JP2003297796A - マランゴニ効果を増大させるための乾燥装備及び乾燥方法 - Google Patents
マランゴニ効果を増大させるための乾燥装備及び乾燥方法Info
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- H01L—SEMICONDUCTOR DEVICES NOT COVERED BY CLASS H10
- H01L21/00—Processes or apparatus adapted for the manufacture or treatment of semiconductor or solid state devices or of parts thereof
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Abstract
(57)【要約】 （修正有）
【課題】 マランゴニ効果を増大させるための半導体
基板の乾燥装備を提供する。 【解決手段】この装備は気体分配器１５及び液体貯蔵槽
３ａを受け入れるチャンバと、半導体基板を清浄するた
めの液体貯蔵槽の内部に液体の流動を提供し、液体貯蔵
槽から液体を排出させるための液体流動システムを備え
る。気体分配器はチャンバの上部内に設けられて半導体
基板を乾燥させるための気体を噴出させ、液体貯蔵槽は
チャンバの下部内に設けられる。チャンバにはチャンバ
の上部に配置されてチャンバ内に流入される気体を排出
させるための複数の排気穴１１ａを有する。
基板の乾燥装備を提供する。 【解決手段】この装備は気体分配器１５及び液体貯蔵槽
３ａを受け入れるチャンバと、半導体基板を清浄するた
めの液体貯蔵槽の内部に液体の流動を提供し、液体貯蔵
槽から液体を排出させるための液体流動システムを備え
る。気体分配器はチャンバの上部内に設けられて半導体
基板を乾燥させるための気体を噴出させ、液体貯蔵槽は
チャンバの下部内に設けられる。チャンバにはチャンバ
の上部に配置されてチャンバ内に流入される気体を排出
させるための複数の排気穴１１ａを有する。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は乾燥装備及び乾燥方
法に関するものであり、特に、半導体素子の製造におい
て、マランゴニ効果を増大させるための乾燥装備及び乾
燥方法に関するものである。
法に関するものであり、特に、半導体素子の製造におい
て、マランゴニ効果を増大させるための乾燥装備及び乾
燥方法に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】湿式清浄工程または湿式エッチング工程
のような湿式工程は半導体素子の製造によく使用され
る。したがって、リンス工程及び乾燥工程は各々湿式工
程に使用された化学溶液及びリンス工程に使用された脱
イオン水を半導体基板から除去するために、湿式工程の
後に必ず実施すべきである。
のような湿式工程は半導体素子の製造によく使用され
る。したがって、リンス工程及び乾燥工程は各々湿式工
程に使用された化学溶液及びリンス工程に使用された脱
イオン水を半導体基板から除去するために、湿式工程の
後に必ず実施すべきである。
【０００３】最近、マランゴニ原理が乾式効率を極大化
させるために乾燥工程に広く利用されている。前記マラ
ンゴニ原理を利用して基板を乾燥させる方法及び装備が
米国特許第５，８８４，６４０号に“基板を乾燥させる
方法及び装備”というタイトルで、Ｆｉｓｈｋｉｎなど
により開示された。Ｆｉｓｈｋｉｎなどによれば、貯蔵
容器内の脱イオン水は乾燥工程を実施する間、前記貯蔵
容器の排出口に設けられたバルブを通じて排出される。
また、前記バルブは液体水位制御システムにより制御さ
れる。したがって、前記貯蔵容器内の液体の水位を徐々
に低くするためには、前記バルブを精密に制御すること
が要求される。
させるために乾燥工程に広く利用されている。前記マラ
ンゴニ原理を利用して基板を乾燥させる方法及び装備が
米国特許第５，８８４，６４０号に“基板を乾燥させる
方法及び装備”というタイトルで、Ｆｉｓｈｋｉｎなど
により開示された。Ｆｉｓｈｋｉｎなどによれば、貯蔵
容器内の脱イオン水は乾燥工程を実施する間、前記貯蔵
容器の排出口に設けられたバルブを通じて排出される。
また、前記バルブは液体水位制御システムにより制御さ
れる。したがって、前記貯蔵容器内の液体の水位を徐々
に低くするためには、前記バルブを精密に制御すること
が要求される。
【０００４】これに加えて、日本国特許公開公報１０−
３３５２９９は前記マランゴニ原理を利用するウェハ乾
燥装置を開示する。前記日本国特許公開公報１０−３３
５２９９によれば、前記ウェハ乾燥装置は半導体ウェハ
が入れた脱イオン水上に密閉された空間を提供すること
ができる密閉用の液槽を含む。したがって、前記乾燥工
程は前記密閉された空間内に乾燥ガスを流入させること
によって実施される。この場合に、前記乾燥ガスは前記
脱イオン水の水位を低くするために高圧で供給されなけ
ればならない。これによって、前記脱イオン水の水位を
徐々に低くするためには、前記乾燥ガスの圧力を精密に
調節することが要求される。
３３５２９９は前記マランゴニ原理を利用するウェハ乾
燥装置を開示する。前記日本国特許公開公報１０−３３
５２９９によれば、前記ウェハ乾燥装置は半導体ウェハ
が入れた脱イオン水上に密閉された空間を提供すること
ができる密閉用の液槽を含む。したがって、前記乾燥工
程は前記密閉された空間内に乾燥ガスを流入させること
によって実施される。この場合に、前記乾燥ガスは前記
脱イオン水の水位を低くするために高圧で供給されなけ
ればならない。これによって、前記脱イオン水の水位を
徐々に低くするためには、前記乾燥ガスの圧力を精密に
調節することが要求される。
【０００５】一方、マランゴニ原理を利用せず、基板を
乾燥させる装備及び方法が米国特許第６，１５８，１４
１号に“半導体基板を乾燥させる装備及び方法”という
タイトルで、Ａｓａｄａなどにより開示されたところが
ある。Ａｓａｄａなどによれば、リンスされたウェハは
脱イオン水で満たされたリンス槽（ｒｉｎｓｉｎｇｂａ
ｔｈ）から空間を有する乾燥槽（ｄｒｙｉｎｇ ｂａｔ
ｈ）内に移動される。次に、前記乾燥槽を密閉させる。
前記乾燥槽は前記リンスされたウェハに乾燥ガスを噴射
させるための複数のノズルを含む。前記乾燥ガスは乾燥
効率を極大化させるために、垂直方向から２０°乃至５
０°の傾けた方向に沿って前記リンスされたウェハ上に
噴射される。しかし、この乾燥方法は、マランゴニ原理
を利用しない。したがって、マランゴニ原理を利用する
乾燥方法に比べて乾燥効果を増大させ難い。
乾燥させる装備及び方法が米国特許第６，１５８，１４
１号に“半導体基板を乾燥させる装備及び方法”という
タイトルで、Ａｓａｄａなどにより開示されたところが
ある。Ａｓａｄａなどによれば、リンスされたウェハは
脱イオン水で満たされたリンス槽（ｒｉｎｓｉｎｇｂａ
ｔｈ）から空間を有する乾燥槽（ｄｒｙｉｎｇ ｂａｔ
ｈ）内に移動される。次に、前記乾燥槽を密閉させる。
前記乾燥槽は前記リンスされたウェハに乾燥ガスを噴射
させるための複数のノズルを含む。前記乾燥ガスは乾燥
効率を極大化させるために、垂直方向から２０°乃至５
０°の傾けた方向に沿って前記リンスされたウェハ上に
噴射される。しかし、この乾燥方法は、マランゴニ原理
を利用しない。したがって、マランゴニ原理を利用する
乾燥方法に比べて乾燥効果を増大させ難い。
【０００６】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、マラ
ンゴニ効果を極大化させることができる乾燥装備及び乾
燥方法を提供することにある。
ンゴニ効果を極大化させることができる乾燥装備及び乾
燥方法を提供することにある。
【０００７】本発明のまた他の課題は、乾燥工程を進行
する間、乾燥ガスの濃度を極大化させることができる乾
燥装備及び乾燥方法を提供することにある。
する間、乾燥ガスの濃度を極大化させることができる乾
燥装備及び乾燥方法を提供することにある。
【０００８】本発明のまた他の課題は、乾燥工程を進行
する間、マランゴニ効果を極大化させるために湿式装置
内の液体の表面水位を安定するように維持させることが
できる乾燥装備及び乾燥方法を提供することにある。
する間、マランゴニ効果を極大化させるために湿式装置
内の液体の表面水位を安定するように維持させることが
できる乾燥装備及び乾燥方法を提供することにある。
【０００９】本発明のまた他の課題は、湿式装置内の液
体の表面の全体にわたって乾燥ガスを均一に供給できる
乾燥装備及び乾燥方法を提供することにある。
体の表面の全体にわたって乾燥ガスを均一に供給できる
乾燥装備及び乾燥方法を提供することにある。
【００１０】本発明のまた他の課題は、乾燥工程を実施
する間、湿式装置内の液体の水位を徐々に容易に低くす
ることができる乾燥装備及び乾燥方法を提供することに
ある。
する間、湿式装置内の液体の水位を徐々に容易に低くす
ることができる乾燥装備及び乾燥方法を提供することに
ある。
【００１１】
【課題を解決するための手段】前述の目的を解決するた
めに本発明は、清浄工程またはリンス工程に使用される
液体の水位を容易に調節できると共に、マランゴニ効果
を極大化させて半導体基板の乾燥効率を引き上げる乾燥
装備を提供する。この乾燥装備はチャンバと、前記チャ
ンバの上部内に配置されて乾燥気体を噴出させる気体分
配器と、前記チャンバの下部内に配置された液体貯蔵槽
と、前記液体貯蔵槽の内部に液体を提供し、前記液体貯
蔵槽内の液体を排出させる液体流動システムを含む。前
記チャンバの上部には前記気体を排出させるための複数
の排気穴を備える。
めに本発明は、清浄工程またはリンス工程に使用される
液体の水位を容易に調節できると共に、マランゴニ効果
を極大化させて半導体基板の乾燥効率を引き上げる乾燥
装備を提供する。この乾燥装備はチャンバと、前記チャ
ンバの上部内に配置されて乾燥気体を噴出させる気体分
配器と、前記チャンバの下部内に配置された液体貯蔵槽
と、前記液体貯蔵槽の内部に液体を提供し、前記液体貯
蔵槽内の液体を排出させる液体流動システムを含む。前
記チャンバの上部には前記気体を排出させるための複数
の排気穴を備える。
【００１２】前記複数の排気穴は互いに向き合うように
配置された少なくとも一対の排気穴を含むことが望まし
い。
配置された少なくとも一対の排気穴を含むことが望まし
い。
【００１３】前記液体流動システムは前記液体貯蔵槽内
の液体の水位及び排出を調節する液体水位制御器を含
む。前記液体水位制御器は前記液体貯蔵槽の内部に液体
を持続的に供給、または前記液体貯蔵槽内の液体を持続
的に排出させる手段を含む。ここで、前記液体を供給、
または排出させる手段は前記液体貯蔵槽の排出口と接続
された柔軟性配管を含む。これによって、前記液体貯蔵
槽内の液体の水位は前記柔軟性配管の一部分を上昇、ま
たは下降させて調節されることができる。
の液体の水位及び排出を調節する液体水位制御器を含
む。前記液体水位制御器は前記液体貯蔵槽の内部に液体
を持続的に供給、または前記液体貯蔵槽内の液体を持続
的に排出させる手段を含む。ここで、前記液体を供給、
または排出させる手段は前記液体貯蔵槽の排出口と接続
された柔軟性配管を含む。これによって、前記液体貯蔵
槽内の液体の水位は前記柔軟性配管の一部分を上昇、ま
たは下降させて調節されることができる。
【００１４】また、前記液体流動システムは前記液体貯
蔵槽内に液体を流入させると共に、前記液体の流動を緩
衝させる液体流動緩衝器をさらに含むことができる。前
記液体流動緩衝器は前記液体貯蔵槽の上部に設けられ
る。
蔵槽内に液体を流入させると共に、前記液体の流動を緩
衝させる液体流動緩衝器をさらに含むことができる。前
