JP2008135326A - Manufacturing method of high definition display - Google Patents

Manufacturing method of high definition display Download PDF

Info

Publication number
JP2008135326A
JP2008135326A JP2006321662A JP2006321662A JP2008135326A JP 2008135326 A JP2008135326 A JP 2008135326A JP 2006321662 A JP2006321662 A JP 2006321662A JP 2006321662 A JP2006321662 A JP 2006321662A JP 2008135326 A JP2008135326 A JP 2008135326A
Authority
JP
Japan
Prior art keywords
printing
ink
plate
manufacturing
high definition
Prior art date
Legal status (The legal status is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the status listed.)
Pending
Application number
JP2006321662A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Takahisa Shimizu
貴央 清水
Koji Takeshita
耕二 竹下
Hironori Kawakami
宏典 川上
Nahoko Inoguchi
奈歩子 猪口
Current Assignee (The listed assignees may be inaccurate. Google has not performed a legal analysis and makes no representation or warranty as to the accuracy of the list.)
Toppan Inc
Original Assignee
Toppan Printing Co Ltd
Priority date (The priority date is an assumption and is not a legal conclusion. Google has not performed a legal analysis and makes no representation as to the accuracy of the date listed.)
Filing date
Publication date
Application filed by Toppan Printing Co Ltd filed Critical Toppan Printing Co Ltd
Priority to JP2006321662A priority Critical patent/JP2008135326A/en
Publication of JP2008135326A publication Critical patent/JP2008135326A/en
Pending legal-status Critical Current

Links

Images

Landscapes

  • Inking, Control Or Cleaning Of Printing Machines (AREA)
  • Electroluminescent Light Sources (AREA)

Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a high definition display in which problems such as collapse of pattern shape, membrane thickness fluctuations or the like due to increase or decrease of ink transition amount do not occur, and a display having a high definition pattern can be formed in an accurate size pattern shape and with superior reproducibility. <P>SOLUTION: The manufacturing method of the high definition display has a process in which printing of the high definition patterns of 100 to 210 ppi on a printed body 7 is carried out by a relief printing method, using an electronic material ink 4a, and in the manufacturing method of the high definition display, the line number of anilox rolls 5 used in the relief printing is arranged to be 150 to 600 lines/inch. <P>COPYRIGHT: (C)2008,JPO&INPIT

Description

本発明は、高精細ディスプレイの製造方法に関するものであり、詳しくは、有機エレクトロルミネッセンス(EL)素子などの精密部品製造用の基板等の被印刷体に、インキ化した材料を凸版印刷法でパターン印刷し、高精細ディスプレイを製造する方法に関するものである。   The present invention relates to a method for producing a high-definition display, and more specifically, an ink material is patterned on a printing medium such as a substrate for producing precision parts such as organic electroluminescence (EL) elements by a relief printing method. The present invention relates to a method for printing and manufacturing a high-definition display.

一般的に、有機EL素子は、二つの対向する電極基板の間に、有機発光材料からなる有機発光層を形成し、有機発光層に電流を流すことにより発光させるものであるが、効率良く発光させるには、有機発光層の膜厚のコントロールが重要であり、例えば膜厚100nm程度に極めて薄膜にする必要がある。さらに、これをディスプレイ化するには、高精細にパターニングする必要がある。   In general, an organic EL element is one in which an organic light-emitting layer made of an organic light-emitting material is formed between two opposing electrode substrates, and light is emitted by passing a current through the organic light-emitting layer. In order to achieve this, it is important to control the film thickness of the organic light emitting layer. Furthermore, in order to make this a display, it is necessary to pattern with high definition.

基板等に形成する有機発光材料には、低分子材料と高分子材料があり、一般に低分子材料は、基板に抵抗加熱蒸着法(真空蒸着法)等により薄膜形成し、このときに微細パターンのマスクを用いてパターニングするが、この方法では基板が大型化すればするほど、パターニング精度が出難いという問題がある。   Organic light-emitting materials formed on a substrate or the like include a low molecular material and a polymer material. In general, a low molecular material is formed into a thin film on a substrate by resistance heating vapor deposition (vacuum vapor deposition) or the like. Patterning is performed using a mask, but this method has a problem that patterning accuracy is difficult to obtain as the substrate becomes larger.

そこで、最近では基板等に形成する有機発光材料に高分子材料を用い、この有機発光材料を溶剤に溶かしてインキ化して塗工インキ液にした後、これをウェットコーティング法で薄膜形成する方法が試みられるようになってきている。薄膜形成するためのウェットコーティング法としては、スピンコート法、バーコート法、突出コート法、ディップコート法等があるが、高精細にパターニングしたり、レッド(R)、グリーン(G)、ブルー(B)の3色に塗り分けしたりするためには、これらのウェットコーティング法では難かしく、塗り分けパターニングを得意とする印刷法でのパターン印刷による薄膜形成が最も有効であると考えられる。   Therefore, recently, there is a method in which a polymer material is used as an organic light emitting material to be formed on a substrate, etc., this organic light emitting material is dissolved in a solvent to form an ink and then a coating ink liquid is formed, and then a thin film is formed by a wet coating method. Attempts are being made. The wet coating method for forming a thin film includes a spin coating method, a bar coating method, a protruding coating method, a dip coating method, etc., but patterning with high definition, red (R), green (G), blue ( In order to separate the three colors of B), it is difficult to use these wet coating methods, and it is considered that thin film formation by pattern printing using a printing method that is good at separate patterning is most effective.

