JP2003308973A - Method of manufacturing organic el panel, and blanket for printing used for the same - Google Patents

Method of manufacturing organic el panel, and blanket for printing used for the same

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JP2003308973A
JP2003308973A JP2002180319A JP2002180319A JP2003308973A JP 2003308973 A JP2003308973 A JP 2003308973A JP 2002180319 A JP2002180319 A JP 2002180319A JP 2002180319 A JP2002180319 A JP 2002180319A JP 2003308973 A JP2003308973 A JP 2003308973A
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printing
layer
organic
blanket
ink
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JP2002180319A
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Japanese (ja)
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Yasuhiko Kondo
康彦 近藤
Atsushi Ochi
淳 越智
Hiromasa Okubo
博正 大久保
Makoto Sugitani
信 杉谷
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Sumitomo Rubber Industries Ltd
Original Assignee
Sumitomo Rubber Industries Ltd
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Publication date
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a method of manufacturing an organic EL panel excellent in mass productivity in which a detailed pattern of the organic EL element can be formed by a simple method without using expensive equipment and at a low cost, and to provide a blanket for printing which is suitable for enforcement of the method of manufacturing the organic EL panel. <P>SOLUTION: After filling up with a printing ink, which is made by dissolving or distributing with stability an organic EL element forming material such as a light-emitting layer forming material into a solvent, into a dent part of an intaglio of printing, the printing ink concerned is transferred to the blanket for printing from the dent part of the intaglio of printing, further, by transferring the printing ink transferred to the surface of the blanket for printing on a substrate 11, a light-emitting layer 14 or the like is formed. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、極めて微細なパタ
ーンの形成を可能とする有機ELパネルの製造方法と、
その製造方法に好適な凹版オフセット印刷用ブランケッ
トとに関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing an organic EL panel which enables formation of extremely fine patterns, and
A blanket for intaglio offset printing suitable for the manufacturing method.

【0002】[0002]

【従来の技術】有機EL(電界発光)パネルは、直流低
電圧駆動が可能であるために消費電力が少ない、自己発
光型であって輝度が高い、素子自体の薄型化が可能であ
る、といった特徴を有することから、近年、携帯電話
機、PDA(携帯情報端末)、モバイルパソコン、車載
用ナビゲーションシステム等におけるディスプレイへの
応用が期待されている。
2. Description of the Related Art An organic EL (electroluminescence) panel consumes less power because it can be driven at a low DC voltage, is a self-luminous type with high brightness, and can be thinned. Due to its characteristics, it has been expected in recent years to be applied to displays in mobile phones, PDAs (personal digital assistants), mobile personal computers, in-vehicle navigation systems and the like.

【0003】この有機ELパネルを構成する有機EL素
子は、例えばガラス基板上に透明導電膜(ITO膜,陽
極)と、少なくとも有機発光体を含有する発光層を含
み、必要に応じて正孔輸送層および電子輸送層を含む単
層または多層の有機物層と、陰極(金属電極)と、を積
層したものである。この有機EL素子は、両電極間に直
流電源で電圧を印加し、透明導電膜から正孔輸送層に注
入された正孔(ホール)と陰極から発光層に注入された
電子とを発光層内で結合させて有機発光体を励起させる
ことによって、発光を生じさせるものである。
The organic EL element constituting this organic EL panel includes, for example, a transparent conductive film (ITO film, anode) on a glass substrate and a light emitting layer containing at least an organic light emitting body, and if necessary, transports holes. A single layer or a multi-layer organic material layer including a layer and an electron transport layer, and a cathode (metal electrode) are laminated. In this organic EL device, a voltage is applied between both electrodes by a DC power source, and holes injected from the transparent conductive film into the hole transport layer and electrons injected from the cathode into the light emitting layer are contained in the light emitting layer. The light is generated by exciting the organic light-emitting body by binding with.

【0004】現在研究開発されている有機EL素子は、
主に、発光体が低分子タイプの有機化合物からなるもの
であって、発光層は当該有機低分子発光体を基材上に蒸
着させることによって形成されている。それゆえ、蒸着
装置の観点から、有機ELパネルの大型化に限界があっ
た。一方、高分子タイプの有機発光体(有機高分子発光
体)は、それ自体を溶剤に溶解させることで自在にイン
キとして使用することが可能である。それゆえ、従来公
知の種々の印刷方式によって、あるいはインキジェット
方式によって、発光層を形成することができる。しか
も、印刷方式やインキジェット方式を採用して発光層を
形成することで、有機ELパネルの大型化が可能とな
る。
Organic EL devices currently being researched and developed are
The light emitting body is mainly composed of a low molecular weight type organic compound, and the light emitting layer is formed by vapor deposition of the organic low molecular weight light emitting body on a substrate. Therefore, there is a limit to the size increase of the organic EL panel from the viewpoint of the vapor deposition device. On the other hand, a polymer type organic light emitting body (organic polymer light emitting body) can be freely used as an ink by dissolving itself in a solvent. Therefore, the light emitting layer can be formed by various conventionally known printing methods or ink jet methods. Moreover, the organic EL panel can be upsized by forming the light emitting layer by using the printing method or the ink jet method.

【0005】[0005]

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、インク
ジェット方式によって発光層等を形成する場合、ノズル
の目詰まりを防止するためにインキジェット用インキの
粘度を極めて低く設定する必要がある。その一方で、イ
ンキの粘度が低いとインキを吹付ける基板等の表面でイ
ンキが拡がり易くなるため、これを防止するために当該
基板等の表面にフッ素系の表面処理を施す必要が生じ
る。また、インクジェット方式では、有機EL素子の1
画素毎にインキを吹付ける作業が必要となる。従って、
工程が複雑で、生産性が低いという問題がある。さら
に、インクジェット方式自身の印刷精度が±30μm程
度と低いことから、高精度化は難しいという問題もあ
る。一方、従来の印刷方式によって発光層等を形成する
場合には、通常、有機EL素子に求められる数十μmオ
ーダーのパターン形成が困難であって、有機EL素子の
精度が低下するおそれがある。
However, in the case of forming the light emitting layer and the like by the ink jet method, it is necessary to set the viscosity of the ink for ink jet to be extremely low in order to prevent clogging of the nozzle. On the other hand, if the viscosity of the ink is low, the ink is likely to spread on the surface of the substrate or the like onto which the ink is sprayed, so that it is necessary to perform a fluorine-based surface treatment on the surface of the substrate or the like to prevent this. In addition, in the inkjet method, one of the organic EL elements is used.
It is necessary to spray ink on each pixel. Therefore,
There is a problem that the process is complicated and the productivity is low. Furthermore, since the printing accuracy of the inkjet method itself is as low as about ± 30 μm, it is difficult to improve the accuracy. On the other hand, when the light emitting layer and the like are formed by the conventional printing method, it is usually difficult to form a pattern of the order of several tens of μm required for an organic EL element, and the accuracy of the organic EL element may decrease.

【0006】そこで本発明の目的は、有機EL素子にお
ける発光層等の微細なパターンを、高価な設備を用いる
ことなく簡易な方法で、しかも低コストで形成すること
のできる、量産性に優れた有機ELパネルの製造方法を
提供することである。
Therefore, an object of the present invention is to provide a fine pattern such as a light emitting layer in an organic EL device by a simple method without using expensive equipment and at low cost, which is excellent in mass productivity. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing an organic EL panel.

【0007】本発明の他の目的は、有機ELパネルにお
ける発光層等の微細なパターンを印刷法によって形成す
るのに好適な印刷用ブランケットを提供することであ
る。
Another object of the present invention is to provide a printing blanket suitable for forming a fine pattern such as a light emitting layer in an organic EL panel by a printing method.

【0008】[0008]

【課題を解決するための手段および発明の効果】有機E
Lパネルの発光層は、発光特性等の観点から、その膜厚
を50〜100nm程度と、極めて薄く設定することが
要求され、さらには、厚さが均一で、表面が極めて平滑
であることも要求される。有機ELパネルにおいて任意
に形成される正孔輸送層や電子輸送層等の他の層につい
ても、その膜厚を50〜100nm程度と、極めて薄く
設定することが要求される。
Means for Solving the Problems and Effects of the Invention Organic E
The light emitting layer of the L panel is required to have an extremely thin film thickness of about 50 to 100 nm from the viewpoint of light emitting characteristics, and further, the thickness is uniform and the surface is extremely smooth. Required. Regarding other layers such as a hole transport layer and an electron transport layer which are arbitrarily formed in the organic EL panel, it is required to set the film thickness to be extremely thin, about 50 to 100 nm.

【0009】従来、発光層等の形成に用いられている蒸
着法は、厚さが均一で平滑性に優れた膜を形成する上で
非常に優れた方法であるが、前述のとおり、有機EL素
子の大型化を図る上で不可避的な欠点がある。一方、有
機高分子発光体等を溶剤に溶解させてインキとして使用
する場合には、例えばスピンコート等のコーティングに
よって膜を形成し、フォトリソグラフィーとエッチング
技術によってこれをパターン化したり、印刷法によって
パターンを形成したりする方法を採用できる。しかし、
前者の場合は、発光層等を形成する材料の大半が無駄に
なってコストが高くついたり、処理後の廃液処理に手間
がかかったりする問題がある。
Conventionally, the vapor deposition method used for forming a light emitting layer is a very excellent method for forming a film having a uniform thickness and excellent smoothness. There is an unavoidable drawback in increasing the size of the device. On the other hand, when an organic polymer light-emitting body or the like is dissolved in a solvent and used as an ink, a film is formed by coating such as spin coating, and the film is patterned by photolithography and etching techniques or patterned by a printing method. Can be adopted. But,
In the former case, there are problems that most of the material forming the light emitting layer is wasted, the cost is high, and the waste liquid treatment after the treatment is time-consuming.

【0010】従来公知の印刷法のうち、スクリーン印刷
法によって発光層等を形成する場合は、パターンの線幅
が100μmを下回ることによってその形状の忠実な再
現が不可能となったり、断線等を発生したりする問題が
あり、乾燥時の厚みが0.1μm程度の薄膜パターンを
形成するのが難しいという問題もある。さらに、原理
上、スクリーンの中央部分と周辺部分とでかかる力が異
なり、伸び量に差異が生じることから、同一の背面基板
上でパターンの印刷精度が異なるという結果を招いてし
まう。それゆえ、発光層等に要求される印刷精度(面内
±10μm)を十分に満足することができない。
When forming a light emitting layer or the like by a screen printing method among the conventionally known printing methods, since the line width of the pattern is less than 100 μm, it is not possible to faithfully reproduce the shape, and the disconnection or the like occurs. However, there is also a problem that it is difficult to form a thin film pattern having a thickness of about 0.1 μm when dried. Further, in principle, the applied force is different between the central part and the peripheral part of the screen, and the amount of expansion is different, resulting in different pattern printing accuracy on the same back substrate. Therefore, the printing accuracy (in-plane ± 10 μm) required for the light emitting layer or the like cannot be sufficiently satisfied.

【0011】平版オフセット印刷法による場合は、1回
の印刷で得られるパターンの膜厚が0.5μm以下と極
めて薄く、しかも乾燥工程による膜厚の減少を考慮すれ
ば、乾燥前には2〜10μm程度の膜厚が得られるまで
重ね印刷を行なう必要が生じる。その結果、製造コスト
が上昇するばかりでなく、生産性や印刷精度の著しい低
下を招く。一方、平版オフセット印刷法の改良法であ
る、転写体の非画線部分にシリコーンゴムを用いた水無
し平版〔例えば、東レ(株)製の商品名「TAN」〕に
よる印刷が広く用いられつつある。しかし、水無し平版
による印刷も通常の平版による印刷と同様に、1回の印
刷で得られるパターンの膜厚が0.5μm程度に過ぎな
いことから、重ね印刷に伴う生産性や印刷精度の低下、
製造コストの上昇といった問題を有している。さらに、
水無し平版の解像度は約50μmで、これより細いライ
ンの印刷が不可能であることから、微細かつ高精度のパ
ターンが要求される発光層等のパターン形成には不向き
である。
In the case of the lithographic offset printing method, the thickness of the pattern obtained by one printing is as thin as 0.5 μm or less, and if the reduction of the thickness due to the drying process is taken into consideration, it is 2 to before the drying. Overprinting must be performed until a film thickness of about 10 μm is obtained. As a result, not only the manufacturing cost increases, but also the productivity and the printing accuracy are significantly reduced. On the other hand, printing using a waterless planographic printing plate (for example, trade name "TAN" manufactured by Toray Industries, Inc.) in which silicone rubber is used for the non-image area of the transfer body is widely used, which is an improved method of the planographic offset printing method. is there. However, in the case of waterless lithographic printing as well as in ordinary lithographic printing, the film thickness of the pattern obtained by one printing is only about 0.5 μm, and therefore productivity and printing accuracy are reduced due to overprinting. ,
There is a problem such as an increase in manufacturing cost. further,
The resolution of the waterless planographic printing plate is about 50 μm, and it is impossible to print finer lines than this, and therefore it is unsuitable for pattern formation of a light emitting layer or the like which requires a fine and highly precise pattern.

【0012】凸版オフセット印刷法による場合も、1回
の印刷により得られるパターンの膜厚が小さいために上
記と同様の問題があり、さらにこの場合は、パターンの
周辺にマージナルゾーンと呼ばれるインキのはみ出し部
分を生じることから、パターンを忠実に再現することが
極めて困難である。さらに、凹版直刷り印刷(グラビア
印刷)の場合は、直刷り印刷に用いられる版が剛直な部
材であることに起因して、剛直でしかも厚みムラのある
ガラス基板等に均一な印圧をかけることが難しくなり、
その結果、転写ムラが発生し易いという問題がある。
The letterpress offset printing method also has the same problem as described above because the thickness of the pattern obtained by one printing is small. Further, in this case, ink squeezing out called marginal zone around the pattern is caused. Since a part is generated, it is extremely difficult to faithfully reproduce the pattern. Further, in the case of intaglio direct printing (gravure printing), the plate used for direct printing is a rigid member, so that uniform printing pressure is applied to a glass substrate that is rigid and has uneven thickness. Becomes difficult,
As a result, there is a problem that uneven transfer is likely to occur.

【0013】これに対し、凹版オフセット印刷法では、
凹版の凹部の深さを変えることでパターンの膜厚を自由
に制御することが可能である。また、シリコーンゴム等
の表面エネルギーの低い素材からなる表面印刷層を備え
た印刷用ブランケット(転写体)を用いることによっ
て、剛直でやや厚みムラのある基板や柔軟なフィルムか
らなる基板などに対しても、凹版から印刷用ブランケッ
トに転移したインキを100%転写させることが可能に
なる。従って、1回の印刷で十分に厚さのあるパターン
を印刷形成することができ、しかも、インキの分断が凹
版から印刷用ブランケットへの転移時における1回しか
起こらないことから、印刷されたパターンの形状を非常
に良好なものとすることができる。以上の理由により、
本発明に係る有機ELパネルの製造方法においては、有
機EL素子のパターンを形成する目的で凹版オフセット
印刷法が採用される。
On the other hand, in the intaglio offset printing method,
It is possible to freely control the film thickness of the pattern by changing the depth of the recess of the intaglio plate. In addition, by using a printing blanket (transfer body) that has a surface printing layer made of a material with low surface energy such as silicone rubber, it is possible to use a rigid and slightly uneven thickness substrate or a flexible film substrate. Also, it becomes possible to transfer 100% of the ink transferred from the intaglio plate to the printing blanket. Therefore, a pattern having a sufficient thickness can be formed by printing once, and the ink separation occurs only once at the time of transfer from the intaglio plate to the printing blanket. Can have a very good shape. For the above reasons
In the method of manufacturing an organic EL panel according to the present invention, an intaglio offset printing method is adopted for the purpose of forming a pattern of an organic EL element.

【0014】すなわち、上記課題を解決するための本発
明に係る有機ELパネルの製造方法は、有機EL素子形
成材料を溶剤中に溶解または安定に分散させてなる印刷
インキを凹版の凹部に充填した後、当該印刷インキを凹
版の凹部から印刷用ブランケットに転移させ、さらに、
上記印刷用ブランケットの表面に転移した印刷インキを
基板上に転写することを特徴とする。
That is, in the method of manufacturing an organic EL panel according to the present invention for solving the above-mentioned problems, a printing ink formed by dissolving or stably dispersing an organic EL element forming material in a solvent is filled in the concave portion of the intaglio plate. After that, the printing ink is transferred from the concave portion of the intaglio plate to the printing blanket, and further,
The printing ink transferred to the surface of the printing blanket is transferred onto a substrate.

【0015】本発明に係る有機ELパネルの製造方法に
よれば、蒸着法によって有機EL素子を形成する場合の
ように高価な設備を用いる必要がなく、凹版オフセット
印刷法による簡易な手段・方法によって効率よく有機E
L素子を形成することができ、しかも極めて微細なパタ
ーンを高い精度でもって形成することができる。本発明
の有機ELパネルの製造方法において「有機EL素子形
成材料」とは、有機EL素子の必須の構成要素である発
光層を形成するための材料や、必要に応じて設けられる
正孔輸送層や電子輸送層を形成するための材料をいう。
According to the method of manufacturing an organic EL panel of the present invention, it is not necessary to use expensive equipment as in the case of forming an organic EL element by a vapor deposition method, and a simple means / method by an intaglio offset printing method is used. Efficient organic E
It is possible to form the L element, and furthermore, it is possible to form an extremely fine pattern with high accuracy. In the method for manufacturing an organic EL panel of the present invention, the “organic EL element forming material” means a material for forming a light emitting layer which is an essential constituent element of the organic EL element, and a hole transport layer provided as necessary. And a material for forming the electron transport layer.

