JP2003294656A - ブラッグ反射条件シミュレーション装置およびブラッグ反射測定システム - Google Patents
ブラッグ反射条件シミュレーション装置およびブラッグ反射測定システムInfo
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- JP2003294656A JP2003294656A JP2002257012A JP2002257012A JP2003294656A JP 2003294656 A JP2003294656 A JP 2003294656A JP 2002257012 A JP2002257012 A JP 2002257012A JP 2002257012 A JP2002257012 A JP 2002257012A JP 2003294656 A JP2003294656 A JP 2003294656A
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Abstract
のブラッグ反射条件を迅速、容易、且つ正確に取得しそ
れを用いて実際のブラッグ反射を測定可能の新しいブラ
ッグ反射条件シミュレーション装置および測定システム
を提供する。 【解決手段】 結晶試料からのX線または粒子線のブラ
ッグ反射条件シミュレーション装置であって、結晶試料
の格子定数および結晶方位を入力する入力手段(1)、
結晶方位を用いて、UBマトリックスのうちの結晶方位
マトリックスU算出手段(2)、格子定数を用いて、U
Bマトリックスのうちの結晶格子マトリックスB算出手
段(3)、および結晶方位マトリックスUと、結晶格子
マトリックスBと、回折測定装置が有する複数の回転軸
のうちで任意に指定した一回転軸の回転角度とを用い
て、任意に指定したブラッグ反射の回折条件を満足する
回折測定装置が有する他の回転軸の回転角度を表す回転
マトリックスR算出手段(4)、を備える。
Description
反射条件シミュレーション装置およびブラッグ反射測定
システムに関するものである。さらに詳しくは、この出
願の発明は、半導体用ウェハーやそのウェハー上に形成
された薄膜等の結晶試料の構造解析ならびに構造評価に
有用な、新しいブラッグ反射条件シミュレーション装置
およびブラッグ反射測定システムに関するものである。
て、X線、または中性子線や電子線等の粒子線を結晶構
造未知の結晶試料に入射し、その結晶試料によるそれら
散乱線の回折現象を利用して、結晶試料の格子形や格子
内の原子配列を明らかにする結晶構造解析の技術が盛ん
に研究・開発されてきている。たとえば、X線は結晶試
料の電子密度の解析、中性子線は結晶試料の原子核位置
の解析、電子線は結晶試料の電気的ポテンシャルの解析
に用いられる。
基づいて、結晶固有の逆格子を算出することにより、実
際の結晶試料によるブラッグの回折条件であるX線等の
入射角・出射角または結晶の方位角であるω角、χ角、
φ角や、強度情報などを得て、結晶構造解析することも
しばしば行われている。
り知られているこのような結晶構造解析にあっては、い
まだ、ある一つの結晶試料に対して無数に存在するブラ
ッグ反射条件を容易に且つ正確に取得することのできる
技術は存在しておらず、半導体デバイス等の最先端技術
分野からそのような技術の実現が切望されているのであ
る。
鑑みてなされたものであり、コンピュータを用いて所望
する結晶試料についての任意のブラッグ反射条件を迅
速、容易、且つ正確に取得し表示したり、それを用いて
実際のブラッグ反射を測定したりすることのできる、新
しいブラッグ反射条件シミュレーション装置およびブラ
ッグ反射測定システムを提供することを課題としてい
る。
の課題を解決するものとして、第1には、結晶試料から
発生するX線または粒子線のブラッグ反射条件を取得す
るブラッグ反射条件シミュレーション装置であって、結
晶試料を構成する結晶の格子定数および結晶方位を入力
する入力手段、結晶方位を用いて、UBマトリックスの
うちの結晶方位を表す結晶方位マトリックスUを算出す
るU算出手段、格子定数を用いて、UBマトリックスの
うちの結晶格子および結晶初期方位を表す結晶格子マト
リックスBを算出するB算出手段、および結晶方位マト
リックスUと、結晶格子マトリックスBと、回折測定装
置が有する複数の回転軸のうちで任意に指定した一回転
軸の回転角度とを用いて、任意に指定したブラッグ反射
の回折条件を満足する回折測定装置が有する他の回転軸
