JP4961694B2 - Manufacturing method of organic EL element - Google Patents

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Description

本発明は、透明電極と対向電極と有機発光層を含む発光媒体層からなり、両電極から有機発光層に電流を流すことにより有機発光層を発光させる有機EL素子の製造方法に関し、特に、発光媒体層を凸版印刷法により形成する際の製造方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing an organic EL device comprising a light emitting medium layer including a transparent electrode, a counter electrode, and an organic light emitting layer, and causing the organic light emitting layer to emit light by passing a current from both electrodes to the organic light emitting layer. The present invention relates to a manufacturing method for forming a medium layer by a relief printing method.

近年、情報機器の多様化に伴って、従来より使用されているCRTに比べて消費電力や空間占有面積の少ない平面表示素子にニーズが高まり、このような平面表示素子の一つとしてエレクトロルミネッセンス素子(EL素子)が注目されている。   In recent years, with the diversification of information equipment, there has been a growing need for flat display elements that consume less power and occupy a smaller area than conventional CRTs. As one of such flat display elements, an electroluminescence element is required. (EL elements) are attracting attention.

EL素子は、導電性のルミネッセンス材料に電圧を加えることにより励起し、発光させる素子である。ルミネッセンス材料として無機化合物を使用した無機EL素子と、有機化合物を使用した有機EL素子とに分けられる。   An EL element is an element that is excited by applying a voltage to a conductive luminescent material to emit light. It is divided into an inorganic EL element using an inorganic compound as a luminescent material and an organic EL element using an organic compound.

無機EL素子を使用した表示装置は早くから一部実用化されてきたが、駆動電圧が高すぎるなどの問題で普及が滞っている。   Although some display devices using inorganic EL elements have been put into practical use from an early stage, their use has been slow due to problems such as the drive voltage being too high.

それに対して、有機EL素子は高い発光効率を示すことから、今後実用化に向けて盛んに研究・開発が行われることが期待される。この有機EL素子の構造は、例えば、ガラス等の透明基板と、この透明基板上に成膜され、錫をドーピングした酸化インジウムなどの透明なホール(正孔)注入電極とホール注入電極上に成膜されたトリフェニルジアミンなどを含むホール輸送層と、ホール輸送層上に積層されたアルミキノリノール錯体などのルミネッセンス材料を含む発光媒体層と、ナトリウムなどの仕事関数の小さな金属電極(電子注入電極)とを基本の構成要素として有する。そして、ホール注入電極と電子注入電極との間に、10ボルト前後の電圧を加えることによって、数百ないし数万cd/mというきわめて高い輝度が得られるという特徴を有している。このような有機EL素子は、とりわけ、カラー表示装置への応用が期待されている。 On the other hand, since organic EL elements exhibit high luminous efficiency, it is expected that research and development will be actively conducted for practical use in the future. The structure of this organic EL element is, for example, formed on a transparent substrate such as glass, a transparent hole (hole) injection electrode such as indium oxide doped with tin, and a hole injection electrode. A hole transport layer containing triphenyldiamine and the like, a luminescent medium layer containing a luminescent material such as an aluminum quinolinol complex laminated on the hole transport layer, and a metal electrode (electron injection electrode) having a low work function such as sodium As basic components. And, by applying a voltage of about 10 volts between the hole injection electrode and the electron injection electrode, it has a feature that extremely high luminance of several hundred to several tens of thousands of cd / m 2 can be obtained. Such an organic EL element is expected to be applied to a color display device.

発光媒体層を形成する方法としては、真空蒸着法といった真空プロセスにより薄膜形成が提案されている。真空プロセスによって薄膜を形成する方法においては、薄膜の膜厚を正確にコントロールできるという利点を有する反面、スループットが悪いという問題がある。また、真空プロセスにおいて薄膜をパターニングする際には、所望のパターンのマスクを用いることが一般的であるが、この方法では基板が大型化すればするほどパターニング精度が出難いという問題がある。   As a method for forming a light emitting medium layer, thin film formation has been proposed by a vacuum process such as vacuum deposition. The method of forming a thin film by a vacuum process has the advantage that the film thickness of the thin film can be accurately controlled, but has a problem of poor throughput. Further, when a thin film is patterned in a vacuum process, it is common to use a mask having a desired pattern. However, this method has a problem that the patterning accuracy becomes difficult as the substrate becomes larger.

そこで、最近では発光媒体層形成材料を溶媒に溶かしてインキ化し、これをウェットコーティング法、印刷法といったウエットプロセスで薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。これらウエットプロセスでの薄膜形成は大気圧下での製膜が可能であり設備コストが安い、という利点がある。   Therefore, recently, a method for forming a thin film by a wet process such as a wet coating method or a printing method has been tried. Thin film formation by these wet processes has the advantage that film formation under atmospheric pressure is possible and the equipment cost is low.

ウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたりRGB3色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難しく、塗り分け・パターニングを得意とする印刷法による薄膜形成が最も有効であると考えられる。   As the wet coating method, there are a spin coating method, a bar coating method, a protruding coating method, a dip coating method, and the like. However, in order to perform patterning with high definition or separate application to RGB three colors, these wet coating methods are used. It is difficult to form a thin film by a printing method that is good at painting and patterning.

印刷法としては、凹版印刷、凸版印刷、平版印刷、スクリーン印刷等様々な印刷法が挙げられる。凹版印刷の代表であるグラビア印刷は、金属版であり、そのコストが高い、付け替えが容易でない、金属版であるためガラス基板には対応できない、基材に版が触れ傷を作るなどといった問題点がある。スクリーン印刷は、粘度領域的に適さないだけでなく、0.1μmの薄膜を作製することは困難であるといった問題がある。   Examples of the printing method include various printing methods such as intaglio printing, relief printing, planographic printing, and screen printing. Gravure printing, which is representative of intaglio printing, is a metal plate, and its cost is high, replacement is not easy, it is a metal plate, so it can not handle glass substrates, the plate touches the base material and scratches etc. There is. Screen printing is not only suitable in terms of viscosity, but also has a problem that it is difficult to produce a thin film having a thickness of 0.1 μm.