さらに、各種印刷法の中でも、有機EL素子やディスプレイでは、基板としてガラス基板を用いることが多いため、グラビア印刷法等のように金属製の印刷版等の硬い版を用いる方法は不向きである。そのために、弾性を有するゴム製の印刷版を用いた印刷法や、ゴム製の印刷用ブランケットを用いたオフセット印刷法や、弾性を有するゴムやその他の樹脂を主成分とした感光性樹脂版を用いる凸版印刷法等が適性な印刷法として採用することができる。実際に、これらの印刷法の試みとして、オフセット印刷による パターン印刷方法(特許文献1)、凸版印刷によるパターン印刷方法(特許文献2、3)などが提唱されている。   Furthermore, among various printing methods, organic EL elements and displays often use a glass substrate as a substrate, so that a method using a hard plate such as a metal printing plate such as a gravure printing method is not suitable. For this purpose, printing methods using elastic rubber printing plates, offset printing methods using rubber printing blankets, and photosensitive resin plates based on elastic rubber and other resins are used. The letterpress printing method used can be adopted as a suitable printing method. Actually, as a trial of these printing methods, a pattern printing method by offset printing (Patent Literature 1), a pattern printing method by letterpress printing (Patent Literatures 2 and 3), and the like have been proposed.

凸版印刷法は、例えば、円圧式の凸版印刷機として、図2に示すような印刷機がある。図示するように、インキタンク2とインキ供給部であるインキ吐出部3(チャンバー)と矢印方向に回転するアニロックスロール5(金属製若しくは樹脂製の硬質ロール、または適度な弾力性のある硬質ロール)と、印刷用凸版1aを周面に装着可能な矢印方向に回転する版胴6を備えている。版胴6の下方には、水平方向(矢印方向)に反復移動する被印刷体固定定盤8を備え、該定盤8上には被印刷体7が装着固定されている。   The letterpress printing method includes, for example, a printing machine as shown in FIG. 2 as a circular pressure letterpress printing machine. As shown in the figure, an ink tank 2 and an ink discharge part 3 (chamber) which is an ink supply part, and an anilox roll 5 rotating in the direction of the arrow (metal or resin hard roll, or hard roll having moderate elasticity) And a plate cylinder 6 that rotates in the direction of the arrow so that the printing relief plate 1a can be mounted on the peripheral surface. Below the plate cylinder 6, a printing medium fixing surface plate 8 that repeatedly moves in the horizontal direction (arrow direction) is provided, and the printing medium 7 is mounted and fixed on the surface plate 8.

インキタンク2にはインキが収容されており、インキ吐出部3にはインキタンク2よりインキが送り込まれるようになっている。アニロックスロール5は、インキ吐出部4に近接し、版胴6の印刷用凸版に接して回転するようになっている。   Ink is accommodated in the ink tank 2, and ink is sent from the ink tank 2 to the ink discharge unit 3. The anilox roll 5 is close to the ink discharge unit 4 and rotates in contact with the printing relief plate of the plate cylinder 6.

アニロックスロール5の回転に伴い、インキ吐出部3からアニロックスロール5の周面に吐出したインキ4aは、ドクター9などにより均一な膜厚に掻き取られ、アニロックスロール5の周面に均一な膜厚のインキ膜として転移する。その後、版胴6に取り付けられた印刷用凸版1aの凸状部(凸版1b)の頂部面に、前記アニロックスロール5周面のインキ4aが均一な膜厚にて転移する。   As the anilox roll 5 rotates, the ink 4 a discharged from the ink discharge unit 3 to the peripheral surface of the anilox roll 5 is scraped to a uniform film thickness by the doctor 9 or the like, and the uniform film thickness is formed on the peripheral surface of the anilox roll 5. Transfer as an ink film. Thereafter, the ink 4a on the circumferential surface of the anilox roll 5 is transferred to the top surface of the convex portion (the relief plate 1b) of the printing relief plate 1a attached to the plate cylinder 6 with a uniform film thickness.

さらに、被印刷体固定定盤8上の被印刷体7(印刷基板)は、印刷用凸版1aの凸状部1bによる凸部パターンと被印刷体7との位相位置を調整する位置調整機構により位相位置を調整しながら図2に示すように印刷開始位置まで図面左方向に水平移動する。   Furthermore, the printing body 7 (printing substrate) on the printing body fixing surface plate 8 is adjusted by a position adjusting mechanism that adjusts the phase position between the convex pattern of the convex portion 1b of the printing relief plate 1a and the printing body 7. While adjusting the phase position, as shown in FIG. 2, it moves horizontally to the printing start position in the left direction of the drawing.

その後に、被印刷体固定定盤8は、被印刷体7面に版胴6の印刷用凸版1aの凸状部1bを所定印圧にて接触させながら、版胴6の回転速度に整合して図面左方向に水平移動し、印刷用凸版1aの凸状部1bの頂部面のインキ4aによる凸部パターンを被印刷体7面に印刷する。   After that, the printing substrate fixing surface plate 8 matches the rotational speed of the plate cylinder 6 while bringing the convex portion 1b of the printing relief plate 1a of the printing cylinder 6 into contact with the surface of the printing substrate 7 with a predetermined printing pressure. Then, it moves horizontally in the left direction of the drawing, and a convex pattern of ink 4a on the top surface of the convex portion 1b of the printing relief plate 1a is printed on the surface of the printing medium 7.