の回転角度を表す回転マトリックスRを算出するR算出
手段、を備えていることを特徴とするブラッグ反射条件
シミュレーション装置を提供し、第2には、結晶試料か
ら発生するX線または粒子線のブラッグ反射条件を取得
してコンピュータ画面上に表示するブラッグ反射条件シ
ミュレーション装置であって、結晶試料を構成する結晶
の格子定数および結晶方位を入力する入力手段、結晶方
位を用いて、UBマトリックスのうちの結晶方位を表す
結晶方位マトリックスUを算出するU算出手段、格子定
数を用いて、UBマトリックスのうちの結晶格子および
結晶初期方位を表す結晶格子マトリックスBを算出する
B算出手段、結晶方位マトリックスUと、結晶格子マト
リックスBと、回折測定装置が有する複数の回転軸のう
ちで任意に指定した一回転軸の回転角度とを用いて、任
意に指定したブラッグ反射の回折条件を満足する前記回
折測定装置が有する他の回転軸の回転角度を表す回転マ
トリックスRを算出するR算出手段、回転マトリックス
Rと結晶方位マトリックスUと結晶格子マトリックスB
とを掛け算するRUB掛算手段、および掛算結果値を用
いて、前記任意に指定したブラッグ反射が乗る回折面お
よび前記任意に指定したブラッグ反射の逆格子点をブラ
ッグ反射条件として表示する表示手段、を備えているこ
とを特徴とするブラッグ反射条件シミュレーション装置
を提供し、第3には、コンピュータと回折測定装置とを
用いて、X線または粒子線の任意に指定したブラッグ反
射を測定するシステムであって、コンピュータは、結晶
試料を構成する結晶の格子定数および結晶方位を入力す
る入力手段、結晶方位を用いて、UBマトリックスのう
ちの結晶方位を表す結晶方位マトリックスUを算出する
U算出手段、格子定数を用いて、UBマトリックスのう
ちの結晶格子および結晶初期方位を表す結晶格子マトリ
ックスBを算出するB算出手段、結晶方位マトリックス
Uと、結晶格子マトリックスBと、回折測定装置が有す
る複数の回転軸のうちで任意に指定した一回転軸の回転
角度とを用いて、任意に指定したブラッグ反射の回折条
件を満足する回折測定装置が有する他の回転軸の回転角
度を表す回転マトリックスRを算出するR算出手段、お
よび、回折測定装置が有する各回転軸を回転マトリック
スRと同じ回転角度となるように回転させる回転軸制御
手段、を備えていることを特徴とするブラッグ反射測定
システムを提供し、第4には、コンピュータと回折測定
装置とを用いて、X線または粒子線の任意に指定したブ
ラッグ反射を測定するシステムであって、コンピュータ
は、結晶試料を構成する結晶の格子定数および結晶方位
を入力する入力手段、結晶方位を用いて、UBマトリッ
クスのうちの結晶方位を表す結晶方位マトリックスUを
算出するU算出手段、格子定数を用いて、UBマトリッ
クスのうちの結晶格子および結晶初期方位を表す結晶格
子マトリックスBを算出するB算出手段、結晶方位マト
リックスUと、結晶格子マトリックスBと、回折測定装
置が有する複数の回転軸のうちで任意に指定した一回転
軸の回転角度とを用いて、任意に指定したブラッグ反射
の回折条件を満足する回折測定装置が有する他の回転軸
の回転角度を表す回転マトリックスRを算出するR算出
手段、回折測定装置が有する各回転軸を回転マトリック
スRと同じ回転角度となるように回転させる回転軸制御
手段、回転マトリックスRと結晶方位マトリックスUと
結晶格子マトリックスBとを掛け算するRUB掛算手
段、掛算結果値を用いて、前記任意に指定したブラッグ
反射が乗る回折面および前記任意に指定したブラッグ反
射の逆格子点をブラッグ反射条件として表示する表示手
段、を備えていることを特徴とするブラッグ反射測定シ
ステムを提供する。
には、予め回折測定装置に対応するUBマトリックスお
よび回転マトリックスRを構成する行列式を記憶してお
くマトリックス記憶手段をさらに備えていることを特徴
とするブラッグ反射条件シミュレーション装置およびブ
ラッグ反射測定システム、第7および第8には、前記任
意に指定したブラッグ反射は、回転マトリックスRの算
出時に当該装置および当該システムの操作者により指定
したものであることを特徴とするブラッグ反射条件シミ
ュレーション装置およびブラッグ反射測定システム、第
9および第10には、前記回折測定装置が有する複数の
回転軸のうちで任意に指定した一回転軸の回転角度は、
回転マトリックスRの算出時に当該装置および当該シス
テムの操作者により指定したものであることを特徴とす
