JP2003294844A - X線センサ信号処理回路及びx線ct装置 - Google Patents

X線センサ信号処理回路及びx線ct装置

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JP2003294844A
JP2003294844A JP2002100721A JP2002100721A JP2003294844A JP 2003294844 A JP2003294844 A JP 2003294844A JP 2002100721 A JP2002100721 A JP 2002100721A JP 2002100721 A JP2002100721 A JP 2002100721A JP 2003294844 A JP2003294844 A JP 2003294844A
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Hiroshi Kamimura
上村  博
Satoshi Kitazawa
聡 北澤
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Abstract

(57)【要約】 【課題】本発明の目的は、X線センサとしてCdTeセ
ンサを用いた場合でも、X線センサで発生する分極効果
による感度低下を確実に抑制し、常に一定感度でX線量
を測定できるX線センサ信号処理回路及びこれを用いた
X線CT装置を提供することにある。 【解決手段】本発明では、加速器から出射されて被試験
体を透過したパルス状のX線を検出するX線センサの出
力信号を処理するX線センサ信号処理回路が、前記加速
器からX線が出射されてから次のX線が出射されるまで
の間に、前記X線センサのバイアス電圧を少なくとも一
度ゼロにする機能を有するバイアス電圧調整回路を備え
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、非破壊検査を行う
ためのX線センサの出力信号を処理するX線センサ信号
処理回路及びそれを用いたX線CT装置に関する。
【0002】
【従来の技術】近年、金属製部品や装置の内部欠陥など
を非破壊で検査したいという要求により、1MeV以上
のX線を用いた工業用X線CT装置が開発されている。
また、被試験体(被検体)はより大きく、解像度はより
良くというニーズがあり、更なる研究開発が進んでい
る。
【0003】X線CT装置に関する第1従来例は、H.Mi
yai, et al.:“A High Energy X−Ray Computed Tomog
raphy Using Silicon Semiconductor Detectors”,199
6Nuclear Science Symposium Conference Record,Vol.
2,pp816−821,Nov.2−91996,Anaheim,CA,USA(199
7)に記載されている。本従来例では、X線を検出する
ためのX線センサに短冊形のシリコン半導体検出器を用
いて高感度化を達成し、またそれを高密度に並べること
により高分解能を実現している。
【0004】X線CT装置では、X線センサを500か
ら1000個アレイ状に並べるため、その信号を増幅し
てデジタル値に変換する信号処理回路は、非常に多数の
回路を必要とする。また、X線センサからの出力電流の
ダイナミックレンジは4桁以上あるので、より簡単な構
成で精度良い測定のできる回路構成が求められる。この
ような回路は、第2従来例である特開2000−258
542号公報に記載されている。
【0005】第2従来例に記載されているX線センサの
出力信号を処理する信号処理回路について、図6を用い
て説明する。図6に示す信号処理回路1では、半導体セ
ンサ(X線センサ)21〜2nは、初段回路201〜2
0nに接続されている。X線CT装置用の半導体センサ
は、高エネルギーのX線パルスを効率よく検出するため
に、短冊形で寸法が大きく(例えば、第1従来例では3
×40×0.4mm)、必然的に数十nAレベルの大きな
暗電流を生じる。
【0006】初段回路201において、バイアス電源2
08は半導体センサ21に逆バイアス電圧を供給するた
めのものである。コンデンサ204は、電流電圧変換増
幅器が暗電流による直流電圧を増幅しないように、半導
体センサ21を交流結合するためのものである。OPア
ンプ205,コンデンサ207,抵抗206で電流電圧
変換増幅器を構成している。
【0007】X線が半導体センサ21に入射すると、セ
ンサ内部に電荷が発生してコンデンサ207に電流が積
分され、電流が電圧に変換されて初段回路201から出
力される。抵抗206は蓄積した電荷を次のX線パルス
がセンサに入射する前に放電するためのものである。A
