JP2003325160A

JP2003325160A - 細胞培養器および培養細胞処理システム

Info

Publication number: JP2003325160A
Application number: JP2002137685A
Authority: JP
Inventors: Toshinao Doi; 利尚土井; Sumihiro Ueda; 澄広上田; Eiichi Yagi; 栄一八木; Sadao Kubo; 貞夫久保
Original assignee: Kawasaki Heavy Industries Ltd
Current assignee: Kawasaki Heavy Industries Ltd
Priority date: 2002-05-13
Filing date: 2002-05-13
Publication date: 2003-11-18

Abstract

(57)【要約】【課題】圧力制御もなし得る細胞培養器および培養細
胞処理システムを提供する。【解決手段】本発明の細胞培養器Ｉは、耐圧容器１１
と、該耐圧容器１１に雰囲気ガスを供給するガス供給装
置２０と、該雰囲気ガスの圧力を制御するガス圧力制御
装置４０とを備えてなるもので、ガス供給装置２０を構
成しているＯ₂ガスを供給するＯ₂ガス供給機構２１と、
ＣＯ₂ガスを供給するＣＯ₂ガス供給機構２２と、Ｎ₂ガ
スを供給するＮ₂ガス供給機構２３とにより、それぞれ
所定量のガスを供給するとともに、ガス圧力制御装置４
０により排気ガス量を制御して耐圧容器１１内の雰囲気
ガスを所望圧力とするものである。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は細胞培養器および培
養細胞処理システムに関する。さらに詳しくは、圧力制
御がなし得る細胞培養器および培養細胞処理システムに
関する。

【０００２】

【従来の技術】臓器移植法の施行により臓器移植がなさ
れるようになってきている。しかしながら、その運用に
おいては臓器提供者の数が臓器移植希望者の数より圧倒
的に少ないという問題がある。その問題を解決する方策
の一つとして、近年、再生医療が注目されかつその研究
が進められている。

【０００３】この再生医療の一連の研究によって、骨や
軟骨などの細胞は、大気圧よりも高い圧力下で培養すれ
ば、その増殖速度が上昇するであろうとの知見が得られ
ている。

【０００４】しかるに、従来、一般的に用いられている
細胞培養器（以下、インキュベータという）は、温度、
湿度および二酸化炭素などの雰囲気ガスの濃度は制御で
きるものの、圧力制御はなし得ないものである。換言す
れば、従来のインキュベータは、温度、湿度および二酸
化炭素などの雰囲気ガスの濃度が細胞の培養にどのよう
な影響を与えるかを試験したり、最適な温度、湿度およ
び雰囲気ガス濃度下で細胞を培養してその収量の増大を
図ることは可能であるが、圧力の変化が細胞の培養にど
のような影響を与えるかを試験したり、最適な圧力下で
細胞を培養してその収量の増大を図ることはできない。

【０００５】このため、スポット的な研究により大気圧
よりも高圧下あるいは低圧下での培養が有効であるとの
知見が得られた細胞に対しても、その培養に最適な圧力
を検出することができず、また当然のことながら最適な
圧力下で培養してその収量の増大を図ることもできな
い。ちなみに、圧力制御が可能な容器としては、火事
などの災害により一酸化炭素中毒になった患者の治療の
ために用いられる高圧酸素治療器が知られている。

【０００６】しかしながら、この高圧酸素治療器は、容
器内の酸素濃度や圧力を変化させることはできるが、通
常、インキュベータが備えている温度や湿度を制御する
機能は備えていない。そのため、この高圧酸素治療器を
インキュベータにそのまま転用することはできない。ま
た、高圧酸素治療器は、人命の安全確保を図る観点から
厳格な安全対策が図られているので、非常に高価なもの
となっている。そのため、価格の点からもインキュベー
タに転用するには問題がある。

【０００７】

【発明が解決しようとする課題】本発明はかかる従来技
術の課題に鑑みなされたものであって、圧力制御もなし
得る細胞培養器および培養細胞処理システムを提供する
ことを目的としている。

