JP2005305674A - Gravure printing plate and printing equipment employing the same and manufacturing method of organic el element by employing gravure printing plate - Google Patents

Gravure printing plate and printing equipment employing the same and manufacturing method of organic el element by employing gravure printing plate Download PDF

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Takahisa Shimizu
貴央 清水
Koji Takeshita
耕二 竹下
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Toppan Inc
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Toppan Printing Co Ltd
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a gravure printing plate, with which a highly minute pattern can be printed without bruising a board such as a glass board even under the condition that a structure with a metal plate suitable for printing the highly minute pattern is employed. <P>SOLUTION: This gravure printing plate is made of a pattern image area 2 consisting of ink receiving parts grooved so as to square with an aimed pattern formed on the outer peripheral part of a metal plate main body 1 and resin buffer layers 3 abutting against the board at the pressing of the plate main body to the board formed on the portion except the pattern image area of the outer peripheral part of the plate main body. <P>COPYRIGHT: (C)2006,JPO&NCIPI

Description

本発明は、ガラス基板やPET(ポリエチレンテレフタレート)基板などの傷が付きやすい基板に目的のパターンに合致したインキパターンを印刷する際に適用して好適な技術に関する。   The present invention relates to a technique suitably applied to printing an ink pattern that matches a target pattern on a substrate that is easily damaged, such as a glass substrate or a PET (polyethylene terephthalate) substrate.

コンピュータの情報表示用あるいはテレビジョン画面表示用などとして、軽量で高効率のフラットパネルディスプレイの研究開発が進められている。従来から主流とされてきたディスプレイとして広く用いられているのは、輝度と色再現性に優れたブラウン管(CRT)であるが、このブラウン管は重量が大きく奥行き寸法も大きいので、今日では薄型のフラットパネルディスプレイとして、液晶パネルディスプレイあるいはプラズマパネルディスプレイが商品化され、一部の商品では置き換えが進みつつある状況になっている。
しかし、液晶パネルディスプレイは視野角が狭く、高速画素信号に対して応答性が充分ではないという問題があり、プラズマパネルディスプレイは消費電力が大きく、現在以上の大型化には技術的解決課題が多いという問題がある。
Research and development of lightweight, high-efficiency flat panel displays for computer information display or television screen display is underway. A cathode ray tube (CRT) that has been widely used as a display that has been mainly used in the past is a cathode ray tube (CRT) that has excellent luminance and color reproducibility. As panel displays, liquid crystal panel displays or plasma panel displays have been commercialized, and some products are being replaced.
However, the liquid crystal panel display has a problem that the viewing angle is narrow and the responsiveness to high-speed pixel signals is not sufficient, and the plasma panel display consumes a large amount of power. There is a problem.

これらに対して最近注目されているものが、有機発光材料を用いた有機電界発光素子(有機EL素子)であり、有機化合物を発光材料として用いることで自発光であっても応答速度が高速であり、更に視野角依存性が無い低消費電力のフラットパネルディスプレイを実現できるものとして期待されている。
図5はこの種の有機電界発光素子の一構造例を示すもので、この例のEL素子100は透明のガラス基板101の上にITO(インジウムスズ酸化物)からなる透明の画素電極(陽極)102と、ホール輸送層103と発光層104と電子輸送層105と金属の陰極106を例えば真空蒸着法などで順次成膜してなる構成とされてなる。
Recently, an organic electroluminescent element (organic EL element) using an organic light emitting material has been attracting attention. By using an organic compound as a light emitting material, the response speed is high even if it is self-luminous. In addition, it is expected to be able to realize a low power consumption flat panel display having no viewing angle dependency.
FIG. 5 shows an example of the structure of this type of organic electroluminescent device. The EL device 100 of this example is a transparent pixel electrode (anode) made of ITO (indium tin oxide) on a transparent glass substrate 101. 102, a hole transport layer 103, a light emitting layer 104, an electron transport layer 105, and a metal cathode 106 are sequentially formed by, for example, a vacuum deposition method.

この構成のEL素子100においては、陽極の画素電極102と陰極106との間に直流電源107から直流電圧を印加すると、画素電極102から注入されたキャリアとしてのホール(正孔)がホール輸送層103を経て各々移動し、発光層104において、それら電子−正孔対の再結合が生じ、そこから所定波長の発光108が生じ、これを透明のガラス基板101の外側から観察することができる。
また、上述のEL素子100の具体的層構造の他の例として図6に示すように、ホール輸送層103の材料にポリ(3,4)−エチレンジオキシチオフェン(以下、PEDOTと略す。)を用い、電子輸送層と発光層を兼用した層としてポリ(2−メトキシ−5−(2’−エチルヘキシロキシ)−1,4−フェニレンビニレン)(以下、MEH−PPVと略す。)び電子輸送性発光層110を用い、この上には電子の注入性を高めるカルシウム(Ca)層111及びアルミニウムの電極層からなる陰極106を設けた構造も知られている。
In the EL element 100 having this configuration, when a DC voltage is applied between the anode pixel electrode 102 and the cathode 106 from the DC power source 107, holes as holes injected from the pixel electrode 102 become holes (holes). The electron-hole pairs recombine in the light-emitting layer 104, and light emission 108 having a predetermined wavelength is generated therefrom. This can be observed from the outside of the transparent glass substrate 101.
As another example of the specific layer structure of the EL element 100 described above, as shown in FIG. 6, the material of the hole transport layer 103 is poly (3,4) -ethylenedioxythiophene (hereinafter abbreviated as PEDOT). And poly (2-methoxy-5- (2′-ethylhexyloxy) -1,4-phenylenevinylene) (hereinafter abbreviated as MEH-PPV) and electrons as a layer that serves both as an electron transport layer and a light-emitting layer. A structure is also known in which a transporting light emitting layer 110 is used, and a cathode 106 made of an aluminum electrode layer and a calcium (Ca) layer 111 that enhances electron injection properties is provided thereon.

