JP2003330199A - 画像記録材料 - Google Patents

画像記録材料

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JP2003330199A JP2002137456A JP2002137456A JP2003330199A JP 2003330199 A JP2003330199 A JP 2003330199A JP 2002137456 A JP2002137456 A JP 2002137456A JP 2002137456 A JP2002137456 A JP 2002137456A JP 2003330199 A JP2003330199 A JP 2003330199A
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  • Photosensitive Polymer And Photoresist Processing (AREA)
  • Materials For Photolithography (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 現像時の残膜の発生が抑制され、コントラス
トに優れた画像の形成が可能で、且つ、支持体への熱拡
散を防止し、感度に優れたヒートモード対応ポジ型画像
記録材料を提供する。 【解決手段】 支持体上に、下記一般式(1)で表され
る官能基と、フェノール性水酸基と、を有する高分子化
合物を主成分とする下層と、アルカリ可溶性樹脂を含有
し、赤外線レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対す
る溶解性が増大する画像記録層と、を順次設けてなるこ
とを特徴とする。 −Y−Z 一般式(1) 式中、Yは−CO−、−SO2−、−COO−、−OC
O−、−SO2O−、−OSO2−、−NHCO−、−C
ONH−、−NHSO2−、−SO2NH−、−NHCS
−、−CSNH−、−CN、−N+3、−NO2より選
択される2価の連結基又は1価の末端基を表し、Zおよ
びRは、1価の末端基を表す。

Description

【発明の詳細な説明】 【0001】 【発明の属する技術分野】本発明は平版印刷版原版やカ
ラープルーフ、フォトレジスト及びカラーフィルターと
して使用できる画像記録材料に関し、特にコンピュータ
等のデジタル信号に基づいて赤外線レーザを走査するこ
とにより直接製版できる、いわゆるダイレクト製版可能
な平版印刷版原版に使用可能なヒートモード対応ポジ型
画像記録材料に関する。 【0002】 【従来の技術】近年におけるレーザの発展は目ざまし
く、特に近赤外から赤外に発光領域を持つ固体レーザ・
半導体レーザは高出力かつ小型の物が容易に入手できる
様になっている。コンピュータ等のディジタルデータか
ら直接製版する際の露光光源として、これらのレーザは
非常に有用である。 【0003】ポジ型画像記録層は、アルカリ水溶液可溶
性のバインダー樹脂と、該バインダー樹脂との相互作用
によりバインダー樹脂の溶解性を実質的に低下させる溶
解阻止剤とを含むものであるが、中でも、露光の際に赤
外線レーザを用いるポジ型画像記録層においては、上記
バインダー樹脂と、溶解阻止剤との他に、光を吸収し熱
を発生する赤外線吸収染料等の光熱変換剤を含有するこ
とが好ましい。これらの光熱変換剤の中でも、特にシア
ニン染料は、上記溶解阻止剤としての機能をも有するこ
とから、赤外線レーザ対応のポジ型画像記録層の光熱変
換剤として好適に用いられる。 【0004】しかしながら、このような赤外線レーザ用
ポジ型画像記録材料では、様々な使用条件における未露
光部(画像部)の現像液に対する耐溶解性と、露光部
(非画像部)の溶解性との間の差が未だ十分とは言え
ず、使用条件の変動による現像過剰や現像不良が起きや
すいという問題があった。 【0005】また、感材におけるレーザー照射表面では
画像形成反応に十分なエネルギーが得られるものの、熱
拡散、特に、支持体として汎用のアルミニウム支持体を
用いた場合、熱伝導性が良好なため支持体への熱拡散が
著しく、エネルギーが画像形成に充分に利用されず、低
感度であるという問題があった。 【0006】このような問題を解決するために、支持体
と画像記録層との間に、アルカリ可溶性に優れた下層を
設けるという方法がとられている。この方法によれば、
露光後の露光領域において、画像記録層が除去される
と、アルカリ可溶性に優れた下層が露出することにな
り、アルカリ現像液により、所望されない残膜などが速
やかに除去されるという効果や、該下層が、断熱層とし
て機能し、支持体への熱拡散が効果的に抑制されるとい
う効果を奏するものである。これらの2層構造を形成す
る方法としては、下層の成分を溶媒に溶解させ、支持体
上に塗布・乾燥し、その後、下層と同様にして画像記録
層の成分を溶媒に溶解し、塗布・乾燥するという方法が
とられているが、画像記録層を塗布する際に用いられる
溶媒が、既に塗布・乾燥済みの下層の成分をも溶かして
しまい、両層が相溶して明確な2層構造が得られず、期
待される効果が得られないという問題があった。 【0007】 【発明が解決しようとする課題】上記従来の技術の欠点
を考慮してなされた本発明の目的は、現像時の残膜の発
生が抑制され、コントラストに優れた画像の形成が可能
で、且つ、支持体への熱拡散を防止し、感度に優れたヒ
ートモード対応ポジ型画像記録材料を提供することにあ
る。 【0008】 【課題を解決するための手段】本発明者等は、鋭意検討
の結果、支持体上に、溶解度の異なる成分を有する下層
及び画像記録層を隣接して設けることで、上記目的が達
成されることを見出し、本発明を完成するに至った。即
ち、本発明の画像記録材料は、支持体上に、下記一般式
(1)で表される官能基と、フェノール性水酸基と、を
有する高分子化合物(以下、適宜、特定ポリマーと称す
る)を主成分とする下層と、アルカリ可溶性樹脂を含有
し、赤外線レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対す
る溶解性が増大する画像記録層と、を順次設けてなるこ
とを特徴とする。 −Y−Z 一般式(1) 式中、Yは−CO−、−SO2−、−COO−、−OC
O−、−SO2O−、−OSO2−、−NHCO−、−C
ONH−、−NHSO2−、−SO2NH−、−NHCS
−、−CSNH−、−CN、−N+3、−NO2より選
択される2価の連結基又は1価の末端基を表し、Zおよ
びRは、1価の末端基を表す(ただし、Yが1価の末端
基の場合、Zは存在しないものとする)。 【0009】本発明の画像記録材料は、支持体と画像記
録層との間に、上記特定ポリマーを主成分とする下層を
設けてなるものである。この特定ポリマーは、分子内に
上記一般式(1)で表される極性の高い官能基と、フェ
ノール性水酸基とを有しており、アルカリ現像液や高極
性の溶媒に対して高い溶解性を示すが、画像記録層を溶
解・塗布する際に用いられる溶媒の中でも、比較的極性
の低い溶媒には不溶となる。そのため、下層を塗布した
後に、画像記録層の塗布を行っても、下層が、溶解又は
画像記録層と相溶することなく、明確な2層構造を形成
することが可能であるものと考えられる。このような明
確な2層構造を形成することで、露光後の露光領域にお
いて、画像記録層が除去されると、アルカリ可溶性に優
れた下層が露出され、現像液によって速やかに除去され
るため、所望されない残膜の発生を抑制するものと思わ
れる。また、下層が、断熱層として機能し、支持体への
熱拡散が効果的に抑制され、感度が向上するという効果
をも奏する。さらに、上記特定ポリマーは、いわゆるフ
ェノール樹脂に代表されるフェノール性水酸基を有する
高分子化合物であるため、ポリマー自体が熱硬化性を有
するものであるとともに、ここに架橋剤を併用すること
によりさらに熱硬化性が向上する。したがって、本発明
の画像記録材料を平版印刷版等に用いた場合、画像形成
後に加熱処理を行うことで画像部が架橋され、著しく耐
刷性が向上するという利点を有する。 【0010】 【発明の実施の形態】本発明の画像記録材料は、支持体
上に、上記一般式(1)で表される官能基と、フェノー
ル性水酸基と、を有する高分子化合物(特定ポリマー)
を主成分とする下層と、アルカリ可溶性樹脂を含有し、
赤外線レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対する溶
解性が増大する画像記録層と、を順次設けてなることを
特徴とする。まず、本発明の画像記録材料の下層成分に
ついて説明する。 【0011】〔下層〕 [一般式(1)で表される官能基と、フェノール性水酸
基と、を有する高分子化合物]本発明に係る下層の主成
分である特定ポリマーは、分子内に、上記一般式(1)
で表される官能基を有するものである。以下に、上記一
般式(1)で表される官能基の中でも、特に好ましい例
を挙げる。 【0012】 【化1】 【0013】式中、R1〜R12およびR13〜R15は各々
独立に、水素原子、炭素数1〜8のアルキル基、炭素数
3〜8のシクロアルキル基、炭素数6〜12のアリール
基、炭素数1〜8のアルコキシ基、炭素数6〜12のア
リールオキシ基、炭素数7〜15のアラルキル基、アミ
ノ基、水酸基、ハロゲン原子を表す。また、上記アルキ
ル基、シクロアルキル基、アリール基、アルコキシ基、
アリールオキシ基、アラルキル基はそれぞれ置換基を有
していてもよく、そのような置換基としては、ハロゲン
原子、アルキル基、アリール基、水酸基、カルボキシル
基、シアノ基、ニトロ基等が挙げられる。ここで、R1
〜R12は一般式(1)の「−Y−Z」における末端基Z
と同様である。 【0014】本発明に係る、一般式(1)で表される官
能基は、下層と画像記録層との、塗設時の界面における
混合を抑制する観点から、いずれも高極性である必要が
ある。高極性を示す指標としては種々のパラメータが使
用できるが、例えば、推算により得られる溶解性パラメ
ータ(SP値)が好適に用いられる。溶解性パラメータ
の推算方法としては多数の理論が報告されているが、沖
津俊直により提案されている理論式(日本接着学会誌
Vol.29,No.6(1993)249〜259
頁)等を用いることができる。 【0015】一般式(1)で表される官能基(以下、適
宜、高極性基と称する)の好ましい溶解性パラメータと
しては、高極性基の周辺の化学構造やフェノール樹脂の
種類、分子量等により異なるため一概には言えないが、
SP値が22MPa1/2以上であることが好ましく、2
5MPa1/2以上であることがさらに好ましく、30M
Pa1/2以上であることが特に好ましい。以下に、SP
値が22MPa1/2以上の高極性基(−Y−Z)の具体