Dコンバータ13内のサンプルホールドアンプ141〜
14nは、X線パルスと同期してホールドされ、後段で
AD変換される。
【0008】テルル化カドミウム(CdTe)は、シリ
コンの3倍をこえる有効原子番号を有し、密度が高いた
め、X線CT装置で利用される高エネルギーのX線セン
サに使用すると、シリコン半導体の約2倍の感度が得ら
れる。また、放射線照射によるリーク電流の増加も少な
く、S/N比上も有利である。信号処理回路も基本的に
図6の回路を使用することができる。CdTeセンサ
は、以前から小型の放射線検出器として注目されてお
り、X線CT装置に使用すれば、より鮮明な画像を得ら
れることが期待できる。
【0009】
【発明が解決しようとする課題】第2従来例のX線セン
サにCdTeセンサを使用すれば、上記のように高感度
が期待できるが、CdTeセンサには分極効果による感
度低下が知られている。この分極効果は、P.Siffert,
J.Berger, et.al.:“Polarization in CadmiumTelluri
de Nuclear Radiation Detectors”,IEEE Transaction
on NuclearScience,Vol.NS−23,No.1,pp159−170
(1976)(第3従来例)に記載されている。
【0010】第3従来例によれば、CdTeセンサは、
分極により測定開始後急速に感度が低下する。例えば、
第3従来例のFig.3では、CdTeセンサのカウントレ
ート(感度に相当)が、最初の100秒は時定数16秒
で、その後は時定数1.24時間と減少している。ま
た、放射線がセンサに入射していなくてもバイアス電圧
を印加しているだけで感度が低下すること(第3従来例
のFig.6)、X線の線量率が大きいと感度の低下が大き
いこと(第3従来例のFig.7)も記載されている。
【0011】さらに、第3従来例には、CdTeセンサ
の分極効果を低減する方法が記載されているが、現在で
もCdTeセンサの分極問題は解決されていない。第3
従来例には、分極効果低減方法の一案として、時々セン
サに供給されているバイアス電源を切ることが記載され
ているが、バイアス電源を印加するとすぐに感度低下が
発生し始める。このため、適当に電源を切るだけでは、
実際の測定時の分極効果によるCdTeセンサの感度低
下量を確実に抑制することはできず、感度低下量を補正
することもできないという問題があった。
【0012】本発明の目的は、X線センサとしてCdT
eセンサを用いた場合でも、X線センサで発生する分極
効果による感度低下を確実に抑制し、常に一定感度でX
線量を測定できるX線センサ信号処理回路及びこれを用
いたX線CT装置を提供することにある。
【0013】
【課題を解決するための手段】本発明の特徴は、加速器
から出射されて被試験体を透過したパルス状のX線を検
出するX線センサの出力信号を処理するX線センサ信号
処理回路が、前記加速器からX線が出射されてから次の
X線が出射されるまでの間に、前記X線センサのバイア
ス電圧を少なくとも一度ゼロにする機能を有するバイア
ス電圧調整回路を備えることである。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、図面を用いて本発明の実施
例を説明する。図1は本発明によるX線センサ信号処理
回路の一実施例の概略構成図である。図2は、図1のX
線センサ信号処理回路を用いたX線CT装置の概略構成
図で、(a)は側面図、(b)は部分上面図である。
【0015】以下、図2のX線CT装置による非破壊検
査方法について説明する。初めに、CT制御装置9は、
加速器4に対してX線パルスの出射指令信号を出力する
と同時に、信号処理回路(X線センサ信号処理回路)1
に対してX線パルスの出射開始信号を出力する。加速器
4は、X線パルスの出射指令信号を入力すると、ライナ
ック41によりイオンビームを加速して出射し、そのイ
オンビームをターゲット42に照射することにより扇状
(放射状)で高エネルギー(1MeV以上)のX線を発
生させる。
【0016】発生したX線は、パルス幅5μsの短いパ
ルス状のX線として加速器4から出射される。このX線
のエネルギー及びパルス幅は、ライナック41でターゲ
ット42に照射するイオンビームのエネルギー及びパル
ス幅を制御することによって制御される。
【0017】加速器4から出射されたX線パルス(パル
ス状のX線)は、スキャナ6上に配置された被試験体
(被検体)5に照射され、被試験体5を透過する。図示
しないが、スキャナ6は、CT制御装置9からの制御信
号を入力し、この制御信号に従って被試験体5を回転及
び/又は上下動させる。スキャナ6の回転及び上下動に
よって、被試験体5の任意の箇所に対して、様々な方向
