩ）のＺ異
性体またはＥ／Ｚ異性体混合物を随時希釈剤を存在させて酸で処理するとＥ−異
性体に異性化することが見出だされた。この異性化によってＥ異性体は高収率で
得られる。
【００３２】 さらに本発明においては、式（ＸＩＩＩ）のＺ異性体化合物は、式（ＸＩＩＩ
）のＺ異性体またはＥ／Ｚ異性体混合物を随時希釈剤を存在させて酸で処理する
とＥ−異性体に異性化することも見出だされた。この異性化によってＥ異性体は
高収率で得られる。
【００３３】 上記定義において、飽和または不飽和の炭化水素鎖、例えばアルキル、アルカ
ンジイル、アルケニルまたはアルキニルは、へテロ原子との組み合わせ、例えば
アルコキシ、アルキルチオまたはアルキルアミノを含め、それぞれ直鎖または分
岐したものであり、特に炭素数が４であるものとする。
【００３４】 アリールは芳香族の一環式または多環式炭化水素環、例えばフェニル、ナフチ
ル、アントラニル、フェナントリル、好ましくはフェニルまたはナフチル、特に
好ましくはフェニルを意味する。
【００３５】 ハロゲンは一般にフッ素、塩素、臭素またはヨード、好ましくはフッ素、塩素
または臭素、特に好ましくはフッ素または塩素を意味する。
【００３６】 複素環化合物は飽和または不飽和の、また芳香族の環式化合物であって、環を
構成する少なくとも１個の原子がへテロ原子、即ち炭素以外の原子である化合物
を意味する。複素環が多数のヘテロ原子を含む場合、これらの原子は同一または
相異なることができる。好適なヘテロ原子は酸素、窒素または硫黄である。随時
環式化合物は他の炭素環または複素環が融合または架橋して環をつくった多環系
を構成している。好適な環は一環系または二環系であり、特に芳香族の一環系ま
たは二環系が好適である。
【００３７】 シクロアルキルは飽和の炭素環式化合物を意味し、随時他の炭素環式化合物と
融合または架橋して多環系をつくる。
【００３８】 ハロゲノアルキルとは部分的にまたは完全にハロゲン化されたアルキルを意味
する。多ハロゲン化されたハロゲノアルキルの場合、ハロゲン原子は同一または
相異なることができる。好適なハロゲン原子はフッ素および塩素、特にフッ素で
ある。ハロゲノアルキルが他の置換基をもっている場合、ハロゲン原子の可能な
最大数は残された自由原子価まで減少する。
【００３９】 本発明の化合物は、随時可能な異なった異性体の形、特に立体異性体、例えば
ＥおよびＺ異性体の形で存在することができる。特許請求の範囲に請求される化
合物はＥおよびＺ異性体の両方、およびこれらの異性体の混合物である。
【００４０】 一般に、特にＺは次の基を表す： それぞれ随時ハロゲン、アルキルまたはヒドロキシルが１個または２個置換し
た炭素数３〜７のシクロアルキル； それぞれ随時炭素数１〜４のアルキル置換した炭素数３〜７の複素環基； 或いはそれぞれ随時同一または相異なる置換基が１〜４個置換したフェニルま
たはナフチルであり、可能な置換基は好ましくはハロゲン、シアノ、ニトロ、ア
ミノ、ヒドロキシル、フォルミル、カルボキシル、チオカルボキシルから成る群
から選ばれたもの； それぞれ炭素数１〜８の直鎖または分岐したアルキル、ヒドロキシアルキル、
オキソアルキル、アルコキシ、アルコキシアルキル、アルキルチオアルキル、ジ
アルコキシアルキル、アルキルチオ、アルキルスルフィニルまたはアルキルスル
フォニル； それぞれ炭素数２〜６のそれぞれ直鎖または分岐したアルケニルまたはアルケ
ニルオキシ； それぞれ炭素数が１〜６で１〜１３個の同一または異なったハロゲン原子をも
つそれぞれ直鎖または分岐したハロゲノアルキル、ハロゲノアルコキシ、ハロゲ
ノアルキルチオ、ハロゲノアルキルスルフィニルまたはハロゲノアルキルスルフ
ォニル； それぞれ炭素数が２〜６で１〜１１個の同一または異なったハロゲン原子をも
つそれぞれ直鎖または分岐したハロゲノアルケニルまたはハロゲノアルケニルオ
キシ； それぞれ直鎖または分岐した個々の炭化水素鎖の炭素数が１〜６のアルキルア
ミノ、ジアルキルアミノ、アルキルカルボニル、アルキルカルボニルオキシ、ア
ルコキシカルボニル、アルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニル
、アリールアルキルアミノカルボニル、ジアルキルアミノカルボニルオキシ、ア
ルケニルカルボニル、またはアルキニルカルボニル； それぞれ炭素数が３〜６のシクロアルキルまたはシクロアルキルオキシ； それぞれ２価の炭素数３または４のアルキレン、炭素数２または３のオキシア
ルキレンまたは炭素数１または２のジオキシアルキレンであって、随時フッ素、
塩素、オキソ、メチル、トリフルオロメチルおよびエチルから成る群から選ばれ
る同一または相異なる置換基を１〜４個置換したもの； または式
【００４１】
【化３６】
【００４２】 但し式中 Ａ1は水素、ヒドロキシルまたは炭素数１〜４のアルキルまたは炭素数１
〜６のシクロアルキルであり、 Ａ2はヒドロキシル、アミノ、メチルアミノ、フェニル、ベンジルを表す
か、或いはそれぞれ随時シアノ、ヒドロキシル、アルコキシ、アルキルチオ、ア
ルキルアミノ、ジアルキルアミノまたはフェニルが置換した炭素数１〜４のアル
キルまたはアルコキシを表すか、或いはそれぞれ炭素数２〜４のアルケニルオキ
シまたはアルキニルオキシを表す、 の基； および個々のアルキル部分の炭素数が１〜３のフェニル、フェノキシ、フェニ
ルチオ、ベンゾイル、ベンゾイルエテニル、シンナモイル、複素環アルキルまた
はフェニルアルキル、フェニルアルキロキシ、フェニルアルキルチオまたは複素
環アルキルであり、それぞれ随時環の部分にはハロゲンおよび／または直鎖また
は分岐した炭素数１〜４のアルキルまたはアルコキシが置換しているもの。
【００４３】 一般にＲ5は特にメチルまたはエチルを表す。
【００４４】 一般にＲ6は特に水素またはメチルを表す。
【００４５】 一般にＲ7は特にメチルを表す。
【００４６】 一般にＱは特に酸素または硫黄を表す。
【００４７】 一般にＹは特にフッ素、塩素、臭素またはヨードを表す。
【００４８】 一般にＴ1は特にフッ素または塩素を表す。
【００４９】 一般にＴ2は特にフッ素または塩素を表す。
【００５０】 一般にＲ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は同一または相異なり、互いに独立に特に水素
、ハロゲン、シアノ、ニトロ、またはそれぞれ炭素数が１〜６であってそれぞれ
随時１〜５個のハロゲン原子を置換したアルキル、アルコキシ、アルキルスルフ
ィニルまたはアルキルスルフォニルを表す。
【００５１】 本発明においては、Ｚは、それぞれ随時フッ素、塩素、メチル、エチルまたは
ヒドロキシルを１個または２個置換しているシクロペンチルまたはシクロヘキシ
ルを表すか； 或いは随時メチルまたはエチルを置換したチエニル、ピリジルまたはフリルを
表すか、 或いはまた随時同一または相異なる置換基を１〜４個置換したフェニルまたは
ナフチルを表すことが好適である。
【００５２】 最後の場合、可能な置換基は下記の群から選ばれることが好ましい： フッ素、塩素、臭素、ヨード、シアノ、ニトロ、アミノ、ヒドロキシル、フォ
ルミル、カルボキシル、カルバモイル、チオカルバモイル、 メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピル、ｎ−、ｉ−、ｓ−またはｔ−ブチ
ル、１−、２−、３−、ネオ−ペンチル、１−、２−、３−、４−（２−メチル
ブチル）、１−、２−、３−ヘキシル、１−、２−、３−、４−、５−（２−メ
チルペンチル）、１−、２−、３−（３−メチルペンチル）、２−エチルブチル
、１−、３−、４−（２，２−ジメチルブチル）、１−、２−（２，３−ジメチ
ルブチル）、ヒドロキシメチル、ヒドロキシエチル、３−オキソブチル、メトキ
シメチル、ジメトキシメチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−またはｉ−プロポキシ
、 メチルチオ、エチルチオ、ｎ−またはｉ−プロピルチオ、メチルスルフィニル
、エチルスルフィニル、メチルスルフォニルまたはエチルスルフォニル、 ビニル、アリル、２−メチルアリル、プロペン−１−イル、クロトニル、プロ
パルギル、ビニルオキシ、アリルオキシ、２−メチルアリルオキシ、プロペン−
１−イルオキシ、クロトニルオキシ、プロパルギルオキシ、 トリフルオロメチル、トリフルオロエチル、ジフルロメトキシ、トリフルオロ
メトキシ、ジフルオロクロロメトキシ、トリフルオロエトキシ、ジフルオロメチ
ルチオ、トリフルオロメチルチオ、ジフルオロクロロメチルチオ、トリフルオロ
メチルスルフィニルまたはトリフルオロメチルスルフォニル、 メチルアミノ、エチルアミノ、ｎ−またはｉ−プロピルアミノ、ジメチルアミ
ノ、ジエチルアミノ、アセチル、プロピオニル、メトキシカルボニル、エトキシ
カルボニル、メチルアミノカルボニル、エチルアミノカルボニル、ジメチルアミ
ノカルボニル、ジエチルアミノカルボニル、ジメチルアミノカルボニルオキシ、
ジエチルアミノカルボニルオキシ、ベンジルアミノカルボニル、アクリロイル、
プロピオロイル、シクロペンチル、シクロヘキシル、 それぞれ二ヶ所で結合したのプロパンジイル、エチレンオキシ、メチレンジオ
キシ、エチレンジオキシであって、随時フッ素、塩素、オキソ、メチルおよびト
リフルオロメチルから成る群から選ばれる同一または相異なる置換基を随時１〜
４個置換したもの、 または式
【００５３】
【化３７】
【００５４】 但し式中Ａ1は水素、メチルまたはヒドロキシルを表し、 Ａ2はヒドロキシル、メトキシ、エトキシ、アミノ、メチルアミノ、フェ
ニル、ベンジルまたはヒドロキシエチルを表す、 の基、および フェニル、フェノキシ、フェニルチオ、ベンゾイル、ベンゾイルエテニル、シ
ンナモイル、ベンジル、フェニルエチル、フェニルプロピル、ベンジルオキシ、
ベンジルチオ、５，６−ジヒドロ−１，４，２−ジオキサジン−３−イルメチル
、トリアゾリルメチル、ベンズオキサゾール−２−イルメチル、１，３−ジオキ
サン−２−イル、ベンズイミダゾール−２−イル、ジオキソール−２−イル、オ
キサジアゾリルであって、それぞれ随時環部分にハロゲンおよび／または炭素数
１〜４の直鎖または分岐したアルキルまたはアルコキシを１〜３個置換している
もの。
【００５５】 Ｒ5がメチルを表す化合物が好適である。
【００５６】 Ｒ6が水素を、或いは特にメチルを表す化合物が好適である。
【００５７】 Ｒ7がメチルを表す化合物が好適である。
【００５８】 Ｑが硫黄を、或いは特に酸素を表す化合物が好適である。
【００５９】 Ｙがフッ素または塩素を表す化合物が好適である。
【００６０】 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4が同一または相異なり、互いに独立にそれぞれ水素、
フッ素、塩素、臭素、シアノ、ニトロ、メチル、エチル、ｎ−またはｉ−プロピ
ル、ｎ−、ｉ−、ｓ−またはｔ−ブチル、メトキシ、エトキシ、ｎ−またはｉ−
プロポキシ、メチルチオ、エチルチオ、メチルスルフィニル、エチルスルフィニ
ル、メチルスルフォニルまたはエチルスルフォニル、トリフルオロメチル、トリ
フルオロエチル、ジフルオロメトキシ、トリフルオロメトキシ、ジフルオロクロ
ロメトキシ、トリフルオロエトキシ、ジフルオロメチルチオ、ジフルオロクロロ
メチルチオ、トリフルオロメチルチオ、トリフルオロメチルスルフィニルまたは