例を挙げるが、本発明はこれらに限定されるものではな
い。なお、カッコ内はSP値を表し、該SP値の推算は
結合部位が1箇所残った末端基の形で行うものとする。 【0016】 【化2】 【0017】これらの高極性基の中でも、下層と画像記
録層との相溶を抑制する観点や、原料の入手性、合成適
性の観点から、−CN、−SO2NH2、−NHSO2
r(Arはフェニル基またはトリル基を表す)が好まし
く、極性が極めて高く、且つ、アルカリ可溶性基として
も機能する−SO2NH2が特に好ましい。 【0018】これらの高極性基を有し、フェノール性水
酸基を有する高分子化合物(特定ポリマー)の具体的構
造としては、高極性基を有するノボラック樹脂、高極性
基を有するレゾール樹脂、高極性基を有するポリビニル
フェノール樹脂、高極性基及びフェノール性水酸基を有
するアクリル樹脂等が挙げられ、中でも熱硬化性の観点
から、高極性基を有するノボラック樹脂、高極性基を有
するレゾール樹脂、高極性基を有するポリビニルフェノ
ール樹脂が好ましく、安定性の点から高極性基を有する
ノボラック樹脂、高極性基を有するポリビニルフェノー
ル樹脂がより好ましく、原料入手性、汎用性の観点から
高極性基を有するノボラック樹脂が特に好ましい。この
ような特定ポリマーの好ましい分子量としては、800
〜200,000Mwが好ましく、1,000〜15
0,000Mwがさらに好ましく、1,500〜10
0,000Mwが最も好ましい。以下に、本発明に好適
に用いられる特定ポリマーの具体例と、その組成比とを
示すが、本発明は、これらに限定されるものではない
(カッコ内は、分子量を表す)。 【0019】 【化3】【0020】 【化4】【0021】 【化5】【0022】 【化6】【0023】 【化7】【0024】 【化8】【0025】これらの特定ポリマーは公知の有機合成方
法により合成することができる(特開平11−2692
29号公報、US6,352,811B1公報、特開2
000−62338公報に記載)。また、本発明の効果
を損なわない範囲で、これらの特定ポリマーを、2種以
上混合して用いることも可能である。 【0026】上記特定ポリマーの下層中の含有量として
は、固形分で、40〜100質量%が好ましく、50〜
90質量%がさらに好ましく、55〜80質量%が最も
好ましい。 【0027】〔その他の成分〕本発明に係る上記下層を
形成するにあたっては、必要に応じて、さらに種々の添
加剤を併用することができる。添加剤としては、例え
ば、光熱変換剤、熱分解性化合物、界面活性剤、着色染
料、上記特定ポリマー以外のアルカリ可溶性高分子化合
物に代表される各種皮膜形成性高分子化合物、環状酸無
水物類、フェノール類、有機酸類等が挙げられる。これ
らの詳細は、後述する画像記録層の添加剤として記載さ
れており、当該個所に記載の上記各添加剤は、下層にも
同様に用いることができる。これらのなかでも、特に、
光熱変換剤を添加した場合は、下層自体に画像形成性が
付与されるので、画像記録材料の画質を向上する観点か
ら添加することが好ましい。 【0028】本発明に係る下層は、上記下層成分を溶媒
に溶かして、後述するような適当な支持体上に塗布・乾
燥することにより形成することができる。ここで使用す
る溶媒としては、極性が高い非プロトン性の有機溶媒で
あれば特に制限はないが、上記下層成分に対する溶解性
の観点から、溶解度パラメータが、20.5MPa1/2
以上の非プロトン性の有機溶媒が好ましく、溶解度パラ
メータが21.0MPa1/2以上の非プロトン性の有機
溶媒がさらに好ましく、溶解度パラメータが21.4M
Pa1/2以上の非プロトン性の有機溶媒が最も好まし
い。また、下層を塗布する際に用いられる溶媒には、塗
布液の乾燥温度を制御し、溶媒の揮発性を向上させる目
的で、上記溶解度パラメータが20.5MPa1/2以上
の非プロトン性有機溶媒以外の溶媒を混合して用いるこ
とが好ましい。その場合、上記溶解度パラメータが2
0.5MPa1/2以上の非プロトン性有機溶媒が全溶媒
中の20質量%以上であることが好ましく、25質量%
以上であることがさらに好ましい。20質量%以下であ
ると、上記下層成分の溶解性が不十分となり、本発明の
効果が十分得られない。 【0029】このような、本発明に係る特定ポリマーを
溶解するのに好適な、前記溶解度パラメータが20.5
MPa1/2以上の非プロトン性有機溶媒の具体例として
は、N,N−ジメチルアセトアミド、N,N−ジメチル
ホルムアミド、N,N−ジメチルスルホキシド、γ−ブ
チロラクトン、γ−バレロラクトン、N−メチルピロリ
ドン、プロピレンカーボネート、エチレンカーボネート
等が挙げられ、中でも、N,N−ジメチルアセトアミ
ド、γ−ブチロラクトン、エチレンカーボネート等が特
に好ましく挙げられる。また、塗布液の乾燥温度を制御
する目的から、前記高極性溶媒と混合して用いることが
好ましい、溶解度パラメータが20.5MPa1/2以上
の非プロトン性有機溶媒以外の溶媒としては、シクロヘ
キサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケト
ン等のケトン類、メタノール、エタノール、イソプロパ
ノール、1−メトキシ−2−プロパノール、エチルセロ
ソルブ等のアルコール類、酢酸エチル、乳酸メチル、乳
酸エチル等のエステル類等が挙げられる。 【0030】塗布、乾燥後に得られる下層の塗布量(固
形分)としては、0.1〜5.0g/m2が好ましく、
0.2〜3.0g/m2がさらに好ましい。塗布する方
法としては、種々の方法を用いることができるが、例え
ば、バーコーター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カー
テン塗布、ディップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード
塗布、ロール塗布等を挙げることができる。以上のよう
にして形成した下層上に、後述する画像記録層を設ける
ことにより、本発明の画像記録材料が得られる。 【0031】〔画像記録層〕本発明の画像記録材料は、
支持体上に設けられた前述の下層上に、アルカリ可溶性
樹脂を含有し、赤外線レーザの露光によりアルカリ性水
溶液に対する溶解性が増大する画像記録層を設けてなる
ものであるが、このような画像記録層としては、(A)
アルカリ可溶性樹脂を含み、さらに好ましい態様として
は、画像記録に使用する光エネルギーを吸収し、熱を発
生させる(B)赤外線吸収剤を含有することを特徴とす
る。 【0032】[(A)アルカリ可溶性樹脂]本発明のポ
ジ型の画像記録層に使用できる(A)アルカリ可溶性樹
脂(以下、適宜、アルカリ可溶性樹脂と称する)として
は、高分子中の少なくとも主鎖または側鎖の一方にに酸
性基を含有する単独重合体、これらの共重合体またはこ
れらの混合物を包含する。中でも、下記(1)〜(6)
に挙げる酸性基を、高分子中の少なくとも主鎖または側
鎖の一方に有するものが、アルカリ性現像液に対する溶
解性の点、溶解抑制能発現の点で好ましい。 【0033】(1)フェノール基(−Ar−OH) (2)スルホンアミド基(−SO2NH−R) (3)置換スルホンアミド系酸基(以下、「活性イミド
基」という。) 〔−SO2NHCOR、−SO2NHSO2R、−CON
HSO2R〕 (4)カルボン酸基(−CO2H) (5)スルホン酸基(−SO3H) (6)リン酸基(−OPO32) 【0034】上記(1)〜(6)中、Arは置換基を有
していてもよい2価のアリール連結基を表し、Rは、置
換基を有していてもよい炭化水素基を表す。 【0035】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性樹脂の中でも、(1)フェノール
基、(2)スルホンアミド基および(3)活性イミド基
を有するアルカリ可溶性樹脂が好ましく、特に、(1)
フェノール基または(2)スルホンアミド基を有するア
ルカリ可溶性樹脂が、アルカリ性現像液に対する溶解
性、現像ラチチュード、膜強度を十分に確保する点から
最も好ましい。 【0036】上記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有するアルカリ可溶性樹脂としては、例えば、以下のも
のを挙げることができる。 (1)フェノール基を有するアルカリ可溶性樹脂として
は、例えば、フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、m−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、
p−クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合体、m−
/p−混合クレゾールとホルムアルデヒドとの縮重合
体、フェノールとクレゾール(m−、p−、またはm−
/p−混合のいずれでもよい)とホルムアルデヒドとの
縮重合体等のノボラック樹脂、およびピロガロールとア
セトンとの縮重合体を挙げることができる。さらに、フ
ェノール基を側鎖に有する化合物を共重合させた共重合
体を挙げることもできる。或いは、フェノール基を側鎖
に有する化合物を共重合させた共重合体を用いることも
できる。 【0037】フェノール基を有する化合物としては、フ
ェノール基を有するアクリルアミド、メタクリルアミ
ド、アクリル酸エステル、メタクリル酸エステル、また
はヒドロキシスチレン等が挙げられる。 【0038】(2)スルホンアミド基を有するアルカリ
可溶性樹脂としては、例えば、スルホンアミド基を有す
る化合物に由来する最小構成単位を主要構成成分として
構成される重合体を挙げることができる。上記のような
化合物としては、窒素原子に少なくとも一つの水素原子
が結合したスルホンアミド基と、重合可能な不飽和基
と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物が挙げられ
る。中でも、アクリロイル基、アリル基、またはビニロ
キシ基と、置換あるいはモノ置換アミノスルホニル基ま
たは置換スルホニルイミノ基と、を分子内に有する低分
子化合物が好ましく、例えば、下記一般式(i)〜一般
式(v)で表される化合物が挙げられる。 【0039】 【化9】【0040】〔式中、X1、X2は、それぞれ独立に−O
−または−NR7を表す。R1、R4は、それぞれ独立に
水素原子又は−CH3を表す。R2、R5、R9、R12、及
び、R 16は、それぞれ独立に置換基を有していてもよい
炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン基、
アリーレン基又はアラルキレン基を表す。R3、R7、及
び、R13は、それぞれ独立に水素原子、置換基を有して