次に図7に、図5または図6に示す基本構造のEL素子を平面ディスプレイ装置に適用した一構成例を示す。
図示の如く、電子輸送層115とホール輸送層116とからなる有機積層構造が陰極117と陽極118の間に所定パターンに配置されている。陰極117及び陽極118は、互いに交差するストライプ状に設けられ、夫々、輝度信号回路120及びシフトレジスタ内蔵の制御回路121により選択されて信号電圧が印加される。これにより、選択された陰極117及び陽極118が交差する位置(画素)に存在するEL素子部分が個々に発光するように構成されている。
Next, FIG. 7 shows a structural example in which the EL element having the basic structure shown in FIG. 5 or 6 is applied to a flat display device.
As shown in the drawing, an organic laminated structure composed of an electron transport layer 115 and a hole transport layer 116 is disposed between the cathode 117 and the anode 118 in a predetermined pattern. The cathode 117 and the anode 118 are provided in stripes crossing each other, and are selected by the luminance signal circuit 120 and the control circuit 121 with a built-in shift register, respectively, and applied with a signal voltage. Thus, the EL element portions existing at the positions (pixels) where the selected cathode 117 and anode 118 intersect each other are configured to emit light individually.

このような背景から高分子EL材料を用いたデバイスの作成方法が注目されており、その中の1つにインクジェットプリンティング技術による高分子デバイス作成方法が知られている。(特許文献1、特許文献2参照)
先の特許文献1に記載された技術では、粘度の低い材料しか使えないこと、液滴吐出型であるからブラックレジストで囲いを設けないとパターン形成できないなどの問題がある。また、先の特許文献2に記載された技術では、インク材料は水溶性でないと使用できないこと、溶剤に可溶であることが望ましいとされていることから、限られた溶剤しか使用できないこと、液滴噴射方法なので大面積のものを製造するのに不利になるなどの問題がある。
このような背景から印刷技術を用いてEL材料を基板上に印刷形成してEL素子を製造する方法が注目されている。(特許文献3参照)
特開平10−153967号公報 特開平10−153967号公報 特開2003−17248号公報
From such a background, a method for producing a device using a polymer EL material has attracted attention, and one of them is a method for producing a polymer device by an ink jet printing technique. (See Patent Document 1 and Patent Document 2)
The technique described in Patent Document 1 has a problem that only a material having a low viscosity can be used, and since it is a droplet discharge type, a pattern cannot be formed unless an enclosure is provided with a black resist. Further, according to the technique described in Patent Document 2, since the ink material can only be used if it is water-soluble, and it is desirable that the ink material be soluble in the solvent, only a limited solvent can be used. Since it is a droplet jetting method, there is a problem that it is disadvantageous for manufacturing a large area.
From such a background, a method for producing an EL element by printing an EL material on a substrate using a printing technique has attracted attention. (See Patent Document 3)
JP-A-10-153967 JP-A-10-153967 JP 2003-17248 A

先の特許文献3に記載された技術は、第1の電極と第2の電極との間に発光領域を有する層が設けられたEL素子において、前記複数の層のうち、少なくとも1つを凸版反転オフセット法による転写により所定パターンに形成する方法に関する。
この方法によれば、インキを外周部に必要なパターンで形成したロールを用いる転写印刷技術により高速に大面積の層を高精度で形成可能であるという利点を有する。
そこで、この種の印刷手法において、グラビア印刷版を用いてガラス基板上にEL素子形成に必要な層を必要なパターンで形成しようとすると、EL素子用の基板がガラス基板であり、硬く、脆いものであるため、転写ロールをガラス基板に押し付ける際にガラス基板の表面を転写ロールが擦り付けることになり、ガラス基板表面に傷を付けるおそれがある。特にEL素子などのように高精細なパターンを形成するものにおいては、グラビア印刷版に用いるのは、パターン形成精度が高く、パターン形状の歪が小さい金属版であり、この金属版であればガラス基板の表面を傷つけるおそれが高いものである。また、この点に鑑みて樹脂製の印刷版を適用しようとすると、EL素子の構成材料用として多用されるトルエン、キシレンなどに対して樹脂製の印刷版では溶剤耐性が低く、溶剤の樹脂版への含浸によりパターンに歪みが発生し、高精細な印刷には向かないと言う問題があった。
In the technology described in the above-mentioned Patent Document 3, in an EL element in which a layer having a light emitting region is provided between a first electrode and a second electrode, at least one of the plurality of layers is relief printing. The present invention relates to a method of forming a predetermined pattern by transfer using a reverse offset method.
This method has an advantage that a large-area layer can be formed with high accuracy at high speed by a transfer printing technique using a roll in which ink is formed in a necessary pattern on the outer peripheral portion.
Therefore, in this type of printing method, when a layer necessary for EL element formation is formed on a glass substrate with a necessary pattern using a gravure printing plate, the substrate for the EL element is a glass substrate, which is hard and brittle. Therefore, when the transfer roll is pressed against the glass substrate, the transfer roll rubs against the surface of the glass substrate, which may damage the surface of the glass substrate. Particularly in the case of forming a high-definition pattern such as an EL element, the gravure printing plate is a metal plate having high pattern formation accuracy and small distortion of the pattern shape. There is a high risk of damaging the surface of the substrate. In addition, in view of this point, when trying to apply a resin printing plate, the resin printing plate has a low solvent resistance with respect to toluene, xylene, etc., which are frequently used as constituent materials for EL elements, and the solvent resin plate There was a problem that the pattern was distorted by the impregnation of the ink and was not suitable for high-definition printing.

本発明者らは前記課題を解決するために、高精細パターン印刷のために好適な金属版を用いた構造においてもガラス基板あるいはPET基板などの基板に傷を付けることなく高精細なパターンを確実に印刷することができるグラビア印刷版と装置並びに先のグラビア印刷版を用いたEL素子の製造方法の提供を目的とする。   In order to solve the above problems, the present inventors have ensured a high-definition pattern without damaging a substrate such as a glass substrate or a PET substrate even in a structure using a metal plate suitable for high-definition pattern printing. An object of the present invention is to provide a gravure printing plate and apparatus capable of printing on the surface and an EL element manufacturing method using the previous gravure printing plate.