【０００８】

【課題を解決するための手段】本発明の細胞培養器は、
耐圧容器と、該耐圧容器に雰囲気ガスを供給するガス供
給装置と、該雰囲気ガスの圧力を制御するガス圧力制御
装置とを備えてなることを特徴とする。

【０００９】本発明の細胞培養器においては、雰囲気ガ
スの撹拌をなすガス撹拌装置を備えてなるのが好まし
い。

【００１０】また、本発明の細胞培養器においては、加
熱手段および／または加湿手段を備えてなるのが好まし
い。

【００１１】さらに、本発明の細胞培養器においては、
耐圧容器内面が滅菌液による洗浄に適した形態とされて
なるのが好ましい。

【００１２】さらに、本発明の細胞培養器においては、
ガス供給装置が、Ｏ₂ガスを供給するＯ₂ガス供給機構
と、ＣＯ₂ガスを供給するＣＯ₂ガス供給機構と、Ｎ₂ガ
スを供給するＮ₂ガス供給機構とを備えてなるのが好ま
しい。

【００１３】一方、本発明の培養細胞処理システムは、
前記細胞培養器をクリーンルーム内に備えてなることを
特徴とする。

【００１４】本発明の培養細胞処理システムにおいて
は、クリーンルームが入口部に滅菌液をシャワーするシ
ャワー室を備えてなるのが好ましい。

【００１５】また、本発明の培養細胞処理システムにお
いては、クリーンルームがクリーンロボットを備えてな
るのが好ましい。

【００１６】さらに、本発明の培養細胞処理システムに
おいては、クリーンルームがモニタ装置を備えてなるの
が好ましい。

【００１７】さらに、本発明の培養細胞処理システムに
おいては、クリーンルームが搬送容器の開閉をなす搬送
容器開閉装置を備えてなるのが好ましい。

【００１８】

【作用】本発明の細胞培養器は、前記の如く構成されて
いるので、雰囲気ガスを所望圧力として細胞を培養でき
る。また、本発明の細胞培養器によれば、種々の圧力の
下で細胞を培養できるので、当該細胞の培養に最適な圧
力を見出せる。

【００１９】一方、本発明の培養細胞処理システムは、
前記の如く構成されているので、雑菌に汚染されること
なく、細胞培養器により培養された細胞を処理できる。

【００２０】

【発明の実施の形態】以下、添付図面を参照しながら本
発明を実施形態に基づいて説明するが、本発明はかかる
実施形態のみに限定されるものではない。

【００２１】図１に、本発明の一実施形態に係る細胞培
養器（以下、インキュベータという）を概略図で示す。

【００２２】インキュベータＩは、図１に示すように、
本体１０と、本体１０内にガスを供給するガス供給装置
２０と、本体１０内からガスを排気するガス排気装置３
０と、本体１０内のガス圧力を制御するガス圧力制御装
置４０と、本体１０内のガスを撹拌するガス撹拌装置５
０と、制御装置６０とを主要構成要素として備えてなる
ものとされる。

【００２３】本体１０は、図１に示すように、耐圧円筒
容器１１を断熱材１２で覆いその外部を外装ケーシング
１３で覆ってなる断熱容器とされ、培地や培養液を収納
しているフラスコなどの容器を載置して必要に応じて加
振する加振器１４を有する振とう台１５と、本体１０内
を加湿する加湿手段例えば加湿パッド１６と、本体１０
を加熱する加熱手段例えばヒータ１７と、本体１０内の
ガス濃度、ガス圧力、温度などを測定するセンサ機構７
０とを備えてなるものとされる。