いてもよい炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキ
ル基、アリール基又はアラルキル基を表す。また、
6、R17は、それぞれ独立に置換基を有していてもよ
い炭素数1〜12のアルキル基、シクロアルキル基、ア
リール基、アラルキル基を表す。R8、R10、R14は、
それぞれ独立に水素原子又は−CH3を表す。R11、R
15は、それぞれ独立に単結合又は置換基を有していても
よい炭素数1〜12のアルキレン基、シクロアルキレン
基、アリーレン基又はアラルキレン基を表す。Y1、Y2
は、それぞれ独立に単結合又はCOを表す。〕 【0041】一般式(i)〜一般式(v)で表される化
合物のうち、本発明のポジ型画像記録材料では、特に、
m−アミノスルホニルフェニルメタクリレート、N−
(p−アミノスルホニルフェニル)メタクリルアミド、
N−(p−アミノスルホニルフェニル)アクリルアミド
等を好適に使用することができる。 【0042】(3)活性イミド基を有するアルカリ可溶
性樹脂としては、例えば、活性イミド基を有する化合物
に由来する最小構成単位を主要構成成分として構成され
る重合体を挙げることができる。上記のような化合物と
しては、下記構造式で表される活性イミド基と、重合可
能な不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合
物を挙げることができる。 【0043】 【化10】 【0044】具体的には、N−(p−トルエンスルホニ
ル)メタクリルアミド、N−(p−トルエンスルホニ
ル)アクリルアミド等を好適に使用することができる。 【0045】(4)カルボン酸基を有するアルカリ可溶
性樹脂としては、例えば、カルボン酸基と、重合可能な
不飽和基と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に
由来する最小構成単位を主要構成成分とする重合体を挙
げることができる。 (5)スルホン酸基を有するアルカリ可溶性高分子とし
ては、例えば、スルホン酸基と、重合可能な不飽和基
と、を分子内にそれぞれ1以上有する化合物に由来する
最小構成単位を主要構成単位とする重合体を挙げること
ができる。 (6)リン酸基を有するアルカリ可溶性樹脂としては、
例えば、リン酸基と、重合可能な不飽和基と、を分子内
にそれぞれ1以上有する化合物に由来する最小構成単位
を主要構成成分とする重合体を挙げることができる。 【0046】ポジ型記録層に用いるアルカリ可溶性樹脂
を構成する、前記(1)〜(6)より選ばれる酸性基を
有する最小構成単位は、特に1種類のみである必要はな
く、同一の酸性基を有する最小構成単位を2種以上、ま
たは異なる酸性基を有する最小構成単位を2種以上共重
合させたものを用いることもできる。 【0047】前記共重合体は、共重合させる(1)〜
(6)より選ばれる酸性基を有する化合物が共重合体中
に10モル%以上含まれているものが好ましく、20モ
ル%以上含まれているものがより好ましい。10モル%
未満であると、現像ラチチュードを十分に向上させるこ
とができない傾向がある。 【0048】本発明では、化合物を共重合してアルカリ
可溶性樹脂を共重合体として用いる場合、共重合させる
化合物として、前記(1)〜(6)の酸性基を含まない
他の化合物を用いることもできる。(1)〜(6)の酸
性基を含まない他の化合物の例としては、下記(m1)
〜(m12)に挙げる化合物を例示することができる
が、これらに限定されるものではない。 (m1)2−ヒドロキシエチルアクリレート又は2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレート等の脂肪族水酸基を有す
るアクリル酸エステル類、及びメタクリル酸エステル
類。 (m2)アクリル酸メチル、アクリル酸エチル、アクリ
ル酸プロピル、アクリル酸ブチル、アクリル酸アミル、
アクリル酸ヘキシル、アクリル酸オクチル、アクリル酸
ベンジル、アクリル酸−2−クロロエチル、グリシジル
アクリレート、等のアルキルアクリレート。 (m3)メタクリル酸メチル、メタクリル酸エチル、メ
タクリル酸プロピル、メタクリル酸ブチル、メタクリル
酸アミル、メタクリル酸ヘキシル、メタクリル酸シクロ
ヘキシル、メタクリル酸ベンジル、メタクリル酸−2−
クロロエチル、グリシジルメタクリレート、等のアルキ
ルメタクリレート。 (m4)アクリルアミド、メタクリルアミド、N−メチ
ロールアクリルアミド、N−エチルアクリルアミド、N
−ヘキシルメタクリルアミド、N−シクロヘキシルアク
リルアミド、N−ヒドロキシエチルアクリルアミド、N
−フェニルアクリルアミド、N−ニトロフェニルアクリ
ルアミド、N−エチル−N−フェニルアクリルアミド等
のアクリルアミド若しくはメタクリルアミド。 【0049】(m5)エチルビニルエーテル、2−クロ
ロエチルビニルエーテル、ヒドロキシエチルビニルエー
テル、プロピルビニルエーテル、ブチルビニルエーテ
ル、オクチルビニルエーテル、フェニルビニルエーテル
等のビニルエーテル類。 (m6)ビニルアセテート、ビニルクロロアセテート、
ビニルブチレート、安息香酸ビニル等のビニルエステル
類。 (m7)スチレン、α−メチルスチレン、メチルスチレ
ン、クロロメチルスチレン等のスチレン類。 (m8)メチルビニルケトン、エチルビニルケトン、プ
ロピルビニルケトン、フェニルビニルケトン等のビニル
ケトン類。 (m9)エチレン、プロピレン、イソブチレン、ブタジ
エン、イソプレン等のオレフィン類。 (m10)N−ビニルピロリドン、アクリロニトリル、
メタクリロニトリル等。 (m11)マレイミド、N−アクリロイルアクリルアミ
ド、N−アセチルメタクリルアミド、N−プロピオニル
メタクリルアミド、N−(p−クロロベンゾイル)メタ
クリルアミド等の不飽和イミド。 (m12)アクリル酸、メタクリル酸、無水マレイン
酸、イタコン酸等の不飽和カルボン酸。 【0050】アルカリ可溶性樹脂としては、赤外線レー
ザー等による露光での画像形成性に優れる点で、フェノ
ール性水酸基を有することが好ましく、例えば、フェノ
ールホルムアルデヒド樹脂、m−クレゾールホルムアル
デヒド樹脂、p−クレゾールホルムアルデヒド樹脂、m
−/p−混合クレゾールホルムアルデヒド樹脂、フェノ
ール/クレゾール(m−,p−,又はm−/p−混合の
いずれでもよい)混合ホルムアルデヒド樹脂等のノボラ
ック樹脂やピロガロールアセトン樹脂が好ましく挙げら
れる。 【0051】また、フェノール性水酸基を有するアルカ
リ可溶性樹脂としては、更に、米国特許第4,123,
279号明細書に記載されているように、t−ブチルフ
ェノールホルムアルデヒド樹脂、オクチルフェノールホ
ルムアルデヒド樹脂のような、炭素数3〜8のアルキル
基を置換基として有するフェノールとホルムアルデヒド
との縮重合体が挙げられる。 【0052】アルカリ可溶性樹脂は、その重量平均分子
量が500以上であることが画像形成性の点で好まし
く、1,000〜700,000であることがより好ま
しい。また、その数平均分子量が500以上であること
が好ましく、750〜650,000であることがより
好ましい。分散度(重量平均分子量/数平均分子量)は
1.1〜10であることが好ましい。 【0053】また、これらのアルカリ可溶性樹脂は単独
で用いるのみならず、2種類以上を組み合わせて使用し
てもよい。組み合わせる場合には、米国特許第4123
279号明細書に記載されているような、t−ブチルフ
ェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体や、オクチル
フェノールとホルムアルデヒドとの縮重合体のような、
炭素数3〜8のアルキル基を置換基として有するフェノ
ールとホルムアルデヒドとの縮重合体、本発明者らが先
に提出した特開2000−241972号公報に記載の
芳香環上に電子吸引性基を有するフェノール構造を有す
るアルカリ可溶性樹脂などを併用してもよい。 【0054】本発明におけるアルカリ可溶性樹脂は、そ
の合計の含有量が、記録層全固形分中、30〜98重量
%が好ましく、40〜95重量%がより好ましい。含有
量が30重量%未満である場合には、耐久性が悪化する
傾向にあり、また、98重量%を超える場合には、感
度、画像形成性が低下する傾向があるため好ましくな
い。 【0055】[(B)赤外線吸収剤]本発明に用いられ
る赤外線吸収剤としては、記録に使用する光エネルギー
照射線を吸収し、熱を発生する物質であれば特に吸収波
長域の制限はなく用いることができるが、入手容易な高
出力レーザーへの適合性の観点から波長760nmから
1200nmに吸収極大を有する赤外線吸収性染料又は
顔料が好ましく挙げられる。 【0056】染料としては、市販の染料及び例えば「染
料便覧」(有機合成化学協会編集、昭和45年刊)等の
文献に記載されている公知のものが利用できる。具体的
には、アゾ染料、金属錯塩アゾ染料、ピラゾロンアゾ染
料、ナフトキノン染料、アントラキノン染料、フタロシ
アニン染料、カルボニウム染料、キノンイミン染料、メ
チン染料、シアニン染料、スクアリリウム色素、ピリリ
ウム塩、金属チオレート錯体、オキソノール染料、ジイ
モニウム染料、アミニウム染料、クロコニウム染料等の
染料が挙げられる。 【0057】好ましい染料としては、例えば、特開昭5
8−125246号、特開昭59−84356号、特開
昭59−202829号、特開昭60−78787号等
に記載されているシアニン染料、特開昭58−1736
96号、特開昭58−181690号、特開昭58−1
94595号等に記載されているメチン染料、特開昭5
8−112793号、特開昭58−224793号、特
開昭59−48187号、特開昭59−73996号、
特開昭60−52940号、特開昭60−63744号
等に記載されているナフトキノン染料、特開昭58−1
12792号等に記載されているスクアリリウム色素、
英国特許434,875号記載のシアニン染料等を挙げ
ることができる。 【0058】また、米国特許第5,156,938号記
載の近赤外吸収増感剤も好適に用いられ、また、米国特
許第3,881,924号記載の置換されたアリールベ
ンゾ(チオ)ピリリウム塩、特開昭57−142645
号(米国特許第4,327,169号)記載のトリメチ
ンチアピリリウム塩、特開昭58−181051号、同
58−220143号、同59−41363号、同59
−84248号、同59−84249号、同59−14
6063号、同59−146061号に記載されている
ピリリウム系化合物、特開昭59−216146号記載
のシアニン色素、米国特許第4,283,475号に記
載のペンタメチンチオピリリウム塩等や特公平5−13
514号、同5−19702号に開示されているピリリ