上記目的を達成するために、本発明は以下の構成を採用した。
本発明にあっては、ガラス基板などの基板の上にインキからなるパターンを高精細印刷して形成するための印刷用金属版であって、金属からなる版本体の表面部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部が形成され、該版本体の表面部のパターン画線部を除く部分に前記基板に対する前記版本体の押し付けによるインキ転写時に前記基板に当接する樹脂製の緩衝層が形成されてなることを特徴とする。
本発明において前記緩衝層がインキを反発する樹脂からなることが好ましい。
本発明において前記インキを反発する樹脂がシリコーン系の樹脂、フッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂のいずれかからなることが好ましい。
本発明において、前記パターン画線部にインキを反発しない層を露出させておくことが好ましい。
本発明において、前記インキを反発しない層がブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴム層であることが好ましい。
本発明において、前記インキが有機EL素子を作成するための、高分子有機発光材料をインキ化したものであることが好ましい。
本発明のグラビア印刷装置は、先のいずれかに記載のグラビア印刷版を備えたことを特徴とする。
In order to achieve the above object, the present invention employs the following configuration.
In the present invention, a printing metal plate for forming a pattern made of ink on a substrate such as a glass substrate by high-definition printing, the target pattern on the surface of the plate body made of metal A pattern image line portion composed of a concave ink receiving portion is formed so as to match, and a portion of the surface of the plate body excluding the pattern image line portion is applied to the substrate during ink transfer by pressing the plate body against the substrate. It is characterized in that a resin-made buffer layer is formed.
In the present invention, the buffer layer is preferably made of a resin that repels ink.
In the present invention, the resin that repels the ink is preferably composed of any one of a silicone-based resin, a fluororesin, a butyl rubber, a urethane rubber, an acrylonitrile rubber, a polyvinyl chloride, and a polycarbonate resin.
In the present invention, it is preferable to expose a layer that does not repel ink in the pattern image area.
In the present invention, the layer that does not repel the ink is preferably a butyl rubber or ethylene propylene rubber layer.
In the present invention, it is preferable that the ink is an ink formed from a polymer organic light emitting material for producing an organic EL element.
A gravure printing apparatus according to the present invention includes any one of the above gravure printing plates.

本発明に係るEL素子の製造方法は、ガラス基板などの基板の上に有機EL素子を作成するための、高分子有機発光材料をインキ化したものからなるインキのパターンを高精細印刷して有機EL素子を形成するための方法であって、金属からなる版本体の表面部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部が形成され、該版本体の表面部のパターン画線部を除く部分に前記基板に対する前記版本体の押し付けによるインキ転写時に前記基板に当接する樹脂製の緩衝層が形成されてなるグラビア印刷版を用い、前記パターン画線部に高分子有機発光材料をインキ化したものを収容し、このグラビア印刷版を基板上に押し付けて基板上に前記パターン画線部に対応するインキパターンを印刷することを特徴とする。
本発明に係るEL素子の製造方法は、前記緩衝層にインキに反発する樹脂を用いることを特徴とする。
本発明に係るEL素子の製造方法は、前記パターン画線部にインキに反発しない層を露出させ、該パターン画線部に収容したインキを前記基板上に転写してインキパターンを印刷することを特徴とする。
The method for producing an EL device according to the present invention is a method for producing an organic EL device on a substrate such as a glass substrate by high-definition printing an ink pattern made of a polymer organic light emitting material into an organic material. A method for forming an EL element, wherein a pattern image line portion comprising a concave ink receiving portion is formed on a surface portion of a plate body made of metal so as to match a target pattern, and the surface of the plate body A gravure printing plate in which a resin buffer layer that contacts the substrate at the time of ink transfer by pressing the plate main body against the substrate is formed in a portion other than the pattern image drawing portion of the portion, and the pattern image drawing portion is high. It contains a molecular organic light emitting material in ink form, and this gravure printing plate is pressed onto a substrate to print an ink pattern corresponding to the pattern image portion on the substrate. That.
The EL device manufacturing method according to the present invention is characterized in that a resin repelling ink is used for the buffer layer.
The method for producing an EL device according to the present invention comprises exposing a layer that does not repel ink in the pattern image portion, and printing the ink pattern by transferring the ink contained in the pattern image portion onto the substrate. Features.

本発明に係る印刷版では、ガラス基板などの基板上に、版本体のパターン画線部のインキを転写することで目的のパターンの高精細印刷ができる。また、パターン画線部のインキを転写する際、金属版のパターン画線部を除く部分に設けた樹脂製の緩衝層がガラス基板などの基板表面に当接して押し付けられても、ガラス基板あるいはPET基板などの基板の表面部分に傷を付けるおそれは少ない。
更に、パターン画線部そのものは、金属版の部分に形成されているので、溶剤などの浸漬を受けても形が変形したり、歪むことが無く、高精細なパターンの印刷を確実に得ることができる。従って印刷対象物がEL素子のガラス基板上に形成される有機EL材料の層であり、その材料層のための各種の溶剤が版本体に触れたとしても、パターン画線部自体が溶剤で歪を付与されたり歪むことがないので、高精細なパターン印刷を行うことができる。
勿論、インクジェット法などの液滴噴射法による印刷方法に比べると、本発明は高速で大面積の印刷に対応することができ、粘度の低い材料などの制約が無く、水溶性インキである制約もないので、溶剤の汎用性が高く、インキの汎用性も高い技術を提供することができる。
In the printing plate according to the present invention, high-definition printing of a target pattern can be performed by transferring the ink in the pattern image portion of the plate body onto a substrate such as a glass substrate. Further, when transferring the ink of the pattern image portion, even if the resin buffer layer provided on the portion excluding the pattern image portion of the metal plate is pressed against the substrate surface such as a glass substrate, the glass substrate or There is little risk of scratching the surface portion of a substrate such as a PET substrate.
Furthermore, since the pattern image area itself is formed on the metal plate part, the shape will not be deformed or distorted even when subjected to immersion in a solvent, etc., and high-definition pattern printing can be reliably obtained. Can do. Therefore, even if the printing object is a layer of organic EL material formed on the glass substrate of the EL element, and various solvents for the material layer touch the plate body, the pattern image area itself is distorted by the solvent. Therefore, high-definition pattern printing can be performed.
Of course, compared with a printing method using a droplet jetting method such as an ink jet method, the present invention can cope with printing at a high speed and a large area, and there is no restriction such as a material having a low viscosity, and there is a restriction that it is a water-soluble ink. Therefore, it is possible to provide a technology with high versatility of the solvent and high versatility of the ink.