【００２４】耐圧円筒容器１１は数気圧の圧力に耐え得
るものとされ、また内面は使用前後におけるアルコール
などの滅菌液での洗浄に適するよう滑らかに仕上げられ
ている。また、アルコールなどの滅菌液での洗浄に支障
のないようにするため、耐圧円筒容器１１の端部は、図
示はされていないが、半楕円型の鏡板で塞がれて端部に
角が生じないようにされている。この鏡板の一方は開閉
自在とされて、機器や試料などの搬入および搬出が可能
とされている。この場合、鏡板の開閉は自動的になされ
るようにされてなるのが好ましい。なお、かかる開閉自
在の鏡板の構成には、各種耐圧扉およびその自動開閉機
構を好適に用いることができる。

【００２５】センサ機構７０は、Ｏ₂濃度を測定するＯ₂
センサ７１と、ＣＯ₂濃度を測定するＣＯ₂センサ７２
と、温度を測定する温度センサと、圧力を測定する圧力
センサ７３と、湿度を測定する湿度センサとを少なくと
も備えてなるものとされ（図２参照）、またこれらのセ
ンサは滅菌処理に対応可能なものとされている。そし
て、これら各センサの検出信号は、集合ケーブル７４を
介して制御装置６０に送出される。

【００２６】なお、振とう台１５、加湿パッド１６およ
びヒータ１７は、公知の振とう台、加湿パッドおよびヒ
ータと同様とされているので、その構成の詳細な説明は
省略する。

【００２７】ガス供給装置２０は、Ｏ₂ガスを供給する
Ｏ₂ガス供給機構２１と、ＣＯ₂ガスを供給するＣＯ₂ガ
ス供給機構２２と、Ｎ₂ガスを供給するＮ₂ガス供給機構
２３と、各ガス供給機構２１，２２，２３からの混合ガ
スを本体１０に供給するガス供給ポンプ２４と、接続ガ
ス配管２５とを備えてなるものとされる。

【００２８】Ｏ₂ガス供給機構２１は、Ｏ₂ガス高圧供給
源（図示省略）と、Ｏ₂ガス高圧供給源からのＯ₂ガス量
を制御するＯ₂ガス流量制御弁（以下、Ｏ₂制御弁とい
う）２１ａと、Ｏ₂制御弁２１ａを制御する弁コントロ
ーラ（以下、Ｏ₂コントローラという）２１ｂとを備え
てなるものとされる。

【００２９】ＣＯ₂ガス供給機構２２は、ＣＯ₂ガス高圧
供給源（図示省略）と、ＣＯ₂ガス高圧供給源からのＣ
Ｏ₂ガス量を制御するＣＯ₂ガス流量制御弁（以下、ＣＯ
₂制御弁）２２ａと、ＣＯ₂制御弁２２ａを制御する弁コ
ントローラ（以下、ＣＯ₂コントローラという）２２ｂ
とを備えてなるものとされる。

【００３０】Ｎ₂ガス供給機構２３は、Ｎ₂ガス高圧供給
源（図示省略）と、Ｎ₂ガス高圧供給源からのＮ₂ガス量
を制御するＮ₂ガス流量制御弁（以下、Ｎ₂制御弁とい
う）２３ａと、Ｎ₂制御弁２３ａを制御する弁コントロ
ーラ（以下、Ｎ₂コントローラという）２３ｂとを備え
てなるものとされる。

【００３１】ガス供給ポンプ２４は、接続ガス配管２５
を介してＯ₂ガス供給機構２１、ＣＯ₂ガス供給機構２２
およびＮ₂ガス供給機構２３から供給される混合ガスを
接続ガス配管２５を介して本体１０に供給するものとさ
れる。かかるガス供給ポンプ２４は、例えば数気圧程度
まで加圧でき、かつオイルフリーな加圧ポンプとされ
る。また、急速にインキュベータ内部を所望の気体成分
で充満させたい場合には、アキュムレータなどのバッフ
ァタンクを併用することも望ましいとされる。ガス供給
ポンプ２４と本体１０とを接続している接続ガス配管２
５には雑菌の本体１０内への侵入を阻止するための滅菌
フィルタ２５ａが介装されている。

