JP2003317222A - 記録媒体 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】高密度記録用の、記録層にパターンが施され微
小記録ビットが記録できる媒体を提供すること。 【解決手段】本発明では基板或いはテープもしくは下地
膜上に微粒子を配列させ、その上から中間層または記録
層を、微粒子の配列に基づく形状の起伏が転写されるよ
うに作製する。記録膜中、微粒子の直上に形成された部
分は比較的平坦にであるが、微粒子の境界部分に形成さ
れた部分はくぼんでいる。このため記録層には形状の起
伏が規則正しく配列した構造が実現する。これらの分布
を利用して記録ビット形状を制御することにより、高密
度磁気記録媒体を作製することができる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は磁気あるいは光磁気
記録媒体に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】現在の磁気記録媒体は円盤状の基板ある
いはテープに磁性膜を形成した構造になっているが、記
録密度の向上に伴い、媒体に起因するノイズの増大が問
題となっている。媒体ノイズの主たる原因はビット境界
部のジグザグ状の磁壁に起因すると考えられている。こ
れは、ビットの形状がヘッドの書き込み磁場や媒体内を
構成する粒子サイズなどいろいろな要因を踏まえて決定
され、特に粒子サイズのばらつき等のために、ビット境
界部が形成される位置が不確定であることに起因する。
ノイズ低減のためには記録ビット境界部の凹凸を小さく
することが必要であり、このためには、磁性膜を形成す
る結晶粒を微細化かつ均一化することが有効であると考
えられている。しかしながら、結晶粒の大きさを現状レ
ベル（10ｎｍ程度）以下に微細化することは、現状の膜
形成技術では困難と考えられている。

【０００３】この問題に対応するため、磁性層表面に微
少な凹凸を形成し、凸部を１記録ビットとして用いる方
式、いわゆるパターンドメディアが提案されている。例
えば、日本国特許公開広報(A) 特開平3-22211公報には
このようなパターンドメディアの一例が開示されてい
る。パターンドメディアによれば、理論上、記録ビット
を制限無く微細化できるので、高密度磁気記録が可能に
なると考えられている。磁性粒子パターンを作成する手
法としては、電子線リソグラフィー／イオンエッチング
によるパターンニングや、収束イオンビーム(FIB)等
で、磁性膜に直接パターンを形成する方法等が提案され
ている。これらの手法では比較的容易に粒子形状を制御
できる反面、記録密度がリソグラフィーやミリングなど
微細加工技術の限界により制限され、現在報告されてい
るものでは150Gbit/inch2程度が限界である。また磁性
膜毎に電子線もしくはイオン描画を行うため、スループ
ットが極端に悪く、これを克服するためにインプリント
法等が提案されているが、この方式では原盤の微細構造
を記録媒体に転写する精度が課題となる。

【０００４】他方、磁性粒子の更なる微細化のため、形
状の揃った磁性微粒子を自己組織化により配列させると
いう技術が検討されており、特開2000-48340号公報に
は、このような微粒子を記録層として用いた磁気記録媒
体に関する技術が開示されている。この方式は、容易に
広い面積にわたって磁性粒子の配列ができるため、パタ
ーンドメディアに比べ製造時のスループットは高いと考
えられている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】自己組織化により微粒
子層を形成した記録媒体においても、形成する微粒子の
大きさを微細化すると、周囲の熱により磁性結晶粒の磁
化が反転し、その結果記録ビットが消去されるという熱
揺らぎの問題が発生する。熱揺らぎ耐性は、記録媒体の
異方性定数Kuと１粒子あたりの体積Vの積で決まるの
で、その劣化を防ぐためには、Vの減少分をKuの増加で
補う必要がある。つまり非常に大きな磁気異方性を持つ
材料で磁性粒子を構成する必要がある。しかしながら、
記録時に必要なヘッド磁界はVにはよらずKuに関係し、
大きな磁気異方性は大きなヘッド磁界を必要とする。現
在用いられている磁気ヘッドの飽和磁界を考えると、異
方性磁界の大きな記録媒体への記録はできない。つま
り、記録ビット境界部の凹凸を薄くするために磁性粒子
の粒径を微細化すると熱揺らぎ耐性が低下するという問
題があり、自己組織化型の記録媒体では、熱安定性と記
録特性の両立は困難である。