トリフルオロメチルスルフォニルを表す化合物が好適である。
【００６１】 極めて特に好適な化合物の群ではＺは随時置換基をもったフェニルを表す。
【００６２】 他の極めて特に好適な化合物の群では、 Ｒ1およびＲ3は互いに独立にメチルを、特に水素を表し、 Ｒ2およびＲ4は水素を表す。
【００６３】 Ｙがフッ素を表す化合物が特に好適である。
【００６４】 Ｑが酸素を表す化合物が特に好適である。
【００６５】 上記の一般的な或いは好適な基の定義は、式（Ｉ）および／または式（ＸＩ）
をもつ最終生成物、並びにそれぞれの合成の際に必要とされるそれに対応した原
料および中間生成物の両方に適用されるものとする。
【００６６】 個々の組み合わせ、またはこれらの個々の基に対する好適な基の組み合わせは
、それぞれの場合に与えられた基の組み合わせには無関係に、他の好適な範囲の
基の定義で置き換えられるものとする。
【００６７】 これらの基の定義は任意に互いに組み合わせることができる。即ち与えられた
範囲の好適な化合物の間で組み合わせることができる。
【００６８】 式（ＸＩ−１、Ｅ異性体）の化合物は新規であって発明性をもち、本発明の一
部を構成している。この化合物は例えば殺虫剤として使用できる。
【００６９】
【化３８】
【００７０】 式（ＸＩ−１、Ｚ異性体）の化合物は新規であって発明性をもち、本発明の一
部を構成している。この化合物は例えば殺虫剤として使用できる。
【００７１】
【化３９】
【００７２】 式（ＸＩ）の化合物の異性化は工程１０および１１の後で行なうことが好まし
い。
【００７３】 本発明方法を行なうのに適した希釈剤は例えば好ましくはアルコール、特にメ
タノール；エーテル、特にテトラヒドロフラン；またはアルキルニトリル、特に
アセトニトリルである。
【００７４】 工程段階１を行なうのに好適な希釈剤はエーテル、特にテトラヒドロフラン；
またはアルコール、特にエタノール、好ましくはメタノールである。
【００７５】 工程段階２を行なうのに好適な希釈剤は特にメタノール、ピリジン、水または
これらの混合物である。
【００７６】 工程段階３を行なうのに好適な希釈剤はアルコール、特にメタノール；ジアル
キルケトン、特にアセトン；ジアルキルフォルムアミド、特にジメチルフォルム
アミド、ピロリドン、またはジアルキルアセトアミド、特にジメチルアセトアミ
ドである。
【００７７】 工程段階４を行うのに適した希釈剤はアルキルニトリル、特にアセトニトリル
である。
【００７８】 工程段階５を行うのに適した希釈剤はアルコール、特にメタノール、ピリジン
、水またはこれらの混合物である。
【００７９】 工程段階６を行うのに適した希釈剤はアルコール、特にメタノールである。
【００８０】 工程段階７を行うのに適した希釈剤はアルコール、特にメタノールである。
【００８１】 工程段階８を行うのに適した希釈剤はアルコール、特にメタノールである。
【００８２】 工程段階９を行うのに適した希釈剤はアルキルニトリル、特にアセトニトリル
、ジアルキルケトン、特にアセトン、ジアルキルフォルムアミド、特にジメチル
フォルムアミド、ピロリドン、またはジアルキルアセトアミド、特にジメチルア
セトアミドである。
【００８３】 工程段階１０を行うのに適した希釈剤はアルキルニトリル、特にアセトニトリ
ル、ジアルキルケトン、特にアセトン、ジアルキルフォルムアミド、特にジメチ
ルフォルムアミド、ピロリドン、またはジアルキルアセトアミド、特にジメチル
アセトアミドである。
【００８４】 工程段階１１を行うのに適した希釈剤はアルキルニトリル、特にアセトニトリ
ル、ジアルキルケトン、特にアセトン、ジアルキルフォルムアミド、特にジメチ
ルフォルムアミド、ピロリドン、またはジアルキルアセトアミド、特にジメチル
アセトアミドである。
【００８５】 異性化を行なうのに適した希釈剤はすべての不活性な有機溶媒である。これら
には好ましくは芳香族炭化水素、例えばトルエンまたはキシレン、エステル、例
えば酢酸エチルまたは酢酸ｎ−ブチル、エーテル、例えばｔ−ブチルメチルエー
テル、、ジオキサン、テトラヒドロフランまたはジメトキシエタン、ケトン、例
えばアセトン、ブタノン、シクロヘキサノンまたはメチルイソブチルケトン、或
いはアルコール、例えばメタノール、エタノール、ｎ−またはｉ−プロパノール
、ｎ−、ｉ−またはｔ−ブタノール、またはこれらの混合物が含まれる。
【００８６】 本発明の目的に対しては、酸は比較的濃い酸であり、特に鉱酸または塩化水素
ガスである。
【００８７】 好適な鉱酸は塩酸、特に塩化水素ガスである。
【００８８】 異性化に対しては、比較的濃い酸、特に鉱酸またはスルフォン酸、例えば特に
硫酸、メタンスルフォン酸、塩酸および塩化水素ガスを使用する。
【００８９】 本発明方法に使用する酸性イオン交換剤はパーフルオロ化したイオン交換剤で
あることが好ましい。
【００９０】 本発明方法は随時適当な酸受容剤／塩基の存在下において行なわれる。適当な
酸受容剤／塩基はすべての通常の無機性または有機性の塩基である。これらの中
には好ましくはアルカリ土類金属またはアルカリ金属の炭酸塩、例えば炭酸カリ
ウム；アルカリ土類金属またはアルカリ金属の重炭酸塩、例えば重炭酸カリウム
；１級アミン、例えばメチルアミン、３級アミン、例えばトリメチルアミン、ト
リエチルアミン、トリブチルアミン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアニリン、ピリジン、Ｎ
−メチルピペラジン、Ｎ−メチルモルフォリン、Ｎ，Ｎ−ジメチルアミノピリジ
ン、ジアザビシルロオクタン（ＤＡＢＣＯ）、ジアザビシルロノネン（ＤＢＮ）
またはジアザビシルロデセン（ＤＢＵ）が含まれ、特に好ましくはアルカリ金属
の酢酸塩、特に酢酸ナトリウムが含まれる。
【００９１】 工程段階１においてはメチルアミンを使用することが好ましい。
【００９２】 工程段階３においては酢酸ナトリウムを使用することが好ましい。
【００９３】 工程段階４においては重炭酸カリウムを使用することが好ましい。
【００９４】 工程段階５においては酢酸ナトリウムを使用することが好ましい。
【００９５】 工程段階９においては炭酸カリウムを使用することが好ましい。
【００９６】 工程段階１０においては炭酸カリウムを使用することが好ましい。
【００９７】 工程段階１１においては炭酸カリウムを使用することが好ましい。
【００９８】 工程段階５に使用されるアルコキシアミンは特にメトキシアミンおよび／また
はその塩酸塩である。
【００９９】 工程段階６に使用されるアルコキシアミンは特にメトキシアミンおよび／また
はその塩酸塩である。
【０１００】 本発明方法を行なう場合、反応温度は比較的広い範囲で変えることができる。
一般に本発明方法は０℃から当該混合物の還流温度までの範囲において、特に還
流温度において行なわれる。
【０１０１】 工程段階１の反応は０℃〜室温、特に５〜１５℃で行なうことが好ましい。
【０１０２】 工程段階２の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度、特に当該還流
温度において行なうことが好ましい。
【０１０３】 工程段階３の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度、特に当該還流
温度において行なうことが好ましい。
【０１０４】 工程段階４の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度、特に当該還流
温度において行なうことが好ましい。
【０１０５】 工程段階５の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度、特に当該還流
温度において行なうことが好ましい。
【０１０６】 工程段階６の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度、特に当該還流
温度において行なうことが好ましい。
【０１０７】 工程段階７の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度において行なう
ことが好ましい。
【０１０８】 工程段階８の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度において行なう
ことが好ましい。
【０１０９】 工程段階９の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度において行なう
ことが好ましい。
【０１１０】 工程段階１０の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度において行な
うことが好ましい。
【０１１１】 工程段階１１の反応は室温〜当該混合物の還流温度の範囲の温度において行な
うことが好ましい。
【０１１２】 本発明方法の反応は大気圧下、それよりも高い圧力下または低い圧力下、好ま
しくは大気圧下で行なわれる。
【０１１３】 好適なカルボニル化合物はジアルキルケトン、特にアセトン、アルデヒドまた
はグリオキシル酸である。
【０１１４】 好適なアルキル化剤は炭酸エステル、特に炭酸ジアルキル、特に好ましくは炭
酸ジメチル、硫酸ジアルキル、特に硫酸ジメチル、または特に好ましくはハロゲ
ン化アルキル、特に塩化メチルである。
【０１１５】 工程段階（９）における好適な式（ＸＩＩ）のピリミジン誘導体はトリフルオ
ロピリミジンまたはフルオロジクロロピリミジン、特に５−フルオロ−４，６−
ジクロロピリミジンである。
【０１１６】 工程部分（１Ａ（ａ））は式（ＶＩ）、（ＶＩＩ）および（ＩＩ）の化合物を
中間的に分離することなく（一工程反応）行なうことが特に好ましい。
【０１１７】 工程部分（１Ａ（ｂ））は式（ＶＩ）および（ＩＩ）の化合物を中間的に分離
することなく（一工程反応）行なうことが特に好ましい。
【０１１８】 工程部分（１Ｂ）は式（ＩＩ）の化合物を中間的に分離することなく（一工程
反応）行なうことが特に好ましい。
【０１１９】 工程部分（１Ｃ）は式（ＶＩＩ）および（ＩＩ）の化合物を中間的に分離する
ことなく（一工程反応）行なうことが特に好ましい。
【０１２０】 工程部分（１Ｄ）は式（ＩＩ）の化合物を中間的に分離することなく（一工程
反応）行なうことが特に好ましい。
【０１２１】 工程部分１および２は中間化合物を分離することなく（一工程反応）行なうこ
とが特に好ましい。
【０１２２】 工程段階（２）、（６）および（７）を行なうのに使用される式（ＩＶ）の原
料は公知であり、公知方法で製造することができる（Ｂｅｉｌｓｔｅｉｎ，Ｅ（
ＩＩ）１７，４６２；Ｍａｍｅｌｉ，Ｇ．５６，７６８；Ｃｈｅｍ．Ｂｅｒ．３
５（１９０２），１６４０〜１６４６）；Ｐｒｏｃ．Ｉｎｄｉａｎ Ａｃａｄ，
Ｓｃｉ．Ｓｅｃｔ．Ａ（１９７６）８３Ａ（６），２３８〜２４２参照のこと）
。
【０１２３】 本発明の工程段階（４）を実施する原料として必要な式（ＶＩ）の化合物は公
知であり（Ｇｉａｎｎｅｌｌａ；Ｐｉｇｉｎｉ，ＦＲＰＳＡＸ，Ｆａｒｍａｃｏ
Ｅｄ．Ｓｃｉ．，２８，１９７３，１５７，１５９参照）、式（ＩＶ）の化合
物から工程段階（７）の新規方法、または式（ＶＩ）から工程段階（３）による
方法によって得ることができる。
【０１２４】 一方、公知工程段階（５）を実施する原料物質として必要な式（ＶＩ）の化合