パターン画線部の外側に設けた緩衝層がインキを反発する樹脂からなると、パターン画線部のインキ受容部から外部にインキが漏れ出そうとしても緩衝層がインキを弾くので緩衝層に不用なインキが付着し難くなる。これにより、緩衝層に不用なインキ汚れが付着し難く、印刷面が汚れ難くなり、地汚れなどを生じることもない。
パターン画線部のインキ受容部にはインキを反発しない、インキとなじみの良好な層を露出させることでパターン画線部に対するインキの乗りが良好になり、印刷パターンが鮮明で良好なきれを有する綺麗なパターン印刷面を得ることができる。
用いるインキとしてEL素子を作成するための高分子有機EL発光材料であれば、特に本発明のグラビア印刷版が有効であり、先に記載の種々の特徴を有する良好な印刷面を基板上に形成することができる。
If the buffer layer provided outside the pattern image area is made of a resin that repels ink, even if the ink leaks out from the ink receiving area of the pattern image area, the buffer layer repels the ink, so it is unnecessary for the buffer layer. Ink becomes difficult to adhere. As a result, it is difficult for unnecessary ink stains to adhere to the buffer layer, the print surface is difficult to stain, and background stains and the like do not occur.
The ink receiving part of the pattern line part does not repel the ink and exposes a layer that is well-adhered to the ink, so that the ink on the pattern line part is good and the print pattern is clear and has a good cut A beautiful pattern printing surface can be obtained.
The polymer gravure printing plate of the present invention is particularly effective as long as it is a polymer organic EL light-emitting material for creating an EL element as an ink to be used, and a good printing surface having the various features described above is formed on a substrate. can do.

以下、本発明の実施の形態を実施例により図面を用いて説明する。
図1〜図3は本発明に係るグラビア印刷版を製造する工程を説明するためのもので、図3に示す構造が本発明に係るグラビア印刷版Aである。
この形態のグラビア印刷版Aは、ステンレス鋼などの耐食性に富む金属材料からなるドラム状の版本体1と、この版本体1の外周部に形成された凹部状の複数のパターン画線部2と、版本体1の外周部(表面部)においてこれらのパターン画線部2を除く部分に貼着された樹脂製の緩衝層3とを具備して構成されている。
前記版本体1はその表面がEL素子などに適用する有機EL材料用の溶剤であるトルエンやキシレンなどの溶剤に対して耐食性に富むことが必要であるので、耐食性に富むステンレス鋼、銅、クロム鋼などの金属材料からなることが好ましいが、全体をステンレス鋼などの単一材料で形成しなくとも、溶剤に触れる外周部のみを耐食性に富む金属材料から形成し、内部側は他の金属材料から形成しても良い。
Embodiments of the present invention will be described below with reference to the accompanying drawings.
1 to 3 are for explaining a process for producing a gravure printing plate according to the present invention, and the structure shown in FIG. 3 is a gravure printing plate A according to the present invention.
The gravure printing plate A in this form includes a drum-shaped plate body 1 made of a metal material rich in corrosion resistance such as stainless steel, and a plurality of concave pattern image-drawing portions 2 formed on the outer periphery of the plate body 1. The outer peripheral portion (surface portion) of the plate body 1 is configured to include a resin-made buffer layer 3 attached to a portion excluding these pattern image portions 2.
Since the surface of the plate body 1 is required to have high corrosion resistance against solvents such as toluene and xylene, which are solvents for organic EL materials applied to EL elements, etc., stainless steel, copper, chromium having high corrosion resistance are required. It is preferable to be made of a metal material such as steel, but even if the whole is not made of a single material such as stainless steel, only the outer periphery that touches the solvent is made of a metal material rich in corrosion resistance, and the inner side is made of another metal material. You may form from.

前記パターン画線部2は、形成しようとする目的の電極パターン、配線パターンあるいはEL素子の素子配置パターンなどに合わせて適宜の形状をとることができる。例えば、図7に示すEL素子の構造のストライプ状の電極(陰極117と陽極118)の形状に合うようにストライプ状にEL材料層をガラス基板上に積層するには、版本体1の外周面の長さ方向あるいは周方向に沿って必要長さの平面視直線状の溝を多数本、等間隔で形成すれば良い。これらのパターン画線部2は凹部型のインキ受容部とされ、これらのパターン画線部2に対し、図示を略した版シリンダーなどのインキ供給装置からインキが供給されるようになっている。これらのパターン画線部2は先の図7に示す構造のEL素子用などであれば、数10μm〜数100μm程度の幅で高精細に所定のピッチで形成される。   The pattern image portion 2 can take an appropriate shape in accordance with an intended electrode pattern, wiring pattern, or EL element arrangement pattern to be formed. For example, in order to stack the EL material layer on the glass substrate in a stripe shape so as to match the shape of the stripe electrode (cathode 117 and anode 118) having the EL element structure shown in FIG. It is only necessary to form a plurality of linear grooves having a required length along the length direction or the circumferential direction at regular intervals. These pattern image line portions 2 are recessed ink receiving portions, and ink is supplied to these pattern image line portions 2 from an ink supply device such as a plate cylinder (not shown). If these pattern image portions 2 are for EL elements having the structure shown in FIG. 7 and the like, they are formed at a predetermined pitch with a high definition with a width of about several tens μm to several hundreds μm.