【0016】なお、特開平11−273859号公報に
は、発光層を凸版印刷、平版印刷、グラビア印刷フレキ
ソ印刷およびスクリーン印刷の各種印刷方式によって形
成する発明が記載されている。しかしながら、上記公報
に開示の発明は、有機発光層を形成する材料(有機発光
体)として低分子系の有機化合物を用いており、しかも
上記例示の印刷方式は、凹版オフセット印刷法とは異な
り、いずれも微細なパターンを高い精度でもって形成す
ることが困難な方式である。
Japanese Patent Application Laid-Open No. 11-273859 discloses an invention in which a light emitting layer is formed by various printing methods such as relief printing, planographic printing, gravure printing flexographic printing and screen printing. However, the invention disclosed in the above publication uses a low molecular weight organic compound as a material (organic luminescent material) for forming an organic luminescent layer, and the printing method described above is different from the intaglio offset printing method. Both methods are difficult to form a fine pattern with high accuracy.

【0017】有機高分子発光体を用いて発光層を印刷形
成する場合においては、発光層形成用のインキに用いら
れている溶剤が印刷精度の低下を招くということにも留
意しなければならない。現在、有機EL素子用の有機高
分子発光体としては、例えばπ共役ポリマー系の化合物
が主流であり、中でもポリフェニレンビニレン(PP
V)が最も注目されている。また、近年、PPVに側鎖
を付けたポリパラフェニレン誘導体(MEH−PPV,
オレンジ色)や、その他ポリアルキルチオフェン(PA
T,赤色)、ポリジアルキルフルオレン(PDAF,青
色)、ポリパラフェニレン(PPP,青色)等の、種々
の有機高分子発光体が開発されている。
It should also be noted that when a light emitting layer is formed by printing using an organic polymer light emitting material, the solvent used in the ink for forming the light emitting layer causes a decrease in printing accuracy. At present, for example, a π-conjugated polymer-based compound is mainly used as an organic polymer light-emitting body for an organic EL element, and among them, polyphenylene vinylene (PP) is used.
V) has received the most attention. In recent years, a polyparaphenylene derivative having a side chain attached to PPV (MEH-PPV,
Orange) and other polyalkylthiophenes (PA
T, red), polydialkylfluorene (PDAF, blue), polyparaphenylene (PPP, blue), and various organic polymer light emitters have been developed.

【0018】これらの有機高分子発光体は、共通して有
機溶剤に対する溶解性が低く、当該有機高分子発光体を
用いて印刷インキを調製しようとすると、固形分含量を
15重量%以下、好ましくは10重量%以下に抑えなけ
ればならないばかりか、キシレン、トルエン等の芳香族
炭化水素を溶剤として使用する必要が生じる。芳香族炭
化水素のような有機溶剤は、オフセット印刷に用いられ
る印刷用ブランケットの表面に配されているゴム層(表
面印刷層)を膨潤させ易く、これにより印刷精度を大き
く低下させたり、極端な場合には印刷用ブランケットの
破損を招いて印刷が行なえなくなったりするという問題
がある。
These organic polymer light emitters have low solubility in organic solvents in common, and when a printing ink is prepared using the organic polymer light emitter, the solid content is 15% by weight or less, preferably. Not only needs to be kept to 10% by weight or less, but also it is necessary to use an aromatic hydrocarbon such as xylene or toluene as a solvent. An organic solvent such as an aromatic hydrocarbon easily swells the rubber layer (surface printing layer) arranged on the surface of the printing blanket used for offset printing, which greatly reduces the printing accuracy, In this case, there is a problem that the printing blanket is damaged and printing cannot be performed.

【0019】そこで、本発明に係る有機ELパネルの製
造方法の好適態様は、当該製造方法に使用する印刷用ブ
ランケットが、(1) 十点平均粗さRzが0.01〜3μ
mであり、かつ上記印刷インキの溶剤に23℃で24時
間浸漬したときの体積変化率が40%以下である表面印
刷層を備えるもの、(2) 厚さが0.03〜5.0mm、
硬さ(JIS A)が20〜80°であり、かつ上記印
刷インキの溶剤に23℃で24時間浸漬したときの体積
変化率が40%以下である表面印刷層を備えるもの、
(3) 溶解度定数が5〜8(cal/mol/cm3
1/2 の弾性体を用いてなる、表面張力γs が5〜35d
yn/cmの表面印刷層を備えるもの、または(4) フッ
素化ポリエーテル骨格とシリコーン架橋末端基とを有す
るエラストマーを用いてなる、表面粗さが十点平均粗さ
Rzで0.01〜3μmの表面印刷層を備えるもの、で
あるのが好ましい。
Therefore, in a preferred embodiment of the method for manufacturing an organic EL panel according to the present invention, the printing blanket used in the manufacturing method has (1) a ten-point average roughness Rz of 0.01 to 3 μm.
and a surface printing layer having a volume change rate of 40% or less when immersed in a solvent of the above printing ink at 23 ° C. for 24 hours, (2) having a thickness of 0.03 to 5.0 mm,
A surface printing layer having a hardness (JIS A) of 20 to 80 ° and a volume change rate of 40% or less when immersed in a solvent of the printing ink at 23 ° C. for 24 hours,
(3) Solubility constant 5-8 (cal / mol / cm 3 ).
The surface tension γ s is 5 to 35d using 1/2 elastic body.
a surface print layer of yn / cm, or (4) an elastomer having a fluorinated polyether skeleton and a silicone cross-linking terminal group, the surface roughness is 0.01 to 3 μm in ten-point average roughness Rz. It is preferable to have a surface printing layer of.

【0020】上記の好適態様によれば、たとえ有機EL
素子形成材料を含有するインキの溶剤が、従来の通常の
印刷用ブランケットにおける表面印刷層に著しい膨潤を
生じさせるものであったとしても、有機EL素子のパタ
ーンを極めて微細に、しかも極めて高い精度でもって形
成することができる。なお、本発明において「溶解度定
数」とは、いわゆるSP値(solubility parameter)で
あって、1モル当りの蒸発熱をその体積で割った値の平
方根により求められる値〔(cal/mol・cm3
1/2 〕をいう。
According to the above preferred embodiment, even if the organic EL
Even if the solvent of the ink containing the element forming material causes remarkable swelling in the surface printing layer in the conventional ordinary printing blanket, the pattern of the organic EL element can be made extremely fine and with extremely high accuracy. It can be formed. In the present invention, the “solubility constant” is a so-called SP value (solubility parameter), which is a value obtained by the square root of a value obtained by dividing the heat of vaporization per mol by the volume [(cal / mol · cm 3 )
1/2 ].

【0021】上記(1) 〜(3) に示す印刷用ブランケット
において、表面印刷層は、シリコーン系エラストマー、
フッ素系エラストマー、ブチルゴム、エチレン−プロピ
レンゴムまたはこれらの混合物を用いてなるものである
のが、有機EL素子のパターンの精度をより一層向上さ
せるという観点から好ましい。一方、上記(4) に示す印
刷用ブランケットにおいて、表面印刷層は、その表面粗
さが十点平均粗さRzで0.01〜3μmであるのが、
有機EL素子のパターンの精度をより一層向上させると
いう観点から好ましい。
In the printing blanket described in (1) to (3) above, the surface printing layer is a silicone elastomer.
It is preferable to use a fluorine-based elastomer, butyl rubber, ethylene-propylene rubber, or a mixture thereof, from the viewpoint of further improving the accuracy of the pattern of the organic EL element. On the other hand, in the printing blanket described in (4) above, the surface printing layer has a surface roughness of 0.01 to 3 μm in ten-point average roughness Rz.
It is preferable from the viewpoint of further improving the accuracy of the pattern of the organic EL element.

【0022】本発明に係る有機ELパネルの製造方法に
おいて、有機EL素子形成材料としては、例えば有機高
分子発光体が挙げられる。この場合、有機EL素子形成
材料を溶剤中に溶解または安定に分散させてなる印刷イ
ンキを基板上に転写することによって、有機ELパネル
の発光層を形成することができる。前述のように、有機
高分子発光体は、共通して有機溶剤に対する溶解性が低
く、印刷インキを調製する際には溶剤の含有量が多くな
り、しかもその溶剤には、通常の印刷用ブランケットの
表面印刷層に著しい膨潤を生じさせるキシレン、トルエ
ン等の芳香族炭化水素が用いられる。しかしながら、本
発明の有機ELパネルの製造方法に用いられる印刷用ブ
ランケットによれば、(i) その表面印刷層の表面粗さと
インキの溶剤に対する耐性(耐溶剤性)、(ii)表面印刷
層の厚さや硬さとインキの溶剤に対する耐性、(iii) 表
面印刷層を形成する素材の溶解度定数(SP値)と表面
印刷層の表面張力、あるいは(iv)表面印刷層を形成する
具体的素材とその表面粗さ、といった表面印刷層に関す
る各種特性や使用する素材等を適宜組み合わせており、
これによって、有機高分子発光体を含有する印刷インキ
等においても、極めて微細なパターンを高い精度で印刷
形成することができる。
In the method for manufacturing an organic EL panel according to the present invention, examples of the organic EL element forming material include organic polymer light emitting materials. In this case, the light emitting layer of the organic EL panel can be formed by transferring the printing ink obtained by dissolving or stably dispersing the organic EL element forming material in the solvent onto the substrate. As described above, organic polymer light emitters have a low solubility in organic solvents in common, the content of the solvent is large when preparing a printing ink, and the solvent is used as a normal printing blanket. Aromatic hydrocarbons such as xylene and toluene that cause significant swelling in the surface printing layer of are used. However, according to the printing blanket used in the method for producing an organic EL panel of the present invention, (i) the surface roughness of the surface printing layer and the solvent resistance of the ink (solvent resistance), (ii) the surface printing layer Thickness and hardness and resistance of ink to solvent, (iii) Solubility constant (SP value) and surface tension of surface printing layer forming surface printing layer, or (iv) Specific material forming surface printing layer and its Various characteristics related to the surface printing layer such as surface roughness, materials used, etc. are appropriately combined,
As a result, an extremely fine pattern can be printed and formed with high accuracy even in a printing ink containing an organic polymer luminescent material.

【0023】本発明に係る有機ELパネルの製造方法に
おいて、印刷用ブランケットの表面に転移した印刷イン
キを基板上に転写する際の印圧は、1〜30kgf/c
mであるのが好ましい。印圧が上記範囲を下回ると、転
写されたパターン表面の平滑化を十分に行なうことがで
きず、インキの転移性も低下するおそれがある。逆に印
圧が上記範囲を超えると、表面印刷層の変形が大きくな
りすぎて、パターンの印刷精度が低下するおそれがあ
る。
In the method for manufacturing an organic EL panel according to the present invention, the printing pressure for transferring the printing ink transferred to the surface of the printing blanket onto the substrate is 1 to 30 kgf / c.
It is preferably m. If the printing pressure is less than the above range, the surface of the transferred pattern cannot be sufficiently smoothed, and the transferability of the ink may be reduced. On the other hand, when the printing pressure exceeds the above range, the deformation of the surface printing layer becomes too large, which may reduce the printing accuracy of the pattern.

【0024】上記課題を解決するための本発明に係る印
刷用ブランケットは、本発明の有機ELパネルの製造方
法に好適なものであって、(I) 十点平均粗さRzが0.
01〜3μmであり、かつ印刷インキの溶剤に23℃で
24時間浸漬したときの体積変化率が40%以下である
表面印刷層を備えるもの、(II)厚さが0.03〜5.0
mm、硬さ(JIS A)が20〜80°であり、かつ
印刷インキの溶剤に23℃で24時間浸漬したときの体
積変化率が40%以下である表面印刷層を備えるもの、
(III) 溶解度定数が5〜8(cal/mol/cm3
1/2 の弾性体を用いてなる、表面張力γs が5〜35d
yn/cmの表面印刷層を備える、または(IV)フッ素化
ポリエーテル骨格とシリコーン架橋末端基とを有するエ
ラストマーを用いて形成された、表面粗さが十点平均粗
さRzで0.01〜3μmである表面印刷層を備えるも
の、である。
The printing blanket according to the present invention for solving the above problems is suitable for the method for manufacturing an organic EL panel of the present invention, and has (I) a ten-point average roughness Rz of 0.
A surface printing layer having a volume change of 40% or less when immersed in a solvent of a printing ink at 23 ° C. for 24 hours, and (II) having a thickness of 0.03 to 5.0.
mm, hardness (JIS A) is 20 to 80 °, and a surface printing layer having a volume change rate of 40% or less when immersed in a solvent of printing ink at 23 ° C. for 24 hours,
(III) Solubility constant of 5 to 8 (cal / mol / cm 3 ).
The surface tension γ s is 5 to 35d using 1/2 elastic body.
The surface roughness is 0.01 to 10 in terms of ten-point average roughness Rz, which is provided with an yn / cm surface-printed layer or is formed using an elastomer having (IV) a fluorinated polyether skeleton and a silicone cross-linking end group. With a surface printing layer that is 3 μm.

【0025】すなわち、本発明に係る印刷用ブランケッ
トは、(i) その表面印刷層の表面粗さとインキの溶剤に
対する耐性(耐溶剤性)、(ii)表面印刷層の厚さや硬さ
とインキの溶剤に対する耐性、(iii) 表面印刷層を形成
する素材の溶解度定数(SP値)と表面印刷層の表面張
力、あるいは(iv)表面印刷層を形成する具体的素材とそ
の表面粗さ、といった表面印刷層に関する各種特性や使
用する素材等を適宜組み合わせたことを特徴とするもの
である。
That is, the printing blanket according to the present invention comprises: (i) the surface roughness of the surface printing layer and the resistance of the ink to the solvent (solvent resistance); (ii) the thickness and hardness of the surface printing layer and the solvent of the ink. Resistance, (iii) the solubility constant (SP value) of the material forming the surface printing layer and the surface tension of the surface printing layer, or (iv) the specific material forming the surface printing layer and its surface roughness. It is characterized by appropriately combining various properties relating to layers and materials to be used.

【0026】上記(I) 〜(IV) の印刷用ブランケットに
よれば、上記のような組合せを採ることによって、有機
ELパネルの製造に対して有機EL素子形成材料をイン
キ化するのに用いられる芳香族炭化水素等の有機溶剤に
対して、極めて膨潤しにくいという特徴を発揮すること
ができる。従って、かかる印刷用ブランケットを用いる
ことで、たとえ有機EL素子形成用の印刷インキのよう
に、芳香族炭化水素等を溶剤として用いたインキを用い
る場合であっても、極めて微細なパターンを優れた精度
でもって印刷再現することができる。それゆえ、本発明
の印刷用ブランケットは有機ELパネルの製造に好適で
ある。
According to the printing blankets (I) to (IV), the combination as described above is used to ink the organic EL element forming material for the production of the organic EL panel. It is possible to exhibit the characteristic that it is extremely difficult to swell in an organic solvent such as an aromatic hydrocarbon. Therefore, by using such a printing blanket, it is possible to obtain an extremely fine pattern even when an ink using an aromatic hydrocarbon or the like as a solvent is used, such as a printing ink for forming an organic EL element. Printing can be reproduced with accuracy. Therefore, the printing blanket of the present invention is suitable for manufacturing an organic EL panel.

【0027】上記(I) 〜(III) の印刷用ブランケットに
おいて、表面印刷層は、シリコーン系エラストマー、フ
ッ素系エラストマー、ブチルゴム、エチレン−プロピレ
ンゴムまたはこれらの混合物を用いてなるものであるの
が、有機EL素子のパターンの精度をより一層向上させ
る上で好ましい。上記(IV)の印刷用ブランケットにおい
て、表面印刷層の硬さは、有機EL素子(例えば高分子
有機発光体を用いてなる発光層等)をより一層精度よく
形成するという観点から、JIS A硬度で20〜80
°であるのが好ましい。
In the printing blankets (I) to (III), the surface printing layer is made of silicone elastomer, fluorine elastomer, butyl rubber, ethylene-propylene rubber or a mixture thereof. It is preferable in order to further improve the accuracy of the pattern of the organic EL element. In the printing blanket of (IV) above, the hardness of the surface printing layer is determined according to JIS A hardness from the viewpoint of forming an organic EL element (for example, a light emitting layer using a polymer organic light emitting body) with higher accuracy. 20 ~ 80
It is preferably °.

【0028】本発明に係る印刷用ブランケットにおい
て、表面印刷層を形成するためのエラストマー、ゴムま
たはそれらの混合物は、未硬化状態でペースト状または
液状であるのが好ましく、その未硬化状態での粘度は、
室温で10000Pa・s以下であるのがより好まし
い。この場合、表面印刷層の形成を容易に行なうことが
でき、しかもセルフレベリングによる平滑化が可能とな
ることから、表面印刷層の表面粗さを前述の範囲に設定
するのが極めて容易になる。
In the printing blanket according to the present invention, the elastomer, the rubber or the mixture thereof for forming the surface printing layer is preferably in a paste state or a liquid state in the uncured state, and the viscosity in the uncured state. Is
It is more preferably 10,000 Pa · s or less at room temperature. In this case, since the surface printing layer can be easily formed and the smoothing can be performed by self-leveling, it is extremely easy to set the surface roughness of the surface printing layer within the above range.

【0029】[0029]

【発明の実施の形態】次に、本発明に係る有機ELパネ
ルの製造方法およびそれに用いる印刷用ブランケットに
ついて詳細に説明する。 〔有機EL素子の製造方法・製造条件〕本発明に係る有
機ELパネルの製造方法においては、有機EL素子の形
成を凹版オフセット印刷法によって行なう(その好適態
様においては、印刷用ブランケットとして上記(I) 〜(I
V)のいずれかのものを使用して行なう)ことを特徴とす
る。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Next, a method for manufacturing an organic EL panel according to the present invention and a printing blanket used therefor will be described in detail. [Manufacturing Method / Conditions for Organic EL Element] In the method for manufacturing an organic EL panel according to the present invention, the organic EL element is formed by an intaglio offset printing method (in its preferred embodiment, the above-mentioned (I ) ~ (I
V) is used).

