JP2003294947A - 偏光分離素子及びその製造方法 - Google Patents
偏光分離素子及びその製造方法Info
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Abstract
膜上への微細加工におけるプロセス時に発生する有機複
屈折膜の熱収縮による基板の反りを低減することができ
る構成の偏光分離素子を実現する。 【解決手段】本発明では、直交する2つの偏光成分を分
離するため、透明基板1上に入射光の異なる振動面に対
し屈折率が異なる有機複屈折膜3を接着し、この有機複
屈折膜3に周期的な凹凸格子(回折格子)4を形成し、
この回折格子4の凹み部分に等方性の接着剤5を充填
し、該回折格子上に対向透明基板6を接着した構成の偏
光分離素子において、前記有機複屈折膜3を接着する透
明基板1に引っ張り応力を有するコーティング膜7を設
けたことを特徴とし、コーティング膜7の応力を有機複
屈折膜3の熱収縮応力と均衡するように制御することに
より、透明基板の反りを低減することができる。
Description
頼性の高い偏光分離素子とその製造方法に関し、特に接
着に特徴を有する偏光分離素子とその製造方法に関す
る。
特開昭63−314502号公報、特開2000−75
130号公報では、簡単な工程で安価に作製できる偏光
分離素子として、透明基板上、同一平面に回折格子を有
する複屈折膜と、その上に等方性のオーバーコート層が
被覆あるいは装荷されている構造のものが提案されてい
る。これらの中には良好な光学的特性を得るために両面
の平坦性の向上を目的とした構成となっているものがあ
る。これはガラスやプラスチック等の透明基板上の同一
平面に回折格子を形成し、接着剤により接着され、その
複屈折膜が等方性のオーバーコート層で覆われ、このオ
ーバーコート層が接着層も兼ねて透明基板と接着してい
るために、素子として強度があり、かつ生産性の高い構
成となっているものである。
は、ホログラムディスク表面を予め上方に反った形状に
プラスチック基板を成形加工し、組み付けた後に、重力
によりホログラムディスクが下方に撓み反りを打ち消す
ことで、回折レーザー光の回折角の変動を低減してい
る。また、特許第2639659号公報記載の発明で
は、ガラス基板上にフォトエッチングで凹凸(回折格
子)を形成し、もうひとつの面に真空蒸着法でMgF2
の無反射コーティングを施し、回折格子で反射されて直
接に受光手段に入射したり、回折格子で反射された光が
迷光となって受光手段に入射することを防止している。
B-1では、LiNbO3(ニオブ酸リチウム)を基板に
用いた偏光分離素子を実現している。また、特開平10
−335433号公報記載の発明では、真空中で貼り付
けを行い、貼り付け時の気泡の巻き込みを防止してい
る。この場合、予め粘着剤を塗布しておいたフィルムを
用いているように、蒸気圧成分を含む接着剤の使用には
制限がある。
オブ酸リチウム基板の結晶のX面もしくはY面の所定の
部分がプロトン交換されたプロトン交換層と、これによ
りニオブ酸リチウム基板に生じる応力を前記と同じ手法
でプロトン交換されたプロトン交換層により応力を補正
するプロトン交換層とを備えた光学素子の製造方法が記
載されている。
分を分離するため、透明基板上に入射光の異なる振動面
に対し屈折率が異なる有機複屈折膜を接着した構成の偏
光分離素子では、前記有機複屈折膜の接着時において、
有機複屈折膜が延伸した高分子材料であり、その後の微
細加工プロセスにおけるフォトリソグラフィのレジスト
硬化プロセスでかかる温度で、有機複屈折膜が熱収縮
し、その結果、有機複屈折膜を接着した透明基板が、有
機複屈折膜側に反るという問題がある。また、用いる接
着剤も1〜10%程度の硬化収縮があり、基板の反りが
発生する問題がある。この有機複屈折膜接着基板の反り
はフォトリソグラフィプロセスにおける露光時の焦点位
置変動による焦点合わせ不良や、波面収差の低下等の問
題となる。
的に数十μm〜数百μmと薄く、他の部材に接着する
際、自重や気圧等により容易に変形し、透明基板上の接
着剤と有機複屈折膜の接触点が面で接触し、気泡を巻込
む問題がある。さらに接着剤硬化後は透明基板と同等の
屈折率が必要であり、また、光の吸収がない特性が要求
される等、制約が多いという問題がある。また、LiN
bO3のような材料を基板に用いて偏光分離素子を作成
する方法では、高価な光学結晶が必要となり、材料コス
トが高く、また、プロセスも複雑になり製造コストも高
くなる。
ものであり、透明基板に有機複屈折膜を接着後、有機複
屈折膜上への微細加工におけるプロセス時に発生する有
機複屈折膜の熱収縮による基板の反りを低減することが
できる構成の偏光分離素子と、その製造方法を提供する
ことを目的とする。さらに本発明では、気泡の巻き込み
の無い有機複屈折膜の接着を行なうことができ、これに
より素子の信頼性向上を確保することのできる偏光分離
素子の製造方法を提供することを目的とする。
の手段として、本発明では以下に示すような構成の偏光
分離素子及びその製造方法を採用した。 (1).直交する2つの偏光成分を分離するため、透明基
板上に入射光の異なる振動面に対し屈折率が異なる有機
複屈折膜を接着し、この有機複屈折膜に周期的な凹凸格
子(以下、回折格子と記述する)を形成し、この回折格
子の凹み部分に等方性の接着剤を充填し、該回折格子上
に対向透明基板を接着した構成の偏光分離素子におい
て、前記有機複屈折膜を接着する透明基板に応力を有す
るコーティング膜を設けた構成とする(請求項1)。 (2).前記(1)に記載の偏光分離素子において、前記コ
ーティング膜の応力は、引張り応力となるように構成す
る(請求項2)。 (3).前記(1)または(2)に記載の偏光分離素子におい
て、前記コーティング膜は、透明基板の屈折率と同等も
しくはそれより小さい屈折率を有する単層または多層の
コーティング膜、あるいは単層または透明基板より小さ