記液体流動緩衝器は前記液体貯蔵槽の上部に設けられ
る。
【００１５】本発明の一実施形態によれば、前記液体流
動緩衝器は前記液体流動緩衝器の下部に設けられたスリ
ット型の開口部を有する。したがって、前記液体流動緩
衝器はそれの上方から液体が供給され、前記液体流動緩
衝器の内部に供給された液体は前記スリット型の開口部
を通じて前記液体貯蔵槽の内部に排出される。
動緩衝器は前記液体流動緩衝器の下部に設けられたスリ
ット型の開口部を有する。したがって、前記液体流動緩
衝器はそれの上方から液体が供給され、前記液体流動緩
衝器の内部に供給された液体は前記スリット型の開口部
を通じて前記液体貯蔵槽の内部に排出される。
【００１６】本発明の他の実施形態によれば、前記液体
流動緩衝器内に流入される液体はそれの上方から供給さ
れ、前記液体流動緩衝器の内部に流入された液体は前記
液体流動緩衝器の上部にこぼれる形態及び大きさを有す
る。この場合に、前記チャンバは前記液体貯蔵槽からこ
ぼれる液体が入れる外部液槽を含み、前記液体貯蔵槽の
底に液体を流入させる開口部を有する。したがって、前
記液体貯蔵槽内の液体は前記液体流動緩衝器及び前記液
体貯蔵槽の開口部を通じて流入され、前記液体貯蔵槽を
こぼれて前記外部液槽内に排出される。
流動緩衝器内に流入される液体はそれの上方から供給さ
れ、前記液体流動緩衝器の内部に流入された液体は前記
液体流動緩衝器の上部にこぼれる形態及び大きさを有す
る。この場合に、前記チャンバは前記液体貯蔵槽からこ
ぼれる液体が入れる外部液槽を含み、前記液体貯蔵槽の
底に液体を流入させる開口部を有する。したがって、前
記液体貯蔵槽内の液体は前記液体流動緩衝器及び前記液
体貯蔵槽の開口部を通じて流入され、前記液体貯蔵槽を
こぼれて前記外部液槽内に排出される。
【００１７】また、前記気体分配器は内部配管及び前記
内部配管及び前記内部配管を囲む同軸外部配管を含む。
前記内部配管の一端が開放され、その他の端は密閉され
た形態を有する。これに加えて、前記内部配管はその長
さの方向の軸に沿って均一に離隔されるように整列さ
れ、前記開放された一端を通じて流入された気体を前記
外部配管に通過させる複数のホールを有する。さらに、
前記外部配管は第１セットのホール及び第２セットのホ
ールを備える。前記第１及び第２セットのホールは各々
第１及び第２長さの方向の軸に沿って整列されて前記内
部配管のホールを通過した気体を排出させる。前記第１
及び第２長さの方向の軸は前記内部配管の中心を通る垂
直軸に対して互いに対称に位置する。
内部配管及び前記内部配管を囲む同軸外部配管を含む。
前記内部配管の一端が開放され、その他の端は密閉され
た形態を有する。これに加えて、前記内部配管はその長
さの方向の軸に沿って均一に離隔されるように整列さ
れ、前記開放された一端を通じて流入された気体を前記
外部配管に通過させる複数のホールを有する。さらに、
前記外部配管は第１セットのホール及び第２セットのホ
ールを備える。前記第１及び第２セットのホールは各々
第１及び第２長さの方向の軸に沿って整列されて前記内
部配管のホールを通過した気体を排出させる。前記第１
及び第２長さの方向の軸は前記内部配管の中心を通る垂
直軸に対して互いに対称に位置する。
【００１８】これに加えて、前記気体分配器の下部には
ガイドが設置されることができる。前記ガイドは前記チ
ャンバの幅より小さい。これによって、前記気体分配器
から排出された気体は前記ガイド及び前記チャンバの両
側壁の間のチャネルを通じて前記液体貯蔵槽に流れる。
前記ガイドは下部面を含む。前記気体分配器を横切る方
向と平行した方向に沿って切断された前記ガイドの断面
図で示す時に、前記ガイドの下部面の中心部はそのエッ
ジより低い。これによって、前記ガイド及び前記チャン
バの両側壁の間のチャネルを通過した気体は前記ガイド
の下部面に反射されて前記液体貯蔵槽に流れる。
ガイドが設置されることができる。前記ガイドは前記チ
ャンバの幅より小さい。これによって、前記気体分配器
から排出された気体は前記ガイド及び前記チャンバの両
側壁の間のチャネルを通じて前記液体貯蔵槽に流れる。
前記ガイドは下部面を含む。前記気体分配器を横切る方
向と平行した方向に沿って切断された前記ガイドの断面
図で示す時に、前記ガイドの下部面の中心部はそのエッ
ジより低い。これによって、前記ガイド及び前記チャン
バの両側壁の間のチャネルを通過した気体は前記ガイド
の下部面に反射されて前記液体貯蔵槽に流れる。
【００１９】また、本発明による乾燥装備は前記気体分
配器に供給される気体を発生させる気体生成器をさらに
含む。前記気体生成器は運搬ガス配管及び前記運搬ガス
配管の排出口と接続されたノズルを含む。前記ノズルは
その全体にわたって一定の直径を有する。これに加え
て、前記気体生成器は前記ノズルの排出口と接続された
膨張タンク及び膨張タンク内に設けられた多孔性フィル
タをさらに含むことができる。
配器に供給される気体を発生させる気体生成器をさらに
含む。前記気体生成器は運搬ガス配管及び前記運搬ガス
配管の排出口と接続されたノズルを含む。前記ノズルは
その全体にわたって一定の直径を有する。これに加え
て、前記気体生成器は前記ノズルの排出口と接続された
膨張タンク及び膨張タンク内に設けられた多孔性フィル
タをさらに含むことができる。
【００２０】前記気体分配器はふたにより覆われる。前
記ふた及び前記液体貯蔵槽はフードにより連結される。
ここで、前記チャンバは前記ふた、前記フード及び前記
液体貯蔵槽を含む。
記ふた及び前記液体貯蔵槽はフードにより連結される。
ここで、前記チャンバは前記ふた、前記フード及び前記
液体貯蔵槽を含む。
【００２１】前記液体貯蔵槽の内部では、前記基板を支
持する複数のバーが配置される。前記複数のバーは前記
液体貯蔵槽内の基板及び前記複数のバーを上昇、または
下降させる制御器と接続される。
持する複数のバーが配置される。前記複数のバーは前記
液体貯蔵槽内の基板及び前記複数のバーを上昇、または
下降させる制御器と接続される。
【００２２】前記技術的課題を解決するために本発明
は、清浄工程またはリンス工程に使用される液体の水位
を容易に調節できると共に、アランゴニ効果を極大化さ
せて半導体基板の乾燥効率を引き上げる乾燥方法を提供
する。この乾燥方法は第１空間及び前記第１空間の下部
に第２空間を有するチャンバ内に気体分配器及び液体貯
蔵槽を装着する段階を含む。前記気体分配器及び前記液
体貯蔵槽は各々前記第１及び第２空間内に配置される。
また、前記第１及び第２空間はそれらの間に介されたフ
ードにより分離される。前記液体貯蔵槽内に液体を供給
して前記基板を清浄する。前記気体分配器から排出され
る気体を前記液体貯蔵槽内の液体と混合させると共に前
記液体貯蔵槽内に液体を持続的に供給し、前記液体貯蔵
槽内の液体を持続的に排出させて前記基板を乾燥させ
る。
は、清浄工程またはリンス工程に使用される液体の水位
を容易に調節できると共に、アランゴニ効果を極大化さ
せて半導体基板の乾燥効率を引き上げる乾燥方法を提供
する。この乾燥方法は第１空間及び前記第１空間の下部
に第２空間を有するチャンバ内に気体分配器及び液体貯
蔵槽を装着する段階を含む。前記気体分配器及び前記液
体貯蔵槽は各々前記第１及び第２空間内に配置される。
また、前記第１及び第２空間はそれらの間に介されたフ
ードにより分離される。前記液体貯蔵槽内に液体を供給
して前記基板を清浄する。前記気体分配器から排出され
る気体を前記液体貯蔵槽内の液体と混合させると共に前
記液体貯蔵槽内に液体を持続的に供給し、前記液体貯蔵
槽内の液体を持続的に排出させて前記基板を乾燥させ
る。
【００２３】前記基板を乾燥させる間、前記液体貯蔵槽
の内部に流入された気体は前記フードの上部に設けられ
た排出口を通じて前記チャンバの外に排出される。ま
た、前記基板を乾燥させる間、前記基板は徐々に上昇さ
れ、前記液体貯蔵槽の上部、すなわち、前記フードの内
部に移動されることができる。
の内部に流入された気体は前記フードの上部に設けられ
た排出口を通じて前記チャンバの外に排出される。ま
た、前記基板を乾燥させる間、前記基板は徐々に上昇さ
れ、前記液体貯蔵槽の上部、すなわち、前記フードの内
部に移動されることができる。
【００２４】前記液体貯蔵槽内の液体の水位は前記液体
貯蔵槽の排出口に接続された柔軟性配管の一部分を上
昇、または下降させて調節されることができる。例え
ば、前記液体貯蔵槽内の液体は前記柔軟性配管の一部分
を徐々に下降させることによって排出される。
貯蔵槽の排出口に接続された柔軟性配管の一部分を上
昇、または下降させて調節されることができる。例え
ば、前記液体貯蔵槽内の液体は前記柔軟性配管の一部分
を徐々に下降させることによって排出される。
【００２５】一方、本発明による乾燥方法は、前記液体
貯蔵槽内に供給される液体の流れを緩衝させる段階をさ
らに含む。前記液体の流れを緩衝させる段階は液体流動
緩衝器を使用して実施する。
貯蔵槽内に供給される液体の流れを緩衝させる段階をさ
らに含む。前記液体の流れを緩衝させる段階は液体流動
緩衝器を使用して実施する。
【００２６】また、前記基板を乾燥させる段階は、前記
気体分配器の下部に設けられたガイドを使用して実施す
ることもできる。前記ガイドの幅は前記チャンバの幅よ
り小さい。したがって、前記気体分配器から排出された
気体は前記ガイド及び前記チャンバの両側壁の間のチャ
ネルを通じて前記液体貯蔵槽の上部に向けて流れる。前
記ガイドは下部面を含む。前記気体配分器を横切る方向
と平行した方向に沿って切断された前記ガイドの断面図
で示す時に、前記ガイドの下部面はその中心部がそのエ
ッジより低い。したがって、前記チャネルを通る気体は
前記ガイドの下部面に反射されて前記液体貯蔵槽に向け
て流れる。
気体分配器の下部に設けられたガイドを使用して実施す
ることもできる。前記ガイドの幅は前記チャンバの幅よ
り小さい。したがって、前記気体分配器から排出された
気体は前記ガイド及び前記チャンバの両側壁の間のチャ
ネルを通じて前記液体貯蔵槽の上部に向けて流れる。前
記ガイドは下部面を含む。前記気体配分器を横切る方向
と平行した方向に沿って切断された前記ガイドの断面図
で示す時に、前記ガイドの下部面はその中心部がそのエ
ッジより低い。したがって、前記チャネルを通る気体は
前記ガイドの下部面に反射されて前記液体貯蔵槽に向け
て流れる。
【００２７】また、本発明による乾燥方法は、前記気体
分配器の内部に供給される気体を生成させる段階をさら
に含む。前記気体を生成させる段階は気体生成器を使用
して進行される。前記気体生成器は運搬ガス配管及び前
記運搬ガス配管の排出口と接続されたノズルを含む。前
記ノズルはその全体にわたって一定の直径を有する。こ
れに加えて、前記気体生成器は前記ノズルの排出口と接
続された膨張タンク及び前記膨張タンク内に設けられた
多孔性フィルタをさらに含むことができる。
分配器の内部に供給される気体を生成させる段階をさら
に含む。前記気体を生成させる段階は気体生成器を使用
して進行される。前記気体生成器は運搬ガス配管及び前
記運搬ガス配管の排出口と接続されたノズルを含む。前
記ノズルはその全体にわたって一定の直径を有する。こ
れに加えて、前記気体生成器は前記ノズルの排出口と接
続された膨張タンク及び前記膨張タンク内に設けられた
多孔性フィルタをさらに含むことができる。
【００２８】
【発明の実施の形態】以下、添付した図を参照して、本
発明の望ましい実施形態を詳細に説明する。
発明の望ましい実施形態を詳細に説明する。
【００２９】図１及び図２を参照すると、湿式装置（ｗ
ｅｔ ｓｔａｔｉｏｎ）上にフード１１が設けられる。
前記フード１１は側壁を有し、前記側壁により囲まれた
空間を提供する。また、前記フード１１は上／下部に向
けて開口された形態を有する。これに加えて、前記フー
ド１１はその上部に複数の排気穴１１ａを有する。前記