【0030】有機EL素子は、そのパターンが極めて微
細なものであるだけでなく、印刷形状が良好であること
(例えば、パターンの断面においてエッジ部分がシャー
プであることなど)が求められている。そこで、本発明
に係る有機ELパネルの製造方法の好適態様において
は、前述のように、印刷用ブランケットの表面印刷層
が、(a) 印刷インキの溶剤に23℃で24時間浸漬した
ときの体積変化率が40%以下であるもの、(b) 溶解度
定数が5〜8(cal/mol・cm3 1/2 である弾
性体を用いてなるもの、または(c) フッ素化ポリエーテ
ル骨格とシリコーン架橋末端基とを有するエラストマー
を用いてなるもの、であって、いずれも耐溶剤性が極め
て優れていることを特徴としている。
The organic EL element is required not only to have an extremely fine pattern, but also to have a good print shape (for example, a sharp edge portion in the cross section of the pattern). Therefore, in a preferred embodiment of the method for producing an organic EL panel according to the present invention, as described above, the surface printing layer of the printing blanket has a volume when immersed in a solvent of (a) printing ink at 23 ° C. for 24 hours. A rate of change of 40% or less, (b) an elastic body having a solubility constant of 5 to 8 (cal / mol · cm 3 ) 1/2 , or (c) a fluorinated polyether skeleton What is made of an elastomer having a silicone cross-linking terminal group, which is characterized by having extremely excellent solvent resistance.

【0031】本発明においては、かかる表面印刷層を備
えた印刷用ブランケットを用いて発光層等の印刷形成を
行なっていることから、発光層形成用インキの溶剤がキ
シレン、トルエン等の芳香族炭化水素である場合に、表
面印刷層の膨潤に伴う印刷精度の低下が生じにくく、極
めて微細なパターンであっても高い再現性でもって発光
層を印刷形成することができる。
In the present invention, the printing blanket having such a surface printing layer is used to print the light emitting layer and the like. Therefore, the solvent for the light emitting layer forming ink is aromatic carbonization such as xylene and toluene. In the case of hydrogen, deterioration of printing accuracy due to swelling of the surface printing layer hardly occurs, and the light emitting layer can be formed by printing with extremely high reproducibility even with an extremely fine pattern.

【0032】さらに、本発明に係る有機ELパネルの製
造方法の好適態様においては、前述のように、印刷用ブ
ランケットの表面印刷層が、(d) 十点平均粗さRzが
0.01〜3μmという、極めて平滑なもの、(e) その
厚みと硬さとがそれぞれ所定の範囲に設定されたもの、
または(f) その表面張力が所定の範囲に設定されたも
の、である。表面印刷層が上記(a) 〜(c) のとおり耐溶
剤性に優れたものであって、しかも上記(d) 〜(f) のと
おり、表面粗さ、厚みと硬さ、表面張力の特性が適宜に
調節されていることから、本発明に係る有機ELパネル
の製造方法の好適態様によれば、有機EL素子を極めて
微細なパターンとして、しかも極めて高い精度でもって
形成することができる。上記(a) 〜(f) に示す各条件の
より好ましい範囲については、後述する印刷用ブランケ
ットについての詳細説明において詳述する。
Furthermore, in the preferred embodiment of the method for manufacturing an organic EL panel according to the present invention, as described above, the surface printing layer of the printing blanket has (d) a ten-point average roughness Rz of 0.01 to 3 μm. That is, an extremely smooth object, (e) an object whose thickness and hardness are set within predetermined ranges,
Or (f) the surface tension of which is set in a predetermined range. The surface printing layer has excellent solvent resistance as described in (a) to (c) above, and as described in (d) to (f) above, the characteristics of surface roughness, thickness and hardness, and surface tension. According to the preferred embodiment of the method for manufacturing an organic EL panel according to the present invention, the organic EL element can be formed as an extremely fine pattern with extremely high accuracy. More preferable ranges of the conditions shown in (a) to (f) above will be described in detail in the detailed description of the printing blanket described later.

【0033】本発明に用いられる印刷用ブランケットの
表面印刷層は、上記(a) 〜(f) に示す条件より明らかな
ように、表面エネルギーが極めて小さいものであること
を特徴としている。それゆえ、印刷用ブランケットから
基板へのインキの転写の際には、通常の凹版オフセット
印刷で設定される印圧(1〜5kgf/cm2 程度)よ
りも高い印圧が採用される。さらに、通常よりも高い印
圧で印刷を行なうことによって、転写されたパターン表
面の平滑化処理をも同時に達成することができる。
The surface printing layer of the printing blanket used in the present invention is characterized by having a very small surface energy, as is clear from the conditions shown in the above (a) to (f). Therefore, when the ink is transferred from the printing blanket to the substrate, a printing pressure higher than the printing pressure (about 1 to 5 kgf / cm 2 ) set in normal intaglio offset printing is adopted. Further, by printing with a printing pressure higher than usual, smoothing treatment of the transferred pattern surface can be achieved at the same time.

【0034】本発明において、印刷用ブランケットから
基板上へ印刷インキを転写する際の印圧は、前述のよう
に、好ましくは1〜30kgf/cm2 の範囲で設定さ
れる。印圧が上記範囲を下回ると、インキの転移性も低
下するおそれがあり、転写されたパターン表面の平滑化
も不十分になるおそれがある。逆に、印圧が上記範囲を
超えると、表面印刷層の変形が大きくなりすぎて、パタ
ーンの印刷精度が低下するおそれがある。印刷用ブラン
ケットから基板上へ印刷インキを転写する際の印圧は、
上記範囲の中でも特に、2〜30kgf/cm2 である
のが好ましく、2〜20kgf/cm2 であるのがより
好ましい。
In the present invention, the printing pressure for transferring the printing ink from the printing blanket onto the substrate is preferably set in the range of 1 to 30 kgf / cm 2 , as described above. If the printing pressure is less than the above range, the transferability of the ink may be lowered, and the smoothed surface of the transferred pattern may be insufficient. On the other hand, when the printing pressure exceeds the above range, the surface printing layer may be excessively deformed and the pattern printing accuracy may be deteriorated. The printing pressure when transferring the printing ink from the printing blanket to the substrate is
Among the above ranges, 2 to 30 kgf / cm 2 is preferable, and 2 to 20 kgf / cm 2 is more preferable.

【0035】(有機EL素子形成用インキ)有機EL素
子のうち、発光層の形成に用いられる印刷インキは、前
述のように、π共役ポリマー系の化合物等の有機高分子
発光体を有機溶剤に溶解させたものである。
(Ink for forming organic EL element) In the organic EL element, the printing ink used for forming the light emitting layer is, as described above, an organic polymer light emitting material such as a π-conjugated polymer compound in an organic solvent. It has been dissolved.

【0036】上記有機高分子発光体は特に限定されるも
のではなく、前述のポリフェニレンビニレン(PP
V)、ポリパラフェニレン誘導体(MEH−PPV,オ
レンジ色)、ポリアルキルチオフェン(PAT,赤
色)、ポリジアルキルフルオレン(PDAF,青色)、
ポリパラフェニレン(PPP,青色)といった、従来公
知の種々の有機高分子発光体が挙げられる。上記溶剤
は、有機高分子発光体を十分に溶解または安定に分散さ
せ得るものであればよく、具体的には、キシレン、トル
エン等の芳香族炭化水素といった有機溶剤が挙げられ
る。
The above-mentioned organic polymer light-emitting body is not particularly limited, and the above-mentioned polyphenylene vinylene (PP) is used.
V), polyparaphenylene derivative (MEH-PPV, orange), polyalkylthiophene (PAT, red), polydialkylfluorene (PDAF, blue),
Examples include various conventionally known organic polymer light-emitting materials such as polyparaphenylene (PPP, blue). Any solvent may be used as long as it can sufficiently dissolve or stably disperse the organic polymer light-emitting body, and specific examples thereof include organic solvents such as xylene and aromatic hydrocarbons such as toluene.

【0037】発光層形成用インキにおける有機高分子発
光体の含有割合は特に限定されるものではなく、インキ
の粘度、チキソトロピー性ならびに有機高分子発光体の
溶解度に応じて、適宜設定すればよい。なお、前述のよ
うに、上記の有機高分子発光体は溶解度が極めて低いも
のであることから、発光総形成用インキにおける有機高
分子発光体の含有割合(固形分含量)は、通常、15重
量%以下、好ましくは10重量%以下、より好ましくは
5重量%以下に設定される。
The content ratio of the organic polymer luminescent material in the light emitting layer forming ink is not particularly limited and may be appropriately set according to the viscosity of the ink, the thixotropic property and the solubility of the organic polymer luminescent material. As described above, since the above organic polymer luminescent material has extremely low solubility, the content ratio (solid content) of the organic polymer luminescent material in the total luminescence forming ink is usually 15% by weight. % Or less, preferably 10% by weight or less, and more preferably 5% by weight or less.

【0038】有機EL素子のうち、正孔輸送層や電子輸
送層の形成に用いられる印刷インキは、正孔輸送剤や電
子輸送剤を、芳香族炭化水素、脂肪族炭化水素等の有機
溶剤に十分に溶解または安定に分散させてなるものが挙
げられる。正孔輸送剤および電子輸送剤は特に限定され
るものではなく、従来有機EL素子の形成に用いられて
いる公知の材料を挙げることができる。有機溶剤につい
ても特に限定されるものではなく、正孔輸送剤または電
子輸送剤を十分に溶解または安定に分散させ得るもので
あればよい。正孔輸送剤の具体例としては、トリフェニ
ルベンジジン、ポリビニルカルバゾール、ジフェニルナ
フチルアミン等が挙げられる。電子輸送剤の具体例とし
ては、オキサジアゾール、ペリレン誘導体等が挙げられ
る。
Among the organic EL devices, the printing ink used for forming the hole transport layer and the electron transport layer uses the hole transport agent and the electron transport agent in an organic solvent such as aromatic hydrocarbon and aliphatic hydrocarbon. Examples thereof include those that are sufficiently dissolved or stably dispersed. The hole transfer material and the electron transfer material are not particularly limited, and known materials conventionally used for forming an organic EL element can be mentioned. The organic solvent is not particularly limited as long as it can sufficiently dissolve or stably disperse the hole transfer material or the electron transfer material. Specific examples of the hole transfer agent include triphenylbenzidine, polyvinylcarbazole, diphenylnaphthylamine and the like. Specific examples of the electron transfer agent include oxadiazole and perylene derivatives.

【0039】(凹版)発光層等の印刷形成に用いられる
凹版は、特に限定されるものではないが、エッチング性
が良好でインキ離型性に優れた材質を用いてなるもので
あるのが好ましい。具体的には、金属やガラス等が挙げ
られる。凹版上に形成される凹部の線幅と深さについて
は、発光層等のパターンに求められる線幅および厚さに
応じて適宜設定すればよい。
(Intaglio plate) The intaglio plate used for printing and forming the light emitting layer is not particularly limited, but it is preferable to use a material having good etching property and excellent ink releasability. . Specific examples include metal and glass. The line width and depth of the recess formed on the intaglio may be appropriately set according to the line width and thickness required for the pattern of the light emitting layer or the like.

【0040】(透明基板)有機EL素子の基材となる透
明基板には、例えばソーダライムガラス、ノンアルカリ
ガラス、石英ガラス、低アルカリガラス、低膨張ガラス
等が挙げられる。透明基板の厚さは、基板の耐熱性に応
じて適宜設定されるものであって、特に限定されるもの
ではないが、1〜10mmの範囲で適宜、厚さが設定さ
れる。
(Transparent Substrate) Examples of the transparent substrate as a base material of the organic EL device include soda lime glass, non-alkali glass, quartz glass, low alkali glass, low expansion glass and the like. The thickness of the transparent substrate is appropriately set according to the heat resistance of the substrate and is not particularly limited, but the thickness is appropriately set within the range of 1 to 10 mm.

【0041】(有機ELパネルの構成・形成工程・印刷
条件等)本発明において、有機ELパネルを構成する有
機EL素子は、例えば図1に示すようにして製造され
る。すなわち、まず、ガラス基板11上に陽極としての
透明導電膜(ITO膜)12をスパッタリング等によっ
て形成し(図1(a) )、当該透明導電膜12をフォトリ
ソグラフィー法等によってパターン化した後(図1(b)
)、透明導電膜12上に正孔輸送層13、発光層14
をこの順で形成する(図1(c),(d) )。さらに蒸着等の
方法によって発光層14等の表面に陰極15を形成する
ことによって(図1(e) )、有機EL素子10が得られ
る。
(Structure of Organic EL Panel, Forming Steps, Printing Conditions, etc.) In the present invention, the organic EL element constituting the organic EL panel is manufactured as shown in FIG. 1, for example. That is, first, a transparent conductive film (ITO film) 12 as an anode is formed on a glass substrate 11 by sputtering or the like (FIG. 1A), and then the transparent conductive film 12 is patterned by a photolithography method or the like ( Figure 1 (b)
), The hole transport layer 13, the light emitting layer 14 on the transparent conductive film 12.
Are formed in this order (Fig. 1 (c), (d)). Further, a cathode 15 is formed on the surface of the light emitting layer 14 or the like by a method such as vapor deposition (FIG. 1 (e)) to obtain the organic EL element 10.

【0042】ここで、発光層14は、有機高分子発光体
を含有する前述の発光層形成用インキと、前述のフッ素
化エラストマーを用いて形成された表面印刷層を備える
印刷用ブランケットと、を用いた凹版オフセット印刷法
によって形成される。正孔輸送層13は、正孔輸送剤を
含有する正孔輸送層形成用インキと、上記印刷用ブラン
ケットと、を用いた凹版オフセット印刷法に形成される
ほか、例えば全面塗布等の方法によって形成してもよ
い。図1(f) に示す符号16は直流電源を示すものであ
る。この直流電源によって透明導電膜12と陰極15と
の間に電圧を印加することによって、同図中に白抜き矢
印で示す方向への発光が生じる。
Here, the light emitting layer 14 comprises the aforementioned light emitting layer forming ink containing an organic polymer light emitting body and a printing blanket having a surface printing layer formed using the aforementioned fluorinated elastomer. It is formed by the intaglio offset printing method used. The hole transport layer 13 is formed by an intaglio offset printing method using a hole transport layer-forming ink containing a hole transport agent and the above printing blanket, and is also formed, for example, by a method such as whole surface coating. You may. Reference numeral 16 shown in FIG. 1 (f) indicates a DC power supply. By applying a voltage between the transparent conductive film 12 and the cathode 15 by this DC power source, light emission occurs in the direction indicated by the white arrow in the figure.

【0043】本発明において、有機EL素子の層構成
は、図1に示す構成に限定されるものではなく、従来公
知の種々の層構成を採用することができる。例えば、ガ
ラス基板を省略して示すと、当該ガラス基板側から順
に、 (a) 陽極/発光層/陰極 (b) 陽極/正孔輸送層/発光層/陰極 (c) 陽極/発光層/電子輸送層/陰極 (d) 陽極/正孔輸送層/発光層/電子輸送層/陰極 を積層してなる構成が挙げられる。なお、図1に示す層
構成は上記(b) の構成に該当する。
In the present invention, the layer structure of the organic EL element is not limited to the structure shown in FIG. 1, and various conventionally known layer structures can be adopted. For example, when the glass substrate is omitted, (a) anode / light emitting layer / cathode (b) anode / hole transport layer / light emitting layer / cathode (c) anode / light emitting layer / electrons in order from the glass substrate side. Transport layer / cathode (d) A constitution in which an anode / hole transport layer / light emitting layer / electron transport layer / cathode are laminated is mentioned. The layer structure shown in FIG. 1 corresponds to the above-mentioned structure (b).

【0044】(印刷時の転写速度)発光層等のパターン
を高い精度でかつ良好な形状でもって印刷再現するに
は、凹版凹部から印刷用ブランケットへのインキの転移
と、印刷用ブランケットから基板へのインキの転移と
を、それぞれ精度よく実現することが必要である。かか
る目的を達成する手段の1つとして、例えば凹版から印
刷用ブランケットへ、および印刷用ブランケットから基
板へのインキの転写速度を所定の範囲に調節することが
挙げられる。
(Transfer speed during printing) In order to reproduce the pattern of the light emitting layer and the like with high accuracy and good shape, the transfer of ink from the intaglio depression to the printing blanket and the printing blanket to the substrate. It is necessary to accurately realize the ink transfer and the ink transfer. One of means for achieving such an object is to adjust the transfer speed of ink from the intaglio plate to the printing blanket and from the printing blanket to the substrate within a predetermined range.

【0045】凹版から印刷用ブランケットへのインキの
転写速度は、1〜200mm/sの範囲に設定するのが
好ましく、5〜100mm/sの範囲に設定するのがよ
り好ましい。印刷用ブランケットから基板へのインキの
転写速度は、10〜500mm/sの範囲に設定するの
が好ましく、50〜300mm/sの範囲に設定するの
がより好ましい。
The transfer speed of the ink from the intaglio to the printing blanket is preferably set in the range of 1 to 200 mm / s, more preferably 5 to 100 mm / s. The transfer speed of the ink from the printing blanket to the substrate is preferably set in the range of 10 to 500 mm / s, more preferably 50 to 300 mm / s.