い屈折率と大きい屈折率との多層の反射防止膜からなる
構成とする(請求項3)。 (4).前記(1),(2)または(3)に記載の偏光分離素子
において、前記透明基板のコーティング膜を設けた面と
は反対側の面に有機複屈折膜を接着した構成とする(請
求項4)。 (5).前記(4)に記載の偏光分離素子において、前記有
機複屈折膜は、延伸により分子鎖を配向させた高分子膜
からなる構成とする(請求項5)。 (6).前記(1)〜(5)のいずれか一つに記載の偏光分離
素子において、前記コーティング膜の応力を前記有機複
屈折膜の熱収縮応力と均衡するよう制御した構成とする
(請求項6)。
ため、透明基板上に入射光の異なる振動面に対し屈折率
が異なる有機複屈折膜を接着する工程と、この有機複屈
折膜に周期的な凹凸格子(以下、回折格子と記述する)
を形成する工程と、この回折格子の凹み部分に等方性の
接着剤を充填する工程と、該回折格子上に対向透明基板
を接着する工程とを実施する偏光分離素子の製造方法に
おいて、前記有機複屈折膜を接着する透明基板に応力を
有するコーティング膜を設ける(請求項7)。 (8).前記(7)に記載の偏光分離素子の製造方法におい
て、前記コーティング膜の応力は引張り応力とし、該コ
ーティング膜の応力により透明基板に反りを発生させる
(請求項8)。 (9).前記(7)または(8)に記載の偏光分離素子の製造
方法において、前記コーティング膜として、透明基板の
屈折率と同等もしくはそれより小さい屈折率を有する単
層または多層のコーティング膜、あるいは単層または透
明基板より小さい屈折率と大きい屈折率との多層の反射
防止膜を形成する(請求項9)。 (10).前記(7),(8)または(9)に記載の偏光分離素
子の製造方法において、前記透明基板のコーティング膜
を設けた面とは反対側の面に有機複屈折膜を接着する
(請求項10)。 (11).前記(10)に記載の偏光分離素子の製造方法に
おいて、前記有機複屈折膜は、延伸により分子鎖を配向
させた高分子膜とする(請求項11)。 (12).前記(7)〜(11)のいずれか一つに記載の偏光
分離素子の製造方法において、前記コーティング膜の応
力を前記有機複屈折膜の熱収縮応力と均衡するよう制御
する(請求項12)。 (13).前記(7)〜(12)のいずれか一つに記載の偏光
分離素子の製造方法において、前記有機複屈折膜を透明
基板に接着する工程では、紫外線を有機複屈折膜側から
照射する(請求項13)。尚、有機複屈折膜と透明基板
とを接着する接着剤としては、光硬化型の接着剤(例え
ばアクリル系またはエポキシ系の光硬化型接着剤)など
が好適に用いられる。 (14).前記(7)〜(13)のいずれか一つに記載の偏光
分離素子の製造方法において、前記有機複屈折膜を透明
基板に1つの接触点において接触する工程と、この接触
点から全体に接触面を広げることにより接着する工程と
を有する(請求項14)。 (15).前記(7)〜(14)のいずれか一つに記載の偏光
分離素子の製造方法において、前記有機複屈折膜をU字
形状に変形して透明基板に接触する工程と、この接触点
から全体に接触面を広げて接合する工程とを有する(請
求項15)。 (16).前記(7)〜(15)のいずれか一つに記載の偏光
分離素子の製造方法において、前記有機複屈折膜と透明
基板とを接着する接着装置の透明基板を載置固定する装
置形状を、透明基板のコーティング膜側表面形状と相似
形とした(請求項16)。 (17).前記(7)〜(15)のいずれか一つに記載の偏光
分離素子の製造方法において、前記有機複屈折膜と透明
基板とを接着する接着装置の有機複屈折膜を加圧する装
置形状を、透明基板のコーティング膜とは反対側の表面
形状と相似形とした(請求項17)。
参照して詳細に説明する。図1は本発明の一実施例を示
す偏光分離素子の概略断面図である。この偏光分離素子
は、透明基板1上に入射光の異なる振動面に対し屈折率
が異なる有機複屈折膜3を接着剤2により接着し、この
有機複屈折膜3に周期的な凹凸格子(以下、回折格子と
記述する)4を形成し、この回折格子4の凹み部分に等
方性の接着剤5を充填し、該回折格子上に対向透明基板
6を接着した構成であり、さらに、前記有機複屈折膜3
を接着する透明基板1に引張り応力を有するコーティン
グ膜7を設けた構成としたものである。すなわち、この
実施例では、透明基板1の片面に引張り応力を有する単
層または多層の膜7をコーティングし、この透明基板1
の反対の平面上に有機複屈折膜3を接着剤2で接着し、
有機複屈折膜3に微細加工により回折格子4を形成し、
その後、等方性接着剤5で対向透明基板6を接着し、偏
光分離素子を構成している。以下、本発明の偏光分離素
子とその製造方法の具体的な実施例を示す。
〜5を参照して説明する。図2に第1の実施例の透明基
板及びコーティング膜の断面図を示した。本実施例で
は、透明基板1として、直径φ100mm、板厚1.0
mmの石英ガラス基板を用い、この石英ガラス基板1の
片面にコーティング膜7として真空蒸着法でMgF2を
1μmの膜厚で形成した。真空蒸着は薄膜を形成する一
般的な手法と同じ方法で形成しているので詳細な説明は
省略する。
が形成された石英ガラス基板1は、MgF2コーティン
グ膜7の引張り応力により、MgF2コーティング膜7
側に反っている。また、望ましくはMgF2コーティン
グ膜7の引張り応力は1MPa〜10GPaになるよう
に基板温度、膜厚、等のコーティング条件で応力を制御
する。尚、コーティング膜7の材質はMgF2に限定す
るものではなく、石英ガラス基板1と屈折率が同等もし
くはそれ以下の屈折率の材料、例えばCaF2、LiF
等の誘電体材料を用いてもよい。
た基板上に有機複屈折膜を接着する際に用いられる接着
装置の概略構成を示す図である。図3に示すように、
X,Y,Z軸が移動可能な移動ステージ8上に固定され
た基板ホルダ9上に、MgF2膜面を下に石英ガラス基