物は公知であり、それ自身は公知の方法で製造できるが、他方工程段階（２）に
よる新規方法で得ることができる。
【０１２５】 公知工程段階（３）を実施する原料物質として必要な式（ＩＶ）の化合物は既
に工程段階（５）の説明に記述されている。
【０１２６】 工程段階（８）に使用される式（Ｘ）の原料物質においてＲ1、Ｒ2、Ｒ3およ
びＲ4が水素を表し、Ｒ5がメチルを表す化合物は、ヨーロッパ特許３９８６９２
号に名前が挙げられており、工程段階（８）に使用される式（Ｘ）の原料物質で
Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4が水素を表し、Ｒ5がアルキルを表す化合物は、国際特
許公開明細書９７４６５４２号の８頁および１４頁並びに３６頁に式（ＶＩＩＩ
）として記載されている。これらの化合物はまたヨーロッパ特許８４６６９１号
の７、８頁および１７、１９、２０頁において式（ＩＶ）として記載されている
。
【０１２７】 工程段階（１）を実施するのに使用される式（ＩＩ）の原料物質は、工程部分
（１Ａａ））、工程部分（１Ａｂ）、工程部分１Ｂ、工程部分１Ｃまたは工程部
分１Ｄのより、これらの工程を順次行なうかまたは一工程方法により実施して製
造することができる。
【０１２８】 工程段階（９）、（１０）および（１１）を行なうのに使用される原料物質は
国際特許公開明細書９８／２１１８９号に記載されている。
【０１２９】 異性化を実施するのに使用される式（ＸＩ）の化合物は工程部分１および２に
従って得られる。
【０１３０】 他のすべての原料物質は通常の市販品であるか、或いは簡単な方法で市販品か
らつくることができる。
【０１３１】 工程段階（２）は新規であり、本発明の一部を構成している。
【０１３２】 本発明の工程段階（３）は式（ＶＩＩ）の化合物を与える。式（ＶＩＩ）の化
合物は新規であって発明性をもち、式（ＶＩＩ−ａ）
【０１３３】
【化４０】
【０１３４】 の化合物以外本発明の一部を構成している。本発明の工程段階（７）は式（ＶＩ
Ｉ）の化合物を与える。式（ＶＩＩ）の化合物は新規であり発明性をもち、本発
明の一部を構成している。
【０１３５】 全工程（工程部分１および工程部分２）を用いると式（ＸＩ）の公知殺虫剤（
国際特許公開明細書９８／２１１８９号）の製造はかなり改善され簡単化される
。
【０１３６】 本発明の工程部分１は式（Ｉ）の重要な中間体を製造する役目をし、高い改善
された中間体の収率が得られる。
【０１３７】 本発明は工程部分２においても、公知方法に比べ収率の増加が観測できる。
【０１３８】 工程部分２の後、特に工程段階１０および１１の後で異性化を行なうことによ
り、異性体混合物中のＥ異性体の割合が増加する。
【０１３９】 下記実施例により本発明を例示する。しかしこれらの実施例は本発明を限定す
るものではない。
【０１４０】 実施例 Ｉ．工程部分（１） 工程部分（１Ａａ）（工程段階２、３、４および１） 工程段階（２） ２−ヒドロキシフェニルグリコキシル酸メチル（実施例ＶＩ−１ａ） ６５ｍｌのメタノールと６５ｍｌのアセトンの混合物に６．３８ｇの塩化アセ
チル（０．０８１モル）を滴下する。５．２ｇ（０．０３２モル）のベンゾフラ
ン−２，３−ジオン２−オキシムをこの混合物に溶解し、次いでこの混合物を１
時間還流下に加熱する。減圧下で溶媒を蒸溜し、残渣を水に注ぎ、この生成物を
ジエチルエーテルで抽出し、硫酸ナトリウム上で有機相を乾燥し、溶媒を減圧下
で蒸溜する。これによって５．２ｇの粗製物が得られ、７部のｎ−ヘキサンと３
部のアセトンとの混合物を用いてこれをシリカゲル上でクロマトグラフにかける
。３．８ｇの生成物が得られ、これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝１．８７の
２−ヒドロキシフェニルグリコキシル酸メチルを８８％含んでいた。
【０１４１】 工程段階（３） ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシイミノ−酢酸メチル（実施 例ＶＩＩ−１ａ） ３．３ｇ（０．０１６モル）の２−ヒドロキシフェニルグリコキシル酸メチル
（ＨＰＬＣ：８８％，ｌｏｇ ｐ＝１．８７）（実施例ＶＩ−１ａ）と１．３ｇ
（０．０１９モル）のヒドロキシルアミン塩酸塩を５０ｍｌのメタノールに溶解
した溶液を１時間加熱還流させる。この反応混合物を２Ｎの塩酸で酸性化した水
に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で減圧蒸溜する
。これによって２．４ｇの粗製物が得られ、これはＨＰＬＣによれば１７．１％
のｌｏｇ ｐ＝０．９５のＥ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキ
シイミノ酢酸メチルと６８．９％のｌｏｇ ｐ＝１．６８のＺ−２−（２−ヒド
ロキシフェニル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸メチルとを含んでいた。
【０１４２】 工程段階４ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル（実施例Ｉ Ｉ−１ａ） ２．４ｇ（０．０１０６モル）の２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−ヒド
ロキシイミノ）酢酸メチル（工程段階３から得られた実施例ＶＩＩ−１ａ；ＨＰ
ＬＣ：１７．１％Ｅ，ｌｏｇ ｐ＝０．９５；６８．９％Ｚ，ｌｏｇ ｐ＝１．
６８）を６０ｍｌのアセトニトリル中で１．０８ｇ（０．０１１モル）の重炭酸
カリウムおよび１．５５ｇ（０．０１２３モル）の硫酸ジメチルと共に１０時間
加熱還流させる。この反応混合物を水に注ぎ、ジエチルエーテルで抽出し、溶媒
を減圧下で蒸溜する。これにより２．１ｇの粗製物が得られ、７部のｎ−ヘキサ
ンおよび３部のアセトンの混合物を用いてこれをシリカゲル上でクロマトグラフ
にかける。１．６ｇの生成物が得られ、これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝２
．３９のＺ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル
を３６．９％含んでいた。
【０１４３】 工程部分（１Ａｂ）（工程段階２、５および１） 工程段階２ ２−ヒドロキシフェニルグリオキシル酸メチル（実施例ＶＩ−１） ２４５ｍｌのメタノールおよび２４５ｍｌのアセトンの混合物に２７ｇ（０．
３４４モル）の塩化アセチルを滴下する。２０ｇ（０．１２３モル）のベンゾフ
ラン−２，３−ジオン２−オキシムをこの混合物に溶解し、次いでその混合物を
１時間加熱還流させる。減圧下で溶媒を蒸溜し、残渣を水に注ぎ、生成物をジエ
チルエーテルで抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧下で蒸
溜する。これによって２０．８ｇの粗製物が得られ、これはＨＰＬＣに従えばｌ
ｏｇ ｐ＝１．８７の２−ヒドロキシフェニルグリオキシル酸メチルを９２．４
％含んでいた。
【０１４４】 工程段階５ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル（実施例Ｉ Ｉ−１ｂ） 工程段階２から得られた１０．４ｇ（０．０５３３モル）の２−ヒドロキシフ
ェニルグリオキシル酸（ＨＰＬＣ：９２．４％、ｌｏｇ ｐ＝１．８７）および
７．４ｇ（０．０８９モル）のＯ−メチルヒドロキシルアミン塩酸塩を１５０ｍ
ｌのメタノールに溶解し、３時間沸騰させて還流させる。この反応混合物を水に
注ぎ、生成物をジエチルエーテルで抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し
、減圧下で溶媒を蒸溜する。これにより８．２ｇの粗製物が得られ、これはＨＰ
ＬＣによればｌｏｇ ｐ＝１．４８のＥ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２
−メトキシイミノ酢酸１７．２％およびｌｏｇ ｐ＝２．３８のＺ−２−（２−
ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸６５．４％を含んでいた。
【０１４５】 部分工程（１Ｂ）（工程段階６および１） 工程段階６ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル（実施例Ｉ Ｉ−１ｃ） ５０ｍｌのメタノールの中に８．２ｇ（０．０５モル）のベンゾフラン−２，
３−ジオン２−オキシムと９ｇ（０．１０８モル）のＯ−メチルヒドロキシルア
ミン塩酸塩を含む溶液を３時間加熱還流させる。減圧下でメタノールを蒸溜し、
残渣を５０ｍｌの水と混合し、酢酸エチルで抽出する。有機相を硫酸ナトリウム
上で乾燥し、溶媒を減圧下で蒸溜し、結晶を含んだ９．８８ｇの粗製物を得る。
ＨＰＬＣによればこの粗製物はｌｏｇ ｐ＝１．４８のＥ−２−（２−ヒドロキ
シフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル４３．７％およびｌｏｇ ｐ＝２
．３７のＺ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル
２９．４％を含んでいた。
【０１４６】 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ６／ＴＭＳ）： Ｅ異性体：３．７２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）；３．９２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）； Ｚ異性体：３．７７ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）；３．９２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）。
【０１４７】 工程部分（１Ｃ）（工程段階７、４および１） 工程段階７ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸メチル（実施例 ＶＩＩ−１ｄ） ４．９ｇ（０．０６２モル）の塩化アセチルを１００ｍｌのメタノールに滴下
する。この混合物に４．０ｇ（０．０２４５モル）のベンゾフラン−２，３−ジ
オン２−オキシムを溶解し、次いでこの混合物を１２時間加熱還流させる。溶媒
を減圧蒸溜し、残渣を水に注ぎ、この生成物をジエチルエーテルで抽出し、有機
相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧蒸溜する。これによって３．９ｇの
粗製物が得られ、これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝０．９５のＥ−２−（２
−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル２１．７％およびｌｏ
ｇ ｐ＝１．６８のＺ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ
酢酸メチル５６％を含んでいた。