前記緩衝層3は、1〜20μm程度の厚さ、より好ましくは10〜20μm程度の厚さとされ、版本体1を構成する金属材料よりも軟質の樹脂から構成されている。緩衝層3の厚さが薄すぎるとガラス基板などの傷つきやすい基板に対して損傷を与えるおそれが高くなり、逆に厚すぎるとインキの転写に支障をきたす可能性がある。
この緩衝層3を構成する樹脂として、ニトリルゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、シリコーン樹脂、フッ素樹脂、ポリエチレン樹脂、ポリ塩化ビニル樹脂、プリスチレン樹脂、ウレタン樹脂、ポリカーボネート樹脂、エポキシ樹脂、ポリオレフィン樹脂、ポリイミド樹脂、シロキサン系エラストマー、フッ素系エラストマーなどを用いることができるが、これらの中でもシリコーン系の樹脂、フッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂のいずれかからなることが好ましい。これらの中でもフッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂が耐溶剤性に優れているので、適用する上で好ましい。
また、これらの中でもシリコーン系の樹脂、フッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂のいずれかは、インキを反発するので、仮にインキがインク受容部たるパターン画線部2から外部に漏れ出そうとした場合にインキに反発し、パターン画線部2の外部にインクが出ないように作用するので、緩衝層3側へのインキの不用な付着を抑制でき、印刷面が汚れ難く、地汚れを生じないのでより好ましい。
The buffer layer 3 has a thickness of about 1 to 20 μm, more preferably a thickness of about 10 to 20 μm, and is made of a softer resin than the metal material constituting the plate body 1. If the thickness of the buffer layer 3 is too thin, there is a high risk of damaging a substrate that is easily damaged such as a glass substrate. Conversely, if it is too thick, there is a possibility that the transfer of ink may be hindered.
As the resin constituting the buffer layer 3, nitrile rubber, isoprene rubber, styrene butadiene rubber, butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, acrylonitrile rubber, ethylene propylene rubber, silicone resin, fluorine resin, polyethylene resin, polyvinyl chloride resin, pre-polymer Styrene resin, urethane resin, polycarbonate resin, epoxy resin, polyolefin resin, polyimide resin, siloxane elastomer, fluorine elastomer, etc. can be used. Among these, silicone resin, fluorine resin, butyl rubber, urethane rubber, acrylonitrile It is preferably made of any one of rubber, polyvinyl chloride, and polycarbonate resin. Among these, fluororesin, butyl rubber, urethane rubber, acrylonitrile rubber, polyvinyl chloride, and polycarbonate resin are preferable for application because they are excellent in solvent resistance.
Of these, any of silicone-based resin, fluororesin, butyl rubber, urethane rubber, acrylonitrile rubber, polyvinyl chloride, and polycarbonate resin repels the ink. Repels ink when it tries to leak from the outside and acts so that ink does not come out of the pattern image area 2, so that unnecessary adhesion of ink to the buffer layer 3 side can be suppressed, and the printing surface Is more preferable because it is difficult to stain and does not cause soiling.

以上の如く構成されたグラビア印刷版Aを製造するには、ステンレス鋼からなる金属ドラム4を用意し、この金属ドラム4の外周面全部に図1に示すように均一な厚さの樹脂層5を例えば1〜20μmの厚さで形成する。樹脂層5を形成する方法は樹脂液に金属ドラム4を浸漬して引き上げるディップ法、ワイヤーコート法、ダイコート法など、目的物の表面に樹脂層を形成する方法として知られている常法を適宜選択すればよい。
図1に示すように外周面全面に樹脂層5を被覆した後、目的のパターンに合わせてこれらの樹脂層5の不用部分を除去して孔部5aを形成する。これには、樹脂層5の上からレーザで必要なパターンを直接描画して削っても良いし、フォトリソグラフィ技術を用いてレジストを被覆し、該レジストに部分的に露光してから現像処理液に浸漬し、レジストの残った部分以外を除去するエッチング処理を行って、図2に示すように樹脂層5の一部を削除して孔部5a…としても良い。これらの方法のうち、レーザにより描画する方法では工程を少なくすることができ、自由な大きさの孔部5aを容易に形成することができる。
In order to manufacture the gravure printing plate A configured as described above, a metal drum 4 made of stainless steel is prepared, and a resin layer 5 having a uniform thickness is formed on the entire outer peripheral surface of the metal drum 4 as shown in FIG. For example, with a thickness of 1 to 20 μm. As a method for forming the resin layer 5, a conventional method known as a method for forming a resin layer on the surface of a target object, such as a dipping method, a wire coating method, or a die coating method, in which the metal drum 4 is dipped in a resin liquid and pulled up is appropriately used. Just choose.
As shown in FIG. 1, after the resin layer 5 is coated on the entire outer peripheral surface, unnecessary portions of the resin layer 5 are removed in accordance with the target pattern to form the holes 5a. For this purpose, a necessary pattern may be directly drawn with a laser from the top of the resin layer 5 and shaved, or a resist is coated using a photolithography technique, and the resist is partially exposed before being developed. It is also possible to perform an etching process so as to remove the part other than the remaining part of the resist and to remove a part of the resin layer 5 as shown in FIG. Among these methods, the method of drawing with a laser can reduce the number of steps, and the hole 5a having a free size can be easily formed.

図2に示すように樹脂層5の孔部5aを形成したならば、樹脂層5をマスクとして金属ドラム4の外周面の必要部分をエッチングにより除去して凹部を形成し、凹部をインキ受容部としてこのインキ受容部からなる図3に示すパターン画線部2を形成して版本体1を具備するグラビア印刷版Aを得ることができる。
ここでの金属ドラム4のエッチングには金属の種類によっても異なるが、酸性のエッチング液を用いると簡便であり、コストも安くできる。なお、極めて微細なミクロンオーダーのパターン画線部2を形成する場合、ドライエッチング法を用いることもできるが、この場合は樹脂層5を損傷させないために、樹脂層5のパターニングはフォトリソグラフィ法を適用し、孔部5aを形成してから孔部5aに沿って金属ドラム4のドライエッチング処理を施すようにすればよい。
これらの工程により図3に示す構造のグラビア印刷版Aを得ることができる。
When the hole 5a of the resin layer 5 is formed as shown in FIG. 2, the resin layer 5 is used as a mask to remove a necessary portion of the outer peripheral surface of the metal drum 4 by etching to form a recess. The gravure printing plate A provided with the plate body 1 can be obtained by forming the pattern image portion 2 shown in FIG.
The etching of the metal drum 4 here is different depending on the type of metal, but using an acidic etching solution is simple and the cost can be reduced. In addition, when forming the very fine micron-order pattern image drawing portion 2, a dry etching method can be used. In this case, in order not to damage the resin layer 5, the resin layer 5 is patterned by a photolithography method. It is only necessary to apply and dry-treat the metal drum 4 along the hole 5a after forming the hole 5a.
Through these steps, the gravure printing plate A having the structure shown in FIG. 3 can be obtained.

