JP2003300145A - Grinding device - Google Patents

Grinding device

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JP2003300145A
JP2003300145A JP2002106707A JP2002106707A JP2003300145A JP 2003300145 A JP2003300145 A JP 2003300145A JP 2002106707 A JP2002106707 A JP 2002106707A JP 2002106707 A JP2002106707 A JP 2002106707A JP 2003300145 A JP2003300145 A JP 2003300145A
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JP
Japan
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polishing
roller
support shaft
pressure adjusting
tape
Prior art date
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Pending
Application number
JP2002106707A
Other languages
Japanese (ja)
Inventor
Kaname Morikawa
要 森川
Hiroshi Nakada
弘 中田
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I M T KK
Original Assignee
I M T KK
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Filing date
Publication date
Application filed by I M T KK filed Critical I M T KK
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Pending legal-status Critical Current

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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a grinding device capable of carrying out finer grinding machining, and improving smoothness. <P>SOLUTION: The grinding device grinds material to be ground by contacting an abrasive tape attached to a pressing portion 8 of an grinding head body 3 with the material to be ground installed on a grinding stand. In the grinding device, the pressing portion 8 is composed of a rotatable roller portion 81 around which the abrasive tape is slidably put, and a supporting shaft 82 supporting the roller portion 81 slidably in an axial direction. A vibrating mechanism 9 causing slight vibrations by axially reciprocating the roller portion 81 to the supporting shaft 82 is provided. <P>COPYRIGHT: (C)2004,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は、研磨台に設置した
被研磨材を、研磨ヘッド本体の押圧部に装着した研磨テ
ープにより研磨する研磨装置に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a polishing apparatus for polishing a material to be polished installed on a polishing table with a polishing tape mounted on a pressing portion of a polishing head body.

【0002】[0002]

【従来の技術】従来から、液晶ディスプレイやプリント
基板、シリコンウエハー等の板状部材の表面を研磨する
装置として図7および図8に示す研磨装置Aがある。
2. Description of the Related Art Conventionally, there is a polishing apparatus A shown in FIGS. 7 and 8 as an apparatus for polishing the surface of a plate-shaped member such as a liquid crystal display, a printed circuit board and a silicon wafer.

【0003】この研磨装置Aは、特開平11−1985
9号公報にも記載されているように、研磨テープBが装
着される研磨ヘッド本体Cと、研磨ヘッド本体Cを支持
する支持部材Dと、研磨ヘッド本体Cの下方に設置され
被研磨材が装着される研磨台(図示せず)とを備えてい
る。
This polishing apparatus A is disclosed in Japanese Patent Laid-Open No. 11-1985.
As described in Japanese Patent Publication No. 9, a polishing head body C on which a polishing tape B is mounted, a support member D that supports the polishing head body C, and a material to be polished installed below the polishing head body C are And a polishing table (not shown) to be mounted.

【0004】研磨ヘッド本体Cは、研磨台の被研磨材設
置面と直交する方向に延びる軸線を中心に回転可能にな
っている。さらに、研磨ヘッド本体Cの内部に、研磨テ
ープBが巻かれたテープリールが取り付けられる供給ロ
ーラーFと、供給ローラーFから引き出された研磨テー
プBを巻き取るための巻取りリールが取付られる巻取り
ローラーGとが設けられていて、研磨テープBを走行さ
せながら被研磨材を研磨するようにもなっている。
The polishing head body C is rotatable about an axis extending in a direction orthogonal to the surface of the polishing table on which the material to be polished is placed. Further, inside the polishing head main body C, a supply roller F to which a tape reel around which the polishing tape B is wound is attached, and a take-up reel to wind up the polishing tape B pulled out from the supply roller F are attached. A roller G is provided to polish the material to be polished while the polishing tape B is running.

【0005】具体的には、研磨ヘッド本体C内に設ける
研磨テープ搬送用モータHにより巻取りローラーGを回
転駆動させることにより、研磨テープBをテープリール
から引き出して複数の走行ローラーEで案内させなが
ら、研磨ヘッド本体Cの下端に設けられ、押圧部となる
押え付けローラーE1を通過させた後、巻取りリールに
巻き取るようになっている。
Specifically, by rotating the take-up roller G by a polishing tape transport motor H provided in the polishing head body C, the polishing tape B is pulled out from the tape reel and guided by a plurality of running rollers E. However, after passing through a pressing roller E1 which is provided at the lower end of the polishing head main body C and serves as a pressing portion, it is wound around a winding reel.

【0006】さらに、図7および図8に示す研磨装置A
は、研磨ヘッド本体Cの押え付けローラーE1を、押え
付けローラーE1の軸線が研磨ヘッド本体Cの回転中心
と直交するように研磨ヘッド本体Cに取り付けておい
て、研磨ヘッド本体Cを、押え付けローラーE1のロー
ラー面が研磨台の設置面と平行するように支持部材Dに
回転可能に支持させている。
Further, the polishing apparatus A shown in FIGS. 7 and 8
Attach the pressing roller E1 of the polishing head body C to the polishing head body C such that the axis of the pressing roller E1 is orthogonal to the rotation center of the polishing head body C, and then press the polishing head body C The support member D is rotatably supported so that the roller surface of the roller E1 is parallel to the installation surface of the polishing table.

【0007】そして、図7及び図8に示す研磨装置Aに
よれば、研磨テープBを押え付けローラーE1により研
磨台上に設置される被研磨材に接触させた状態で、研磨
テープBを走行させながら、支持部材Dに設ける研磨ヘ
ッド本体回転用モータJの回転駆動により、研磨ヘッド
本体Cを回転させて、被研磨材の表面を自動的に研磨す
るようになっている。
According to the polishing apparatus A shown in FIGS. 7 and 8, the polishing tape B is run while the polishing tape B is brought into contact with the material to be polished placed on the polishing table by the pressing roller E1. While rotating, the polishing head body rotation motor J provided on the support member D is rotated to rotate the polishing head body C to automatically polish the surface of the material to be polished.

【0008】[0008]

【発明が解決しようとする課題】ところで、図7及び図
8に示す研磨装置Aは、研磨ヘッド本体Cを研磨台上の
被研磨材に対して回転させながら研磨テープBで被研磨
材を研磨するようにしているため、被研磨材の研磨は、
研磨テープBのテープ面を研磨ヘッド本体Cの回転軸心
を中心として回転動作させるだけの研磨となる。
By the way, in the polishing apparatus A shown in FIGS. 7 and 8, the polishing head body C is rotated with respect to the material to be polished on the polishing table, and the material to be polished is polished with the polishing tape B. Therefore, the polishing of the material to be polished is
The polishing is simply performed by rotating the tape surface of the polishing tape B about the rotation axis of the polishing head body C.

【0009】その結果、研磨テープBの周方向の滑りに
よる研磨しか行えないため、高速回転による研磨といえ
ども細やかな研磨加工が行えないという不具合がある。
即ち、研磨テープBの研磨面は、回転軸心から離れるほ
ど周方向の速度が速くなることから、研磨量が研磨テー
プBの幅方向中心と端部で異なり、特に研磨テープBの
幅方向端部においては、微細な研磨加工が行い難い。
As a result, since the polishing tape B can only be polished by sliding in the circumferential direction, there is a problem that fine polishing cannot be performed even when polishing is performed at high speed.
That is, since the polishing surface of the polishing tape B becomes faster in the circumferential direction with increasing distance from the rotation axis, the polishing amount differs between the center and the end of the polishing tape B in the width direction. In the part, it is difficult to perform fine polishing.

【0010】以上の問題に鑑み、本発明は、より細やか
な研磨加工が行えて、平滑性を向上できる研磨加工を可
能とする研磨装置を提供することを目的とする。
In view of the above problems, it is an object of the present invention to provide a polishing apparatus capable of performing finer polishing processing and improving the smoothness.

【0011】[0011]

【課題を解決するための手段】本発明の請求項1に記載
の発明は、研磨ヘッド本体の押圧部に装着した研磨テー
プを研磨台に設置した被研磨材に接触させて被研磨材を
研磨するようにした研磨装置において、押圧部は、微振
動を起こす振動機構を備えている構成とした。
According to a first aspect of the present invention, a polishing tape mounted on a pressing portion of a polishing head body is brought into contact with a material to be polished provided on a polishing table to polish the material to be polished. In the polishing apparatus configured as described above, the pressing unit is configured to include a vibration mechanism that causes a slight vibration.

【0012】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の研磨装置において、押圧部が、研磨テープが摺動可能
に掛け渡される回転可能なローラー部と、ローラー部を
軸方向にスライド可能に支持する支持軸から構成され、
振動機構は、当該ローラー部を支持軸に対して軸方向に
往復動作させることにより微振動を起こす構成とした。
According to a second aspect of the present invention, in the polishing apparatus according to the first aspect, the pressing portion is a rotatable roller portion around which the polishing tape is slidably slid, and the roller portion is slid in the axial direction. It is composed of a support shaft that supports possible
The vibrating mechanism is configured to cause a slight vibration by reciprocating the roller portion in the axial direction with respect to the support shaft.

【0013】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の研磨装置において、振動機構は、ローラー部の内面と
支持軸の外面との間に形成される気密状の圧力調整室
と、圧力調整室に開口される2つのポートと、圧力調整
室内に位置するように支持軸の外面に固定されて、支持
軸に対するローラー部のスライド動作により2つのポー
トのどちらか一方を閉鎖可能とする圧力調整弁と、2つ
のポートのどちらか一方から圧力調整室内に流体を送り
込み他方のポートから流体を引き出す動作を交互に行う
流体導入手段とを備え、流体導入手段により一方のポー
トから圧力調整室に流体が導入されることにより導入さ
れた流体で圧力調整弁が他方のポートを閉じる方向にロ
ーラー部がスライドし、ポートの切換えでローラー部が
反対方向にスライドするように構成した。
According to a third aspect of the present invention, in the polishing apparatus according to the second aspect, the vibration mechanism includes an airtight pressure adjusting chamber formed between the inner surface of the roller portion and the outer surface of the support shaft. Two ports opened to the pressure adjusting chamber and fixed to the outer surface of the support shaft so as to be located in the pressure adjusting chamber, and either of the two ports can be closed by the sliding operation of the roller portion with respect to the support shaft. The pressure adjusting chamber is provided with a pressure adjusting valve and a fluid introducing means for alternately feeding the fluid into the pressure adjusting chamber from one of the two ports and drawing out the fluid from the other port. When the fluid is introduced to the pressure control valve, the roller slides in the direction in which the other port is closed by the fluid introduced, and the roller slides in the opposite direction when the port is switched. It was constructed to so that.

