JP2003287477A - 排気物質分析システム及び排気物質の測定補正方法 - Google Patents
排気物質分析システム及び排気物質の測定補正方法Info
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Abstract
質測定の修正を行う排気物質分析システム及び排気物質
の測定補正方法を提供する。 【解決手段】 水分含有率信号を提供する湿度測定装置
44と、好ましくは、二酸化炭素含有率信号を提供する
二酸化炭素分析器48とを備え、更に、水分含有率信号
と、好ましくは二酸化炭素含有率信号を受け取り、これ
ら水分含有率と二酸化炭素含有率とに関連する調節係数
を算出するコントローラ46を有し、かつ、このコント
ローラ46が、接続部34において補正された希釈率を
提供するために、排気ガス流装置及び希釈ガス流装置2
2,24の一方のガス流量を調節するために排気ガス流
装置及び希釈ガス流装置22,24の何れか一方に調節
係数に対応する流量指令信号を送る。
Description
テムであって、それぞれ排気ガスと希釈ガスとを提供す
る排気ガス源及び希釈ガス源と、それぞれ、前記排気ガ
ス源及び希釈ガス源に流体接続された排気ガス流装置及
び希釈ガス流装置を備えた希釈装置とを有し、前記両ガ
ス流装置が、そのそれぞれのガス源からのガス流量を提
供するとともに、これらガス流装置が、未補正の希釈率
(uncorrected dilution ratio)を有する希釈排気ガス
を提供する接続部に流体接続されているシステムに関す
る。本発明は、又、排気物質分析システムであって、希
釈ガスを提供する希釈源と、排気ガスを提供するプロー
ブと、前記希釈ガスを前記排気ガスに供給して未補正の
希釈率を有する希釈排気ガスを提供するミキサーとを備
えた粒子サンプラと、前記排気ガス源と希釈ガス源とに
それぞれ流体接続された希釈排気ガス及び希釈ガス流装
置とを有し、前記両ガス流装置が、そのそれぞれのガス
源からのガス流量を提供するシステムに関する。さら
に、本発明は、排気物質の正確な測定方法に関する。
年、エンジン排気物質の測定に於ける精度が益々重要な
ものとなってきている。これらの基準下において許容可
能な排気物質レベルは非常に低いものであって、高精度
で現在は許容可能な排気物質装置であっても、許容可能
な排気物質レベルを有する車両を、そうでない車両と識
別するだけでは不十分であるかもしれない。
いる1つのシステムは、ミニ希釈器と呼ばれており、こ
れは、排気物質を、より低いサンプル濃度に希釈し、サ
ンプルの一部をオンラインで分析するか、又は、その後
の分析のために袋に保存しておくものである。希釈装置
は、排気物質が、テスト全体を通じて一定に維持されな
ければならない希釈率を得るように希釈されるように、
校正を必要とする。特に、サンプリングシステムにおけ
る水分凝縮を避けるために、窒素や合成空気等の希釈ガ
ス(希釈物)と排気ガスの流れは、所望の希釈率を得る
ように設定される。通常、熱質量流コントローラ(ther
mal mass flow controller)を使用して、希釈物と原排
気ガスの流れを制御する。それらの測定原理により、熱
質量流コントローラ又は測定器の読み取りは、測定対象
ガスの化学組成に対する強い依存性を示す。
希釈物と異なる濃度及び比熱容量を有しているので、排
気ガスが希釈装置の測定装置を通過する時に、得られる
希釈率は不正確である。その結果、前記袋に収集された
サンプルは、車両から排出された排気ガス物質を正確に
反映したものではなく、得られる結果は不正確なものと
なってしまう。
に、この不正確性を、排気ガス物質の流量を調節するの
ではなく、袋に収集されるサンプルの量を調節すること
によって覆い隠してきた。従って、排気ガス流量で収集
されたデータは不正確なものであり、その後の分析のた
めにはより高い精度が必要とされた。もう一つの一般的
な方法は、前記排気ガス質量流コントローラを、CO2
と窒素との混合物によって校正する方法である。この方
法は、排気ガス組成の変化や水分の影響を考慮したもの
ではない。
分流粒子サンプラも、また、上述したミニ希釈器に類似
の方法で校正される質量流コントローラを利用してい
る。
性の問題がある。そのため、正確な希釈率を提供する、
エンジン排気物質測定修正が必要とされている。
提供してエンジン排気物質測定の修正を行う排気物質分
析システム及び排気物質の測定補正方法を提供すること