【００３２】ガス排気装置３０は、ガス排気ポンプ３１
とガス排気配管３２とを備えてなるものとされる。ガス
排気ポンプ３１は、例えば数分の１気圧程度まで減圧で
き、かつオイルフリーな一種の真空ポンプに近いものと
される。また、急速にインキュベータ内部を減圧させた
い場合には、真空タンクなどのバッファタンクを併用す
ることも望ましいとされる。ガス排気ポンプ３１と本体
１０とを接続しているガス排気配管３２には雑菌の本体
１０への侵入を阻止するための滅菌フィルタ３２ａが介
装されている。

【００３３】ガス圧力制御装置４０は、圧力制御弁４１
と、圧力制御弁４１を制御する弁コントローラ（以下、
圧力コントローラという）４２と、排気管４３とを備え
てなるものとされる。圧力制御弁４１と本体１０とを接
続している排気管４３には雑菌などの本体１０内への侵
入を阻止するための滅菌フィルタ４３ａが介装されてい
る。

【００３４】ガス撹拌装置５０は、本体１０の底部に設
けられた所要数の吸気孔５１に接続された吸気管５２
と、吸気管５２の集合端に一端が接続された吸気側連絡
管５３と、吸気側連絡管５３の他端に吸気側が接続され
た循環ファン５４と、循環ファン５４の吐出側に一端が
接続された吐出側連絡管５５と、吐出側連絡管５５の他
端に接続された吐出管５６とを備えてなるものとされ、
吐出管５６の各吐出分岐管が本体１０の天井部に設けら
れた各吐出孔５７に接続されている。また、吐出側連絡
管５５には雑菌などの本体１０内への侵入を阻止するた
めの滅菌フィルタ５５ａが介装されている。

【００３５】制御装置６０は例えばコンピュータとされ
て、湿度センサや温度センサからの測定値に基づいてヒ
ータ電源１７ａを制御するようプログラムされるととも
に、後述する各種処理がなし得るようにプログラムされ
ている。

【００３６】次に、図２参照しながら、かかる構成とさ
れているインキュベータＩのガス濃度制御および圧力制
御について説明する。なお、この制御は制御装置６０の
コントロールの下にさなれる。

【００３７】（１）Ｏ₂濃度、ＣＯ₂濃度および圧力を設
定する。これらの設定値は固定値である場合のみならず
時間的に変化する場合も含まれる。

【００３８】（２）Ｏ₂濃度設定値とＯ₂センサ７１から
のＯ₂濃度測定値との偏差（Ｏ₂濃度偏差）、ＣＯ₂濃度
設定値とＣＯ₂センサ７２からのＣＯ₂濃度測定値との偏
差（ＣＯ₂濃度偏差）、および圧力設定値と圧力センサ
７３からの圧力測定値との偏差（圧力偏差）を算出す
る。

【００３９】（３）算出されたＯ₂濃度偏差をＯ₂コント
ローラ２１ｂおよびＮ₂コントローラ２３ｂに入力し、
算出されたＣＯ₂濃度偏差をＣＯ₂コントローラ２２ｂお
よびＮ ₂コントローラ２３ｂに入力し、算出された圧力
偏差を圧力コントローラ４２およびＮ₂コントローラ２
３ｂに入力する。

【００４０】（４）Ｏ₂コントローラ２１ｂは入力され
たＯ₂濃度偏差に対応した開度にＯ₂制御弁２１ａを設定
し、ＣＯ₂コントローラ２２ｂは入力されたＣＯ₂濃度偏
差に対応した開度にＣＯ₂制御弁２２ａを設定し、圧力
コントローラ４２は入力された圧力偏差に対応した開度
に圧力制御弁４１を設定し、Ｎ₂コントローラ２３ｂは
入力されたＯ₂濃度偏差、ＣＯ₂濃度偏差および圧力偏差
に対応した開度にＮ₂制御弁２３ａを設定する。