からX線パルスが複数回照射される。
【0018】本実施例では第3世代方式と呼ばれる撮像
方式を用いており、被試験体を180度または360度回
転させながらセンサ出力データを測定することにより、
1枚の断面の透視画像を再構成する。
【0019】被試験体5を透過したX線パルスは、コリ
メータ7を通り、一列に並べられた半導体センサ(X線
センサ)21〜2nに入射する。半導体センサ21〜2
nにX線が入射すると、センサ内に多数の電子と正孔の
ペアが生じ、電流が流れる。信号処理回路1は、半導体
センサ21〜2nに生じた電流に応じたセンサ出力デー
タ(信号)を出力する。信号処理回路1の動作について
は後述する。
【0020】データ送受信回路3は、信号処理回路1か
ら入力したセンサ出力データをCT制御装置9に出力す
る。データ送受信回路3とCT制御装置9との間には遮
蔽壁8があるため、両装置間のデータの伝送は遮蔽壁8
を貫通するケーブルを通して行われる。加速器4及びス
キャナ6とCT制御装置9との間のデータ伝送も同様で
ある。CT制御装置9は、入力したセンサ出力データを
用いて被試験体5の断面の透視画像を再構成し、表示装
置10に表示させる。以上のようにして、被試験体5の
断面の透視画像が得られる。
【0021】次に、図1を用いて信号処理回路1を説明
する。半導体センサ21〜2nは、それぞれ初段回路1
11〜11nに接続される。初段回路111〜11nは
同じ構成であるので、ここでは初段回路111について
のみ説明する。半導体センサ21〜2nはCdTeセン
サを用いる。
【0022】初段回路111において、半導体センサ2
1の一端には、半導体センサ21に逆バイアスを印加す
る向きにバイアス電圧が印加される。バイアス電圧はバ
イアス電圧調整回路19から供給され、初段回路111
〜11nまで共通に使用される。半導体センサ21の他
端は、抵抗119を通して接地されている。抵抗119
は、10MΩ等の高抵抗である。
【0023】半導体センサ21と抵抗119の接続部に
はコンデンサ114の一端が接続される。コンデンサ1
14の他端はOPアンプ115の反転入力に接続され、
OPアンプ115に並列に抵抗116及びコンデンサ1
17が接続される。OPアンプ115,抵抗116及び
コンデンサ117は積分回路を構成している。以下、O
Pアンプ115,抵抗116及びコンデンサ117をま
とめて積分器という。初段回路111は以上のように構
成される。
【0024】初段回路111〜11nの出力端(積分器
の出力端)はADコンバータ13のサンプルホールドア
ンプ141〜14nに接続され、各サンプルホールドア
ンプはスイッチ151〜15nに各々接続される。
【0025】ADコンバータ13は、制御回路12から
のホールド指令信号により、サンプルホールドアンプ1
41〜14nを同時にホールドモードにし、スイッチ1
51〜15nを順次閉にして内蔵のAD変換回路16で
電圧をデジタル値に変換し、内蔵メモリ17に書き込
む。また、ADコンバータ13は、制御回路12からの
サンプル指令信号により、サンプルホールドアンプ14
1〜14nをサンプルモード(入力電圧に対して出力が
追従するモード)に復帰させる。
【0026】バイアス電圧調整回路19は、制御回路1
91,DAコンバータ192、並びに、抵抗193,1
94及びOPアンプ195からなる電圧増幅回路から構
成される。制御回路191は、制御回路12からの指令
信号により、半導体センサに供給するバイアス電圧に対
応するデジタル値をDAコンバータ192に出力する。
DAコンバータ192はこのデジタル値をアナログ電圧
に変換し、電圧増幅回路により半導体センサのバイアス
に必要な高電圧を出力する。本実施例では、X線測定時
には−50Vの電圧を出力する。
【0027】次に、信号処理回路1及び制御回路12の
動作を図3及び図4を用いて説明する。図3は、図1の
制御回路12の動作を示すフローチャートである。
【0028】制御回路12には、CT制御装置9から出
力されたX線パルス出射開始信号がデータ送受信回路3
及びバス18を介して入力される。制御回路12は、X
線パルス出射開始信号が入力されたときにX線パルスの
照射が開始されたと判断し(ステップ401)、その1
0μs後に「信号ホールド・AD変換」指令信号をAD
コンバータ13に出力する(ステップ402,40
3)。「信号ホールド・AD変換」指令信号を受けたA
Dコンバータ13は、前述したように自動的に各センサ
の信号を測定する。
【0029】次に、制御回路12は、バイアス電圧調整
回路19に「バイアス電圧0」指令信号を出力する(ス
テップ404)。バイアス電圧調整回路19は、この指
令信号を受信すると、バイアス電圧を測定時の−50V
から徐々に0Vに変化させ、一定時間バイアス電圧0V