にある。
成するための本発明の特徴構成は、それぞれ排気ガスと
希釈ガスとを提供する排気ガス源及び希釈ガス源と、そ
れぞれ、前記排気ガス源及び希釈ガス源とに流体接続さ
れた排気ガス流装置及び希釈ガス流装置を備えた希釈装
置とを有し、前記両ガス流装置が、そのそれぞれのガス
源からのガス流量を提供し、これらガス流装置が、未補
正の希釈率を有する希釈排気ガスを提供する接続部に流
体接続されている、排気物質分析システムであって、前
記システムが、前記排気ガス及び希釈排気ガスの何れか
の水分含有率を測定して、前記水分含有率に対応する水
分含有率信号を提供する湿度測定装置、又は、前記排気
ガス及び希釈排気ガスの何れか一方の二酸化炭素含有率
を測定して、前記二酸化炭素含有率に対応する二酸化炭
素含有率信号を提供する二酸化炭素装置の少なくとも一
方を備え、そして、前記システムが、更に、前記水分含
有率信号又は前記二酸化炭素含有率信号の少なくとも一
方を受け取り、これら水分含有率又は二酸化炭素含有率
の少なくとも一方に関連する調節係数を算出する制御装
置を有し、かつ、この制御装置が、前記接続部において
補正された希釈率を提供するために、前記排気ガス流装
置及び希釈ガス流装置の一方の前記ガス流量を調節する
ために前記排気ガス流装置及び希釈ガス流装置の何れか
一方に前記調節係数に対応する流量指令信号を送ること
を特徴とする点にある。
明の特徴構成は、希釈ガスを提供する希釈源(AMB)
と、排気ガス(Exh)を提供するプローブを備えた粒
子サンプラと、前記希釈ガスを前記排気ガス(Exh)
に導入して、未補正の希釈率を有する希釈排気ガスを提
供するミキサーと、前記希釈排気ガス源及び希釈ガス源
(AMB)とにそれぞれ流体接続された希釈排気及び希
釈ガス流装置とを有し、前記両ガス流装置が、そのそれ
ぞれのガス源(AMB)からのガス流量を提供する排気
物質分析システムであって、前記システムが、前記排気
ガス及び希釈排気ガスのいずれかの水含有率を測定し
て、前記水分含有率に対応する水分含有率信号を提供す
る湿度測定装置、又は、前記排気ガス及び希釈排気ガス
の何れか一方の二酸化炭素含有率を測定して、前記二酸
化炭素含有率に対応する二酸化炭素含有率信号を提供す
る二酸化炭素装置の少なくとも一方を備え、そして、前
記システムが、更に、前記水分含有率信号又は前記二酸
化炭素含有率信号の少なくとも一方を受け取り、これら
水分含有率又は前記二酸化炭素含有率の少なくとも一方
に関連する調節係数を算出する制御装置を有し、かつ、
この制御装置が、前記ミキサーにおいて補正された希釈
率を提供するために、前記希釈排気及び希釈ガス流装置
の何れか一方の前記流量を調節するために、前記希釈排
気及び希釈ガス流装置の一方に前記調節係数に対応する
流量指令信号を送ることを特徴とする点にある。
明の特徴構成は、上記構成2に記載の排気物質分析シス
テムにおいて、前記粒子サンプラと前記希釈排気ガス流
装置との間にフィルタが配置されている点にある。
明の特徴構成は、上記構成2又は3の何れか一項に記載
の排気物質分析システムにおいて、前記希釈ガスは空気
である点にある。
明の特徴構成は、上記構成1〜4の何れか一項に記載の
排気物質分析システムにおいて、前記二酸化炭素装置
は、前記排気ガス及び希釈排気ガスの何れか一方の前記
二酸化炭素含有率を測定する二酸化炭素測定装置である
点にある。
明の特徴構成は、上記構成1〜5の何れか一項に記載の
排気物質分析システムにおいて、前記二酸化炭素装置
は、前記排気及び希釈排気ガスの何れか一方の前記二酸
化炭素含有率を計算する前記制御装置の一部分である点
にある。
明の特徴構成は、上記構成1〜6の何れか一項に記載の
排気物質分析システムにおいて、前記制御装置はハード
ウエアとソフトウエアを含む点にある。
明の特徴構成は、上記構成1〜7の何れか一項に記載の
排気物質分析システムにおいて、前記制御装置は、前記
流量指令信号を、前記希釈ガス流装置へ送る点にある。
明の特徴構成は、上記構成8に記載の排気物質分析シス
テムにおいて、前記排気ガス流装置は、第1質量流コン
トローラ(MFC)である点にある。
発明の特徴構成は、上記構成9に記載の排気物質分析シ
ステムにおいて、前記希釈ガス流装置は、第2質量流コ
ントローラ(MFC)である点にある。
発明の特徴構成は、上記構成1又は5〜10の何れかに
記載の排気物質分析システムにおいて、前記システム
は、更に、前記排気ガス(Exh)を前記接続部から、