【0046】(発光層等のパターン)発光層(有機高分
子発光層)のパターンのサイズ(厚さや線幅)は、有機
EL素子の画素のサイズ等に応じて、かつ、印刷によっ
て形成されたパターンの乾燥による体積減少分(特に、
厚みの減少分)を考慮して、設定されるものである。そ
れゆえ、特に限定されるものではないが、溶剤乾燥後に
おけるパターンの厚さは、通常0.02〜0.2μm、
好ましくは0.05〜0.1μmであることが求めら
れ、これに伴い、乾燥前における印刷パターンの厚さ
は、通常1〜20μm、好ましくは2〜10μmの範囲
で設定される。また、溶剤乾燥後におけるパターンの線
幅は、通常20〜200μm、好ましくは50〜150
μmであることが求められる。印刷されたパターンの乾
燥処理条件は、インキに使用する溶剤によって異なるこ
とから特に限定されるものではないが、当該溶剤がキシ
レン、トルエン等の有機溶剤であることから、通常、印
刷パターンが形成された透明基板ごと、溶剤の沸点〜沸
点−50℃程度のオーブンに入れて加熱・乾燥すること
により達成される。
(Pattern of Light-Emitting Layer, etc.) The pattern size (thickness and line width) of the light-emitting layer (organic polymer light-emitting layer) was formed by printing in accordance with the pixel size of the organic EL element. Volume reduction due to pattern drying (especially
The thickness reduction amount) is taken into consideration. Therefore, although not particularly limited, the thickness of the pattern after solvent drying is usually 0.02 to 0.2 μm,
The thickness is preferably 0.05 to 0.1 μm, and accordingly, the thickness of the printed pattern before drying is usually set to 1 to 20 μm, preferably 2 to 10 μm. The line width of the pattern after solvent drying is usually 20 to 200 μm, preferably 50 to 150.
It is required to be μm. The conditions for drying the printed pattern are not particularly limited because they differ depending on the solvent used for the ink, but since the solvent is an organic solvent such as xylene or toluene, a printing pattern is usually formed. It is achieved by placing the transparent substrate together with the solvent in an oven at a boiling point of the solvent to a boiling point of about -50 ° C and heating and drying.

【0047】〔印刷用ブランケット〕本発明に係る印刷
用ブランケットは、前述のように、(i) その表面印刷層
の表面粗さとインキの溶剤に対する耐性(耐溶剤性)、
(ii)表面印刷層の厚さや硬さとインキの溶剤に対する耐
性、(iii) 表面印刷層を形成する素材の溶解度定数(S
P値)と表面印刷層の表面張力、あるいは(iv)表面印刷
層を形成する具体的素材とその表面粗さ、といった表面
印刷層に関する各種特性や使用する素材等を適宜組み合
わせたことを特徴とするものである。
[Printing Blanket] As described above, the printing blanket according to the present invention includes (i) the surface roughness of the surface printing layer and the resistance of the ink to the solvent (solvent resistance),
(ii) the thickness and hardness of the surface printing layer and the resistance of the ink to the solvent, (iii) the solubility constant of the material forming the surface printing layer (S
P value) and the surface tension of the surface printing layer, or (iv) a specific material forming the surface printing layer and its surface roughness, such as various characteristics relating to the surface printing layer, materials used, etc. To do.

【0048】(表面粗さ)印刷用ブランケットの表面印
刷層には平滑性が高いことが求められる。具体的に、表
面印刷層の表面粗さは、十点平均粗さRzで0.01〜
3μmであるのが好ましい。十点平均粗さRzが3μm
を超えると、当該ブランケットによって転写されるパタ
ーンの印刷形状が大きく乱れるおそれがある。逆に、
0.01μmを下回ると、インキの転写時に当該ブラン
ケットと透明基板との接触面積が大きくなって、粘着性
が強くなり過ぎることから、良好な印刷を実現できなく
なるおそれがある。また、当該ブランケットの全表面積
が小さくなりすぎて、凹版からのインキの受理性が低下
することから、パターンにピンホールや断線が発生し易
くなるおそれもある。表面印刷層の十点平均粗さRz
は、前述の範囲の中でも特に0.1〜1μmであるのが
好ましい。
(Surface Roughness) The surface printing layer of the printing blanket is required to have high smoothness. Specifically, the surface roughness of the surface printing layer is 0.01 to 10-point average roughness Rz.
It is preferably 3 μm. Ten-point average roughness Rz is 3 μm
If it exceeds, the printed shape of the pattern transferred by the blanket may be significantly disturbed. vice versa,
If it is less than 0.01 μm, the contact area between the blanket and the transparent substrate at the time of ink transfer becomes large, and the adhesiveness becomes too strong, so that good printing may not be realized. Further, since the total surface area of the blanket becomes too small and the ink acceptability from the intaglio plate is deteriorated, there is a possibility that pinholes or disconnections are likely to occur in the pattern. Ten-point average roughness Rz of the printed surface layer
Is particularly preferably 0.1 to 1 μm in the above range.

【0049】表面印刷層の十点平均粗さRzを前述の範
囲に設定するには、当該表面印刷層の表面をサンドペー
パー等によって研磨したり、あらかじめ表面に高平滑処
理を施した金型を用いて金型の表面をレプリカしたりす
ればよい。未硬化状態でペースト状または液状であるエ
ラストマーを用いて表面印刷層を形成する場合には、当
該エラストマーの粘度を適宜調節することによって、セ
ルフレベリングによる表面印刷層の平滑化を達成するこ
とができる。エラストマーが未硬化状態でペースト状ま
たは液状であることによって、コーティング製法やイン
ジェンクション製法によって表面印刷層を形成すること
ができ、印刷用ブランケットの製造が簡易なものとな
る。エラストマーの未硬化状態での粘度が10000P
a・s以下であるときは、コーティング製法やインジェ
ンクション製法によって形成された表面印刷層に対し
て、セルフレベリングによる平滑化の効果を十分に発揮
させることができる。エラストマーの未硬化状態での粘
度は、上記範囲の中でも特に、1000Pa・s以下で
あるのが好ましく、10〜100Pa・sであるのがよ
り好ましい。
In order to set the ten-point average roughness Rz of the surface-printed layer in the above range, the surface of the surface-printed layer is polished with sandpaper or the like, or a mold whose surface is previously subjected to high smoothing treatment is used. It may be used to replicate the surface of the mold. When the surface printing layer is formed using an elastomer that is in paste form or liquid in the uncured state, it is possible to achieve smoothing of the surface printing layer by self-leveling by appropriately adjusting the viscosity of the elastomer. . When the elastomer is in a paste state or a liquid state in the uncured state, the surface printing layer can be formed by the coating manufacturing method or the injection manufacturing method, and the manufacturing of the printing blanket becomes easy. Viscosity of uncured elastomer is 10,000P
When it is not more than a · s, the smoothing effect by self-leveling can be sufficiently exerted on the surface printing layer formed by the coating manufacturing method or the injection manufacturing method. In the above range, the viscosity of the uncured elastomer is preferably 1000 Pa · s or less, more preferably 10 to 100 Pa · s.

【0050】(膨潤性)印刷ブランケットの表面印刷層
には、印刷インキの溶剤に対する膨潤性が低いこと(耐
溶剤性が高いこと)が求められる。具体的に、表面印刷
層の膨潤性は、有機EL素子形成材料を溶解または安定
に分散させてなる印刷インキ(例えば発光層形成用イン
キ等)における溶剤に、23℃(常温)で24時間浸漬
したときの体積変化率(すなわち、かかる溶剤に対する
いわゆる膨潤度)が40%以下となるように設定される
のが好ましい。
(Swelling property) The surface printing layer of the printing blanket is required to have low swelling property (high solvent resistance) in the solvent of the printing ink. Specifically, the swelling property of the surface printing layer is determined by immersing in a solvent in a printing ink (for example, a light emitting layer forming ink) in which an organic EL device forming material is dissolved or stably dispersed at 23 ° C. (normal temperature) for 24 hours. It is preferable that the volume change rate (that is, the so-called swelling degree in such a solvent) at that time is set to 40% or less.

【0051】上記の条件下での表面印刷層の体積変化率
が40%を超えると、印刷ブランケット表面の濡れ性の
変化が大きくなって、安定した印刷を行なうことができ
なくなる。具体的には、パターンの線幅が広がるなどの
問題が生じる。さらに、溶剤に対する膨潤度が大きい
と、印刷ブランケットから透明基板上に発光層形成用イ
ンキ等を転写する際の表面印刷層の変形が大きくなり過
ぎることから、パターンの印刷形成を高い精度でもって
行なうことができなくなる。上記の条件下での表面印刷
層の体積変化率は、上記範囲の中でも特に20%以下で
あるのが好ましく、10%以下であるのがより好まし
い。
If the volume change rate of the surface printing layer under the above conditions exceeds 40%, the change in the wettability of the surface of the printing blanket becomes large, and stable printing cannot be performed. Specifically, there arises a problem that the line width of the pattern is widened. Further, if the degree of swelling with respect to the solvent is large, the deformation of the surface printing layer at the time of transferring the light emitting layer forming ink or the like from the printing blanket onto the transparent substrate becomes too large, so that the pattern printing is formed with high accuracy. Can't do it. The volume change rate of the surface printing layer under the above conditions is preferably 20% or less, and more preferably 10% or less, in the above range.

【0052】なお、印刷用ブランケットの表面印刷層
に、後述する表面印刷層形成材料を用いたときは、発光
層形成用インキ等の溶剤に対する表面印刷層の膨潤性
(その指標である上記体積変化率)を前述の範囲に設定
することができる。
When the surface printing layer forming material described below is used for the surface printing layer of the printing blanket, the swelling property of the surface printing layer with respect to the solvent such as the light emitting layer forming ink (the above-mentioned volume change which is an index thereof). The rate) can be set within the above range.

【0053】(厚さ)本発明の印刷ブランケットにおい
て、表面印刷層の厚さは特に限定されるものではない
が、0.03〜5mmであるのが好ましい。表面印刷層
の厚さが0.03mmを下回ると、表面印刷層の機械的
強度が低下したり表面印刷層の見掛けの硬さが高くなっ
たりして、インキの転写性が低下するおそれがある。一
方、表面印刷層の厚さが5mmを超えると、表面印刷層
の見掛けの硬さが低くなって、インキ転写時の変形が大
きくなることから、当該ブランケットによって転写され
るパターンの印刷形状が大きく乱れるなど、印刷精度が
低下するおそれがある。表面印刷層の厚さは、前述の範
囲の中でも特に0.1〜2mmであるのが好ましい。
(Thickness) In the printing blanket of the present invention, the thickness of the surface printing layer is not particularly limited, but is preferably 0.03 to 5 mm. If the thickness of the surface printing layer is less than 0.03 mm, the mechanical strength of the surface printing layer may be reduced or the apparent hardness of the surface printing layer may be increased, which may reduce the transferability of the ink. . On the other hand, when the thickness of the surface printing layer exceeds 5 mm, the apparent hardness of the surface printing layer becomes low and the deformation at the time of ink transfer becomes large. Therefore, the printing shape of the pattern transferred by the blanket becomes large. There is a risk that the printing accuracy will be degraded, such as disturbance. The thickness of the surface printing layer is preferably 0.1 to 2 mm in the above range.

【0054】(硬さ)本発明の印刷用ブランケットにお
いて、表面印刷層の硬さは特に限定されるものではない
が、JIS A硬度で20〜80°であるのが好まし
い。表面印刷層の硬さがJIS A硬度で20°を下回
ると、インキを転写する際の表面印刷層の変形が大きく
なることから、当該ブランケットによって転写されるパ
ターンの印刷形状が大きく乱れるなど、印刷精度が低下
するおそれがある。一方、表面印刷層の硬さがJIS
A硬度で80°を超えると、インキの転写性が低下する
おそれがある。表面印刷層の硬さは、前述の範囲の中で
も特に20〜70°であるのが好ましく、30〜60°
であるのがより好ましい。なお、表面印刷層を形成する
弾性体として、上記例示のフッ素化エラストマーを使用
したときは、表面印刷層の硬さを前述の範囲に設定する
ことができる。
(Hardness) In the printing blanket of the present invention, the hardness of the surface printing layer is not particularly limited, but the JIS A hardness is preferably 20 to 80 °. If the hardness of the surface printing layer is less than 20 ° in JIS A hardness, the deformation of the surface printing layer at the time of transferring the ink becomes large, so that the printing shape of the pattern transferred by the blanket is greatly disturbed. The accuracy may decrease. On the other hand, the hardness of the surface printing layer is JIS
If the A hardness exceeds 80 °, the transferability of the ink may deteriorate. The hardness of the surface printing layer is preferably 20 to 70 °, and more preferably 30 to 60 °, in the above range.
Is more preferable. When the above-mentioned fluorinated elastomer is used as the elastic body forming the surface printing layer, the hardness of the surface printing layer can be set within the above range.

【0055】(溶解度定数および表面張力)本発明の印
刷ブランケットにおいて、表面印刷層を形成する弾性体
の溶解度定数(SP値)は特に限定されるものではない
が、5〜8(cal/mol・cm 3 1/2 であるのが
好ましい。また、上記表面印刷層の表面張力γsは特に
限定されるものではないが、5〜35dyn/cmであ
るのが好ましい。
(Solubility constant and surface tension)
An elastic body that forms the surface printing layer in a printing blanket
The solubility constant (SP value) of is not particularly limited
Is 5-8 (cal / mol · cm 3)1/2Is
preferable. Further, the surface tension γs of the surface printing layer is particularly
Although not limited, it is 5 to 35 dyn / cm.
Is preferred.

【0056】上記弾性体の溶解度定数が5〜8(cal
/mol・cm3 1/2 の範囲にあるときは、発光層形
成用インキ等の溶剤であるキシレン、トルエン等の芳香
族炭化水素系の有機溶剤に対する表面印刷層の膨潤性が
極めて小さくなり、それゆえ、膨潤に伴う印刷精度の低
下が生じにくくなる。一方、溶解度定数が上記範囲を外
れると、発光層形成用インキ等の溶剤に対する表面印刷
層の膨潤性が大きくなって、特に有機高分子発光層を連
続的に印刷形成する際に印刷パターンの形状が乱れた
り、表面印刷層自体に破損を生じたりするおそれがあ
る。
The solubility constant of the elastic body is 5 to 8 (cal).
/ Mol · cm 3 ) 1/2 , the swelling property of the surface printing layer against the aromatic hydrocarbon organic solvent such as xylene and toluene which is a solvent for the light emitting layer forming ink becomes extremely small. Therefore, the decrease in printing accuracy due to the swelling hardly occurs. On the other hand, if the solubility constant is out of the above range, the swelling property of the surface printing layer against the solvent such as the ink for forming the light emitting layer becomes large, and the shape of the print pattern particularly when the organic polymer light emitting layer is continuously formed by printing. May be disturbed or the surface printing layer itself may be damaged.

【0057】弾性体のSP値を上記範囲に設定した場合
には、発光層形成用インキ等の溶剤に対する表面印刷層
の膨潤性を低く抑えることができる一方で、インキの受
理性が低下するおそれがある。しかしながら、表面印刷
層の表面張力γsが5〜35dyn/cmにあるとき
は、膨潤が極めて少ないものの、インキの受理性が良好
なものとなる。それゆえ、上記の表面印刷層を備える印
刷用ブランケットを用いたときは、有機EL素子の極め
て微細なパターンを高い再現性でもって印刷形成するこ
とができる。
When the SP value of the elastic body is set within the above range, the swelling property of the surface printing layer with respect to the solvent such as the ink for forming the light emitting layer can be suppressed to be low, but the acceptability of the ink may be deteriorated. There is. However, when the surface tension γs of the surface printing layer is 5 to 35 dyn / cm, the swelling is extremely small, but the ink acceptability is good. Therefore, when the printing blanket having the above-mentioned surface printing layer is used, an extremely fine pattern of the organic EL element can be printed with high reproducibility.

【0058】表面印刷層を形成する弾性体のSP値は、
前述の範囲の中でも特に5〜7(cal/mol・cm
3 1/2 であるのが好ましい。また、表面印刷層の表面
張力γsは、前述の範囲の中でも特に5〜25dyn/
cmであるのが好ましい。表面印刷層を形成する弾性体
のSP値を上記範囲に設定するには、当該弾性体とし
て、上記例示のエラストマー材料を使用すればよい。ま
た、表面印刷層を形成する弾性体として、上記例示のフ
ッ素化ポリエーテル骨格とシリコーン架橋末端基とを有
するエラストマーを使用したときは、表面印刷層の表面
張力γsを前述の範囲に設定することができる。なお、
表面張力γs等の微調整には、表面処理(例えばUVの
照射によって表面の親水性を上昇させる処理など)等を
行なえばよい。
The SP value of the elastic body forming the surface printing layer is
Within the above range, especially 5 to 7 (cal / mol · cm
3 ) 1/2 is preferable. Further, the surface tension γs of the surface printing layer is 5 to 25 dyn / in particular within the above range.
It is preferably cm. In order to set the SP value of the elastic body forming the surface printing layer in the above range, the elastomer material exemplified above may be used as the elastic body. When an elastomer having the above-mentioned fluorinated polyether skeleton and a silicone cross-linking end group is used as the elastic body forming the surface printing layer, the surface tension γs of the surface printing layer should be set within the above range. You can In addition,
For fine adjustment of the surface tension γs and the like, surface treatment (for example, treatment for increasing the hydrophilicity of the surface by UV irradiation) may be performed.