印刷後の前記被印刷体7は、被印刷体固定定盤8上から取り除かれた後、次の被印刷体7が被印刷体固定定盤8上に装着固定される。この動作を繰り返すことにより印刷が実施される。   After the printing, the printed material 7 is removed from the printed material fixed surface plate 8, and then the next printed material 7 is mounted and fixed on the printed material fixed surface plate 8. Printing is performed by repeating this operation.

また、円圧式の凸版オフセット印刷機としては図示しないが、シリンダー状の回転するブランケット胴と、定位置に固定配置された平坦な圧定盤とによる印刷機がある。これは平坦な印刷用凸版を水平に載置して位置決め固定する平坦な版固定定盤と、被印刷体(印刷基板)を水平に載置して位置決め固定する平坦な被印刷体固定定盤(圧定盤)と、前記版固定定盤上に載置固定した印刷用凸版の上面を周接移動(転動)して、頂部面にインキを付着させるインキ供給ローラーと、インキ供給ローラーが待機中に印刷用凸版の上面を周接移動(転動)して頂部面に付着しているインキを表面ゴム製のブランケット面に転移させ、さらに転動してブランケット面に転移した前記インキを被印刷体固定定盤上に載置固定した被印刷体(印刷基板)に転写して印刷するブランケット胴を備えている。   Further, although not shown in the figure, a circular pressure type letterpress printing machine includes a printing machine using a cylindrical rotating blanket cylinder and a flat pressure platen fixed at a fixed position. This is a flat plate-fixing platen for placing and fixing a flat printing relief plate horizontally, and a flat printing substrate-fixing platen for placing and fixing a printing material (printing substrate) horizontally. (Pressure platen), an ink supply roller for circumferentially moving (rolling) the upper surface of the printing relief plate placed and fixed on the plate fixing platen, and depositing ink on the top surface, and an ink supply roller During the standby, the upper surface of the printing relief printing plate is circumferentially moved (rolled) to transfer the ink adhering to the top surface to the blanket surface made of rubber, and the ink that has been rolled and transferred to the blanket surface. A blanket cylinder is provided that transfers and prints on a printed body (printing substrate) placed and fixed on a fixed body for printing.

一方、凸版印刷法において塗工用の粘稠状(又はチクソトロピー状)のインキ又は液状のインキ(インキ液)には、最適な粘度、表面張力があることが知られており、特に液状のインキには、増粘剤といった粘度調整剤や、表面張力を調整するための界面活性剤等を添加するのが一般的である。   On the other hand, it is known that viscous (or thixotropic) ink or liquid ink (ink liquid) for coating in letterpress printing has optimum viscosity and surface tension. In general, a viscosity modifier such as a thickener, a surfactant for adjusting the surface tension, or the like is added.

電子材料を印刷する場合、その溶解性に限りがあったり、不純物を嫌う場合があり、インキ物性としての制限が大きい場合がある。   When printing an electronic material, its solubility may be limited, impurities may be disliked, and ink physical properties may be greatly limited.

特に、有機発光材料を印刷法により印刷して成膜する場合、有機発光材料は、水、アルコール、有機溶剤といった溶媒(必要に応じてバインダー樹脂)中に、分散もしくは溶解させることにより、印刷、塗工用のインキ液としてインキ化するものである。   In particular, when an organic light-emitting material is printed by a printing method to form a film, the organic light-emitting material is printed by being dispersed or dissolved in a solvent (binder resin as necessary) such as water, alcohol, or an organic solvent. Ink is used as an ink liquid for coating.

有機発光材料をパターン成膜し、素子として駆動させる場合、その素子の耐久性は有機発光材料により成膜される膜の純度が高い方が良いとされているため、有機発光材料の膜中に残留する増粘剤などは純度を低下させる要因となるため添加することができず、この理由からも、印刷物のインキ転移性、パターン形状の安定性を得るための有機発光材料インキ液の調整可能な諸物性の範囲は限られてしまう。   When an organic light emitting material is formed into a pattern and driven as an element, it is said that the durability of the element is better when the film formed of the organic light emitting material has a higher purity. Residual thickeners cannot be added because they cause a decrease in purity. For this reason as well, it is possible to adjust the ink composition of the organic light-emitting material to obtain the ink transferability of the printed matter and the stability of the pattern shape. The range of various physical properties is limited.

さらに、上記有機発光材料をパターン印刷し、ディスプレイを作製しようとする場合、精細度が低い場合(精細度100ppi未満の場合)、版の凸状部の幅は40μm以上あり、版の高さを100μ程度にしても十分凸状部の強度が保てる。しかしながら、100ppi以上の高精細パターンになると、版の凸状部の幅は、40μm以下となり、版の凸状部の形状を保つ為には、その高さを50μm程度まで下げる必要がある。   Furthermore, when pattern-printing the above organic light emitting material to make a display, when the definition is low (when the definition is less than 100 ppi), the width of the convex portion of the plate is 40 μm or more, and the height of the plate is Even if it is about 100 μm, the strength of the convex portion can be kept sufficiently. However, in the case of a high-definition pattern of 100 ppi or more, the width of the convex portion of the plate is 40 μm or less. In order to maintain the shape of the convex portion of the plate, it is necessary to reduce the height to about 50 μm.