排気穴１１ａは前記フード１１の中心に対して互いに向
き合う少なくとも一対の排気穴で構成される。前記排気
穴１１ａは多様な形状を有することができる。例えば、
前記排気穴１１ａの各々は図２に示したように、水平方
向と平行したスリット型であり得る。これと異なり、図
示しないが、前記排気穴１１ａは互いに向き合う複数の
ホールで構成されることもできる。すなわち、前記排気
穴１１ａは前記フード１１の両側壁の上部に設けられた
複数のホールで構成されることもできる。
ｅｔ ｓｔａｔｉｏｎ）上にフード１１が設けられる。
前記フード１１は側壁を有し、前記側壁により囲まれた
空間を提供する。また、前記フード１１は上／下部に向
けて開口された形態を有する。これに加えて、前記フー
ド１１はその上部に複数の排気穴１１ａを有する。前記
排気穴１１ａは前記フード１１の中心に対して互いに向
き合う少なくとも一対の排気穴で構成される。前記排気
穴１１ａは多様な形状を有することができる。例えば、
前記排気穴１１ａの各々は図２に示したように、水平方
向と平行したスリット型であり得る。これと異なり、図
示しないが、前記排気穴１１ａは互いに向き合う複数の
ホールで構成されることもできる。すなわち、前記排気
穴１１ａは前記フード１１の両側壁の上部に設けられた
複数のホールで構成されることもできる。
【００３０】前記湿式装置は液体貯蔵槽３ａを含む。前
記液体貯蔵槽３ａは底及び側壁を有する。また、前記液
体貯蔵槽３ａは前記液体貯蔵槽３ａの底から延長された
排出口３ｂを有する。また、前記湿式装置は前記液体貯
蔵槽３ａを囲む外部液槽１をさらに含むことができる。
この場合に、前記排出口３ｂは前記外部液槽１の底を貫
通する。したがって、前記湿式装置の下部は密閉された
形態を有する。
記液体貯蔵槽３ａは底及び側壁を有する。また、前記液
体貯蔵槽３ａは前記液体貯蔵槽３ａの底から延長された
排出口３ｂを有する。また、前記湿式装置は前記液体貯
蔵槽３ａを囲む外部液槽１をさらに含むことができる。
この場合に、前記排出口３ｂは前記外部液槽１の底を貫
通する。したがって、前記湿式装置の下部は密閉された
形態を有する。
【００３１】前記液体貯蔵槽３ａの両側壁の上部には一
対の液体流動緩衝器３ｃが設けられる。前記液体流動緩
衝器３ｃの内部は液体７で満たされる。前記液体７は液
体供給管５を通じて前記液体流動緩衝器３ｃ内に供給さ
れる。前記液体供給管５の排出口は前記液体流動緩衝器
３ｃの上部に位置する。前記液体７は清浄工程で、前記
ウェハ９上に残存するパーチクル、銅のような金属汚染
物質または自然酸化膜のような汚染物質を除去するのに
適する化学溶液、例えば、電解水（ｅｌｅｃｔｒｏｌｙ
ｓｉｓ−ｉｏｎｉｚｅｄ ｗａｔｅｒ）またはフッ酸
（ｈｙｄｒｏｆｌｕｏｒｉｃ ａｃｉｄ）液であり得
る。また、前記溶液７はリンス工程で、前記ウェハ９上
に残っている化学溶液を除去するのに適する脱イオン水
であり得る。前記リンス工程の間、前記脱イオン水に代
えて前記電解水が使用されることもできる。
対の液体流動緩衝器３ｃが設けられる。前記液体流動緩
衝器３ｃの内部は液体７で満たされる。前記液体７は液
体供給管５を通じて前記液体流動緩衝器３ｃ内に供給さ
れる。前記液体供給管５の排出口は前記液体流動緩衝器
３ｃの上部に位置する。前記液体７は清浄工程で、前記
ウェハ９上に残存するパーチクル、銅のような金属汚染
物質または自然酸化膜のような汚染物質を除去するのに
適する化学溶液、例えば、電解水（ｅｌｅｃｔｒｏｌｙ
ｓｉｓ−ｉｏｎｉｚｅｄ ｗａｔｅｒ）またはフッ酸
（ｈｙｄｒｏｆｌｕｏｒｉｃ ａｃｉｄ）液であり得
る。また、前記溶液７はリンス工程で、前記ウェハ９上
に残っている化学溶液を除去するのに適する脱イオン水
であり得る。前記リンス工程の間、前記脱イオン水に代
えて前記電解水が使用されることもできる。
【００３２】前記液体貯蔵槽３ａ及び前記液体流動緩衝
器３ｃは前記外部液槽１内の支持部１ａにより固定され
るように設けられる。前記湿式装置が前記液体貯蔵槽３
ａのみで構成される場合には、前記フード１１は前記液
体貯蔵槽３ａと接続されることが望ましい。
器３ｃは前記外部液槽１内の支持部１ａにより固定され
るように設けられる。前記湿式装置が前記液体貯蔵槽３
ａのみで構成される場合には、前記フード１１は前記液
体貯蔵槽３ａと接続されることが望ましい。
【００３３】前記液体貯蔵槽３ａ内の前記ウェハ９はウ
ェハホールダにより支持される。前記ウェハホールダは
前記ウェハ９を横切る方向と平行に配置された少なくと
も三つのバー８ａ及び８ｂで構成されることができる。
例えば、前記ウェハホールダは一つの中心バー８ａ及び
前記中心バーの両側に位置する二つの側バー８ｂで構成
される。前記ウェハホールダは前記ウェハ９を上昇、ま
たは下降させる制御器（図示せず）と接続される。さら
に具体的に、前記ウェハホールダは乾燥工程を実施する
間、前記制御器により前記フード１１内の空間に徐々に
移動して前記ウェハ９を上昇させることができる。
ェハホールダにより支持される。前記ウェハホールダは
前記ウェハ９を横切る方向と平行に配置された少なくと
も三つのバー８ａ及び８ｂで構成されることができる。
例えば、前記ウェハホールダは一つの中心バー８ａ及び
前記中心バーの両側に位置する二つの側バー８ｂで構成
される。前記ウェハホールダは前記ウェハ９を上昇、ま
たは下降させる制御器（図示せず）と接続される。さら
に具体的に、前記ウェハホールダは乾燥工程を実施する
間、前記制御器により前記フード１１内の空間に徐々に
移動して前記ウェハ９を上昇させることができる。
【００３４】前記フード１１はふた１３により覆われ
る。前記ふた１３は図１に示したように、前記ウェハホ
ールダを横切る方向と平行した方向に沿って切断された
断面図で示す時に、丸い形状を有することができる。し
たがって、ふた１３は第１空間を提供する。しかし、前
記ふた１３は四角形の断面を有することもできる。この
場合に、前記ふた１３は平らな上部面及び垂直した側壁
を有する。
る。前記ふた１３は図１に示したように、前記ウェハホ
ールダを横切る方向と平行した方向に沿って切断された
断面図で示す時に、丸い形状を有することができる。し
たがって、ふた１３は第１空間を提供する。しかし、前
記ふた１３は四角形の断面を有することもできる。この
場合に、前記ふた１３は平らな上部面及び垂直した側壁
を有する。
【００３５】さらに、前記第１空間内に気体分配器１５
が設けられる。前記気体分配器１５を通じて前記第１空
間内に乾燥ガス２９のような気体が供給される。前記乾
燥ガス２９は窒素のような運搬ガスと共に前記気体分配
器１５を通じて前記第１空間内に噴出される。また、前
記フード１１内の空間及び前記第１空間の間に複数のホ
ールを有するプレート１７が設置されることができる。
したがって、第１空間内に注入された乾燥ガス２９は前
記プレート１７を貫通する複数のホールを通じて前記プ
レート１７の下部に向けて均一に流れる。次に、前記乾
燥ガス２９の一部は前記液体貯蔵槽３ａ内の液体７の表
面内に染み入って前記液体７、すなわち、脱イオン水の
表面での表面張力を減少させる。特に、前記乾燥工程の
間、前記ウェハ９が上昇、または前記液体７の水位が低
くなると、前記ウェハ９の表面と前記液体７が接触され
る部分でメニスカス（ｍｅｎｉｓｃｕｓ）形態の液体表
面が形成される。このような状態下で、前記乾燥ガス２
９が前記液体７の表面に染み入ると、前記メニスカス部
分の表面張力はどのような部分での表面張力より低い。
これによって、前記ウェハ９の表面に残存する液体７、
すなわち、脱イオン水は表面張力が高い部分に移動する
ようになる。結果的に、マランゴニ原理を利用すれば、
ウェハ９の表面から脱イオン水を除去させる効果を極大
化させることができる。前記乾燥ガス２９の残余量及び
前記運搬ガスは前記排気穴１１ａを通じて外部に排出さ
れる。この時に、前記乾燥ガスの分子量は前記運搬ガス
の分子量より大きいので、前記乾燥ガスの大部分は前記
液体貯蔵槽３ａ内の液体表面まで到達して前記液体表面
に染み入り、残りの乾燥ガスは前記排気穴１１ａを通じ
て排出される。
が設けられる。前記気体分配器１５を通じて前記第１空
間内に乾燥ガス２９のような気体が供給される。前記乾
燥ガス２９は窒素のような運搬ガスと共に前記気体分配
器１５を通じて前記第１空間内に噴出される。また、前
記フード１１内の空間及び前記第１空間の間に複数のホ
ールを有するプレート１７が設置されることができる。
したがって、第１空間内に注入された乾燥ガス２９は前
記プレート１７を貫通する複数のホールを通じて前記プ
レート１７の下部に向けて均一に流れる。次に、前記乾
燥ガス２９の一部は前記液体貯蔵槽３ａ内の液体７の表
面内に染み入って前記液体７、すなわち、脱イオン水の
表面での表面張力を減少させる。特に、前記乾燥工程の
間、前記ウェハ９が上昇、または前記液体７の水位が低
くなると、前記ウェハ９の表面と前記液体７が接触され
る部分でメニスカス（ｍｅｎｉｓｃｕｓ）形態の液体表
面が形成される。このような状態下で、前記乾燥ガス２
９が前記液体７の表面に染み入ると、前記メニスカス部
分の表面張力はどのような部分での表面張力より低い。
これによって、前記ウェハ９の表面に残存する液体７、
すなわち、脱イオン水は表面張力が高い部分に移動する
ようになる。結果的に、マランゴニ原理を利用すれば、
ウェハ９の表面から脱イオン水を除去させる効果を極大
化させることができる。前記乾燥ガス２９の残余量及び
前記運搬ガスは前記排気穴１１ａを通じて外部に排出さ
れる。この時に、前記乾燥ガスの分子量は前記運搬ガス
の分子量より大きいので、前記乾燥ガスの大部分は前記
液体貯蔵槽３ａ内の液体表面まで到達して前記液体表面
に染み入り、残りの乾燥ガスは前記排気穴１１ａを通じ
て排出される。
【００３６】さらに具体的に、前記乾燥ガス２９は図１
に示したように、前記液体貯蔵槽３ａの上部に均一に分
布されるように流れる。これは、前記排気穴１１ａが前
記フード１１の上部に位置するからである。前記排気穴
１１ａが前記フード１１の中間部分または下部に位置す
れば、前記乾燥ガス２９の大部分の量は前記液体貯蔵槽
３ａのエッジを通じて前記排気穴に排出される。したが
って、この場合には、前記液体貯蔵槽３ａの中心部に向
けて流れる乾燥ガス２９の密度が前記液体貯蔵槽３ａの
エッジに向けて流れる乾燥ガス２９の密度より低い。結
果的に、本実施形態のように前記排気穴１１ａをフード
１１の上部に設けることによって、前記液体貯蔵槽３ａ
に向けて流れる乾燥ガス２９の密度が前記液体貯蔵槽３
ａ内に貯蔵された前記液体７の全面にわたって均一に分
布されるように調節することが可能である。これによっ
て、マランゴニ効果を向上させることができる。
に示したように、前記液体貯蔵槽３ａの上部に均一に分
布されるように流れる。これは、前記排気穴１１ａが前
記フード１１の上部に位置するからである。前記排気穴
１１ａが前記フード１１の中間部分または下部に位置す
れば、前記乾燥ガス２９の大部分の量は前記液体貯蔵槽
３ａのエッジを通じて前記排気穴に排出される。したが
って、この場合には、前記液体貯蔵槽３ａの中心部に向
けて流れる乾燥ガス２９の密度が前記液体貯蔵槽３ａの
エッジに向けて流れる乾燥ガス２９の密度より低い。結
果的に、本実施形態のように前記排気穴１１ａをフード
１１の上部に設けることによって、前記液体貯蔵槽３ａ
に向けて流れる乾燥ガス２９の密度が前記液体貯蔵槽３
ａ内に貯蔵された前記液体７の全面にわたって均一に分
布されるように調節することが可能である。これによっ
て、マランゴニ効果を向上させることができる。
【００３７】望ましくは、前記乾燥ガス２９はマランゴ
ニ効果を向上させ、それの表面張力を低くするために、
脱イオン水に溶解されることができるガス、例えば、エ
チルグリコール（ｅｔｈｌｇｌｙｃｏｌ）、１−プロパ