【0059】(表面印刷層形成材料)本発明において、
印刷用ブランケットの表面印刷層を形成するのに用いら
れる弾性体には、例えばシリコーン系エラストマー、フ
ッ素系エラストマー、ブチルゴム、エチレン−プロピレ
ンゴム等のゴムまたはエラストマー材料、ならびにこれ
らの混合物が挙げられる。一般に、これらのゴムまたは
エラストマー材料、もしくはこれらの混合物を用いるこ
とによって、有機EL素子形成材料を溶解または安定に
分散させてなる印刷インキ(例えば発光層形成用インキ
等)の溶剤に対する表面印刷層の膨潤性、その他、有機
EL素子(例えば発光層等)の印刷形成において印刷用
ブランケットに求められる諸特性(例えば、インキの受
理性、離型性等)を満足させることができる。従って、
発光層等の印刷形成を安定して行なう上で、表面印刷層
を形成する材料には、上記のゴムまたはエラストマー材
料、もしくはこれらの混合物を用いるのが好ましい。
(Material for forming surface printing layer) In the present invention,
The elastic body used for forming the surface printing layer of the printing blanket includes, for example, silicone elastomer, fluorine elastomer, rubber or elastomer material such as butyl rubber, ethylene-propylene rubber, and a mixture thereof. Generally, by using these rubber or elastomer materials, or a mixture thereof, a surface printing layer for a solvent of a printing ink (for example, a light emitting layer forming ink) obtained by dissolving or stably dispersing an organic EL device forming material In addition to the swelling property, various properties (for example, ink acceptability, releasability, etc.) required for a printing blanket in print formation of an organic EL element (for example, a light emitting layer) can be satisfied. Therefore,
In order to perform stable print formation of the light emitting layer and the like, it is preferable to use the above-mentioned rubber or elastomer material or a mixture thereof as a material for forming the surface print layer.

【0060】上記シリコーン系エラストマーとしては、
例えばメチルシリコーンゴム〔信越化学工業(株)製の
KEシリーズ、東芝シリコーン(株)製のTSEシリー
ズ〕、ビニルメチルシリコーンゴム〔信越化学工業
(株)製のKEシリーズ、東芝シリコーン(株)製のT
SEシリーズ〕、フロロシリコーンゴム〔信越化学工業
(株)製のFEシリーズ、東芝シリコーン(株)製のT
SEシリーズ〕等が挙げられる。なお、特に限定される
ものではないが、加熱硬化型(HTV)、室温硬化型
(RTV)といったタイプのうち室温硬化型で付加型の
シリコーンゴムは、硬化の際に副生成物を全く発生せ
ず、寸法精度において優れているので、好適である。
As the above-mentioned silicone elastomer,
For example, methyl silicone rubber [KE series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., TSE series manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.], vinyl methyl silicone rubber [KE series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.] T
SE series], fluorosilicone rubber [FE series manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd., T manufactured by Toshiba Silicone Co., Ltd.]
SE series] and the like. It should be noted that, although not particularly limited, among the types such as the heat curing type (HTV) and the room temperature curing type (RTV), the room temperature curing type addition type silicone rubber does not generate a by-product at the time of curing. In addition, the dimensional accuracy is excellent, which is preferable.

【0061】上記フッ素系エラストマーとしては、例え
ばフッ素化ポリエーテル骨格とシリコーン架橋末端基を
有するエラストマー〔信越化学工業(株)製の「SIF
EL(R) 」,フロロエーテル構造を有するもの,未硬化
状態の粘度10〜10000Pa・s〕、フッ化ビニリ
デンゴム〔ダイキン工業(株)製の「ダイエル(R) 」、
昭和電工・デュポン社製の「バイトン(R) 」〕、四フッ
化エチレンプロプレンゴム〔旭ガラス(株)製の「アフ
ラス(R) 」等〕、四フッ化エチレンパーフルオロメチル
ビニルエーテルゴム〔デュポン社製の「カルレッツ(R)
」〕、フォスファーゼン系フッ素ゴム〔ジクロロホス
フォニトリルの三量体を熱分解したゴムであって、パー
オキサイド架橋されたもの。ダイキン工業(株)製の
「EYPEL−F(R) 」〕、フルオロポリエーテル、フ
ルオロニトロソゴム、パーフルオロアルキレントリアジ
ン等が挙げられる。
Examples of the above-mentioned fluorine-based elastomer include elastomers having a fluorinated polyether skeleton and silicone cross-linking end groups [SIF manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
EL (R) ", one having a fluoroether structure, uncured viscosity 10 to 10,000 Pa · s], vinylidene fluoride rubber [" Daiel (R) "manufactured by Daikin Industries, Ltd.,
"Viton (R)" manufactured by Showa Denko / Dupont, tetrafluoroethylene propylene rubber [Aflas (R) manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.], tetrafluoroethylene perfluoromethyl vinyl ether rubber [Dupont] Kalrez (R) manufactured by the company
], Phosphazene-based fluororubber [a rubber obtained by thermally decomposing a trimer of dichlorophosphonitrile, which is peroxide-crosslinked. "EYPEL-F (R)" manufactured by Daikin Industries, Ltd.], fluoropolyether, fluoronitroso rubber, perfluoroalkylene triazine, and the like.

【0062】上記ブチルゴムとしては、例えば日本合成
ゴム(株)製の「JSR BUTYL」、エクソン社製
の「EXXON BUTYL」等のほか、ハロゲン化ブ
チルゴム〔例えば日本合成ゴム(株)製の「JSR C
HLOROBUTYL」、「JSR BROMOBUT
YL」等〕が挙げられる。上記エチレン−プロプレンゴ
ム(EPM)としては、例えば日本合成ゴム(株)製の
EPシリーズ、住友化学(株)製の「エスプレン」シリ
ーズ等が挙げられる。なお、このEPMにはエチレン−
プロプレン−ジエンゴム(EPDM)が含まれる。
Examples of the butyl rubber include "JSR BUTYL" manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd., "EXXON BUTYL" manufactured by Exxon Co., Ltd., and halogenated butyl rubber [for example, "JSR CTY manufactured by Japan Synthetic Rubber Co., Ltd."
HLOROBUTYL "," JSR BROMOBUT
YL "and the like]. Examples of the ethylene-propylene rubber (EPM) include EP series manufactured by Nippon Synthetic Rubber Co., Ltd., “Esprene” series manufactured by Sumitomo Chemical Co., Ltd., and the like. This EPM has ethylene-
Includes propylene-diene rubber (EPDM).

【0063】上記表面印刷層形成材料の中でも特に、フ
ッ素化ポリエーテル骨格とシリコーン架橋末端基とを有
するエラストマー〔例えば、前出の商品名「SIFEL
(R)」〕は、耐溶剤性と印刷特性とのバランスが良好で
あることから、有機EL素子形成用の印刷用ブランケッ
トに極めて好適である。上記の「フッ素化ポリエーテル
骨格とシリコーン架橋末端基」は、具体的に、下記式
(1) で表される。
Among the above materials for forming the surface printing layer, an elastomer having a fluorinated polyether skeleton and a silicone cross-linking terminal group [for example, the above-mentioned trade name "SIFEL"
(R) ”] is very suitable for a printing blanket for forming an organic EL element, since it has a good balance between solvent resistance and printing characteristics. The above-mentioned "fluorinated polyether skeleton and silicone cross-linking end group" is specifically represented by the following formula
It is represented by (1).

【0064】[0064]

【化1】 [Chemical 1]

【0065】(式(1) 中、nは繰返し単位の数を示
す。)
(In the formula (1), n represents the number of repeating units.)

【0066】[0066]

【実施例】次に、実施例および比較例を挙げて、本発明
を説明する。
EXAMPLES The present invention will be described with reference to Examples and Comparative Examples.

【0067】〔発光層の形成〕下記の実施例および比較
例において、透明基板および透明導電膜には、厚さ0.
7mmのガラス基板(ソーダライムガラス)の表面に、
真空蒸着法によって厚さ0.1μmのITO膜(陽極)
を形成したものを用いた。正孔輸送材料には、正孔輸送
剤としてのポリエチレンジオキシチオフェンを含有する
コーティング液〔ポリエチレンジオキシチオフェン−ポ
リスチレンスルフォネート(PEDT/PSS),バイ
エル社製の商品名「Baytron P」〕を用いた。
有機高分子発光体にはポリ(9,9’−ジアルキルフル
オレン)〔PDAF〕を用いた。このPDAFは、固形
分濃度が2重量%となるように溶剤(キシレン)中に溶
解させて、発光層形成用の印刷インキとして使用した。
[Formation of Light Emitting Layer] In the following Examples and Comparative Examples, the transparent substrate and the transparent conductive film had a thickness of 0.
On the surface of a 7 mm glass substrate (soda lime glass),
ITO film (anode) with a thickness of 0.1 μm by vacuum evaporation method
Was used. As the hole transport material, a coating liquid containing polyethylene dioxythiophene as a hole transport agent [polyethylene dioxythiophene-polystyrene sulfonate (PEDT / PSS), trade name “Baytron P” manufactured by Bayer Co., Ltd.] Using.
Poly (9,9′-dialkylfluorene) [PDAF] was used as the organic polymer light-emitting material. This PDAF was dissolved in a solvent (xylene) so that the solid content concentration was 2% by weight and used as a printing ink for forming a light emitting layer.

【0068】(実施例1)上記基材の表面にUV−オゾ
ン洗浄を施し、有機物等の付着物を除去した後、当該基
材のITO膜側の表面にスピンコート法によって上記正
孔輸送材料を塗布し、70〜80℃で乾燥させることに
よって正孔輸送層を得た。次に、正孔輸送層の表面に凹
版オフセット印刷法によって発光層のパターンを形成し
た。
Example 1 After UV-ozone cleaning was applied to the surface of the base material to remove organic substances and other deposits, the hole transporting material was applied to the surface of the base material on the ITO film side by spin coating. Was applied and dried at 70 to 80 ° C. to obtain a hole transport layer. Next, a pattern of the light emitting layer was formed on the surface of the hole transport layer by the intaglio offset printing method.

【0069】発光層の印刷形成において、印刷版には、
ソーダライムガラス基板の表面にエッチングによって凹
部(ストライプパターン)を形成した凹版であって、当
該凹部の線幅が100μm、深さが10μmであるもの
を使用した。印刷用ブランケットには、表面印刷層がフ
ロロシリコーンゴム〔信越化学工業(株)製の品番「F
E351U」〕を用いてなるものを使用した。この表面
印刷層は、発光層形成用インキの溶剤(キシレン)に2
3℃で24時間浸漬したときの体積変化率が8%であっ
て、表面の十点平均粗さ(Rz)が0.1μmであっ
た。さらに、この表面印刷層は、厚さが0.5mm、硬
さ(JIS A硬度)が50°、溶解度定数(SP値)
が7(cal/mol・cm3 1/2 、表面張力γsが
18dyn/cmであった。
In the printing formation of the light emitting layer, the printing plate is
An intaglio plate having a concave portion (stripe pattern) formed on the surface of a soda lime glass substrate by etching, the concave portion having a line width of 100 μm and a depth of 10 μm was used. The printing blanket has a fluorosilicone rubber surface printing layer [Shin-Etsu Chemical Co., Ltd. product number "F
E351U "] was used. This surface-printed layer is used as a solvent (xylene) for the ink for forming the light-emitting layer.
The volume change rate when immersed at 3 ° C. for 24 hours was 8%, and the ten-point average roughness (Rz) of the surface was 0.1 μm. Furthermore, this surface-printed layer has a thickness of 0.5 mm, a hardness (JIS A hardness) of 50 °, and a solubility constant (SP value).
Was 7 (cal / mol · cm 3 ) 1/2 and the surface tension γs was 18 dyn / cm.

【0070】発光層の印刷形成は、まず、平台印刷機
に、前述の凹版、印刷用ブランケットおよびITO膜付
きガラス基板をそれぞれ装着し、当該凹版の凹部に上記
発光層形成用インキをドクタリングによって充填した
後、凹版から印刷用ブランケットへのインキの転写速度
を50mm/sに、印刷用ブランケットから上記ガラス
基板へのインキの転写速度を150mm/sに、ガラス
基板へのインキの転写時における印刷用ブランケットの
印圧を2kg/cm2 に、それぞれ設定することによっ
て行なった。
To form the light emitting layer by printing, first, the above intaglio plate, the printing blanket and the glass substrate with the ITO film were mounted on a flatbed printing machine, and the above ink for forming a light emitting layer was applied to the recess of the intaglio plate by doctoring. After filling, the transfer speed of the ink from the intaglio plate to the printing blanket is 50 mm / s, the transfer speed of the ink from the printing blanket to the glass substrate is 150 mm / s, and the printing at the time of transferring the ink to the glass substrate is performed. The printing pressure was set to 2 kg / cm 2 for each blanket.

【0071】上記正孔輸送層上に印刷されたインキの厚
み(乾燥前)は6μmであって、80℃で30分間乾燥
した後の発光層の厚みは0.12μmであった。発光層
を乾燥後、その表面に真空蒸着法によってカルシウムを
蒸着し、次いでアルミニウムを蒸着して、総厚み0.1
μmのCa/Al層(陰極層)を形成することによっ
て、有機ELパネルを得た。
The thickness of the ink printed on the above hole transport layer (before drying) was 6 μm, and the thickness of the light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.12 μm. After the light emitting layer is dried, calcium is deposited on the surface by a vacuum deposition method, and then aluminum is deposited to give a total thickness of 0.1.
An organic EL panel was obtained by forming a Ca / Al layer (cathode layer) of μm.

【0072】(実施例2)発光層の印刷形成に用いる印
刷用ブランケットとして、表面印刷層に四フッ化エチレ
ンパーフルオロメチルビニルエーテルゴム〔デュポン社
製のフッ素ゴム,商標「カルレッツ」〕を用いてなるも
のを使用した。この表面印刷層は、発光層形成用インキ
の溶剤(キシレン)に23℃で24時間浸漬したときの
体積変化率が5%であって、表面の十点平均粗さ(R
z)が0.3μmであった。さらに、この表面印刷層
は、厚さが1.0mm、硬さ(JIS A硬度)が40
°、溶解度定数(SP値)が6.5(cal/mol・
cm 3 1/2 、表面張力γsが10dyn/cmであっ
た。凹版には、ソーダライムガラス基板の表面にエッチ
ングによって線幅50μm、深さ10μmの凹部(スト
ライプパターン)を形成したものを使用した。ITO膜
付きガラス基板、正孔輸送材料および発光層形成用イン
キには、実施例1と同じものを使用した。
(Example 2) A mark used for print formation of a light emitting layer
As a printing blanket, the surface printing layer is made of tetrafluoroethylene.
Perfluoromethyl vinyl ether rubber [Dupont
Made of fluorocarbon rubber, trademark "Kalrez"]
Was used. This surface printing layer is an ink for forming a light emitting layer.
When immersed in the solvent (xylene) at 23 ℃ for 24 hours
The volume change rate is 5%, and the ten-point average roughness (R
z) was 0.3 μm. Furthermore, this surface printing layer
Has a thickness of 1.0 mm and a hardness (JIS A hardness) of 40
°, solubility constant (SP value) 6.5 (cal / mol ·
cm 3)1/2, The surface tension γs is 10 dyn / cm
It was For the intaglio, etch on the surface of the soda lime glass substrate
The width of the recess is 50 μm and the depth is 10 μm.
A lime pattern was used. ITO film
Glass substrate, hole transporting material, and light-emitting layer forming layer
The same thing as in Example 1 was used as the ki.

【0073】上記ITO膜付きガラス基板の表面に、実
施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印刷
用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上に
発光層を印刷形成した。発光層の印刷形成には実施例1
と同じ平台印刷機を使用し、凹版から印刷用ブランケッ
トへのインキの転写速度は30mm/sに、印刷用ブラ
ンケットから上記ガラス基板へのインキの転写速度は1
50mm/sに、ガラス基板へのインキの転写時におけ
る印刷用ブランケットの印圧を2kg/cm2に、それ
ぞれ設定することによって行なった。上記正孔輸送層上
に印刷されたインキの厚み(乾燥前)は5μmであっ
て、80℃で30分間乾燥した後の発光層の厚みは0.
1μmであった。発光層を乾燥後、実施例1と同様にし
て有機ELパネルを得た。
After forming a hole transport layer on the surface of the glass substrate with the ITO film in the same manner as in Example 1, a light emitting layer was formed on the hole transport layer using the printing blanket and the intaglio plate. Printed. Example 1 was used for print formation of the light emitting layer.
Using the same flatbed printing machine as above, the transfer speed of the ink from the intaglio to the printing blanket is 30 mm / s, and the transfer speed of the ink from the printing blanket to the glass substrate is 1
The printing pressure was set to 50 mm / s and the printing pressure of the printing blanket during the transfer of the ink to the glass substrate was set to 2 kg / cm 2 , respectively. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 5 μm, and the thickness of the light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.
It was 1 μm. After drying the light emitting layer, an organic EL panel was obtained in the same manner as in Example 1.

【0074】(比較例1)ITO膜付きガラス基板と正
孔輸送材料に実施例1と同じものを使用し、当該ガラス
基板の表面に、実施例1と同様にして正孔輸送層を形成
した。次に、正孔輸送層の表面にスクリーン印刷法によ
って発光層のパターンを形成した。
Comparative Example 1 A glass substrate with an ITO film and the same hole transport material as in Example 1 were used, and a hole transport layer was formed on the surface of the glass substrate in the same manner as in Example 1. . Next, a pattern of the light emitting layer was formed on the surface of the hole transport layer by screen printing.

【0075】発光層の印刷形成は、画線部の幅が100
μmであるストライプパターンを備えるスクリーン版を
使用し、平台印刷機に当該凹版と前述のITO膜付きガ
ラス基板をそれぞれ装着して行なった。発光層形成用イ
ンキは実施例1と同じものを使用した。上記正孔輸送層
上に印刷されたインキの厚み(乾燥前)は10μmであ
って、80℃で30分間乾燥した後の発光層の厚みは
0.2μmであった。
When the light emitting layer is formed by printing, the width of the image area is 100.
Using a screen plate having a stripe pattern of μm, the intaglio plate and the above-mentioned glass substrate with an ITO film were mounted on a flatbed printing machine. The same light emitting layer forming ink as in Example 1 was used. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 10 μm, and the thickness of the light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.2 μm.

【0076】(比較例2)ITO膜付きガラス基板と正
孔輸送材料に実施例1と同じものを使用し、当該ガラス
基板の表面に、実施例1と同様にして正孔輸送層を形成
した。次に、正孔輸送層の表面に平版印刷法によって発
光層のパターンを形成した。
Comparative Example 2 A glass substrate with an ITO film and the same hole transport material as in Example 1 were used, and a hole transport layer was formed on the surface of the glass substrate in the same manner as in Example 1. . Next, a pattern of the light emitting layer was formed on the surface of the hole transport layer by a lithographic printing method.