【０００６】本発明の目的は、記録ビット形状の制御技
術を提供することにより、媒体ノイズを低減した高密度
磁気記録媒体を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明では、記録媒体の
磁性層の下部に形成される下地層の表面に微粒子の層を
設けることにより、記録ビット形状の制御を可能とす
る。下地層表面に微粒子を配列させた層を設け、この層
の上に磁性層を形成することにより、微粒子層表面の微
細な凹凸が磁性層表面に転写される。磁性層表面の凹部
には磁壁がピニングされやすい。従って、記録ヘッドの
記録磁界により記録ビットが形成される際には、磁化遷
移領域は磁性層表面の凹部に形成される。また、図１
(b)に示すように、磁壁の厚みは、表面凹凸の大きさに
よって変わる。よって、微粒子層として使用する微粒子
の平均粒径を小さくすればそれだけ磁壁の厚みも薄くで
き、媒体ノイズを低減できる。微粒子自体を磁性層とし
て使用するわけではないので、熱揺らぎの問題も発生し
ない。

【０００８】磁性層を構成する材料としては、異方性磁
界の大きなアモルファスの硬質磁性材料、ないし多層膜
材料を用いることが好ましい。アモルファス材料の場合
は、記録ビット境界が磁性結晶の形状によらずに決まる
ため特に好ましい。