そのために、凹部にインキが進入し、正常なパターンを印刷することが難しくなってくる。
特開2001-93668号公報 特開2001-155858号公報 特開2001-155861号公報
For this reason, ink enters the recess and it becomes difficult to print a normal pattern.
JP 2001-93668 A Japanese Patent Laid-Open No. 2001-155858 JP 2001-155861 A

本発明は、上記問題点を解決し、パターン形状の崩壊、インキの転移量の減少または増大による膜厚変動等の諸問題が発生せず、高精細パターンを有するディスプレイを、正確なサイズのパターン形状でもって再現性良く形成することのできる、高精細ディスプレイの製造方法を提供することにある。   The present invention solves the above-mentioned problems, and does not cause various problems such as a collapse of the pattern shape and a film thickness variation due to a decrease or an increase in the amount of transferred ink. An object of the present invention is to provide a method for manufacturing a high-definition display that can be formed with good reproducibility by shape.

請求項1に記載の発明は、凸版印刷法により、電子材料インキを用い、被印刷体上に100〜210ppiの高精細パターンの印刷を行う工程を有する高精細ディスプレイの製造方法であって、凸版印刷に用いるアニロックスロールの線数を、150〜600線/インチにすることを特徴とする高精細ディスプレイの製造方法である。   The invention according to claim 1 is a method for manufacturing a high-definition display having a step of printing a high-definition pattern of 100 to 210 ppi on a printing material using an electronic material ink by a letterpress printing method. A high-definition display manufacturing method characterized in that the number of lines of anilox roll used for printing is 150 to 600 lines / inch.

請求項2に記載の発明は、前記電子材料インキの粘度が10〜50mPa・sである場合、アニロックスロールの線数を、300〜600線/インチに設定することを特徴とする請求項1に記載の高精細ディスプレイの請求項1に製造方法である。   The invention according to claim 2 is characterized in that when the viscosity of the electronic material ink is 10 to 50 mPa · s, the number of lines of the anilox roll is set to 300 to 600 lines / inch. The manufacturing method according to claim 1 of the high-definition display.

請求項3に記載の発明は、前記電子材料インキの粘度が50〜150mPa・sである場合、アニロックスロールの線数を、150〜400線/インチに設定することを特徴とする請求項1に記載の高精細ディスプレイの製造方法である。   The invention according to claim 3 is characterized in that when the viscosity of the electronic material ink is 50 to 150 mPa · s, the number of lines of the anilox roll is set to 150 to 400 lines / inch. It is a manufacturing method of the high-definition display as described.

本発明の製造方法によれば、アニロックスロールの線数を適切に設定しているため、印刷用凸版の凸状部の頂部面以外の非画線部である低位部及び凹部にインキが流入しない。したがって、パターン形状の崩壊、インキの転移量の減少または増大による膜厚変動等の諸問題が発生せず、高精細パターンを有するディスプレイを、正確なサイズのパターン形状でもって再現性良く形成することができる。   According to the production method of the present invention, since the number of lines of the anilox roll is appropriately set, ink does not flow into the low-order part and the concave part which are non-image parts other than the top face of the convex part of the printing relief printing plate. . Therefore, it is possible to form a display having a high-definition pattern with an accurate sized pattern shape with good reproducibility without causing problems such as collapse of the pattern shape and film thickness fluctuation due to decrease or increase in the amount of transferred ink. Can do.

以下、本発明の実施の形態を図面に基づいて説明する。なお、本発明はこれに限るものではない。   Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings. The present invention is not limited to this.

図1は、本発明の一実施の形態における有機EL素子作製のための印刷用凸版の側断面図であり、10aは凸版のベース基材層であり、10bはベース基材層10a上の凸状部形成材層(以下単に凸状部ということがある)である。   FIG. 1 is a side sectional view of a relief printing plate for producing an organic EL device according to an embodiment of the present invention, 10a is a relief base substrate layer, and 10b is a relief on the base substrate layer 10a. It is a shape part formation material layer (it may only be called a convex part hereafter).

凸状部形成材層としては、ニトリルゴム、シリコーンゴム、イソプレンゴム、スチレンブタジエンゴム、ブタジエンゴム、クロロプレンゴム、ブチルゴム、アクリロニトリルゴム、エチレンプロピレンゴム、ウレタンゴムなどのゴムの他に、ポリエチレン、ポリスチレン、ポリブタジエン、ポリ塩化ビニル、ポリ塩化ビニリデン、ポリ酢酸ビニル、ポリアミド、ポリエーテルスルホン、ポリエチレンテレフタレート、ポリエチレンナフタレート、ポリエーテルスルホン、ポリビニルアルコールなどの合成樹脂やそれらの共重合体、セルロースなどの天然高分子を用いることができる。   In addition to rubbers such as nitrile rubber, silicone rubber, isoprene rubber, styrene butadiene rubber, butadiene rubber, chloroprene rubber, butyl rubber, acrylonitrile rubber, ethylene propylene rubber, and urethane rubber, the convex portion forming material layer includes polyethylene, polystyrene, Synthetic resins such as polybutadiene, polyvinyl chloride, polyvinylidene chloride, polyvinyl acetate, polyamide, polyether sulfone, polyethylene terephthalate, polyethylene naphthalate, polyether sulfone, and polyvinyl alcohol, copolymers thereof, and natural polymers such as cellulose Can be used.