前記構造のグラビア印刷版Aを用いて印刷を行うには、版本体1のインキ受容部たるパターン画線部2に必要なインキを供給する。
この形態では用いるインキとして例えば、ガラス基板あるいはPET(ポリエチレンテレフタレート)基板などの透明基板の上にEL素子を作り込む場合を例にして説明する。
EL素子製造用の有機材料として、有機発光材料(例えばMEH−PPV等の高分子発光材料、アントラセン、フタロシアニン等の低分子発光材料)又はその前駆体を水又は有機溶媒(例えばシクロヘキサノン、テトラヒドロフラン(THF)、キシレン、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトニトリル等)に溶解又は分散させて調製されたインキを版本体1のパターン画線部2に備えたグラビア印刷版Aを先の基板上に回転させながら押圧し、インキを基板上に目的のパターンに沿って転写し、発光層を形成することができる。
In order to perform printing using the gravure printing plate A having the above-described structure, the necessary ink is supplied to the pattern image portion 2 which is an ink receiving portion of the plate body 1.
In this embodiment, a case where an EL element is formed on a transparent substrate such as a glass substrate or a PET (polyethylene terephthalate) substrate will be described as an example.
As an organic material for producing an EL element, an organic light emitting material (for example, a polymer light emitting material such as MEH-PPV, a low molecular light emitting material such as anthracene or phthalocyanine) or a precursor thereof is water or an organic solvent (for example, cyclohexanone, tetrahydrofuran (THF). ), Xylene, dimethylformamide (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), acetonitrile, etc.) The gravure printing plate A provided with the ink on the pattern image area 2 of the plate body 1 is prepared on the previous substrate. The light emitting layer can be formed by pressing the ink while rotating it up and transferring the ink along the desired pattern onto the substrate.

他のインキの例として、MEH−PPV等の高分子発光材料又はその前駆体と、PEDOT等の有機材料又はその前駆体とを水又は有機溶媒(例えばシクロヘキサノン、テトラヒドロフラン(THF)、キシレン、ジメチルホルムアミド(DMF)、ジメチルスルホキシド(DMSO)、アセトニトリル等)にそれぞれ溶解又は分散させて調製されたインキの前記転写により、前記高分子発光材料と前記有機材料との複合層(積層構造)を先の基板上に形成することもできる。
また、ホール輸送層上に前記インキの所定パターンの転写により、電子輸送性発光層を形成したり、前記インキの所定パターンの転写により、単色又は複数色用の層を形成しても良い。
更に、例えば、ガラス等の基板上に少なくとも画素毎にパターニングした電極を形成し、その上に前記層を所定パターンに形成したり、ガラス等の基板上に少なくとも画素毎にパターニングされた電極を形成し、その上に、少なくとも赤、緑及び青の三種類の発光色の各インキを各色毎に転写して、各色の発光層を所定パターンに形成することもできる。
Examples of other inks include a polymer light emitting material such as MEH-PPV or a precursor thereof and an organic material such as PEDOT or a precursor thereof in water or an organic solvent (for example, cyclohexanone, tetrahydrofuran (THF), xylene, dimethylformamide). (DMF), dimethyl sulfoxide (DMSO), acetonitrile, etc.), each of which is prepared by dissolving or dispersing the prepared ink, and transferring the composite layer (laminated structure) of the polymer light emitting material and the organic material to the previous substrate. It can also be formed on top.
In addition, an electron transporting light emitting layer may be formed on the hole transport layer by transferring a predetermined pattern of the ink, or a single color layer or a multicolor layer may be formed by transferring the predetermined pattern of ink.
Further, for example, an electrode patterned at least for each pixel is formed on a substrate such as glass, and the layer is formed in a predetermined pattern thereon, or an electrode patterned at least for each pixel is formed on a substrate such as glass. On top of that, at least three kinds of light emission colors of red, green and blue can be transferred for each color to form the light emission layer of each color in a predetermined pattern.

図4は先に説明した構成のグラビア印刷版Aを用いてEL素子の一部を製造している状態を示す。
この例ではガラス基板20上にITOのストライプ状の複数の透明画素電極21を真空蒸着法とフォトリソ法によるパターニングを実施して形成し、それら透明画素電極21…上にホール輸送層形成用のPEDOTなどの水溶液をスピンコート法で塗布してから焼成し、ホール輸送層23を形成し、この上に図4に示す如くグラビア印刷版Aを用いて先に説明したMEH−PPV等の高分子発光材料等のインキ層Kをグラビア印刷し、インキ層Kを加熱して溶媒を除去すればストライプ状の発光層が完成する。
グラビア印刷版Aにおいては緩衝層3がホール輸送層23の上面に接しながら、あるいは図示していないが、基板20上面において透明画素電極21とホール輸送層23を形成していない領域においては基板20の上面に接しながらグラビア印刷版Aが回転してパターン画線部2に収容されているインキ層Kを転写してゆくので、緩衝層3の存在によりクッション作用を奏して基板20の上面には傷が付き難い。従って基板20の上面を損傷させることなく有機EL素子を製造できるようになる。
なお、グラビア印刷版Aを用いて作成した先のインキ層Kを加熱乾燥させてストライプ状の複数の発光層を形成したならば、これらの上に真空蒸着法とパターニングによりカルシウム層や電極層を形成することで、先に図6を基に説明した基本積層構造であって、先に図7を基に説明した画素構造の有機EL素子を製造することができる。
FIG. 4 shows a state in which a part of the EL element is manufactured using the gravure printing plate A having the above-described configuration.
In this example, a plurality of ITO strip-like transparent pixel electrodes 21 are formed on a glass substrate 20 by patterning by vacuum deposition and photolithography, and PEDOT for forming a hole transport layer is formed on the transparent pixel electrodes 21. A solution such as MEH-PPV described above using a gravure printing plate A as shown in FIG. If the ink layer K such as a material is subjected to gravure printing and the ink layer K is heated to remove the solvent, a striped light emitting layer is completed.
In the gravure printing plate A, the buffer layer 3 is in contact with the upper surface of the hole transport layer 23 or is not shown, but in the region where the transparent pixel electrode 21 and the hole transport layer 23 are not formed on the upper surface of the substrate 20. Since the gravure printing plate A rotates while being in contact with the upper surface of the ink and the ink layer K accommodated in the pattern image portion 2 is transferred, the cushioning action is provided by the presence of the buffer layer 3 and the upper surface of the substrate 20 is Hard to get scratched. Accordingly, the organic EL element can be manufactured without damaging the upper surface of the substrate 20.
In addition, if the previous ink layer K produced using the gravure printing plate A is heated and dried to form a plurality of stripe-shaped light emitting layers, a calcium layer or an electrode layer is formed thereon by vacuum deposition and patterning. By forming the organic EL element, it is possible to manufacture the organic EL element having the basic laminated structure described above based on FIG. 6 and the pixel structure described above based on FIG.