これに対し、凸版印刷法は有機発光インキの粘度領域的にも適合し、基材を傷にすることもない有機ELに適した印刷法である。凸版印刷法を用いた有機EL素子の作製は、有機EL素子の作製を大幅に高速化できる。また、非常に高価である有機EL発光材料を必要な部分のみに印刷することができる為、材料を必要最低限だけ使えば良いといった特長を持つ。   On the other hand, the relief printing method is a printing method suitable for organic EL that is compatible with the viscosity region of the organic light emitting ink and does not damage the substrate. The production of the organic EL element using the relief printing method can greatly speed up the production of the organic EL element. In addition, since a very expensive organic EL light emitting material can be printed only on a necessary portion, the material has a feature that only a necessary minimum amount of material is used.

凸版印刷法とは広義には画線部が凸形状をしている版すなわち凸版を用い、凸版の凸部にインキを供給し、凸部にあるインキを被印刷物に転写、印刷する印刷法である。また、印刷業界ではゴム凸版を用いるものをフレキソ印刷といい、樹脂凸版を用いるものを樹脂凸版印刷と区別して呼んでいる。本発明では両者を特に区別せずに、凸版印刷法と呼ぶこととする。   In a broad sense, the letterpress printing method is a printing method in which the image area is a convex plate, i.e., a letterpress, supplying ink to the convex part of the letterpress, and transferring and printing the ink on the convex part to the substrate. is there. In the printing industry, one using rubber letterpress is called flexographic printing, and one using resin letterpress is distinguished from resin letterpress printing. In the present invention, the letterpress printing method is called without any particular distinction.

特許文献1には、有機EL塗液(インク)を用いて印刷法により有機EL層を形成する際に、印刷工程中で生じる塗液の乾燥を防ぐことを目的として、蒸気圧が500Pa以下である溶媒を少なくとも1種類以上含んでいることを特徴とする有機EL用塗液が提案されている。さらに、膜の表面性の観点から、250Pa以下が好ましいとの記載がある。また、2種類以上の溶媒の混合溶液を用いる場合は、印刷法で膜を形成する際の温度における蒸気圧が500Pa以下である溶媒が50wt%以上含有されていることが好ましいとの記載がある。
特開2001−155861号公報
In Patent Document 1, when an organic EL layer is formed by a printing method using an organic EL coating liquid (ink), the vapor pressure is 500 Pa or less for the purpose of preventing drying of the coating liquid generated in the printing process. An organic EL coating liquid characterized by containing at least one kind of a certain solvent has been proposed. Furthermore, there is a description that 250 Pa or less is preferable from the viewpoint of the surface property of the film. Moreover, when using the mixed solution of 2 or more types of solvent, it is described that it is preferable that the solvent whose vapor pressure in the temperature at the time of forming a film by a printing method is 500 Pa or less contains 50 wt% or more. .
JP 2001-155861 A

しかしながら、インキに高沸点溶媒を用いた場合、基板に対して有機発光媒体層を形成後、有機発光媒体層中にある高沸点溶媒を除去するのが困難となる。そして、発光媒体層中の溶媒を十分に除去できずに層中に残留溶媒が存在していると、発光強度の低下や素子の劣化が促進されるという問題があった。また、溶媒の除去方法としては加熱乾燥、真空乾燥、真空加熱乾燥等が考えられるが、高沸点溶媒を除去するためには乾燥時に基板を高温で加熱する必要があり、高沸点溶媒を十分に除去しようとした場合、熱により素子が劣化を引き起こしてしまうという問題があった。すなわち、インキに高沸点溶媒を用いた場合、印刷中のインキの乾燥を防ぐことはできるものの、印刷後の溶媒除去の点で大きな問題があった。そこで、本発明では、凸版印刷法を用いて発光媒体層を形成する際に、高沸点溶媒を用いることなく発光媒体層を形成し、良好な有機EL素子を得ることを目的とする。   However, when a high boiling point solvent is used for the ink, it becomes difficult to remove the high boiling point solvent in the organic light emitting medium layer after forming the organic light emitting medium layer on the substrate. If the solvent in the luminescent medium layer cannot be removed sufficiently and a residual solvent is present in the layer, there is a problem in that the emission intensity is reduced and the element is deteriorated. In addition, as a method for removing the solvent, heating drying, vacuum drying, vacuum heating drying, and the like are conceivable. However, in order to remove the high boiling point solvent, it is necessary to heat the substrate at a high temperature during drying, and the high boiling point solvent is sufficiently removed. When trying to remove, there is a problem that the element is deteriorated by heat. That is, when a high boiling point solvent is used for the ink, although drying of the ink during printing can be prevented, there has been a big problem in terms of solvent removal after printing. Therefore, an object of the present invention is to form a light emitting medium layer without using a high boiling point solvent when forming a light emitting medium layer using a relief printing method, and to obtain a good organic EL element.