なかでも、水溶性ポリマーを主成分として含む材料は、電子材料インキの成分である有機発光材料の溶液や分散液を構成している有機溶剤への耐性も高いため、これを用いることも望ましい。   In particular, a material containing a water-soluble polymer as a main component has high resistance to an organic solvent that constitutes a solution or dispersion of an organic light-emitting material that is a component of electronic material ink.

ここで、例えば、電子材料の一つである有機発光材料の電子材料インキとしては、沸点が低いほど、乾燥工程が容易になるという利点があるものの、印刷プロセスの時間を考慮すると、あまりに沸点の低い溶剤を用いると、凸状部でインキが乾燥してしまう。そのため、インキには沸点130℃以上の溶剤を適度に混合し、インキの乾燥を防ぐことが好ましい。   Here, for example, as an electronic material ink of an organic light emitting material, which is one of electronic materials, there is an advantage that the lower the boiling point, the easier the drying process becomes. However, considering the printing process time, the boiling point is too low. When a low solvent is used, the ink is dried at the convex portions. Therefore, it is preferable to appropriately mix a solvent having a boiling point of 130 ° C. or higher with the ink to prevent the ink from drying.

沸点130℃以上の溶剤としては、例えば、2,3-ジメチルアニソール、2,5-ジメチルアニソール、2,6-ジメチルアニソール、トリメチルアニソール、テトラリン、安息香酸メチル、安息香酸エチル、シクロヘキシルベンゼン、n-アミルベンゼン、tert-アミルベンゼン、ジフェニルエーテル、ジメチルスルホキシドの中から1種、又は複数種を選択することができる。   Examples of the solvent having a boiling point of 130 ° C. or higher include 2,3-dimethylanisole, 2,5-dimethylanisole, 2,6-dimethylanisole, trimethylanisole, tetralin, methyl benzoate, ethyl benzoate, cyclohexylbenzene, n- One or more kinds can be selected from amylbenzene, tert-amylbenzene, diphenyl ether, and dimethyl sulfoxide.

有機発光材料としては、ポリスチレン、ポリメチルメタクリレート、ポリビニルカルバゾールなどの高分子中に低分子の蛍光色素を溶解させたものや、ポリフェニレンビニレン誘導体(PPV)、ポリアルキルフルオレン誘導体(PAF)等の高分子発光体が用いられる。これらの高分子有機発光材料(高分子EL素子用発光材料)は、溶剤に溶解又は安定して分散でき、インキ化することによって塗布法や印刷法により製膜することができるため、低分子発光材料を用いた有機EL素子の製造と比較して、大気圧下での製膜が可能であり、設備コストが安いという利点がある。   Organic light-emitting materials include polymers in which low-molecular fluorescent dyes are dissolved in polymers such as polystyrene, polymethyl methacrylate, and polyvinyl carbazole, and polymers such as polyphenylene vinylene derivatives (PPV) and polyalkylfluorene derivatives (PAF). A light emitter is used. These high-molecular organic light-emitting materials (light-emitting materials for polymer EL devices) can be dissolved or stably dispersed in a solvent, and can be formed into a film by a coating method or a printing method when converted into an ink. Compared to the production of an organic EL element using a material, there is an advantage that film formation under atmospheric pressure is possible and the equipment cost is low.

凸版Sとしては、先に記述した、材質を用いることが出来るが、市販のフレキソ版や樹脂凸版を用いることが出来る。   As the relief plate S, the materials described above can be used, but a commercially available flexographic plate or resin relief plate can be used.

本発明の印刷用凸版は、凸版印刷法(印刷用凸版を用いて印刷する方法)による印刷機に装着して印刷することができ、例えば、円圧式の凸版印刷機、又は円圧式の凸版オフセット印刷機などに装着して印刷することができる。   The printing relief plate of the present invention can be printed by being mounted on a printing press using a relief printing method (a method of printing using a printing relief plate), for example, a circular pressure relief printing press or a circular pressure relief printing offset. It can be mounted on a printing machine and printed.

本発明の製造方法は、上記凸版印刷法および電子材料インキを用い、被印刷体上に100〜210ppiの高精細パターンの印刷を行う工程を有する。ここで、凸版印刷に用いるアニロックスロールの線数は、150〜600線/インチにすることが必要である。この範囲を外れると、パターン形状の崩壊、インキの転移量の減少または増大による膜厚変動等の諸問題が発生する。
また、電子材料インキの粘度が10〜50mPa・sである場合、アニロックスロールの線数を、300〜600線/インチに設定することが好ましい。さらに好ましくは300〜400線/インチである。一方、電子材料インキの粘度が50〜150mPa・sである場合、アニロックスロールの線数を、150〜400線/インチに設定することが好ましい。さらに好ましくは250〜400線/インチである。なお本発明において、インキの粘度は、25℃で測定された値であり、粘度の測定機器は、レオメータを使用した。
The production method of the present invention includes a step of printing a high-definition pattern of 100 to 210 ppi on a printing medium using the above relief printing method and electronic material ink. Here, the number of anilox rolls used for letterpress printing needs to be 150 to 600 lines / inch. Outside this range, various problems such as collapse of the pattern shape and film thickness variation due to decrease or increase in the amount of ink transfer occur.
Moreover, when the viscosity of electronic material ink is 10-50 mPa * s, it is preferable to set the number of lines of an anilox roll to 300-600 line / inch. More preferably, it is 300 to 400 lines / inch. On the other hand, when the viscosity of the electronic material ink is 50 to 150 mPa · s, it is preferable to set the number of lines of the anilox roll to 150 to 400 lines / inch. More preferably, it is 250 to 400 lines / inch. In the present invention, the viscosity of the ink is a value measured at 25 ° C., and a rheometer is used as the viscosity measuring instrument.