ノール（１−ｐｒｏｐａｎｏｌ）、２−プロパノール
（２−ｐｒｏｐａｎｏｌ）、テトラヒドロフラン（ｔｅ
ｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎｅ）、４−オキシ−４メチ
ル−２ペンタモーン（４−ｈｙｄｒｏｘｙ−４−ｍｅｔ
ｈｙｌ−２−ｐｅｎｔａｍｏｎｅ）、１−ブタノール
（１−ｂｕｔａｎｏｌ）、２−ブタノール（２−ｂｕｔ
ａｎｏｌ）、メタノール（ｍｅｔｈａｎｏｌ）、エタノ
ール（ｅｔｈａｎｏｌ）、イソプロピルアルコール（ｉ
ｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）、アセトン（ａｃ
ｅｔｏｎｅ）、ｎ−プロピルアルコール（ｎ−ｐｒｏｐ
ｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）またはジメチルエーテル（ｄｉ
ｍｅｔｈｙｌｅｔｈｅｒ）を含む。前記メタノールは２
４ｄｙｎ／ｃｍの表面張力を有し、前記エタノールは２
４．１ｄｙｎ／ｃｍの表面張力を有し、前記ｎ−プロピ
ルアルコール及びイソプロピルアルコールは２２．９ｄ
ｙｎ／ｃｍの表面張力を有し、前記アセトンは２６．３
ｄｙｎ／ｃｍの表面張力を有する。
ニ効果を向上させ、それの表面張力を低くするために、
脱イオン水に溶解されることができるガス、例えば、エ
チルグリコール（ｅｔｈｌｇｌｙｃｏｌ）、１−プロパ
ノール（１−ｐｒｏｐａｎｏｌ）、２−プロパノール
（２−ｐｒｏｐａｎｏｌ）、テトラヒドロフラン（ｔｅ
ｔｒａｈｙｄｒｏｆｕｒａｎｅ）、４−オキシ−４メチ
ル−２ペンタモーン（４−ｈｙｄｒｏｘｙ−４−ｍｅｔ
ｈｙｌ−２−ｐｅｎｔａｍｏｎｅ）、１−ブタノール
（１−ｂｕｔａｎｏｌ）、２−ブタノール（２−ｂｕｔ
ａｎｏｌ）、メタノール（ｍｅｔｈａｎｏｌ）、エタノ
ール（ｅｔｈａｎｏｌ）、イソプロピルアルコール（ｉ
ｓｏｐｒｏｐｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）、アセトン（ａｃ
ｅｔｏｎｅ）、ｎ−プロピルアルコール（ｎ−ｐｒｏｐ
ｙｌ ａｌｃｏｈｏｌ）またはジメチルエーテル（ｄｉ
ｍｅｔｈｙｌｅｔｈｅｒ）を含む。前記メタノールは２
４ｄｙｎ／ｃｍの表面張力を有し、前記エタノールは２
４．１ｄｙｎ／ｃｍの表面張力を有し、前記ｎ−プロピ
ルアルコール及びイソプロピルアルコールは２２．９ｄ
ｙｎ／ｃｍの表面張力を有し、前記アセトンは２６．３
ｄｙｎ／ｃｍの表面張力を有する。
【００３８】これに加えて、前記液体貯蔵槽３ａの排出
口３ｂは液体水位制御器３０と接続される。前記液体水
位制御器３０は柔軟性配管１９を含む。前記柔軟性配管
１９の一端は前記液体貯蔵槽３ａの排出口３ｂと接続さ
れる。前記柔軟性配管１９の一部分は垂直したバー２１
ａにより支持される。前記垂直バー２１ａはそれの一側
壁に複数の歯車の形態のグルーブ（溝）を有する。前記
グルーブは一定のピッチを有し、垂直方向に形成され
る。また、前記垂直バー２１ａは支持ブロック２１ｂの
垂直したガイドホール内にはめられる。また、前記垂直
バー２１ａは上／下に移動されることができる。
口３ｂは液体水位制御器３０と接続される。前記液体水
位制御器３０は柔軟性配管１９を含む。前記柔軟性配管
１９の一端は前記液体貯蔵槽３ａの排出口３ｂと接続さ
れる。前記柔軟性配管１９の一部分は垂直したバー２１
ａにより支持される。前記垂直バー２１ａはそれの一側
壁に複数の歯車の形態のグルーブ（溝）を有する。前記
グルーブは一定のピッチを有し、垂直方向に形成され
る。また、前記垂直バー２１ａは支持ブロック２１ｂの
垂直したガイドホール内にはめられる。また、前記垂直
バー２１ａは上／下に移動されることができる。
【００３９】前記垂直バー２１ａのグルーブは歯車２３
とかみ合わされ、前記歯車２３は回転軸２７を通じてモ
ータ２５と接続される。したがって、前記歯車２３は前
記モータ２５を動作させることによって回転される。結
果的に、前記垂直バー２１ａは前記歯車２３の回転方向
に従って上昇、または下降し、前記柔軟性配管１９の一
部分も上昇、または下降する。前記液体貯蔵槽３ａが液
体７で満たされた場合に、前記液体７の表面水位７ａは
常に前記柔軟性配管１９内の前記液体７の表面水位７ｃ
と同一の高さを有する。したがって、前記モータ２５を
動作させることによって、前記液体貯蔵槽３ａ内の液体
の表面水位７ａを容易に調節できる。前記液体水位制御
器３０は前記柔軟性配管１９、前記垂直バー２１ａ、前
記支持ブロック２１ｂ、前記歯車２３、前記回転軸２７
及び前記モータ２５を含む。また、前記液体水位制御器
３０及び前記液体流動緩衝器３ｃは液体流動システムを
構成する。これに加えて、前記液体貯蔵槽３ａ、前記フ
ード１１及び前記ふた１３はチャンバを構成する。
とかみ合わされ、前記歯車２３は回転軸２７を通じてモ
ータ２５と接続される。したがって、前記歯車２３は前
記モータ２５を動作させることによって回転される。結
果的に、前記垂直バー２１ａは前記歯車２３の回転方向
に従って上昇、または下降し、前記柔軟性配管１９の一
部分も上昇、または下降する。前記液体貯蔵槽３ａが液
体７で満たされた場合に、前記液体７の表面水位７ａは
常に前記柔軟性配管１９内の前記液体７の表面水位７ｃ
と同一の高さを有する。したがって、前記モータ２５を
動作させることによって、前記液体貯蔵槽３ａ内の液体
の表面水位７ａを容易に調節できる。前記液体水位制御
器３０は前記柔軟性配管１９、前記垂直バー２１ａ、前
記支持ブロック２１ｂ、前記歯車２３、前記回転軸２７
及び前記モータ２５を含む。また、前記液体水位制御器
３０及び前記液体流動緩衝器３ｃは液体流動システムを
構成する。これに加えて、前記液体貯蔵槽３ａ、前記フ
ード１１及び前記ふた１３はチャンバを構成する。
【００４０】次に、図１を参照して本発明によるリンス
方法及び乾燥方法を説明する。
方法及び乾燥方法を説明する。
【００４１】先ず、第１空間及び前記第１空間の下部に
第２空間を有するチャンバを構成する。前記第１空間内
には気体分配器１５を装着させ、前記第２空間内には液
体貯蔵槽３ａを装着させる。前記第１及び第２空間の間
にはフード１１を介させる。前記液体貯蔵槽３ａの内部
に前記ウェハ９をローディングさせる。前記液体流動緩
衝器３ｃを通じて前記液体貯蔵槽３ａ内に脱イオン水７
を供給する。前記脱イオン水７は前記ウェハ９をリンス
するために前記液体流動緩衝器３ｃ及び前記液体水位制
御器３０を通じて持続的に供給及び排出される。
第２空間を有するチャンバを構成する。前記第１空間内
には気体分配器１５を装着させ、前記第２空間内には液
体貯蔵槽３ａを装着させる。前記第１及び第２空間の間
にはフード１１を介させる。前記液体貯蔵槽３ａの内部
に前記ウェハ９をローディングさせる。前記液体流動緩
衝器３ｃを通じて前記液体貯蔵槽３ａ内に脱イオン水７
を供給する。前記脱イオン水７は前記ウェハ９をリンス
するために前記液体流動緩衝器３ｃ及び前記液体水位制
御器３０を通じて持続的に供給及び排出される。
【００４２】前記ウェハ９をリンスした後に、前記液体
貯蔵槽３ａ内の脱イオン水７の上部に乾燥ガス２９を供
給すると同時に、前記垂直バー２１ａを徐々に下降させ
て前記液体貯蔵槽３ａ内の脱イオン水７を徐々に排出さ
せる。これによって、前記ウェハ７の表面に残存する脱
イオン水を除去する乾燥工程が進行される。これに加え
て、前記ウェハホールダ８ａ、８ｂを徐々に上昇させる
ことによって、前記ウェハ９を前記フード１１内の空間
に徐々に移動させることもできる。前記ウェハ９が前記
脱イオン水７から完全に外れるまで乾燥ガスを通じて持
続的に供給し、前記ウェハ９の表面に残存する脱イオン
水だけではなく、パーチクルを除去することが望まし
い。オーバーフロー方式を採択する従来の技術による
と、ウェハ９の下部から脱イオン水が供給され、ウェハ
９の下部表面から離脱されたパーチクルは脱イオン水の
表面に浮遊される。これによって、ウェハ９が脱イオン
水の外に外れても、前記ウェハ９の表面、特に、下部表
面にパーチクルが再び吸着されることができる。しか
し、本発明によると、脱イオン水が下方に持続的に流れ
るので、ウェハ９の上部の表面から離脱されたパーチク
ルが下部の表面に再び吸着し難しい。これによって、脱
イオン水の除去効果だけではなく、パーチクル除去効果
も極大化させることができる。
貯蔵槽３ａ内の脱イオン水７の上部に乾燥ガス２９を供
給すると同時に、前記垂直バー２１ａを徐々に下降させ
て前記液体貯蔵槽３ａ内の脱イオン水７を徐々に排出さ
せる。これによって、前記ウェハ７の表面に残存する脱
イオン水を除去する乾燥工程が進行される。これに加え
て、前記ウェハホールダ８ａ、８ｂを徐々に上昇させる
ことによって、前記ウェハ９を前記フード１１内の空間
に徐々に移動させることもできる。前記ウェハ９が前記
脱イオン水７から完全に外れるまで乾燥ガスを通じて持
続的に供給し、前記ウェハ９の表面に残存する脱イオン
水だけではなく、パーチクルを除去することが望まし
い。オーバーフロー方式を採択する従来の技術による
と、ウェハ９の下部から脱イオン水が供給され、ウェハ
９の下部表面から離脱されたパーチクルは脱イオン水の
表面に浮遊される。これによって、ウェハ９が脱イオン
水の外に外れても、前記ウェハ９の表面、特に、下部表
面にパーチクルが再び吸着されることができる。しか
し、本発明によると、脱イオン水が下方に持続的に流れ
るので、ウェハ９の上部の表面から離脱されたパーチク
ルが下部の表面に再び吸着し難しい。これによって、脱
イオン水の除去効果だけではなく、パーチクル除去効果
も極大化させることができる。
【００４３】特に、本発明によると、前記液体流動緩衝
器３ｃを通じて脱イオン水が供給されるので、前記脱イ
オン水７内に渦巻き現象が発生することを防止できる。
すなわち、前記乾燥工程の間、脱イオン水７の表面を安
定されるように維持することができる。前記乾燥工程の
間、脱イオン水７の表面に波動または渦巻きのような不
安定な現象が発生すれば、マランゴニ効果を得にくい。
これは、脱イオン水７の水面の外に露出されるウェハ９
と脱イオン水７が接触する部分で、メニスカスが形成さ
れないことができるからである。したがって、乾燥工程
の間、脱イオン水７の水面を安定されるように維持する
ことは、乾燥工程において非常に重要である。結果的
に、乾燥工程の間、脱イオン水の表面を安定されるよう
に維持すると共に、新しい脱イオン水を持続的に供給す
ることによって、マランゴニ効果及びパーチクル除去効
果を極大化させることができる。
器３ｃを通じて脱イオン水が供給されるので、前記脱イ
オン水７内に渦巻き現象が発生することを防止できる。
すなわち、前記乾燥工程の間、脱イオン水７の表面を安
定されるように維持することができる。前記乾燥工程の
間、脱イオン水７の表面に波動または渦巻きのような不
安定な現象が発生すれば、マランゴニ効果を得にくい。
これは、脱イオン水７の水面の外に露出されるウェハ９
と脱イオン水７が接触する部分で、メニスカスが形成さ
れないことができるからである。したがって、乾燥工程
の間、脱イオン水７の水面を安定されるように維持する
ことは、乾燥工程において非常に重要である。結果的
に、乾燥工程の間、脱イオン水の表面を安定されるよう
に維持すると共に、新しい脱イオン水を持続的に供給す
ることによって、マランゴニ効果及びパーチクル除去効
果を極大化させることができる。
【００４４】一方、図７は図１の液体流動緩衝器３ｃを
詳細に説明するための斜視図である。
詳細に説明するための斜視図である。
【００４５】図１及び図７を参照すると、前記液体流動
緩衝器３ｃは内側壁４１ａ、外側壁４１ｂ及び前／後面
の壁４１ｃを含む。前記内側壁４１ａは垂直した形態を
有し、前記外側壁４１ａの下段は前記内側壁１ｂの下段