状態を保持した後、徐々に−50Vに戻す。制御回路1
2は、一定時間の後(ステップ405)、「信号サンプ
ル」指令信号をADコンバータ13に出力する(ステッ
プ406)。これにより、ADコンバータ13内のサン
プルホールドアンプ141〜14nはサンプル状態に戻
り、次のX線パルス入射による測定に備える。
【0030】図4は、X線パルス出力波形(X線出
力),バイアス電圧調整回路19の出力波形(バイアス
電圧Vb),初段回路111の出力波形(初段回路出力
電圧Vout)、及びADコンバータ13中のサンプルホー
ルドアンプ141の出力波形(S/H出力)の時間変化
を示す図である。初段回路出力電圧Vout は、半導体セ
ンサ21から出力された電流が初段回路111で電圧に
変換された出力である。即ち、初段回路111は、半導
体センサ21から出力された電流を電圧に変換する電流
/電圧変換回路として機能する。
【0031】本実施例では、X線CT装置のX線パルス
繰り返し周期Tpは5ミリ秒である。これに比べて、発
生するX線パルス幅Twは5マイクロ秒と非常に短か
く、規則的に出力される。従って、CdTe半導体セン
サに供給するバイアス電圧Vbは、X線パルスが半導体
センサに入射し、発生した電荷が電流として初段回路に
流入する時間だけ、半導体センサに印加されていればよ
い。
【0032】図4に示すように、X線パルスが出力され
る前から、バイアス電圧Vbは半導体センサに印加され
ている。X線パルスが半導体センサに入射すると、初段
回路111は半導体センサの出力電流を積分し、出力電
圧(出力信号)Vout を出力する。Vout が負の電圧で
あるのは反転増幅回路のためである。X線パルスがなく
なると、Vout は所定の放電時定数で減衰する。
【0033】前述したようにS/H出力のホールドはT
s=10マイクロ秒で行われる。初段回路111の出力
信号は、サンプルホールドアンプ141で保持(ホール
ド)された後に、ADコンバータ13の内部でAD変換
される。このため、半導体センサのバイアス電圧を変化
させて初段回路111の出力信号が変動しても、測定に
は影響を及ぼさない。
【0034】CdTeセンサにバイアス電圧を印加した
ままにしておくと、分極が発生して感度が低下する。こ
のため、本実施例ではX線パルスが半導体センサに入射
し、初段回路出力信号のホールドが完了した後に、半導
体センサのバイアス電圧を0にする過程を設けている。
【0035】具体的には、図4に示すように、制御回路
12は、時間(時刻)T1において「バイアス電圧0」
指令信号をバイアス電圧調整回路19に出力する。この
指令に応じて、バイアス電圧調整回路19は、自動的に
時間T2までに徐々にバイアス電圧Vbを0とし、所定
時間(T3−T2)0Vを保持した後、時間T4までに
元の−50Vにバイアス電圧Vbを回復させる。即ち、
バイアス電圧調整回路19は、次のX線パルスが出射さ
れる(半導体センサに入射する)前に、バイアス電圧を
元に戻す。
【0036】この場合、制御回路12が、X線パルス出
力からT4までの時間が一定になるように制御する。こ
うして、制御回路12は、CdTeセンサのバイアス電
圧がオン(時間T4)になってから次のX線パルス発生
までの時間を一定に制御する。従って、CdTeセンサ
にバイアス電圧印加による分極現象が発生しても、その
影響は常に一定となり、半導体センサの感度も一定に保
持される。
【0037】なお、以上説明した本実施例の信号処理回
路1を複数の回路基板に分け、各回路基板で並列処理を
行うことによって、処理時間を短縮することも可能であ
る。図5は、5つの信号処理回路1a〜1eを使用する
場合の構成例を示す。信号処理回路1a〜1eは、それ
ぞれ別々の回路基板である。図5に示すように、バス1
8は信号処理回路1a〜1eに共通で設けられる。
【0038】この場合、データ送受信回路3へのデータ
送信を除いて、各信号処理回路1a〜1eは並列(並
行)して動作することができるので、信号処理がより速
くなる。この場合、データ送受信回路3からの要求に基
づいてデータ送受信回路3へのデータ送信を実行するこ
とにより、信号処理回路1a〜1e間の混信を防止でき
る。また、各信号処理回路に予め対応するアドレスを割
り振っておくことにより、回路基板数は幾つでも増すこ
とができる。
【0039】また、図1の実施例では、X線パルスに同
期してX線センサのバイアス電圧をゼロにしているが、
これに限らない。例えば、X線センサの感度低下が小さ
い場合には、断面の透視画像を1枚撮影する毎に(また
は所定枚数撮影する毎に)、X線センサのバイアス電圧
をゼロにするように制御しても良い。このような制御
は、図2のスキャナ6の回転や上下移動に同期させて、
図1のバイアス電圧調整回路への「バイアス電圧0」指
令信号を出力することで容易に実現できる。