ウム化合物も好ましく用いられる。 【0059】また、染料として好ましい別の例として米
国特許第4,756,993号明細書中に式(I)、
(II)として記載されている近赤外吸収染料を挙げるこ
とができる。 【0060】これらの染料のうち特に好ましいものとし
ては、シアニン色素、フタロシアニン染料、オキソノー
ル染料、スクアリリウム色素、ピリリウム塩、チオピリ
リウム染料、ニッケルチオレート錯体が挙げられる。さ
らに、下記一般式(a)〜一般式(e)で示される染料
が光熱変換効率に優れるため好ましく、特に下記一般式
(a)で示されるシアニン色素は、本発明における画像
記録層中で使用した場合に、アルカリ可溶性樹脂との高
い相互作用を与え、且つ、安定性、経済性に優れるため
最も好ましい。 【0061】 【化11】 【0062】一般式(a)中、X1は、水素原子、ハロ
ゲン原子、−NPh2、X2−L1又は以下に示す基を表
す。ここで、X2は酸素原子又は、硫黄原子を示し、L1
は、炭素原子数1〜12の炭化水素基、ヘテロ原子を有
する芳香族環、ヘテロ原子を含む炭素原子数1〜12の
炭化水素基を示す。なお、ここでヘテロ原子とは、N、
S、O、ハロゲン原子、Seを示す。 【0063】 【化12】 【0064】R1及びR2は、それぞれ独立に、炭素原子
数1〜12の炭化水素基を示す。画像記録層塗布液の保
存安定性から、R1及びR2は、炭素原子数2個以上の炭
化水素基であることが好ましく、さらに、R1とR2とは
互いに結合し、5員環又は6員環を形成していることが
特に好ましい。 【0065】Ar1、Ar2は、それぞれ同じでも異なっ
ていても良く、置換基を有していても良い芳香族炭化水
素基を示す。好ましい芳香族炭化水素基としては、ベン
ゼン環及びナフタレン環が挙げられる。また、好ましい
置換基としては、炭素原子数12個以下の炭化水素基、
ハロゲン原子、炭素原子数12個以下のアルコキシ基が
挙げられる。Y1、Y2は、それぞれ同じでも異なってい
ても良く、硫黄原子又は炭素原子数12個以下のジアル
キルメチレン基を示す。R3、R4は、それぞれ同じでも
異なっていても良く、置換基を有していても良い炭素原
子数20個以下の炭化水素基を示す。好ましい置換基と
しては、炭素原子数12個以下のアルコキシ基、カルボ
キシル基、スルホ基が挙げられる。R5、R6、R7及び
8は、それぞれ同じでも異なっていても良く、水素原
子又は炭素原子数12個以下の炭化水素基を示す。原料
の入手性から、好ましくは水素原子である。また、Za
-は、対アニオンを示す。ただし、R1〜R8のいずれか
にスルホ基が置換されている場合は、Za-は必要な
い。好ましいZa-は、画像記録層塗布液の保存安定性
から、ハロゲンイオン、過塩素酸イオン、テトラフルオ
ロボレートイオン、ヘキサフルオロホスフェートイオ
ン、及びスルホン酸イオンであり、特に好ましくは、過
塩素酸イオン、ヘキサフルオロフォスフェートイオン、
及びアリールスルホン酸イオンである。 【0066】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(a)で示されるシアニン色素の具体例として
は、以下に例示するものの他、特願平11−31062
3号明細書の段落番号[0017]〜[0019]、特
願2000−224031号明細書の段落番号[001
2]〜[0038]、特願2000−211147号明
細書の段落番号[0012]〜[0023]に記載され
たものを挙げることができる。 【0067】 【化13】【0068】 【化14】【0069】 【化15】 【0070】 【化16】【0071】前記一般式(b)中、Lは共役炭素原子数
7以上のメチン鎖を表し、該メチン鎖は置換基を有して
いてもよく、置換基が互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。Zb+は対カチオンを示す。好ましい対カ
チオンとしては、アンモニウム、ヨードニウム、スルホ
ニウム、ホスホニウム、ピリジニウム、アルカリ金属カ
チオン(Ni+、K+、Li+)などが挙げられる。R9
14及びR15〜R20は互いに独立に水素原子又はハロゲ
ン原子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニ
ル基、アルキニル基、カルボニル基、チオ基、スルホニ
ル基、スルフィニル基、オキシ基、又はアミノ基から選
択される置換基、或いは、これらを2つ若しくは3つ組
合せた置換基を表し、互いに結合して環構造を形成して
いてもよい。ここで、前記一般式(b)中、Lが共役炭
素原子数7のメチン鎖を表すもの、及び、R9〜R14
びR15〜R20がすべて水素原子を表すものが入手の容易
性と効果の観点から好ましい。 【0072】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(b)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0073】 【化17】 【0074】 【化18】 【0075】前記一般式(c)中、Y3及びY4は、それ
ぞれ、酸素原子、硫黄原子、セレン原子、又はテルル原
子を表す。Mは、共役炭素数5以上のメチン鎖を表す。
21〜R24及びR25〜R28は、それぞれ同じであっても
異なっていてもよく、水素原子、ハロゲン原子、シアノ
基、アルキル基、アリール基、アルケニル基、アルキニ
ル基、カルボニル基、チオ基、スルホニル基、スルフィ
ニル基、オキシ基、又はアミノ基を表す。また、式中Z
-は対アニオンを表し、前記一般式(a)におけるZ
-と同義である。 【0076】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(c)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0077】 【化19】【0078】 【化20】 【0079】前記一般式(d)中、R29ないしR31は各
々独立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基を示
す。R33及びR34は各々独立に、アルキル基、置換オキ
シ基、又はハロゲン原子を示す。n及びmは各々独立に
0ないし4の整数を示す。R 29とR30、又はR31とR32
はそれぞれ結合して環を形成してもよく、またR29及び
/又はR30はR33と、またR31及び/又はR32はR34
結合して環を形成しても良く、さらに、R33或いはR34
が複数存在する場合に、R33同士あるいはR34同士は互
いに結合して環を形成してもよい。X2及びX3は各々独
立に、水素原子、アルキル基、又はアリール基であり、
2及びX3の少なくとも一方は水素原子又はアルキル基
を示す。Qは置換基を有していてもよいトリメチン基又
はペンタメチン基であり、2価の有機基とともに環構造
を形成してもよい。Zc-は対アニオンを示し、前記一
般式(a)におけるZa-と同義である。 【0080】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(d)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0081】 【化21】 【0082】 【化22】 【0083】前記一般式(e)中、R35〜R50はそれぞ
れ独立に、置換基を有してもよい水素原子、ハロゲン原
子、シアノ基、アルキル基、アリール基、アルケニル
基、アルキニル基、水酸基、カルボニル基、チオ基、ス
ルホニル基、スルフィニル基、オキシ基、アミノ基、オ
ニウム塩構造を示す。Mは2つの水素原子若しくは金属
原子、ハロメタル基、オキシメタル基を示すが、そこに
含まれる金属原子としては、周期律表のIA、IIA、II
IB、IVB族原子、第一、第二、第三周期の遷移金属、
ランタノイド元素が挙げられ、中でも、銅、マグネシウ
ム、鉄、亜鉛、コバルト、アルミニウム、チタン、バナ
ジウムが好ましい。 【0084】本発明において、好適に用いることのでき
る一般式(e)で示される染料の具体例としては、以下
に例示するものを挙げることができる。 【0085】 【化23】 【0086】本発明において赤外線吸収剤として使用さ
れる顔料としては、市販の顔料及びカラーインデックス
(C.I.)便覧、「最新顔料便覧」(日本顔料技術協
会編、1977年刊)、「最新顔料応用技術」(CMC
出版、1986年刊)、「印刷インキ技術」CMC出
版、1984年刊)に記載されている顔料が挙げられ
る。 【0087】顔料の種類としては、黒色顔料、黄色顔
料、オレンジ色顔料、褐色顔料、赤色顔料、紫色顔料、
青色顔料、緑色顔料、蛍光顔料、金属粉顔料、その他、
ポリマー結合色素が挙げられる。具体的には、不溶性ア
ゾ顔料、アゾレーキ顔料、縮合アゾ顔料、キレートアゾ
顔料、フタロシアニン系顔料、アントラキノン系顔料、
ペリレン及びペリノン系顔料、チオインジゴ系顔料、キ
ナクリドン系顔料、ジオキサジン系顔料、イソインドリ
ノン系顔料、キノフタロン系顔料、染付けレーキ顔料、
アジン顔料、ニトロソ顔料、ニトロ顔料、天然顔料、蛍
光顔料、無機顔料、カーボンブラック等が使用できる。
これらの顔料のうち好ましいものはカーボンブラックで
ある。 【0088】これら顔料は表面処理をせずに用いてもよ
く、表面処理を施して用いてもよい。表面処理の方法に
は、樹脂やワックスを表面コートする方法、界面活性剤
を付着させる方法、反応性物質(例えば、シランカップ
リング剤、エポキシ化合物、ポリイソシアネート等)を
顔料表面に結合させる方法等が考えられる。上記の表面
処理方法は、「金属石鹸の性質と応用」(幸書房)、
「印刷インキ技術」(CMC出版、1984年刊)及び
「最新顔料応用技術」(CMC出版、1986年刊)に
記載されている。 【0089】顔料の粒径は0.01μm〜10μmの範
囲にあることが好ましく、0.05μm〜1μmの範囲
にあることがさらに好ましく、特に0.1μm〜1μm
の範囲にあることが好ましい。顔料の粒径が0.01μ
m未満のときは分散物の画像記録層塗布液中での安定性
の点で好ましくなく、また、10μmを越えると画像記
録層の均一性の点で好ましくない。 【0090】顔料を分散する方法としては、インク製造
やトナー製造等に用いられる公知の分散技術が使用でき
る。分散機としては、超音波分散器、サンドミル、アト
ライター、パールミル、スーパーミル、ボールミル、イ
ンペラー、デスパーザー、KDミル、コロイドミル、ダ
イナトロン、3本ロールミル、加圧ニーダー等が挙げら
れる。詳細は、「最新顔料応用技術」(CMC出版、1
986年刊)に記載されている。 【0091】これらの顔料もしくは染料は、記録層を構
成する全固形分に対し0.01〜50重量%、好ましく
は0.1〜10重量%、染料の場合特に好ましくは0.