ところで、先に説明した版本体1のパターン画線部2の内面側にインキを反発しないインキに馴染みの良好な層を塗布形成しておいても良い。これらのインキを反発しない層とは、例えばブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴム層などである。
これらの層をパターン画線部2の内面に形成しておくことでパターン画線部2に対するインキの乗りが良好となり、印刷仕上がりを良好とすることができる。
By the way, a layer familiar to ink that does not repel ink may be applied and formed on the inner surface side of the pattern image portion 2 of the plate body 1 described above. The layer that does not repel these inks is, for example, a butyl rubber or ethylene propylene rubber layer.
By forming these layers on the inner surface of the pattern image portion 2, the ink can be satisfactorily applied to the pattern image portion 2 and the printing finish can be improved.

本発明に係るグラビア印刷装置は、先に説明したグラビア印刷版Aを備え、これにインキ供給装置、基板の搬送装置を含んで構成される。インキ供給装置や基板搬送装置は、一般的なグラビア装置に通常使用されている一般的なもので差し支えない。
この構成のグラビア印刷装置は先の構成のグラビア印刷版Aを備えているので、先のグラビア印刷版Aの使用により得られる種々の効果を奏する。
The gravure printing apparatus according to the present invention includes the above-described gravure printing plate A, and includes an ink supply device and a substrate transport device. The ink supply device and the substrate transport device may be those commonly used in general gravure devices.
Since the gravure printing apparatus having this configuration includes the gravure printing plate A having the previous configuration, various effects obtained by using the previous gravure printing plate A can be obtained.

ステンレス鋼からなる直径100mmの金属ドラムの外周面にシリコン樹脂(東芝GEシリコーン社製)からなる厚さ10〜20μmの樹脂を塗布形成し、レーザー製版機を用いてシリコン樹脂をパターン形成する。次いで、2Nの塩酸を用いてこのステンレス層をパターン状(パターン寸法:L/S=200μm/80μm)に刻設してパターン画線部を形成し、このパターン画線部にインキ(MEH−PPV、0.8%、アニソール溶液)を収容してグラビア印刷版を構成した。
このグラビア印刷版をグラビア校正機に取り付け、PET(ポリエチレンテレフタレート)フィルムに印刷を行った。その際のグラビア印刷版の押し付け力を30Kg/m、PETフィルムの移動速度を0.8m/秒として、グラビア印刷版はPETフィルムの移動に同期して回転させた。
A resin having a thickness of 10 to 20 μm made of silicon resin (manufactured by Toshiba GE Silicone Co., Ltd.) is applied and formed on the outer peripheral surface of a metal drum made of stainless steel having a diameter of 100 mm, and the silicon resin is patterned by using a laser plate making machine. Next, this stainless steel layer is engraved in a pattern shape (pattern dimension: L / S = 200 μm / 80 μm) using 2N hydrochloric acid to form a pattern image portion, and ink (MEH-PPV) is formed on the pattern image portion. , 0.8%, anisole solution) to form a gravure printing plate.
This gravure printing plate was attached to a gravure proofing machine and printed on a PET (polyethylene terephthalate) film. At that time, the pressing force of the gravure printing plate was 30 kg / m, the moving speed of the PET film was 0.8 m / sec, and the gravure printing plate was rotated in synchronization with the movement of the PET film.

このグラビア印刷版により、200μm±10μmの高精細なパターンの印刷をPETフィルムの上面にPETフィルム表面に傷を付けることなく行うことができた。
これに対して樹脂層を版本体の外周面にコーティングしていないグラビア印刷版を用いて同様のパターン画線部を形成し、この版を用いて印刷してみたところ、基材に筋状の傷が付いてしまった。
更に、版本体の全部をウレタン樹脂製としたグラビア印刷版も試作し、試験に供してみたが、200μm±10μmの高精細なパターンの印刷に支障を生じ、パターンに歪みを生じてしまった。
更に上記の例において、シリコン樹脂の厚さを0.8μmとして他の条件は同等としてグラビア印刷版を製造し、印刷に供したところ、シリコン樹脂が薄すぎてPETフィルムに僅かに傷が付いた。また、シリコン樹脂の厚さを23μmとして他の条件は同等としてグラビア印刷版を製造し、印刷に供したところ、シリコン樹脂が膨潤して凹部状のパターン画線部側にまではみ出し、200μm±10μmの高精細なパターンの印刷のエッジ部分が直線状にならずに25μm程度の凹凸が生じた。従ってグラビア印刷版をこの目的に供する場合の緩衝層の厚さとしては、1〜20μmの範囲の厚さとすることが有利であると思われる。
With this gravure printing plate, it was possible to print a high-definition pattern of 200 μm ± 10 μm on the upper surface of the PET film without scratching the PET film surface.
On the other hand, when the same pattern image line part was formed using a gravure printing plate in which the resin layer was not coated on the outer peripheral surface of the plate body, and printing was performed using this plate, the substrate had streaks. I got a wound.
In addition, a gravure printing plate in which the entire plate body is made of urethane resin was also prototyped and used for testing. However, the printing of a high-definition pattern of 200 μm ± 10 μm was hindered and the pattern was distorted.
Furthermore, in the above example, when the thickness of the silicon resin was 0.8 μm, and the gravure printing plate was manufactured under the same conditions, and subjected to printing, the silicon resin was too thin and the PET film was slightly scratched. . Moreover, when the thickness of the silicon resin was 23 μm, and the gravure printing plate was manufactured under the same conditions as other conditions, and subjected to printing, the silicon resin swelled and protruded to the concave pattern image line side, and was 200 μm ± 10 μm. The high-definition pattern printing edge portion was not linear, and irregularities of about 25 μm were produced. Accordingly, when the gravure printing plate is used for this purpose, the thickness of the buffer layer seems to be advantageous in the range of 1 to 20 μm.