【０１４８】 シリル化されたものに対するＧＣ／ＭＳ Ｅ異性体：２２．０％、保持係数＝１６７３、Ｍ＝３３９、３２４、３０８、
２８０、２５０、２２０、２０６、１７６、１４７、１３１、８９、７３、５９
、４５． Ｚ異性体：６０．５％、保持係数＝１７４４、Ｍ＝３３９、３２４、２９６、
２８０、２２０、２５０、２０６、１７６、１４７、１３１、８９、７３、５９
、４５． ７部のｎ−ヘキサンおよび３部のアセトンの混合物を用いてシリカゲル上でこ
の粗製物をクロマトグラフにかける。これによって２．３ｇの生成物が得られ、
これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝１．７０のＺ−２−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル８６．４％およびｌｏｇ ｐ＝１．５５
のＥ−ベンゾフラン−２，３−ジオン３−オキシム１１．８％を含んでいた。
【０１４９】 工程段階４ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル（実施例Ｉ Ｉ−１ｄ） アセトニトリル４０ｍｌの中に１．７ｇ（０．００７５モル）の２−（２−ヒ
ドロキシフェニル）−２−ヒドロキシイミノ酢酸メチル（ＨＰＬＣ：８６．４％
Ｚ、ｌｏｇ ｐ＝１．７０）（工程段階７からの実施例ＶＩＩ−１ｄ）を含む溶
液を０．７７ｇ（０．００７６モル）の重炭酸カリウムおよび１．１ｇ（０．０
０８７モル）の硫酸ジメチルと共に１０時間加熱還流させる。この反応混合物を
水に注ぎ、生成物をジエチルエーテルで抽出し、溶媒を減圧蒸溜する。これによ
って１．２ｇの粗製物が得られ、これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝２．３８
のＺ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル４６％
を含んでいた。この粗製物を７部のｎ−ヘキサンおよび３部のアセトンの混合物
を用いてシリカゲル上でクロマトグラフにかける。これによって０．８ｇの生成
物が得られ、これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝２．３９のＺ−２−（２−ヒ
ドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル５４．４％を含んでいた。
【０１５０】 工程部分（１Ｄ）（工程段階８および１） 工程段階８ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル（実施例Ｉ Ｉ−１ｅ） ５０ｍｌのメタノールの中に５ｇ（０．０６４モル）の塩化アセチルを滴下す
る。４．８ｇ（０．０２５モル）のベンゾフラン−２，３−ジオン３−（Ｏ−メ
チルオキシム）２−オキシムをこの混合物に溶解し、１２時間加熱還流させる。
室温に冷却した後、この混合物を水に注ぎ、生成物をジエチルエーテルで抽出す
る。有機相を重炭酸ナトリウム水溶液で洗滌し、硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶
媒を減圧下で蒸溜する。これによって粗製物４．３３ｇが得られ、これはＨＰＬ
Ｃによればｌｏｇ ｐ＝１．４８のＥ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−
メトキシイミノ酢酸メチル２７．４％およびｌｏｇ ｐ＝２．３７のＺ−２−（
２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル５６％を含んでいた
。
【０１５１】 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ6／ＴＭＳ）： Ｅ異性体：３．７２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）；３．９２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）； Ｚ異性体：３．７７ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）；３．９２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）。
【０１５２】 工程部分（１Ｄ）（工程段階８および１、一工程合成） Ｎ−メチルー２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノアセトア ミド（実施例Ｉ−１ｆ） ５０ｍｌのメタノールの中に５ｇ（０．０６４モル）の塩化アエチルを滴下す
る。４．８ｇ（０．０２５モル）のベンゾフラン−２，３−ジオン３−（Ｏ−メ
チルオキシム）２−オキシムをこの混合物に溶解し、次いで反応混合物を１２時
間加熱還流させる。次に０℃に冷却した後、飽和に達するまで塩化メチレンを導
入し、反応混合物を１２時間１０℃で放置する。溶媒を減圧蒸溜し、残渣を１５
ｍｌの２Ｎ塩酸および１５ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液と混合し、毎回２５ｍ
ｌの酢酸エチルで３回抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減
圧下で蒸溜する。これによって粗製物６．２ｇが得られ、これはＨＰＬＣによれ
ばｌｏｇ ｐ＝０．９８のＮ−メチル−Ｅ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−
２−メトキシイミノアセトアミド３７．９％およびｌｏｇ ｐ＝１．２９のＮ−
メチル−Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノアセトアミ
ド４４％を含んでいた。
【０１５３】 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ6／ＴＭＳ）： Ｅ異性体：２．６７／２．６８ｐｐｍ（３Ｈ，ｄ）；３．８６ｐｐｍ（３Ｈ，
ｓ）； Ｚ異性体：２．７３／２．７５ｐｐｍ（３Ｈ，ｄ）；３．９３ｐｐｍ（３Ｈ，
ｓ）。
【０１５４】 工程部分（１Ｄ）（工程段階８および１；工程段階８のカルボニル化合物とし てアセトンを添加） 工程段階８ ２−（２−ヒドロキシフェニル）−メトキシイミノ酢酸メチル（実施例ＩＩ− １ｇ） １００ｍｌのメタノールと１００ｍｌのアセトンの混合物の中に１０．５ｇ（
０．１３３モル）の塩化アセチルを滴下する。１０ｇ（０．０５２モル）のベン
ゾフラン−２，３−ジオン３−（Ｏ−メチルオキシム）２−オキシムをこの混合
物に溶解し、この混合物を１２時間室温で撹拌する。この混合物を水に注ぎ、生
成物を酢酸エチルで抽出する。有機相を重炭酸ナトリウム水溶液で洗滌し、硫酸
ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧下で蒸溜する。これによって粗製物９ｇが得
られ、これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝１．４８のＥ−２−（２−ヒドロキ
シフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル１７．７％およびｌｏｇ ｐ＝２
．３８のＺ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル
６１．８％を含んでいた。
【０１５５】 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ6／ＴＭＳ）： Ｅ異性体：３．７２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）；３．９２ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）； Ｚ異性体：３．７７ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）；３．９１ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）。
【０１５６】 工程段階（１） （ａ）Ｎ−メチル−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノア セトアミド（実施例Ｉ−１ａ） １．２ｇ（０．００２１モル）の２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メト
キシイミノ酢酸メチル（特に工程段階４から得られた実施例ＩＩ−１ａ；ＨＰＬ
Ｃ：ｌｏｇ ｐ＝２．３９のＺ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキ
シイミノ酢酸メチル３６．９％のもの）を１４ｍｌのテトラヒドロフランに溶解
し、１０℃に冷却する。冷却しながら塩化メチレンを導入する。約３０分後、５
ｍｌのメタノールを加え、この溶液にメチルアミンを飽和させ、この混合物を１
０℃で一晩放置する。減圧下において溶媒を蒸溜して除去し、残渣を１０ｍｌの
２Ｎ塩酸および１０ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液の混合物と混合し、毎回２０
ｍｌの酢酸エチルを用いて３回抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
溶媒を減圧下において蒸溜して除去し、１．３ｇの粗製物を得た。この粗製物を
シリカゲル上で７部のｎ−ヘキサンおよび３部のアセトンの混合物を用いてクロ
マトグラフにかける。これによって０．７ｇの生成物が得られ、これはＨＰＬＣ
によればｌｏｇ ｐ＝１．３２のＮ−メチル−Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミドを３７．９％含んでいた。
【０１５７】 （ｂ）Ｎ−メチル−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノア セトアミド（実施例Ｉ−１ｂ） ８ｇ（０．０３１６モル）の粗製物（Ｅ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル
）−２−メトキシイミノ酢酸メチル、特に工程段階５から得られた実施例ＩＩ−
１ｂのもの；ＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝１．４８のＥ−２−（２−ヒドロキ
シフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル１７．２％、ｌｏｇ ｐ＝２．３
８のＺ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル６５
．４％を含む）を１００ｍｌのテトラヒドロフランに溶解し、１０℃に冷却する
。冷却しながら塩化メチレンを導入する。約３０分後、３０ｍｌのメタノールを
加え、この溶液にメチルアミンを飽和させ、この混合物を１０℃で一晩放置する
。減圧下において溶媒を蒸溜して除去し、残渣を１５ｍｌの２Ｎ塩酸および１５
ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液の混合物と混合し、毎回２５ｍｌの酢酸エチルを