【００４１】これにより、本体１０内のガス濃度および
圧力が設定値に制御される。

【００４２】図３に、各センサの検出信号と各制御弁の
開閉動作との関係をテーブル図で示す。図３中、＋はセ
ンサの測定値が設定値より大きいことを示し、−はセン
サの測定値が設定値より小さいことを示し、〇は弁を開
動作させることを示し、×は弁を閉動作させることを示
す。

【００４３】以下、図３に基づいて各制御弁の動作につ
いて説明する。

【００４４】（１）Ｏ₂センサ７１の測定値、ＣＯ₂セン
サ７２の測定値および圧力センサ７３の測定値のいずれ
もが設定値よりも大きければ、つまりＯ₂濃度偏差、Ｃ
Ｏ₂濃度偏差および圧力偏差がいずれもがマイナスであ
れば、Ｏ₂制御弁２１ａは閉動作され、ＣＯ₂制御弁２２
ａは閉動作され、Ｎ₂制御弁２３ａは開動作され、圧力
制御弁４１は開動作される。

【００４５】（２）Ｏ₂センサ７１の測定値およびＣＯ₂
センサ７２の測定値が設定値よりも大きく、圧力センサ
７３の測定値が設定値よりも小さければ、つまりＯ₂濃
度偏差およびＣＯ₂濃度偏差がマイナスで圧力偏差がプ
ラスであれば、Ｏ₂制御弁２１ａは閉動作され、ＣＯ₂制
御弁２２ａは閉動作され、Ｎ₂制御弁２３ａは開動作さ
れ、圧力制御弁４１は閉動作される。

【００４６】（３）Ｏ₂センサ７１の測定値が設定値よ
りも大きく、ＣＯ₂センサ７２の測定値が設定値よりも
小さく、圧力センサ７３の測定値が設定値よりも大きけ
れば、つまりＯ₂濃度偏差がマイナスでＣＯ₂濃度偏差が
プラスで圧力偏差がマイナスであれば、Ｏ₂制御弁２１
ａは閉動作され、ＣＯ₂制御弁２２ａは開動作され、Ｎ₂
制御弁２３ａは閉動作され、圧力制御弁４１は開動作さ
れる。

【００４７】（４）Ｏ₂センサ７１の測定値が設定値よ
りも大きく、ＣＯ₂センサ７２の測定値および圧力セン
サ７３の測定値が設定値よりも小さければ、つまりＯ₂
濃度偏差がマイナスでＣＯ₂濃度偏差およ圧力偏差がプ
ラスであれば、Ｏ₂制御弁２１ａは閉動作され、ＣＯ₂制
御弁２２ａは開動作され、Ｎ₂制御弁２３ａは開動作さ
れ、圧力制御弁４１は閉動作される。

【００４８】（５）Ｏ₂センサ７１の測定値が設定値よ
りも小さく、ＣＯ₂センサ７２の測定値および圧力セン
サ７３の測定値が設定値よりも大きければ、つまりＯ₂
濃度偏差がプラスでＣＯ₂濃度偏差およ圧力偏差がマイ
ナスであれば、Ｏ₂制御弁２１ａは開動作され、ＣＯ₂制
御弁２２ａは閉動作され、Ｎ₂制御弁２３ａは閉動作さ
れ、圧力制御弁４１は開動作される。

【００４９】（６）Ｏ₂センサ７１の測定値が設定値よ
りも小さく、ＣＯ₂センサ７２の測定値が設定値よりも
大きく、圧力センサ７３の測定値が設定値よりも小さけ
れば、つまりＯ₂濃度偏差がプラスでＣＯ₂濃度偏差がマ
イナスで圧力偏差がプラスであれば、Ｏ₂制御弁２１ａ
は開動作され、ＣＯ₂制御弁２２ａは閉動作され、Ｎ₂制
御弁２３ａは開動作され、圧力制御弁４１は閉動作され
る。