板1が載置され、図示しない真空吸着機構により固定さ
れる。この基板ホルダ9はMgF2膜7をコーティング
した石英ガラス基板1のコーティング膜側表面の反りと
ほぼ同じ形状を有する凸形状としている。基板ホルダ9
及び石英ガラス基板1の上方には、図示しない接着剤滴
下装置と、接着剤2の中心の特定と有機複屈折膜3の中
心を測定するためのX,Y方向に移動可能な測定系を設
けてある。本実施例では測定系として、接着剤2、石英
ガラス基板1及び有機複屈折膜3の表面からの反射光を
検出し、変位量を読み取るCCDレーザー変位計11
と、CCDレーザー変位計11で位置検出し、位置情報
をそれぞれの移動装置にフィードバックする回路(図示
せず)と、有機複屈折膜3の両端部を保持するための保
持装置10を、基板ホルダ9に対し平行に配置し、これ
に図示しないモーメント力Mを発生する装置を配置して
いる。
ス基板1とほぼ同じ屈折率1.58のアクリル樹脂系の
紫外線(UV)硬化型接着剤2を0.2mL滴下し、こ
の上方に有機複屈折膜3を載置する。有機複屈折膜3は
厚み0.12mmで110mm×120mmの大きさに
切断されており、保持装置10により有機複屈折膜3の
両端部が真空吸着により保持されている。そして、有機
複屈折膜3の略中心位置を石英ガラス基板1の略中心位
置に載置した後、図示しないモーメント発生装置により
有機複屈折膜3をU字形状に変形する。再び、CCDレ
ーザー変位計11により有機複屈折膜3の表面形状を測
定し、U字形状の中心位置を検出し、予め測定しておい
た接着剤2の凸形状の頂点位置情報より移動量を演算
し、X−Y移動装置により有機複屈折膜3のU字形状の
中心を接着剤2の凸中心に位置合わせを行う。そして、
石英ガラス基板1−接着剤2−有機複屈折膜3の位置合
わせを完了した後、移動ステージ8で基板ホルダ9を上
昇し、接着剤2と有機複屈折膜3のそれぞれの頂点で接
触する位置で停止し、その後、有機複屈折膜3のモーメ
ント力Mを緩やかに解除しながら有機複屈折膜3を石英
ガラス基板1上に載置する。
1のコーティング膜7とは反対側の面の反りとほぼ同じ
凹み形状に加工した、直径φ110mm、厚み20mm
の石英ガラス製押圧装置12を有機複屈折膜3上に載
せ、有機複屈折膜3の全面を均等に加圧し、接着剤2が
石英ガラス基板1の全面に広がった時点で加圧を停止し
た後、 押圧装置12を通して図示しない紫外線照射装
置(UV装置)で光強度30mW/cm2の紫外線を2
00秒間照射し、接着剤2を硬化した。硬化後、直径φ
100mmの外形に沿って、余分な有機複屈折膜3を切
断した後、押圧装置12を上昇し、基板ホルダ9の真空
吸着を解除して石英ガラス基板1を取り出し、有機複屈
折膜付き石英ガラス基板とした。
法として、有機複屈折膜3の中央から石英ガラス基板1
に接触することで、面接触で接着する従来法では目視レ
ベルで確認できる気泡の巻き込みが発生していたのに対
し、本実施例の方法では気泡の巻き込みがない貼り合わ
せが実現できた。
方法の他、CCDカメラと画像処理装置により石英ガラ
ス基板1と接着剤2の形状を認識し、中心を割り出し、
位置合わせする方法等も実施可能である。また、ここで
は接着剤としてアクリル樹脂系の光硬化型の接着剤を用
いて接着したが、エポキシ樹脂系の光硬化型の接着剤を
用いてもよい。また、有機複屈折膜3はハンドリング性
を考慮すると、厚みは0.01mm以上が望ましいが、
延伸により光学的特性を得ることを考慮すると、最大厚
み0.5mmの範囲で用いるのが好ましい。より望まし
くは0.05〜0.2mmの範囲がよい。本実施例では
厚み0.12mmの有機複屈折膜を用いた。
複屈折膜3をイソプロピルアルコール等の有機溶媒と純
水の順で洗浄する。その後、日本ゼオン化社製ZEP−
520レジストをスピンコートにより0.5μm厚のレ
ジスト膜を形成し、100℃で30分間ベークした。こ
の時、有機複屈折膜3の熱収縮で石英ガラス基板1に引
張り応力約7.5MPaが発生するが、石英ガラス基板
1の裏面にコーティングしたコーティング膜7の応力と
均衡するため、石英ガラス基板1は平面性を保ってい
る。その後、ステッパ装置を用い、有機複屈折膜3上の
レジスト膜にライン&スペース3μmのパターンを8m
mピッチで300周期繰り返し形成し、レジスト膜に周
期的な凹凸格子(回折格子)のパターンを形成した素子
を形成した。この回折格子のパターンは素子外形8×8
mmの中心に略形状1×2mmで形成している。
グガス雰囲気中で、住友金属社製ECR(Electron Cyc
lotron Resonance:電子サイクロトロン共鳴)エッチン
グ装置でエッチングし、有機複屈折膜3に幅3μm、深
さ5μmのラインと3μm幅のスペースを300周期繰
り返した回折格子4を形成した。尚、他のフォトリソ工
程は一般に知られているプロセスを採用しており、詳細
な説明は省略する。
み50mmのステンレス台上に、有機複屈折膜3に回折
格子4を形成した石英ガラス基板1を載置し、この回折
格子面にアクリル樹脂系の光硬化型の等方性接着剤5を
マイクロシリンジで0.25mL計量滴下し、この等方
性接着剤5を滴下した石英ガラス基板1の回折格子面に
両面光学研磨した外径φ100mm、厚み0.5mmの
対向透明基板6を載置し、さらにこの上に加圧部材とし
て光学研磨した石英ガラスを載せ、対向透明基板6に1
00gf/cm2の圧力を印加し、等方性接着剤5を被
接着面全面に広げた。尚、対向透明基板6の接着面と反
対の面には入射波長の反射が最小となるよう反射防止膜
を形成した。この状態で、図示しない紫外線照射装置で
150mm上面から照射照度20mW/cm2の紫外光
を対向透明基板6を通して10分間照射し硬化接着し
た。このようにして製造した偏光分離素子の要部断面を
図5に示す。
は粘性や屈折率等の特性制御の容易さや接着力および透
明性の点からアクリル系の接着剤を用いたが、エポキシ
系でも同様なことが可能である。これらの接着剤は紫外