用いて３回抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧下におい
て蒸溜して除去し、８．１ｇの粗製物を得た。これはＨＰＬＣによればｌｏｇ
ｐ＝０．９８のＮ−メチル−Ｅ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキ
シイミノアセトアミドを４０．３％，またｌｏｇ ｐ＝１．２９のＮ−メチル−
Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノアセトアミドを５３
．１％含んでいた。
【０１５８】 （ｃ）メチル−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノアセト アミド（実施例Ｉ−１ｃ） 工程段階６から得られたＥ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メト
キシイミノ酢酸メチル、特に工程段階６に従って得られた粗製混合物をさらにヨ
ーロッパ特許３９８６９２号記載の方法と同様にして反応させる（その場で存在
しているＥ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ酢酸メ
チル混合物から得られたＮ−メチル−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキ
シイミノアセトアミドからＥ異性体およびＺ異性体を製造する方法は該特許の４
９頁の実施例３０参照のこと）。
【０１５９】 粗製物９．６８ｇ（０．０３３９モル、Ｅ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル、特に工程段階６から得られた化合物ＩＩ
−１ｃ、ＨＰＬＣ：ｌｏｇ ｐ＝１．４８のＥ異性体４３．７％、ｌｏｇ ｐ＝
２．３７のＺ異性体２９．４％のもの）を１００ｍｌのテトラヒドロフランに溶
解し、１０℃に冷却する。冷却しながら塩化メチレンを導入する。約３０分後、
５０ｍｌのメタノールを加え、この溶液にメチルアミンを飽和させ、この混合物
を１０℃で一晩放置する。減圧下において溶媒を蒸溜して除去し、残渣を３０ｍ
ｌの２Ｎ塩酸および３０ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液の混合物と混合し、毎回
５０ｍｌの酢酸エチルを用いて３回抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥
し、溶媒を減圧下において蒸溜して除去し、８．５ｇの粗製物を得た。これはＨ
ＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝０．９８のＮ−メチル−Ｅ−２−（２−ヒドロキシ
フェニル）−２−メトキシイミノアセトアミドを５２．６％，およびｌｏｇ ｐ
＝１．２９のＮ−メチル−Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシ
イミノアセトアミドを３１．９％含んでいた。
【０１６０】 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ6／ＴＭＳ）： Ｅ異性体：２．６７／２．６８ｐｐｍ（３Ｈ，ｄ）；３．８６ｐｐｍ（３Ｈ，
ｓ）； Ｚ異性体：２．７３／２．７５ｐｐｍ（３Ｈ，ｄ）；３．９３ｐｐｍ（３Ｈ，
ｓ）。
【０１６１】 （ｄ）Ｎ−メチル−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノア セトアミド（実施例Ｉ−１ｄ） ０．５ｇ（０．００１３モル）の２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メト
キシイミノ酢酸メチル（特に工程段階４から得られた実施例ＩＩ−１ｄの化合物
、ＨＰＬＣ：ｌｏｇ ｐ＝２．３９のＺ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２
−メトキシイミノ酢酸メチル５４．４％含有のもの）を６ｍｌのテトラヒドロフ
ランに溶解し、１０℃に冷却する。冷却しながら塩化メチレンを導入する。約３
０分後、２ｍｌのメタノールを加え、この溶液にメチルアミンを飽和させ、この
混合物を１０℃で一晩放置する。減圧下において溶媒を蒸溜して除去し、残渣を
５ｍｌの２Ｎ塩酸および５ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液の混合物と混合し、毎
回１０ｍｌの酢酸エチルを用いて３回抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥し、溶媒を減圧下において蒸溜して除去し、０．６ｇの粗製物を得た。この粗
製物を７部のｎ−ヘキサンと３部のアセトンとの混合物を用いてシリカゲル上で
クロマトグラフにかけ、０．４ｇの生成物を得た。これはＨＰＬＣによればｌｏ
ｇ ｐ＝１．２９のＮ−メチル−Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メ
トキシイミノアセトアミドを９９．２％含んでいた。
【０１６２】 （ｅ）Ｎ−メチル−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノア セトアミド（実施例Ｉ−１ｅ） 粗製物４．３３ｇ（０．０１７３モル）（Ｅ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−２−メトキシイミノ酢酸メチル、特に工程段階８から得られた化合物Ｉ
Ｉ−１ｅ、ＨＰＬＣ：ｌｏｇ ｐ＝１．４８のＥ異性体２７．４％、ｌｏｇ ｐ
＝２．３８のＺ異性体５６％のもの）を５０ｍｌのテトラヒドロフランに溶解し
、１０℃に冷却する。冷却しながら塩化メチレンを導入する。約３０分後、１５
ｍｌのメタノールを加え、この溶液にメチルアミンを飽和させ、この混合物を１
０℃で一晩放置する。減圧下において溶媒を蒸溜して除去し、残渣を１５ｍｌの
２Ｎ塩酸および１５ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液の混合物と混合し、毎回２５
ｍｌの酢酸エチルを用いて３回抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
溶媒を減圧下において蒸溜して除去し、４．３ｇの粗製物を得た。これはＨＰＬ
Ｃによればｌｏｇ ｐ＝０．９８のＮ−メチル−Ｅ−２−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−２−メトキシイミノアセトアミドを３８．８％，またｌｏｇ ｐ＝１．
２９のＮ−メチル−Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ
アセトアミドを５１％含んでいた。
【０１６３】 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ6／ＴＭＳ）： Ｅ異性体：２．６６／２．６８ｐｐｍ（３Ｈ，ｄ）；３．８６ｐｐｍ（３Ｈ，
ｓ）； Ｚ異性体：２．７３／２．７５ｐｐｍ（３Ｈ，ｄ）；３．９３ｐｐｍ（３Ｈ，
ｓ）。
【０１６４】 （ｆ）Ｎ−メチル−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノア セトアミド（実施例Ｉ−１ｇ） 粗製物９ｇ（０．０３４２モル）（Ｅ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）
−２−メトキシイミノ酢酸メチル、特に工程段階８から得られた化合物ＩＩ−１
ｇ、ＨＰＬＣ：ｌｏｇ ｐ＝１．４８のＥ異性体１７．７％、ｌｏｇ ｐ＝２．
３８のＺ異性体６１．８％のもの）を１００ｍｌのテトラヒドロフランに溶解し
、１０℃に冷却する。冷却しながら塩化メチレンを導入する。約３０分後、２０
ｍｌのメタノールを加え、この溶液にメチルアミンを飽和させ、この混合物を１
０℃で一晩放置する。減圧下において溶媒を蒸溜して除去し、残渣を３０ｍｌの
２Ｎ塩酸および３０ｍｌの飽和塩化ナトリウム溶液の混合物と混合し、毎回７５
ｍｌの酢酸エチルを用いて３回抽出する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、
溶媒を減圧下において蒸溜して除去し、６ｇの粗製物を得た。これはＨＰＬＣに
よればｌｏｇ ｐ＝０．９８のＮ−メチル−Ｅ−２−（２−ヒドロキシフェニル
）−２−メトキシイミノアセトアミドを４３．７％、またｌｏｇ ｐ＝１．２９
のＮ−メチル−Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノアセ
トアミドを５３．５％含んでいた。
【０１６５】 ＩＩ．工程部分２ 工程段階（２Ｅ）（工程部分１および工程段階９および１０） カルボニル化合物としてアセトンを加え、工程部分（１Ｄ）に従って工程段階 ８で得られた化合物（Ｉ−１ｇ）の使用 工程段階９ Ｎ−メチル−２−［２−（５，６−ジフルオロピリミジン−４−イルオキシ） −フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（実施例ＸＩＩＩ−１ｇ）（国 際特許公開明細書９８２１１８９号２５頁の実施例（ＩＶ−１）参照） ６ｇ（０．０２８０モル）のＮ−メチル−２−（２−ヒドロキシフェニル）−
２−メトキシイミノアセトアミド（工程段階１から得られた化合物Ｉ−１ｇ、Ｈ
ＰＬＣ：ｌｏｇ ｐ＝０．９８のＮ−メチル−Ｅ−２−（２−ヒドロキシフェニ
ル）−２−メトキシイミノアセトアミド４３．７％、ｌｏｇ ｐ＝１．２９のＮ
−メチル−Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノアセトア
ミド５３．５％を含むもの）を８０ｍｌのアセトニトリルに溶解する。この溶液
を１０℃に冷却氏、４．７ｇ（０．０３４モル）の炭酸カリウムを加え、この混
合物を３０分間撹拌する。次いで３．８ｇ（０．０２３８モル）の４，５，６−
トリフルオロピリミジンを滴下し、この混合物を２０分間撹拌する。次いで減圧
下において溶媒を蒸溜して除去し、残渣を水と混合し、生成物を酢酸エチルを用
いて抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、溶媒を減圧下において蒸溜し
て除去する。これによって５．７ｇ（理論値の６１．４％）の粗製Ｎ−メチル−
２−［２−（５，６−ジフルオロピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２
−メトキシイミノアセトアミドを得た。これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝１
．９５のＮ−メチル−Ｅ−２−［２−（５，６−ジフルオロピリミジン−４−イ
ルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミドを４５．５％、またｌ
ｏｇ ｐ＝１．８７のＮ−メチル−Ｚ−２−［２−（５，６−ジフルオロピリミ
ジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミドを４６．