【0014】請求項4に記載の発明は、請求項2に記載
の研磨装置において、振動機構は、ローラー部の内面と
支持軸の外面との間に空間部を形成し、空間部内におい
て一端が支持軸の外面に固定され他端がローラー部内面
に固定される圧電素子を設けるともに、圧電素子に電圧
をかけるための電圧入力部を備え、電圧入力部による圧
電素子への電圧のオンオフで圧電素子を伸縮させること
によりローラー部を支持軸に対して軸方向に往復動作さ
せる構成とした。
According to a fourth aspect of the present invention, in the polishing apparatus according to the second aspect, the vibrating mechanism forms a space between the inner surface of the roller portion and the outer surface of the support shaft, and one end of the vibration portion is formed in the space portion. A piezoelectric element is provided, which is fixed to the outer surface of the support shaft and the other end is fixed to the inner surface of the roller section.It also has a voltage input section for applying voltage to the piezoelectric element, and the voltage input section turns the voltage on and off The roller portion is configured to reciprocate in the axial direction with respect to the support shaft by expanding and contracting the element.

【0015】[0015]

【発明の実施の形態】本発明にかかる研磨装置の全体構
成図を図1および図2に示す。本実施形態の研磨装置
は、シリコンウエハーやプリント基板の表面を研磨する
装置である。
DETAILED DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS An overall configuration diagram of a polishing apparatus according to the present invention is shown in FIGS. The polishing apparatus of this embodiment is an apparatus for polishing the surface of a silicon wafer or a printed circuit board.

【0016】研磨装置は、箱状の下部フレーム部11
と、下部フレーム部11の上部四隅に取り付けられる4
本の支柱フレーム部12と、4本の支柱フレーム部12
の上部位置で支持される上部フレーム部13とを備える
支持部材1を備えている。
The polishing device comprises a box-shaped lower frame portion 11
And 4 attached to the upper four corners of the lower frame part 11.
Four support frame parts 12 and four support frame parts 12
And a support member 1 having an upper frame portion 13 supported at an upper position of.

【0017】支持部材1の下部フレーム部11上には、
被研磨材が設置される研磨台2が設けられており、この
研磨台2は、図2に示すように、多数の小さな穴が形成
されたゴム製のエンドレスベルト22と、このエンドレ
スベルト22が掛け渡されてエンドレスベルト22を走
行させるための複数の駆動ローラー23とから構成され
る被研磨材搬送機構21を備えている。駆動ローラー2
3は図示していないがモータにより回転駆動するように
なっている。
On the lower frame portion 11 of the support member 1,
As shown in FIG. 2, this polishing table 2 is provided with a rubber-made endless belt 22 having a large number of small holes, and the endless belt 22. The polishing target material conveying mechanism 21 is composed of a plurality of drive rollers 23 that are stretched around to drive the endless belt 22. Drive roller 2
Although not shown, 3 is rotationally driven by a motor.

【0018】そして、被研磨材が設置される設置面24
がエンドレスベルト22上に設けられている。図2に示
すように、エンドレスベルト22に水平部分が形成され
るように駆動ローラー23でエンドレスベルト22を移
動可能に支持させ、上部側の水平走行部分を設置面24
としている。
An installation surface 24 on which the material to be polished is installed
Are provided on the endless belt 22. As shown in FIG. 2, the endless belt 22 is movably supported by the driving roller 23 so that a horizontal portion is formed on the endless belt 22, and the horizontal traveling portion on the upper side is installed on the installation surface 24.
I am trying.

【0019】そして、エンドレスベルト22における設
置面24の下面側には、エンドレスベルト22に形成し
た多数の貫通穴(図示せず)を介して被研磨材をエンド
レスベルト22に吸着させるための吸着手段25を設け
ている。吸着手段25は、真空装置により構成されてい
る。なお、被研磨材の固定は吸着手段25に限らず、留
め具により被研磨材を設置面24上に固定するようにし
ても良い。
On the lower surface side of the installation surface 24 of the endless belt 22, suction means for adsorbing the material to be polished onto the endless belt 22 through a large number of through holes (not shown) formed in the endless belt 22. 25 are provided. The suction means 25 is composed of a vacuum device. The material to be polished is not limited to being fixed by the suction means 25, but the material to be polished may be fixed on the installation surface 24 by a fastener.

【0020】以上の研磨台2は、エンドレスベルト22
における上方側水平走行部分の端部に被研磨材を載せる
と、駆動ローラー23による回転駆動でエンドレスベル
ト22が走行し、被研磨材が所定の研磨位置まで運ば
れ、吸着手段25により被研磨材がエンドレスベルト2
2の設置面24に吸着されて被研磨材の動きが阻止され
るようになっている。
The polishing table 2 described above is based on the endless belt 22.
When the material to be polished is placed on the end portion of the upper horizontal traveling portion in the above, the endless belt 22 is driven by the rotation of the driving roller 23, the material to be polished is conveyed to a predetermined polishing position, and the material to be polished is sucked by the suction means 25. Endless belt 2
The movement of the material to be polished is prevented by being attracted to the second mounting surface 24.

【0021】さらに、研磨台2の上方に設ける支持部材
1の上部フレーム部13には、研磨テープTが走行可能
に装着される研磨ヘッド本体3が取り付けられており、
研磨ヘッド本体3は、水平移動装置4および昇降装置5
を介して上部フレーム部13に取り付けられている。
Further, a polishing head body 3 on which a polishing tape T is movably mounted is attached to an upper frame portion 13 of a supporting member 1 provided above the polishing table 2.
The polishing head body 3 includes a horizontal moving device 4 and a lifting device 5.
It is attached to the upper frame portion 13 via.

【0022】上部フレーム部13に設ける水平移動装置
4は、研磨ヘッド本体3をX軸方向(図1に示すX方
向)に移動させるためのX軸方向移動機構41およびY
軸方向(図2に示すY方向)に移動させるためのY軸方
向移動機構42とを備えている。
The horizontal moving device 4 provided on the upper frame portion 13 has an X-axis direction moving mechanism 41 and Y for moving the polishing head body 3 in the X-axis direction (X direction shown in FIG. 1).
A Y-axis direction moving mechanism 42 for moving in the axial direction (Y direction shown in FIG. 2) is provided.

【0023】X軸方向移動機構41は、上部フレーム部
13に固定される2本のX軸方向移動用レール部材41
a,41aと、このX軸方向移動用レール部材41a,
41aに嵌め合わされるX軸方向移動用嵌合部材41
b,41bと、X軸方向移動用嵌合部材41b,41b
が下面に固定されるX軸方向移動用フレーム41cと、
X軸方向移動用フレーム41cをX軸方向移動用レール
部材41a,41aに沿って移動させるためのX軸方向
移動用モータ41dとから構成される。
The X-axis direction moving mechanism 41 is composed of two X-axis direction moving rail members 41 fixed to the upper frame portion 13.
a, 41a and the rail members 41a for moving in the X-axis direction,
X-axis direction moving fitting member 41 fitted to 41a
b, 41b and X-axis direction moving fitting members 41b, 41b
An X-axis direction moving frame 41c fixed to the lower surface,
It is composed of an X-axis direction moving motor 41d for moving the X-axis direction moving frame 41c along the X-axis direction moving rail members 41a, 41a.

【0024】Y軸方向移動機構42は、X軸方向移動用
フレーム41cの上面に固定される2本のY軸方向移動
用レール部材42a,42aと、このY軸方向移動用レ
ール部材42a,42aに嵌め合わされるY軸方向移動
用嵌合部材42b,42bと、Y軸方向移動用嵌合部材
42b,42bが下面に固定されるY軸方向移動用フレ
ーム42cと、Y軸方向移動用フレーム42cをY軸方
向移動用レール部材42a,42aに沿って移動させる
ためのY軸方向移動用モータ42dとから構成される。
The Y-axis direction moving mechanism 42 includes two Y-axis direction moving rail members 42a and 42a fixed to the upper surface of the X-axis direction moving frame 41c, and the Y-axis direction moving rail members 42a and 42a. Fitting members 42b, 42b for moving in the Y-axis direction, Y-direction moving frame 42c in which the fitting members 42b, 42b for moving the Y-axis direction are fixed to the lower surface, and frame 42c for moving the Y-axis direction. And a Y-axis direction moving motor 42d for moving the Y-axis direction moving rail members 42a and 42a.

【0025】さらに、水平移動装置4に昇降装置5が組
みつけられており、この昇降装置5により研磨ヘッド本
体3を上下方向へ移動させられるようになっている。な
お、昇降装置5は、研磨ヘッド本体3を研磨台2の設置
面24上に配置した被研磨材に接近させ、または遠ざけ
るために用いるものである。
Further, an elevating device 5 is attached to the horizontal moving device 4, and the elevating device 5 can move the polishing head main body 3 in the vertical direction. The elevating device 5 is used to move the polishing head body 3 closer to or away from the material to be polished arranged on the installation surface 24 of the polishing table 2.

【0026】昇降装置5は、上下移動用エアシリンダー
51と上下方向の移動量の微調整を行うためのコンタク
トシリンダー52とから構成されており、上下移動用エ
アシリンダー51とコンタクトシリンダー52とがY軸
方向移動用フレーム42cに固定され、上下移動用エア
シリンダー51とコンタクトシリンダー52の一部を研
磨ヘッド本体3が支持される箱状のヘッド本体取付け部
材14に固定させている。
The elevating device 5 is composed of an air cylinder 51 for vertical movement and a contact cylinder 52 for finely adjusting the amount of vertical movement, and the air cylinder 51 for vertical movement and the contact cylinder 52 are Y-shaped. The air cylinder 51 for vertical movement and part of the contact cylinder 52 are fixed to the frame 42c for axial movement, and are fixed to the box-shaped head body mounting member 14 on which the polishing head body 3 is supported.