【０００９】

【発明の実施の形態】まず、図１を用いて本発明の原理
について説明する。図１（ａ）が従来の記録媒体、図１
（ｂ）が本発明の記録媒体を示す。１１、１２が磁性層
の表面図、１３，１４が磁性層の断面図である。図１
（ｃ）、（ｄ）は、それぞれ、記録媒体からの出力信号
の記録ビットに対する位置による変化を模式的に示した
図である。（ｃ）が従来構造、（ｄ）が本発明に対応す
る。１５は記録ヘッド主磁極、１６は記録ヘッド補助磁
極、１７はヘッドからの磁力線を表す。従来の記録媒体
では、スパッタ法などで結晶粒を成長させて膜を作製す
る。この方法では粒子径のばらつきが大きくまた結晶粒
の位置もあまり規則性がない。磁化反転単位を結晶粒以
下にはできないため、結晶粒の大きさや位置のばらつき
は、図１(a)に示すようにそのまま記録ビット形状の不
均一さになる。その結果、ビット境界部１８の位置・形
状も乱雑になり、図１(c)に示すように、出力信号の波
形も歪になり、S/Nの劣化へと繋がる。これに対し、粒
径の揃った多数の微粒子を規則的に配列して微細な凹凸
を形成した下地層上に磁性層を形成すると、磁性層には
微粒子由来の微細な凹凸が転写される。磁性層表面にこ
のような形状起伏が存在すると、形状の起伏により磁気
異方性が局部的に変化し、磁化容易軸の向きが変化する
ため磁壁の移動が抑制される。磁性層に形成された凸部
は磁壁が移動しやすいため記録ビットの内部になりやす
く、記録層に窪みができている微粒子境界部の直上は磁
壁がピニングされやすくビット境界部になりやすい。こ
の場合、記録層に転写されている凹凸は規則正しく配列
されているので、記録ビットの形状も整いやすく、その
結果ビット境界部１８の位置・形状や出力信号の波形も
整い、S/Nの向上に繋がる。従って、ビットサイズを小
さくしていっても、微粒子の大きさレベルで記録ビット
の形状が制御され高いS/Nが得られるため、高密度記録
に適した記録媒体と言える。一方、磁性層表面に微少な
凹凸を形成した媒体として、テクスチャリング媒体が従
来からある。図２に従来のテクスチャリング媒体につい
て示す。２１がテクスチャ、２２が記録ビットを示す。
このような媒体において、テクスチャ２１の効用はヘッ
ドと媒体の吸着防止や、記録媒体の磁気異方性をトラッ
ク方向に付与するためであった。この従来のテクスチャ
２１は、トラック方向に円周の長さで延びている。本発
明で用いるテクスチャは、１記録ビットよりも短いとい
う点で従来タイプのものと明確に異なる。 （実施例１）図３には本実施例の磁気記録媒体の断面構
造を示す。本実施例の記録媒体は、微粒子層を備えた垂
直磁気記録媒体である。記録層の下に配列した微粒子が
あり、記録層はその構造を反映した起伏を有する。３１
はディスク基板ないしテープ状の基体である。３２はシ
ード層であり、その上に例えばＦｅＴａＣからなる軟磁
性層３３を形成した。材料によってはシード層は無くて
も良い場合がある。その上に球状の微粒子３４を粒子同
士が接触するように規則正しく配列させる。基板或いは
テープ３１の材料としては例えばシリコンあるいはガラ
スが考えられる。微粒子３４の材料としては、形状が整
うように製法可能なものであり、それを配列させた上か
ら中間層や記録層が成長できるものであれば特に制約は
ない。例えばTa、Pdなどが挙げられる。微粒子３４の粒
径は目標とする記録密度にも依存するが、現存の技術か
ら考えて5nmから20nm程度で、粒径の分散は10%までに抑
えるようにする。記録層３５は蒸着あるいはスパッタで
作製されるが、その構造は元素Ｔｂ、Ｄｙ、Ｇｄ、Ｆ
ｅ、Ｃｏ、Ｎｉ、前記元素のいずれかを含む２元系、前
記元素のいずれかを含む３元系、前記元素のいずれかを
含む４元系から選択される材料からなるアモルファス媒
体か、或いはＰｄ、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｐｔ、Ｎｉ、前記元素
の2元合金から選択される材料より構成される層を2種類
以上有する多層膜構造とする。記録層３５の厚さは目標
とする記録密度や下部にある配列した微粒子３４の粒径
にも依存するが、記録が可能でありかつ配列した微粒子
３４の形状が転写されていればよい。例えば10nmから20
nmが適当である。この媒体に磁気ヘッドで記録した場
合、配列した微粒子３４の形状の起伏のために、記録層
３５の持つ磁気異方性に局所的な変化が現われ、特に磁
化容易軸の向きが激しく変化している粒子境界部に磁壁
はトラップされやすくなる。つまり磁区境界部すなわち
記録ビット境界部３６，３７の位置が、配列した磁性微
粒子の位置によって制御される。このため、記録ビット
形状が整えられ、微小記録ビットの書き込みが可能とな
る。本実施例の記録媒体では、配列した粒子形状の転写
によるビット形状制御に加えて、記録層３５に加わる裏
打ち層からの磁界の強度分布によるビット形状制御も期
待できる。つまり、配列した微粒子３４の上部は強い磁
場がかかるので記録層３５は一方向に磁化されやすく記
録ビット内部になり易いが、微粒子３４の境界部にあた
る窪みの上に堆積した記録層３５にかかる磁場は弱く、
そのためヘッド磁界による磁化反転が困難なので、記録
ビットの広がりを抑制するビット境界部として利用する
のに適している。そのため、配列した微粒子３４の境界
部でビット境界部が形成されやすくなるという効果が期
待できる。この点と、図１の説明で記述した形状起伏転
写による効果が強められ、より一層ビット形状が制御さ
れ易くなる。ただし、記録層の磁壁の厚さが配列してい
る微粒子３４の直径よりも広い場合は磁壁のトラップが
困難になるので、本方式は有効ではない。図４には、本
実施例の磁気記録媒体の作成手順について記載した。 （１）ガラス基板４１上にシード層４２（例えばNiTaZr
を3nm）をスパッタ法で作製する。 （２）その上に軟磁性膜４３（例えばCoTaZrを200nm）
をスパッタ法で作製する。 （３）その上に中間層４４（例えばNiTaZrを3nm）をス
パッタ法で作製する。 （４）その上にナノ粒子層４５を微粒子の自己組織化に
より作製する。 （５）上記微粒子層の上から記録層４６をスパッタ法あ
るいは蒸着法で作成する。必要とあれば中間層を磁性微
粒子と記録層の間に作製する。記録層はアモルファス構
造あるいは多層膜構造が望ましく、TbFeCo、GdFeCo、Co
/Pd、Co/Pt等の材料が考えられる。この際、記録層の厚
さは、整列した磁性微粒子の構造による規則正しい起伏
が転写される程度の厚さにする必要がある。磁性微粒子
の直径が１０nmであるとすると、現行の記録層の厚さで
ある１５−２０nmであれば大丈夫である。また、必要に
応じて記録膜表面に生じた凹凸を、例えば研磨などによ
り滑らかにする方法もある。これはヘッドの記録媒体上
における浮上量を一定にする上で有利である。 （６） 上記記録層の上から保護膜４７（例えばカーボ
ン等）をスパッタ法あるいは蒸着法で作成する。保護膜
は、ヘッドの浮上量も考慮し数nm程度の厚さが望まし
い。また、必要に応じて保護膜表面に生じた凹凸を、例
えば研磨などにより滑らかにする方法もある。本実施例
では、微粒子層の材料としては、コロイド溶液法により
製造されたコバルトナノ粒子を用いた。図５を用いて微
粒子の製造方法を述べる。コバルトクロライド1mmolと
オレイン酸1mmolをジオクチルエーテル20mlに窒素雰囲
気中で混合し、100℃まで加熱する。その後トリブチル
フォスフィル3mmolを加えて200℃まで加熱する。そして
激しくかき混ぜながらジオクチルエーテルに溶解した還
元剤（例えばLiBEt3H）2mmolを加える。この過程でCo2+
が減少しCoクラスターが生成し、色が薄黒い青色から黒
色へ変化する。その状態で200℃に保ち２０分かき混
ぜ、その後室温に戻す。Co粒子をエタノールを加えて沈
殿させる。上清液はデカントや遠心分離によって除去す
る。互いに付着し合った状態で沈殿しているCo粒子を10
0-500・のオレイン酸を含んだヘキサンで分散させる。
大きさを選別するための沈殿や遠心分離をこの後に施せ
ばよい。生成する粒子のサイズ制御は、オレイン酸とと
もにコバルト粒子成長過程で役割を果たすアルキルフォ
スフィンのタイプにより可能である。例えばP(C8H17)3
を使うと2-6nmサイズの粒子ができ、P(C4H9)3を使うと7
-11nmサイズの粒子ができる。このようにあらかじめ大
まかに生成粒子サイズを規定しておき、さらに生成粒子
を細分化してサイズ選別をすればかなりサイズ分散の小
さい粒子が得られる。このコバルト粒子をアルゴン95
％、水素5%雰囲気中で300℃に加熱すると、hcp構造をも
つ粒子ができる。この過程で、コバルト粒子を囲んでい
た高分子膜は除去されるので、このまま大気中に出すと
酸化されてしまう。そのため例えばアセトン等で処理し
てから大気中に出すと、酸化がかなり少なくて済む。