線で硬化するので、加圧部材に石英ガラス等の透明部材
を用いることにより加圧中硬化が可能であり、プロセス
を簡略できる。また、有機複屈折膜3としては、ポリエ
チレンテレフタレート(PET)等の高分子膜を布で擦
ってラビング処理して配向膜を形成し、この配向膜上に
ポリジアセチレンモノマーを真空蒸着して配向させた
後、紫外光を照射してポリマー化して異方性膜とする方
法(参考文献:J.Appl.phys.,72,No,3,P938-947)があ
るが、工程が複雑でコスト高となるため、ここでは、分
子鎖が配向した高分子膜で、特性の均一性を考慮して延
伸された有機複屈折膜を用いた。
ついて説明する。図6は本発明の第2の実施例を示す図
であり、一方の面に多層コーティング膜を形成し、他方
の面に有機複屈折膜を接着した透明基板の一例を示す要
部断面図である。図中の符号21は透明基板、22は接
着剤、23は有機複屈折膜、24は多層膜からなるコー
ティング膜である。尚、偏光分離素子の構成としては、
図1、図5と同様に、有機複屈折膜23上に周期的な凹
凸格子(回折格子)4が形成され、その回折格子4の凹
み部分には等方性接着剤5が充填され、該等方性接着剤
で回折格子上に対向透明基板6が接着されるが、これら
の図示は省略している。
φ100mm、板厚0.5mmのBK−7基板を用い、
このBK−7基板21の片面に、真空蒸着法でSiO2
膜24a、TiO2膜24b、SiO2膜24cの3層
からなる多層コーティング膜24を、SiO2/TiO
2/SiO2がn1・t1=λ/4、n2・t2=λ/4も
しくはn2・t2=λ/2をとるように膜厚を制御し、引
っ張り応力となるよう形成した。ここでn1はSiO2
の屈折率で、t1はSiO2の膜厚、n2はTiO2の屈
折率で、t2はTiO2の膜厚、λは波長で660nm
である。尚、真空蒸着は薄膜を形成する一般的な手法と
同じ方法で形成しているので詳細な説明は省略する。
形成されたBK−7基板21は、多層のコーティング膜
24側からの入射光の反射率が0.5%以下と小さく、
且つコーティング膜24の引張り応力で膜側に反ってい
る。尚、コーティング膜24は、材質をCaF2やSi
O2等の他の誘電体の単層もしくは多層膜として構成し
てもよい。
接着工程について説明するが、ここでは、図3の基板
1、接着剤2、有機複屈折膜3を、本実施例のBK−7
基板21、接着剤22、有機複屈折膜23に置き換えて
説明する。X,Y,Z軸が移動可能な移動ステージ8上
に固定された基板ホルダ9上に、本実施例のBK−7基
板21をコーティング膜面を下にして載置し、図示しな
い真空吸着機構により固定する。この基板ホルダ9は多
層コーティング膜24をコーティングしたBK−7基板
21のコーティング膜側表面の反りとほぼ同じ形状を有
する凸形状としている。基板ホルダ9及びBK−7基板
21の上方には、図示しない接着剤滴下装置と、接着剤
の中心の特定と有機複屈折膜23の中心を測定するため
のX,Y方向に移動可能な測定系を設けてある。本実施
例では、図3と同様に測定系として、接着剤22、BK
−7基板21及び有機複屈折膜23の表面からの反射光
を検出し、変位量を読み取るCCDレーザー変位計11
と、CCDレーザー変位計11で位置検出し、位置情報
をそれぞれの移動装置にフィードバックする回路(図示
せず)と、有機複屈折膜23の両端部を保持するための
保持装置10を、基板ホルダ9に対し平行に配置し、こ
れに図示しないモーメント力Mを発生する装置を配置し
ている。
7基板とほぼ同じ屈折率1.58のアクリル樹脂系のU
V硬化型接着剤22を0.2mL滴下し、この上方に有
機複屈折膜23を載置する。有機複屈折膜23は厚み
0.2mmで110mm×120mmの大きさに切断さ
れており、図3と同様に保持装置10により有機複屈折
膜23の両端部が真空吸着により保持されている。そし
て、有機複屈折膜23の略中心位置をBK−7基板の略
中心位置に載置した後、図示しないモーメント発生装置
により有機複屈折膜23をU字形状に変形する。そし
て、再びCCDレーザー変位計11により有機複屈折膜
23の表面形状を測定し、U字形状の中心位置を検出
し、予め測定しておいた接着剤22の凸形状の頂点位置
情報より移動量を演算し、X−Y移動ステージ8により
有機複屈折膜23のU字形状の中心を接着剤22の凸中
心に位置合わせを行う。そして、BK−7基板−接着剤
−有機複屈折膜の位置合わせを完了した後、移動ステー
ジ8で基板ホルダを上昇し、接着剤22と有機複屈折膜
23のそれぞれの頂点で接触する位置で停止し、その
後、有機複屈折膜23のモーメント力Mを緩やかに解除
しながら有機複屈折膜23をBK−7基板21上に載置
する。
コーティング膜とは反対側の面の反りとほぼ同じ形状を
有する凹み形状に加工した、直径φ110mm、厚み2
0mmの石英ガラス製押圧装置12を有機複屈折膜23
上に載せ、有機複屈折膜23の全面を均等に加圧し、接
着剤22がBK−7基板21の全面に広がった時点で加
圧を停止した後、押圧装置を通して紫外線照射装置(U
V装置)で光強度30mW/cm2の紫外線を200秒
間照射し、接着剤22を硬化した。硬化後、直径φ10
0mmの外形に沿って、余分な有機複屈折膜23を切断
した後、押圧装置を上昇し、基板ホルダの真空吸着を解
除してBK−7基板23を取り出し、図6に示すような
有機複屈折膜付きBK−7基板とした。
法として、有機複屈折膜23の中央から基板21に接触
することで、面接触で接着する従来法では目視レベルで
確認できる気泡の巻き込みが発生していたのに対し、本
実施例の方法では気泡の巻き込みがない貼り合わせが実
現できた。また、下記の表1に、有機複屈折膜側とコー
ティング膜(SiO2/TiO2/SiO2膜)側から
紫外線を照射した時の光強度比を示すが、表1に示した
通り、有機複屈折膜側から紫外線を入射することで、効
率良く接着剤へ光照射できる。
他、CCDカメラと画像処理装置によりBK−7基板2