5〜10重量%、顔料の場合特に好ましくは0.1〜1
0重量%の割合で添加することができる。顔料もしくは
染料の添加量が0.01重量%未満であると感度が低く
なる傾向があり、また50重量%を越えて配合すると、
配合量の増加にしたがって記録層の均一性や、記録層の
耐久性に好ましくない影響を与えるおそれがでてくる。 【0092】〔その他の成分〕本発明におけるポジ型画
像記録層を形成するにあたっては、更に必要に応じて、
種々の添加剤を添加することができる。例えばオニウム
塩、o−キノンジアジド化合物、芳香族スルホン化合
物、芳香族スルホン酸エステル化合物等の熱分解性であ
り、分解しない状態ではアルカリ可溶性樹脂の溶解性を
実質的に低下させる物質を併用することは、画像部の現
像液への溶解阻止性の向上を図る点では、好ましい。オ
ニウム塩としてはジアゾニウム塩、アンモニウム塩、ホ
スホニウム塩、ヨードニウム塩、スルホニウム塩、セレ
ノニウム塩、アルソニウム塩等を挙げる事ができる。 【0093】本発明において用いられるオニウム塩とし
て、好適なものとしては、例えばS.I.Schles
inger,Photogr.Sci.Eng.,1
8,387(1974)、T.S.Bal et a
l,Polymer,21,423(1980)、特開
平5−158230号公報に記載のジアゾニウム塩、米
国特許第4,069,055号、同4,069,056
号、特開平3−140140号の明細書に記載のアンモ
ニウム塩、D.C.Necker et al,Mac
romolecules,17,2468(198
4)、C.S.Wenet al,Teh,Proc.
Conf.Rad.Curing ASIA,p478
Tokyo,Oct(1988)、米国特許第4,0
69,055号、同4,069,056号に記載のホス
ホニウム塩、J.V.Crivelloet al,M
acromorecules,10(6),1307
(1977)、Chem.&Eng.News,No
v.28,p31(1988)、欧州特許第104,1
43号、米国特許第5,041,358号、同第4,4
91,628号、特開平2−150848号、特開平2
−296514号に記載のヨードニウム塩、J.V.C
rivello et al,Polymer J.1
7,73(1985)、J.V.Crivello e
t al.J.Org.Chem.,43,3055
(1978)、W.R.Watt et al,J.P
olymer Sci.,Polymer Chem.
Ed.,22,1789(1984)、J.V.Cri
vello et al,PolymerBull.,
14,279(1985)、J.V.Crivello
etal,Macromorecules,14
(5),1141(1981)、J.V.Crivel
lo et al,J.Polymer Sci.,P
olymerChem.Ed.,17,2877(19
79)、欧州特許第370,693号、同233,56
7号、同297,443号、同297,442号、米国
特許第4,933,377号、同3,902,114
号、同4,491,628号、同5,041,358
号、同4,760,013号、同4,734,444
号、同2,833,827号、独国特許第2,904,
626号、同3,604,580号、同3,604,5
81号に記載のスルホニウム塩、J.V.Crivel
lo et al,Macromorecules,1
0(6),1307(1977)、J.V.Crive
llo et al,J.Polymer Sci.,
Polymer Chem.Ed.,17,1047
(1979)に記載のセレノニウム塩、C.S.Wen
et al,Teh,Proc.Conf.Rad.
Curing ASIA,p478 Tokyo,Oc
t(1988)に記載のアルソニウム塩等があげられ
る。オニウム塩のなかでも、ジアゾニウム塩が特に好ま
しい。また、特に好適なジアゾニウム塩としては特開平
5−158230号公報記載のものがあげられる。 【0094】オニウム塩の対イオンとしては、四フッ化
ホウ酸、六フッ化リン酸、トリイソプロピルナフタレン
スルホン酸、5−ニトロ−o−トルエンスルホン酸、5
−スルホサリチル酸、2,5−ジメチルベンゼンスルホ
ン酸、2,4,6−トリメチルベンゼンスルホン酸、2
−ニトロベンゼンスルホン酸、3−クロロベンゼンスル
ホン酸、3−ブロモベンゼンスルホン酸、2−フルオロ
カプリルナフタレンスルホン酸、ドデシルベンゼンスル
ホン酸、1−ナフトール−5−スルホン酸、2−メトキ
シ−4−ヒドロキシ−5−ベンゾイル−ベンゼンスルホ
ン酸、及びパラトルエンスルホン酸等を挙げることがで
きる。これらの中でも特に六フッ化リン酸、トリイソプ
ロピルナフタレンスルホン酸や2,5−ジメチルベンゼ
ンスルホン酸のごときアルキル芳香族スルホン酸が好適
である。 【0095】好適なキノンジアジド類としてはo−キノ
ンジアジド化合物を挙げることができる。本発明に用い
られるo−キノンジアジド化合物は、少なくとも1個の
o−キノンジアジド基を有する化合物で、熱分解により
アルカリ可溶性を増すものであり、種々の構造の化合物
を用いることができる。つまり、o−キノンジアジドは
熱分解により結着剤の溶解抑制能を失うことと、o−キ
ノンジアジド自身がアルカリ可溶性の物質に変化するこ
との両方の効果により感材系の溶解性を助ける。本発明
に用いられるo−キノンジアジド化合物としては、例え
ば、J.コーサー著「ライト−センシティブ・システム
ズ」(John Wiley&Sons.Inc.)第
339〜352頁に記載の化合物が使用できるが、特に
種々の芳香族ポリヒドロキシ化合物あるいは芳香族アミ
ノ化合物と反応させたo−キノンジアジドのスルホン酸
エステル又はスルホン酸アミドが好適である。また、特
公昭43−28403号公報に記載されているようなベ
ンゾキノン(1,2)−ジアジドスルホン酸クロライド
又はナフトキノン−(1,2)−ジアジド−5−スルホ
ン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹脂とのエス
テル、米国特許第3,046,120号及び同第3,1
88,210号に記載されているベンゾキノン−(1,
2)−ジアジドスルホン酸クロライド又はナフトキノン
−(1,2)−ジアジド−5−スルホン酸クロライドと
フェノール−ホルムアルデヒド樹脂とのエステルも好適
に使用される。 【0096】さらにナフトキノン−(1,2)−ジアジ
ド−4−スルホン酸クロライドとフェノールホルムアル
デヒド樹脂あるいはクレゾール−ホルムアルデヒド樹脂
とのエステル、ナフトキノン−(1,2)−ジアジド−
4−スルホン酸クロライドとピロガロール−アセトン樹
脂とのエステルも同様に好適に使用される。その他の有
用なo−キノンジアジド化合物としては、数多くの特許
に報告され知られている。例えば特開昭47−5303
号、特開昭48−63802号、特開昭48−6380
3号、特開昭48−96575号、特開昭49−387
01号、特開昭48−13354号、特公昭41−11
222号、特公昭45−9610号、特公昭49−17
481号、米国特許第2,797,213号、同第3,
454,400号、同第3,544,323号、同第
3,573,917号、同第3,674,495号、同
第3,785,825号、英国特許第1,227,60
2号、同第1,251,345号、同第1,267,0
05号、同第1,329,888号、同第1,330,
932号、ドイツ特許第854,890号などの各明細
書中に記載されているものをあげることができる。 【0097】o−キノンジアジド化合物の添加量は好ま
しくは記録層の全固形分に対し、0〜10重量%、更に
好ましくは0〜5重量%、特に好ましくは0〜2重量%
の範囲である。これらの化合物は単一で使用できるが、
数種の混合物として使用してもよい。 【0098】o−キノンジアジド化合物以外の添加剤の
添加量は、好ましくは0〜5重量%、更に好ましくは0
〜2重量%、特に好ましくは0.1〜1.5重量%であ
る。本発明における画像記録層に用いられる添加剤と結
着剤は、同一層へ含有させることが好ましい。 【0099】また、更に感度を向上させる目的で、環状
酸無水物類、フェノール類、有機酸類を併用することも
できる。環状酸無水物としては米国特許第4,115,
128 号明細書に記載されている無水フタル酸、テト
ラヒドロ無水フタル酸、ヘキサヒドロ無水フタル酸、
3,6−エンドオキシ−Δ4−テトラヒドロ無水フタル
酸、テトラクロル無水フタル酸、無水マレイン酸、クロ
ル無水マレイン酸、α−フェニル無水マレイン酸、無水
コハク酸、無水ピロメリット酸などが使用できる。フェ
ノール類としては、ビスフェノールA、p−ニトロフェ
ノール、p−エトキシフェノール、2,4,4′−トリ
ヒドロキシベンゾフェノン、2,3,4−トリヒドロキ
シベンゾフェノン、4−ヒドロキシベンゾフェノン、
4,4′,4″−トリヒドロキシトリフェニルメタン、
4,4′,3″,4″−テトラヒドロキシ−3,5,
3′,5′−テトラメチルトリフェニルメタンなどが挙
げられる。更に、有機酸類としては、特開昭60−88
942号、特開平2−96755号公報などに記載され
ている、スルホン酸類、スルフィン酸類、アルキル硫酸
類、ホスホン酸類、リン酸エステル類及びカルボン酸類
などがあり、具体的には、p−トルエンスルホン酸、ド
デシルベンゼンスルホン酸、p−トルエンスルフィン
酸、エチル硫酸、フェニルホスホン酸、フェニルホスフ
ィン酸、リン酸フェニル、リン酸ジフェニル、安息香
酸、イソフタル酸、アジピン酸、p−トルイル酸、3,
4−ジメトキシ安息香酸、フタル酸、テレフタル酸、4
−シクロヘキセン−1,2−ジカルボン酸、エルカ酸、
ラウリン酸、n−ウンデカン酸、アスコルビン酸などが
挙げられる。上記の環状酸無水物、フェノール類及び有
機酸類の画像記録層中に占める割合は、0.05〜20
重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜15重量
%、特に好ましくは0.1〜10重量%である。 【0100】また、本発明に係る記録層塗布液中には、
現像条件に対する処理の安定性を広げるため、特開昭6
2−251740号公報や特開平3−208514号公
報に記載されているような非イオン界面活性剤、特開昭
59−121044号公報、特開平4−13149号公
報に記載されているような両性界面活性剤、EP950
517公報に記載されているようなシロキサン系化合
物、特開平11−288093号公報に記載されている
ようなフッ素含有のモノマー共重合体を添加することが
できる。非イオン界面活性剤の具体例としては、ソルビ
タントリステアレート、ソルビタンモノパルミテート、
ソルビタントリオレート、ステアリン酸モノグリセリ
ド、ポリオキシエチレンノニルフェニルエーテル等が挙
げられる。両面活性剤の具体例としては、アルキルジ
(アミノエチル)グリシン、アルキルポリアミノエチル
グリシン塩酸塩、2−アルキル−N−カルボキシエチル
−N−ヒドロキシエチルイミダゾリニウムベタインやN
−テトラデシル−N,N−ベタイン型(例えば、商品名
「アモーゲンK」:第一工業(株)製)等が挙げられ
る。シロキサン系化合物としては、ジメチルシロキサン
とポリアルキレンオキシドのブロック共重合体が好まし
く、具体例として、(株)チッソ社製、DBE−22
4,DBE−621,DBE−712,DBP−73
2,DBP−534、独Tego社製、Tego Gl
ide100等のポリアルキレンオキシド変性シリコー
ンを挙げることが出来る。上記非イオン界面活性剤及び
両性界面活性剤の画像記録層中に占める割合は、0.0
5〜15重量%が好ましく、より好ましくは0.1〜5
重量%である。 【0101】本発明における記録層中には、露光による
加熱後直ちに可視像を得るための焼き出し剤や、画像着
色剤としての染料や顔料を加えることができる。焼き出
し剤としては、露光による加熱によって酸を放出する化
合物(光酸放出剤)と塩を形成し得る有機染料の組合せ
を代表として挙げることができる。具体的には、特開昭
50−36209号、同53−8128号の各公報に記
載されているo−ナフトキノンジアジド−4−スルホン
酸ハロゲニドと塩形成性有機染料の組合せや、特開昭5
3−36223号、同54−74728号、同60−3
626号、同61−143748号、同61−1516
44号及び同63−58440号の各公報に記載されて
いるトリハロメチル化合物と塩形成性有機染料の組合せ
を挙げることができる。かかるトリハロメチル化合物と
しては、オキサゾール系化合物とトリアジン系化合物と
があり、どちらも経時安定性に優れ、明瞭な焼き出し画
像を与える。 【0102】画像の着色剤としては、前述の塩形成性有
機染料以外に他の染料を用いることができる。塩形成性
有機染料を含めて、好適な染料として油溶性染料と塩基
性染料をあげることができる。具体的にはオイルイエロ
ー#101、オイルイエロー#103、オイルピンク#
312、オイルグリーンBG、オイルブルーBOS、オ
イルブルー#603、オイルブラックBY、オイルブラ
ックBS、オイルブラックT−505(以上オリエント
化学工業(株)製)、ビクトリアピュアブルー、クリス
タルバイオレット(CI42555)、メチルバイオレ
ット(CI42535)、エチルバイオレット、ローダ
ミンB(CI145170B)、マラカイトグリーン
(CI42000)、メチレンブルー(CI5201
5)などを挙げることができる。また、特開昭62−2
93247号公報に記載されている染料は特に好まし
い。これらの染料は、画像記録層全固形分に対し、0.