６％含んでいた。
【０１６６】 1Ｈ−ＮＭＲスペクトル（ＤＭＳＯ−ｄ6／ＴＭＳ）： Ｅ異性体：３．８１ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）；６．６７ｐｐｍ（１Ｈ，ｂ）； Ｚ異性体：３．８９ｐｐｍ（３Ｈ，ｓ）；６．４０ｐｐｍ（１Ｈ，ｂ）。
【０１６７】 工程段階１０ Ｎ−メチル−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフェノ キシピリミジン−４−イルオキシ）−フェニル］−２−メトキシイミノアセトア ミド（実施例ＸＩ−２ｇ）、化合物（ＸＩ−１、Ｅ異性体およびＸＩ−１、Ｚ異 性体） ２．５ｇ（０．０１７５モル）の２−メチル−３−クロロフェノールを２０ｍ
ｌのアセトニトリルに溶解する。４．５ｇ（０．０３２６モル）の炭酸カリウム
を加え、この混合物を室温において３０分間撹拌する。次いでこの混合物を０℃
に冷却し、アセトニトリルに溶解した５．７ｇ（０．０１６３モル）のＮ−メチ
ル−２−［２−（５，６−ジフルオロピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］
−２−メトキシイミノアセトアミド（工程段階９から得られた化合物ＸＩＩＩ−
１ｇ、ＨＰＬＣによる含量Ｅ異性体４５．５％、Ｚ異性体４６．６％）を滴下す
る。この混合物を１２時間撹拌し、この間温度が室温まで上昇するにまかせる。
固体分を濾過し、減圧下において溶媒を濃縮し、残渣を水と混合して酢酸エチル
で抽出する。減圧下において溶媒を蒸溜して除去する。これによって２．９ｇの
生成物を得た。これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝３．５１のＮ−メチル−Ｅ
−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフェノキシピリミジ
ン−４−イルオキシ）−フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−
１、Ｅ−異性体）５７．８％、およびｌｏｇ ｐ＝３．４４のＮ−メチル−Ｚ−
２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフェノキシピリミジン
−４−イルオキシ）−フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−１
、Ｚ−異性体）３０％を含んでいた。
【０１６８】 工程部分（２Ｆ）（工程１および工程段階１１） 工程段階１１ １．Ｎ−メチル−２−［２−（５−フルオロ−２’−クロロフェノキシピリミ ジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（実施例 ＸＩ−１ｃ、特に工程部分（１Ｂ）により得られた化合物（Ｉ−１ｃ）の使用） 、化合物（ＸＩ−２，Ｅ異性体およびＸＩ−２、Ｚ異性体） 工程（１Ｂ）で得られた粗製Ｎ−メチル−Ｅ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェ
ニル）−２−メトキシイミノアセトアミド混合物（Ｉ−１ｃ）（ＨＰＬＣによる
含量、ｌｏｇ ｐ＝０．９８のＥ異性体５２．６％、ｌｏｇ ｐ＝１．２３のＺ
異性体３１．９％）８．３６ｇ（０．０３３９モル）を５０ｍｌのアセトニトリ
ルに溶解し、６．７ｇ（０．０４８モル）の炭酸カリウムを添加した後、この混
合物を室温で１時間撹拌する。８ｇ（０．０３３モル）の４−（２’−クロロフ
ェノキシ）−５，６−ジフルオロピリミジンを反応混合物に加え、この混合物を
１６時間撹拌する。さらに１．８ｇ（０．００７４モル）の４−（２’−クロロ
フェノキシ）−５，６−ジフルオロピリミジンを滴下し、次いでこの混合物を３
時間加熱還流させる。塩を濾過した後、減圧下で溶媒を蒸溜して除去し、残渣を
酢酸エチルと炭酸ナトリウム水溶液との間に分割する。硫酸ナトリウム上で有機
相を乾燥し、減圧下で溶媒を蒸溜して除去する。これによって１５．３ｇの粗製
物が得られ、これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝２．９５のＮ−メチル−Ｚ−
２−［２−（５−フルオロ−２’−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキ
シ）−フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−２、Ｚ異性体）２
１％、ｌｏｇ ｐ＝３．０１のＮ−メチル−Ｅ−２−［２−（５−フルオロ−２
’−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）−フェニル］−２−メトキ
シイミノアセトアミド（ＸＩ−２、Ｅ異性体）５４．６％を含んでいた。
【０１６９】 ２．Ｎ−メチル−２−［２−（５−フルオロ−２’−クロロフェノキシピリミ ジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド、（実施 例ＸＩ−１ｃ、特に工程（部分１Ｄ）により得られた化合物（Ｉ−１ｅ）を使用 したもの）、化合物（ＸＩ−２、Ｅ異性体およびＸＩ−２、Ｚ異性体） 工程（１Ｄ）から得られた粗製のＮ−メチル−Ｅ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシ
フェニル）−２−メトキシイミノアセトアミド混合物（特に実施例Ｉ−１ｅ、Ｈ
ＰＬＣ：ｌｏｇ ｐ＝１．４８のＥ異性体５６％、ｌｏｇ ｐ＝２．３８のＺ異
性体２７．４％のもの）４．３ｇ（０．０１８５モル）を１００ｍｌのアセトニ
トリルに溶解し、３．１ｇ（０．０２２モル）の炭酸カリウムを加えた後、室温
で３０分間撹拌する。５ｇ（０．０２１モル）の４−（２’−クロロフェノキシ
）−５，６−ジフルオロピリミジンを反応混合物に滴下し、この混合物を室温で
１２時間撹拌する。次いでこの混合物を３時間沸騰させて還流させる。この混合
物を水に注ぎ、１００ｍｌのジエチルエーテルを用いて３回抽出し、有機相を乾
燥し、減圧下で溶媒を蒸溜して除去する。これによって７．８ｇの粗製物が得ら
れ、これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝２．９５のＮ−メチル−Ｚ−２−［２
−（５−フルオロ−２’−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェ
ニル］−２−メトキシイミノアセトアミド４３．９％、およびｌｏｇ ｐ＝３．
０１のＮ−メチル−Ｅ−２−［２−（５−フルオロ−２’−クロロフェノキシピ
リミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド３８
．２％を含んでいた。
【０１７０】 粗製Ｎ−メチル−２−［２−（５−フルオロ−２’−クロロフェノキシピリミ
ジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−
２、Ｚ−およびＥ−異性体）７．８ｇをジエチルエーテル５０ｍｌに溶解する。
冷却しながらこの溶液を塩化水素で飽和させ、この反応混合物を室温で２日間放
置する。溶媒を減圧下で蒸溜して除去し、残渣を酢酸エチル中に採り、この混合
物を水で洗滌する。有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、減圧下で溶媒を蒸溜し
て除去する。残渣をジエチルエーテルで処理し、濾過して５ｇの結晶を得た。こ
れはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝３．０１のＮ−メチル−Ｅ−２−［２−（５
−フルオロ−２’−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］
−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−２、Ｅ異性体）９７．２８％、およ
びｌｏｇ ｐ＝２．９５のＮ−メチル−Ｚ−２−［２−（５−フルオロ−２’−
クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミ
ノアセトアミド（ＸＩ−２、Ｅ異性体）２．９４％を含んでいた。
【０１７１】 ３．Ｎ−メチル−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフ ェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセト アミド、（実施例ＸＩ−２ｆ、工程部分（１Ｄ）により得られた化合物（Ｉ−１ ｆ）を使用したもの）、（一工程合成）化合物（ＸＩ−１、Ｅ異性体およびＸＩ −１、Ｚ異性体） 粗製のＮ−メチル−Ｅ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシ
イミノアセトアミド混合物（特に実施例Ｉ−１ｆ、ＨＰＬＣ：ｌｏｇ ｐ＝０．
９８のＥ異性体３７．９％、ｌｏｇ ｐ＝１．２９のＺ異性体４４％のもの）６
ｇ（０．０２３６モル）を１００ｍｌのアセトニトリルに溶解し、３．５ｇ（０
．０２５モル）の炭酸カリウムを加えた後、室温で３０分間撹拌する。６ｇ（０
．０２３４モル）の４−（２’−メチル−３’−クロロフェノキシ）−５，６−
ジフルオロピリミジンを反応混合物に滴下し、この混合物を室温で１２時間撹拌
する。次いでこの混合物を３時間沸騰させて還流させる。この混合物を水に注ぎ
、１００ｍｌの酢酸エチルを用いて３回抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾
燥する。有機相を塩化水素で飽和させ、溶液を２４時間室温で放置する。次いで
減圧下で溶媒を蒸溜して除去し、残渣を酢酸エチル中に採り、減圧下で溶媒を蒸
溜して除去する。これによって８．４ｇの生成物が得られる。これはＨＰＬＣに
よればｌｏｇ ｐ＝３．４３のＮ−メチル−Ｚ−２−［２−（５−フルオロ−２
’−メチル−３’−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］
−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−１、Ｚ異性体）９．４％、およびｌ
ｏｇ ｐ＝３．５０のＮ−メチル−Ｅ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチ
ル−３’−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メ
トキシイミノアセトアミド（ＸＩ−１、Ｅ異性体）６３．８％を含んでいた。
【０１７２】 この生成物をジエチルエーテル中ですり潰し、濾過する。これによって４ｇの
結晶が得られた。これはＨＰＬＣによればｌｏｇ ｐ＝３．５０のＮ−メチル−
Ｅ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフェノキシピリミ
ジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−
１、Ｅ異性体）９０．５％、およびｌｏｇ ｐ＝３．４３のＮ−メチル−Ｚ−２