上記課題を解決するために請求項1に係る発明は、透明電極と対向電極と有機発光層を含む発光媒体層からなり、両電極から有機発光層に電流を流すことにより有機発光層を発光させる有機EL素子の製造方法であって、発光媒体材料を溶解又は分散させる溶媒を用いてインキ化したインキを、凸版印刷装置を用いて被印刷基板上に転写することによって、前記発光媒体層を形成する有機EL素子の製造方法において、前記凸版印刷装置は少なくともインキ供給部と、アニロックスロールと、凸版と、を有し、前記凸版印刷装置を用いて前記発光媒体層を形成する工程は、前記インキ供給部から前記インキを前記アニロックスロール上に供給する工程と、次に、前記アニロックスロール上のインキを前記凸版上に供給する工程と、次に、前記凸版上のインキを前記被印刷基板上に供給する工程と、を有し、前記凸版印刷装置を用いて前記発光媒体層を形成する工程において、前記インキ中の前記発光媒体材料を溶解又は分散させる溶媒の微小な液滴をスプレー方式により前記アニロックスロール上に供給されたインキ、又は前記凸版上に供給されたインキのいずれかに付与する工程を有し、前記インキ中の前記発光媒体材料を溶解又は分散させる溶媒は沸点200℃以下の溶媒からなることを特徴とする有機EL素子の製造方法とした。 In order to solve the above-mentioned problems, the invention according to claim 1 is composed of a light emitting medium layer including a transparent electrode, a counter electrode, and an organic light emitting layer, and causing the organic light emitting layer to emit light by flowing current from both electrodes to the organic light emitting layer. A method for producing an organic EL device, wherein the light-emitting medium layer is formed by transferring ink that has been converted into an ink using a solvent that dissolves or disperses the light-emitting medium material onto a substrate to be printed using a relief printing apparatus. In the method of manufacturing an organic EL element, the relief printing apparatus includes at least an ink supply unit, an anilox roll, and a relief printing, and the step of forming the light emitting medium layer using the relief printing apparatus includes the ink Supplying the ink from the supply unit onto the anilox roll, then supplying the ink on the anilox roll onto the relief plate, and The ink on the plate has, and supplying to the printing substrate, in the step of forming the light emitting medium layer by using the relief printing device, dissolving or dispersing the light emitting medium material in said ink by spraying fine droplets of the solvent have a step of applying to one of said anilox ink supplied onto a roll, or an ink which is supplied onto the relief plate, dissolve the luminescent medium material in said ink Or the solvent to disperse | distribute consists of a solvent with a boiling point of 200 degrees C or less, It was set as the manufacturing method of the organic EL element characterized by the above-mentioned.

本発明により、発光媒体材料をインキ化する際に低沸点溶媒を使用した際に、インキが凸版印刷中で乾燥することなく、版上にあるインキを被印刷基板上に転写させることが可能となり、フレキソ印刷によるパターン形成を正確におこなうことができた。よって、ムラやカスレの無い有機EL素子を製造することができた。また、低沸点溶媒からなるインキを使用することにより、パターン形成後の乾燥工程において加熱工程をなくす、あるいは、加熱が緩やかな条件でインキ中の溶媒を十分に取り除くことができるので、有機EL素子構成材料の劣化を抑え、発光効率が良い有機EL素子を製造することができた。   According to the present invention, when a low-boiling point solvent is used when making a luminescent medium material into an ink, it becomes possible to transfer the ink on the plate onto the printing substrate without drying the ink during relief printing. The pattern formation by flexographic printing could be performed accurately. Therefore, it was possible to produce an organic EL element free from unevenness and blurring. In addition, by using an ink composed of a low-boiling solvent, the heating step is eliminated in the drying step after pattern formation, or the solvent in the ink can be sufficiently removed under mild heating conditions. It was possible to manufacture an organic EL element with good luminous efficiency while suppressing deterioration of the constituent materials.

本発明の有機EL素子の製造方法は、支持基板上に少なくとも透明電極と単層または複数の層で構成される発光媒体層、対向電極を積層してなる有機EL素子の製造方法であって、前記発光媒体層の少なくとも1層を沸点が200℃以下の溶媒からなるインキを用い、凸版印刷法により発光媒体層を形成するものである。以下、本発明による有機EL素子の一例を図1に基づいて説明する。なお、本発明は図1に示す構成に限定されるものではない。   The method for producing an organic EL device of the present invention is a method for producing an organic EL device comprising a transparent substrate and a luminescent medium layer composed of at least a single layer or a plurality of layers and a counter electrode on a support substrate, At least one of the luminescent medium layers is formed using a relief printing method using an ink composed of a solvent having a boiling point of 200 ° C. or lower. Hereinafter, an example of the organic EL element according to the present invention will be described with reference to FIG. The present invention is not limited to the configuration shown in FIG.

本発明で用いることのできる支持基板1とは、高分子EL素子製造時に電極及び高分子発光媒体層を保持する役割と、高分子EL素子完成後は、素子の一方の面を封止し、素子構成材料の劣化を防ぐ役割を果たすものである。   The support substrate 1 that can be used in the present invention is a role of holding the electrode and the polymer light emitting medium layer during the production of the polymer EL element, and after completion of the polymer EL element, one side of the element is sealed, It plays a role of preventing deterioration of the element constituent material.

このような支持基板1としては、ガラス、金属薄板あるいはプラスチックフィルムが挙げられる。プラスチックフィルムとしては、ポリエチレンテレフタレート、ポリプロピレン、シクロオレフィンポリマー、ポリアミド、ポリエーテルサルフォン、ポリメチルメタクリレート、ポリカーボネート等を用いることができる。   Examples of the support substrate 1 include glass, a thin metal plate, and a plastic film. As the plastic film, polyethylene terephthalate, polypropylene, cycloolefin polymer, polyamide, polyether sulfone, polymethyl methacrylate, polycarbonate and the like can be used.

発光媒体層は非常に薄い膜であり、少しの凹凸でもピンホールの原因となるため、発光媒体層積層側には平滑化処理を施すことが好ましい。プラスチック基板のように可撓性のある基板を選択すれば、曲げの可能なフレキシブル高分子EL素子を製造することができる。また、巻き取りながら有機EL素子を製造することもできるので、連続生産が可能となり、コスト的に有利となる。   Since the light emitting medium layer is a very thin film and even a slight unevenness causes pinholes, it is preferable to perform a smoothing treatment on the light emitting medium layer lamination side. If a flexible substrate such as a plastic substrate is selected, a flexible polymer EL element that can be bent can be manufactured. In addition, since the organic EL element can be manufactured while winding, continuous production is possible, which is advantageous in terms of cost.

プラスチックフィルムのように水蒸気透過性のある材料を用いる場合は、耐キズ性、耐反射性、耐酸化性を有する必要がある点から、セラミック蒸着フィルムやポリ塩化ビニリデン、ポリ塩化ビニル、エチレン−酢酸ビニル共重合体鹸化物等のガスバリア性フィルムを積層してもよい。無機薄膜の蒸着あるいはコーティング等の処理を行うことにより、耐湿性を付与することもできる。   When using a water vapor permeable material such as a plastic film, it is necessary to have scratch resistance, reflection resistance, and oxidation resistance, so it is necessary to have a ceramic vapor deposited film, polyvinylidene chloride, polyvinyl chloride, ethylene-acetic acid. A gas barrier film such as a saponified vinyl copolymer may be laminated. Moisture resistance can also be imparted by performing a process such as vapor deposition or coating of an inorganic thin film.