1と接着剤22の形状を認識し、中心を割り出し、位置
合わせする方法等も実施可能である。また、ここではア
クリル樹脂系の光硬化型の接着剤を用いて接着したが、
エポキシ樹脂系の光硬化型の接着剤を用いてもよい。ま
た、有機複屈折膜23はハンドリング性を考慮すると、
厚みは0.01mm以上が望ましいが、延伸により光学
的特性を得ることを考慮すると、最大厚み0.5mmの
範囲で用いるのが好ましい。より望ましくは0.05〜
0.2mmの範囲がよい。本実施例では厚み0.2mm
の有機複屈折膜を用いた。
複屈折膜23をイソプロピルアルコール等の有機溶媒と
純水の順で洗浄する。その後、日本ゼオン化社製ZEP
−520レジストを用い、スピンコートにより有機複屈
折膜23上に0.5μm厚のレジスト膜を形成し、10
0℃で30分間ベークした。この時、有機複屈折膜23
の熱収縮でBK−7基板21に引張り応力が発生する
が、BK−7基板21の裏面にコーティングしたコーテ
ィング膜24の応力と均衡するためBK−7基板21は
平面性を保っている。その後、ステッパ装置を用い、ラ
イン&スペース3μmのパターンを8mmピッチで30
0周期繰り返し形成し、レジスト膜に周期的な凹凸格子
(回折格子)のパターンを形成した素子を形成した。こ
の回折格子のパターンは素子外形8×8mmの中心に略
形状1×2mmで形成している。
グガス雰囲気中で、住友金属社製ECR(Electron Cyc
lotron Resonance:電子サイクロトロン共鳴)エッチン
グ装置でエッチングし、有機複屈折膜23に幅3μm、
深さ5μmのラインと3μm幅のスペースを300周期
繰り返した回折格子を形成した。尚、他のフォトリソ工
程は一般に知られているプロセスを採用しており、詳細
な説明は省略する。
50mmのステンレス台上に、有機複屈折膜23に回折
格子を形成したBK−7基板21を載置し、この回折格
子面にアクリル樹脂系の光硬化型の等方性接着剤をマイ
クロシリンジで0.25mL計量滴下し、この等方性接
着剤を滴下したBK−7基板21の回折格子面に両面光
学研磨した外径φ100mm、厚み0.5mmの対向透
明基板を載置し、さらにこの上に加圧部材として光学研
磨した石英ガラスを載せ、対向透明基板に100gf/
cm2の圧力を印加し、等方性接着剤を被接着面全面に
広げた。尚、対向透明基板の接着面と反対の面には入射
波長の反射が最小となるよう反射防止膜を形成した。こ
の状態で、図示しない紫外線照射装置で150mm上面
から照射照度20mW/cm2の紫外光を対向透明基板
を通して10分間照射し硬化接着した。このようにして
製造した偏光分離素子の断面構造は図1や図5と略同様
である。
の等方性接着剤は、粘性や屈折率等の特性制御の容易さ
や接着力および透明性の点からアクリル系の接着剤を用
いたが、エポキシ系でも同様なことが可能である。これ
らの接着剤は紫外線で硬化するので、加圧部材に石英ガ
ラス等の透明部材を用いることにより加圧中硬化が可能
であり、プロセスを簡略できる。また、有機複屈折膜2
3としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)等
の高分子膜を布で擦ってラビング処理して配向膜を形成
し、この配向膜上にポリジアセチレンモノマーを真空蒸
着して配向させた後、紫外光を照射してポリマー化して
異方性膜とする方法(参考文献:J.Appl.phys.,72,No,
3,P938-947)があるが、工程が複雑でコスト高となるた
め、ここでは、分子鎖が配向した高分子膜で、特性の均
一性を考慮して延伸された有機複屈折膜を用いた。
ついて説明する。図7は本発明の第3の実施例の説明図
であって、透明基板上に有機複屈折膜を接着する際に用
いられる接着装置の概略構成を示す図である。本実施例
では図7に示すように、X,Y,Z軸が移動可能な移動
ステージ8上に固定された基板ホルダ9上に、透明基板
31として、直径φ100mm、板厚1.0mmの透明
なBK−7基板が載置され、図示しない真空吸着機構に
より固定される。基板ホルダ9及びBK−7基板31の
上方には、図示しない接着剤滴下装置と、接着剤32の
中心と有機複屈折膜33の中心を測定するためのX,Y
方向に移動可能な測定系を設けてある。本実施例では、
測定系として、接着剤32、BK−7基板31及び有機
複屈折膜33の表面からの反射光を検出し、変位量を読
み取るCCDレーザー変位計11と、CCDレーザー変
位計11で位置検出し、位置情報をそれぞれの移動装置
にフィードバックする回路(図示せず)と、有機複屈折
膜33の両端部を保持するための保持装置10を、基板
ホルダ9に対し平行に配置し、これに図示しないモーメ
ント力Mを発生する装置を配置している。
7基板31とほぼ同じ屈折率1.58のアクリル樹脂系
のUV硬化型接着剤32を0.2mL滴下し、この上方
に有機複屈折膜33を載置する。有機複屈折膜33は厚
み0.2mmで110mm×120mmの大きさに切断
されており、保持装置10により有機複屈折膜33の両
端部が真空吸着により保持されている。そして、有機複
屈折膜33の略中心位置をBK−7基板31の略中心位
置に載置した後、図示しないモーメント発生装置により
有機複屈折膜33をU字形状に変形する。そして、再び
CCDレーザー変位計11により有機複屈折膜33の表
面形状を測定し、U字形状の中心位置を検出し、予め測
定しておいた接着剤32の凸形状の頂点位置情報より移
動量を演算し、X−Y移動装置により有機複屈折膜33
のU字形状の中心を接着剤32の凸中心に位置合わせを
行う。そして、BK−7基板−接着剤−有機複屈折膜の
位置合わせを完了した後、移動ステージ8で基板ホルダ
9を上昇し、接着剤32と有機複屈折膜33のそれぞれ
の頂点で接触する位置で停止し、その後、有機複屈折膜
33のモーメント力を緩やかに解除しながら有機複屈折
膜33をBK−7基板31上に載置する。