図1は金属ドラム外周に樹脂層を被覆した状態を示す図。FIG. 1 is a view showing a state in which a resin layer is coated on the outer periphery of a metal drum. 図2は金属ドラム外周の樹脂層に孔部を形成した状態を示す図。FIG. 2 is a view showing a state in which holes are formed in the resin layer on the outer periphery of the metal drum. 図3は金属ドラムの外周にパターン画線部を形成してなるグラビア印刷版を示す図。FIG. 3 is a diagram showing a gravure printing plate in which a pattern image line portion is formed on the outer periphery of a metal drum. 図4は本発明に係るグラビア印刷版を用いてEL素子の一部を製造している状態を示す断面図である。FIG. 4 is a cross-sectional view showing a state in which a part of the EL element is manufactured using the gravure printing plate according to the present invention. 図5はEL素子の一構造例を示す断面図である。FIG. 5 is a cross-sectional view showing one structural example of an EL element. 図6はEL素子の他の構造例を示す断面図である。FIG. 6 is a cross-sectional view showing another structural example of the EL element. 図7はEL素子を用いた表示装置の一例を示す構成図である。FIG. 7 is a configuration diagram illustrating an example of a display device using an EL element.

符号の説明Explanation of symbols

A…グラビア印刷版、1…版本体、2…パターン画線部、3…緩衝層、4…金属ドラム、5…樹脂層、5a…孔部、K…インキ層。   A ... gravure printing plate, 1 ... plate body, 2 ... pattern image area, 3 ... buffer layer, 4 ... metal drum, 5 ... resin layer, 5a ... hole, K ... ink layer.

Claims (10)

ガラス基板などの基板の上にインキからなるパターンを高精細印刷して形成するための印刷用金属版であって、金属からなる版本体の表面部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部が形成され、該版本体の表面部のパターン画線部を除く部分に前記基板に対する前記版本体の押し付けによるインキ転写時に前記基板に当接する樹脂製の緩衝層が形成されてなることを特徴とするグラビア印刷版。   A printing metal plate for forming a pattern made of ink on a substrate such as a glass substrate by high-definition printing, and having a concave shape so as to match the target pattern on the surface of the plate body made of metal A resin-made buffer layer formed with a pattern image portion comprising an ink receiving portion and abutting against the substrate during ink transfer by pressing the plate body against the substrate at a portion other than the pattern image portion on the surface portion of the plate body A gravure printing plate characterized in that is formed. 前記緩衝層がインキを反発する樹脂からなることを特徴とする請求項1に記載のグラビア印刷版。   The gravure printing plate according to claim 1, wherein the buffer layer is made of a resin that repels ink. 前記インキを反発する樹脂がシリコーン系の樹脂、フッ素樹脂、ブチルゴム、ウレタンゴム、アクリロニトリルゴム、ポリ塩化ビニル、ポリカーボネート樹脂のいずれかからなることを特徴とする請求項2に記載のグラビア印刷版。   The gravure printing plate according to claim 2, wherein the resin that repels the ink is made of any one of a silicone-based resin, a fluororesin, a butyl rubber, a urethane rubber, an acrylonitrile rubber, a polyvinyl chloride, and a polycarbonate resin. 前記パターン画線部にインキを反発しない層が露出されてなることを特徴とする請求項1〜3のいずれかに記載のグラビア印刷版。   The gravure printing plate according to any one of claims 1 to 3, wherein a layer that does not repel ink is exposed in the pattern image portion. 前記インキを反発しない層がブチルゴムまたはエチレンプロピレンゴム層であることを特徴とする請求項4に記載のグラビア印刷版。   The gravure printing plate according to claim 4, wherein the layer that does not repel the ink is a butyl rubber or ethylene propylene rubber layer. 前記インキが有機EL素子を作成するための、高分子有機発光材料をインキ化したものであることを特徴とする請求項1〜5のいずれかに記載のグラビア印刷版。   The gravure printing plate according to any one of claims 1 to 5, wherein the ink is an ink made of a polymer organic light emitting material for producing an organic EL element. 請求項1〜6のいずれかに記載のグラビア印刷版を備えたことを特徴とするグラビア印刷装置。   A gravure printing apparatus comprising the gravure printing plate according to claim 1. ガラス基板などの基板の上に有機EL素子を作成するための、高分子有機発光材料をインキ化したものからなるインキのパターンを高精細印刷して有機EL素子を形成するための方法であって、
金属からなる版本体の表面部に目的のパターンに合致するように凹部状のインキ受容部からなるパターン画線部が形成され、該版本体の表面部のパターン画線部を除く部分に前記基板に対する前記版本体の押し付けによるインキ転写時に前記基板に当接する樹脂製の緩衝層が形成されてなるグラビア印刷版を用い、前記パターン画線部に高分子有機発光材料をインキ化したものを収容し、このグラビア印刷版を基板上に押し付けて基板上に前記パターン画線部に対応するインキパターンを印刷することを特徴とする有機EL素子の製造方法。
A method for forming an organic EL element on a substrate such as a glass substrate by high-definition printing an ink pattern made of a polymer organic light emitting material in ink form. ,
A pattern image line portion comprising a concave ink receiving portion is formed on the surface portion of the plate body made of metal so as to match a target pattern, and the substrate is not formed on the surface portion of the plate body excluding the pattern image line portion. A gravure printing plate in which a resin buffer layer that contacts the substrate at the time of ink transfer by pressing the plate main body against the plate is used, and an ink made of a polymer organic light-emitting material is accommodated in the pattern line portion. The method for producing an organic EL element, wherein the gravure printing plate is pressed onto a substrate to print an ink pattern corresponding to the pattern image portion on the substrate.
前記緩衝層にインキに反発する樹脂を用いることを特徴とする請求項8に記載の有機EL素子の製造方法。   The method for producing an organic EL element according to claim 8, wherein a resin repelling ink is used for the buffer layer. 前記パターン画線部にインキに反発しない層を露出させ、該パターン画線部に収容したインキを前記基板上に転写してインキパターンを印刷することを特徴とする請求項8または9に記載の有機EL素子の製造方法。


10. The ink pattern is printed by exposing a layer that does not repel ink in the pattern image portion, and transferring the ink stored in the pattern image portion onto the substrate. Manufacturing method of organic EL element.


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