素子の光取出し方向を下面(ボトムエミッション方式)あるいは上下両面(透明有機EL素子)から行う場合は透光性の支持基板を選択することが好ましい。透光性、耐湿性の観点から、ガラス基板が好ましい。   When the light extraction direction of the element is performed from the lower surface (bottom emission method) or both upper and lower surfaces (transparent organic EL element), it is preferable to select a translucent support substrate. From the viewpoint of translucency and moisture resistance, a glass substrate is preferable.

支持基板1上に陽極として透明電極2を形成する。透明電極2としては、透明または半透明の電極を形成することのできる導電性物質なら特に制限はない。具体的にはインジウムと錫の複合酸化物(以下ITOという)を好ましく用いることができる。前記支持基板1上に蒸着またはスパッタリング法により製膜することができる。また、オクチル酸インジウムやアセトンインジウムなどの前駆体を基材上に塗布後、熱分解により酸化物を形成する塗布熱分解法等により形成することもできる。あるいは、アルミニウム、金、銀等の金属が半透明状に蒸着されたものを用いることができる。あるいはポリアニリン等の有機半導体も用いることができる。   A transparent electrode 2 is formed on the support substrate 1 as an anode. The transparent electrode 2 is not particularly limited as long as it is a conductive substance capable of forming a transparent or translucent electrode. Specifically, a composite oxide of indium and tin (hereinafter referred to as ITO) can be preferably used. A film can be formed on the support substrate 1 by vapor deposition or sputtering. Alternatively, a precursor such as indium octylate or indium acetone can be formed on the base material by a coating pyrolysis method in which an oxide is formed by thermal decomposition. Alternatively, a material in which a metal such as aluminum, gold, or silver is vapor-deposited in a translucent state can be used. Alternatively, an organic semiconductor such as polyaniline can also be used.

上記、透明電極2は、必要に応じてエッチングによりパターニングを行ったり、UV処理、プラズマ処理などにより表面の活性化を行ってもよい。また、光の取出し方向を上面(トップエミッション方式)とする場合は、透明電極は発光媒体層の上部に形成される。   The transparent electrode 2 may be patterned by etching as necessary, or may be activated by UV treatment, plasma treatment, or the like. When the light extraction direction is the top surface (top emission method), the transparent electrode is formed on the light emitting medium layer.

透明電極を形成後、必要に応じて、隣接するパターン化された透明電極の間に、感光性材料を用いたフォトリソ法により絶縁性隔壁6が形成される。絶縁性隔壁6を形成する感光性材料としてはポジ型レジスト、ネガ型レジストのどちらであってもよく、市販のもので構わないが、絶縁性を有する必要がある。隔壁が絶縁性を有さない場合には隔壁を通じで隣り合う画素電極に電流が流れてしまい表示不良が発生してしまう。具体的にはポリイミド系やアクリル樹脂系、ノボラック樹脂系といったものが挙げられる。また、有機EL素子の表示品位を上げる目的で、光遮光性の材料を含有させてもよい。   After forming the transparent electrode, an insulating partition wall 6 is formed between adjacent patterned transparent electrodes by a photolithography method using a photosensitive material, if necessary. The photosensitive material for forming the insulating partition 6 may be either a positive type resist or a negative type resist, and may be a commercially available one, but it must have insulating properties. In the case where the partition has no insulating property, a current flows through the partition to the adjacent pixel electrode, resulting in a display defect. Specific examples include polyimide, acrylic resin, and novolac resin. Further, for the purpose of improving the display quality of the organic EL element, a light shielding material may be contained.

次に、導電層上に発光媒体層3を形成する。発光媒体層は必要に応じ、有機発光材料を含有する有機発光層以外に正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層を含む積層構造をとることが可能である。なお、発光媒体層に正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層、正孔ブロック層、電子輸送層、電子注入層が設けられた場合、これらの層を形成する際にも本発明の製造方法を適用することが可能である。   Next, the light emitting medium layer 3 is formed on the conductive layer. The light emitting medium layer has a laminated structure including a hole injection layer, a hole transport layer, an electron block layer, a hole block layer, an electron transport layer, and an electron injection layer in addition to the organic light emitting layer containing an organic light emitting material, if necessary. It is possible to take. In addition, when a hole injection layer, a hole transport layer, an electron block layer, a hole block layer, an electron transport layer, and an electron injection layer are provided in the light emitting medium layer, the present invention can be applied to the formation of these layers. It is possible to apply a manufacturing method.

正孔注入層、正孔輸送層、電子ブロック層とは、正孔輸送性及び/若しくは電子ブロック性を有する材料を有する層であり、それぞれ陽極から有機発光媒体層への正孔注入の障壁を下げる、陽極から注入された正孔を陰極の方向へ進める、正孔を通しながらも電子が陽極の方向へ進行するのを妨げる役割を担う層である。正孔ブロック層、電子輸送層とは電子輸送性及び/若しくは正孔ブロック性を有する材料を有する層であり、それぞれ陰極から注入された電子を陽極の方向へ進める。電子を通しながらも正孔が陰極の方向へ進行するのを妨げる役割を担う層である。電子注入層とは電子注入性を有する材料を有する層であり、陰極から有機発光媒体層への電子の注入障壁を下げる役割を担う層である。ここでは、正孔輸送層3aと有機発光層3bからなる発光媒体層を示す。   The hole injection layer, the hole transport layer, and the electron block layer are layers having a material having a hole transport property and / or an electron block property, and each has a hole injection barrier from the anode to the organic light emitting medium layer. It is a layer that plays a role of lowering, advancing holes injected from the anode toward the cathode, and preventing electrons from traveling toward the anode while passing through the holes. The hole blocking layer and the electron transporting layer are layers having a material having an electron transporting property and / or a hole blocking property, and each forwards electrons injected from the cathode toward the anode. It is a layer that plays a role of preventing holes from traveling in the direction of the cathode while passing electrons. The electron injection layer is a layer having a material having an electron injection property, and is a layer that plays a role of lowering an electron injection barrier from the cathode to the organic light emitting medium layer. Here, a light emitting medium layer composed of the hole transport layer 3a and the organic light emitting layer 3b is shown.