01〜10重量%、好ましくは0.1〜3重量%の割合
で画像記録層中に添加することができる。更に本発明に
おける画像記録層には必要に応じ、塗膜の柔軟性等を付
与するために可塑剤が加えられる。例えば、ブチルフタ
リル、ポリエチレングリコール、クエン酸トリブチル、
フタル酸ジエチル、フタル酸ジブチル、フタル酸ジヘキ
シル、フタル酸ジオクチル、リン酸トリクレジル、リン
酸トリブチル、リン酸トリオクチル、オレイン酸テトラ
ヒドロフルフリル、アクリル酸又はメタクリル酸のオリ
ゴマー及びポリマー等が用いられる。 【0103】また、これら以外にも、エポキシ化合物、
ビニルエーテル類、さらには、特開平8−276558
号公報に記載のヒドロキシメチル基を有するフェノール
化合物、アルコキシメチル基を有するフェノール化合
物、及び、本発明者らが先に提案した特開平11−16
0860号公報に記載のアルカリ溶解抑制作用を有する
架橋性化合物などを目的に応じて適宜添加することがで
きる。 【0104】本発明における画像記録層は、上記必要な
成分を溶媒に溶かし、画像記録層用塗布液として、先に
塗布済みの下層上に塗布することにより設けることがで
きる。また、目的に応じて、保護層、バックコート層な
ども同様にして形成することができる。ここで使用する
溶媒としては、前述の下層成分が溶解されないものであ
れば特に制限はなく、プロトン性溶媒、非プロトン性溶
媒の両方を用いることが可能である。プロトン性溶媒を
用いる場合は、溶解度パラメータが30MPa1/2以下
のプロトン性溶媒が好ましく、溶解度パラメータが26
MPa1/2以下のプロトン性溶媒がさらに好ましい。こ
のようなプロトン性溶媒の具体例としては、メタノー
ル、エタノール、イソプロパノール、n−ブタノール、
メチルセロソルブ、エチルセロソルブ、1−メトキシ−
2−プロパノール、シクロヘキサノール、エチレングリ
コール、プロピレングリコール、酢酸等が挙げられる。 【0105】非プロトン性溶媒を用いる場合は、溶解度
パラメータが21MPa1/2以下の非プロトン性溶媒が
好ましく、溶解度パラメータが19MPa1/2以下の非
プロトン性溶媒がさらに好ましい。このような非プロト
ン性溶媒の具体例としては、エチレンジクロライド、シ
クロヘキサノン、メチルエチルケトン、メチルイソブチ
ルケトン、1−メトキシ−2−プロピルアセテート、1
−メトキシエチルアセテート、ジメトキシエタン、酢酸
エチル、乳酸メチル、乳酸エチル、テトラヒドロフラ
ン、トルエン等が挙げられるがこれに限定されるもので
はない。これらの溶媒は単独あるいは混合して使用され
るが、下層の溶解抑制の観点から、この画像記録層に用
いる溶媒には、溶解度パラメータが20.5MPa1/2
以上の非プロトン性有機溶媒として先に例示した溶媒を
含有しないことが好ましい。 【0106】溶媒中の上記成分(添加剤を含む全固形
分)の濃度は、好ましくは1〜50重量%である。また
塗布、乾燥後に得られる支持体上の塗布量(固形分)
は、用途によって異なるが、平版印刷版原版についてい
えば一般的に0.5〜5.0g/m2が好ましい。塗布
量が少なくなるにつれて、見かけの感度は大になるが、
感光膜の皮膜特性は低下する。塗布する方法としては、
種々の方法を用いることができるが、例えば、バーコー
ター塗布、回転塗布、スプレー塗布、カーテン塗布、デ
ィップ塗布、エアーナイフ塗布、ブレード塗布、ロール
塗布等を挙げることができる。本発明における画像記録
層中には、塗布性を良化するための界面活性剤、例えば
特開昭62−170950号公報に記載されているよう
なフッ素系界面活性剤を添加することができる。好まし
い添加量は、画像記録層全固形分中0.01〜1重量
%、さらに好ましくは0.05〜0.5重量%である。 【0107】〔支持体〕本発明に使用される支持体とし
ては、寸度的に安定な板状物であり、必要な強度、可撓
性などの物性を満たすものであれば特に制限はなく、例
えば、紙、プラスチック(例えば、ポリエチレン、ポリ
プロピレン、ポリスチレン等)がラミネートされた紙、
金属板(例えば、アルミニウム、亜鉛、銅等)、プラス
チックフィルム(例えば、二酢酸セルロース、三酢酸セ
ルロース、プロピオン酸セルロース、酪酸セルロース、
酢酸酪酸セルロース、硝酸セルロース、ポリエチレンテ
レフタレート、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリプロ
ピレン、ポリカーボネート、ポリビニルアセタール
等)、上記のごとき金属がラミネート、もしくは蒸着さ
れた紙、もしくはプラスチックフィルム等が挙げられ
る。本発明に適用し得る支持体としては、ポリエステル
フィルム又はアルミニウム板が好ましく、その中でも寸
法安定性がよく、比較的安価であるアルミニウム板は特
に好ましい。好適なアルミニウム板は、純アルミニウム
板及びアルミニウムを主成分とし、微量の異元素を含む
合金板であり、更にアルミニウムがラミネートもしくは
蒸着されたプラスチックフィルムでもよい。アルミニウ
ム合金に含まれる異元素には、ケイ素、鉄、マンガン、
銅、マグネシウム、クロム、亜鉛、ビスマス、ニッケ
ル、チタンなどがある。合金中の異元素の含有量は高々
10重量%以下である。本発明において特に好適なアル
ミニウムは、純アルミニウムであるが、完全に純粋なア
ルミニウムは精錬技術上製造が困難であるので、僅かに
異元素を含有するものでもよい。このように本発明に適
用されるアルミニウム板は、その組成が特定されるもの
ではなく、従来より公知公用の素材のアルミニウム板を
適宜に利用することができる。本発明で用いられるアル
ミニウム板の厚みはおよそ0.1mm〜0.6mm程
度、好ましくは0.15mm〜0.4mm、特に好まし
くは0.2mm〜0.3mmである。 【0108】アルミニウム板を粗面化するに先立ち、所
望により、表面の圧延油を除去するための例えば界面活
性剤、有機溶剤又はアルカリ性水溶液などによる脱脂処
理が行われる。アルミニウム板の表面の粗面化処理は、
種々の方法により行われるが、例えば、機械的に粗面化
する方法、電気化学的に表面を溶解粗面化する方法及び
化学的に表面を選択溶解させる方法により行われる。機
械的方法としては、ボール研磨法、ブラシ研磨法、ブラ
スト研磨法、バフ研磨法などの公知の方法を用いること
ができる。また、電気化学的な粗面化法としては塩酸又
は硝酸電解液中で交流又は直流により行う方法がある。
また、特開昭54−63902号公報に開示されている
ように両者を組み合わせた方法も利用することができ
る。この様に粗面化されたアルミニウム板は、必要に応
じてアルカリエッチング処理及び中和処理された後、所
望により表面の保水性や耐摩耗性を高めるために陽極酸
化処理が施される。アルミニウム板の陽極酸化処理に用
いられる電解質としては、多孔質酸化皮膜を形成する種
々の電解質の使用が可能で、一般的には硫酸、リン酸、
蓚酸、クロム酸あるいはそれらの混酸が用いられる。そ
れらの電解質の濃度は電解質の種類によって適宜決めら
れる。 【0109】陽極酸化の処理条件は用いる電解質により
種々変わるので一概に特定し得ないが一般的には電解質
の濃度が1〜80重量%溶液、液温は5〜70℃、電流
密度5〜60A/dm2、電圧1〜100V、電解時間
10秒〜5分の範囲であれば適当である。陽極酸化皮膜
の量は1.0g/m2より少ないと耐刷性が不十分であ
ったり、平版印刷版の非画像部に傷が付き易くなって、
印刷時に傷の部分にインキが付着するいわゆる「傷汚
れ」が生じ易くなる。陽極酸化処理を施された後、アル
ミニウム表面は必要により親水化処理が施される。本発
明に使用される親水化処理としては、米国特許第2,7
14,066号、同第3,181,461号、第3,2
80,734号及び第3,902,734号に開示され
ているようなアルカリ金属シリケート(例えばケイ酸ナ
トリウム水溶液)法がある。この方法においては、支持
体がケイ酸ナトリウム水溶液で浸漬処理されるか又は電
解処理される。他に特公昭36−22063号公報に開
示されているフッ化ジルコン酸カリウム及び米国特許第
3,276,868号、同第4,153,461号、同
第4,689,272号に開示されているようなポリビ
ニルホスホン酸で処理する方法などが用いられる。 【0110】本発明の画像記録材料は、支持体上に下層
及びポジ型の記録層を設けたものであるが、必要に応じ
て下層と支持体との間に下塗層を設けることができる。
下塗層成分としては種々の有機化合物が用いられ、例え
ば、カルボキシメチルセルロース、デキストリン、アラ
ビアガム、2−アミノエチルホスホン酸などのアミノ基
を有するホスホン酸類、置換基を有してもよいフェニル
ホスホン酸、ナフチルホスホン酸、アルキルホスホン
酸、グリセロホスホン酸、メチレンジホスホン酸及びエ
チレンジホスホン酸などの有機ホスホン酸、置換基を有
してもよいフェニルリン酸、ナフチルリン酸、アルキル
リン酸及びグリセロリン酸などの有機リン酸、置換基を
有してもよいフェニルホスフィン酸、ナフチルホスフィ
ン酸、アルキルホスフィン酸及びグリセロホスフィン酸
などの有機ホスフィン酸、グリシンやβ−アラニンなど
のアミノ酸類、及びトリエタノールアミンの塩酸塩など
のヒドロキシ基を有するアミンの塩酸塩等から選ばれる
が、2種以上混合して用いてもよい。 【0111】この有機下塗層は次のような方法で設ける