【0027】以上のように、本体取付け部材14は、水
平移動装置4におけるY軸方向移動用フレーム42cに
昇降装置5である上下移動用エアシリンダー51とコン
タクトシリンダー52を介して支持されているので、本
体取付け部材14は、上下移動用エアシリンダー51と
コンタクトシリンダー52の駆動により上下方向に移動
できるようになっている。
As described above, the main body mounting member 14 is supported by the Y-axis direction moving frame 42c of the horizontal moving device 4 via the vertical moving air cylinder 51 and the contact cylinder 52 which are the lifting devices 5. The main body mounting member 14 can be moved in the vertical direction by driving the vertically moving air cylinder 51 and the contact cylinder 52.

【0028】そして、本体取付け部材14には、図1に
示すように、研磨ヘッド本体3と研磨ヘッド本体3を回
転させるためのヘッド本体駆動用モータ60とが支持さ
れており、研磨ヘッド本体3は上部フレーム部13に対
して研磨台2の設置面24と直交する線を軸線として回
転できるようにスピンドル機構6を介して本体取付部材
14に支持されている。
As shown in FIG. 1, the main body mounting member 14 supports the polishing head main body 3 and a head main body driving motor 60 for rotating the polishing head main body 3, and the polishing head main body 3 is supported. Is supported by the main body mounting member 14 via the spindle mechanism 6 so as to be rotatable with respect to the upper frame portion 13 about a line orthogonal to the installation surface 24 of the polishing table 2 as an axis.

【0029】研磨ヘッド本体3が取付けられるスピンド
ル機構6は、図1に示すようにフランジ63を有する筒
体61と、筒体61内部に筒体61に対して回転可能に
装着されるスピンドル62を備えている。
The spindle mechanism 6 to which the polishing head main body 3 is attached includes a cylindrical body 61 having a flange 63 as shown in FIG. 1 and a spindle 62 rotatably mounted in the cylindrical body 61. I have it.

【0030】さらに、スピンドル62の上部先端には、
図1に示すようにスピンドル側プーリー64が取り付け
られており、このスピンドル側プーリー64と、ヘッド
本体駆動用モータ60に設けるモータ側プーリー66と
をベルト65で掛けわたして連結している。
Further, at the top end of the spindle 62,
As shown in FIG. 1, a spindle-side pulley 64 is attached, and this spindle-side pulley 64 and a motor-side pulley 66 provided on the head body driving motor 60 are connected by a belt 65.

【0031】そして、ヘッド本体駆動用モータ60の回
転駆動によりスピンドル62が回転し、スピンドル62
に連結される研磨ヘッド本体3が回転するようになって
いる。
Then, the spindle 62 is rotated by the rotational driving of the head body driving motor 60, and the spindle 62 is rotated.
The polishing head body 3 connected to is rotated.

【0032】なお、研磨ヘッド本体3には、研磨テープ
Tを走行させるためのテープ走行用モータ31を配設し
ているため、このテープ走行用モータ31を駆動させる
ためのリード線を研磨ヘッド本体3内部に研磨ヘッド本
体3の回転に支障がないように配線している。
Since the polishing head main body 3 is provided with a tape running motor 31 for running the polishing tape T, a lead wire for driving the tape running motor 31 is attached to the polishing head main body. Wiring is provided inside 3 so as not to hinder the rotation of the polishing head body 3.

【0033】そして、スピンドル62の下端には、研磨
ヘッド本体3が固定されており、研磨ヘッド本体3内に
は、研磨テープTを走行させるテープ走行機構が設けら
れている。
The polishing head body 3 is fixed to the lower end of the spindle 62, and a tape running mechanism for running the polishing tape T is provided in the polishing head body 3.

【0034】以下、研磨ヘッド本体3の構成について図
3から図5に基づいて説明する。研磨ヘッド本体3は、
スピンドル62に固定される筒部32、筒部32の下端
部に連結されるケース本体部33とを備えている。
The structure of the polishing head body 3 will be described below with reference to FIGS. 3 to 5. The polishing head body 3 is
The cylinder 62 is fixed to the spindle 62, and the case body 33 is connected to the lower end of the cylinder 32.

【0035】なお、図1および図2に示すように、ケー
ス本体部33は、カバー34で覆うようになっている。
As shown in FIGS. 1 and 2, the case body 33 is covered with a cover 34.

【0036】ケース本体部33には、図3に示すよう
に、未使用の研磨テープが取り付けられるテープリール
71と、巻取りリール72とが回転可能に支持されてい
る。
As shown in FIG. 3, a tape reel 71 to which an unused polishing tape is attached and a take-up reel 72 are rotatably supported on the case body 33.

【0037】本実施形態では、テープリール71が装着
されるテープリール用回転軸71aの両端部分を、ケー
ス本体部33に回転可能に支持することにより、テープ
リール71がテープリール用回転軸71aを介してケー
ス本体部33に回転可能に支持される。なお、図示して
いないが、テープリール用回転軸71aには、テープリ
ール用回転軸71aの回転を制動させるためのフリクシ
ョン部を設けている。このフリクション部により、テー
プリール71から引き出される研磨テープTに常にテン
ションを与えるようにしている。
In this embodiment, both ends of the tape reel rotating shaft 71a to which the tape reel 71 is mounted are rotatably supported by the case body 33, so that the tape reel 71 can rotate the tape reel rotating shaft 71a. It is rotatably supported by the case main body 33 via the. Although not shown, the tape reel rotary shaft 71a is provided with a friction portion for braking the rotation of the tape reel rotary shaft 71a. By this friction portion, tension is always applied to the polishing tape T pulled out from the tape reel 71.

【0038】また、巻取りリール72が装着される巻取
りリール用回転軸72aの両端部分を、ケース本体部3
3に回転可能に支持することにより、巻取りリール72
が巻取りリール用回転軸72aを介してケース本体部3
3に回転可能に支持される。
The both ends of the take-up reel rotating shaft 72a, to which the take-up reel 72 is mounted, are attached to the case main body 3
By rotatably supporting the take-up reel 72
The case body 3 via the take-up reel rotary shaft 72a.
3 is rotatably supported.

【0039】さらに、図3に示すように、ケース本体部
33内の上部に、研磨テープTを走行させるためのテー
プ走行用モータ31を固定している。
Further, as shown in FIG. 3, a tape running motor 31 for running the polishing tape T is fixed to the upper part of the case body 33.

【0040】テープ走行用モータ31には駆動軸31a
が接続されており、駆動軸31aをケース本体部33か
ら外部に突出させて先端に駆動軸側プーリー35を設け
ている。ケース本体部33の下部には伝達用軸36の両
端部分が回転可能に支持され、この伝達用軸36の両端
をケース本体部33から突出させて、一方の端部に巻取
りリール側伝達用プーリー37と押圧部側伝達用プーリ
ー38とを設け、他方の端部に巻取りリール用回転軸7
2aに回転を伝達するためのギアを設けている。
The tape running motor 31 has a drive shaft 31a.
Are connected to each other, the drive shaft 31a is projected from the case main body 33 to the outside, and the drive shaft side pulley 35 is provided at the tip. Both ends of a transmission shaft 36 are rotatably supported on the lower portion of the case body 33, and both ends of the transmission shaft 36 are projected from the case body 33 to one end for winding reel side transmission. A pulley 37 and a pressing portion-side transmission pulley 38 are provided, and the take-up reel rotary shaft 7 is provided at the other end.
A gear for transmitting rotation is provided to 2a.

【0041】駆動軸側プーリー35と巻取りリール側伝
達用プーリー37にはテープ走行用ベルト39が掛け渡
たされており、テープ走行用モータ31の回転駆動によ
り、駆動軸側プーリー35、テープ走行用ベルト39、
巻取りリール側伝達用プーリー37を介して伝達用軸3
6が回転し、この伝達用軸36からギアを介して巻取り
リール用回転軸72aが回転するようになっている。
A tape traveling belt 39 is stretched over the drive shaft side pulley 35 and the take-up reel side transmission pulley 37, and the drive shaft side pulley 35 and the tape traveling are driven by the rotation of the tape traveling motor 31. Belt 39,
Transmission shaft 3 via the transmission reel pulley 37 on the take-up reel side
6 rotates, and the take-up reel rotation shaft 72a rotates from the transmission shaft 36 via a gear.

【0042】この巻取りリール用回転軸72aの回転に
より巻取りリール72が回転し、テープリール71から
研磨テープTを引き出すとともに、巻取りリール72に
研磨テープTを巻き取るようになっている。
The take-up reel 72 is rotated by the rotation of the take-up reel rotary shaft 72a, pulls out the polishing tape T from the tape reel 71, and takes up the polishing tape T on the take-up reel 72.

【0043】また、ケース本体部33内には、テープリ
ール71から引き出された研磨テープTを巻取りリール
72に案内するための複数の搬送ローラー30が回転可
能に設けられている。
In the case body 33, a plurality of transport rollers 30 for guiding the polishing tape T drawn from the tape reel 71 to the take-up reel 72 are rotatably provided.

【0044】さらに、ケース本体部33の底部には、図
3から図5に示すように、研磨テープTが掛け渡され、
掛け渡された研磨テープTを研磨台2の設置面24に固
定された被研磨材に接触させる押圧部8が、ケース本体
部33に対して回転可能に取り付けられている。
Further, as shown in FIGS. 3 to 5, a polishing tape T is laid over the bottom of the case body 33.
The pressing portion 8 for contacting the suspended polishing tape T with the material to be polished fixed to the installation surface 24 of the polishing table 2 is rotatably attached to the case body 33.

【0045】押圧部8は、研磨テープTが摺動可能に掛
け渡される回転可能なローラー部81と、ローラー部8
1を軸方向にスライド可能に支持する支持軸82から構
成されている。
The pressing portion 8 includes a rotatable roller portion 81 around which the polishing tape T is slidably mounted, and a roller portion 8
It is composed of a support shaft 82 which supports 1 to be slidable in the axial direction.