−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフェノキシピリミジン−
４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−１、Ｚ
異性体）４．６％を含んでいた。母液を減圧下で濃縮し、ｌｏｇ ｐ＝３．５０
のＥ生成物（ＸＩ−１、Ｅ異性体）３０．２％、ｌｏｇ ｐ＝３．４３のＺ生成
物（ＸＩ−１、Ｚ異性体）１３％を含む混合物３．９ｇを得た。
【０１７３】 ４．Ｎ−メチル−２−［２−（５−フルオロ−２’−クロロフェノキシピリミ ジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド、（実施 例ＸＩ−１ｆ、工程部分（１Ｄ）により得られた化合物（Ｉ−１ｆ）を使用した もの）（一工程合成）、化合物（ＸＩ−２、Ｅ異性体およびＸＩ−２、Ｚ異性体 ） Ｎ−メチル−Ｅ／Ｚ−２−（２−ヒドロキシフェニル）−２−メトキシイミノ
アセトアミド混合物（特に実施例Ｉ−１ｆ、ＨＰＬＣ：ｌｏｇ ｐ＝０．９８の
Ｅ異性体３７．９％、ｌｏｇ ｐ＝１．２９のＺ異性体４４％のもの）５ｇ（０
．０１９７モル）を１００ｍｌのアセトニトリルに溶解し、３．６５ｇ（０．０
２６４モル）の炭酸カリウムを加えた後、室温で３０分間撹拌する。５．８７ｇ
（０．０２４２モル）の４−（２’−クロロフェノキシ）−５，６−ジフルオロ
ピリミジンを反応混合物に滴下し、この混合物を室温で１２時間撹拌する。次い
でこの混合物を３時間加熱還流させる。この混合物を水に注ぎ、１００ｍｌのジ
エチルエーテル用いて３回抽出し、有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥し、塩化水
素で飽和させ、溶液を２４時間室温で放置する。次いでこの混合物を水に注ぎ、
有機相を硫酸ナトリウム上で乾燥する。残渣をジエチルエーテル中ですり潰し、
濾過する。これによって４．９ｇの結晶が得られる。これはＨＰＬＣによればｌ
ｏｇ ｐ＝３．０１のＮ−メチル−Ｅ−２−［２−（５−フルオロ−２’−クロ
ロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノア
セトアミド（ＸＩ−２、Ｅ異性体）９７．６％、およびｌｏｇ ｐ＝２．９４の
Ｎ−メチル−Ｚ−２−［２−（５−フルオロ−２’−クロロフェノキシピリミジ
ン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−２
、Ｚ異性体）０．７４％を含んでいた。母液を減圧下で濃縮し、ｌｏｇ ｐ＝３
．０１のＥ生成物（ＸＩ−２、Ｅ異性体）１０．９％、ｌｏｇ ｐ＝２．９４の
Ｚ生成物（ＸＩ−２、Ｚ異性体）１７．２％を含む混合物２．６ｇを得た。
【０１７４】 ＩＩＩ．一般式（ＸＩ）の化合物の異性化の他の例 １．Ｎ−メチル−Ｅ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロ ロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノア セトアミド（ＸＩ−１、Ｅ異性体）
【０１７５】
【化４１】
【０１７６】 Ｎ−メチル−Ｚ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフ ェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセト アミド（ＸＩ−１、Ｚ異性体）のＮ−メチル−Ｅ−２−［２−（５−フルオロ− ２’−メチル−３’−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル ］−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−１、Ｅ異性体）への異性化 トルエン（１０ｍｌ）に室温において塩化水素ガスを飽和させ、次いでＮ−メ
チル−Ｚ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフェノキシ
ピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセトアミド（
ＸＩ−１、Ｚ異性体）（０．５ｇ、（Ｚ＋Ｅ）含量９９．３％、Ｚ／Ｅ＝９９／
１）を用いて処理する。この混合物を室温において２４時間撹拌し、溶媒を蒸溜
して除去し、Ｎ−メチル−Ｅ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’
−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイ
ミノアセトアミド（ＸＩ−１、Ｅ異性体）（０．５ｇ、（Ｚ＋Ｅ）含量９８．３
％、ＨＰＬＣによるＥ／Ｚ＝９８／２）を得た。
【０１７７】 ２．Ｎ−メチル−Ｅ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロ ロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノア セトアミド（ＸＩ−１、Ｅ異性体）
【０１７８】
【化４２】
【０１７９】 Ｎ−メチル−Ｚ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフ ェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセト アミド（ＸＩ−１、Ｚ異性体）のＮ−メチル−Ｅ−２−［２−（５−フルオロ− ２’−メチル−３’−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル ］−２−メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−１、Ｅ異性体）への異性化 Ｎ−メチル−Ｚ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メチル−３’−クロロフ
ェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−メトキシイミノアセト
アミド（０．５ｇ、（Ｚ＋Ｅ）含量９９．３％、Ｚ／Ｅ＝９９／１）（ＸＩ−１
、Ｚ異性体）を酢酸エチル（９．５ｇ）に懸濁させ、濃硫酸（０．５ｇ）で処理
する。この混合物を室温において２０時間撹拌し、減圧下で溶媒を蒸溜して除去
し、残渣を塩化メチレン／水の中に採り、有機相を分離し、硫酸ナトリウム上で
乾燥する。溶媒蒸溜後、Ｎ−メチル−Ｚ−２−［２−（５−フルオロ−２’−メ
チル−３’−クロロフェノキシピリミジン−４−イルオキシ）フェニル］−２−
メトキシイミノアセトアミド（ＸＩ−１、Ｅ異性体）（０．５ｇ、（Ｚ＋Ｅ）含
量９８．４％、ＨＰＬＣによるＥ／Ｚ＝９６／４）を得た。
【０１８０】 すべての実施例に対しｌｏｇ ｐ値の決定はＨＰＬＣによりＥＥｃ−Ｄｉｒｅ
ｋｔｉｖｅ ７９／８３１ Ａｎｎｅｘ Ｖ．Ａ８に従って行なった（勾配法、
アセトニトリル／０．１％燐酸水溶液）。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (81)指定国 ＥＰ(ＡＴ，ＢＥ，ＣＨ，ＣＹ， ＤＥ，ＤＫ，ＥＳ，ＦＩ，ＦＲ，ＧＢ，ＧＲ，ＩＥ，Ｉ Ｔ，ＬＵ，ＭＣ，ＮＬ，ＰＴ，ＳＥ)，ＯＡ(ＢＦ，ＢＪ ，ＣＦ，ＣＧ，ＣＩ，ＣＭ，ＧＡ，ＧＮ，ＧＷ，ＭＬ， ＭＲ，ＮＥ，ＳＮ，ＴＤ，ＴＧ)，ＡＰ(ＧＨ，ＧＭ，Ｋ Ｅ，ＬＳ，ＭＷ，ＳＤ，ＳＬ，ＳＺ，ＴＺ，ＵＧ，ＺＷ )，ＥＡ(ＡＭ，ＡＺ，ＢＹ，ＫＧ，ＫＺ，ＭＤ，ＲＵ， ＴＪ，ＴＭ)，ＡＥ，ＡＧ，ＡＬ，ＡＭ，ＡＴ，ＡＵ， ＡＺ，ＢＡ，ＢＢ，ＢＧ，ＢＲ，ＢＹ，ＣＡ，ＣＨ，Ｃ Ｎ，ＣＲ，ＣＵ，ＣＺ，ＤＥ，ＤＫ，ＤＭ，ＤＺ，ＥＥ ，ＥＳ，ＦＩ，ＧＢ，ＧＤ，ＧＥ，ＧＨ，ＧＭ，ＨＲ， ＨＵ，ＩＤ，ＩＬ，ＩＮ，ＩＳ，ＪＰ，ＫＥ，ＫＧ，Ｋ Ｐ，ＫＲ，ＫＺ，ＬＣ，ＬＫ，ＬＲ，ＬＳ，ＬＴ，ＬＵ ，ＬＶ，ＭＡ，ＭＤ，ＭＧ，ＭＫ，ＭＮ，ＭＷ，ＭＸ， ＮＯ，ＮＺ，ＰＬ，ＰＴ，ＲＯ，ＲＵ，ＳＤ，ＳＥ，Ｓ Ｇ，ＳＩ，ＳＫ，ＳＬ，ＴＪ，ＴＭ，ＴＲ，ＴＴ，ＴＺ ，ＵＡ，ＵＧ，ＵＳ，ＵＺ，ＶＮ，ＹＵ，ＺＡ，ＺＷ (72)発明者 ゲルデス，ペーター ドイツ・デー−52080アーヘン・バルトシ ユトラーセ75 (72)発明者 ハイネマン，ウルリヒ ドイツ・デー−42799ライヒリンゲン・ア ムゾネンハング１ (72)発明者 ヘプシユ，バルター ドイツ・デー−42113ブツペルタール・ビ ルトシユタイク22 (72)発明者 クリユガー，ベルント−ビーラント ドイツ・デー−51467ベルギツシユグラー トバツハ・アムフオレント52 (72)発明者 マウラー，フリツツ ドイツ・デー−40789モンハイム・ブラー ムスシユトラーセ36 (72)発明者 バイントリツト，ホルガー ドイツ・デー−40764ランゲンフエルト・ ロウビシエネシユトラーセ91 Ｆターム(参考） 4H006 AA01 AA02 AB84 AC42 AC48 AC59 BA92 BB14 BD20 BD70 BE90 BW19 BW30 BW31

Claims (15)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項１】 式（Ｉ） 【化１】 但し式中 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は同一または相異なり、互いに独立にそれぞれ水
    素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれの場合随時ハロゲンで置換されたアル
    キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニルまたはアルキルスルフ
    ォニルを表し、 Ｒ5は置換基をもちまたはもたないアルキルを表し、 Ｒ6は水素、置換基をもちまたはもたないアルキルを表すものとする、 の化合物の製造法において、 （Ａ）工程段階（２）に従い式（ＩＶ） 【化２】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上記定義の通りである、 の化合物を、酸または酸性イオン交換剤の存在下において、式（Ｖ） Ｒ7−ＯＨ （Ｖ） 但し式中Ｒ7は置換基をもちまたはもたないアルキルを表す、 のアルコールと、またオキシムを生じる反応において除去される塩化ヒドロキシ
    ルアンモニウムと結合するカルボニル化合物と反応させて式（ＶＩ） 【化３】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ7は上記定義の通りである、 の化合物をつくり、得られた化合物（ＶＩ）を （ａ）工程段階（３）に従い、随時希釈剤を存在させ、さらにまた随時酸また
    は酸受容体を存在させてヒドロキシルアンモニウム塩と反応させ、式（ＶＩＩ） 【化４】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ7は上記定義の通りである、 の化合物ををつくり、得られた化合物（ＶＩＩ）を工程段階（４）に従って式（
    ＶＩＩＩ） Ｒ5−Ｘ （ＶＩＩＩ） 但し式中Ｒ5は上記定義のとおりであり、 Ｘはハロゲンまたは−Ｏ−ＳＯ2−Ｏ−Ｒ5を表し、ここにＲ5は上記定義
    のとおりである、 のアルキル化剤と、随時希釈剤を存在させ、また随時塩基を存在させて反応させ