ことができる。即ち、水又はメタノール、エタノール、
メチルエチルケトンなどの有機溶剤もしくはそれらの混
合溶剤に上記の有機化合物を溶解させた溶液をアルミニ
ウム板上に塗布、乾燥して設ける方法と、水又はメタノ
ール、エタノール、メチルエチルケトンなどの有機溶剤
もしくはそれらの混合溶剤に上記の有機化合物を溶解さ
せた溶液に、アルミニウム板を浸漬して上記化合物を吸
着させ、その後水などによって洗浄、乾燥して有機下塗
層を設ける方法である。前者の方法では、上記の有機化
合物の0.005〜10重量%の濃度の溶液を種々の方
法で塗布できる。また後者の方法では、溶液の濃度は
0.01〜20重量%、好ましくは0.05〜5重量%
であり、浸漬温度は20〜90℃、好ましくは25〜5
0℃であり、浸漬時間は0.1秒〜20分、好ましくは
2秒〜1分である。これに用いる溶液は、アンモニア、
トリエチルアミン、水酸化カリウムなどの塩基性物質
や、塩酸、リン酸などの酸性物質によりpH1〜12の
範囲に調整することもできる。また、画像記録材料の調
子再現性改良のために黄色染料を添加することもでき
る。有機下塗層の被覆量は、2〜200mg/m2が適
当であり、好ましくは5〜100mg/m2である。上
記の被覆量が2mg/m2よりも少ないと十分な耐刷性
能が得られない。また、200mg/m2より大きくて
も同様である。 【0112】上記のようにして作成されたポジ型画像記
録材料は、主にポジ型平版印刷版原版として好適に用い
られる。以下、本発明の画像記録材料を平版印刷版原版
として用いた場合の、像露光、現像処理、印刷工程につ
いて説明する。像露光に用いられる光線の光源として
は、近赤外から赤外領域に発光波長を持つ光源が好まし
く、固体レーザ、半導体レーザが特に好ましい。 【0113】本発明の画像記録材料を用いた平版印刷版
原版の現像液及び補充液としては従来より知られている
アルカリ水溶液が使用できる。例えば、ケイ酸ナトリウ
ム、同カリウム、第3リン酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、第2リン酸ナトリウム、同カリウム、
同アンモニウム、炭酸ナトリウム、同カリウム、同アン
モニウム、炭酸水素ナトリウム、同カリウム、同アンモ
ニウム、ほう酸ナトリウム、同カリウム、同アンモニウ
ム、水酸化ナトリウム、同アンモニウム、同カリウム及
び同リチウムなどの無機アルカリ塩が挙げられる。ま
た、モノメチルアミン、ジメチルアミン、トリメチルア
ミン、モノエチルアミン、ジエチルアミン、トリエチル
アミン、モノイソプロピルアミン、ジイソプロピルアミ
ン、トリイソプロピルアミン、n−ブチルアミン、モノ
エタノールアミン、ジエタノールアミン、トリエタノー
ルアミン、モノイソプロパノールアミン、ジイソプロパ
ノールアミン、エチレンイミン、エチレンジアミン、ピ
リジンなどの有機アルカリ剤も用いられる。これらのア
ルカリ剤は単独もしくは2種以上を組み合わせて用いら
れる。これらのアルカリ剤の中で特に好ましい現像液
は、ケイ酸ナトリウム、ケイ酸カリウム等のケイ酸塩水
溶液である。その理由はケイ酸塩の成分である酸化珪素
SiO2とアルカリ金属酸化物M2Oの比率と濃度によっ
て現像性の調節が可能となるためであり、例えば、特開
昭54−62004号公報、特公昭57−7427号に
記載されているようなアルカリ金属ケイ酸塩が有効に用
いられる。 【0114】更に自動現像機を用いて現像する場合に
は、現像液よりもアルカリ強度の高い水溶液(補充液)
を現像液に加えることによって、長時間現像タンク中の
現像液を交換する事なく、多量のPS版を処理できるこ
とが知られている。本発明においてもこの補充方式が好
ましく適用される。現像液及び補充液には現像性の促進
や抑制、現像カスの分散及び印刷版画像部の親インキ性
を高める目的で必要に応じて種々の界面活性剤や有機溶
剤を添加できる。好ましい界面活性剤としては、アニオ
ン系、カチオン系、ノニオン系及び両性界面活性剤があ
げられる。更に現像液及び補充液には必要に応じて、ハ
イドロキノン、レゾルシン、亜硫酸、亜硫酸水素酸など
の無機酸のナトリウム塩、カリウム塩等の還元剤、更に
有機カルボン酸、消泡剤、硬水軟化剤を加えることもで
きる。上記現像液及び補充液を用いて現像処理された平
版印刷版原版は水洗水、界面活性剤等を含有するリンス
液、アラビアガムや澱粉誘導体を含む不感脂化液で後処
理される。本発明の画像記録材料を平版印刷版として使
用する場合の後処理としては、これらの処理を種々組み
合わせて用いることができる。 【0115】近年、製版・印刷業界では製版作業の合理
化及び標準化のため、印刷版用の自動現像機が広く用い
られている。この自動現像機は、一般に現像部と後処理
部からなり、印刷版を搬送する装置と各処理液槽及びス
プレー装置からなり、露光済みの印刷版を水平に搬送し
ながら、ポンプで汲み上げた各処理液をスプレーノズル
から吹き付けて現像処理するものである。また、最近は
処理液が満たされた処理液槽中に液中ガイドロールなど
によって印刷版を浸漬搬送させて処理する方法も知られ
ている。このような自動処理においては、各処理液に処
理量や稼働時間等に応じて補充液を補充しながら処理す
ることができる。また、実質的に未使用の処理液で処理
するいわゆる使い捨て処理方式も適用できる。 【0116】本発明の画像記録材料を用いた平版印刷版
原版においては、画像露光し、現像し、水洗及び/又は
リンス及び/又はガム引きして得られた平版印刷版に不
必要な画像部(例えば原画フィルムのフィルムエッジ跡
など)がある場合には、その不必要な画像部の消去が行
なわれる。このような消去は、例えば特公平2−132
93号公報に記載されているような消去液を不必要画像
部に塗布し、そのまま所定の時間放置したのちに水洗す
ることにより行なう方法が好ましいが、特開平59−1
74842号公報に記載されているようなオプティカル
ファイバーで導かれた活性光線を不必要画像部に照射し
たのち現像する方法も利用できる。 【0117】以上のようにして得られた平版印刷版は所
望により不感脂化ガムを塗布したのち、印刷工程に供す
ることができるが、より一層の高耐刷力平版印刷版とし
たい場合には、所望によりバーニング処理が施される。
特に、本発明においては、下層及び画像記録層がそれぞ
れ熱架橋性であるため、汎用のバーニング処理を行なう
ことで、耐刷性が著しく向上する。平版印刷版をバーニ
ングする場合には、バーニング前に特公昭61−251
8号、同55−28062号、特開昭62−31859
号、同61−159655号の各公報に記載されている
ような整面液で処理することが好ましい。その方法とし
ては、該整面液を浸み込ませたスポンジや脱脂綿にて、
平版印刷版上に塗布するか、整面液を満たしたバット中
に印刷版を浸漬して塗布する方法や、自動コーターによ
る塗布などが適用される。また、塗布した後でスキー
ジ、あるいは、スキージローラーで、その塗布量を均一
にすることは、より好ましい結果を与える。 【0118】整面液の塗布量は一般に0.03〜0.8
g/m2(乾燥重量)が適当である。整面液が塗布され
た平版印刷版は必要であれば乾燥された後、バーニング
プロセッサー(たとえば富士写真フイルム(株)より販
売されているバーニングプロセッサー:「BP−130
0」)などで高温に加熱される。この場合の加熱温度及
び時間は、画像を形成している成分の種類にもよるが、
180〜300℃の範囲で1〜20分の範囲が好まし
い。 【0119】バーニング処理された平版印刷版は、必要
に応じて適宜、水洗、ガム引きなどの従来より行なわれ
ている処理を施こすことができるが水溶性高分子化合物
等を含有する整面液が使用された場合にはガム引きなど
のいわゆる不感脂化処理を省略することができる。この
様な処理によって得られた平版印刷版はオフセット印刷
機等にかけられ、多数枚の印刷に用いられる。 【0120】 【実施例】以下、本発明を実施例に従って説明するが、
本発明の範囲はこれらの実施例に限定されるものではな
い。 〔実施例1〜6〕 (支持体の作製)厚み0.3mmのアルミニウム板(材
質1050)をトリクロロエチレンで洗浄して脱脂した
後、ナイロンブラシと400メッシュのパミス−水懸濁
液を用いこの表面を砂目立てし、水でよく洗浄した。こ
の板を45℃の25%水酸化ナトリウム水溶液に9秒間
浸漬してエッチングを行い、水洗後、さらに20%硝酸
に20秒間浸漬し、水洗した。この時の砂目立て表面の
エッチング量は約3g/m 2であった。次にこの板を7
%硫酸を電解液として電流密度15A/dm2で3g/
2の直流陽極酸化被膜を設けた後、水洗し、乾燥し、
さらに、珪酸ナトリウム2.5質量%水溶液で30℃で
10秒処理し、下記下塗り液を塗布し、塗膜を80℃で
15秒間乾燥し、支持体を得た。乾燥後の塗膜の被覆量
は15mg/m 2であった。 【0121】 (下塗り液) ・下記高分子化合物 0.3g ・メタノール 100g ・水 1g 【0122】 【化24】 【0123】(ポジ型画像記録層の形成)得られた支持
体上に下記組成の下層用塗布液をウエット塗布量が19
cc/m 2のワイヤーバーで塗布して塗布量を1.0g
/m2としたのち、温風による対流加熱方式の連続式通
搬乾燥装置(乾燥オーブン)で150℃で60秒間乾燥
した。次に、上記で得られた下塗層付き支持体に、下記