以下に、本発明を実施例および比較例によりさらに説明するが、本発明は下記例に制限されるものではない。   EXAMPLES The present invention will be further described below with reference to examples and comparative examples, but the present invention is not limited to the following examples.

<実施例1>180ppiパターンの印刷
(有機発光層形成用電子材料インキの調製)
高分子蛍光体を溶剤にその濃度が2.0重量%となるように溶解させ、有機発光層形成用電子材料インキ液4aを調製した。インキの粘度は38.3mPa・sであった。ここで高分子蛍光体とは、ポリ(パラフェニレンビニレン)誘導体からなる発光材料を示す。インキ溶剤組成は、キシレン(沸点139℃)を88重量%、テトラリン(沸点202℃)を10重量%とした。
<Example 1> Printing of 180 ppi pattern (Preparation of electronic material ink for forming organic light emitting layer)
The polymeric fluorescent substance was dissolved in a solvent so as to have a concentration of 2.0% by weight to prepare an electronic material ink liquid 4a for forming an organic light emitting layer. The viscosity of the ink was 38.3 mPa · s. Here, the polymeric fluorescent substance refers to a light emitting material made of a poly (paraphenylene vinylene) derivative. The ink solvent composition was 88% by weight of xylene (boiling point 139 ° C.) and 10% by weight of tetralin (boiling point 202 ° C.).

(被印刷体の作製)
150mm角、厚さ0.4mmのガラス基板上に、表面抵抗率15ΩのITO膜を回路パターン状に成膜した透明電極作製用基材(ジオマテック(株)製)の前記ITO膜面に、スピンコーターを用いて正孔輸送層として、ポリ(3,4)エチレンジオキシチオフェン/ポリスチレンスルホン酸(PEDOT/PSS)を100nm膜厚で成膜した。さらに、この成膜されたPEDOT/PSS薄膜を、減圧下180℃にて、1時間乾燥することにより、被印刷体7(印刷基板)を作製した。
(Preparation of printed material)
Spin on the ITO film surface of a substrate for transparent electrode production (manufactured by Geomatic Co., Ltd.) in which an ITO film with a surface resistivity of 15Ω is formed in a circuit pattern on a 150 mm square, 0.4 mm thick glass substrate. Using a coater, poly (3,4) ethylenedioxythiophene / polystyrene sulfonic acid (PEDOT / PSS) was deposited to a thickness of 100 nm as a hole transport layer. Further, the PEDOT / PSS thin film thus formed was dried at 180 ° C. under reduced pressure for 1 hour, thereby producing a substrate 7 (printing substrate).

(印刷用凸版の作製)
ベース基材層10aとして、厚さ0.3mmのポリエチレンテレフタレート(PET)基材上に、凸状部10bとして感光性水溶性ポリマー(水溶性樹脂)を150℃で過熱溶融したものを、スピンコート法により0.1μmの厚さで形成して、凸状部10bの形成層を積層形成した。
(Preparation of printing letterpress)
The base substrate layer 10a is obtained by spin-coating a polyethylene terephthalate (PET) substrate having a thickness of 0.3 mm and a photosensitive water-soluble polymer (water-soluble resin) heated at 150 ° C. as a convex portion 10b. A layer having a thickness of 0.1 μm was formed by the method, and the formation layer of the convex portion 10b was laminated.

(印刷用凸版のパターン形成)
上記の版を、フォトリソ法により、凸状部と凹部を、L/S=20/121μmで形成した。(180ppi相当)
(Forming letterpress patterns for printing)
The plate was formed with convex portions and concave portions by L / S = 20/121 μm by photolithography. (Equivalent to 180 ppi)

(印刷用凸版Sによる発光層形成用塗工インキ液の印刷)
まず、図1に示すような印刷用凸版を、凸版印刷法による円圧式凸版印刷機(図2参照)の版胴6の周面に装着固定し、被印刷体7(印刷基板)を、被印刷体固定定盤8上に載置固定した。
(Printing of light-emitting layer forming coating ink liquid by printing letterpress S)
First, a printing relief plate as shown in FIG. 1 is mounted and fixed on the peripheral surface of the plate cylinder 6 of a pressure relief printing machine (see FIG. 2) by the relief printing method, and the substrate 7 (printing substrate) is attached to the substrate. It was placed and fixed on the printing plate fixing surface plate 8.