【００５０】（７）Ｏ₂センサ７１の測定値およびＣＯ₂
センサ７２の測定値が設定値よりも小さく、圧力センサ
７３の測定値が設定値よりも大きければ、つまりＯ₂濃
度偏差およびＣＯ₂濃度偏差がマイナスで圧力偏差がプ
ラスであれば、Ｏ₂制御弁２１ａは開動作され、ＣＯ₂制
御弁２２ａは開動作され、Ｎ₂制御弁２３ａは閉動作さ
れ、圧力制御弁４１は開動作される。

【００５１】（８）Ｏ₂センサ７１の測定値、ＣＯ₂セン
サ７２の測定値および圧力センサ７３の測定値のいずれ
もが設定値よりも小さければ、つまりＯ₂濃度偏差、Ｃ
Ｏ₂濃度偏差および圧力偏差がいずれもがプラスであれ
ば、Ｏ₂制御弁２１ａは開動作され、ＣＯ₂制御弁２２ａ
は開動作され、Ｎ₂制御弁２３ａは閉動作され、圧力制
御弁４１は閉動作される。

【００５２】このように、このインキュベータＩによれ
ば、最適な雰囲気ガス濃度・ガス圧力・湿度および温度
の下で細胞の培養がなし得る。また、圧力制御がなし得
るので、各種圧力の下での細胞の培養試験がなし得る。
それにより、各種細胞の培養に適した圧力を見出すこと
もできる。さらに、ガス撹拌装置５０により本体１０内
のガスが常時撹拌されているので、均一な雰囲気ガスの
下で細胞を培養できる。

【００５３】図４に、かかる構成とされたインキュベー
タＩを備えた培養細胞処理システムＳをブロック図で示
す。

【００５４】培養細胞処理システムＳは、図４に示すよ
うに、インキュベータＩと、インキュベータＩにより培
養された細胞のスクリーニングなどの処理をする処理装
置８０と、搬送容器Ｖを開閉する搬送容器開閉装置９０
と、クリーンロボットＲと、それらを収容しているクリ
ーンルーム１００と、クリーンルーム１００内をモニタ
するモニタ装置１１０と、主制御装置Ｃとを備えてなる
ものとされる。

【００５５】処理装置８０は、分注器８１やプレート洗
浄器８２などを備えてなるものとされる。なお、分注器
８１やプレート洗浄器８２などは、公知のものと同様と
されているので、その構成の詳細な説明は省略する。

【００５６】搬送容器開閉装置９０は、搬送容器Ｖを載
置した状態で分離可能とされた搬送容器Ｖの上部を分離
するものとされる。搬送容器開閉装置９０は、具体的に
は、搬送容器Ｖを載置する載置台９１を有するスタンド
９２と、スタンド９２の背面部から一体的に垂設された
上部着脱機構９３とを備えてなるものとされる（図５参
照）。

【００５７】載置台９１には、明瞭には図示されていな
いが、上部をロックしているロック機構のロックを解除
するするとともにロックをなすロック処理手段９１ａが
設けられて、載置された搬送容器Ｖのロックを解除して
上部着脱機構９３による分離が可能な状態とするととも
に、底部に載置された上部をロックするようにされてい
る。

【００５８】上部着脱機構９３は、ロックが解除された
上部を把持する把持爪９３ａと、把持爪９３ａを昇降す
る昇降手段とを備えてなるものとされる。この上部着脱
機構９３により、上部は搬送容器Ｖに収納されている細
胞や試薬などの搬出に支障のない高さまで上昇させられ
る。

【００５９】クリーンロボットＲは、ロボットＲが動作
した際に粉塵などが飛散しないよう構成された多関節ロ
ボットとされる。このロボットＲは、例えば、インキュ
ベータＩからの培養細胞の搬出およびその搬出した細胞
の処理装置８０への搬送、搬送容器Ｖからの細胞の搬出
や搬送容器Ｖへの細胞の搬入などがなし得るようティー
チングされている。この場合、ロボットＲは複数台とさ
れてそれらのロボットＲ，Ｒが協働して作業するように
されてもよい。また、図４に示すように、ロボットＲは
クリーンルーム１００天井に配設された走行レールＲａ
を走行するようにされてもよい。