るブラッグ反射条件シミュレーション装置およびブラッ
グ反射測定システム、第11および第12には、予め結
晶試料を構成する結晶の格子定数を記憶したデータベー
スをさらに備えていることを特徴とするブラッグ反射条
件シミュレーション装置およびブラッグ反射測定システ
ムを提供する。
出願の発明は、たとえば図1および図2に示したよう
に、コンピュータを用いて、構造解析・構造評価の対象
となる所望の結晶試料について、無数に存在するブラッ
グ反射条件のうちの任意の条件をコンピュータ演算によ
って取得し表示したり、あるいは実際にその条件を満た
すブラッグ反射を測定したりすることを実現するのもの
である。以下に、機能ブロックおよび処理フローを示し
た図1および図2に沿って、各処理について説明する。
者が、所望する結晶試料を構成する結晶の格子定数およ
び結晶方位を入力する(入力手段(1)、ステップS
1)。
タを有するデータベース(7)を用意しておき、たとえ
ば結晶名などの入力によって、自動的にそのデータベー
スから該当する結晶の格子定数データを検索取得するよ
うにシステム構築してもよい。結晶方位については、対
象となる結晶試料に因るので、その都度入力する必要が
ある。
数値入力部や結晶名入力部が表示され、それにキーボー
ドやマウス等の入力手段(1)を用いて入力することに
より行う。
た結晶方位を用いて、UBマトリックスのうちの、結晶
方位を表す結晶方位マトリックスUを算出する(U算出
手段(2)、ステップS2)。
たあるいは検索取得された格子定数を用いて、UBマト
リックスのうちの、結晶格子および結晶初期方位を表す
結晶格子マトリックスBを算出する(B算出手段
(3)、ステップS3)。
(2)により算出された結晶方位マトリックスUと、B
算出手段(3)により算出された結晶格子マトリックス
Bとを用い、さらには所望の回折測定装置が有する複数
の回転軸のうちで任意に指定した一回転軸の回転角度を
用いて、任意に指定したブラッグ反射の回折条件を満足
する前記回折測定装置が有する他の回転軸の回転角度を
表す回転マトリックスRを算出する(R算出手段
(4)、ステップS4)。
線源・粒子線源と試料とX線・粒子線検出器の相対的な
配置と向きを設定する軸のことである。
スR>上記UBマトリックスおよび回転マトリックスR
を構成する行列式は、回折測定装置の種類によって異な
るものである。たとえば、3軸ゴニオメータと4軸ゴニ
オメータとはそれぞれ異なる行列式となり、また同じ回
転軸数のゴニオメータであっても軸構成や軸機構によっ
て行列式は異なる。したがって、UBマトリックスおよ
び回転マトリックスRを構成する行列式は、予め個々の
回折測定装置毎に求めておく必要があり、それぞれ予め
記憶させておくことが好ましい(マトリックス記憶手段
(8))。
取得シミュレーション時に、所望の回折測定装置を指定
し、格子定数および結晶方位に加えて、一回転軸の回転
角度を入力すれば、指定した回折測定装置に対応するU
Bマトリクスおよび回転マトリックスRを用いて行列計
算が自動的に行われる。
した後はUBマトリックスの具体的数値はその結晶試料
の結晶に対して一定に決まったものとなるので、以後所
望する回折測定装置における任意の一回転軸の回転角度
を入力していけば、その入力回転角度に対してブラッグ
反射の回折条件を満足する他の回転軸の回転角度を表す
回転マトリックスRを得ることができる。
よる一製品であるATX−EゴニオメータおよびATX
−Gゴニオメータに対応したUBマトリックスおよび回
転マトリックスRについて説明する。
図3に例示したように、回転軸として、垂直装置軸であ
るΩ軸、Ω軸を含んだ垂直面に乗り且つ装置中心を通る
Χ軸、Χ軸に沿ってχ角に設定されるΦ軸を有する。ま
た、Χ軸から支持されるΦシャフトを有し、結晶試料は
Φ軸で回転されるようにΦシャフトに装着される。
Bマトリックスは、たとえば数1のように表すことがで
きる。
2のように表すことができる。
定したブラッグ反射の回折条件の一つとしてω角の値が
入力されたとき、χ角およびφ角の値は、その入力され
たω角の値を用いて、数3により算出することができ
る。
たω角ならびに算出されたχ角およびφ角の各値を用い
て、上記数2により算出される。
一つとしてχ角の値が入力されたとき、ω角およびφ角
の値は、その入力されたχ角の値を用いて、数4により
算出することができる。
たχ角ならびに算出されたω角およびφ角の各値を用い
て、上記数2により算出される。
条件の一つとしてφ角の値が入力されたとき、χ角およ