    るか、または （ｂ）工程段階（５）に従って式（ＩＸ） Ｒ5−Ｏ−ＮＨ2 （ＩＸ） 但し式中Ｒ5は上記定義のとおりである、 のアルコキシアミンまたはその酸付加錯体と、随時希釈剤を存在させ、また随時
    酸または酸受容体を存在させて反応させるか、 或いは （Ｂ）工程段階（６）に従って、式（ＩＶ） 【化５】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上記定義の通りである、 の化合物を、式（ＩＸ） Ｒ5−Ｏ−ＮＨ2 （ＩＸ） 但し式中Ｒ5は上記定義のとおりである、 のアルコキシアミンまたはその酸付加錯体と、随時希釈剤を存在させ、また随時
    酸を存在させて反応させるか、 或いは （Ｃ）工程段階（７）に従って、式（ＩＶ） 【化６】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上記定義の通りである、 の化合物を、酸または酸性イオン交換剤の存在下において、式（Ｖ） Ｒ7−ＯＨ （Ｖ） 但し式中Ｒ7は上記定義の通りである、 のアルコールと、随時ヒドロキシルアンモニウム塩を加えて反応させ、得られた
    化合物（ＶＩＩ） 【化７】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ7は上記定義の通りである、 を工程（４）に従って反応させるか、 或いは （Ｄ）工程段階（８）に従って、式（Ｘ） 【化８】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は上記定義の通りである、 を、酸または酸性イオン交換剤の存在下において、式（Ｖ） Ｒ7−ＯＨ （Ｖ） 但し式中Ｒ7は上記定義の通りである、 のアルコールと、随時オキシムを生じる反応において除去される塩化ヒドロキシ
    ルアンモニウムと結合するカルボニル化合物の存在下において反応させ； （Ａ）〜（Ｄ）で得られた化合物（ＩＩ） 【化９】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ5は上記定義の通りであり、 Ｒ7は置換基をもちまたはもたないアルキルである、 を、随時式（ＩＩ）の化合物を中間的に分離することなく（一工程反応）、随時
    希釈剤を存在させて式（ＩＩＩ） Ｒ6−ＮＨ2 （ＩＩＩ） 但し式中Ｒ6は上記定義の通りである、 のアルキルアミンと工程段階（１）に従って反応させることを特徴とする方法。
  2. 【請求項２】 式（Ｉ） 【化１０】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ6は請求項１の定義の通りであ
    る、 の化合物の中間体としての使用。
  3. 【請求項３】 式（ＸＩ） 【化１１】 但し式中 Ｚは置換基をもちまたはもたないシクロアルキル、アリールまたは複素環
    式の基であり、 Ｑは酸素または硫黄を表し、 Ｙはハロゲンを表し、 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は同一または相異なり、互いに独立にそれぞれ水
    素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれの場合随時ハロゲンで置換されたアル
    キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニルまたはアルキルスルフ
    ォニルを表し、 Ｒ5は置換基をもちまたはもたないアルキルを表し、 Ｒ7は水素、置換基をもちまたはもたないアルキルを表すものとする、 の化合物の製造法において、 請求項１記載の方法で製造された式（Ｉ）の化合物を、 （Ｅ）工程段階（９）に従って、式（ＸＩＩ） 【化１２】 但し式中 Ｔ1およびＴ2は同一または相異なり、ハロゲンを表し、 Ｙは上記定義の通りである、 のピリミジン誘導体と、随時希釈剤を存在させ、また随時塩基を存在させて反応
    させ、得られた式（ＸＩＩＩ）の化合物 【化１３】 但し式中Ｔ2、Ｙ、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4、Ｒ5およびＲ7は上記定義の通り
    である、 を工程段階（１０）に従って一般式（ＸＩＶ） Ｚ−Ｑ−Ｈ （ＸＩＶ） 但し式中ＺおよびＱは上記定義の通りである、 の環式化合物と、随時希釈剤を存在させ、また随時酸受容体を存在させ、さらに
    また随時触媒を存在させて反応させるか、 或いは （Ｆ）工程段階（１１）に従って、式（ＸＶ）の化合物 【化１４】 但し式中Ｚ、Ｑ、Ｔ1およびＹは上記定義の通りである、 と、随時希釈剤を存在させ、また随時塩基を存在させて反応させることを特徴と
    する方法。
  4. 【請求項４】 式（ＶＩＩ−ａ） 【化１５】 以外の式（ＶＩＩ） 【化１６】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4およびＲ7は上記定義の通りである、 の化合物。
  5. 【請求項５】 請求項１に定義した式（Ｉ）の化合物を製造するための中間
    体としての請求項４記載の化合物（ＶＩＩ）の使用。
  6. 【請求項６】 工程部分（１Ａｂ）（工程段階２、５および１）が一工程反
    応として行なわれることを特徴とする請求項１記載の方法。
  7. 【請求項７】 すべての工程段階に使用する希釈剤はメタノールであること
    を特徴とする請求項１記載の方法。
  8. 【請求項８】 使用するアルキル化剤は塩化メチルであることを特徴とする
    請求項１記載の方法。
  9. 【請求項９】 工程段階２は一工程反応として行なわれることを特徴とする
    請求項３記載の方法。
  10. 【請求項１０】 式（ＸＩ） 【化１７】 但し式中 Ｚは置換基をもちまたはもたないシクロアルキル、アリールまたは複素環
    式の基であり、 Ｑは酸素または硫黄を表し、 Ｙはハロゲンを表し、 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は同一または相異なり、互いに独立にそれぞれ水
    素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれの場合随時ハロゲンで置換されたアル
    キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニルまたはアルキルスルフ
    ォニルを表し、 Ｒ5は置換基をもちまたはもたないアルキルを表し、 Ｒ7は置換基をもちまたはもたないアルキルを表すものとする、 の化合物を異性化する方法において、 随時希釈剤を存在させ、式（ＸＩ）の化合物を酸と反応させることを特徴とす
    る方法。
  11. 【請求項１１】 異性化は工程部分２の後で行なわれることを特徴とする請
    求項１０記載の式（ＸＩ）の化合物を異性化する方法。
  12. 【請求項１２】 式（ＶＩ） 【化１８】 但し式中 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は同一または相異なり、互いに独立にそれぞれ水
    素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれの場合随時ハロゲンで置換されたアル
    キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニルまたはアルキルスルフ
    ォニルを表し、 Ｒ7は置換基をもちまたはもたないアルキルを表すものとする、 の製造法において、 式（ＩＶ） 【化１９】 但し式中Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は上記定義の通りである、 の化合物を、式（Ｖ） Ｒ7−ＯＨ （Ｖ） 但し式中Ｒ7は上記定義の通りである、 のアルコールと、またオキシムを生じる反応において除去される塩化ヒドロキシ
    ルアンモニウムと結合するカルボニル化合物と反応させることを特徴とする方法
    。
  13. 【請求項１３】 式（ＸＩ−１、Ｅ異性体） 【化２０】 の化合物。
  14. 【請求項１４】 式（ＸＩ−１、Ｚ異性体） 【化２１】 の化合物。
  15. 【請求項１５】 式（ＸＩＩＩ） 【化２２】 但し式中 Ｔ2はハロゲンを表し、 Ｙはハロゲンを表し、 Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3およびＲ4は同一または相異なり、互いに独立にそれぞれ水
    素、ハロゲン、シアノ、ニトロ、それぞれの場合随時ハロゲンで置換されたアル
    キル、アルコキシ、アルキルチオ、アルキルスルフィニルまたはアルキルスルフ
    ォニルを表し、 Ｒ5は置換基をもちまたはもたないアルキルを表し、 Ｒ7は置換基をもちまたはもたないアルキルを表すものとする、 の製造法において、随時希釈剤の存在下において式（ＸＩＩＩ）の化合物を酸と
    反応させることを特徴とする方法。
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DE10211428A1 (de) * 2002-03-15 2003-10-23 Bayer Ag Bekämpfung von Parasiten an Tieren durch Halogenpyrimidine

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Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US5185342A (en) * 1989-05-17 1993-02-09 Shionogi Seiyaku Kabushiki Kaisha Alkoxyiminoacetamide derivatives and their use as fungicides
GB2253624A (en) * 1991-01-30 1992-09-16 Ici Plc Pyrimidine fungicides
DE19525969A1 (de) * 1995-07-17 1997-01-23 Bayer Ag Etherderivate
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DE19706399A1 (de) * 1996-05-30 1997-12-04 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von 3-(Hydroxyphenyl-1-alkoximinomethyl)dioxazinen
DE19646407A1 (de) * 1996-11-11 1998-05-14 Bayer Ag Halogenpyrimidine
DE19706396A1 (de) * 1996-12-09 1998-06-10 Bayer Ag Verfahren zur Herstellung von 3-(l-Hydroxiphenyl-l-alkoximinomethyl)dioxazinen

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