【００６０】クリーンルーム１００は、図４に示すよう
に、入口部にシャワー室１０１が設けられそのシャワー
室１０１に隣接して主室１０２が設けられてなるものと
される。つまり、クリーンルーム１００に搬入された搬
送容器Ｖなどは、このシャワー室１０１において滅菌液
がシャワーされて付着している雑菌などの除去がなされ
るようにされている。これにより、クリーンルーム１０
０に搬送容器Ｖなどに付着した雑菌などの侵入が阻止さ
れる。また、シャワー室１０１の入口には入口扉１０３
が設けられ、シャワー室１０１と主室１０２との仕切壁
１０４には主室扉１０５が設けられている。入口扉１０
３および主室扉１０５は、それぞれ自動開閉式の密閉扉
とされるとともに、一方の密閉が確認されてから他方が
開となるようにされている。

【００６１】モニタ装置１１０は、クリーンルーム１０
０内を撮像する撮像装置、例えばテレビカメラ１１１
と、そのテレビカメラ１１１からの画像を表示するモニ
タテレビ１１２とからなるものとされる。

【００６２】主制御装置Ｃは、例えば各種制御をなすよ
うに構成されたコンピュータとされる。この場合、前述
したインキュベータＩの制御装置６０は、主制御装置Ｃ
に一体化されている。

【００６３】次に、かかる構成とされた培養細胞処理シ
ステムＳにおける培養細胞の処理の幾つかについて説明
する。なお、以下の処理は主制御装置Ｃのコントロール
の下になされる。

【００６４】処理形態１

【００６５】（１）入口扉１０３が開かれる。

【００６６】（２）搬送容器Ｖがシャワー室１０１内に
置かれた搬送容器開閉装置９０の載置台９１に設置され
る。

【００６７】（３）入口扉１０３が密閉された後、滅菌
液が所定時間シャワーされる。

【００６８】（４）滅菌液のシャワー終了後、ロック解
除手段９１ａが搬送容器Ｖのロックを解除する。

【００６９】（５）ロックが解除された搬送容器Ｖの上
部を、上部着脱機構９３により所定笠まで上昇させる。

【００７０】（６）主室扉１０５が開かれる。

【００７１】（７）搬送容器Ｖの下部（定部および培養
容器設置用の棚）が主室１０２に搬入される。

【００７２】（８）主室扉１０５が閉じられる。

【００７３】（９）インキュベータＩの開閉自在とされ
ている鏡板を開放する。

【００７４】（１０）ロボットＲにより細胞が培養され
ている容器（以下、培養容器という）をインキュベータ
Ｉから取り出し、ついでインキュベータＩの鏡板を閉じ
る。

【００７５】（１１）ロボットＲにより培養容器を搬送
容器Ｖの下部（あるいは棚の上）に搬送し、設置する。

【００７６】（１２）ロボットＲが退避した後、主室扉
１０５が開かれる。

【００７７】（１３）搬送容器の下部がシャワー室に搬
出され、搬送容器開閉装置９０の載置台９１に設置され
る。

【００７８】（１４）主室扉１０５が閉じられる。

【００７９】（１５）所定高さに載置されていた搬送容
器Ｖの上部を、上部着脱機構９３により底部に載置して
ロックする。

【００８０】しかる後、この搬送容器Ｖは本出願人が別
途提案している細胞搬送装置に組み込まれて目的地まで
搬送される。

【００８１】処理形態２

【００８２】（１）インキュベータＩの開閉自在とされ
ている鏡板を開放する。

【００８３】（２）ロボットＲにより培養容器をインキ
ュベータＩから取り出し、ついでインキュベータＩの鏡
板を閉じる。

【００８４】（３）ロボットＲにより培養容器を処理装
置８０の分注器８１に搬送する。

【００８５】しかる後、分注器８１により培養細胞が分
注されて所定の試験がなされる。

【００８６】このように、この培養細胞処理システムＳ
によれば、培養された細胞を雑菌に汚染されることなく
処理することができる。また、モニタ装置によりクリー
ンルーム内を常時モニタしているので、クリーンルーム
内に異変が生じても迅速に対処できる。