びω角の値は、その入力されたφ角の値を用いて、数5
により算出することができる。
たφ角ならびに算出されたχ角およびω角の各値を用い
て、上記数2により算出される。
6で求めることができる。
したブラッグ反射のブラッグ反射条件として、取得する
ことができる。
であるATX−Gゴニオメータについて説明する。
したように、結晶試料は、試料面の原点を通るΩ軸をω
角回転される。検出器は、Ω軸と垂直に交わる赤道面に
沿ってΩ軸を中心に2θ角回転され、且つ、Ω軸が乗る
とともに赤道面と垂直に交わる試料面の原点を中心に2
θχ角回転される。結晶試料はまた、試料面の原点を通
るとともに試料面と垂直に交わるΦ軸をφ角in-plane回
転される。
Bマトリックスは、前述したATX−Eゴニオメータの
それ(数1参照)と同じに表すことができる。
うに表すことができる。
定したブラッグ反射の回折条件の一つとしてω角の値が
入力されたとき、φ角、2θχ角および2θ角の値はそ
れぞれ、その指定されたω角の値を用いて、数8、数9
および数10により算出することができる。
たω角ならびに算出されたφ角、2θχ角および2θ角
の各値を用いて、上記数7により算出される。
一つとして2θ角の値が入力されたとき、2θχ角、φ
角およびω角の値はそれぞれ、その入力されたχ角の値
を用いて、数11、数12および数13により算出する
ことができる。
たχ角ならびに算出された2θχ角、φ角およびω角の
各値を用いて、上記数7により算出される。
条件の一つとして2θχ角の値が入力されたとき、2θ
角、φ角およびω角の値はそれぞれ、その入力された2
θχ角の値を用いて、数14、数15および数16によ
り算出することができる。
た2θχ角ならびに算出された2θ角、φ角およびω角
の各値を用いて、上記数7により算出される。
したブラッグ反射のブラッグ反射条件として、取得する
ことができる。
明では、さらに、上述の通りに算出した回転マトリック
スRと結晶方位マトリックスUと結晶格子マトリックス
Bとを掛け算し、その掛算結果値を用いることで、任意
に指定したブラッグ反射が乗る回折面および任意に指定
したブラッグ反射の逆格子点を、ブラッグ反射条件とし
てコンピュータディスプレイ等に表示させるようにする
こともできる(RUB掛算手段(5)・表示手段
(6)、ステップS5・ステップS6)。
るためには、まず、数17の計算を実行する必要があ
る。
Uに回転マトリックスRを掛けることは、回転マトリッ
クスRで表されている回転角に従って結晶を回転させる
ことを意味する。このため、上式におけるx*,y*,z
*は、回転マトリックスRに従って回転された結晶の逆
格子空間における位置を意味することになる。言い換え
ると、x*,y*,z*は、回転マトリックスRに従って
結晶を回転させる際に生じる指定したブラッグ反射に対
する逆格子点の位置を表すのである。したがって、コン
ピュータディスプレイ等には、x*,y*,z*が位置す
る回折面が表示され、且つ、逆格子点がその回折面内の
x*,y*,z*の位置にて表示されることとなる。
タ画面上に表示させた場合の一例を示したものである。
この図5に示したコンピュータ画面表示例では、GaA
s基板上にAlGaAs薄膜を形成してなる結晶試料に
ついて、回折測定装置としてATX−Eゴニオメータを
用いる場合に、ω角を77.20°と入力指定したと
き、数3によりχ角およびφ角が−0.11°および−
45.16°と算出されて、これらの数値を用いて数2
により回転マトリックスRが算出され、さらに数17の
計算が実行されて、任意に指定したブラッグ反射が乗る
回折面および任意に指定したブラッグ反射の逆格子点が
表示されている。
に、任意に指定したブラッグ反射の逆格子点のミラー指
数をも同時に表示するようにしてもよく、また任意に指
定したブラッグ反射の逆格子点の構造因子を算出して表
示するようにしてもよい。構造因子の算出は、下記数1
8の公知式により可能である。
用者が所望するあらゆる様々な結晶試料についての任意
のブラッグ反射条件を、取得し表示することができるよ
うになる。
定したブラッグ反射を実際に測定することも可能にな
る。すなわち、回折測定装置における各回転軸を上述の
通りに算出した回転マトリックスRと同じ回転角度とな
るように回転させ(回転軸制御手段(9)、ステップS
7・ステップS8)、その状態で測定を開始すればよ
い。
プを実行するプログラムがインストールされた汎用ある
いは専用コンピュータと、そのコンピュータと信号送受