【0046】ローラー部81は、軸受メタル83を介し
て支持軸82に挿通されるローラー中心部84a,84
bと、ローラー中心部84a,84bの軸方向両端側で
支持軸82に挿通される溝付軸受85と、ローラー中心
部84a,84bの外周面に圧入状に嵌合される筒状の
ゴムローラー芯86と、ゴムローラー芯86の外周面に
密着させて嵌着される筒状のゴムローラー87とを備え
ている。
The roller portion 81 has roller center portions 84a, 84 which are inserted into the support shaft 82 through the bearing metal 83.
b, a grooved bearing 85 inserted into the support shaft 82 at both axial ends of the roller central portions 84a and 84b, and a tubular rubber roller fitted into the outer peripheral surfaces of the roller central portions 84a and 84b by press fitting. A core 86 and a cylindrical rubber roller 87 that is fitted in close contact with the outer peripheral surface of the rubber roller core 86 are provided.

【0047】本実施形態では、ローラー中心部84a,
84bの内面に溝付軸受85を圧入することにより溝付
軸受85の支持軸82に対するスライド動作にともなっ
てローラー中心部84a,84bもスライドするように
なっている。さらに、ローラー中心部84a,84bの
外周面に固定されるゴムローラー芯86をゴムローラー
87で覆う構成としており、このゴムローラー87の外
面に研磨テープTを掛け渡すようにしている。
In this embodiment, the roller central portion 84a,
By press-fitting the grooved bearing 85 into the inner surface of 84b, the roller center portions 84a and 84b also slide as the grooved bearing 85 slides with respect to the support shaft 82. Further, the rubber roller core 86 fixed to the outer peripheral surfaces of the roller center portions 84a and 84b is covered with a rubber roller 87, and the polishing tape T is laid over the outer surface of the rubber roller 87.

【0048】そして、支持軸82は、図4および図5に
示すように、軸方向両端部に形成される小径軸部82a
と軸方向中央部に形成される大径軸部82bとからな
り、小径軸部82aにおいてケース本体部33に回転可
能に支持されている。
As shown in FIGS. 4 and 5, the support shaft 82 has a small diameter shaft portion 82a formed at both ends in the axial direction.
And a large-diameter shaft portion 82b formed at the central portion in the axial direction, and is rotatably supported by the case main body portion 33 at the small-diameter shaft portion 82a.

【0049】支持軸82の一方側端部には、支持軸駆動
用プーリー82cが取り付けられており、この支持軸駆
動用プーリー82cと前記した押圧部側伝達用プーリー
38にベルト38aを掛け渡すことにより、テープ走行
用モータ31の駆動に伴い、支持軸82も回転駆動する
ようにしている。
A support shaft driving pulley 82c is attached to one end of the support shaft 82. A belt 38a is stretched around the support shaft driving pulley 82c and the pressing portion side transmission pulley 38. As a result, the support shaft 82 is also driven to rotate in accordance with the drive of the tape traveling motor 31.

【0050】また、支持軸82の軸方向中央部(大径軸
部82bの軸方向中央部)の外周面には、圧力調整弁と
なるフランジ状のダイヤフラム91を設けている。ダイ
ヤフラム91は、大径軸部82bの軸方向中央部に設け
る嵌合溝82dに嵌合されて支持軸82に固定されるよ
うになっており、2枚のリング板状部材を重ね合わせて
構成されている。ダイヤフラム91の外周部には、2枚
のリング板状部材を重ね合わせた時に、軸方向外方に向
かって延びる環状突起91aが形成されている。
Further, a flange-shaped diaphragm 91 serving as a pressure adjusting valve is provided on the outer peripheral surface of the axially central portion of the support shaft 82 (the axially central portion of the large diameter shaft portion 82b). The diaphragm 91 is adapted to be fitted into a fitting groove 82d provided at the axial center of the large-diameter shaft portion 82b and fixed to the support shaft 82, and is configured by stacking two ring plate members. Has been done. An annular protrusion 91a extending outward in the axial direction is formed on the outer peripheral portion of the diaphragm 91 when the two ring plate members are superposed on each other.

【0051】さらに、支持軸82には、一方が軸方向一
端に開口し、軸方向に延びて他方が大径軸部82bの外
周面に開口するL字状の支持軸側エア通路92a,92
bが、支持軸82の両端から軸中央に向かって2本形成
されている。
Further, the support shaft 82 has L-shaped support shaft-side air passages 92a, 92, one of which is opened at one end in the axial direction and which extends in the axial direction and the other of which is opened at the outer peripheral surface of the large diameter shaft portion 82b.
Two b are formed from both ends of the support shaft 82 toward the center of the shaft.

【0052】支持軸82における小径軸部82aの端部
に形成する支持軸側エア通路92a,92bの開口のそ
れぞれには、ロータリーコネクター93が接続される。
各ロータリーコネクター93には、図4に示すように、
エアチューブ94が接続され、これらエアチューブ94
は、電磁弁95に接続されている。
A rotary connector 93 is connected to each of the openings of the support shaft side air passages 92a and 92b formed at the end of the small diameter shaft portion 82a of the support shaft 82.
In each rotary connector 93, as shown in FIG.
Air tubes 94 are connected, and these air tubes 94
Is connected to the solenoid valve 95.

【0053】電磁弁95は、図4に示すように、高圧空
気を送り込むか、または、真空引きがされるエア作用部
96が切換え可能に接続される第1弁部95aと第2弁
部95bとを備えている。電磁弁95とエア作用部96
は、図3に示すように、ケース本体部33内の上部で、
かつ、テープ走行用モータ31の側部に設けられてい
る。
As shown in FIG. 4, the solenoid valve 95 sends the high-pressure air or is evacuated, and the first and second valve portions 95a and 95b to which the air action portion 96 is switchably connected. It has and. Solenoid valve 95 and air action part 96
Is, as shown in FIG.
It is also provided on the side of the tape running motor 31.

【0054】第1弁部95aは、支持軸82の一方の第
1支持軸側エア通路92aに連通させており、第2弁部
95bは、支持軸82の他方の第2支持軸側エア通路9
2bに連通させている。
The first valve portion 95a communicates with one of the first support shaft side air passages 92a of the support shaft 82, and the second valve portion 95b has the other second support shaft side air passage of the support shaft 82. 9
It communicates with 2b.

【0055】そして、第1弁部95aによりエア作用部
96を第1支持軸側エア通路92aに連通させていると
きには、第2弁部95bを介して第2支持軸側エア通路
92bを大気に連通させるようにしており、また、第2
弁部95bによりエア作用部96を第2支持軸側エア通
路92bに連通させているときには、第1弁部95aを
介して第1支持軸側エア通路92aを大気に連通させる
ようにしている。
When the air acting portion 96 is in communication with the first support shaft side air passage 92a by the first valve portion 95a, the second support shaft side air passage 92b is exposed to the atmosphere via the second valve portion 95b. I am trying to communicate, and the second
When the air acting portion 96 is communicated with the second support shaft side air passage 92b by the valve portion 95b, the first support shaft side air passage 92a is communicated with the atmosphere through the first valve portion 95a.

【0056】さらに、ローラー部81のローラー中心部
84a,84bは、図5に示すように、2つの筒状体か
らなる第1ローラー中心部84aと第2ローラー中心部
84bから構成されている。第1ローラー中心部84a
と第2ローラー中心部84bには、第1ローラー中心部
84aと第2ローラー中心部84bを支持軸82に挿通
させてつき合わせたとき、支持軸82に固定されている
ダイヤフラム91が収納できる圧力調整室97を形成で
きるように、凹部84cが形成されている。
Further, as shown in FIG. 5, the roller central portions 84a and 84b of the roller portion 81 are composed of a first roller central portion 84a and a second roller central portion 84b which are two cylindrical bodies. First roller center portion 84a
When the first roller center portion 84a and the second roller center portion 84b are inserted into the support shaft 82 and brought into contact with the second roller center portion 84b, the pressure that the diaphragm 91 fixed to the support shaft 82 can be stored. The recess 84c is formed so that the adjustment chamber 97 can be formed.

【0057】第1ローラー中心部84aと第2ローラー
中心部84bには、一方が支持軸82の支持軸側エア通
路92a,92bに連通し、他方が凹部84cで形成さ
れる圧力調整室97に連通するL字状のローラー部側エ
ア通路98a,98bが形成されている。
One of the first roller center portion 84a and the second roller center portion 84b communicates with the support shaft side air passages 92a and 92b of the support shaft 82, and the other is in the pressure adjusting chamber 97 formed by the recess 84c. L-shaped air passages 98a, 98b on the roller portion side that communicate with each other are formed.

【0058】本実施形態では、支持軸82に対してロー
ラー中心部84a,84bをスライド可能に構成してい
ることから、ローラー中心部84a,84bのスライド
動作に関係なく、常に支持軸側エア通路92a,92b
とローラー部側エア通路98a,98bとを連通させる
必要がある。
In this embodiment, since the roller center portions 84a and 84b are slidable with respect to the support shaft 82, the support shaft side air passage is always provided regardless of the sliding movement of the roller center portions 84a and 84b. 92a, 92b
And the roller portion side air passages 98a and 98b need to communicate with each other.

【0059】そのため、支持軸82の外面とローラー中
心部84a,84bの内面との間に隙間を形成するとと
もに、軸受メタル83を複数に分けておいて、ローラー
中心部84a,84bの筒内面に、ローラー部側エア通
路98a,98bの開口を回避し、かつ、ローラー中心
部84a,84bのスライド動作で支持軸側エア通路9
2a,92bが閉鎖されないようにこれら軸受メタル8
3を固定することにより、支持軸82の外面とローラー
中心部84a,84bの内面と軸受メタル83の端面に
よって気密状で環状の中間エア通路99a,99bを形
成している。
Therefore, a gap is formed between the outer surface of the support shaft 82 and the inner surfaces of the roller central portions 84a and 84b, and the bearing metal 83 is divided into a plurality of parts so that the inner surfaces of the roller central portions 84a and 84b can be formed. The support shaft side air passage 9 is prevented by avoiding the opening of the roller portion side air passages 98a, 98b and by the sliding operation of the roller center portions 84a, 84b.
These bearing metal 8 so that 2a and 92b are not closed
By fixing No. 3, the outer surface of the support shaft 82, the inner surfaces of the roller central portions 84a and 84b, and the end surface of the bearing metal 83 form airtight and annular intermediate air passages 99a and 99b.