【００１０】このようにサイズの揃ったコバルト粒子
を、例えばドデカンのような沸点の高い溶媒（216℃）
に溶かし、スピンコート等により平滑面上に拡散させ、
温度を上げてゆっくり溶媒を蒸発させると、Co粒子は熱
拡散エネルギーを受けてエネルギー的に安定な位置に移
動する。他の粒子との間に働くファンデルワールス力や
磁気的相互作用の結果、２次元的な配列が実現する。本
実施例では、微粒子層の材料としてコバルトナノ粒子を
用いたが、微粒子の材料としては、金属でも有機物でも
構わない。

【００１１】図６には本実施例の媒体を斜め上方から見
た斜視図を示す。微粒子の配列に基づく形状の起伏が磁
性層に転写されている。記録層中、微粒子の直上に形成
された部分は比較的平坦であるが、微粒子の境界部分に
形成された部分は窪んでいる。このため記録層は規則正
しく配列した形状の起伏を持つことになる。

【００１２】本実施例の垂直媒体は、裏打ち層といわれ
る軟磁性層を記録層の下に有している。Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎ
ｉ，Ｍｎ，Ｓｍ，Ｎｄ，Ｐｒ，Ｇｄ，前記元素のいずれ
かを含む２元合金、前記元素のいずれかを含む３元合金
から選択される材料からなる厚さ数十から数百ｎｍのア
モルファス、あるいは多結晶からなる層で、蒸着または
スパッタで記録層の下に作製する。この層は保磁力が小
さく飽和磁化が大きいため、ヘッドの主磁極と副磁極の
間に発生する磁場によって局部的に磁化され、ヘッドか
らの磁場と共に記録層への記録の補助をする。そこで、
配列させる微粒子をそのような軟磁性体で作製すれば、
微粒子形状による凸部分はヘッドとの距離が近くより一
層裏打ち層の磁化が誘起されやすいので記録が容易にな
り、微粒子境界部ではヘッドとの距離が遠いので逆に記
録がしにくく、ビット境界部になりやすい。微粒子の材
料としては、形状が整うように製法可能なものであり、
それを配列させた上から中間層や記録層が成長でき、飽
和磁束密度が大きく磁気異方性が小さければよい。候補
としてはＣｏ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｎ，Ｓｍ，Ｎｄ，Ｐｒ，
Ｇｄ，前記元素のいずれかを含む２元合金、前記元素の
いずれかを含む３元合金、Ｆｅ以外の少なくとも１種の
前記元素を含むＦｅ酸化物などが挙げられる。