と接触するように丸い形態を有することが望ましい。結
果的に、前記液体流動緩衝器３ｃの下部は平らな底なし
に、密閉された形態を有することが望ましい。この実施
形態において、前記内側壁４１ａの下部には水平方向と
平行したスリット４１ｄを有する。したがって、液体タ
ンク（図示せず）と連結された液体供給配管５を通じて
前記液体流動緩衝器３ｃの内部に供給される液体７は前
記スリット４１ｄを通じて前記液体貯蔵槽３ａに排出さ
れ、前記液体貯蔵槽３ａ内の液体７は前記柔軟性配管１
９を通じて排出される。これによって、前記液体貯蔵槽
３ａ内に常に新しい液体が持続的に供給される。前記液
体流動緩衝器３ｃ内の液体７の表面水位（図１の７ｂ）
は前記液体貯蔵槽３ａ内の液体の表面水位７ａより高く
供給されることが望ましい。これは、前記液体貯蔵槽３
ａ内の液体が前記液体流動緩衝器３ｃ内に逆流すること
を防止するためである。
緩衝器３ｃは内側壁４１ａ、外側壁４１ｂ及び前／後面
の壁４１ｃを含む。前記内側壁４１ａは垂直した形態を
有し、前記外側壁４１ａの下段は前記内側壁１ｂの下段
と接触するように丸い形態を有することが望ましい。結
果的に、前記液体流動緩衝器３ｃの下部は平らな底なし
に、密閉された形態を有することが望ましい。この実施
形態において、前記内側壁４１ａの下部には水平方向と
平行したスリット４１ｄを有する。したがって、液体タ
ンク（図示せず）と連結された液体供給配管５を通じて
前記液体流動緩衝器３ｃの内部に供給される液体７は前
記スリット４１ｄを通じて前記液体貯蔵槽３ａに排出さ
れ、前記液体貯蔵槽３ａ内の液体７は前記柔軟性配管１
９を通じて排出される。これによって、前記液体貯蔵槽
３ａ内に常に新しい液体が持続的に供給される。前記液
体流動緩衝器３ｃ内の液体７の表面水位（図１の７ｂ）
は前記液体貯蔵槽３ａ内の液体の表面水位７ａより高く
供給されることが望ましい。これは、前記液体貯蔵槽３
ａ内の液体が前記液体流動緩衝器３ｃ内に逆流すること
を防止するためである。
【００４６】これに加えて、前記液体貯蔵槽３ａ内の液
体の表面水位７ａは液体を供給することにおいて、オー
バーフロー方式を採択する従来の乾燥装備に比べて相対
的にさらに安定である。これは、本発明が液体流動緩衝
器３ｃと共に液体を下部に流れるようにする方式を採択
しているからである。特に、マランゴニ効果を得るため
には、脱イオン水７の表面及びウェハ９の表面の間の界
面にメニスカスが形成されなければならない。前記脱イ
オン水７の表面７ａが安定した場合には、乾燥工程の
間、脱イオン水の表面の全体にわたって均一なメニスカ
スを形成することが可能である。したがって、前記脱イ
オン水の安定した表面は均一であり、極大化したマラン
ゴニ効果を得ることができる。
体の表面水位７ａは液体を供給することにおいて、オー
バーフロー方式を採択する従来の乾燥装備に比べて相対
的にさらに安定である。これは、本発明が液体流動緩衝
器３ｃと共に液体を下部に流れるようにする方式を採択
しているからである。特に、マランゴニ効果を得るため
には、脱イオン水７の表面及びウェハ９の表面の間の界
面にメニスカスが形成されなければならない。前記脱イ
オン水７の表面７ａが安定した場合には、乾燥工程の
間、脱イオン水の表面の全体にわたって均一なメニスカ
スを形成することが可能である。したがって、前記脱イ
オン水の安定した表面は均一であり、極大化したマラン
ゴニ効果を得ることができる。
【００４７】前記液体流動緩衝器３ｃは図８に示したよ
うに、他の形態で具体化されることができる。
うに、他の形態で具体化されることができる。
【００４８】図８を参照すると、他の形態の液体流動緩
衝器３ｄは前記液体流動緩衝器３ｃのように内側壁、外
側壁、及び前／後面の壁を有する。しかし、この実施形
態において、前記液体流動緩衝器３ｄの外側壁はそれの
内側壁より高く、前記液体流動緩衝器３ｄの内側壁はス
リット４１ｄを備えない。
衝器３ｄは前記液体流動緩衝器３ｃのように内側壁、外
側壁、及び前／後面の壁を有する。しかし、この実施形
態において、前記液体流動緩衝器３ｄの外側壁はそれの
内側壁より高く、前記液体流動緩衝器３ｄの内側壁はス
リット４１ｄを備えない。
【００４９】これに加えて、前記湿式装置は、図９に示
したように、他の形態で具体化されることもできる。
したように、他の形態で具体化されることもできる。
【００５０】図９を参照すると、外部液槽５１ａは側壁
と底を有する。前記外部液槽５１ａは前記外部液槽５１
ａの底から分岐された排出口５１ｂを有する。前記排出
口５１ｂは液体水位制御器と接続される。望ましくは、
前記液体水位制御器は図１で説明した液体水位制御器３
０と同一の形態を有する。したがって、前記排出口５１
ｂは前記液体水位制御器３０の柔軟性配管１９の一端と
連結される。前記外部液槽５１ａ内には、内部液槽５３
ａ、すなわち、液体貯蔵槽５３ａが位置する。前記液体
貯蔵槽５３ａも側壁及び底を有する。これに加えて、前
記液体貯蔵槽５３ａは前記貯蔵槽５３ａの底から分岐さ
れた流入口５３ｂを有する。前記流入口５３ｂは延長さ
れて前記外部液槽５１ａの底を貫通する。化学溶液また
は脱イオン水のような液体は前記液体貯蔵槽５３ａの前
記流入口５３ｂを通じて前記液体貯蔵槽５３ａの内部に
供給される。
と底を有する。前記外部液槽５１ａは前記外部液槽５１
ａの底から分岐された排出口５１ｂを有する。前記排出
口５１ｂは液体水位制御器と接続される。望ましくは、
前記液体水位制御器は図１で説明した液体水位制御器３
０と同一の形態を有する。したがって、前記排出口５１
ｂは前記液体水位制御器３０の柔軟性配管１９の一端と
連結される。前記外部液槽５１ａ内には、内部液槽５３
ａ、すなわち、液体貯蔵槽５３ａが位置する。前記液体
貯蔵槽５３ａも側壁及び底を有する。これに加えて、前
記液体貯蔵槽５３ａは前記貯蔵槽５３ａの底から分岐さ
れた流入口５３ｂを有する。前記流入口５３ｂは延長さ
れて前記外部液槽５１ａの底を貫通する。化学溶液また
は脱イオン水のような液体は前記液体貯蔵槽５３ａの前
記流入口５３ｂを通じて前記液体貯蔵槽５３ａの内部に
供給される。
【００５１】前記液体貯蔵槽５３ａの側壁上には、液体
流動緩衝器５３ｃが設けられる。前記液体流動緩衝器５
３ｃは図８に示した液体流動緩衝器３ｄと同一の形態を
有する。これと異なり、前記液体流動緩衝器５３ｃは図
１に示した液体流動緩衝器３ｃと同一の形態を有するこ
ともできる。ここで、前記液体流動緩衝器５３ｄは図１
とは異なり、前記液体貯蔵槽５３ａの側壁の中の一つの
側壁上のみに設けられる。前記液体貯蔵槽５３ａの両側
壁の中前記液体流動緩衝器５３ｃの反対側の側壁は前記
液体流動緩衝器５３ｃより低い。したがって、液体７は
前記流入口５３ｂ及び前記液体流動緩衝器５３ｃを通じ
て前記液体貯蔵槽５３ａ内に供給され、前記液体貯蔵槽
５３ａ内の液体７はそれの低い側壁を超えて前記外部液
槽５１ａに入る。結果的に、前記液体貯蔵槽５３ａ内の
液体７は前記液体水位制御器３０を通じて外部に排出さ
れる。この場合に、前記液体水位制御器３０の柔軟性配
管１９の最高の部分は前記外部液槽５１ａの底より高く
制御されることが望ましい。すなわち、前記外部液槽５
１ａ内の液体の水位７ｄは前記外部液槽５１ａの底より
高く維持することが望ましい。これは前記湿式装置の底
を密閉させて前記湿式装置の上部に分布され、乾燥ガス
２９の濃度及び均一性を各々増加及び向上させるためで
ある。このように、前記湿式装置が液体貯蔵槽５３ａ及
び外部液槽５１ａを含む場合には、前記外部液槽５１
ａ、フード（図１の１）及びふた（図１の１３）がチャ
ンバを構成する。
流動緩衝器５３ｃが設けられる。前記液体流動緩衝器５
３ｃは図８に示した液体流動緩衝器３ｄと同一の形態を
有する。これと異なり、前記液体流動緩衝器５３ｃは図
１に示した液体流動緩衝器３ｃと同一の形態を有するこ
ともできる。ここで、前記液体流動緩衝器５３ｄは図１
とは異なり、前記液体貯蔵槽５３ａの側壁の中の一つの
側壁上のみに設けられる。前記液体貯蔵槽５３ａの両側
壁の中前記液体流動緩衝器５３ｃの反対側の側壁は前記
液体流動緩衝器５３ｃより低い。したがって、液体７は
前記流入口５３ｂ及び前記液体流動緩衝器５３ｃを通じ
て前記液体貯蔵槽５３ａ内に供給され、前記液体貯蔵槽
５３ａ内の液体７はそれの低い側壁を超えて前記外部液
槽５１ａに入る。結果的に、前記液体貯蔵槽５３ａ内の
液体７は前記液体水位制御器３０を通じて外部に排出さ
れる。この場合に、前記液体水位制御器３０の柔軟性配
管１９の最高の部分は前記外部液槽５１ａの底より高く
制御されることが望ましい。すなわち、前記外部液槽５
１ａ内の液体の水位７ｄは前記外部液槽５１ａの底より
高く維持することが望ましい。これは前記湿式装置の底
を密閉させて前記湿式装置の上部に分布され、乾燥ガス
２９の濃度及び均一性を各々増加及び向上させるためで
ある。このように、前記湿式装置が液体貯蔵槽５３ａ及
び外部液槽５１ａを含む場合には、前記外部液槽５１
ａ、フード（図１の１）及びふた（図１の１３）がチャ
ンバを構成する。
【００５２】図３は図１に示した気体分配器１５を説明
するための斜視図であり、図４は図３の気体分配器１５
を横切る方向に沿って切断された断面図である。また、
図５は図３の気体分配器１５の長さの方向に沿って切断
された断面図である。
するための斜視図であり、図４は図３の気体分配器１５
を横切る方向に沿って切断された断面図である。また、
図５は図３の気体分配器１５の長さの方向に沿って切断
された断面図である。
【００５３】図３、図４及び図５を参照すると、前記気
体分配器１５は内部配管３１及び前記内部配管３１を囲
む同軸外部配管３３を含む。前記外部配管３３は長さＬ
を有する。前記内部配管３１はその長さの方向に沿って
均一に離隔されるように配列された複数のホール３１ａ
を有する。前記複数のホール３１ａは前記内部配管３１
の下部に位置して前記内部配管３１内に流入された気体
を前記内部配管３１の下部に向けて排出させる役割を果
たす。前記外部配管３３は第１及び第２セットのホール
３３ａを備える。前記第１及び第２セットのホール３３
ａは偶数個の線に沿って配列される。例えば、前記第１
及び第２セットのホール３３ａは前記外部配管３３の長
さの方向と平行した二つの線に沿って配置される。この
場合に、前記二つの線は前記外部配管（または内部配
管）の中心点を通る垂直軸３５に対して互いに対称であ
ることが望ましい。結果的に、前記第１及び第２セット
のホール３３ａは前記垂直軸３５に対して互いに対称で
あることが望ましい。
体分配器１５は内部配管３１及び前記内部配管３１を囲
む同軸外部配管３３を含む。前記外部配管３３は長さＬ
を有する。前記内部配管３１はその長さの方向に沿って
均一に離隔されるように配列された複数のホール３１ａ
を有する。前記複数のホール３１ａは前記内部配管３１
の下部に位置して前記内部配管３１内に流入された気体
を前記内部配管３１の下部に向けて排出させる役割を果
たす。前記外部配管３３は第１及び第２セットのホール
３３ａを備える。前記第１及び第２セットのホール３３
ａは偶数個の線に沿って配列される。例えば、前記第１
及び第２セットのホール３３ａは前記外部配管３３の長
さの方向と平行した二つの線に沿って配置される。この
場合に、前記二つの線は前記外部配管（または内部配
管）の中心点を通る垂直軸３５に対して互いに対称であ
ることが望ましい。結果的に、前記第１及び第２セット
のホール３３ａは前記垂直軸３５に対して互いに対称で
あることが望ましい。
【００５４】前記垂直軸３５及び前記第２ホール３３ａ
の間の角度θは９０°より小さいことが望ましい。さら
に望ましくは、前記角度θは３０°乃至６０°である。
ここで、前記第２ホール３３ａは前記外部配管３３の上
部に形成されることが望ましい。前記外部配管３３の両