希釈サンプルガス袋に流体接続された希釈サンプルガス
流装置へと搬送するポンプを有する点にある。
発明の特徴構成は、上記構成11に記載の排気物質分析
システムにおいて、前記希釈サンプルガス流装置は第3
質量流コントローラ(MFC)である点にある。
発明の特徴構成は、上記構成11又は12の何れか一項
に記載の排気物質分析システムにおいて、前記湿度測定
装置は、前記ポンプと前記希釈サンプルガス流装置との
間で前記希釈排気ガスの前記水分含有率を測定する点に
ある。
発明の特徴構成は、上記構成1〜13の何れか一項に記
載の排気物質分析システムにおいて、前記調節係数は、
校正ガス比熱に対する前記排気ガスの比熱に関連するK
係数である点にある。
発明の特徴構成は、排気物質の測定補正方法であって、 a) 排気ガスを希釈ガスにより未補正希釈率に希釈す
る、 b) 前記排気ガス中の水分含有率、又は、前記排気ガ
ス中の二酸化炭素含有率の少なくとも一方を検出する、 c) 前記水分含有率、又は、前記二酸化炭素含有率の
少なくとも一方に基づいて調節係数を算出する、そし
て、 d) 前記調節係数を使用して前記排気ガス及び希釈ガ
スのいずれか一方の流量を補正希釈へ修正する、工程を
有する点にある。
発明の特徴構成は、上記構成15に記載の排気物質の測
定補正方法において、前記工程(a)は、未補正希釈率
を得るために、希釈ガス流量設定点と排気ガス流量設定
点とを選択する工程を含む点にある。
発明の特徴構成は、上記構成15又は16の何れか一項
に記載の排気物質の測定補正方法において、前記二酸化
炭素含有率を測定する工程は、前記二酸化炭素含有率の
検出を含む点にある。
発明の特徴構成は、上記構成15〜17の何れか一項に
記載の排気物質の測定補正方法において、前記二酸化炭
素含有率を測定する工程は、前記二酸化炭素含有率の算
出を含む点にある。
発明の特徴構成は、上記構成15〜18の何れか一項に
記載の排気物質の測定補正方法において、前記工程d)
は、校正ガス比熱に対する前記排気ガスの比熱に関連す
るK係数を得るために前記調節係数を計算することを含
む点にある。
発明の特徴構成は、上記構成15〜19の何れか一項に
記載の排気物質の測定補正方法において、前記工程b)
は、希釈排気ガス中の前記水分含有率の検出を含む点に
ある。
発明の特徴構成は、上記構成15〜20の何れか一項に
記載の排気物質の測定補正方法において、前記工程d)
は、質量流コントローラのバルブを制御することによっ
て前記流れを調節することを含む点にある。
発明の特徴構成は、上記構成15〜21の何れか一項に
記載の排気物質の測定補正方法において、前記排気ガス
を供給する粒子サンプラを提供する工程を有する点にあ
る。
発明の特徴構成は、上記構成21に記載の排気物質の測
定補正方法において、前記希釈ガスは空気である点にあ
る。
釈ガスを提供する希釈ガス源を有する排気物質分析シス
テムを提供する。希釈装置は、それぞれ、排気及び希釈
ガス源に流体接続された、質量流コントローラなどの排
気及び希釈ガス流装置を備えている。これら質量流コン
トローラの測定装置によって、そのそれぞれのガス源か
らのガス流量が提供される。前記両ガス流装置は、前記
両ガスを混合して、もしもそれ以上調節が行われなかっ
た場合には不正確な希釈率を有する希釈排ガスを提供す
る接続部に流体接続されている。アナライザ等の湿度測
定装置によって、好ましくは希釈後、前記排気ガスの水
分を測定する。前記湿度測定装置から、排気ガス中の水
含有率に対応する湿度含有率信号が、制御装置に送られ
る。排気ガスのCO2含有率は、燃料の化学分析と空燃
比とを使用して、或いは、CO2含有率を直接測定する
ことによって算出することができる。コントローラ(制
御装置)は調節係数を計算し、そのコントローラから、
好ましくは、排気ガス質量流コントローラに対して、そ
の調節係数に対応する流量指令信号が送られて、排気ガ
スのガス流量を調節し、前記接続部において補正された
希釈率を提供する。
ーブを備えた粒子サンプラを有するシステムも提供す
る。前記粒子サンプラは、希釈ガスを排気ガスに導入し
て、未補正の希釈率を有する希釈排気ガスを作り出すミ
キサーを備えている。前記希釈排気及び希釈ガス源に
は、それぞれ、希釈排気ガス流装置と希釈ガス流装置と
が流体接続されている。これらガス流装置は、そのそれ
ぞれのガス源からのガスの流量を提供する。上述した排
気物質分析システムと同様、前記ミキサーにおいて補正