【００１３】本実施例は、垂直媒体の裏打層表面に微粒
子層を設けたが、軟磁性材料の微粒子を用いれば、微粒
子層を何層も積層することにより軟磁性層を形成するこ
とも可能である。この場合、最上層の凹凸が磁性層に転
写されることとなる。また、微粒子層の上には、磁性層
に対する下地層を設けても良い。また、微粒子の規則正
しい配列のために、微粒子表面にスペーサとして被覆を
付けても良い。この被覆は例えばオレイン酸、アルキル
フォスフィル等の有機物が有効であるが、微粒子の種類
で決まる。被覆の種類によっては、微粒子配列後に行う
熱処理等によって、カーボン等に変質させ、変質後のも
のもスペーサや固定剤として利用できるものもある。本
発明は磁気記録媒体だけではなく、テープ上の磁気記録
媒体、光磁気記録媒体等にも応用できる。光磁気記録の
場合、媒体上においてレーザーで照射されて温度が上が
った部分が磁化反転をすることにより記録マークが書き
込まれていくが、磁気記録同様、記録マークの境界部を
微粒子の形状による凹凸で制御できる。垂直磁気記録媒
体だけではなく面内磁気記録媒体においても適用でき
る。図１０には、本発明に係る記録媒体を搭載した磁気
ディスク装置の例を示した。101が磁気記録媒体、102が
磁気ヘッド、103が、磁気ヘッドで読み取った磁気情報
を処理する信号処理回路、104がロータリアクチュエー
タである。本実施例の記録媒体は、裏打層を有する垂直
磁気記録媒体であり、磁気ヘッドとして単磁極ヘッドを
用いた方が、記録密度を向上する上で有効である。 （実施例２）本実施例は垂直媒体の非磁性中間層として
微粒子を用いた例である。本実施例の記録媒体の断面構
造を図７に示す。垂直磁気記録媒体では、記録層と軟磁
性層の間に非磁性層が形成されることが多いが、中間層
として微粒子が配列した層を使用して良い。配列した微
粒子７５を非磁性体で作製することにより、軟磁性層７
３と記録層７６の間の磁気的相互作用を調整する中間層
として利用する場合の実施例である。この場合の材料と
しては、例えば元素Ｃｏ，Ｆｅ，Ｎｉ，Ｍｎ，Ｓｍ，Ｎ
ｄ，Ｐｒ，Ｇｄ，前記元素のいずれかを含む２元合金、
前記元素のいずれかを含む３元合金、Ｆｅ以外の少なく
とも１種の前記元素を含むＦｅ酸化物から選択される材
料が考えられる。この場合、微粒子７５の配列に基づく
形状の起伏が記録層７６に転写されている。記録層７６
中、微粒子７５の直上に形成された部分は比較的平坦で
あるが、微粒子の境界部分に形成された部分は窪んでい
る。このため記録層は規則正しく配列した形状の起伏を
持つことになる。そのため記録層７６の持つ磁気異方性
に局所的な変化が現われ、特に磁化容易軸の向きが激し
く変化している粒子境界部に磁壁７７はトラップされや
すくなる。結果として、配列した微粒子７５の大きさレ
ベルで形状が制御された記録ビットを形成できる。 （実施例３）図８には、本発明の第３の実施例の磁気記
録媒体の断面図を示す。本実施例の記録媒体は、磁性層
の形成後に、研磨などの手法により表面を平坦化した記
録媒体であり、実施例１，２に記載した記録媒体とは異
なる原理に基づき磁壁のピニング効果を発生するもので
ある。基板８１の上に微粒子層８２と記録層８３を作製
後、表面を平坦化すると、微粒子直上の記録層は、微粒
子境界部直上の記録層と比べて膜厚が薄くなる。磁壁の
エネルギーを考えると、膜厚が薄い個所に記録ビット境
界部８４が存在した方が安定である。そのため、微粒子
直上にも記録ビット境界部は存在しやすく、微粒子境界
部の直上が持つ磁壁のピニング力との兼ね合いで、どち
らか一方、あるいはその両方が、ビット境界部８４がで
きやすい個所になる。また、記録層８３表面の研磨は、
ヘッドの記録媒体上の浮上量を一定にする上で有利であ
る。 （実施例４）本実施例の記録媒体の断面構造を図９に示
す。本実施例の記録媒体は、記録層として多層膜を用い
ており、実施例１，２に記載した記録媒体同様、多層膜
に微粒子層の凹凸を転写することにより磁壁のピニング
効果を発生させ、記録ビット形状を制御するものであ
る。基板９１の上に微粒子層９２を作成後、多層膜層を
作成する。多層膜が例えばＣｏ／Ｐｄであるとすれば、
Ｃｏ層９３、Ｐｄ層９４、Ｃｏ層９５といった順に例え
ばスパッタ法で作製する。本実施例では多層膜は３層で
あるが、更に多い場合もありうる。多層膜記録媒体の場
合もアモルファス記録媒体同様、磁化反転単位や磁壁の
ピニング力等が、膜につけられた凹凸で支配されやす
い。そのため、図９に示したように微粒子層９２の凹凸
をＣｏ層９３、Ｐｄ層９４、Ｃｏ層９５に転写すること
により、記録ビット境界部の位置を微粒子の大きさレベ
ルで制御できる記録媒体を作製することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の原理を示す概略図。