そして、線数500線/インチのアニロックスロール5及び版胴6を回転させて、発光層形成用電子材料インキ4aを、アニロックスロール5(インキ供給ローラー)の周面に均一膜にて供給し、該アニロックスロール5を介して、印刷用凸版の凸状部の頂部面にインキ液4aを供給した。その後、被印刷体7(印刷基板)のITO膜パターン形成面側に該ITO膜パターンに整合させて、前記頂部面によるパターン状の電子材料インキ4aの印刷を行った。   Then, the anilox roll 5 having a number of lines of 500 lines / inch and the plate cylinder 6 are rotated, and the electronic material ink 4a for forming the light emitting layer is supplied to the peripheral surface of the anilox roll 5 (ink supply roller) as a uniform film, The ink liquid 4a was supplied to the top surface of the convex portion of the relief printing plate through the anilox roll 5. Thereafter, the printed electronic material ink 4a was printed on the top surface in alignment with the ITO film pattern on the printed film 7 (printing substrate) side of the ITO film pattern.

印刷した後の被印刷体7(印刷基板)を、150℃、5時間の環境下での乾燥に施し、電子材料インキ4aを乾燥させた後、該インキ液4aによる発光層上に、カルシウム7nm、アルミニウム80nmを積層形成して、陰極を有する有機EL素子とした。   The printed material 7 (printed substrate) after printing is dried in an environment of 150 ° C. for 5 hours to dry the electronic material ink 4a, and then the calcium 7 nm is formed on the light emitting layer by the ink liquid 4a. Then, 80 nm of aluminum was laminated to form an organic EL element having a cathode.

<比較例1>
実施例1において、線数120線/インチのアニロックスロールを用いたこと以外は、実施例1と同様な実験を行った。
<Comparative Example 1>
In Example 1, an experiment similar to that in Example 1 was performed, except that an anilox roll having a line number of 120 lines / inch was used.

<比較結果>
上記実施例1により作製した有機EL素子は、ITO膜を介して電圧をかけ、発光状態の確認を行ったところ、発光層の膜厚が均一であり、発光ムラは見られなかったが、比較例1により作製した有機EL素子は、ITO膜を介して電圧をかけ、発光状態の確認を行ったところ、発光層の膜厚が不均一なことによる発光ムラが見られた。版にインキが載りすぎたことに起因し、隣接する画素へインキが進入し膜厚の分布が悪くなったためである。正常な印刷(実施例1)では、膜厚80nmであったが、比較例2の膜厚の平均値は130nmであり、かつ不均一であった。
<Comparison result>
When the organic EL device produced in Example 1 was applied with a voltage through the ITO film and the light emission state was confirmed, the film thickness of the light emitting layer was uniform and no light emission unevenness was observed. When the organic EL element produced by Example 1 applied a voltage through the ITO film | membrane and confirmed the light emission state, the light emission nonuniformity by the nonuniform thickness of the light emitting layer was seen. This is because the ink has entered the adjacent pixels and the film thickness distribution has deteriorated due to excessive ink on the plate. In normal printing (Example 1), the film thickness was 80 nm, but the average value of the film thickness in Comparative Example 2 was 130 nm and was not uniform.

<実施例2>180ppiパターンの印刷
実施例1における高分子蛍光体の種類を変え、87mPa・sの粘度のインキとした。
また、実施例1におけるアニロックスロールの線数を150線/インチとした。それ以外は、実施例1と同様に行った。
<Example 2> Printing of 180 ppi pattern The type of polymeric fluorescent substance in Example 1 was changed to obtain an ink having a viscosity of 87 mPa · s.
The number of anilox rolls in Example 1 was 150 lines / inch. Otherwise, the same procedure as in Example 1 was performed.

<比較例2>
実施例2において、アニロックスロールの線数を800線/インチとした。それ以外は、実施例2と同様に行った。
<Comparative example 2>
In Example 2, the number of anilox rolls was 800 lines / inch. Otherwise, the same procedure as in Example 2 was performed.

<比較結果>
上記実施例2により作製した有機EL素子は、ITO膜を介して電圧をかけ、発光状態の確認を行ったところ、発光層の膜厚が均一であり、発光ムラは見られなかったが、比較例2により作製した有機EL素子は、ITO膜を介して電圧をかけ、発光状態の確認を行ったところ、発光層の膜厚が不均一なことによる発光ムラおよびショートが見られた。版へのインキの転移が不十分であるために膜厚が極端に薄くなってしまったことに起因する。正常な印刷(実施例2)では、膜厚80nmであったが、比較例2の膜厚は20nmであり、かつ不均一であった。
<Comparison result>
When the organic EL device produced in Example 2 was applied with a voltage through the ITO film and the light emission state was confirmed, the film thickness of the light emitting layer was uniform and no light emission unevenness was observed. When the organic EL device produced in Example 2 was applied with a voltage through the ITO film and the light emitting state was confirmed, light emission unevenness and short-circuit due to the non-uniform thickness of the light emitting layer were observed. This is because the film thickness has become extremely thin due to insufficient transfer of ink to the plate. In normal printing (Example 2), the film thickness was 80 nm, but the film thickness of Comparative Example 2 was 20 nm and was not uniform.

本発明の製造方法によれば、パターン形状の崩壊、インキの転移量の減少または増大による膜厚変動等の諸問題が発生せず、高精細パターンを有するディスプレイを、正確なサイズのパターン形状でもって再現性良く形成することができる。   According to the manufacturing method of the present invention, a display having a high-definition pattern can be formed with an accurate size pattern shape without causing problems such as collapse of the pattern shape, film thickness fluctuation due to decrease or increase in the amount of ink transfer. Thus, it can be formed with good reproducibility.