正孔輸送層3aに用いる正孔輸送材料としては、一般に正孔輸送材料として用いられているものであれば良く、銅フタロシアニンやその誘導体、1,1―ビス(4―ジ−p−トリルアミノフェニル)シクロヘキサン、N,N’―ジフェニル―N,N’−ビス(3−メチルフェニル)―1,1’―ビフェニルー4,4’―ジアミン、N,N’―ジ(1―ナフチル)―N,N’―ジフェニルー1,1’―ビフェニルー4,4’―ジアミン等の芳香族アミン系などの低分子も用いることができるが、中でもポリアニリン、ポリチオフェン、ポリビニルカルバゾール、ポリ(3,4―エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸との混合物(PEDOT/PSS)等の有機材料が、湿式法による製膜が可能であり、より好ましい。   The hole transport material used for the hole transport layer 3a may be any material that is generally used as a hole transport material, such as copper phthalocyanine and its derivatives, 1,1-bis (4-di-p-tolylamino). Phenyl) cyclohexane, N, N'-diphenyl-N, N'-bis (3-methylphenyl) -1,1'-biphenyl-4,4'-diamine, N, N'-di (1-naphthyl) -N , N′-diphenyl-1,1′-biphenyl-4,4′-diamine and other low molecular weight compounds such as aromatic amines can also be used. Among them, polyaniline, polythiophene, polyvinylcarbazole, poly (3,4-ethylenediene) An organic material such as a mixture of oxythiophene) and polystyrenesulfonic acid (PEDOT / PSS) is more preferable because it can be formed by a wet method.

正孔輸送層形成材料は溶剤に溶解または分散させ正孔輸送インキとし、スリットコーター、スピンコーター、バーコーター、ロールコーター、ダイコーター、グラビアコーター等を用いたコーティング法により、基板上に形成されるが、本発明のフレキソ印刷装置により形成することも可能である。また、形成後は乾燥され、正孔輸送層となる。   The hole transport layer forming material is dissolved or dispersed in a solvent to form a hole transport ink, which is formed on the substrate by a coating method using a slit coater, spin coater, bar coater, roll coater, die coater, gravure coater, etc. However, it can also be formed by the flexographic printing apparatus of the present invention. Moreover, after formation, it is dried to form a hole transport layer.

正孔輸送材料を溶解または分散させる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水等の単独またはこれらの混合溶剤などが挙げられる。特に、水またはアルコール類が好適である。   As the solvent for dissolving or dispersing the hole transport material, for example, toluene, xylene, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethyl acetate, butyl acetate, water or the like alone or a mixture thereof A solvent etc. are mentioned. In particular, water or alcohols are suitable.

次に、正孔輸送層3a上に有機発光層3bを形成する。有機発光層3bに用いる有機発光材料としては、一般に有機発光材料として用いられているものであれば良く、クマリン系、ペリレン系、ピラン系、アンスロン系、ポルフィレン系、キナクリドン系、N,N’―ジアルキル置換キナクリドン系、ナフタルイミド系、N,N’―ジアリール置換ピロロピロール系等の蛍光性色素をポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾール等の高分子中に溶解させたものや、PPV系やPAF系、ポリパラフェニレン系等の高分子蛍光体を用いることができる。   Next, the organic light emitting layer 3b is formed on the hole transport layer 3a. The organic light emitting material used for the organic light emitting layer 3b may be any material generally used as an organic light emitting material. Coumarin-based, perylene-based, pyran-based, anthrone-based, porphyrene-based, quinacridone-based, N, N′— Fluorescent dyes such as dialkyl substituted quinacridone, naphthalimide, N, N'-diaryl substituted pyrrolopyrrole dissolved in polymers such as polystyrene, polymethyl methacrylate, polyvinyl carbazole, PPV and PAF Polyparaphenylene-based polymeric fluorescent materials can be used.

有機発光材料は溶剤に溶解または分散させ有機発光インキとなり、本発明のフレキソ印刷装置により形成される。   The organic light emitting material is dissolved or dispersed in a solvent to form an organic light emitting ink, which is formed by the flexographic printing apparatus of the present invention.

有機発光材料を溶解または分散させる溶媒としては、例えば、トルエン、キシレン、アニソール、メシチレン、テトラリン、アセトン、メチルエチルケトン、メチルイソブチルケトン、シクロヘキサノン、メタノール、エタノール、イソプロピルアルコール、酢酸エチル、酢酸ブチル、水、安息香酸メチル、安息香酸エチル等の単独またはこれらの混合溶媒などが挙げられる。特にこれらの中でも、キシレン、アニソール、メシチレンが有機発光材料の溶解性が良く、また、大気圧中での沸点が200℃以下であることから有機発光層形成後の溶媒除去の点で好ましい。   Solvents for dissolving or dispersing the organic light emitting material include, for example, toluene, xylene, anisole, mesitylene, tetralin, acetone, methyl ethyl ketone, methyl isobutyl ketone, cyclohexanone, methanol, ethanol, isopropyl alcohol, ethyl acetate, butyl acetate, water, benzoic acid Examples thereof include methyl acid, ethyl benzoate and the like alone or a mixed solvent thereof. Among these, xylene, anisole, and mesitylene are particularly preferable in terms of solvent removal after the formation of the organic light emitting layer because the organic light emitting material has good solubility and the boiling point at atmospheric pressure is 200 ° C. or less.

これらの溶剤を用いて、有機発光材料の固形分量が0.8%から2.5wt%になるよう有機発光インキを調整し、さらにはその有機発光インキの粘度が25℃において10mPa・sから70mPa・sの範囲になることが好ましく、また、固形分1.0%から2.0%、粘度15mPa・sから60mPa・sの範囲になることがより好ましい。   Using these solvents, the organic light emitting ink is adjusted so that the solid content of the organic light emitting material is 0.8% to 2.5 wt%, and the viscosity of the organic light emitting ink is 10 mPa · s to 70 mPa at 25 ° C. It is preferably in the range of s, more preferably in the range of solid content of 1.0% to 2.0% and viscosity of 15 mPa · s to 60 mPa · s.