【図２】従来のテクスチャ媒体の構造を示す模式図。

【図３】本発明の第１の実施例に係る磁気記録媒体の構
造を示す概略図。

【図４】第１の実施例に係る記録媒体の製造方法を示す
フローチャート。

【図５】微粒子の製造方法を示す図。

【図６】本発明の第１の実施例に係る磁気記録媒体の斜
視図。

【図７】本発明の第２の実施例に係る磁気記録媒体の構
造を示す概略図。

【図８】本発明の第３の実施例に係る磁気記録媒体の構
造を示す概略図。

【図９】本発明の第４の実施例に係る磁気記録媒体の構
造を示す概略図。

【図１０】本発明の磁気記録媒体を搭載した磁気ディス
ク装置を示す図。

【符号の説明】

１１・・・従来の記録媒体の磁性層の表面図、１２・・
・本発明の記録媒体の磁性層の表面図、１３・・・従来
の記録媒体の磁性層の断面図、１４・・・本発明の記録
媒体の磁性層の断面図、１５・・・記録ヘッド上部磁
極、１６・・・記録ヘッド下部磁極、１７・・・記録磁
界、１８・・・磁壁、２１・・・テクスチャ、２２・・
・記録ビット、３１・・・基板、３２・・・シシード
層、３３・・・軟磁性層、３４・・・微粒子、３５・・
・磁性層（記録層）、３６，３７・・・磁壁、６１・・
・基板、６２・・・磁性層の断面、６３・・・磁性層の
表面、７１・・・基板、７２・・・シード層、７３・・
・軟磁性層、７４・・・中間層、７５・・・微粒子層、
７６・・・磁性層（記録層）、７７，７８・・・磁壁、
８１・・・基板、８２・・・微粒子層、８３・・・磁性
層、８４，８５・・・磁壁、８６・・・主磁極、８７・
・・補助磁極、８８・・・記録磁界、９１・・・基板、
９２・・・微粒子、９３、９５・・・Ｃｏ合金層、９４
・・・Ｐｄ層。

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.⁷ 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考） Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｇ１１Ｂ 5/84 Ｚ Ｈ０１Ｆ 1/20 Ｈ０１Ｆ 1/20 (72)発明者 土屋 裕子 東京都国分寺市東恋ケ窪一丁目280番地 株式会社日立製作所中央研究所内 Ｆターム(参考） 5D006 BA01 BA07 BB01 BB07 CA01 DA07 DA08 EA01 EA03 FA09 5D112 AA04 AA05 AA06 BB01 BB06 BD03 CC01 CC13 FA04 5E041 AA11 AA14 AA17 AA19 CA05 HB17 NN01 NN06