信可能に構築されたゴニオメータとを用い、算出した回
転マトリックスRを構成する各数値データに基づいてゴ
ニオメータの各回転軸駆動装置でそれぞれ対応する回転
軸を回転させることで、任意に指定したブラッグ反射の
実測が可能となる。
れるものではなく、細部については様々な態様が可能で
ある。
発明によって、コンピュータを用いて所望する結晶試料
についての任意のブラッグ反射条件を迅速、容易、且つ
正確に取得し表示したり、それを用いて実際のブラッグ
反射を測定したりすることのできる、新しいブラッグ反
射条件シミュレーション装置およびブラッグ反射測定シ
ステムが提供される。
図である。
トである。
る。
る。
一例を示した図である。
Claims (12)
- 【請求項1】 結晶試料から発生するX線または粒子線
のブラッグ反射条件を取得するブラッグ反射条件シミュ
レーション装置であって、 結晶試料を構成する結晶の格子定数および結晶方位を入
力する入力手段、 結晶方位を用いて、UBマトリックスのうちの結晶方位
を表す結晶方位マトリックスUを算出するU算出手段、 格子定数を用いて、UBマトリックスのうちの結晶格子
および結晶初期方位を表す結晶格子マトリックスBを算
出するB算出手段、および 結晶方位マトリックスUと、結晶格子マトリックスB
と、回折測定装置が有する複数の回転軸のうちで任意に
指定した一回転軸の回転角度とを用いて、任意に指定し
たブラッグ反射の回折条件を満足する回折測定装置が有
する他の回転軸の回転角度を表す回転マトリックスRを
算出するR算出手段、を備えていることを特徴とするブ
ラッグ反射条件シミュレーション装置。 - 【請求項2】 結晶試料から発生するX線または粒子線
のブラッグ反射条件を取得してコンピュータ画面上に表
示するブラッグ反射条件シミュレーション装置であっ
て、 結晶試料を構成する結晶の格子定数および結晶方位を入
力する入力手段、 結晶方位を用いて、UBマトリックスのうちの結晶方位
を表す結晶方位マトリックスUを算出するU算出手段、 格子定数を用いて、UBマトリックスのうちの結晶格子
および結晶初期方位を表す結晶格子マトリックスBを算
出するB算出手段、 結晶方位マトリックスUと、結晶格子マトリックスB
と、回折測定装置が有する複数の回転軸のうちで任意に
指定した一回転軸の回転角度とを用いて、任意に指定し
たブラッグ反射の回折条件を満足する前記回折測定装置
が有する他の回転軸の回転角度を表す回転マトリックス
Rを算出するR算出手段、 回転マトリックスRと結晶方位マトリックスUと結晶格
子マトリックスBとを掛け算するRUB掛算手段、およ
び掛算結果値を用いて、前記任意に指定したブラッグ反
射が乗る回折面および前記任意に指定したブラッグ反射
の逆格子点をブラッグ反射条件として表示する表示手
段、を備えていることを特徴とするブラッグ反射条件シ
ミュレーション装置。 - 【請求項3】 コンピュータと回折測定装置とを用い
て、X線または粒子線の任意に指定したブラッグ反射を
測定するシステムであって、 コンピュータは、 結晶試料を構成する結晶の格子定数および結晶方位を入
力する入力手段、 結晶方位を用いて、UBマトリックスのうちの結晶方位
を表す結晶方位マトリックスUを算出するU算出手段、 格子定数を用いて、UBマトリックスのうちの結晶格子
および結晶初期方位を表す結晶格子マトリックスBを算
出するB算出手段、 結晶方位マトリックスUと、結晶格子マトリックスB
と、回折測定装置が有する複数の回転軸のうちで任意に
指定した一回転軸の回転角度とを用いて、任意に指定し
たブラッグ反射の回折条件を満足する回折測定装置が有
する他の回転軸の回転角度を表す回転マトリックスRを
算出するR算出手段、および、 回折測定装置が有する各回転軸を回転マトリックスRと
同じ回転角度となるように回転させる回転軸制御手段、
を備えていることを特徴とするブラッグ反射測定システ
ム。 - 【請求項4】 コンピュータと回折測定装置とを用い
て、X線または粒子線の任意に指定したブラッグ反射を
測定するシステムであって、 コンピュータは、 結晶試料を構成する結晶の格子定数および結晶方位を入
力する入力手段、 結晶方位を用いて、UBマトリックスのうちの結晶方位
を表す結晶方位マトリックスUを算出するU算出手段、 格子定数を用いて、UBマトリックスのうちの結晶格子
および結晶初期方位を表す結晶格子マトリックスBを算
出するB算出手段、 結晶方位マトリックスUと、結晶格子マトリックスB