【００８７】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明の細胞培養
器によれば、雰囲気ガスを所望圧力として細胞を培養で
きる。また、本発明の細胞培養器によれば、種々の圧力
の下で細胞を培養できるので、当該細胞の培養に最適な
圧力を見出せるという優れた効果も得られる。

【００８８】一方、本発明の培養細胞処理システムによ
れば、雑菌に汚染されることなく、細胞培養器により培
養された細胞を処理できるという優れた効果が得られ
る。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の一実施形態にかかる細胞培養器の概略
図である。

【図２】ガス供給装置の要部ブロック図である。

【図３】測定値の設定値からのずれと制御弁の開閉動作
との関係を示すテーブル図である。

【図４】本発明の一実施形態にかかる細胞培養器を備え
た培養細胞処理システムの概略図である。

【図５】同培養細胞処理システムの搬送容器開閉装置の
概略図であって、同（ａ）は正面図を示し、同（ｂ）は
側面図を示す。

【符号の説明】

１０本体１１耐圧円筒容器２０ガス供給装置２１Ｏ₂ガス供給機構２２ＣＯ₂ガス供給機構２３Ｎ₂ガス供給機構３０ガス排気装置４０ガス圧力制御装置５０ガス撹拌装置６０制御装置７０センサ機構８０処理装置８１分注器９０搬送容器開閉装置９１載置台９３上部着脱機構１００クリーンルーム１０１シャワー室１０２主室１１０モニタ装置１１１モニタテレビＣ主制御装置ＩインキュベータＲクリーンロボットＳ培養細胞処理システムＶ搬送容器

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者八木栄一明石市川崎町１番１号川崎重工業株式会社明石工場内 (72)発明者久保貞夫明石市川崎町１番１号川崎重工業株式会社明石工場内Ｆターム(参考） 4B029 AA02 BB11 CC01 DB19 DF07

Claims

【特許請求の範囲】

【請求項１】耐圧容器と、該耐圧容器に雰囲気ガスを
供給するガス供給装置と、該雰囲気ガスの圧力を制御す
るガス圧力制御装置とを備えてなることを特徴とする細
胞培養器。
【請求項２】雰囲気ガスの撹拌をなすガス撹拌装置を
備えてなることを特徴とする請求項１記載の細胞培養
器。
【請求項３】加熱手段および／または加湿手段を備え
てなることを特徴とする請求項１記載の細胞培養器。
【請求項４】耐圧容器内面が滅菌液による洗浄に適し
た形態とされてなることを特徴とする請求項１記載の細
胞培養器。
【請求項５】ガス供給装置が、Ｏ₂ガスを供給するＯ₂
ガス供給機構と、ＣＯ₂ガスを供給するＣＯ₂ガス供給機
構と、Ｎ₂ガスを供給するＮ₂ガス供給機構とを備えてな
ることを特徴とする請求項１記載の細胞培養器。
【請求項６】請求項１ないし請求項５のいずれか一項
に記載の細胞培養器をクリーンルーム内に備えてなるこ
とを特徴とする培養細胞処理システム。
【請求項７】クリーンルームが入口部に滅菌液をシャ
ワーするシャワー室を備えてなることを特徴とする請求
項６記載の培養細胞処理システム。
【請求項８】クリーンルームがクリーンロボットを備
えてなることを特徴とする請求項６記載の培養細胞処理
システム。
【請求項９】クリーンルームがモニタ装置を備えてな
ることを特徴とする請求項６記載の培養細胞処理システ
ム。
【請求項１０】クリーンルームが搬送容器の開閉をな
す搬送容器開閉装置を備えてなることを特徴とする請求
項６記載の培養細胞処理システム。