【0077】発光層の印刷形成は、画線部の幅が50μ
mであるストライプパターンを備える水なし平版〔東レ
(株)製の商品名「TAP版」〕と、実施例1と同じ印
刷用ブランケットとを使用し、平台印刷機に当該平版と
前述のITO膜付きガラス基板をそれぞれ装着して行な
った。発光層形成用インキは実施例1と同じものを使用
した。平版から印刷用ブランケットへのインキの転写速
度は30mm/sに、印刷用ブランケットから上記ガラ
ス基板へのインキの転写速度は150mm/sに、それ
ぞれ設定した。上記正孔輸送層上に印刷されたインキの
厚み(乾燥前)は0.5μmであって、80℃で30分
間乾燥した後の発光層の厚みは0.01μmであった。
When the light emitting layer is formed by printing, the width of the image area is 50 μm.
Using a waterless planographic plate having a stripe pattern of m (trade name "TAP plate" manufactured by Toray Industries, Inc.) and the same printing blanket as in Example 1, the planographic printing plate and the ITO film were used in a flatbed printing machine. Each glass substrate was attached. The same light emitting layer forming ink as in Example 1 was used. The ink transfer rate from the lithographic plate to the printing blanket was set to 30 mm / s, and the ink transfer rate from the printing blanket to the glass substrate was set to 150 mm / s. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 0.5 μm, and the thickness of the light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.01 μm.

【0078】(比較例3)ITO膜付きガラス基板と正
孔輸送材料に実施例1と同じものを使用し、当該ガラス
基板の表面に、実施例1と同様にして正孔輸送層を形成
した。次に、正孔輸送層の表面にグラビア印刷法(凹版
直刷り印刷法)によって発光層のパターンを形成した。
Comparative Example 3 A glass substrate with an ITO film and the same hole transport material as in Example 1 were used, and a hole transport layer was formed on the surface of the glass substrate in the same manner as in Example 1. . Next, a pattern of the light emitting layer was formed on the surface of the hole transport layer by gravure printing (intaglio direct printing).

【0079】発光層の印刷形成は、線幅100μm、深
さ10μmの凹部(ストライプパターン)を備えるグラ
ビア版を使用し、平台印刷機に当該グラビア版と前述の
ITO膜付きガラス基板をそれぞれ装着して行なった。
発光層形成用インキは実施例1と同じものを使用した。
グラビア版から上記ガラス基板へのインキの転写速度は
150mm/sに設定した。上記正孔輸送層上に印刷さ
れたインキの厚み(乾燥前)は1.0μmであって、8
0℃で30分間乾燥した後の発光層の厚みは0.05μ
mであった。
The light emitting layer was printed by using a gravure plate having a recess (stripe pattern) having a line width of 100 μm and a depth of 10 μm, and the gravure plate and the above-mentioned glass substrate with an ITO film were mounted on a flatbed printing machine. I did it.
The same light emitting layer forming ink as in Example 1 was used.
The transfer speed of the ink from the gravure plate to the glass substrate was set to 150 mm / s. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 1.0 μm, and
The thickness of the light emitting layer after drying at 0 ° C. for 30 minutes is 0.05 μm.
It was m.

【0080】〔印刷性の評価〕上記実施例1,2および
比較例1〜3について、発光層の乾燥後における表面の
平坦性、直線性、ライン形状の適否、ピンホールの有無
および断線の有無と、発光層の印刷形成を連続して行な
ったときにおけるパターンの線幅変化や膜厚変化の有無
とを確認して、印刷性を評価した。以上の結果を表1に
示す。
[Evaluation of Printability] Regarding Examples 1 and 2 and Comparative Examples 1 to 3 described above, the flatness of the surface of the light emitting layer after drying, linearity, suitability of line shape, presence of pinholes and presence of disconnection Then, the printability was evaluated by confirming whether or not there was a change in the line width of the pattern or a change in the film thickness when the light emitting layer was continuously formed by printing. The above results are shown in Table 1.

【0081】[0081]

【表1】 [Table 1]

【0082】表1中、「発光層形成用印刷インキ」欄の
“PDAF”は、有機高分子発光体であるポリ(9,
9’−ジアルキルフルオレン)を示す。「印刷方式」欄
の“凹版”は凹版オフセット印刷法を、“スクリーン”
はスクリーン印刷法を、“平版”は平版印刷法を、“グ
ラビア”はグラビア印刷法を、それぞれ示す。「ブラン
ケットの表面印刷層」欄の材質のうち、“フロロ”はフ
ロロシリコーンゴムを、“TFE”は四フッ化エチレン
ペルフルオロメチルビニルエーテルを、それぞれ示す。
同欄の“体積変化率(%)”は、発光層形成用インキの
溶剤であるキシレンに表面印刷層を23℃で24時間浸
漬したときの体積変化率を示す(下記式参照)。 体積変化率(%)=〔(浸漬後の体積)−(浸漬前の体
積)〕/(浸漬前の体積)×100
In Table 1, "PDAF" in the column "Printing ink for forming light emitting layer" means poly (9,
9'-dialkylfluorene) is shown. "Intaglio" in the "Printing method" column is the intaglio offset printing method, "Screen"
Indicates a screen printing method, “lithographic” indicates a lithographic printing method, and “gravure” indicates a gravure printing method. Among the materials in the "Blanket surface printing layer" column, "Fluoro" indicates fluorosilicone rubber, and "TFE" indicates tetrafluoroethylene perfluoromethyl vinyl ether.
The "volume change rate (%)" in the same column indicates the volume change rate when the surface printing layer was immersed in xylene, which is a solvent for the light emitting layer forming ink, at 23 ° C for 24 hours (see the following formula). Volume change rate (%) = [(volume after immersion)-(volume before immersion)] / (volume before immersion) × 100

【0083】表1より明らかなように、耐溶剤性が良好
な特定の材質からなりかつ表面粗さが所定範囲に設定さ
れてなる表面印刷層を有する印刷用ブランケットを使用
して、凹版オフセット印刷法によって発光層を形成した
実施例1および2によれば、発光層のパターンの線幅と
厚さを有機EL素子に適した範囲に設定することができ
た。特に、実施例2では、発光層のパターンの線幅を5
0μmという極めて細いものとすることができた。これ
に対し、スクリーン印刷法を採用した比較例1ではパタ
ーンの形状に乱れが生じ、平版印刷法を採用した比較例
2ではパターンに断線が発生し、グラビア印刷法を採用
した比較例3では、版と被印刷物との密着性が不十分に
なるため部分的にしかパターンの形成を行なうことがで
きなかった。それゆえ、比較例1〜3はいずれも印刷性
が不適当であった。
As is clear from Table 1, intaglio offset printing was performed using a printing blanket having a surface printing layer made of a specific material having good solvent resistance and having a surface roughness set in a predetermined range. According to Examples 1 and 2 in which the light emitting layer was formed by the method, the line width and thickness of the pattern of the light emitting layer could be set within the range suitable for the organic EL device. Particularly, in Example 2, the line width of the pattern of the light emitting layer was set to 5
It was possible to make it as thin as 0 μm. On the other hand, in Comparative Example 1 in which the screen printing method is adopted, the pattern shape is disturbed, in Comparative Example 2 in which the lithographic printing method is adopted, the pattern is broken, and in Comparative Example 3 in which the gravure printing method is adopted, Since the adhesion between the plate and the material to be printed was insufficient, the pattern could only be formed partially. Therefore, Comparative Examples 1 to 3 were all improper in printability.

【0084】〔発光層の形成〕 (実施例3)発光層の印刷形成に用いる印刷用ブランケ
ットとして、表面印刷層にフッ化ビニリデン系のフッ素
ゴム〔ダイキン(株)の登録商標「ダイエル」〕を用い
てなるものを使用した。この表面印刷層は、発光層形成
用インキの溶剤(キシレン)に23℃で24時間浸漬し
たときの体積変化率が7%であって、厚さが0.5m
m、硬さ(JIS A硬度)が50°であった。さら
に、この表面印刷層は、表面の十点平均粗さ(Rz)が
0.2μm、溶解度定数(SP値)が7(cal/mo
l・cm3 1/2 、表面張力γsが12dyn/cmで
あった。
[Formation of Light-Emitting Layer] (Example 3) As a printing blanket used for print-forming the light-emitting layer, vinylidene fluoride-based fluororubber [registered trademark "DAIEL" of Daikin Corp.] was used for the surface printing layer. What was used was used. The surface printing layer had a volume change rate of 7% when immersed in a solvent (xylene) for the light emitting layer forming ink at 23 ° C. for 24 hours and had a thickness of 0.5 m.
m, and the hardness (JIS A hardness) was 50 °. Furthermore, this surface-printed layer has a surface ten-point average roughness (Rz) of 0.2 μm and a solubility constant (SP value) of 7 (cal / mo).
l · cm 3 ) 1/2 and the surface tension γs were 12 dyn / cm.

【0085】ITO膜付きガラス基板、正孔輸送材料、
発光層形成用インキおよび凹版には、実施例1と同じも
のを使用した。上記ITO膜付きガラス基板の表面に、
実施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印
刷用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上
に発光層を印刷形成した。発光層の印刷形成時における
転写速度および印刷用ブランケットの印圧は、実施例2
と同じ条件に設定した。上記正孔輸送層上に印刷された
インキの厚み(乾燥前)は5μmであって、80℃で3
0分間乾燥した後の発光層の厚みは0.1μmであっ
た。発光層を乾燥後、実施例1と同様にして有機ELパ
ネルを得た。
Glass substrate with ITO film, hole transport material,
The same ink as used in Example 1 was used for the light emitting layer forming ink and the intaglio plate. On the surface of the glass substrate with the ITO film,
After forming the hole transport layer in the same manner as in Example 1, the light emitting layer was printed on the hole transport layer by using the printing blanket and the intaglio plate. The transfer speed and the printing pressure of the printing blanket at the time of print formation of the light emitting layer are the same as those in Example 2.
The same conditions were set. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 5 μm, and the thickness was 3 at 80 ° C.
The thickness of the light emitting layer after drying for 0 minutes was 0.1 μm. After drying the light emitting layer, an organic EL panel was obtained in the same manner as in Example 1.

【0086】(実施例4)発光層の印刷形成に用いる印
刷用ブランケットとして、表面印刷層にフォスファーゼ
ン系のフッ素ゴム〔ダイキン(株)の登録商標「EYP
EL」〕を用いてなるものを使用した。この表面印刷層
は、発光層形成用インキの溶剤(キシレン)に23℃で
24時間浸漬したときの体積変化率が5%であって、厚
さが1.0mm、硬さ(JIS A硬度)が60°であ
った。さらに、この表面印刷層は、表面の十点平均粗さ
(Rz)が0.3μm、溶解度定数(SP値)が7(c
al/mol・cm3 1/2 、表面張力γsが15dy
n/cmであった。
(Example 4) As a printing blanket used for print formation of the light emitting layer, a phosphor layer of phosphazene type [trademark "EYP" manufactured by Daikin Co., Ltd.
EL ”] was used. The surface printing layer had a volume change rate of 5% when immersed in a solvent (xylene) for the light emitting layer forming ink at 23 ° C. for 24 hours, had a thickness of 1.0 mm and a hardness (JIS A hardness). Was 60 °. Further, this surface-printed layer has a surface ten-point average roughness (Rz) of 0.3 μm and a solubility constant (SP value) of 7 (c).
al / mol · cm 3 ) 1/2 , surface tension γs is 15 dy
It was n / cm.

【0087】ITO膜付きガラス基板、正孔輸送材料、
発光層形成用インキおよび凹版には、実施例1と同じも
のを使用した。上記ITO膜付きガラス基板の表面に、
実施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印
刷用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上
に発光層を印刷した。発光層の印刷形成時における転写
速度および印刷用ブランケットの印圧は、実施例2と同
じ条件に設定した。上記正孔輸送層上に印刷されたイン
キの厚み(乾燥前)は5μmであって、80℃で3分間
乾燥した後の発光層の厚みは0.1μmであった。発光
層を乾燥後、実施例1と同様にして有機ELパネルを得
た。
Glass substrate with ITO film, hole transport material,
The same ink as used in Example 1 was used for the light emitting layer forming ink and the intaglio plate. On the surface of the glass substrate with the ITO film,
After forming the hole transport layer in the same manner as in Example 1, the light emitting layer was printed on the hole transport layer using the printing blanket and the intaglio plate. The transfer speed during printing formation of the light emitting layer and the printing pressure of the printing blanket were set to the same conditions as in Example 2. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 5 μm, and the thickness of the light emitting layer after drying at 80 ° C. for 3 minutes was 0.1 μm. After drying the light emitting layer, an organic EL panel was obtained in the same manner as in Example 1.

【0088】(比較例4)発光層の印刷形成に用いる印
刷用ブランケットには、表面印刷層の厚さが6mmであ
るほかは、キシレンに23℃で24時間浸漬したときの
体積変化率、表面印刷層の硬さ(JIS A)、十点平
均粗さRz、溶解度定数(SP値)および表面張力γs
が実施例1と同様であるものを使用した。ITO膜付き
ガラス基板、正孔輸送材料、発光層形成用インキおよび
凹版には、実施例1と同じものを使用した。
(Comparative Example 4) The printing blanket used for printing and forming the light-emitting layer had a surface printing layer having a thickness of 6 mm, a volume change rate when immersed in xylene at 23 ° C. for 24 hours, and a surface. Printing layer hardness (JIS A), ten-point average roughness Rz, solubility constant (SP value) and surface tension γs
Which was the same as in Example 1 was used. The same glass substrate as in Example 1 was used for the glass substrate with the ITO film, the hole transport material, the light emitting layer forming ink and the intaglio plate.

【0089】上記ITO膜付きガラス基板の表面に、実
施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印刷
用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上に
発光層を印刷した。発光層の印刷形成時における転写速
度および印刷用ブランケットの印圧は、実施例2と同じ
条件に設定した。上記正孔輸送層上に印刷されたインキ
の厚み(乾燥前)は5μmであって、80℃で30分間
乾燥した後の発光層の厚みは0.1μmであった。発光
層を乾燥後、実施例1と同様にして有機ELパネルを得
た。
After forming a hole transport layer on the surface of the glass substrate with the ITO film in the same manner as in Example 1, a light emitting layer was formed on the hole transport layer using the printing blanket and the intaglio plate. Printed. The transfer speed during printing formation of the light emitting layer and the printing pressure of the printing blanket were set to the same conditions as in Example 2. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 5 μm, and the thickness of the light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.1 μm. After drying the light emitting layer, an organic EL panel was obtained in the same manner as in Example 1.

【0090】(比較例5)発光層の印刷形成に用いる印
刷用ブランケットには、表面印刷層の厚さが1.0m
m、表面印刷層の硬さ(JIS A)が85°であるほ
かは、キシレンに23℃で24時間浸漬したときの体積
変化率、十点平均粗さRz、溶解度定数(SP値)およ
び表面張力γsが実施例1と同様であるものを使用し
た。ITO膜付きガラス基板、正孔輸送材料、発光層形
成用インキおよび凹版には、実施例1と同じものを使用
した。
(Comparative Example 5) The thickness of the surface printing layer was 1.0 m in the printing blanket used for printing the light emitting layer.
m, the hardness of the surface printing layer (JIS A) is 85 °, the volume change rate when immersed in xylene at 23 ° C. for 24 hours, the ten-point average roughness Rz, the solubility constant (SP value) and the surface The same tension γs as in Example 1 was used. The same glass substrate as in Example 1 was used for the glass substrate with the ITO film, the hole transport material, the light emitting layer forming ink and the intaglio plate.

【0091】上記ITO膜付きガラス基板の表面に、実
施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印刷
用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上に
発光層を印刷した。発光層の印刷形成時における転写速
度および印刷用ブランケットの印圧は、実施例2と同じ
条件に設定した。上記正孔輸送層上に印刷されたインキ
の厚み(乾燥前)は0.5μmであって、80℃で30
分間乾燥した後の発光層の厚みは0.01μmであっ
た。
After forming a hole transport layer on the surface of the ITO film-coated glass substrate in the same manner as in Example 1, a light emitting layer was formed on the hole transport layer using the printing blanket and the intaglio plate. Printed. The transfer speed during printing formation of the light emitting layer and the printing pressure of the printing blanket were set to the same conditions as in Example 2. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 0.5 μm, and the thickness was 30 at 80 ° C.
The thickness of the light emitting layer after drying for 0.01 minute was 0.01 μm.

【0092】(比較例6)発光層の印刷形成に用いる印
刷用ブランケットとして、表面印刷層にアクリロニトリ
ル−ブタジエンゴム(NBR)を用いてなるものを使用
した。この表面印刷層は、キシレンに23℃で24時間
浸漬したときの体積変化率が150%、表面印刷層の厚
さが6mm、硬さ(JIS A硬度)が85°であり、
さらに、表面印刷層の十点平均粗さRzが0.4μm、
溶解度定数(SP値)が7および表面張力γsが18d
yn/cmであった。
(Comparative Example 6) As a printing blanket used for printing and forming the light emitting layer, a printing blanket made of acrylonitrile-butadiene rubber (NBR) for the surface printing layer was used. This surface-printed layer has a volume change rate of 150% when immersed in xylene at 23 ° C. for 24 hours, a thickness of the surface-printed layer of 6 mm, and a hardness (JIS A hardness) of 85 °.
Furthermore, the ten-point average roughness Rz of the surface printing layer is 0.4 μm,
Solubility constant (SP value) is 7 and surface tension γs is 18d
It was yn / cm.