端は各々第１及び第２側壁により密閉され、前記内部配
管３１の一端は前記外部配管３３の第１側壁により密閉
される。また、前記内部配管３１の他の端は開放されて
延長され、前記外部配管３３の第２側壁を貫通する。し
たがって、前記乾燥ガス２９は前記内部配管３１の開放
された他の端を通じて流入され、前記複数のホール３１
ａ及び前記第１及び第２セットのホール３３ａを通じて
前記気体分配器１５の外部に排出される。ここで、前記
第１及び第２セットのホール３３ａは図３及び図４に示
したように前記外部配管３３の上部に配列されることが
望ましい。これは、第１及び第２セットのホール３３ａ
が前記外部配管３３の下部に配列される場合に、前記気
体分配器１５から排出される気体が前記プレート（図１
の１７）に向けて排出されて前記プレートの全面にわた
って不均一な分布を示すからである。
の間の角度θは９０°より小さいことが望ましい。さら
に望ましくは、前記角度θは３０°乃至６０°である。
ここで、前記第２ホール３３ａは前記外部配管３３の上
部に形成されることが望ましい。前記外部配管３３の両
端は各々第１及び第２側壁により密閉され、前記内部配
管３１の一端は前記外部配管３３の第１側壁により密閉
される。また、前記内部配管３１の他の端は開放されて
延長され、前記外部配管３３の第２側壁を貫通する。し
たがって、前記乾燥ガス２９は前記内部配管３１の開放
された他の端を通じて流入され、前記複数のホール３１
ａ及び前記第１及び第２セットのホール３３ａを通じて
前記気体分配器１５の外部に排出される。ここで、前記
第１及び第２セットのホール３３ａは図３及び図４に示
したように前記外部配管３３の上部に配列されることが
望ましい。これは、第１及び第２セットのホール３３ａ
が前記外部配管３３の下部に配列される場合に、前記気
体分配器１５から排出される気体が前記プレート（図１
の１７）に向けて排出されて前記プレートの全面にわた
って不均一な分布を示すからである。
【００５５】図６は図３、図４及び図５の気体分配器の
外部に排出される乾燥ガスの均一度を説明するためのグ
ラフである。図６で、水平軸は前記内部配管３１の密閉
された最後端から開放された最後端に向ける距離Ｄを示
し、垂直軸は乾燥ガスの流速密度Ｆを示す。
外部に排出される乾燥ガスの均一度を説明するためのグ
ラフである。図６で、水平軸は前記内部配管３１の密閉
された最後端から開放された最後端に向ける距離Ｄを示
し、垂直軸は乾燥ガスの流速密度Ｆを示す。
【００５６】図５及び図６を参照すると、前記乾燥ガス
２９は前記開放された最後端を通じて前記内部配管３１
内に流入される。前記内部配管３１内に流入された乾燥
ガス２９は前記複数のホール（図３及び図４の３１ａ）
を通じて前記内部配管３１の外部に排出される。この時
に、前記内部配管３１内の乾燥ガス２９の圧力は前記距
離Ｄが減少することによって、徐々に高くなる。したが
って、前記複数のホール３１ａを通じて排出される乾燥
ガス２９の流速密度Ｆは前記乾燥ガス２９の圧力に比例
して増加する（図６の曲線参照）。前記内部配管２１
及び外部配管３３の間の空間に注入された乾燥ガス２９
は前記第１及び第２セットのホール３３ａを通じて前記
気体分配器１５の外部に排出される。この時点で、前記
内部配管３１が存在しない場合には、前記外部配管３３
内の乾燥ガス２９の圧力は前記距離Ｄが増加することに
よって、徐々に高くなる（図６の曲線参照）。結果的
に、前記内部配管３１が存在する場合に、前記内部配管
３１及び外部配管３３の間の空間内に流入された乾燥ガ
ス２９の全体圧力は前記外部配管３３の全体の長さＬに
わたって均一である（図６の曲線参照）。これによっ
て、前記第１及び第２セットのホール３３ａを通じて排
出される乾燥ガス２９の量は前記外部配管３３の全体の
長さＬにわたって均一である。
２９は前記開放された最後端を通じて前記内部配管３１
内に流入される。前記内部配管３１内に流入された乾燥
ガス２９は前記複数のホール（図３及び図４の３１ａ）
を通じて前記内部配管３１の外部に排出される。この時
に、前記内部配管３１内の乾燥ガス２９の圧力は前記距
離Ｄが減少することによって、徐々に高くなる。したが
って、前記複数のホール３１ａを通じて排出される乾燥
ガス２９の流速密度Ｆは前記乾燥ガス２９の圧力に比例
して増加する（図６の曲線参照）。前記内部配管２１
及び外部配管３３の間の空間に注入された乾燥ガス２９
は前記第１及び第２セットのホール３３ａを通じて前記
気体分配器１５の外部に排出される。この時点で、前記
内部配管３１が存在しない場合には、前記外部配管３３
内の乾燥ガス２９の圧力は前記距離Ｄが増加することに
よって、徐々に高くなる（図６の曲線参照）。結果的
に、前記内部配管３１が存在する場合に、前記内部配管
３１及び外部配管３３の間の空間内に流入された乾燥ガ
ス２９の全体圧力は前記外部配管３３の全体の長さＬに
わたって均一である（図６の曲線参照）。これによっ
て、前記第１及び第２セットのホール３３ａを通じて排
出される乾燥ガス２９の量は前記外部配管３３の全体の
長さＬにわたって均一である。
【００５７】図１０は本発明の他の実施形態による乾燥
装備の気体分配器ユニットの断面図である。
装備の気体分配器ユニットの断面図である。
【００５８】図１０を参照すると、前記気体分配器ユニ
ットは前記ふた１３及び前記気体分配器１５と共にガイ
ド６１をさらに含む。望ましくは、前記ふた１３は垂直
した側壁及び上部面を有する。したがって、前記ふた１
３の下部は開放される。これに加えて、前記ふた１３の
下部開口部は複数のホールを有するプレート１７により
覆われる。前記気体分配器１５は前記ふた１３の内部に
位置し、前記ガイド６１は前記気体分配器１５及び前記
プレート１７の間に設けられる。前記ガイド６１は上部
面及び下部面を有する。前記ガイド６１の上部面は平ら
なことが望ましい。しかし、前記ガイド６１の下部面は
それの中心部がそれのエッジより低いことが望ましい。
例えば、前記ガイド６１の下部面は図１０に示したよう
に、前記気体分配器１５を横切る方向に沿って切断され
た断面図で示す時に、中心部に向けて下方に傾いた二つ
の傾いた面を有する。これと異なり、前記ガイド６１の
下部面は丸い形態を有することもできる。また、前記ガ
イド６１の下部面は平らな底面及び二つの傾いた面で構
成されることもできる。ここで、前記二つの傾いた面は
前記平らな底のエッジと接する。
ットは前記ふた１３及び前記気体分配器１５と共にガイ
ド６１をさらに含む。望ましくは、前記ふた１３は垂直
した側壁及び上部面を有する。したがって、前記ふた１
３の下部は開放される。これに加えて、前記ふた１３の
下部開口部は複数のホールを有するプレート１７により
覆われる。前記気体分配器１５は前記ふた１３の内部に
位置し、前記ガイド６１は前記気体分配器１５及び前記
プレート１７の間に設けられる。前記ガイド６１は上部
面及び下部面を有する。前記ガイド６１の上部面は平ら
なことが望ましい。しかし、前記ガイド６１の下部面は
それの中心部がそれのエッジより低いことが望ましい。
例えば、前記ガイド６１の下部面は図１０に示したよう
に、前記気体分配器１５を横切る方向に沿って切断され
た断面図で示す時に、中心部に向けて下方に傾いた二つ
の傾いた面を有する。これと異なり、前記ガイド６１の
下部面は丸い形態を有することもできる。また、前記ガ
イド６１の下部面は平らな底面及び二つの傾いた面で構
成されることもできる。ここで、前記二つの傾いた面は
前記平らな底のエッジと接する。
【００５９】前記ガイド６１の幅Ｗ１は前記ふた１３の
幅Ｗ２より狭いことが望ましい。これによって、図１０
に示したように、前記気体分配器１５から排出される乾
燥ガス２９は前記ガイド６１の両エッジ及び前記ふた１
３の側壁の間のチャネルを通じて前記ガイド６１の下部
に流れる。したがって、前記チャネルを通過した乾燥ガ
ス２９は前記ガイド６１の傾いた下部面及び前記プレー
ト１７に反射される。結果的に、前記プレート１７を貫
通する複数のホールを通る乾燥ガス２９は前記ガイド６
１が存在することによって、前記ふた１３の幅Ｗ２の全
体にわたってさらに均一な分布を有する。すなわち、前
記ガイド６１は前記チャンバの幅の全体にわたって乾燥
ガスの分布を均一にし、前記２重配管を有する気体分配
器は図６に示したように、前記チャンバの長さの全体に
わたって乾燥ガスの分布を均一にする。したがって、前
記ガイド６１が設けられる場合に、乾燥工程の間、マラ
ンゴニ効果をさらに増大させることができる。一方、前
記ガイド６１の上部面及び前記ふた１３の上部面の間の
間隔Ａは前記ガイド６１のエッジ及び前記ふた１３の側
壁の間の間隔Ｂと同一、または間隔Ｂより大きいことが
望ましい。
幅Ｗ２より狭いことが望ましい。これによって、図１０
に示したように、前記気体分配器１５から排出される乾
燥ガス２９は前記ガイド６１の両エッジ及び前記ふた１
３の側壁の間のチャネルを通じて前記ガイド６１の下部
に流れる。したがって、前記チャネルを通過した乾燥ガ
ス２９は前記ガイド６１の傾いた下部面及び前記プレー
ト１７に反射される。結果的に、前記プレート１７を貫
通する複数のホールを通る乾燥ガス２９は前記ガイド６
１が存在することによって、前記ふた１３の幅Ｗ２の全
体にわたってさらに均一な分布を有する。すなわち、前
記ガイド６１は前記チャンバの幅の全体にわたって乾燥
ガスの分布を均一にし、前記２重配管を有する気体分配
器は図６に示したように、前記チャンバの長さの全体に
わたって乾燥ガスの分布を均一にする。したがって、前
記ガイド６１が設けられる場合に、乾燥工程の間、マラ
ンゴニ効果をさらに増大させることができる。一方、前
記ガイド６１の上部面及び前記ふた１３の上部面の間の
間隔Ａは前記ガイド６１のエッジ及び前記ふた１３の側
壁の間の間隔Ｂと同一、または間隔Ｂより大きいことが
望ましい。
【００６０】図１１は本発明のまた他の実施形態による
乾燥装備の気体生成器、すなわち、乾燥ガス生成器の概
略図である。
乾燥装備の気体生成器、すなわち、乾燥ガス生成器の概
略図である。
【００６１】図１１を参照すると、前記気体生成器は引
き入れ口及び排出口を有する不発性ガス配管７１、すな
わち、運搬ガス配管を含む。前記運搬ガスは窒素ガスで
あることが望ましい。前記運搬ガス配管７１の排出口は
ノズル７３の引き入れ口７３Ａと連結される。前記ノズ
ル７３の内径は前記運搬ガス配管７１の内径より小さ
い。前記ノズル７３の排出口７３Ｂは膨張タンク７５と
接続される。前記膨張タンク７５の内径は前記ノズル７
３の内径より大きい。前記膨張タンク７５の排出口は前
記乾燥ガス配管７９と接続され、前記乾燥ガス配管７９
は前記気体分配器（図１の１５）と接続される。特に、
前記ノズル７３の内径は前記ノズル７３の全体にわたっ
て一定である。
き入れ口及び排出口を有する不発性ガス配管７１、すな
わち、運搬ガス配管を含む。前記運搬ガスは窒素ガスで
あることが望ましい。前記運搬ガス配管７１の排出口は
ノズル７３の引き入れ口７３Ａと連結される。前記ノズ
ル７３の内径は前記運搬ガス配管７１の内径より小さ
い。前記ノズル７３の排出口７３Ｂは膨張タンク７５と
接続される。前記膨張タンク７５の内径は前記ノズル７
３の内径より大きい。前記膨張タンク７５の排出口は前
記乾燥ガス配管７９と接続され、前記乾燥ガス配管７９
は前記気体分配器（図１の１５）と接続される。特に、
前記ノズル７３の内径は前記ノズル７３の全体にわたっ
て一定である。
【００６２】これに加えて、前記気体生成器は前記ノズ
ル７３の所定の領域から分岐されたパイプ８９及び化学
溶液９１を貯蔵するタンク８７を含む。前記化学溶液９
１は脱イオン水７とウェハ９の境界面で形成されるメニ
スカスの表面張力を低め、マランゴニ効果を増大させる
ために前記脱イオン水に溶解されることができるエチル