【0060】なお、本実施形態では、圧力調整室97の
気密性を出すために、第1ローラー中心部84aと第2
ローラー中心部84bを支持軸82に挿通させてつき合
わせたときの、第1ローラー中心部84aと第2ローラ
ー中心部84bの間にシール用のOリング88を設けて
いる。
In this embodiment, in order to obtain the airtightness of the pressure adjusting chamber 97, the first roller central portion 84a and the second roller central portion 84a are provided.
An O-ring 88 for sealing is provided between the first roller center portion 84a and the second roller center portion 84b when the roller center portion 84b is inserted through the support shaft 82 and is brought into contact with the support shaft 82.

【0061】溝付軸受85は、図5に示すように、支持
軸82の両方の小径軸部82aに挿通され、ローラー中
心部84a,84b内に圧入される軸受筒部85aとロ
ーラー中心部84a,84bの外方側端面を覆うフラン
ジ部85bとを備えている。
As shown in FIG. 5, the grooved bearing 85 is inserted into both of the small-diameter shaft portions 82a of the support shaft 82 and press-fitted into the roller center portions 84a and 84b. , 84b, and a flange portion 85b that covers the outer side end faces of

【0062】さらに、溝付軸受85の筒内面には、周方
向に延びる環状溝85cが複数形成されており、これら
環状溝85cにボール85dが嵌め合わされるようにな
っている。
Further, a plurality of annular grooves 85c extending in the circumferential direction are formed on the cylinder inner surface of the grooved bearing 85, and balls 85d are fitted into these annular grooves 85c.

【0063】また、支持軸82の小径軸部82aには、
ボール85dが嵌め合わされるスライド用溝82eが軸
方向に延びるように複数本形成されている。
The small diameter shaft portion 82a of the support shaft 82 is
A plurality of sliding grooves 82e into which the balls 85d are fitted are formed so as to extend in the axial direction.

【0064】本実施形態では、支持軸82に対して溝付
軸受85を回転自在に挿嵌するとともに、溝付軸受85
の環状溝85cと支持軸82のスライド用溝82eとに
よりボール85dを挟んだ状態にしている。
In the present embodiment, the grooved bearing 85 is rotatably inserted into the support shaft 82, and the grooved bearing 85 is used.
The ball 85d is sandwiched between the annular groove 85c and the sliding groove 82e of the support shaft 82.

【0065】このように環状溝85cとスライド用溝8
2eに同時にボール85dが嵌め合わされた状態となっ
ているので、ボール85dを介して溝付軸受85がスラ
イド用溝82eに案内されて支持軸82に対して円滑に
スライドさせることができる。
Thus, the annular groove 85c and the sliding groove 8 are formed.
Since the ball 85d is fitted in the 2e at the same time, the grooved bearing 85 can be guided by the sliding groove 82e through the ball 85d and smoothly slid with respect to the support shaft 82.

【0066】しかも、支持軸82の回転動作に伴ってボ
ール85dが環状溝85cに沿って動こうとすることを
利用して、支持軸82の回転数が所定の回転数以上とな
ったときにボール85dが環状溝85cとスライド用溝
82eの抵抗を受けるようにして、所定の回転数以上で
支持軸82に伴って溝付軸受85も回転するようにして
いる。
Moreover, the fact that the ball 85d tries to move along the annular groove 85c as the support shaft 82 rotates makes use of the fact that when the rotation speed of the support shaft 82 exceeds a predetermined rotation speed. The ball 85d receives the resistance of the annular groove 85c and the sliding groove 82e, so that the grooved bearing 85 also rotates along with the support shaft 82 at a predetermined rotation speed or more.

【0067】この溝付軸受85の回転により、溝付軸受
85が圧入されるローラー中心部84a,84bも同期
回転するようになっている。
By the rotation of the grooved bearing 85, the roller center portions 84a and 84b into which the grooved bearing 85 is press fitted are also rotated in synchronization.

【0068】このローラー中心部84a,84bの外周
面には、図5に示すように、金属製で筒状のゴムローラ
ー芯86が挿嵌されている。このゴムローラー芯86の
軸方向両端には、ゴムローラー芯86がローラー中心部
84a,84bから抜けるのを阻止するためのドーナツ
状の固定プレート89がボルト89aにより固定されて
いる。
As shown in FIG. 5, a cylindrical rubber roller core 86 made of metal is fitted on the outer peripheral surfaces of the roller central portions 84a and 84b. Donut-shaped fixing plates 89 for preventing the rubber roller core 86 from coming off from the roller central portions 84a and 84b are fixed to both ends of the rubber roller core 86 in the axial direction by bolts 89a.

【0069】この固定プレート89の内径は、ローラー
中心部84a,84bの外径よりも小さくしており、固
定プレート89の内径側をローラー中心部84a,84
bにも当接させた状態でボルト締めすることにより、ゴ
ムローラー芯86がローラー中心部84a,84bから
抜けないようにしている。
The inner diameter of the fixed plate 89 is smaller than the outer diameter of the roller center portions 84a and 84b, and the inner diameter side of the fixed plate 89 is located on the roller center portions 84a and 84b.
The rubber roller core 86 is prevented from coming off from the roller central portions 84a and 84b by tightening the bolt while being brought into contact with b as well.

【0070】ゴムローラー芯86の外周面には、図5に
示すように、薄肉の筒状のゴムローラー87を密着させ
た状態で挿着している。ゴムローラー87は合成樹脂製
のゴムから形成されている。
On the outer peripheral surface of the rubber roller core 86, as shown in FIG. 5, a thin-walled cylindrical rubber roller 87 is inserted and attached. The rubber roller 87 is made of synthetic resin rubber.

【0071】本実施形態では、支持軸82に対してロー
ラー中心部84a,84bを軸方向にスライドさせるこ
とにより、支持軸82の外面とローラー中心部84a,
84bの凹部84cにより形成される圧力調整室97に
設けるダイヤフラム91の環状突起91aが、圧力調整
室97内に開口する第1ローラー部側エア通路98aの
第1ポート98cまたは第2ローラー部側エア通路98
bの第2ポート98dのどちらか一方を塞ぐ構成となっ
ている。
In this embodiment, by sliding the roller central portions 84a and 84b with respect to the support shaft 82 in the axial direction, the outer surface of the support shaft 82 and the roller central portion 84a,
The annular projection 91a of the diaphragm 91 provided in the pressure adjusting chamber 97 formed by the recess 84c of the 84b is provided with the first port 98c of the first roller portion side air passage 98a or the second roller portion side air opening into the pressure adjusting chamber 97. Passage 98
One of the second ports 98d of b is closed.

【0072】そして、エア作用部96、電磁弁95、エ
アチューブ94、支持軸側エア通路92a,92b、中
間エア通路99a,99b、ローラー部側エア通路98
a,98bにより、圧力調整室97に流体(空気)を導
入するための流体導入手段を構成している。
The air acting portion 96, the solenoid valve 95, the air tube 94, the support shaft side air passages 92a and 92b, the intermediate air passages 99a and 99b, and the roller portion side air passage 98.
The a and 98b constitute a fluid introducing means for introducing a fluid (air) into the pressure adjusting chamber 97.

【0073】流体導入手段は、エア作用部96から高圧
の空気の導入または真空引きが行われると、電磁弁95
の第1弁部95aと第2弁部95bの切換え操作によ
り、エアチューブ94を介して第1支持軸側エア通路9
2aまたは第2支持軸側エア通路92bのどちらかを介
して圧力調整室97に空気が送られるようになってい
る。
When the high-pressure air is introduced or the vacuum is drawn from the air action portion 96, the fluid introduction means is a solenoid valve 95.
By the switching operation of the first valve portion 95a and the second valve portion 95b of the first support shaft side air passage 9 via the air tube 94.
Air is sent to the pressure adjusting chamber 97 through either the air passage 2a or the second support shaft side air passage 92b.

【0074】第1支持軸側エア通路92aにエア作用部
96から空気が送られたときは、第1中間エア通路99
aを介して第1ローラー部側エア通路98aから圧力調
整室97内に空気が導入される。
When air is sent to the first support shaft side air passage 92a from the air acting portion 96, the first intermediate air passage 99 is formed.
Air is introduced into the pressure adjusting chamber 97 from the first roller portion side air passage 98a via a.

【0075】そして、第1ポート98cから圧力調整室
97内に空気が導入され、第2ポート98dから第2弁
部95bを介して圧力調整室97内の空気が大気に開放
されるようになっている。
Air is introduced into the pressure adjusting chamber 97 from the first port 98c, and the air in the pressure adjusting chamber 97 is opened to the atmosphere from the second port 98d via the second valve portion 95b. ing.

【0076】このとき、第1ポート98cからの圧力調
整室97内への空気の流入、および、第2ポート98d
からの圧力調整室97内の空気の流出で、ダイヤフラム
91と第1ポート98cの間の空間の圧力が増大し、ダ
イヤフラム91と第2ポート98dの間の空間の圧力が
低下していくので、ダイヤフラム91に向って第2ポー
ト98dが近接する方向にローラー中心部84a,84
bが支持軸82に対してスライド動作をする。
At this time, the inflow of air from the first port 98c into the pressure adjusting chamber 97 and the second port 98d.
Since the pressure of the space between the diaphragm 91 and the first port 98c increases and the pressure of the space between the diaphragm 91 and the second port 98d decreases due to the outflow of air in the pressure adjusting chamber 97 from Roller central portions 84a, 84 in the direction in which the second port 98d approaches toward the diaphragm 91.
b slides on the support shaft 82.

【0077】そして、スライド動作により第2ポート9
8dがダイヤフラム91で覆われた状態になる。
Then, by the sliding operation, the second port 9
8d is covered with the diaphragm 91.

【0078】次に、第2支持軸側エア通路92bにエア
作用部96から空気が送られたときは、第2中間エア通
路99bを介して第2ローラー部側エア通路98bから
圧力調整室97内に空気が導入される。
Next, when air is sent from the air acting portion 96 to the second support shaft side air passage 92b, the pressure adjusting chamber 97 is supplied from the second roller portion side air passage 98b via the second intermediate air passage 99b. Air is introduced into the inside.