【0040】
【発明の効果】本発明によれば、X線センサとしてCd
Teセンサを用いた場合でも、X線センサで発生する分
極効果による感度低下を確実に抑制し、常に一定感度で
X線量を測定できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の好適な一実施例である信号処理回路の
構成図である。
【図2】本発明の好適な一実施例であるX線CT装置の
構成図である。
【図3】図1の制御回路12の動作を示すフローチャー
トである。
【図4】図1のX線出力,バイアス電圧Vb,初段回路
出力電圧Vout 、及びS/H出力の時間変化を示す図で
ある。
【図5】図1の実施例で5つの信号処理回路1a〜1e
を用いた場合の構成図である。
【図6】第2従来技術の信号処理回路の構成図である。
【符号の説明】
1…信号処理回路、3…データ送受信回路、4…加速
器、5…被試験体、6…スキャナ、7…コリメータ、8
…遮蔽壁、9…CT制御装置、10…表示装置、12…
制御回路、13…ADコンバータ、18…バス、21〜
2n…半導体センサ、111〜11n…初段回路、14
1〜14n…サンプルホールドアンプ、151〜15n
…スイッチ、19…バイアス電圧調整回路。
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Fターム(参考) 2G001 AA01 BA11 CA01 DA01 GA01 HA09 HA13 HA14 JA06 KA01 KA03 LA02 2G088 EE02 FF02 GG21 KK40

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】加速器から出射されて被試験体を透過した
    パルス状のX線を検出するX線センサの出力信号を処理
    するX線センサ信号処理回路において、 前記加速器からX線が出射されてから次のX線が出射さ
    れるまでの間に、前記X線センサのバイアス電圧を少な
    くとも一度ゼロにする機能を有するバイアス電圧調整回
    路を備えることを特徴とするX線センサ信号処理回路。
  2. 【請求項2】請求項1において、前記X線センサは半導
    体センサであり、該半導体センサから出力された電流を
    電圧に変換する電流/電圧変換回路を備え、前記バイア
    ス電圧調整回路は、前記電流/電圧変換回路の出力信号
    がホールドされた後に、前記バイアス電圧をゼロにする
    ことを特徴とするX線センサ信号処理回路。
  3. 【請求項3】請求項1又は2において、前記バイアス電
    圧調整回路は、前記バイアス電圧を一度ゼロにした後で
    次のX線が出射される前に、前記バイアス電圧を元に戻
    すことを特徴とするX線センサ信号処理回路。
  4. 【請求項4】パルス状のX線を出射する加速器と、前記
    加速器から出射されたX線が照射される被試験体を回転
    或いは上下動させるスキャナと、前記被試験体に照射さ
    れて前記被試験体を透過したX線を検出する複数のX線
    センサと、前記複数のX線センサの出力信号を処理する
    X線センサ信号処理回路と、前記X線センサ信号処理回
    路によって処理された前記X線センサの出力信号に基づ
    いて前記被試験体の断面の透視画像を再構成するCT制
    御装置とを有するX線CT装置において、 前記X線センサ信号処理回路は、前記加速器からX線が
    出射されてから次のX線が出射されるまでの間に、前記
    X線センサのバイアス電圧を少なくとも一度ゼロにする
    機能を有するバイアス電圧調整回路を備えたことを特徴
    とするX線CT装置。
  5. 【請求項5】請求項4において、前記X線センサは半導
    体センサであり、前記X線センサ信号処理回路は前記半
    導体センサから出力された電流を電圧に変換する電流/
    電圧変換回路を備え、前記バイアス電圧調整回路は、前
    記電流/電圧変換回路の出力信号がホールドされた後
    に、前記バイアス電圧をゼロにすることを特徴とするX
    線CT装置。
  6. 【請求項6】請求項4又は5において、前記バイアス電
    圧調整回路は、前記バイアス電圧を一度ゼロにした後で
    次のX線が出射される前に、前記バイアス電圧を元に戻
    すことを特徴とするX線CT装置。
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Cited By (11)

* Cited by examiner, † Cited by third party
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