組成の画像記録層用塗布液をウエット塗布量が7.5c
c/m2になるようにワイヤーバーで塗布を行い、総塗
布量を1.2g/m2とした。塗布後、原板試料は乾燥
装置で、140℃で70秒間の乾燥が行なわれ、本発明
の画像記録層を用いたポジ型画像記録材料[P−1]〜
[P−6]が得られた。 【0124】 <下層用塗布液> ・下記表1に記載の特定ポリマー 2.133g ・シアニン染料A(下記構造) 0.109g ・4,4’−ビスヒドロキシフェニルスルホン 0.126g ・シクロヘキサンジカルボン酸無水物 0.100g ・ビス(ヒドロキシメチル)−p−クレゾール 0.090g ・p−トルエンスルホン酸 0.008g ・エチルバイオレットの対アニオンを 6−ヒドロキシナフタレンスルホン酸に変えたもの 0.100g ・3−メトキシ−4−ジアゾジフェニルアミン ヘキサフルオロホスフェート(熱分解性化合物) 0.03g ・フッ素系界面活性剤 0.035g (メガファックF−176、大日本インキ工業(株)社製) ・メチルエチルケトン 26.6g ・1−メトキシ−2−プロパノール 13.6g ・N,N−ジメチルアセトアミド 13.8g 【0125】 <画像記録層用塗布液> ・クレゾールノボラック樹脂 (PR−54046、住友ベークライト(株)製) 0.348g ・シアニン染料A(下記構造) 0.0115g ・シアニン染料B(下記構造) 0.0077g ・テトラエチルアンモニウムブロミド 0.030g ・フッ素系界面活性剤 0.035g (メガファックF−176、大日本インキ化学工業(株)製) ・1−メトキシ−2−プロパノール 40.2g 【0126】 【化25】 【0127】〔比較例1〕実施例1〜6において、本発
明に係る特定ポリマーの代わりに、公知のアルカリ可溶
性樹脂(P−C)を用いた以外は、実施例1〜6と同様
にして、比較例1の画像記録材料[Q−1]を得た。な
お、(P−C)の構造を以下に示す。 【0128】 【化26】 【0129】〔比較例2〕実施例1〜6において、本発
明に係る特定ポリマーの代わりに、クレゾールノボラッ
ク樹脂(PR−54046、住友ベークライト(株)
製)を用いた以外は、実施例1〜6と同様にして、比較
例2の画像記録材料[Q−2]を得た。 【0130】〔下層及び画像記録層の相溶性の評価〕得
られたポジ型平版印刷版原版[P−1]〜[P−6]及
び[Q−1]、[Q−2]を、ミクロトームにより画像
記録層面と垂直に切削し、その切断面を富士写真フイル
ム(株)製現像液DT−1(水で20倍に希釈したも
の)に3秒間浸し、水洗した後に、白金およびパラジウ
ムを蒸着し、走査型電子顕微鏡で該切断面を観察した。
支持体上に塗布した下層及び画像記録層が互いに相溶す
ることなく明瞭な境界線を有しているか否かを評価し
た。結果を表1に記す。 【0131】〔平版印刷版原版の評価〕次に、得られた
画像記録材料[P−1]〜[P−6]及び[Q−1]、
[Q−2]を、平版印刷版原版の記録層として用いた場
合の性能評価を行った。なお、評価試験は上記下層及び
画像記録層塗布後25℃で14日間保存したものについ
て行った。 【0132】(感度)得られた画像記録材料(平版印刷
版原版)[P−1]〜[P−6]及び[Q−1]、[Q
−2]をCreo社製Trendsetter3244
にて露光エネルギーを変えて、テストパターンを画像状
に描き込みを行った。その後、富士写真フイルム(株)
製現像液DT−1(希釈して、電導度45mS/cmと
したもの)で現像した、この現像液で非画像部が現像で
きる露光エネルギーを測定し、感度とした。数値が小さ
いほど高感度であることを示す。結果を表1に記す。 【0133】(膜減りを起こす電導度)得られた画像記
録材料(平版印刷版原版)[P−1]〜[P−6]及び
[Q−1]、[Q−2]をCreo社製Trendse
tter3244にて、ビーム強度9.0W、ドラム回
転速度150rpmの条件でテストパターンの画像状に
描き込み(露光)を行った。 【0134】次に、電導度の異なる数種の現像液を調製
し、それぞれの電導度を測定し、上記画像様露光を行っ
た平版印刷版原版を、各現像液で現像し、実施例1〜6
及び比較例1、2の平版印刷版[P−1]〜[P−6]
及び[Q−1]、[Q−2]を得た。ここで、得られた
平版印刷版の露光部(非画像部)が溶解されない限度
の、最も高い電導度を有する現像液で現像された未露光
部(画像部)の画像濃度をGRETAG反射濃度計D1
96(GretagMacbeth社製)で測定して、
次に、この画像濃度から0.07以上少ない画像濃度と
なる画像部が形成された現像液の電導度を測定し、これ
を本発明における「膜減りを起こす電導度」とした。
「膜減りを起こす電導度」が高いほど現像ラチチュード
に優れることを示す。結果を表1に記す。 【0135】(耐刷性)得られた画像記録材料(平版印
刷版原版)[P−1]〜[P−6]及び[Q−1]、
[Q−2]をCreo社製Trendsetterに
て、ビーム強度8.0W、ドラム回転速度150rpm
の条件でテストパターンの画像状に描き込み(露光)を
行い、上記の条件で露光した平版印刷版原版を、富士写
真フイルム(株)製現像液DT−1(希釈して、電導度
45mS/cmとしたもの)及び富士写真フイルム
(株)製フィニッシャーFP2W(1:1で希釈したも
の)を仕込んだ富士写真フイルム(株)製PSプロセッ
サー900Hを用い、液温を30℃に保ち、現像時間1
2秒で現像した。次に、富士写真フイルム株式会社製ガ
ムGU−7を水で2倍に希釈した液で版面を処理し、1
日放置後、ハイデルKOR−D機で印刷した。印刷によ
り正常な印刷物が得られた枚数を表1に記す。 【0136】また、露光後の加熱による耐刷性の向上を
確認するために富士写真フイルム株式会社製バーニング
整面液BC−3で版面をふき、バーニング装置BP−1
300を用いて、230℃で3分間処理した。次いで、
富士写真フイルム株式会社製ガムGU−7を水で2倍に
希釈した液で版面を処理し、加熱処理をおこなわなかっ
た版と同様に、ハイデルKOR−D機で印刷した。加熱
処理を行った版の印刷により正常な印刷物が得られた枚
数を表1に記す。 【0137】 【表1】 【0138】以上、実施例によれば、本発明に係るいず
れの特定ポリマーを用いた場合も、下層と画像記録層と
が相溶することなく明確な2層構造が得られ、感度、現
像ラチチュードにも優れていたことから、該特定ポリマ
ーを主成分とする下層の存在が、断熱性の向上、あるい
は露光領域(非画像部)における記録層の溶解除去の促
進に有効であることが確認された。また、本発明に係る
下層を構成する特定ポリマーが熱架橋性基を有すること
から、後加熱処理(バーニング処理)によって、耐刷性
が著しく向上するという利点を有することも確認され
た。一方、本発明に係る特定ポリマーに代えて、特定の
高極性官能基を有するが、フェノール性水酸基を有さな
い高分子化合物を用いた比較例1は、隣接する下層と画
像記録層に相溶は見られず明確な2層構造を形成したも
のの、分子内にフェノール性水酸基を有さないことか
ら、記録感度に劣り、後加熱処理による耐刷性向上効果
も殆どみられなかった。また、下層に、フェノール性水
酸基を有するが、高極性の特定官能基を有しないクレゾ
ールノボラック樹脂を用いた比較例2は、下層と画像記
録層に相溶が見られ、露光により画像形成するものの、
画像形成性が極めて低く、現像ラチチュードが狭いた
め、印刷に耐えるような画像部、非画像部が形成できな
かった。 【0139】 【発明の効果】本発明によれば、現像時の残膜の発生が
抑制され、コントラストに優れた画像の形成が可能で、
且つ、支持体への熱拡散を防止し、感度に優れたヒート
モード対応ポジ型画像記録材料を得ることができる。
フロントページの続き Fターム(参考) 2H025 AB03 AC08 AD03 CB52 CC20 DA40 FA10 FA17 2H096 AA07 AA08 AA23 AA28 BA09 BA16 CA05 EA04

Claims (1)

  1. 【特許請求の範囲】 【請求項1】 支持体上に、下記一般式(1)で表され
    る官能基と、フェノール性水酸基と、を有する高分子化
    合物を主成分とする下層と、アルカリ可溶性樹脂を含有
    し、赤外線レーザの露光によりアルカリ性水溶液に対す
    る溶解性が増大する画像記録層と、を順次設けてなるヒ
    ートモード対応ポジ型画像記録材料。 −Y−Z 一般式(1) 式中、Yは−CO−、−SO2−、−COO−、−OC
    O−、−SO2O−、−OSO2−、−NHCO−、−C
    ONH−、−NHSO2−、−SO2NH−、−NHCS
    −、−CSNH−、−CN、−N+3、−NO2より選
    択される2価の連結基又は1価の末端基を表し、Zおよ
    びRは、1価の末端基を表す(ただし、Yが1価の末端
    基の場合、Zは存在しないものとする)。
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JPWO2017141612A1 (ja) * 2016-02-15 2018-12-13 Jsr株式会社 レジスト下層膜形成用組成物、レジスト下層膜及びパターニングされた基板の製造方法

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