【0079】そして、第2ポート98dから圧力調整室
97内に空気が導入され、第1ポート98cから第1弁
部95aを介して圧力調整室97内の空気が大気に開放
される。
Then, air is introduced into the pressure adjusting chamber 97 through the second port 98d, and the air in the pressure adjusting chamber 97 is opened to the atmosphere through the first port 98c and the first valve portion 95a.

【0080】このとき、第2ポート98dからの圧力調
整室97内への空気の流入、および、第1ポート98c
からの圧力調整室97内の空気の流出で、ダイヤフラム
91と第2ポート98dの間の空間の圧力が増大し、ダ
イヤフラム91と第1ポート98cの間の空間の圧力が
低下していくので、ダイヤフラム91に向って第1ポー
ト98cが近接する方向にローラー中心部84a,84
bが支持軸82に対してスライド動作をする。
At this time, the inflow of air from the second port 98d into the pressure adjusting chamber 97 and the first port 98c.
Since the pressure of the space between the diaphragm 91 and the second port 98d increases and the pressure of the space between the diaphragm 91 and the first port 98c decreases due to the outflow of air in the pressure adjusting chamber 97 from Roller central portions 84a, 84 in a direction in which the first port 98c approaches toward the diaphragm 91.
b slides on the support shaft 82.

【0081】そして、スライド動作により第1ポート9
8cがダイヤフラム91で覆われた状態になる。
Then, by the sliding operation, the first port 9
8c is covered with the diaphragm 91.

【0082】本実施形態では、第1ポート98cからの
圧力調整室97への空気の導入と、第2ポート98dか
らの圧力調整室97への空気の導入とを交互に繰り返す
ことにより、支持軸82に対してローラー部81が軸方
向の往復動を繰り返し行えるようにしている。
In the present embodiment, the introduction of air from the first port 98c into the pressure adjusting chamber 97 and the introduction of air from the second port 98d into the pressure adjusting chamber 97 are alternately repeated to provide a support shaft. The roller portion 81 can be repeatedly reciprocated in the axial direction with respect to 82.

【0083】本実施形態によれば、以上説明したよう
に、支持軸82に対してローラー部81のローラー中心
部84a,84bと溝付軸受85を軸方向にスライド可
能な構成にすると共に、圧力調整室97にダイヤフラム
91を設けて、圧力調整室97に開口する第1ポート9
8cと第2ポート98dからの高圧空気の導入を電磁弁
95の動作により交互に行うようにして、支持軸82に
対してローラー部81を往復動作させる構成により、押
圧部8に微振動を起こす振動機構9を構成している。
According to the present embodiment, as described above, the roller center portions 84a and 84b of the roller portion 81 and the grooved bearing 85 are configured to be slidable in the axial direction with respect to the support shaft 82, and the pressure is applied. The diaphragm 91 is provided in the adjustment chamber 97 to open the pressure adjustment chamber 97 in the first port 9
8c and high pressure air from the second port 98d are alternately introduced by the operation of the solenoid valve 95, and the roller portion 81 reciprocates with respect to the support shaft 82, so that a slight vibration is generated in the pressing portion 8. The vibration mechanism 9 is configured.

【0084】本実施の形態では、以上の構成により、研
磨ヘッド本体3を昇降装置5により研磨台2の設置面2
4に向けて降下させて、研磨ヘッド本体3の押圧部8に
装着する研磨テープTを設置面24に設置した被研磨材
に接触させた状態で、振動機構9により微振動を起こし
ながら、研磨ヘッド本体3を、水平移動装置4により前
後左右に移動させながら被研磨材を研磨することにがで
きるし、また、さらに微振動を起こしながら研磨ヘッド
本体3を回転させて被研磨材を研磨することもできるよ
うになっている。
In the present embodiment, with the above configuration, the polishing head main body 3 is moved up and down by the lifting device 5 to set the surface 2 on which the polishing table 2 is mounted.
4, while the polishing tape T mounted on the pressing portion 8 of the polishing head body 3 is brought into contact with the material to be polished installed on the installation surface 24, while slightly vibrating by the vibration mechanism 9, It is possible to polish the material to be polished while moving the head body 3 back and forth and left and right by the horizontal moving device 4, and further to rotate the polishing head body 3 while slightly vibrating to polish the material to be polished. You can also do it.

【0085】本実施の形態の研磨装置は、まず、研磨テ
ープTをテープリール71にセットした後、搬送ローラ
ー30、押圧部8におけるローラー部81のゴムローラ
ー87に研磨テープTを沿わして巻取りリール72に研
磨テープTを固定することにより研磨テープTを研磨ヘ
ッド本体3にセットする。
In the polishing apparatus of this embodiment, first, the polishing tape T is set on the tape reel 71, and then the polishing tape T is wound around the conveying roller 30 and the rubber roller 87 of the roller portion 81 of the pressing portion 8. By fixing the polishing tape T to the take-up reel 72, the polishing tape T is set on the polishing head body 3.

【0086】そして、被研磨材の研磨またはクリーニン
グは次のように行われる。まず、平坦な被研磨材を研磨
台2のエンドレスベルト22上の設置面24に配置し駆
動ローラー23による駆動でエンドレスベルト22上の
被研磨材を所定の位置まで運び、吸着手段25により被
研磨材をエンドレスベルト22に吸着させて被研磨材を
研磨台2に固定する。
Then, polishing or cleaning of the material to be polished is performed as follows. First, a flat material to be polished is placed on the installation surface 24 on the endless belt 22 of the polishing table 2, and the material to be polished on the endless belt 22 is carried to a predetermined position by the drive of the drive roller 23, and is polished by the suction means 25. The material is attracted to the endless belt 22 and the material to be polished is fixed to the polishing table 2.

【0087】次に、水平移動装置4を駆動させて研磨ヘ
ッド本体3を適切な位置まで水平移動させて、昇降装置
5の駆動により研磨ヘッド本体3の押圧部8に装着した
研磨テープTを被研磨材の表面に接触させる。
Next, the horizontal moving device 4 is driven to horizontally move the polishing head body 3 to an appropriate position, and the lifting device 5 is driven to cover the polishing tape T mounted on the pressing portion 8 of the polishing head body 3. Contact the surface of the abrasive.

【0088】そして、テープ走行用モータ31を駆動さ
せて、巻取りリール72、搬送ローラー30、押圧部8
を回転駆動させる。巻取りリール72等の回転駆動によ
り、新しい研磨テープTがテープリール71から引き出
されて押圧部8へと順次供給された後に巻取りリール7
2に巻き取られる。
Then, the tape running motor 31 is driven to drive the take-up reel 72, the transport roller 30, and the pressing portion 8.
To rotate. By driving the take-up reel 72 and the like to rotate, a new polishing tape T is pulled out from the tape reel 71 and sequentially supplied to the pressing portion 8, and then the take-up reel 7
It is wound up to 2.

【0089】そして、研磨テープTの走行を行いなが
ら、振動機構9により支持軸82に対してローラー部8
1を往復動作させて押圧部9に微振動を起こさせて、常
に供給される新しい研磨テープTにより被研磨材を微振
動により滑らかに研磨することができる。
While the polishing tape T is running, the vibrating mechanism 9 causes the roller portion 8 to move against the support shaft 82.
It is possible to reciprocate 1 to cause a slight vibration in the pressing portion 9 and to polish the material to be polished smoothly by the slight vibration with the new polishing tape T constantly supplied.

【0090】また、押圧部8に微振動を起こさせなが
ら、ヘッド本体駆動用モータ60の駆動により研磨ヘッ
ド本体3も回転させて、被研磨材を微振動による研磨と
回転による研磨とを行うこともできる。
Further, while the pressing portion 8 is slightly vibrated, the polishing head main body 3 is also rotated by driving the head main body drive motor 60, so that the material to be polished is polished by the slight vibration and polishing by the rotation. You can also

【0091】本実施形態では、研磨条件に応じて、微振
動のみによる研磨と微振動と回転による研磨とを行うよ
うにしている。
In this embodiment, depending on the polishing conditions, polishing by only slight vibration and polishing by slight vibration and rotation are performed.

【0092】なお、この研磨作業時においては、研磨作
業を円滑に行うため、図示していないが、被研磨材の研
磨面に水が供給されるようになっている。
Incidentally, at the time of this polishing work, in order to perform the polishing work smoothly, although not shown, water is supplied to the polishing surface of the material to be polished.

【0093】さらに、研磨中に、水平移動装置4により
研磨ヘッド本体3を所望の方向に水平移動させること
で、被研磨材の表面を均等に研磨、クリーニングするこ
とができる。
Further, by horizontally moving the polishing head main body 3 in the desired direction by the horizontal moving device 4 during polishing, the surface of the material to be polished can be evenly polished and cleaned.

【0094】本実施の形態では、液晶ガラス板などの平
面な被研磨材を研磨する研磨装置について説明したが、
本発明は、シリコンウエハーの端面の研磨など、板状の
被研磨材の端面を研磨する研磨装置にも適用できる。
In the present embodiment, the polishing apparatus for polishing a flat workpiece such as a liquid crystal glass plate has been described.
INDUSTRIAL APPLICABILITY The present invention can also be applied to a polishing apparatus for polishing the end surface of a plate-shaped material to be polished, such as polishing the end surface of a silicon wafer.

【0095】さらに、本実施の形態では、長尺な研磨テ
ープを走行させながら研磨を行うようにしたが、研磨テ
ープを所定の大きさにカットしたものを研磨ヘッド本体
の押圧部に取り付けておいて被研磨材を研磨する研磨装
置にも適用できる。この場合、押圧部は、回転可能なロ
ーラーではなく、ケース本体部に固定された押圧体によ
り構成することが好ましい。
Further, in the present embodiment, polishing is performed while running a long polishing tape, but the polishing tape cut into a predetermined size is attached to the pressing portion of the polishing head body. Therefore, it can also be applied to a polishing apparatus for polishing a material to be polished. In this case, it is preferable that the pressing portion is not a rotatable roller but a pressing body fixed to the case body.