形状を有する凹み形状に加工した、直径φ110mm、
厚み20mmの石英ガラス製押圧装置(図示せず)を有
機複屈折膜上に載せ、有機複屈折膜33の全面を均等に
加圧し、接着剤32がBK−7基板33の全面に広がっ
た時点で加圧を停止した後、押圧装置を通して図示しな
い紫外線照射装置(UV装置)で光強度30mW/cm
2の紫外線を200秒間照射し、接着剤を硬化した。硬
化後、直径φ100mmの外形に沿って、余分な有機複
屈折膜33を切断した後、押圧装置を上昇し、基板ホル
ダ9の真空吸着を解除してBK−7基板31を取り出
し、有機複屈折膜付きBK−7基板31とした。図8
(a)は以上のようにして有機複屈折膜が接着されたB
K−7基板の概略断面図である。
法として、有機複屈折膜33の中央から基板31に接触
することで、面接触で接着する従来法では目視レベルで
確認できる気泡の巻き込みが発生していたのに対し、本
実施例の方法では気泡の巻き込みがない貼り合わせが実
現できた。
他、CCDカメラと画像処理装置によりBK−7基板2
1と接着剤22の形状を認識し、中心を割り出し、位置
合わせする方法等も実施可能である。また、ここではア
クリル樹脂系の光硬化型の接着剤を用いて接着したが、
エポキシ樹脂系の光硬化型の接着剤を用いてもよい。ま
た、有機複屈折膜33はハンドリング性を考慮すると厚
みは0.01mm以上が望ましいが、延伸により光学的
特性を得ることを考慮すると、最大厚み0.5mmの範
囲で用いるのが好ましい。より望ましくは0.05〜
0.2mmの範囲がよい。本実施例では厚み0.2mm
の有機複屈折膜を用いた。
の有機複屈折膜33を接着していない側の面に、真空蒸
着法でMgF2をn1・t1=λ/4、もしくはn1・t1
=3λ/4となるように膜厚を制御してコーティング膜
34を形成した。図8(b)はコーティング膜34を形
成したBK−7基板の概略断面図である。ここでn1は
MgF2の屈折率で、t1はMgF2の膜厚、λは波長
で660nmを用いた。真空蒸着での基板温度は100
℃で実施した。真空蒸着プロセスは薄膜を形成する一般
的な手法と同じ方法で形成しているので詳細な説明は省
略する。
り応力を有機複屈折膜33の熱収縮による応力と均衡す
るよう0.1MPa〜10GPaで制御した。また、コ
ーティング中の加熱により、有機複屈折膜33の収縮が
安定するため、その後のプロセスでの有機複屈折膜33
の収縮は極めて小さい。また、コーティング膜34の構
成を、n1・t1=λ/4、もしくはn1・t1=3λ/4
となるように膜厚を制御しているので、コーティング膜
側からの入射光の反射率を低減できる。尚、コーティン
グ膜34のその他の膜構成としては、単層構成のSiO
2,CaF2や、多層構成のSiO2/TiO2/Si
O2等でもよい。
上の有機複屈折膜33をイソプロピルアルコール等の有
機溶媒と純水の順で洗浄する。その後、日本ゼオン化社
製ZEP−520レジストを用い、スピンコートにより
有機複屈折膜33上に0.5μm厚のレジスト膜を形成
し、100℃で30分間ベークした。この時、有機複屈
折膜33の熱収縮で基板31に引張り応力が発生する
が、BK−7基板31の裏面にコーティングしたコーテ
ィング膜34の引張り応力と均衡するためBK−7基板
31は平面性を保っている。その後、ステッパ装置を用
い、ライン&スペース3μmのパターンを8mmピッチ
で300周期繰り返し形成し、レジスト膜に周期的な凹
凸格子(回折格子)のパターンを形成した素子を形成し
た。この回折格子のパターンは素子外形8×8mmの中
心に略形状1×2mmで形成している。
グガス雰囲気中で、住友金属社製ECR(Electron Cyc
lotron Resonance:電子サイクロトロン共鳴)エッチン
グ装置でエッチングし、有機複屈折膜33に幅3μm、
深さ5μmのラインと3μm幅のスペースを300周期
繰り返した回折格子を形成した。尚、他のフォトリソ工
程は一般に知られているプロセスを採用しており、詳細
な説明は省略する。
み50mmのステンレス台上に、回折格子を形成したB
K−7基板31を載置し、この回折格子面にアクリル樹
脂系の光硬化型の等方性接着剤をマイクロシリンジで
0.25mL計量滴下し、この等方性接着剤を滴下した
BK−7基板31の回折格子面に両面光学研磨した外径
φ100mm、厚み0.5mmの対向透明基板を載置
し、さらにこの上に加圧部材として光学研磨した石英ガ
ラスを載せ、対向透明基板に100gf/cm2の圧力
を印加し、等方性接着剤5を被接着面全面に広げた。
尚、対向透明基板の接着面と反対の面に入射波長の反射
が最小となるよう反射防止膜を形成した。この状態で、
図示しない紫外線照射装置で150mm上面から照射照
度20mW/cm2の紫外光を対向透明基板を通して1
0分間照射し硬化接着した。このようにして製造した偏
光分離素子の断面構造は図1や図5と略同様である。
の等方性接着剤は、粘性や屈折率等の特性制御の容易さ
や接着力および透明性の点からアクリル系の接着剤を用
いたが、エポキシ系でも同様なことが可能である。これ
らの接着剤は紫外線で硬化するので、加圧部材に石英ガ
ラス等の透明部材を用いることにより加圧中硬化が可能
であり、プロセスを簡略できる。また、有機複屈折膜3
3としては、ポリエチレンテレフタレート(PET)等
の高分子膜を布で擦ってラビング処理して配向膜を形成
し、この配向膜上にポリジアセチレンモノマーを真空蒸
着して配向させた後、紫外光を照射してポリマー化して
異方性膜とする方法(参考文献:J.Appl.phys.,72,No,
3,P938-947)があるが、工程が複雑でコスト高となるた
め、ここでは、分子鎖が配向した高分子膜で、特性の均
一性を考慮して延伸された有機複屈折膜を用いた。
したが、本発明で作製した偏光分離素子の直径φ100
mmの透明基板(石英ガラス基板またはBK−7基板)
の反りは30μm以下であり、従来の基板の反りの1/