【0093】ITO膜付きガラス基板、正孔輸送材料、
発光層形成用インキおよび凹版には、実施例1と同じも
のを使用した。上記ITO膜付きガラス基板の表面に、
実施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印
刷用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上
に発光層を印刷した。発光層の印刷形成における転写速
度および印刷用ブランケットの印圧は、比較例4と同じ
条件に設定した。上記正孔輸送層上に印刷されたインキ
の厚み(乾燥前)は1μmであって、80℃で30分間
乾燥した後の発光層の厚みは0.02μmであった。
Glass substrate with ITO film, hole transport material,
The same ink as used in Example 1 was used for the light emitting layer forming ink and the intaglio plate. On the surface of the glass substrate with the ITO film,
After forming the hole transport layer in the same manner as in Example 1, the light emitting layer was printed on the hole transport layer using the printing blanket and the intaglio plate. The transfer speed in printing formation of the light emitting layer and the printing pressure of the printing blanket were set to the same conditions as in Comparative Example 4. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 1 μm, and the thickness of the light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.02 μm.

【0094】〔印刷性の評価〕上記実施例3,4および
比較例4〜6について、上記実施例1および2と同様に
して、印刷性を評価した。その結果を上記1および2の
結果とともに表2に示す。
[Evaluation of Printability] The printability of Examples 3 and 4 and Comparative Examples 4 to 6 was evaluated in the same manner as in Examples 1 and 2. The results are shown in Table 2 together with the results of 1 and 2 above.

【0095】[0095]

【表2】 [Table 2]

【0096】表2中、“PDAF”、“フロロ”、“T
FE” および“体積変化率(%)”については表1と
同様である。また、“PVDF”はフッ化ビニリデン系
ゴムを、“フォス”はフォスファーゼン系フッ素ゴム
を、それぞれ示す。表2より明らかなように、耐溶剤性
が良好な特定の材質からなりかつ厚さや硬さが所定範囲
に設定されてなる表面印刷層を有する印刷用ブランケッ
トを使用して、凹版オフセット印刷法によって発光層を
形成した実施例1〜4によれば、発光層のパターンの線
幅と厚さを有機EL素子に適した範囲に設定することが
できた。特に、実施例2では、発光層のパターンの線幅
を50μmという極めて細いものとすることができた。
In Table 2, "PDAF", "Fluoro", "T"
The FE "and the" volume change rate (%) "are the same as those in Table 1. Also," PVDF "indicates a vinylidene fluoride rubber and" foss "indicates a phosphazene fluororubber, respectively. As is clearer, a light-emitting layer is formed by an intaglio offset printing method using a printing blanket having a surface printing layer made of a specific material having good solvent resistance and having a thickness and hardness set in a predetermined range. According to Examples 1 to 4 in which the light emitting layer was formed, the line width and thickness of the pattern of the light emitting layer could be set within a range suitable for the organic EL element. The line width could be made extremely thin as 50 μm.

【0097】これに対し、印刷用ブランケットの表面印
刷層の厚さが大きすぎる比較例4ではパターンの形状に
乱れが生じ、表面印刷層の硬さが硬すぎる比較例5では
パターンにピンホールや断線が発生した。比較例6で
は、表面印刷層の厚さが大きすぎ、しかも硬さが硬すぎ
ることから、パターンの形状に乱れが生じるとともに、
ピンホールや断線も生じた。それゆえ、比較例4〜6は
いずれも印刷性が不適当であった。
On the other hand, in Comparative Example 4 in which the thickness of the surface printing layer of the printing blanket was too large, the shape of the pattern was disturbed, and in Comparative Example 5, the hardness of the surface printing layer was too hard. A disconnection occurred. In Comparative Example 6, since the thickness of the surface printing layer was too large and the hardness was too hard, the pattern shape was disturbed and
Pinholes and disconnections also occurred. Therefore, Comparative Examples 4 to 6 were all improper in printability.

【0098】〔発光層の形成〕 (比較例7)印刷用ブランケットとして、表面印刷層の
材質がアクリロニトリル−ブタジエンゴム(NBR)で
あり、当該表面印刷層の溶解度定数(SP値)が8.8
(cal/mol・cm3 1/2 、表面張力γsが38
dyn/cm、厚さが0.5mm、硬さ(JIS A硬
度)が50°、十点平均表面粗さ(Rz)が2μmであ
るものを使用した。また、ITO膜付きガラス基板、正
孔輸送材料、発光層形成用インキおよび凹版は実施例1
と同じものを使用した。
[Formation of Light-Emitting Layer] (Comparative Example 7) As a printing blanket, the material of the surface printing layer was acrylonitrile-butadiene rubber (NBR), and the solubility constant (SP value) of the surface printing layer was 8.8.
(Cal / mol · cm 3 ) 1/2 , surface tension γs is 38
Dyn / cm, thickness 0.5 mm, hardness (JIS A hardness) 50 °, and ten-point average surface roughness (Rz) 2 μm were used. In addition, the glass substrate with the ITO film, the hole transport material, the ink for forming the light emitting layer and the intaglio plate were prepared in
Used the same.

【0099】上記ITO膜付きガラス基板の表面に、実
施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印刷
用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上に
有機発光層を印刷した。発光層の印刷形成時における転
写速度および印刷用ブランケットの印圧は、実施例1と
同じ条件に設定した。上記正孔輸送層上に印刷されたイ
ンキの厚み(乾燥前)は2μmであって、80℃で30
分間乾燥した後の発光層の厚みは0.04μmであっ
た。
After forming a hole transport layer on the surface of the glass substrate with the ITO film in the same manner as in Example 1, the organic blank layer was formed on the hole transport layer using the printing blanket and the intaglio plate. Printed. The transfer speed during printing formation of the light emitting layer and the printing pressure of the printing blanket were set to the same conditions as in Example 1. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 2 μm, and the thickness was 30 at 80 ° C.
The thickness of the light emitting layer after drying for a minute was 0.04 μm.

【0100】(比較例8)印刷用ブランケットとして、
表面印刷層の材質がクロロプレンゴム(CR)であり、
当該表面印刷層の溶解度定数(SP値)が9.0((c
al/mol・cm3 1/2 )、表面張力γsが40d
yn/cm、厚さが0.5mmであるものを使用した。
また、ITO膜付きガラス基板、正孔輸送材料、発光層
形成用インキおよび凹版として、実施例1と同じものを
使用した。
(Comparative Example 8) As a printing blanket,
The material of the surface printing layer is chloroprene rubber (CR),
The solubility constant (SP value) of the surface printing layer is 9.0 ((c
al / mol · cm 3 ) 1/2 ), surface tension γs is 40d
The one having a yn / cm and a thickness of 0.5 mm was used.
The same glass substrate as in Example 1 was used as the glass substrate with the ITO film, the hole transport material, the light emitting layer forming ink and the intaglio plate.

【0101】上記ITO膜付きガラス基板の表面に、実
施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印刷
用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上に
有機発光層を印刷した。発光層の印刷形成時における転
写速度および印刷用ブランケットの印圧は、実施例1と
同じ条件に設定した。上記正孔輸送層上に印刷されたイ
ンキの厚み(乾燥前)は1.5μmであって、80℃で
30分間乾燥した後の発光層の厚みは0.03μmであ
った。
After forming the hole transport layer on the surface of the glass substrate with the ITO film in the same manner as in Example 1, the organic light emitting layer was formed on the hole transport layer by using the printing blanket and the intaglio plate. Printed. The transfer speed during printing formation of the light emitting layer and the printing pressure of the printing blanket were set to the same conditions as in Example 1. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 1.5 μm, and the thickness of the light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.03 μm.

【0102】(比較例9)印刷用ブランケットとして、
表面印刷層の材質がウレタンゴム(UR)であり、当該
表面印刷層の溶解度定数(SP値)が10.0((ca
l/mol・cm 3 1/2 )、表面張力γsが45dy
n/cm、厚さが0.5mmであるものを使用した。ま
た、凹版、ITO膜付きガラス基板、正孔輸送材料およ
び発光層形成用インキとして、実施例1と同じものを使
用した。
(Comparative Example 9) As a printing blanket,
The material of the surface printing layer is urethane rubber (UR)
The solubility constant (SP value) of the surface printing layer is 10.0 ((ca
l / mol · cm 3)1/2), Surface tension γs is 45 dy
An n / cm film having a thickness of 0.5 mm was used. Well
Intaglio, glass substrate with ITO film, hole transport material and
The same ink as in Example 1 was used as the ink for forming the light-emitting layer.
I used it.

【0103】上記ITO膜付きガラス基板の表面に、実
施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印刷
用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上に
有機発光層を印刷した。発光層の印刷形成時における転
写速度および印刷用ブランケットの印圧は、実施例1と
同じ条件に設定した。上記正孔輸送層上に印刷されたイ
ンキの厚み(乾燥前)は1μmであって、80℃で30
分間乾燥した後の発光層の厚みは0.02μmであっ
た。
After forming a hole transport layer on the surface of the glass substrate with the ITO film in the same manner as in Example 1, an organic light emitting layer was formed on the hole transport layer using the printing blanket and the intaglio plate. Printed. The transfer speed during printing formation of the light emitting layer and the printing pressure of the printing blanket were set to the same conditions as in Example 1. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 1 μm, and the thickness was 30 at 80 ° C.
The thickness of the light emitting layer after drying for a minute was 0.02 μm.

【0104】(比較例10)印刷用ブランケットとし
て、表面印刷層の材質が四フッ化エチレン(PTFE)
であり、当該表面印刷層の溶解度定数(SP値)が5.
5((cal/mol・cm3 1/2 )、表面張力γs
が4dyn/cm、厚さが0.5mmであるものを使用
した。また、凹版、ITO膜付きガラス基板、正孔輸送
材料および発光層形成用インキとして、実施例1と同じ
ものを使用した。
(Comparative Example 10) As a printing blanket, the material of the surface printing layer was tetrafluoroethylene (PTFE).
And the solubility constant (SP value) of the surface printing layer is 5.
5 ((cal / mol · cm 3 ) 1/2 ), surface tension γs
Was 4 dyn / cm and the thickness was 0.5 mm. Further, the same inks as in Example 1 were used as the intaglio plate, the glass substrate with the ITO film, the hole transport material and the light emitting layer forming ink.

【0105】上記ITO膜付きガラス基板の表面に、実
施例1と同様にして正孔輸送層を形成した後、上記印刷
用ブランケットと凹版とを用いて、当該正孔輸送層上に
有機発光層を印刷した。発光層の印刷形成時における転
写速度および印刷用ブランケットの印圧は、実施例1と
同じ条件に設定した。上記正孔輸送層上に印刷されたイ
ンキの厚み(乾燥前)は0.5μmであった。なお、8
0℃で30分間乾燥した後は、断線が多く生じていたた
め、その膜厚を測定することができなかった。
After forming a hole transport layer on the surface of the glass substrate with the ITO film in the same manner as in Example 1, an organic light emitting layer was formed on the hole transport layer using the printing blanket and the intaglio plate. Printed. The transfer speed during printing formation of the light emitting layer and the printing pressure of the printing blanket were set to the same conditions as in Example 1. The thickness of the ink printed on the hole transport layer (before drying) was 0.5 μm. 8
After drying at 0 ° C. for 30 minutes, many wire breakages occurred, so that the film thickness could not be measured.

【0106】〔印刷性の評価〕上記比較例7〜10につ
いて、実施例1と同様にして、印刷性を評価した。その
結果を、上記実施例1および2の結果とともに表3に示
す。
[Evaluation of Printability] The printability of each of Comparative Examples 7 to 10 was evaluated in the same manner as in Example 1. The results are shown in Table 3 together with the results of Examples 1 and 2 above.

【0107】[0107]

【表3】 [Table 3]

【0108】表3中、“PDAF”、“フロロ”、“T
FE”については表1と同様である。また、“NBR”
はアクリロニトリル−ブタジエンゴムを、“CR”はク
ロロプレンゴムを、“UR”はウレタンゴムを、“PT
FE”は四フッ化エチレンを、それぞれ示す。表3より
明らかなように、耐溶剤性が良好な特定の材質からなり
かつ当該材質のSP値や表面張力が所定範囲に設定され
てなる表面印刷層を有する印刷用ブランケットを使用し
て、凹版オフセット印刷法によって発光層を形成した実
施例1および2によれば、発光層のパターンの線幅と厚
さを有機EL素子に適した範囲に設定することができ
た。特に、実施例2では、発光層のパターンの線幅を5
0μmという極めて細いものとすることができた。
In Table 3, "PDAF", "Fluoro", "T"
FE "is the same as in Table 1. Also," NBR "
Is acrylonitrile-butadiene rubber, "CR" is chloroprene rubber, "UR" is urethane rubber, and "PT" is
FE "represents tetrafluoroethylene, respectively. As is clear from Table 3, surface printing made of a specific material having good solvent resistance and having SP value and surface tension of the material set in a predetermined range. According to Examples 1 and 2 in which the light emitting layer was formed by the intaglio offset printing method using the printing blanket having the layer, the line width and thickness of the pattern of the light emitting layer were set within the range suitable for the organic EL device. In particular, in Example 2, the line width of the pattern of the light emitting layer was 5
It was possible to make it as thin as 0 μm.

【0109】これに対し、表面印刷層が、発光層形成用
インキの溶剤に対する耐性(耐溶剤性)が不十分であっ
たり、SP値や表面張力の値が上記好適範囲から外れて
いたりするゴムを用いて形成されている比較例7〜9で
は、パターンの形状に乱れが生じたり、微細なパターン
を高い精度でもって繰り返し印刷形成することができな
かった。また、比較例10の印刷用ブランケットは、表
面印刷層のSP値が十分に低い値であるものの、表面張
力が低すぎて、インキの受理性が乏しくなることから、
十分な厚みのパターンを形成できなくなるという問題が
あった。それゆえ、比較例7〜10はいずれも印刷性が
不適当であった。
On the other hand, the surface printing layer has insufficient resistance (solvent resistance) to the solvent of the light emitting layer forming ink, or the SP value or the surface tension value is out of the preferable range. In Comparative Examples 7 to 9 formed by using, the pattern shape was disturbed, and it was not possible to repeatedly print and form a fine pattern with high accuracy. Further, in the printing blanket of Comparative Example 10, although the SP value of the surface printing layer was a sufficiently low value, the surface tension was too low and the ink acceptability was poor.
There is a problem that a pattern having a sufficient thickness cannot be formed. Therefore, Comparative Examples 7 to 10 were all improper in printability.

【0110】〔印刷用ブランケットの製造〕 (製造例1)支持体としてのPETフィルム上に、フッ
素化ポリエーテル骨格とシリコーン架橋末端基とを有す
るエラストマーとしてのフッ素ゴム〔主鎖にパーフルオ
ロポリエーテル構造を有しかつシリコーン架橋末端基を
有するもの,信越化学工業(株)製の商品名「SIFE
L(R) 3500」,粘度300Pa・s〕を塗布し、セ
ルフレベリングによって平滑化させつつ硬化させること
によって、厚さ0.3mm、表面の十点平均粗さ(R
z)0.1μm、硬さ(JIS A硬度)40°の印刷
用ブランケットを得た。この印刷用ブランケットの表面
印刷層は、発光層形成用インキの溶剤(キシレン)に2
3℃で24時間浸漬したときの体積変化率が10%であ
った。さらに、この表面印刷層は、溶解度定数(SP
値)が7(cal/mol・cm3 1/2、表面張力γ
sが18dyn/cmであった。
[Production of Printing Blanket] (Production Example 1) Fluorine rubber as an elastomer having a fluorinated polyether skeleton and a silicone cross-linking terminal group on a PET film as a support [perfluoropolyether in the main chain] Those having a structure and having a silicone cross-linking end group, trade name "SIFE" manufactured by Shin-Etsu Chemical Co., Ltd.
L (R) 3500 ", viscosity 300 Pa.s] is applied and cured while being smoothed by self-leveling to have a thickness of 0.3 mm and a surface ten-point average roughness (R
z) A printing blanket having a thickness of 0.1 μm and a hardness (JIS A hardness) of 40 ° was obtained. The surface printing layer of this printing blanket is coated with a solvent (xylene) for the light emitting layer forming ink.
The volume change rate when immersed at 3 ° C. for 24 hours was 10%. Furthermore, this surface-printed layer has a solubility constant (SP
Value) is 7 (cal / mol · cm 3 ) 1/2 , surface tension γ
s was 18 dyn / cm.

【0111】〔発光層の形成〕下記の実施例および比較
例において、透明基板および透明導電膜には、厚さ0.
7mmのガラス基板(ソーダライムガラス)の表面に、
真空蒸着法によって厚さ0.1μmのITO膜(陽極)
を形成したものを用いた。有機高分子発光体にはポリ
(9,9’−ジアルキルフルオレン)〔PDAF〕を用
いた。このPDAFは、固形分濃度が2重量%となるよ
うに溶剤(キシレン)中に溶解させて、発光層形成用の
印刷インキとして使用した。
[Formation of Light Emitting Layer] In the following Examples and Comparative Examples, the transparent substrate and the transparent conductive film had a thickness of 0.
On the surface of a 7 mm glass substrate (soda lime glass),
ITO film (anode) with a thickness of 0.1 μm by vacuum evaporation method
Was used. Poly (9,9′-dialkylfluorene) [PDAF] was used as the organic polymer light-emitting material. This PDAF was dissolved in a solvent (xylene) so that the solid content concentration was 2% by weight and used as a printing ink for forming a light emitting layer.