グリコール、１−プロパノール、２−プロパノール、テ
トラヒドロフラン、４−オキシ−４メチル−２ペンタモ
ーン、１−ブタノール、２−ブタのール、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、ｎ−
プロピルアルコールまたはジメチルエーテルを含む。
ル７３の所定の領域から分岐されたパイプ８９及び化学
溶液９１を貯蔵するタンク８７を含む。前記化学溶液９
１は脱イオン水７とウェハ９の境界面で形成されるメニ
スカスの表面張力を低め、マランゴニ効果を増大させる
ために前記脱イオン水に溶解されることができるエチル
グリコール、１−プロパノール、２−プロパノール、テ
トラヒドロフラン、４−オキシ−４メチル−２ペンタモ
ーン、１−ブタノール、２−ブタのール、メタノール、
エタノール、イソプロピルアルコール、アセトン、ｎ−
プロピルアルコールまたはジメチルエーテルを含む。
【００６３】前記タンク８７はそれの上部面を貫通する
ホール８７ａを含む。したがって、前記タンク８７内の
圧力は常に大気圧と同一な１気圧を維持する。前記運搬
ガス、すなわち、窒素ガスが前記運搬ガス配管７１内に
注入される場合に、前記ノズル７３内の圧力は大気圧よ
り低くなる。したがって、前記化学溶液９１は前記パイ
プ８９を通じて前記ノズル７３内に噴射される。結果的
に、前記化学溶液９１は噴霧状態に変換される。しか
し、前記噴霧状態の気体内には、依然として化学溶液の
小さい液滴が存在する。一旦、前記噴霧状態の気体が前
記膨張タンク７５に到達すれば、前記噴霧状態の気体は
急に膨張する。これによって、前記噴霧状態の気体は完
全に気化され、高く均一な濃度を有する乾燥ガスを発生
させる。前記乾燥ガスは前記乾燥ガス配管７９を通じて
前記気体分配器（図１の１５）内に流入される。
ホール８７ａを含む。したがって、前記タンク８７内の
圧力は常に大気圧と同一な１気圧を維持する。前記運搬
ガス、すなわち、窒素ガスが前記運搬ガス配管７１内に
注入される場合に、前記ノズル７３内の圧力は大気圧よ
り低くなる。したがって、前記化学溶液９１は前記パイ
プ８９を通じて前記ノズル７３内に噴射される。結果的
に、前記化学溶液９１は噴霧状態に変換される。しか
し、前記噴霧状態の気体内には、依然として化学溶液の
小さい液滴が存在する。一旦、前記噴霧状態の気体が前
記膨張タンク７５に到達すれば、前記噴霧状態の気体は
急に膨張する。これによって、前記噴霧状態の気体は完
全に気化され、高く均一な濃度を有する乾燥ガスを発生
させる。前記乾燥ガスは前記乾燥ガス配管７９を通じて
前記気体分配器（図１の１５）内に流入される。
【００６４】前記気体生成器は多孔性物資からなるフィ
ルタ９７及び／または前記フィルタ９７及び乾燥ガスを
加熱させるヒータ７７をさらに含むことができる。前記
フィルタ９７は前記膨張タンク７５内に設けられ、前記
ヒータ７７は前記膨張タンク７５の外部に設けられる。
前記フィルタ９７の上部は前記膨張タンク７５の上部の
内壁と離隔されるように設けられることが望ましい。こ
れは、前記膨張タンク７５内で、前記乾燥ガスが円滑に
流れるようにするためである。前記噴霧状態の気体の気
化は前記フィルタ９７を加熱させることによって、さら
に促進されることができる。前記ヒータ７７は制御ユニ
ット８３により制御される。
ルタ９７及び／または前記フィルタ９７及び乾燥ガスを
加熱させるヒータ７７をさらに含むことができる。前記
フィルタ９７は前記膨張タンク７５内に設けられ、前記
ヒータ７７は前記膨張タンク７５の外部に設けられる。
前記フィルタ９７の上部は前記膨張タンク７５の上部の
内壁と離隔されるように設けられることが望ましい。こ
れは、前記膨張タンク７５内で、前記乾燥ガスが円滑に
流れるようにするためである。前記噴霧状態の気体の気
化は前記フィルタ９７を加熱させることによって、さら
に促進されることができる。前記ヒータ７７は制御ユニ
ット８３により制御される。
【００６５】前記運搬ガス配管７１の外部には運搬ガス
ヒータ９５が設けられることが望ましく、前記タンク８
７の外部には化学溶液ヒータ９３が設けられることが望
ましい。また、前記運搬ガス配管７１の所定の領域には
流量制御器８５が設けられることが望ましい。さらに、
前記乾燥ガス配管７９に赤外線センサのようなセンサ８
１が設けられることが望ましい。前記センサ８１は前記
乾燥ガス配管７９を通じて流れる乾燥ガスの濃度を測定
し、前記測定された乾燥ガスの濃度を電気的な信号に変
換させる。前記電気的な信号は前記制御ユニット８３に
伝送される。前記制御ユニット８３は前記乾燥ガスの濃
度を所望する値に持続的に調節するために前記フィルタ
７７と共に前記流量制御器８５、前記運搬ガスヒータ９
５及び前記化学溶液ヒータ９３を制御する。
ヒータ９５が設けられることが望ましく、前記タンク８
７の外部には化学溶液ヒータ９３が設けられることが望
ましい。また、前記運搬ガス配管７１の所定の領域には
流量制御器８５が設けられることが望ましい。さらに、
前記乾燥ガス配管７９に赤外線センサのようなセンサ８
１が設けられることが望ましい。前記センサ８１は前記
乾燥ガス配管７９を通じて流れる乾燥ガスの濃度を測定
し、前記測定された乾燥ガスの濃度を電気的な信号に変
換させる。前記電気的な信号は前記制御ユニット８３に
伝送される。前記制御ユニット８３は前記乾燥ガスの濃
度を所望する値に持続的に調節するために前記フィルタ
７７と共に前記流量制御器８５、前記運搬ガスヒータ９
５及び前記化学溶液ヒータ９３を制御する。
【００６６】図１２は本発明による乾燥装備のウェハガ
イドを説明するための斜視図である。
イドを説明するための斜視図である。
【００６７】図１２を参照すると、前記フード１１内に
ウェハガイド１００が位置する。前記ウェハガイド１０
０は本体１０１を含む。前記本体１０１は内壁及び外壁
を有する。前記本体１０１の内壁には複数の垂直したス
リット１０２が形成される。したがって、液体貯蔵槽内
のウェハは乾燥工程の間、または乾燥工程が完了した後
に、前記垂直したスリット１０３内にはめられる。前記
スリット１０３内にはめられたウェハはウェハ支持部
（図示せず）により、この以上下降しないように支持さ
れる。次に、前記ウェハガイド１００は前記ウェハをア
ンローディングさせるために前記フード１１の外部に移
動される。したがって、前記ウェハガイド１００はウェ
ハキャリアとして役割を果たす。
ウェハガイド１００が位置する。前記ウェハガイド１０
０は本体１０１を含む。前記本体１０１は内壁及び外壁
を有する。前記本体１０１の内壁には複数の垂直したス
リット１０２が形成される。したがって、液体貯蔵槽内
のウェハは乾燥工程の間、または乾燥工程が完了した後
に、前記垂直したスリット１０３内にはめられる。前記
スリット１０３内にはめられたウェハはウェハ支持部
（図示せず）により、この以上下降しないように支持さ
れる。次に、前記ウェハガイド１００は前記ウェハをア
ンローディングさせるために前記フード１１の外部に移
動される。したがって、前記ウェハガイド１００はウェ
ハキャリアとして役割を果たす。
【００６８】
【発明の効果】前述のように、本発明によると、膨張タ
ンクを有する気体生成器により乾燥ガスの濃度を均一に
調節できるだけではなく、極大化させることができる。
また、２重配管構造を有する気体分配器を使用して液体
貯蔵槽内の脱イオン水の表面の全体にわたって乾燥ガス
を均一に供給することができる。これに加えて、液体流
動緩衝器を有する湿式装置を採択することによって、液
体貯蔵槽内の液体の表面水位を安定化させることができ
る。さらに、柔軟性配管を有する液体水位制御器を使用
して湿式装置の底を完全に密閉させることによって、湿
式装置の上部に供給される乾燥ガスはさらに均一に分布
される。結果的に、マランゴニ効果を極大化させること
ができる。
ンクを有する気体生成器により乾燥ガスの濃度を均一に
調節できるだけではなく、極大化させることができる。
また、２重配管構造を有する気体分配器を使用して液体
貯蔵槽内の脱イオン水の表面の全体にわたって乾燥ガス
を均一に供給することができる。これに加えて、液体流
動緩衝器を有する湿式装置を採択することによって、液
体貯蔵槽内の液体の表面水位を安定化させることができ
る。さらに、柔軟性配管を有する液体水位制御器を使用
して湿式装置の底を完全に密閉させることによって、湿
式装置の上部に供給される乾燥ガスはさらに均一に分布
される。結果的に、マランゴニ効果を極大化させること
ができる。
【図１】 本発明の望ましい一実施形態による乾燥装備
を説明するための概略的な正断面図である。
を説明するための概略的な正断面図である。
【図２】 本発明の望ましい一実施形態による乾燥装備
を説明するための概略的な側断面図である。
を説明するための概略的な側断面図である。
【図３】 図１の気体分配器を説明するための斜視図で
ある。
ある。
【図４】 図１の気体分配器を説明するための拡大され
た正断面図である。
た正断面図である。
【図５】 図２の気体分配器を説明するための拡大され
た側断面図である。
た側断面図である。
【図６】 図３、図４及び図５の気体分配器から排出さ
れる乾燥ガスの均一度を説明するためのグラフである。
れる乾燥ガスの均一度を説明するためのグラフである。
【図７】 図１の液体流動緩衝器を説明するための斜視
図である。
図である。
【図８】 本発明の望ましい他の実施形態による乾燥装
備の湿式装置を説明するための正断面図である。
備の湿式装置を説明するための正断面図である。
【図９】 本発明の望ましいまた他の実施形態による乾
燥装備の湿式装置を説明するための正断面図である。
燥装備の湿式装置を説明するための正断面図である。
【図１０】 本発明の望ましいまた他の実施形態による
乾燥装備の気体分配器ユニットを説明するための正断面
図である。
乾燥装備の気体分配器ユニットを説明するための正断面
図である。
【図１１】 本発明の望ましいまた他の実施形態による
乾燥装備の乾燥ガス生成器を説明するための概略図であ
る。
乾燥装備の乾燥ガス生成器を説明するための概略図であ
る。
【図１２】 本発明の望ましいまた他の実施形態による
乾燥装備のウェハガイドを説明するための斜視図であ
る。
乾燥装備のウェハガイドを説明するための斜視図であ
る。
１ 外部液槽
３ａ，３ｂ 排出口
３ｃ 液体流動緩衝器
５ 液体供給管
７ 液体
７ａ 表面水位
７ｄ 水位
８ａ，８ｂ バー
９ ウェハ
１１ フード
１１ａ 排気穴
１３ ふた
１５ 気体分配器
１７ プレート
１９ 柔軟性配管
２１ａ 垂直バー
２３ 歯車
２５ モータ
２７ 回転軸
２９ 乾燥ガス
３１ 内部配管
３１ａ ホール
３３ 外部配管
３３ａ 第１及び第２セットのホール
３５ 垂直軸
４１ａ 内側壁
４１ｂ 外側壁
４１ｄ，１０３ スリット
５１ａ 外部液槽
５１ｂ 排出口
５３ａ 内部液槽
５３ｂ 流入口
６１ ガイド
７１ 運搬ガス配管
７３ ノズル
７３ｂ ノズルの排出口
７５ 膨張タンク
７７ ヒータ
７９ 乾燥ガス配管
８３ 制御ユニット
８５ 流量制御器
８７ タンク
８９ パイプ
９１ 化学溶液
９３ 化学溶液ヒータ
９５ 運搬ガスヒータ
９７ フィルタ
１００ ウェハガイド
１０１ 本体
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｈ０１Ｌ 21/68 Ｎ
(72)発明者 全 相文
大韓民国京畿道龍仁市駒城面寶亭里ハエウ
ォン・タウン（番地なし） ドンガ・ソー
ルシティー108棟1201号
(72)発明者 李 起碩
大韓民国大田廣域市西区月坪洞（番地な
し） ハナレウム・アパート105棟805号
(72)発明者 李 普容
大韓民国京畿道烏山市葛串洞110−５号
ウーバン・アパート101棟101号
(72)発明者 朴 相五
大韓民国京畿道城南市盆唐区野塔洞モクリ