また、有機発光インキには必要に応じて、界面活性剤、酸化防止剤、粘度調製剤、紫外線吸収剤などを添加してもよい。   Moreover, you may add surfactant, antioxidant, a viscosity modifier, a ultraviolet absorber, etc. to organic luminescent ink as needed.

図2に有機発光材料からなるインキを、被印刷基板24上にパターン印刷する際の凸版印刷装置の概略図を示した。被印刷基板24は支持基板上に少なくとも透明電極と正孔輸送層が形成されている。本製造装置はインクタンク10とインキチャンバー11とアニロックスロール13と凸部が設けられた凸版16がマウントされた版銅18を有している。インキタンク10には、有機発光インキが収容されており、インキチャンバー11にはインキタンク10より有機発光インキが送り込まれるようになっている。アニックスロール13はインキチャンバー12のインキ供給部に接して回転可能に支持されている。   FIG. 2 shows a schematic diagram of a relief printing apparatus when pattern printing is performed on the substrate 24 to be printed with an ink made of an organic light emitting material. The printed substrate 24 has at least a transparent electrode and a hole transport layer formed on a support substrate. This manufacturing apparatus has a plate copper 18 on which an ink tank 10, an ink chamber 11, an anilox roll 13, and a relief plate 16 provided with projections are mounted. The ink tank 10 contains organic light-emitting ink, and the organic light-emitting ink is fed into the ink chamber 11 from the ink tank 10. The anix roll 13 is rotatably supported in contact with the ink supply part of the ink chamber 12.

アニックスロール13の回転に伴い、アニックスロール表面に供給されたインキ14はドクター12により不要部分はかきとられ、均一な膜厚に形成される。このインキ14はアニックスロールに近接して回転駆動される版胴18にマウントされた凸版16の凸部に転移する。平台20には、被印刷基板24が凸版16の凸部による印刷位置にまで図示していない搬送手段によって搬送されるようになっている。そして、凸版16の凸部にあるインキは被印刷基板24に対して印刷され、パターン形成される。   With the rotation of the anix roll 13, the ink 14 supplied to the surface of the anix roll is scraped off by the doctor 12 and formed into a uniform film thickness. The ink 14 is transferred to the convex portion of the relief plate 16 mounted on the plate cylinder 18 that is driven to rotate in the vicinity of the anix roll. On the flat table 20, the substrate to be printed 24 is transported to a printing position by the convex portion of the relief plate 16 by a transport means (not shown). And the ink in the convex part of the relief printing plate 16 is printed with respect to the to-be-printed substrate 24, and a pattern is formed.

凸部が設けられた凸版16は、基材がガラスの場合は金属版は適さず、樹脂版を利用することが望ましい。また、有機発光層を形成する場合、有機発光インキ中に含まれる溶媒は油溶性の有機溶剤であり、この溶剤による凸版の膨潤を防止しパターンの正確な印刷を可能とするためには、親水性の樹脂版を使用することが好ましい。このような凸版としては、例えば、版基材に、水現像性の光硬化型感光性樹脂を塗布し、露光・現像して得られた水現像性樹脂凸版が挙げられる。   As the relief plate 16 provided with the projections, a metal plate is not suitable when the substrate is glass, and it is desirable to use a resin plate. In addition, when forming the organic light emitting layer, the solvent contained in the organic light emitting ink is an oil-soluble organic solvent. In order to prevent the swelling of the relief printing plate by this solvent and to enable accurate printing of the pattern, hydrophilic solvent is used. It is preferable to use a functional resin plate. Examples of such a relief plate include a water-developable resin relief plate obtained by applying a water-developable photocurable photosensitive resin to a plate substrate, and exposing and developing.

微小な液滴からなる液体を付与する工程はインキまたは印刷される前の被印刷基板に対しておこなわれる。図2中の18a、18b、18cに液体付与装置の設置箇所を示した。液体付与装置を用いておこなわれる液体付与工程は、凸版16上にあるインキに対して行なわれることが好ましい(18a)。また、アニロックスロール上にあるインキに対して液体付与をおこなっても良い(18b)また、印刷される前の被印刷基板に対して液体付与をおこなった場合においても、インキに液体を付与した場合と同様の効果を得ることができる(18c)。また、これらは単独ではなく同時におこなっても良い。液体は微小な液滴の状態すなわちミスト状でインキに対して付与される。微小な液滴の形成方法としては、圧をかけながら液体を微小な穴に通過させることにより液滴となるスプレー方式、また、液体を加熱し蒸気とすることによりおこなわれる加熱蒸発方式、液体の液面に対して送風し気化させることによりおこなわれる送風方式が挙げられる。また、これらの組み合わせによっておこなってもよい。さらには、液体を所定の箇所に付与するために送風機構を設けてもよい。   The step of applying a liquid made up of fine droplets is performed on ink or a substrate to be printed before printing. The installation location of the liquid applicator is shown at 18a, 18b and 18c in FIG. It is preferable that the liquid application | coating process performed using a liquid application apparatus is performed with respect to the ink which exists on the letterpress 16 (18a). In addition, liquid may be applied to the ink on the anilox roll (18b). Also, when liquid is applied to the substrate to be printed before printing, the liquid is applied to the ink. (18c). Moreover, these may be performed simultaneously instead of individually. The liquid is applied to the ink in the form of fine droplets, ie, a mist. As a method for forming minute droplets, a spray method in which a liquid is passed through a minute hole while applying pressure, a heating evaporation method in which a liquid is heated to form a vapor, The ventilation system performed by blowing and vaporizing with respect to a liquid level is mentioned. Moreover, you may carry out by the combination of these. Furthermore, an air blowing mechanism may be provided to apply the liquid to a predetermined location.