【0112】(実施例5)上記ガラス基板の表面にUV
−オゾン洗浄を施して有機物等の付着物を除去した後、
その表面に凹版オフセット印刷法によって発光層のパタ
ーンを形成した。発光層の印刷形成に際して、印刷版に
は、ソーダライムガラス基板の表面にエッチングによっ
て凹部(ストライプパターン)を形成した凹版であっ
て、当該凹部の線幅が100μm、深さが10μmであ
るものを使用した。印刷用ブランケットには、上記製造
例1で得られたものを使用した。
(Example 5) UV on the surface of the glass substrate
-After ozone cleaning to remove organic substances and other deposits,
A pattern of the light emitting layer was formed on the surface by the intaglio offset printing method. When the light emitting layer is formed by printing, the printing plate is an intaglio plate in which a recess (stripe pattern) is formed by etching on the surface of a soda lime glass substrate, and the line width of the recess is 100 μm and the depth is 10 μm. used. As the printing blanket, the one obtained in Production Example 1 above was used.

【0113】発光層の印刷形成は、まず、平台印刷機
に、前述の凹版、印刷用ブランケットおよびITO膜付
きガラス基板をそれぞれ装着し、当該凹版の凹部に上記
発光層形成用インキをドクタリングによって充填した
後、凹版から印刷用ブランケットへのインキの転写速度
を50mm/sに、印刷用ブランケットから上記ガラス
基板へのインキの転写速度を150mm/sに、ガラス
基板へのインキの転写時における印刷用ブランケットの
印圧を15kg/cm2 に、それぞれ設定することによ
って行なった。ガラス基板上に印刷された発光層形成用
インキからなるパターンの厚み(乾燥前)は3μmであ
って、80℃で30分間乾燥した後の有機高分子発光層
の厚みは0.15μmであった。
The light emitting layer is formed by printing. First, the intaglio plate, the printing blanket and the glass substrate with the ITO film are mounted on a flatbed printing machine, and the ink for forming the light emitting layer is doctored in the recess of the intaglio plate. After filling, the transfer speed of the ink from the intaglio plate to the printing blanket is 50 mm / s, the transfer speed of the ink from the printing blanket to the glass substrate is 150 mm / s, and the printing at the time of transferring the ink to the glass substrate is performed. The printing pressure was set to 15 kg / cm 2 for each blanket. The thickness of the pattern composed of the light emitting layer forming ink printed on the glass substrate (before drying) was 3 μm, and the thickness of the organic polymer light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.15 μm. .

【0114】有機高分子発光層を乾燥後、その表面に真
空蒸着法によってアルミニウムを蒸着し、総厚み0.1
μmのAl層(陰極層)を形成することによって、有機
ELパネルを得た。こうして得られた有機ELパネルに
直流電圧を印加したところ、非常に良好な発光が得られ
た。しかも、発光層のパターンは連続性に優れており、
その線幅、膜厚ともに安定していることが確認できた。
この結果は、発光層の印刷形成を繰り返し行なっても特
に変わるところが見られなかった。
After drying the organic polymer light emitting layer, aluminum was vapor-deposited on the surface by a vacuum vapor deposition method to give a total thickness of 0.1.
An organic EL panel was obtained by forming an Al layer (cathode layer) having a thickness of μm. When a DC voltage was applied to the organic EL panel thus obtained, very good light emission was obtained. Moreover, the pattern of the light emitting layer has excellent continuity,
It was confirmed that both the line width and the film thickness were stable.
This result did not show any particular change even when the print formation of the light emitting layer was repeated.

【0115】(比較例11)上記ガラス基板の表面にU
V−オゾン洗浄を施して有機物等の付着物を除去した
後、その表面に平版オフセット印刷法によって発光層の
パターンを形成した。
(Comparative Example 11) U was formed on the surface of the glass substrate.
After V-ozone cleaning was performed to remove deposits such as organic substances, a pattern of a light emitting layer was formed on the surface by lithographic offset printing.

【0116】発光層の印刷形成に際して、印刷版には、
水なし平版〔東レ(株)製の商品名「TAP版」〕を使
用した。この水なし平版は、線幅が100μmのストラ
イプパターンを有するものである。印刷用ブランケット
には、その表面印刷層がNBRゴムを用いて形成されて
なる、表面の十点平均粗さ(Rz)が0.1μmである
ものを使用した。この印刷用ブランケットの表面印刷層
は、発光層形成用インキの溶剤(キシレン)に23℃で
24時間浸漬したときの体積変化率が250%であっ
た。さらに、この表面印刷層は、厚さが0.3mm、硬
さ(JIS A硬度)が50°、溶解度定数(SP値)
が9.5(cal/mol・cm3 1/2 、表面張力γ
sが40dyn/cmであった。
When the light emitting layer is formed by printing, the printing plate is
A waterless planographic plate [trade name “TAP version” manufactured by Toray Industries, Inc.] was used. This waterless planographic printing plate has a stripe pattern with a line width of 100 μm. The printing blanket used had a surface printing layer formed of NBR rubber and a surface ten-point average roughness (Rz) of 0.1 μm. The surface printing layer of this printing blanket had a volume change rate of 250% when immersed in a solvent (xylene) for the light emitting layer forming ink at 23 ° C. for 24 hours. Furthermore, this surface-printed layer has a thickness of 0.3 mm, a hardness (JIS A hardness) of 50 °, and a solubility constant (SP value).
Is 9.5 (cal / mol · cm 3 ) 1/2 , surface tension γ
s was 40 dyn / cm.

【0117】発光層の印刷形成は、まず、平台印刷機
に、前述の水なし平版、印刷用ブランケットおよびIT
O膜付きガラス基板をそれぞれ装着し、当該平版に上記
発光層形成用インキをドクタリングによって充填した
後、平版から印刷用ブランケットへのインキの転写速度
を50mm/sに、印刷用ブランケットから上記ガラス
基板へのインキの転写速度を150mm/sに、ガラス
基板へのインキの転写時における印刷用ブランケットの
印圧を40kg/cm2 に、それぞれ設定することによ
って行なった。
The light emitting layer is formed by printing by first using a flatbed printing machine, the waterless planographic printing plate, the printing blanket and the IT.
Each glass substrate with an O film was attached, and the lithographic plate was filled with the above-mentioned light-emitting layer forming ink by doctoring. Then, the transfer speed of the ink from the lithographic plate to the printing blanket was set to 50 mm / s, and the glass from the printing blanket to the glass plate. The transfer speed of the ink to the substrate was set to 150 mm / s, and the printing pressure of the printing blanket during the transfer of the ink to the glass substrate was set to 40 kg / cm 2 .

【0118】ガラス基板上に印刷された発光層形成用イ
ンキからなるパターンの厚み(乾燥前)は1μmであっ
て、80℃で30分間乾燥した後の有機高分子発光層の
厚みは0.01μmであった。この比較例11の方法で
は、印刷の初期においては良好な発光層を形成すること
ができたものの、印刷を繰り返すに従って印刷用ブラン
ケットのNBRゴム(表面印刷層)が膨潤してしまい、
印刷形状に乱れが生じるため、パネル100枚しか印刷
を行なうことができなかった。
The thickness of the pattern composed of the ink for forming a light emitting layer printed on the glass substrate (before drying) was 1 μm, and the thickness of the organic polymer light emitting layer after drying at 80 ° C. for 30 minutes was 0.01 μm. Met. According to the method of Comparative Example 11, although a good light emitting layer could be formed in the early stage of printing, the NBR rubber (surface printing layer) of the printing blanket swelled as the printing was repeated,
Since the print shape is disturbed, only 100 panels could be printed.

【0119】(比較例12)上記ガラス基板の表面にU
V−オゾン洗浄を施して有機物等の付着物を除去した
後、その表面にインキジェット法によって発光層のパタ
ーンを形成した。その結果、ガラス基板の表面でインキ
に広がりが生じてしまい、最終的には線幅が100〜1
50μmの範囲でばらつくなどの問題が生じた。すなわ
ち、微細な発光層のパターンを高い精度でもって形成す
ることができなかった。
(Comparative Example 12) U was formed on the surface of the glass substrate.
After performing V-ozone cleaning to remove deposits such as organic substances, a pattern of a light emitting layer was formed on the surface by an ink jet method. As a result, the ink spreads on the surface of the glass substrate, and finally the line width is 100 to 1
Problems such as variations in the range of 50 μm occurred. That is, it was not possible to form a fine light emitting layer pattern with high accuracy.

【0120】(比較例13)印刷用ブランケットとし
て、その表面層が、アクリロニトリルブタジエンゴムを
用いて形成されてなり、表面の十点平均粗さ(Rz)が
0.4μmであり、かつ硬さがJIS A硬度で85°
であるものを用いたほかは、実施例5と同様にして発光
層のパターン形成を試みた。その結果、印刷用ブランケ
ットのインキ離型性が低いために、発光層のパターンの
エッジからシャープさが失われているなど、印刷形状の
良好なパターン形成を行なうことができないという問題
があった。
(Comparative Example 13) As a printing blanket, the surface layer was formed by using acrylonitrile-butadiene rubber, and the ten-point average roughness (Rz) of the surface was 0.4 µm and the hardness was 85 ° in JIS A hardness
The pattern formation of the light emitting layer was attempted in the same manner as in Example 5 except that the above was used. As a result, there is a problem in that it is not possible to form a pattern having a good print shape, such as the sharpness is lost from the edge of the pattern of the light emitting layer due to the low ink releasability of the printing blanket.

【0121】また、インキの溶剤による表面印刷層の膨
潤が著しく、繰り返して印刷を行なうことができなかっ
た。
Further, the swelling of the surface printing layer due to the solvent of the ink was remarkable, and repeated printing could not be performed.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】有機EL素子およびその製造方法の一例を示す
説明図である。
FIG. 1 is an explanatory view showing an example of an organic EL element and a method for manufacturing the same.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

10 有機ELパネル 11 透明基板 12 透明導電膜(ITO膜) 13 正孔輸送層 14 発光層 10 Organic EL panel 11 Transparent substrate 12 Transparent conductive film (ITO film) 13 Hole transport layer 14 Light-emitting layer

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05B 33/14 H05B 33/14 A (72)発明者 大久保 博正 兵庫県神戸市中央区脇浜町3丁目6番9号 住友ゴム工業株式会社内 (72)発明者 杉谷 信 兵庫県神戸市中央区脇浜町3丁目6番9号 住友ゴム工業株式会社内 Fターム(参考) 2H113 AA04 BA03 BB09 BC05 CA17 DA46 DA55 DA64 DA66 EA06 EA07 EA25 FA02 2H114 AA02 CA04 CA05 DA46 DA58 DA62 FA02 FA06 3K007 AB18 DB03 FA01 ─────────────────────────────────────────────────── ─── Continuation of front page (51) Int.Cl. 7 Identification code FI theme code (reference) H05B 33/14 H05B 33/14 A (72) Inventor Hiromasa Okubo 3-6 Wakihama-cho, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo No. 9 Sumitomo Rubber Industries, Ltd. (72) Inventor Shin Sugitani 3-6-9 Wakihama-cho, Chuo-ku, Kobe-shi, Hyogo Sumitomo Rubber Industries Ltd. F-term (reference) 2H113 AA04 BA03 BB09 BC05 CA17 DA46 DA55 DA64 DA66 EA06 EA07 EA25 FA02 2H114 AA02 CA04 CA05 DA46 DA58 DA62 FA02 FA06 3K007 AB18 DB03 FA01

Claims (15)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】有機EL素子形成材料を溶剤中に溶解また
は安定に分散させてなる印刷インキを凹版の凹部に充填
した後、 当該印刷インキを凹版の凹部から印刷用ブランケットに
転移させ、さらに、 上記印刷用ブランケットの表面に転移した印刷インキを
基板上に転写することを特徴とする有機ELパネルの製
造方法。
1. A printing ink obtained by dissolving or stably dispersing an organic EL device forming material in a solvent is filled in the concave portion of the intaglio plate, and the printing ink is transferred from the concave portion of the intaglio plate to a printing blanket, and further, A method for manufacturing an organic EL panel, which comprises transferring the printing ink transferred to the surface of the printing blanket onto a substrate.
【請求項2】上記印刷用ブランケットが、十点平均粗さ
Rzが0.01〜3μmであり、かつ上記印刷インキの
溶剤に23℃で24時間浸漬したときの体積変化率が4
0%以下である表面印刷層を備えるものである請求項1
記載の有機ELパネルの製造方法。
2. The printing blanket has a ten-point average roughness Rz of 0.01 to 3 μm, and a volume change rate of 4 when immersed in a solvent of the printing ink at 23 ° C. for 24 hours.
A surface-printed layer having a content of 0% or less is provided.
A method for manufacturing the organic EL panel described.
【請求項3】上記印刷用ブランケットが、厚さが0.0
3〜5.0mm、硬さ(JIS A)が20〜80°で
あり、かつ上記印刷インキの溶剤に23℃で24時間浸
漬したときの体積変化率が40%以下である表面印刷層
を備えるものである請求項1記載の有機ELパネルの製
造方法。
3. The printing blanket has a thickness of 0.0
A surface printing layer having a hardness of 3 to 5.0 mm, a hardness (JIS A) of 20 to 80 °, and a volume change rate of 40% or less when immersed in a solvent of the printing ink at 23 ° C. for 24 hours. The method for manufacturing an organic EL panel according to claim 1, wherein
【請求項4】上記印刷用ブランケットが、溶解度定数が
5〜8(cal/mol/cm3 1/2 の弾性体を用い
てなる、表面張力γs が5〜35dyn/cmの表面印
刷層を備えるものである請求項1記載の有機ELパネル
の製造方法。
4. The printing blanket has a solubility constant of
5-8 (cal / mol / cm3) 1/2Of elastic body
Surface tension γsIs a surface mark of 5 to 35 dyn / cm
The organic EL panel according to claim 1, further comprising a printing layer.
Manufacturing method.
【請求項5】上記印刷用ブランケットが、フッ素化ポリ
エーテル骨格とシリコーン架橋末端基とを有するエラス
トマーを用いてなる、十点平均粗さRzが0.01〜3
μmの表面印刷層を備えるものである請求項1記載の有
機ELパネルの製造方法。
5. A ten-point average roughness Rz of 0.01 to 3 in which the printing blanket is made of an elastomer having a fluorinated polyether skeleton and a silicone cross-linking end group.
The method for manufacturing an organic EL panel according to claim 1, which comprises a surface printing layer having a thickness of μm.
【請求項6】上記有機EL素子形成材料が有機高分子発
光体である請求項1〜5のいずれかに記載の有機ELパ
ネルの製造方法。
6. The method for manufacturing an organic EL panel according to claim 1, wherein the organic EL element forming material is an organic polymer light emitting material.
【請求項7】印刷用ブランケットの表面に転移した印刷
インキを基板上に転写する際の印圧が、1〜30kgf
/cmである請求項1〜6のいずれかに記載の有機EL
パネルの製造方法。
7. The printing pressure when transferring the printing ink transferred to the surface of a printing blanket onto a substrate is 1 to 30 kgf.
/ Cm is the organic EL according to any one of claims 1 to 6.
Panel manufacturing method.
【請求項8】十点平均粗さRzが0.01〜3μmであ
り、かつ印刷インキの溶剤に23℃で24時間浸漬した
ときの体積変化率が40%以下である表面印刷層を備え
る印刷用ブランケット。
8. A printing method comprising a surface printing layer having a ten-point average roughness Rz of 0.01 to 3 μm and a volume change rate of 40% or less when immersed in a solvent of printing ink at 23 ° C. for 24 hours. Blanket.
【請求項9】厚さが0.03〜5.0mm、硬さ(JI
S A)が20〜80°であり、かつ印刷インキの溶剤
に23℃で24時間浸漬したときの体積変化率が40%
以下である表面印刷層を備える印刷用ブランケット。
9. Thickness of 0.03 to 5.0 mm, hardness (JI
S A) is 20 to 80 °, and the volume change rate is 40% when immersed in a solvent of printing ink at 23 ° C. for 24 hours.
A printing blanket comprising a surface printing layer that is:
【請求項10】溶解度定数が5〜8(cal/mol/
cm3 1/2 の弾性体を用いてなる、表面張力γs が5
〜35dyn/cmの表面印刷層を備える印刷用ブラン
ケット。
10. A solubility constant of 5 to 8 (cal / mol /
The surface tension γ s of the elastic body of cm 3 ) 1/2 is 5
A printing blanket with a surface printing layer of ~ 35 dyn / cm.
【請求項11】上記表面印刷層が、シリコーン系エラス
トマー、フッ素系エラストマー、ブチルゴム、エチレン
−プロピレンゴムまたはこれらの混合物を用いてなるも
のである請求項8〜10のいずれかに記載の印刷用ブラ
ンケット。
11. The printing blanket according to claim 8, wherein the surface printing layer is made of a silicone elastomer, a fluorine elastomer, butyl rubber, ethylene-propylene rubber or a mixture thereof. .
【請求項12】フッ素化ポリエーテル骨格とシリコーン
架橋末端基とを有するエラストマーを用いて形成され
た、表面粗さが十点平均粗さRzで0.01〜3μmで
ある表面印刷層を備える印刷用ブランケット。
12. A printing comprising a surface printing layer formed by using an elastomer having a fluorinated polyether skeleton and a silicone cross-linking end group, and having a surface roughness of 0.01 to 3 μm in ten-point average roughness Rz. Blanket.
【請求項13】上記表面印刷層の硬さがJIS A硬度
で20〜80°である請求項12記載の印刷用ブランケ
ット。
13. The printing blanket according to claim 12, wherein the surface printing layer has a JIS A hardness of 20 to 80 °.
【請求項14】上記エラストマー、ゴムまたはそれらの
混合物が未硬化状態でペースト状または液状である請求
項8〜13のいずれかに記載の印刷用ブランケット。
14. The printing blanket according to claim 8, wherein the elastomer, the rubber or the mixture thereof is in a paste state or a liquid state in an uncured state.
【請求項15】上記エラストマー、ゴムまたはそれらの
混合物の未硬化状態での粘度が、室温で10000Pa
・s以下である請求項14記載の印刷用ブランケット。
15. The uncured viscosity of the elastomer, rubber or mixture thereof is 10,000 Pa at room temperature.
The printing blanket according to claim 14, which is s or less.
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