【0096】前記した実施形態では、振動機構9をダイ
ヤフラム91と圧力調整室97による圧力差を利用した
構成として、支持軸82に対してローラー部81をスラ
イド動作させるようにしたが、図6に示す他の実施形態
のように、振動機構9を、圧電素子90の伸縮を利用し
て行う構成としてもよい。
In the above-described embodiment, the vibration mechanism 9 is configured to utilize the pressure difference between the diaphragm 91 and the pressure adjusting chamber 97, and the roller portion 81 is slid on the support shaft 82. As in the other embodiments shown, the vibration mechanism 9 may be configured to utilize expansion and contraction of the piezoelectric element 90.

【0097】図6に示す第2実施形態は、ローラー部8
1の内面と支持軸82の外面との間に空間部80を形成
して、この空間部80内に、一端が支持軸82の外面に
固定され他端がローラー部81の内面に固定される圧電
素子90を設けるとともに、圧電素子90に電圧をかけ
るための電圧入力部10を備えるようにして振動機構9
を構成している。
In the second embodiment shown in FIG. 6, the roller portion 8 is used.
A space 80 is formed between the inner surface of the first shaft 1 and the outer surface of the support shaft 82. In the space 80, one end is fixed to the outer surface of the support shaft 82 and the other end is fixed to the inner surface of the roller portion 81. The vibration mechanism 9 includes the piezoelectric element 90 and the voltage input unit 10 for applying a voltage to the piezoelectric element 90.
Are configured.

【0098】そして、電圧入力部10による圧電素子9
0への電圧のオンオフで圧電素子90を伸縮させること
によりローラー部81を支持軸82に対して軸方向に往
復動作させるようにしている。
The piezoelectric element 9 using the voltage input section 10
The roller element 81 is reciprocated in the axial direction with respect to the support shaft 82 by expanding and contracting the piezoelectric element 90 by turning the voltage to 0 on and off.

【0099】具体的に説明すると、ローラー部81は、
前記した第1実施形態と同様に、ローラー中心部84
d,84eと、溝付軸受85と、ゴムローラー芯86
と、ゴムローラー87、固定プレート89を備えてい
る。
More specifically, the roller portion 81 is
Similar to the first embodiment described above, the roller central portion 84
d, 84e, grooved bearing 85, rubber roller core 86
And a rubber roller 87 and a fixing plate 89.

【0100】なお、溝付軸受85と、ゴムローラー芯8
6と、ゴムローラー87、固定プレート89については
第1実施形態と構成が同じなので説明を省略する。
The grooved bearing 85 and the rubber roller core 8
6, the rubber roller 87, and the fixing plate 89 have the same configurations as those in the first embodiment, and thus the description thereof will be omitted.

【0101】また、支持軸82は、軸方向両端部の小径
軸部82aと軸方向中央部の大径軸部82bとから構成
されており、ケース本体部33への支持および回転の機
構については、第1実施形態と同じであるので省略す
る。
The support shaft 82 is composed of a small diameter shaft portion 82a at both ends in the axial direction and a large diameter shaft portion 82b at the central portion in the axial direction. The mechanism for supporting and rotating the case main body portion 33 is as follows. , Which is the same as that of the first embodiment, and therefore will be omitted.

【0102】ローラー中心部84d,84eは、支持軸
82に挿通される3つの筒状部材がなり、軸方向中心部
に配設される薄肉筒状の空間部形成用ローラー中心部8
4dと、空間部形成用ローラー中心部84dの軸方向両
側に配設される厚肉の厚肉ローラー中心部84eとから
構成されている。
The roller central portions 84d and 84e are three cylindrical members that are inserted into the support shaft 82, and the thin cylindrical central portion 8 for forming the space portion is disposed in the axial central portion.
4d and a thick-walled roller central portion 84e arranged axially on both sides of the space-forming roller central portion 84d.

【0103】空間部形成用ローラー中心部84dは、厚
肉ローラー中心部84eの間を所定の長さに保つための
スペーサーとして用いられる。
The central portion 84d for forming the space portion is used as a spacer for keeping a predetermined length between the central portions 84e of the thick rollers.

【0104】本実施形態では、空間部形成用ローラー中
心部84dの内面と支持軸82の大径軸部82bの外面
との間に、圧電素子90を配設するための空間部80を
形成している。
In the present embodiment, the space 80 for disposing the piezoelectric element 90 is formed between the inner surface of the space forming roller central portion 84d and the outer surface of the large diameter shaft portion 82b of the support shaft 82. ing.

【0105】厚肉ローラー中心部84eは、軸受メタル
83を介して支持軸82の大径軸部82bに対してスラ
イド動作および回転動作できるように支持軸82に挿通
され、かつ、厚肉ローラー中心部84eの筒内面に溝付
軸受85が圧入される。
The thick roller center portion 84e is inserted into the support shaft 82 so as to be able to slide and rotate with respect to the large diameter shaft portion 82b of the support shaft 82 via the bearing metal 83, and the thick roller center portion 84e. The grooved bearing 85 is press-fitted into the cylinder inner surface of the portion 84e.

【0106】支持軸82には、一方の小径軸部82aの
軸端面に開口し、かつ、大径軸部82bの外面で空間部
80に開口するリード線10aを挿通させるための挿通
用通路82fを形成している。
The support shaft 82 has an insertion passage 82f for inserting the lead wire 10a which is opened at the shaft end surface of one small diameter shaft portion 82a and is opened at the outer surface of the large diameter shaft portion 82b into the space portion 80. Is formed.

【0107】支持軸82の挿通用通路82fが開口する
軸端には、ロータリーコネクター93が接続され、ロー
タリーコネクター93にリード線10aを挿通させて、
リード線10aの一端をケース本体部33内に設ける電
源10bに接続し、他端を挿通用通路82fを挿通させ
て空間部80内に設ける圧電素子90に接続している。
A rotary connector 93 is connected to the shaft end of the support shaft 82 where the passage 82f for insertion is opened, and the lead wire 10a is inserted through the rotary connector 93.
One end of the lead wire 10a is connected to the power supply 10b provided in the case body 33, and the other end is inserted into the insertion passage 82f and connected to the piezoelectric element 90 provided in the space 80.

【0108】本実施形態では、リード線10aと電源1
0bにより電圧入力部10を構成している。
In the present embodiment, the lead wire 10a and the power source 1
The voltage input unit 10 is composed of 0b.

【0109】さらに、空間部80内に設ける圧電素子9
0は、長尺な板部材からなり、この圧電素子90は、長
手方向一端側が支持軸82の大径軸部82bの外面に取
付部材90aを介して固定され、また、長手方向他端側
が厚肉ローラー中心部84eの端面に取付部材90aを
介して固定されている。
Further, the piezoelectric element 9 provided in the space 80
Reference numeral 0 denotes a long plate member. This piezoelectric element 90 has one end in the longitudinal direction fixed to the outer surface of the large-diameter shaft portion 82b of the support shaft 82 via a mounting member 90a, and the other end in the longitudinal direction is thick. It is fixed to the end surface of the meat roller central portion 84e via a mounting member 90a.

【0110】そして、圧電素子90の中心部にリード線
10aを接続し、電源10bのオン動作によりリード線
10aを介して圧電素子90に電圧がかかって圧電素子
90が収縮し、また、電源10bをオフすると収縮が解
除されてもとの長さに戻るようになっている。
Then, the lead wire 10a is connected to the central portion of the piezoelectric element 90, and a voltage is applied to the piezoelectric element 90 via the lead wire 10a by the ON operation of the power source 10b, and the piezoelectric element 90 contracts. When turned off, the contraction is released and the original length is restored.

【0111】本実施形態では、圧電素子90の一端が支
持軸82に固定され、他端がローラー部81に固定され
ていることから、圧電素子90が収縮するとローラー部
81が支持軸82に対して一方向にスライドし、また、
電圧が解除されて圧電素子90が元の状態に戻ろうとす
ると、ローラー部81が支持軸82に対して反対方向に
スライドするようになっている。
In this embodiment, one end of the piezoelectric element 90 is fixed to the support shaft 82, and the other end is fixed to the roller portion 81. Therefore, when the piezoelectric element 90 contracts, the roller portion 81 moves relative to the support shaft 82. Slide in one direction,
When the voltage is released and the piezoelectric element 90 tries to return to the original state, the roller portion 81 slides in the opposite direction with respect to the support shaft 82.

【0112】本実施形態では、圧電素子90への電圧の
オンオフを繰り返すことにより、圧電素子90の伸縮動
作を繰り返し行うようにして、ローラー部81の支持軸
82に対する往復動作を繰り返し行って押圧部8に微振
動を生じさせるようにしている。
In this embodiment, by repeatedly turning on and off the voltage to the piezoelectric element 90, the expansion and contraction operation of the piezoelectric element 90 is repeated, and the reciprocating operation of the roller portion 81 with respect to the support shaft 82 is repeatedly performed. 8 is caused to generate a slight vibration.

【0113】第2実施形態によれば、第1実施形態と同
様に微振動による微細な研磨が行えるとともに、第1実
施形態のようにローラー部81と支持軸82のとの間に
気密状の空間部(圧力調整室)を形成する必要がなくな
るので、気密性を保持するためのシール材および高い加
工精度が必要なくなる。
According to the second embodiment, fine polishing by fine vibration can be performed as in the first embodiment, and the airtight state is provided between the roller portion 81 and the support shaft 82 as in the first embodiment. Since it is not necessary to form a space (pressure adjusting chamber), a sealing material for maintaining airtightness and high processing accuracy are not required.

【0114】[0114]

【発明の効果】このように、本発明の請求項1に記載の
発明によれば、研磨ヘッド本体の押圧部に装着した研磨
テープを研磨台に設置した被研磨材に接触させて被研磨
材を研磨するようにした研磨装置において、押圧部は、
微振動を起こす振動機構を備えている構成としたから、
細やかな研磨加工が行えて、平滑性を向上できる。
As described above, according to the first aspect of the present invention, the polishing tape mounted on the pressing portion of the polishing head body is brought into contact with the material to be polished installed on the polishing table to be polished. In the polishing apparatus configured to polish the
Because it has a vibration mechanism that causes a slight vibration,
Can perform fine polishing and improve smoothness.