ュン・タウン147番地 エスケー・アパー
ト604棟606号
(72)発明者 田 弼權
大韓民国京畿道龍仁市水枝邑豊徳川里（番
地なし） サムスン５次アパート510棟203
号
Ｆターム(参考） 3L113 AA01 AB02 AC28 AC45 AC46
AC57 AC67 AC75 AC90 BA34
DA09
5F031 CA02 HA12 HA48 HA58 MA23
MA24
Claims (37)
- 【請求項１】 半導体基板を乾燥させる乾燥装備におい
て、 気体分配器及び液体貯蔵槽を受け入れ、前記気体分配器
はそれの上部内に配置されて前記基板を乾燥させるため
の気体を噴出させ、前記液体貯蔵槽はそれの下部内に配
置されたチャンバ、及び前記基板を洗浄するための前記
液体貯蔵槽の内部に液体の流動を提供し、前記液体貯蔵
槽から液体を排出させるための液体流動システムを含
み、前記チャンバは前記チャンバの上部に配置されて前
記気体を排気させるための複数の排気穴を備えることを
特徴とする乾燥装備。 - 【請求項２】 前記複数の排気穴は実質的に向き合うよ
うに配置された少なくとも一対の排気穴を含むことを特
徴とする請求項１に記載の乾燥装備。 - 【請求項３】 前記液体流動システムは前記気体分配器
と共に液体の流動及び排出を制御してマランゴニ乾燥原
理を達成することを特徴とする請求項１に記載の乾燥装
備。 - 【請求項４】 前記液体流動システムは前記液体貯蔵槽
内の液体の水位及び排出を調節する液体水位制御器を含
み、前記液体水位制御器は前記液体を前記液体貯蔵槽か
ら持続的に排出、または前記液体貯蔵槽内に持続的に供
給する手段を有することを特徴とする請求項１に記載の
乾燥装備。 - 【請求項５】 前記液体を持続的に排出させる前記手段
は前記液体貯蔵槽の排出穴と接続された柔軟性配管を含
み、前記液体貯蔵槽内の液体の水位は前記柔軟性配管の
一部分を引き上げるか、引き下げるかことによって、調
節されることを特徴とする請求項４に記載の乾燥装備。 - 【請求項６】 前記液体流動システムは前記液体貯蔵槽
の内部に液体を流入させると共に前記液体の流動を緩衝
させる液体流動緩衝器を含むことを特徴とする請求項１
に記載の乾燥装備。 - 【請求項７】 前記液体流動緩衝器は前記液体貯蔵槽の
上部に配置され、前記液体流動緩衝器は前記液体流動緩
衝器の上方から前記液体が供給される形態及び大きさを
有し、前記液体流動緩衝器の下部に設けられたスリット
を通じて前記液体を排出させることを特徴とする請求項
６に記載の乾燥装備。 - 【請求項８】 前記液体流動緩衝器は前記液体貯蔵槽の
上部に配置され、前記液体流動緩衝器は前記液体流動緩
衝器の上方から前記液体が供給される形態及び大きさを
有するだけではなく、前記液体を一時的に保有し、前記
液体を前記液体流動緩衝器の上部にこぼれることによっ
て排出させることを特徴とする請求項６に記載の乾燥装
備。 - 【請求項９】 前記チャンバは前記液体貯蔵槽からこぼ
れる液体が貯蔵される外部液槽を含み、前記液体貯蔵槽
は前記液体貯蔵槽の底に液体を流入させる開口部を有す
ることを特徴とする請求項６に記載の乾燥装備。 - 【請求項１０】 前記気体分配器は内部配管及び同軸外
部配管を含み、前記内部配管は開放された一端、密閉さ
れた他の端、及び長さの方向の軸に沿って均一に離隔さ
れるように整列され、前記開放された一端を通じて流入
された気体を前記外部配管に通過させる複数のホールを
有し、前記外部配管は第１及び第２セットのホールを有
し、前記第１及び第２セットのホールは各々第１長さの
方向の軸及び第２長さの方向の軸に沿って整列され、前
記内部配管から通過された気体を排出させることを特徴
とする請求項１に記載の乾燥装備。 - 【請求項１１】 前記第１及び第２長さの方向の軸は前
記内部配管の中心を通る垂直軸に対して互いに対称であ
ることを特徴とする請求項１０に記載の乾燥装備。 - 【請求項１２】 前記気体分配器の下部に配置されたガ
イドをさらに含み、前記ガイドは前記チャンバの幅より
小さい幅を有し、前記ガイド及び前記チャンバの側壁の
間のチャネルを通じて前記気体分配器から排出された気
体を通過させることを特徴とする請求項１０に記載の乾
燥装備。 - 【請求項１３】 前記ガイドは下部面を含み、前記気体
分配器を横切る方向と平行した方向に切断された前記ガ
イドの断面図で示す時に、前記下部面の中心部は前記下
部面のエッジより低いことを特徴とする請求項１２に記
載の乾燥装備。 - 【請求項１４】 前記ガイドの下部面は二つの傾いた面
を有し、前記二つの傾いた面は前記ガイドの下部面の中
心点で互いに接することを特徴とする請求項１３に記載
の乾燥装備。 - 【請求項１５】 前記ガイドの下部面は二つの傾いた面
及び前記二つの傾いた面の間に位置する平らな底を含
み、前記二つの傾いた面は各々前記平らな底の両エッジ
と接することを特徴とする請求項１３に記載の乾燥装
備。 - 【請求項１６】 前記ガイドの下部面は丸い形態を有
し、その中心部がそのエッジより低いことを特徴とする
請求項１３に記載の乾燥装備。 - 【請求項１７】 前記気体分配器に供給される気体を発
生させる気体生成器をさらに含み、前記気体生成器は膨
張タンク及び前記膨張タンク内に設けられた多孔性フィ
ルタを有することを特徴とする請求項１に記載の乾燥装
備。 - 【請求項１８】 前記気体分配器に供給される気体を発
生させる気体生成器をさらに含み、前記気体生成器は膨
張タンク運搬ガス配管及び前記運搬ガス配管の排出口に
接続されたノズルを有し、前記ノズルは全体にわたって
一定な直径を有することを特徴とする請求項１に記載の
乾燥装備。 - 【請求項１９】 前記チャンバは前記液体貯蔵槽の上部
に設けられるふた、及び前記ふた及び前記液体貯蔵槽を
連結させるフードを含むことを特徴とする請求項１に記
載の乾燥装備。 - 【請求項２０】 前記フードは少なくとも１５ｃｍの高
さを有することを特徴とする請求項１９に記載の乾燥装
備。 - 【請求項２１】 前記液体貯蔵槽内に前記基板を支持す
る複数のバーをさらに含み、前記複数のバーは前記液体
貯蔵槽内の基板及び前記複数のバーを選択的に上下に移
動させる制御器と接続されることを特徴とする請求項１
に記載の乾燥装備。 - 【請求項２２】 前記液体は脱イオン水または電解水で
あり、前記気体はエチルグリコール、１−プロパノー
ル、２−プロパノール、テトラヒドロフラン、４−オキ
シ−４メチル−２ペンタモーン、１−ブタノール、２−
ブタノール、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、アセトン、ｎ−プロピルアルコールまたはジ
メチルエーテルであることを特徴とする請求項１に記載
の乾燥装置。 - 【請求項２３】 半導体基板を乾燥させる方法におい
て、 第１空間及び前記第１空間の下部に第２空間を有するチ
ャンバ内に気体分配器及び液体貯蔵槽を受け入れ、前記
気体分配器及び前記液体貯蔵槽は各々前記第１及び第２
空間内に設けられ、前記第１及び第２空間はフードによ
り分離される段階と、 前記液体貯蔵槽内に液体を供給して前記基板を清浄する
段階と、 前記気体分配器から排出される気体を前記液体貯蔵槽内
に貯蔵された液体と混合させると共に前記液体貯蔵槽内
に液体を持続的に供給し、前記液体貯蔵槽内の液体を持
続的に排出させて前記基板を乾燥させる段階とを含むこ
とを特徴とする乾燥方法。 - 【請求項２４】 前記基板を乾燥させる段階は前記第１
空間と隣接して前記フードに設けられた排出口を通じて
前記気体を排出させる段階を含むことを特徴とする請求
項２３に記載の乾燥方法。 - 【請求項２５】 前記液体貯蔵槽の排出口に接続された
柔軟性配管の一部分を上昇、または下降させて前記液体
貯蔵槽内の液体の水位を調節する段階をさらに含むこと
を特徴とする請求項２３に記載の乾燥方法。 - 【請求項２６】 前記液体貯蔵槽内に供給される液体の
流れを液体流動緩衝器を使用して緩衝させる段階をさら
に含むことを特徴とする請求項２３に記載の乾燥方法。 - 【請求項２７】 前記液体流動緩衝器は前記貯蔵槽の上
部に配置され、前記液体流動緩衝器は前記液体貯蔵槽の
上方から前記液体が供給される形態及び大きさを有し、
前記液体流動緩衝器の下部に設けられたスリットを通じ
て前記液体を排出させることを特徴とする請求項２６に
記載の乾燥方法。 - 【請求項２８】 前記液体流動緩衝器は前記液体貯蔵槽
の上部に配置され、前記液体流動緩衝器は前記液体流動
緩衝器の上方から前記液体が供給される形態及び大きさ
を有するだけではなく、前記液体を一時的に保有し、前
記液体を前記液体流動緩衝器の上部にこぼれることによ
って排出させることを特徴とする請求項２６に記載の乾
燥方法。 - 【請求項２９】 前記チャンバは前記液体貯蔵槽からこ
ぼれる液体が貯蔵される外部液体を含み、前記液体貯蔵
槽は前記液体貯蔵槽の底に液体を流入させる開口部を有
することを特徴とする請求項２６に記載の乾燥方法。 - 【請求項３０】 前記基板を乾燥させる段階は、前記気
体分配器の内部配管及び同軸外部配管を通じて前記液体
貯蔵槽に気体を流入させる段階を含み、前記内部配管は
開放された一端、密閉された他の端、及び長さの方向の
軸に沿って均一に離隔されるように整列されて前記開放
された他の端を通じて流入された気体を前記外部配管に
通過させる複数のホールを有し、前記外部配管は第１及
び第２セットのホールを有し、前記第１及び第２セット
のホールは各々第１長さの方向の軸及び第２長さの方向
の軸に沿って整列され、前記内部配管から通過された気
体を排出させることを特徴とする請求項２３に記載の乾
燥方法。 - 【請求項３１】 前記第１及び第２長さの方向の軸は前
記内部配管の中心を通る垂直軸に対して互いに対称であ
ることを特徴とする請求項３０に記載の乾燥方法。 - 【請求項３２】 前記気体分配器の下部に配置されたガ
イドを通じて前記ガイド及び前記チャンバの側壁の間に
チャネルを形成する段階をさらに含み、前記ガイドは前
記チャンバの幅より小さい幅を有し、前記気体分配器か
ら排出された気体は前記チャネルを通じて流れることを
特徴とする請求項２３に記載の乾燥方法。 - 【請求項３３】 前記ガイドの下部面は二つの傾いた面
を有し、前記二つの傾いた面は前記ガイドの下部面の中
心点で互いに接して前記チャネルから前記液体貯蔵槽に
気体を反射させることを特徴とする請求項３２に記載の
乾燥方法。 - 【請求項３４】 気体生成器を使用して前記気体を生成
させる段階をさらに含み、前記気体生成器は膨張タンク
及び前記膨張タンク内に設けられた多孔性フィルタを有
し、前記膨張タンクは前記チャンバに気体を排出させる
前に、前記気体を加熱させるヒータを有することを特徴
とする請求項２３に記載の乾燥方法。 - 【請求項３５】 気体生成器を使用して前記気体を生成
させる段階をさらに含み、前記気体生成器は膨張タン
ク、運搬ガス配管、及び前記膨張タンク及び前記運搬ガ
ス配管を連結させるノズルを有し、前記ノズルは全体に
わたって一定の直径を有することを特徴とする請求項２
３に記載の乾燥方法。 - 【請求項３６】 前記基板を乾燥させる段階は前記液体
貯蔵槽内の液体内に入れた前記基板を上昇させると同時
に前記液体の水位を徐々に低くする段階を含むことを特
徴とする請求項２３に記載の乾燥方法。 - 【請求項３７】 前記液体は脱イオン水または電解水で
あり、前記気体はエチルグリコール、１−プロパノー
ル、２−プロパノール、テトラヒドロフラン、４−オキ
シ−４メチル−２ペンタモーン、１−ブタノール、２−
ブタノール、メタノール、エタノール、イソプロピルア
ルコール、アセトン、ｎ−プロピルアルコールまたはジ
メチルエーテルであることを特徴とする請求項２３に記
載の乾燥方法。
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