5から1/10と極めて小さい値であり、また、内包す
る気泡は従来は目視レベルで数個から数十個確認されて
いたのに対し、本発明の方法では気泡は確認できないほ
ど低減できている。このように、本発明の偏光分離素子
は、有機複屈折膜等を回折格子や位相差膜として用いた
素子において、透明基板に有機複屈折膜を接着した有機
複屈折膜の微細加工で発生する有機複屈折膜の収縮によ
る基板の反りを、透明基板に形成したコーティング膜で
相殺するので、露光時の焦点位置バラツキの低減による
歩留まり向上と信頼性の高い偏光分離素子を実現するこ
とができる。尚、実施例1〜3では、透明基板として石
英ガラス基板またはBK−7基板を用いた例を示した
が、透明基板としてはこれらに限られるものではなく、
その他の光学ガラス基板や、透明樹脂基板等、種々のも
のを用いることができる。
基板に引張り応力を有するコーティング膜を設け、透明
基板のコーティング膜側とは反対側の面に有機複屈折膜
を接着したことで、コーティング膜の応力を有機複屈折
膜の熱収縮応力と均衡するように制御することにより、
透明基板の反りを低減することができる。従って、基板
の反りの発生を低減した偏光分離素子を実現することが
できる。さらに本発明では、コーテイング膜を基板と同
じ屈折率を有する単層または多層のコーテイング膜とす
ることにより、光学特性を低下することなく応力を発生
することができ、また、コーテイング膜を単層または多
層の反射防止膜とすることにより、光の入射効率を向上
することができる。さらに本発明では、有機複屈折膜を
延伸により分子鎖を配向させた高分子膜とすることによ
り、低コスト化が達成できる。さらに本発明では、有機
複屈折膜と透明基板とを接着する接着剤として、光硬化
型の接着剤(例えばアクリル系またはエポキシ系の光硬
化型接着剤)を用いることにより、プロセスの簡略化と
プロセスの低コスト化ができ、また、紫外線を有機複屈
折膜側から照射することで、光反射が少なく、紫外線硬
化時間を短縮できる。さらに本発明では、有機複屈折膜
をU字形状に変形して透明基板に1つの接触点において
接触させ、接触点から全体に接触面を広げることによ
り、気泡の巻き込みが防止でき、信頼性の高い接着を行
なうことができ、信頼性の高い偏光分離素子を提供する
ことができる。さらに本発明では、有機複屈折膜と透明
基板とを接着する接着装置の透明基板を載置固定する装
置形状を、透明基板のコーティング膜側表面形状と相似
形としたことで、接着剤の厚みを均一にできる。さらに
本発明では、有機複屈折膜と透明基板とを接着する接着
装置の有機複屈折膜を加圧する装置形状を、透明基板の
コーティング膜とは反対側の表面形状と相似形としたこ
とで、接着剤の厚みを均一にできる。さらに本発明で
は、回折格子を分子鎖が配向した高分子としたことで、
偏光分離素子の小型化、低コスト化が可能となる。
面図である。
透明基板の断面図である。
複屈折膜を接着する際に用いられる接着装置の概略構成
を示す図である。
接着する際に用いられる押圧装置と接着断面の説明図で
ある。
一例を示す要部断面図である。
の面に有機複屈折膜を接着した透明基板の一例を示す要
部断面図である。
る接着装置の概略構成を示す図である。
接着した透明基板の一例を示す要部断面図であり、
(b)は有機複屈折膜の接着後にコーティング膜を形成
した透明基板の一例を示す要部断面図である。
Claims (17)
- 【請求項1】直交する2つの偏光成分を分離するため、
透明基板上に入射光の異なる振動面に対し屈折率が異な
る有機複屈折膜を接着し、この有機複屈折膜に周期的な
凹凸格子(以下、回折格子と記述する)を形成し、この
回折格子の凹み部分に等方性の接着剤を充填し、該回折
格子上に対向透明基板を接着した構成の偏光分離素子に
おいて、 前記有機複屈折膜を接着する透明基板に応力を有するコ
ーティング膜を設けたことを特徴とする偏光分離素子。 - 【請求項2】請求項1記載の偏光分離素子において、 前記コーティング膜の応力は、引張り応力であることを
特徴とする偏光分離素子。 - 【請求項3】請求項1または2記載の偏光分離素子にお
いて、 前記コーティング膜は、透明基板の屈折率と同等もしく
はそれより小さい屈折率を有する単層または多層のコー
ティング膜、あるいは単層または透明基板より小さい屈
折率と大きい屈折率との多層の反射防止膜であることを
特徴とする偏光分離素子。 - 【請求項4】請求項1,2または3記載の偏光分離素子
において、 前記透明基板のコーティング膜を設けた面とは反対側の
面に有機複屈折膜を接着したことを特徴とする偏光分離
素子。 - 【請求項5】請求項4記載の偏光分離素子において、 前記有機複屈折膜は、延伸により分子鎖を配向させた高
分子膜であることを特徴とする偏光分離素子。 - 【請求項6】請求項1〜5のいずれか一つに記載の偏光
分離素子において、 前記コーティング膜の応力を前記有機複屈折膜の熱収縮
応力と均衡するよう制御したことを特徴とする偏光分離
素子。 - 【請求項7】直交する2つの偏光成分を分離するため、
透明基板上に入射光の異なる振動面に対し屈折率が異な
る有機複屈折膜を接着する工程と、この有機複屈折膜に
周期的な凹凸格子(以下、回折格子と記述する)を形成
する工程と、この回折格子の凹み部分に等方性の接着剤
を充填する工程と、該回折格子上に対向透明基板を接着
する工程とを実施する偏光分離素子の製造方法におい
て、 前記有機複屈折膜を接着する透明基板に応力を有するコ
ーティング膜を設けることを特徴とする偏光分離素子の
製造方法。 - 【請求項8】請求項7記載の偏光分離素子の製造方法に
おいて、 前記コーティング膜の応力は引張り応力とし、該コーテ
ィング膜の応力により透明基板に反りを発生させること
を特徴とする偏光分離素子の製造方法。 - 【請求項9】請求項7または8記載の偏光分離素子の製
造方法において、 前記コーティング膜として、透明基板の屈折率と同等も
しくはそれより小さい屈折率を有する単層または多層の