と、回折測定装置が有する複数の回転軸のうちで任意に
指定した一回転軸の回転角度とを用いて、任意に指定し
たブラッグ反射の回折条件を満足する回折測定装置が有
する他の回転軸の回転角度を表す回転マトリックスRを
算出するR算出手段、 回折測定装置が有する各回転軸を回転マトリックスRと
同じ回転角度となるように回転させる回転軸制御手段、 回転マトリックスRと結晶方位マトリックスUと結晶格
子マトリックスBとを掛け算するRUB掛算手段、およ
び掛算結果値を用いて、前記任意に指定したブラッグ反
射が乗る回折面および前記任意に指定したブラッグ反射
の逆格子点をブラッグ反射条件として表示する表示手
段、を備えていることを特徴とするブラッグ反射測定シ
ステム。 - 【請求項5】 予め回折測定装置に対応するUBマトリ
ックスおよび回転マトリックスRを構成する行列式を記
憶しておくマトリックス記憶手段をさらに備えているこ
とを特徴とする請求項1または請求項2記載のブラッグ
反射条件シミュレーション装置。 - 【請求項6】 予め回折測定装置に対応するUBマトリ
ックスおよび回転マトリックスRを構成する行列式を記
憶しておくマトリックス記憶手段をさらに備えているこ
とを特徴とする請求項3または請求項4記載のブラッグ
反射測定システム。 - 【請求項7】 前記任意に指定したブラッグ反射は、回
転マトリックスRの算出時に当該装置の操作者により指
定したものであることを特徴とする請求項1または請求
項2記載のブラッグ反射条件シミュレーション装置。 - 【請求項8】 前記任意に指定したブラッグ反射は、回
転マトリックスRの算出時に当該システムの操作者によ
り指定したものであることを特徴とする請求項3または
請求項4記載のブラッグ反射測定システム。 - 【請求項9】 前記回折測定装置が有する複数の回転軸
のうちで任意に指定した一回転軸の回転角度は、回転マ
トリックスRの算出時に当該装置の操作者により指定し
たものであることを特徴とする請求項1または請求項2
記載のブラッグ反射条件シミュレーション装置。 - 【請求項10】 前記回折測定装置が有する複数の回転
軸のうちで任意に指定した一回転軸の回転角度は、回転
マトリックスRの算出時に当該システムの操作者により
指定したものであることを特徴とする請求項3または請
求項4記載のブラッグ反射測定システム。 - 【請求項11】 予め結晶試料を構成する結晶の格子定
数を記憶したデータベースをさらに備えていることを特
徴とする請求項1または請求項2記載のブラッグ反射条
件シミュレーション装置。 - 【請求項12】 予め結晶試料を構成する結晶の格子定
数を記憶したデータベースをさらに備えていることを特
徴とする請求項3または請求項4記載のブラッグ反射測
定システム。
Applications Claiming Priority (2)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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US10/109,688 US7337098B2 (en) | 1998-05-18 | 2002-04-01 | Diffraction condition simulation device, diffraction measurement system, and crystal analysis system |
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JP3954936B2 JP3954936B2 (ja) | 2007-08-08 |
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ID=29248179
Family Applications (1)
Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
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JP2002257012A Expired - Fee Related JP3954936B2 (ja) | 2002-04-01 | 2002-09-02 | ブラッグ反射条件シミュレーション装置およびブラッグ反射測定システム |
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