付与する液体としては、沸点が200℃以下のものがよく、またインキに対して相溶性を示す必要がある。好ましくは、インキに含まれる溶媒と同一またはインキ中に含まれる溶媒の少なくとも1つからなる液体である。このようにして液体付与された版上またはアニロックスロール上にあるインキは、インキの乾燥すなわち溶媒の蒸発による粘度の上昇が抑えられる。すわなち、印刷工程においてインキ中の溶媒の蒸発した分を補うことができる。したがって、版から被印刷基板へのインキの転写を安定しておこなうことができ、フレキソ印刷によるパターン形成を正確におこなうことができる。そして、ムラやカスレの無い有機EL素子を得ることができる。   The liquid to be applied should have a boiling point of 200 ° C. or lower, and must be compatible with the ink. Preferably, the liquid is the same as the solvent contained in the ink or a liquid comprising at least one of the solvents contained in the ink. The ink on the liquid-applied plate or anilox roll in this manner can suppress an increase in viscosity due to drying of the ink, that is, evaporation of the solvent. That is, it is possible to compensate for the evaporation of the solvent in the ink in the printing process. Therefore, the ink can be stably transferred from the plate to the substrate to be printed, and the pattern formation by flexographic printing can be performed accurately. An organic EL element free from unevenness and blurring can be obtained.

また、これらの液体付与機構(18a、18b、18c)は、省スペース化が可能であり、市販のフレキソ印刷装置に取り付けることができ、低コストで実施可能である。   Further, these liquid application mechanisms (18a, 18b, 18c) can save space, can be attached to a commercially available flexographic printing apparatus, and can be implemented at low cost.

被印刷基板上に印刷されたインキの乾燥方法としては、加熱しても減圧下にして乾燥してもどちらでもよいが、加熱減圧下で乾燥させ溶剤を除く方がより好ましい。沸点が200℃以下の溶媒及び液体を用いることにより、高温で加熱することなく溶媒及び付与された液体を十分に取り除くことができる。   As a method for drying the ink printed on the substrate to be printed, it may be heated or dried under reduced pressure, but it is more preferable to dry under heating and reduced pressure to remove the solvent. By using a solvent and a liquid having a boiling point of 200 ° C. or less, the solvent and the applied liquid can be sufficiently removed without heating at a high temperature.

次に、陰極として対向電極4を形成する。対向電極4としてはMg、Al、Yb等の金属単体を用いたり、発光媒体材料と接する界面にLiやLiF等の化合物を1nm程度はさんで、安定性・導電性の高いAlやCuを積層して用いる。または、電子注入効率と安定性を両立させるため、仕事関数の低い金属と安定な金属との合金系、例えばMgAg、AlLi、CuLi等の合金が使用できる。陰極の形成方法は材料に応じて、抵抗加熱蒸着法、電子ビーム法、スパッタリング法を用いることができる。陰極の厚さは、10nmから1000nm程度が望ましい。   Next, the counter electrode 4 is formed as a cathode. As the counter electrode 4, a single metal such as Mg, Al, or Yb is used, or a compound such as Li or LiF is sandwiched by about 1 nm at the interface in contact with the light emitting medium material, and highly stable and conductive Al or Cu is laminated. And use. Alternatively, in order to achieve both electron injection efficiency and stability, an alloy system of a metal having a low work function and a stable metal, for example, an alloy such as MgAg, AlLi, or CuLi can be used. As a method for forming the cathode, a resistance heating vapor deposition method, an electron beam method, or a sputtering method can be used depending on the material. The thickness of the cathode is preferably about 10 nm to 1000 nm.

最後にこれらの有機EL積層体を、外部の酸素や水分から保護するために、ガラスキャップと接着剤を用いて密閉封止し、有機EL素子を得ることができる。また、透光性基板が可撓性を有する場合は封止剤と可撓性フィルムを用いて密閉封止をおこなう。   Finally, in order to protect these organic EL laminates from external oxygen and moisture, an organic EL element can be obtained by hermetically sealing with a glass cap and an adhesive. Moreover, when a translucent board | substrate has flexibility, sealing sealing is performed using a sealing agent and a flexible film.

支持基板として厚さ0.7mm、100mm四方のガラス基板を用い、陽極(導電層)として800μmピッチ(L/S=700/100)のITOラインを設けた。次いで、逆テーパ形状の陰極(対向電極)分断用隔壁7をITOラインと直交するようにフォトリソグラフィ法によって形成した。   A 0.7 mm thick and 100 mm square glass substrate was used as the support substrate, and an ITO line with an 800 μm pitch (L / S = 700/100) was provided as the anode (conductive layer). Next, a reverse-tapered cathode (counter electrode) dividing partition 7 was formed by photolithography so as to be orthogonal to the ITO line.

このようにして隔壁を設けた支持基板に対し、正孔輸送材料であるポリ(3,4−エチレンジオキシチオフェン)とポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)の1wt%水分散溶液に、PEDOT/PSSに対して0.5%量の高級アルコール系エーテル型の界面活性剤:エマルゲン105(花王社製、非イオン系)を添加した溶液を、スリットコート法により乾燥後の膜厚が180nmとなるように塗布して正孔輸送層を形成した。   Thus, PEDOT / PSS was added to a 1 wt% aqueous dispersion of poly (3,4-ethylenedioxythiophene) and polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS), which are hole transport materials, on the support substrate provided with the partition walls. A solution obtained by adding 0.5% amount of higher alcohol ether type surfactant: Emulgen 105 (manufactured by Kao Corporation, nonionic) so that the film thickness after drying is 180 nm by the slit coat method. Was applied to form a hole transport layer.