コーティング膜、あるいは単層または透明基板より小さ
い屈折率と大きい屈折率との多層の反射防止膜を形成す
ることを特徴とする偏光分離素子の製造方法。 - 【請求項10】請求項7,8または9記載の偏光分離素
子の製造方法において、 前記透明基板のコーティング膜を設けた面とは反対側の
面に有機複屈折膜を接着することを特徴とする偏光分離
素子の製造方法。 - 【請求項11】請求項10記載の偏光分離素子の製造方
法において、 前記有機複屈折膜は、延伸により分子鎖を配向させた高
分子膜としたことを特徴とする偏光分離素子の製造方
法。 - 【請求項12】請求項7〜11のいずれか一つに記載の
偏光分離素子の製造方法において、 前記コーティング膜の応力を前記有機複屈折膜の熱収縮
応力と均衡するよう制御することを特徴とする偏光分離
素子の製造方法。 - 【請求項13】請求項7〜12のいずれか一つに記載の
偏光分離素子の製造方法において、 前記有機複屈折膜を透明基板に接着する工程では、紫外
線を有機複屈折膜側から照射することを特徴とする偏光
分離素子の製造方法。 - 【請求項14】請求項7〜13のいずれか一つに記載の
偏光分離素子の製造方法において、 前記有機複屈折膜を透明基板に1つの接触点において接
触する工程と、この接触点から全体に接触面を広げるこ
とにより接着する工程とを有することを特徴とする偏光
分離素子の製造方法。 - 【請求項15】請求項7〜14のいずれか一つに記載の
偏光分離素子の製造方法において、 前記有機複屈折膜をU字形状に変形して透明基板に接触
する工程と、この接触点から全体に接触面を広げて接合
する工程とを有することを特徴とする偏光分離素子の製
造方法。 - 【請求項16】請求項7〜15のいずれか一つに記載の
偏光分離素子の製造方法において、 前記有機複屈折膜と透明基板とを接着する接着装置の透
明基板を載置固定する装置形状を、透明基板のコーティ
ング膜側表面形状と相似形としたことを特徴とする偏光
分離素子の製造方法。 - 【請求項17】請求項7〜15のいずれか一つに記載の
偏光分離素子の製造方法において、 前記有機複屈折膜と透明基板とを接着する接着装置の有
機複屈折膜を加圧する装置形状を、透明基板のコーティ
ング膜とは反対側の表面形状と相似形としたことを特徴
とする偏光分離素子の製造方法。
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006008666A1 (en) * | 2004-07-13 | 2006-01-26 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Polarizing device |
CN100377377C (zh) * | 2004-10-29 | 2008-03-26 | 夏普株式会社 | 半导体发光元件的制造方法 |
JP2009534257A (ja) * | 2006-04-21 | 2009-09-24 | テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム | 流動食品用の個々の密封パッケージに接着するために開口装置を準備するユニットおよび方法 |
WO2009115304A2 (de) * | 2008-03-18 | 2009-09-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Diffraktives element mit hoher wellenfrontebenheit |
-
2002
- 2002-04-08 JP JP2002105246A patent/JP4219609B2/ja not_active Expired - Fee Related
Cited By (6)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
WO2006008666A1 (en) * | 2004-07-13 | 2006-01-26 | Koninklijke Philips Electronics N.V. | Polarizing device |
CN100377377C (zh) * | 2004-10-29 | 2008-03-26 | 夏普株式会社 | 半导体发光元件的制造方法 |
JP2009534257A (ja) * | 2006-04-21 | 2009-09-24 | テトラ ラバル ホールデイングス エ フイナンス ソシエテ アノニム | 流動食品用の個々の密封パッケージに接着するために開口装置を準備するユニットおよび方法 |
WO2009115304A2 (de) * | 2008-03-18 | 2009-09-24 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Diffraktives element mit hoher wellenfrontebenheit |
WO2009115304A3 (de) * | 2008-03-18 | 2009-12-10 | Fraunhofer-Gesellschaft zur Förderung der angewandten Forschung e.V. | Diffraktives element mit hoher wellenfrontebenheit |
US9007686B2 (en) | 2008-03-18 | 2015-04-14 | Fraunhofer-Gesellschaft Zur Foerderung Der Angewandten Forschung E.V. | Diffractive element with a high degree of wavefront flatness |
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