Claims (13)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に記録ビ
   ットを形成することにより情報を記録する磁気ヘッドと
   を備えた磁気記録装置であって、前記記録媒体は、ディ
   スク基板と、該ディスク基板上に形成された単数ないし
   複数の下地層と、前記下地層表面に形成された微粒子の
   層と、該微粒子層上に形成されたアモルファスの磁性層
   とを有し、前記微粒子の平均粒径は、前記記録ビットの
   ディスク基板に対する円周方向の長さよりも小さいこと
   を特徴とする磁気記録装置。
2. 【請求項２】請求項１に記載の磁気記録装置において、
   前記磁性層は、Ｔｂ、Ｄｙ、Ｇｄ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉを
   含む群から選択される２種以上の元素からなる合金を含
   有することを特徴とする磁気記録装置。
3. 【請求項３】請求項１に記載の磁気記録装置において、
   前記単数ないし複数の下地層は、少なくとも軟磁性材料
   からなる層を含むことを特徴とする磁気記録装置。
4. 【請求項４】請求項１に記載の磁気記録装置において、
   前記磁性層は、前記微粒子層に由来する凹凸を表面に有
   することを特徴とする磁気記録装置。
5. 【請求項５】請求項３に記載の磁気記録装置において、
   前記軟磁性材料からなる層を構成する材料は、Ｃｏ，Ｆ
   ｅ，Ｎｉ，Ｍｎ，Ｓｍ，Ｎｄ，Ｐｒ，Ｇｄを含む群から
   選択される少なくとも２種以上の元素を含む合金からな
   ることを特徴とする磁気記録装置。
6. 【請求項６】請求項３に記載の磁気記録装置において、
   前記粒子を構成する材料は、更にＦｅ酸化物を含有する
   ことを特徴とする磁気記録装置。
7. 【請求項７】請求項１に記載の磁気記録装置において、
   前記粒子は、表面に非磁性の材料からなる被覆層を有す
   ることを特徴とする磁気記録装置。
8. 【請求項８】磁気記録媒体と、該磁気記録媒体に記録ビ
   ットを形成することにより情報を記録する磁気ヘッドと
   を備えた磁気記録装置であって、前記記録媒体は、ディ
   スク基板と、該ディスク基板上に形成された単数ないし
   複数の下地層と、前記下地層表面に形成された前記記録
   ビットのディスク基板の円周方向長さよりも平均粒径の
   小さな粒子により形成された微粒子層と、該微粒子層上
   に形成された磁性層とを備えることを特徴とする磁気記
   録装置。
9. 【請求項９】請求項８に記載の磁気記録装置において、
   前記磁性層はＰｄとＰｔからなる群から選ばれる元素か
   らなる第１の膜と、Ｃｏ、Ｆｅ、Ｎｉからなる群から選
   ばれる元素からなる第２の膜とが積層された多層膜であ
   ることを特徴とする磁気記録装置。
10. 【請求項１０】磁気ヘッドによって記録ビットが形成さ
    れることにより情報が記録される磁気記録媒体の製造方
    法であって、ディスク基板上に単数ないしは複数の下地
    層を形成する工程と、該下地層の表面に、前記記録ビッ
    トのディスク基板の円周方向長さよりも平均粒径の小さ
    な粒子を配列する工程と、該配列された微粒子上に磁性
    層を形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方
    法。
11. 【請求項１１】請求項１０に記載の磁気記録媒体の製造
    方法において、前記単数ないし複数の下地層は少なくと
    も軟磁性層を含み、かつ前記磁性層として垂直磁化膜を
    形成することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。
12. 【請求項１２】請求項１１に記載の磁気記録媒体の製造
    方法において、前記垂直磁化膜と前記配列された粒子と
    の間に非磁性層を形成することを特徴とする磁気記録媒
    体の製造方法。
13. 【請求項１３】請求項１１に記載の磁気記録媒体の磁気
    記録媒体の製造方法において、前記垂直磁化膜として、
    Ｔｂ、Ｄｙ、Ｇｄ、Ｆｅ、Ｃｏ、Ｎｉを含む群から選択
    される２種以上の元素からなる合金を含有する層を形成
    することを特徴とする磁気記録媒体の製造方法。