【0115】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の研磨装置において、押圧部が、研磨テープが摺動可能
に掛け渡される回転可能なローラー部と、ローラー部を
軸方向にスライド可能に支持する支持軸から構成され、
振動機構は、当該ローラー部を支持軸に対して軸方向に
往復動作させることにより微振動を起こす構成としたか
ら、簡単な構成で振動機構を構成できながら、細やかな
研磨加工が行える。
According to a second aspect of the present invention, in the polishing apparatus according to the first aspect, the pressing portion is a rotatable roller portion around which the polishing tape is slidably slid, and the roller portion is slid in the axial direction. It is composed of a support shaft that supports possible
Since the vibrating mechanism is configured to cause a slight vibration by reciprocally moving the roller portion in the axial direction with respect to the support shaft, fine grinding can be performed while the vibrating mechanism can be configured with a simple structure.

【0116】請求項3に記載の発明は、請求項2に記載
の研磨装置において、振動機構は、ローラー部の内面と
支持軸の外面との間に形成される気密状の圧力調整室
と、圧力調整室に開口される2つのポートと、圧力調整
室内に位置するように支持軸の外面に固定されて、支持
軸に対するローラー部のスライド動作により2つのポー
トのどちらか一方を閉鎖可能とする圧力調整弁と、2つ
のポートのどちらか一方から圧力調整室内に流体を送り
込み他方のポートから流体を引き出す動作を交互に行う
流体導入手段とを備え、流体導入手段により一方のポー
トから圧力調整室に流体が導入されることにより導入さ
れた流体で圧力調整弁が他方のポートを閉じる方向にロ
ーラー部がスライドし、ポートの切換えでローラー部が
反対方向にスライドするように構成したから、支持軸に
対するローラー部の往復動作の反応を素早くでき、細や
かな微振動を生じさせられるので、より細やかな研磨加
工が可能となる。
According to a third aspect of the present invention, in the polishing apparatus according to the second aspect, the vibration mechanism includes an airtight pressure adjusting chamber formed between the inner surface of the roller portion and the outer surface of the support shaft. Two ports opened to the pressure adjusting chamber and fixed to the outer surface of the support shaft so as to be located in the pressure adjusting chamber, and either of the two ports can be closed by the sliding operation of the roller portion with respect to the support shaft. The pressure adjusting chamber is provided with a pressure adjusting valve and a fluid introducing means for alternately feeding the fluid into the pressure adjusting chamber from one of the two ports and drawing out the fluid from the other port. When the fluid is introduced to the pressure control valve, the roller slides in the direction in which the other port is closed by the fluid introduced, and the roller slides in the opposite direction when the port is switched. Because you configured so that, quick reaction of the reciprocating movement of the roller unit relative to the support shaft, because it is caused a delicate micro-vibration, thereby enabling more fine polishing.

【0117】請求項4に記載の発明は、請求項2に記載
の研磨装置において、振動機構は、ローラー部の内面と
支持軸の外面との間に空間部を形成し、空間部内におい
て一端が支持軸の外面に固定され他端がローラー部内面
に固定される圧電素子を設けるともに、圧電素子に電圧
をかけるための電圧入力部を備え、電圧入力部による圧
電素子への電圧のオンオフで圧電素子を伸縮させること
によりローラー部を支持軸に対して軸方向に往復動作さ
せる構成としたから、気密性を保持するためのシール材
や高い加工精度を必要とすることなく細やかな研磨加工
が可能となる。
According to a fourth aspect of the present invention, in the polishing apparatus according to the second aspect, the vibrating mechanism forms a space between the inner surface of the roller portion and the outer surface of the support shaft, and one end of the vibration portion is formed in the space portion. A piezoelectric element is provided, which is fixed to the outer surface of the support shaft and the other end is fixed to the inner surface of the roller section.It also has a voltage input section for applying voltage to the piezoelectric element, and the voltage input section turns the voltage on and off Since the roller part is configured to reciprocate in the axial direction with respect to the support shaft by expanding and contracting the element, it is possible to perform fine polishing without the need for a sealing material to maintain airtightness or high processing accuracy. Becomes

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】本発明の研磨装置の概略全体構成図である。FIG. 1 is a schematic overall configuration diagram of a polishing apparatus of the present invention.

【図2】図1に示す研磨装置を側面から見た概略全体構
成図である。
FIG. 2 is a schematic overall configuration diagram of the polishing apparatus shown in FIG. 1 as seen from a side surface.

【図3】本発明の第1実施形態にかかる研磨ヘッド本体
の側面図である。
FIG. 3 is a side view of the polishing head body according to the first embodiment of the present invention.

【図4】本発明の第1実施形態にかかる研磨ヘッド本体
の押圧部と振動機構との関係を示す説明図。
FIG. 4 is an explanatory diagram showing a relationship between a pressing unit and a vibration mechanism of the polishing head body according to the first embodiment of the present invention.

【図5】図4の押圧部の断面図である。5 is a cross-sectional view of the pressing portion of FIG.

【図6】本発明の第2実施形態にかかる研磨ヘッド本体
の押圧部の断面図である。
FIG. 6 is a sectional view of a pressing portion of a polishing head body according to a second embodiment of the present invention.

【図7】従来の研磨装置の研磨ヘッド本体を示す部分断
面図である。
FIG. 7 is a partial cross-sectional view showing a polishing head body of a conventional polishing apparatus.

【図8】図7に示す従来の研磨装置の研磨ヘッド本体の
断面図。
8 is a sectional view of a polishing head body of the conventional polishing apparatus shown in FIG.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

T 研磨テープ 2 研磨台 3 研磨ヘッド本体 33 ケース本体部 8 押圧部 81 ローラー部 82 支持軸 9 振動機構 91 ダイヤフラム(圧力調整弁) 92a,92b 支持軸側エア通路 94 エアチューブ 95 電磁弁 96 エア作用部 97 圧力調整室 98a,98b ローラー部側エア通路 98c,98d ポート 99a,99b 中間エア通路 80 空間部 90 圧電素子 10 電圧入力部 T polishing tape 2 polishing table 3 Polishing head body 33 Case body 8 Pressing part 81 Roller part 82 Support shaft 9 Vibration mechanism 91 Diaphragm (pressure control valve) 92a, 92b Support shaft side air passage 94 air tube 95 solenoid valve 96 Air acting part 97 Pressure adjustment chamber 98a, 98b Roller side air passage 98c, 98d port 99a, 99b Intermediate air passage 80 Space Department 90 Piezoelectric element 10 Voltage input section

Claims (4)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】研磨ヘッド本体の押圧部に装着した研磨テ
ープを研磨台に設置した被研磨材に接触させて被研磨材
を研磨するようにした研磨装置において、押圧部は、微
振動を起こす振動機構を備えていることを特徴としてい
る研磨装置。
1. A polishing apparatus in which a polishing tape mounted on a pressing portion of a polishing head body is brought into contact with a material to be polished installed on a polishing table to polish the material to be polished, and the pressing portion causes slight vibration. A polishing apparatus having a vibrating mechanism.
【請求項2】押圧部が、研磨テープが摺動可能に掛け渡
される回転可能なローラー部と、ローラー部を軸方向に
スライド可能に支持する支持軸から構成され、振動機構
は、当該ローラー部を支持軸に対して軸方向に往復動作
させることにより微振動を起こす構成としていることを
特徴とする請求項1に記載の研磨装置。
2. The pressing portion is composed of a rotatable roller portion around which a polishing tape is slidably slid, and a support shaft for slidably supporting the roller portion in the axial direction. The polishing apparatus according to claim 1, wherein the polishing machine is configured to cause a slight vibration by reciprocating in the axial direction with respect to the support shaft.
【請求項3】振動機構は、ローラー部の内面と支持軸の
外面との間に形成される気密状の圧力調整室と、圧力調
整室に開口される2つのポートと、圧力調整室内に位置
するように支持軸の外面に固定されて、支持軸に対する
ローラー部のスライド動作により2つのポートのどちら
か一方を閉鎖可能とする圧力調整弁と、2つのポートの
どちらか一方から圧力調整室内に流体を送り込み他方の
ポートから流体を引き出す動作を交互に行う流体導入手
段とを備え、流体導入手段により一方のポートから圧力
調整室に流体が導入されることにより導入された流体で
圧力調整弁が他方のポートを閉じる方向にローラー部が
スライドし、ポートの切換えでローラー部が反対方向に
スライドするようにしていることを特徴とする請求項2
に記載の研磨装置。
3. The vibration mechanism comprises an airtight pressure adjusting chamber formed between an inner surface of the roller portion and an outer surface of the supporting shaft, two ports opened to the pressure adjusting chamber, and a position inside the pressure adjusting chamber. The pressure control valve is fixed to the outer surface of the support shaft so that either one of the two ports can be closed by the sliding operation of the roller part with respect to the support shaft, and the pressure control valve from either one of the two ports. The pressure adjusting valve is provided with a fluid introducing unit that alternately feeds the fluid and withdraws the fluid from the other port, and the fluid is introduced from the one port into the pressure adjusting chamber by the fluid introducing unit. The roller portion slides in the direction of closing the other port, and the roller portion slides in the opposite direction by switching the port.
The polishing apparatus according to.
【請求項4】振動機構は、ローラー部の内面と支持軸の
外面との間に空間部を形成し、空間部内において一端が
支持軸の外面に固定され他端がローラー部内面に固定さ
れる圧電素子を設けるともに、圧電素子に電圧をかける
ための電圧入力部を備え、電圧入力部による圧電素子へ
の電圧のオンオフで圧電素子を伸縮させることによりロ
ーラー部を支持軸に対して軸方向に往復動作させるよう
にしていることを特徴とする請求項2に記載の研磨装
置。
4. The vibrating mechanism forms a space between the inner surface of the roller portion and the outer surface of the support shaft, wherein one end is fixed to the outer surface of the support shaft and the other end is fixed to the inner surface of the roller portion in the space portion. In addition to providing the piezoelectric element, it also has a voltage input section for applying a voltage to the piezoelectric element, and by expanding and contracting the piezoelectric element by turning on and off the voltage to the piezoelectric element by the voltage input section, the roller section is axially oriented with respect to the support shaft. The polishing apparatus according to claim 2, wherein the polishing apparatus is configured to reciprocate.
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