このようにして形成した正孔輸送層上に、高分子発光材料であるポリ[2−メトキシ−5−(2’−エチルヘキシロキシ)−1,4−フェニレンビニレン](MEH−PPV)の1.8wt%o−キシレン溶液をフレキソ印刷法により膜厚80nmで形成した。印刷中に膜の乾燥を防ぐために版及びアニロックスロールに対してo−キシレンを噴霧量/表面積=0.005ml/cm2となるようにスプレー方式により噴霧をおこなった。支持基板上にあるインキは減圧下で120℃にて4時間乾燥した。次いで、陰極層6としてMaAgを2元共蒸着により200nmの厚みでパターン形成して、パッシブ駆動型の有機EL素子を作製した。   On the hole transport layer thus formed, 1 of poly [2-methoxy-5- (2′-ethylhexyloxy) -1,4-phenylenevinylene] (MEH-PPV), which is a polymer light-emitting material, is formed. A .8 wt% o-xylene solution was formed to a thickness of 80 nm by flexographic printing. In order to prevent drying of the film during printing, o-xylene was sprayed on the plate and anilox roll by a spray method so that the spray amount / surface area = 0.005 ml / cm 2. The ink on the support substrate was dried at 120 ° C. under reduced pressure for 4 hours. Next, MaAg was formed into a pattern with a thickness of 200 nm by binary co-evaporation as the cathode layer 6 to produce a passive drive type organic EL device.

得られたパッシブ駆動型有機EL素子は、リーク電流が無く選択した画素のみを表示でき印加電圧7.3Vで100cd/m2を示した。   The obtained passive drive type organic EL device was able to display only selected pixels without leak current, and showed 100 cd / m 2 at an applied voltage of 7.3V.

(比較例1)
比較例1として、o−キシレンの噴霧をおこなわなかったこと以外、実施例と同様にして有機発光層の形成をおこなった。その結果、フレキソ印刷装置の版上でインキが乾燥してしまい、版上にあるインキを被印刷基板(支持基板)上に全て転写させることができなかった。
(Comparative Example 1)
As Comparative Example 1, an organic light emitting layer was formed in the same manner as in Example except that o-xylene was not sprayed. As a result, the ink was dried on the plate of the flexographic printing apparatus, and the ink on the plate could not be completely transferred onto the substrate to be printed (support substrate).

(比較例2)
比較例2として、有機発光材料MEH−PPVの溶剤にo−キシレンの代わりにトリエチルベンゼンを用いたことと、液体噴霧をおこなわなかったこと以外、実施例1と同様にして有機発光層の形成、有機EL素子の作成をおこなった。その結果、得られた有機EL素子は、リーク電流が無く選択した画素のみを発光させることができ、印加電圧9.5Vで100cd/m2を示したが、発光面には非発光箇所(ダークスポット)が確認された。
(Comparative Example 2)
As Comparative Example 2, formation of an organic light emitting layer in the same manner as in Example 1 except that triethylbenzene was used instead of o-xylene as a solvent for the organic light emitting material MEH-PPV, and liquid spraying was not performed. An organic EL element was created. As a result, the obtained organic EL element can emit only selected pixels with no leakage current and showed 100 cd / m 2 at an applied voltage of 9.5 V. ) Was confirmed.

本発明の有機EL素子の断面図である。It is sectional drawing of the organic EL element of this invention. 本発明の凸版印刷装置の概略図である。It is the schematic of the relief printing apparatus of this invention.

符号の説明Explanation of symbols

1 支持基板
2 透明電極(陽極)
3a 正孔輸送層
3b 有機発光層
4 対向電極(陰極)
6 絶縁性隔壁
10 インキタンク
11 インキチャンバー
12 ドクター
13 アニロックスロール
14 インキ
16 凸版
17 版胴
18a、18b、18c 液体付与装置
20 平台
24 被印刷基板
1 Support substrate 2 Transparent electrode (anode)
3a Hole transport layer 3b Organic light emitting layer 4 Counter electrode (cathode)
6 Insulating partition 10 Ink tank 11 Ink chamber 12 Doctor 13 Anilox roll 14 Ink 16 Letterpress 17 Plate cylinder 18a, 18b, 18c Liquid applicator 20 Flat table 24 Printed substrate

Claims (1)

透明電極と対向電極と有機発光層を含む発光媒体層からなり、両電極から有機発光層に電流を流すことにより有機発光層を発光させる有機EL素子の製造方法であって、発光媒体材料を溶解又は分散させる溶媒を用いてインキ化したインキを、凸版印刷装置を用いて被印刷基板上に転写することによって、前記発光媒体層を形成する有機EL素子の製造方法において、前記凸版印刷装置は少なくともインキ供給部と、アニロックスロールと、凸版と、を有し、
前記凸版印刷装置を用いて前記発光媒体層を形成する工程は、
前記インキ供給部から前記インキを前記アニロックスロール上に供給する工程と、
次に、前記アニロックスロール上のインキを前記凸版上に供給する工程と、
次に、前記凸版上のインキを前記被印刷基板上に供給する工程と、
を有し、
前記凸版印刷装置を用いて前記発光媒体層を形成する工程において、前記インキ中の前記発光媒体材料を溶解又は分散させる溶媒の微小な液滴をスプレー方式により前記アニロックスロール上に供給されたインキ、又は前記凸版上に供給されたインキのいずれかに付与する工程を有し、前記インキ中の前記発光媒体材料を溶解又は分散させる溶媒は沸点200℃以下の溶媒からなることを特徴とする有機EL素子の製造方法。
A method of manufacturing an organic EL device comprising a light emitting medium layer including a transparent electrode, a counter electrode, and an organic light emitting layer, and causing the organic light emitting layer to emit light by passing an electric current from both electrodes to the organic light emitting layer. Alternatively, in the method for producing an organic EL element for forming the light-emitting medium layer by transferring ink inked using a solvent to be dispersed onto a substrate to be printed using a relief printing apparatus, the relief printing apparatus includes at least An ink supply unit, an anilox roll, and a letterpress;
The step of forming the light emitting medium layer using the relief printing apparatus includes:
Supplying the ink from the ink supply unit onto the anilox roll;
Next, supplying the ink on the anilox roll onto the relief plate,
Next, supplying the ink on the relief plate onto the substrate to be printed,
Have
Wherein in the step of forming the light emitting medium layer by using a relief printing device, supplied by the light emitting medium spraying fine droplets of solvent in which the material is dissolved or dispersed in said ink onto said anilox roll ink, or said fed onto the relief plate was have a step of applying any of the ink, the solvent for the luminescent medium material dissolved or dispersed in said ink organic EL characterized in that it consists of a boiling point 200 ° C. or less of the solvent Device manufacturing method.
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