本発明の印刷用凸版の概要側断面図である。It is a general | schematic side sectional view of the relief printing plate of this invention. 凸版印刷法における印刷機の模式図である。It is a schematic diagram of the printing machine in a relief printing method.

符号の説明Explanation of symbols

4a インキ
5 アニロックスロール
6 版胴
7 被印刷体
10a ベース基材層
10b 凸状部形成材層
S 印刷用凸版
4a Ink 5 Anilox roll 6 Plate cylinder 7 Printed body 10a Base substrate layer 10b Convex part forming material layer S Letterpress for printing

Claims (3)

凸版印刷法により、電子材料インキを用い、被印刷体上に100〜210ppiの高精細パターンの印刷を行う工程を有する高精細ディスプレイの製造方法であって、凸版印刷に用いるアニロックスロールの線数を、150〜600線/インチにすることを特徴とする高精細ディスプレイの製造方法。   A method of manufacturing a high-definition display having a step of printing a high-definition pattern of 100 to 210 ppi on a substrate using electronic material ink by a letterpress printing method, wherein the number of anilox rolls used for letterpress printing is determined. 150 to 600 lines / inch, a method for manufacturing a high-definition display. 前記電子材料インキの粘度が10〜50mPa・sである場合、アニロックスロールの線数を、300〜600線/インチに設定することを特徴とする請求項1に記載の高精細ディスプレイの請求項1に製造方法。   2. The high-definition display according to claim 1, wherein when the viscosity of the electronic material ink is 10 to 50 mPa · s, the number of lines of the anilox roll is set to 300 to 600 lines / inch. Manufacturing method. 前記電子材料インキの粘度が50〜150mPa・sである場合、アニロックスロールの線数を、150〜400線/インチに設定することを特徴とする請求項1に記載の高精細ディスプレイの製造方法。   2. The method of manufacturing a high-definition display according to claim 1, wherein when the viscosity of the electronic material ink is 50 to 150 mPa · s, the number of lines of the anilox roll is set to 150 to 400 lines / inch.
JP2006321662A 2006-11-29 2006-11-29 Manufacturing method of high definition display Pending JP2008135326A (en)

Priority Applications (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006321662A JP2008135326A (en) 2006-11-29 2006-11-29 Manufacturing method of high definition display

Applications Claiming Priority (1)

Application Number Priority Date Filing Date Title
JP2006321662A JP2008135326A (en) 2006-11-29 2006-11-29 Manufacturing method of high definition display

Publications (1)

Publication Number Publication Date
JP2008135326A true JP2008135326A (en) 2008-06-12

Family

ID=39560028

Family Applications (1)

Application Number Title Priority Date Filing Date
JP2006321662A Pending JP2008135326A (en) 2006-11-29 2006-11-29 Manufacturing method of high definition display

Country Status (1)

Country Link
JP (1) JP2008135326A (en)

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010046980A (en) * 2008-08-25 2010-03-04 Toppan Printing Co Ltd Printing apparatus and method of manufacturing printed matter
JP2011073269A (en) * 2009-09-30 2011-04-14 Toppan Printing Co Ltd Letterpress printing machine

Cited By (2)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
JP2010046980A (en) * 2008-08-25 2010-03-04 Toppan Printing Co Ltd Printing apparatus and method of manufacturing printed matter
JP2011073269A (en) * 2009-09-30 2011-04-14 Toppan Printing Co Ltd Letterpress printing machine

Similar Documents

Publication Publication Date Title
JP2007095343A (en) Method of manufacturing printed material, and printed material
JP2006332406A (en) Organic el element and ink therefor
JP4706845B2 (en) Manufacturing method of organic EL element
JP5315586B2 (en) Manufacturing method of electronic device using relief printing plate for high definition and organic EL element
JP2006252787A (en) Manufacturing method of organic el element and organic el element
JP2008135326A (en) Manufacturing method of high definition display
JP5418115B2 (en) Letterpress printing machine
JP5604935B2 (en) Letterpress printing apparatus and organic EL panel manufacturing method
JP4961694B2 (en) Manufacturing method of organic EL element
JP2010257668A (en) Organic el display and method of manufacturing the same
JP4645311B2 (en) Organic EL element manufacturing method and organic EL element manufacturing apparatus
JP2009059496A (en) Organic el printer
JP4935525B2 (en) Method for manufacturing organic electroluminescence device
JP2007090596A (en) Relief printing plate and matter manufactured by precision printing employing the same
JP2007299567A (en) Letterpress for printing, and manufacturing method of letterpress for printing and precision printing manufactured object
JP2008159561A (en) Method of manufacturing organic functional element
JP2011194808A (en) Method for manufacturing precision printing product, precision printing product and letterpress printing device
JP5899752B2 (en) Letterpress printing apparatus and organic EL panel manufacturing method
JP2007299568A (en) Manufacturing method of letterpress for printing and precision printing manufactured object
JP6035807B2 (en) Topographic printing device
JP6295509B2 (en) Topographic printing device
JP5391559B2 (en) Printing machine and method for producing printed matter using the same
JP2009208329A (en) Manufacturing method for organic functional thin film
JP2007207584A (en) Manufacturing method of organic light emitting element
JP2007220426A (en) Organic electroluminescence element and method for fabrication thereof