された希釈率を提供するために、調節係数を計算すると
きに使用可能な、水分および/又は二酸化炭素含有率を
測定してもよい。
に基づいて説明する。排気物質分析システム10が、極
めて略示的であり、排気物質テスト装置の僅かな部分の
みを図示している図1(イ)〜(ロ)に図示されてい
る。このシステム10は、通常は、排気管を通って流れ
る排気ガスをサンプリングするために車両の排気管に挿
入されるプローブであるところの排気ガス源12を有す
る。このシステム10は、更に、ミニ希釈器排気ガス物
質サンプリングシステムにおいて排気ガスを希釈するの
に使用される、通常は、窒素を含む、希釈ガス源14を
有する。前記源12及び14からの排気ガスと希釈ガス
とは、希釈装置16に入り、ここで、これらのガスは所
望の希釈率に混合される。十分な精度とテストの完全性
を保証するためには、車両排出物質テスト全体を通じ
て、所望の希釈率が維持されることが非常に望ましい。
それぞれ、流体導管18及び20によって排気ガス流装
置22及び希釈ガス流装置24に接続されている。本発
明によれば、これらガス流装置は、好ましくは、流量計
26とバルブ28とを備えた熱質量流コントローラMF
Cであり、これらは、ポーター・インスツルメント・カ
ンパニー社(Porter Instrument Company Inc.)からシ
リーズ200F質量流コントローラとして入手可能であ
る。従来から知られているように、前記流量計26は、
ヒータと、流量を測定するためにガス流装置を通って流
れるガスの比熱を測定するために使用される二つの温度
センサとを有する質量流センサ装置を備えることが可能
である。しかし、後に詳述するように、正確な流量測定
を得るためには、ガス流装置を通って流れるガスが判ら
なければならない。熱質量流コントローラは、更に、正
確な流量を保証するために、増幅及び線形化用ハードウ
エア、又、デジタルコントローラの場合には、ソフトウ
エアも備えている。前記バルブ28は、通常はソレノイ
ドバルブであり、これは、ガス流を調節して所望の流量
を得るために開閉可能である。
れ、前記両ガスが混合されて未補正の希釈率を提供する
接続部34に接続されている流体導管30及び32を備
えている。図1(イ)に図示されているように、原排気
ガスを導管18からガス流装置22に搬送するためには
ポンプ36が必要である。あるいは、このポンプ36
は、図1(ロ)に図示されているように、原排気ガス
を、ガス流装置22から前記接続部34へと搬送するよ
うに構成することも可能である。前記接続部34から流
体導管37を介して希釈サンプルガス流装置38が、第
3の質量流コントローラMFCとして構成されている。
流体導管40によって、前記質量流コントローラMFC
38から希釈排気ガスをサンプル袋42へと搬送し、こ
こで、後に、車両の排気物質が許容可能なレベルにある
か否かを判断するために排気ガスの内容が分析される。
前記質量流コントローラMFC38は、前記袋42への
希釈排気ガスの流れを、テスト中において車両から排出
された排気ガスの体積の変化に対応させるように調節す
る。
釈率を得るために所望の流量にセットされる。これらガ
ス流装置22、24は、通常は窒素又は合成空気である
校正ガスを使用して校正される。測定原理は、質量流コ
ントローラを通って流れるガスの比熱に基づくものであ
るので、流量の精度は、使用される校正ガスに依存す
る。窒素又は合成空気も希釈ガスとして使用されるの
で、校正後、ガス流装置24において高精度のガス流量
が得られる。しかし、車両排気物質テスト中に発生した
排気ガスの比熱は窒素の比熱と異なるので、ガス流装置
22を通過するガスの流量は補正されない限り不正確で
ある。これは、従来技術においては、希釈された排気ガ
ス中の水蒸気を検出し、希釈サンプルガス流装置38を
調節して袋42へのサンプルガスの流れを増加又は減少
させることによって行われていた。しかし、この方法で
は、接続部34に於ける希釈率が不正確になり、これ
は、不正確なテストデータを提供し、排気物質分析シス
テムの不正確性をマスクするだけであるので望ましくな
い。もう一つの一般的な方法は、前記ガス流装置22
を、CO2と窒素との混合物によって校正する方法であ
る。この方法は、排気ガス組成の変化や水分の影響を考
慮したものではない。
率を得るために前記ガス流装置22を調節する。下記の
等式によって理解されるように、流量Qreadは、調節係
数をかけることによって実際の流量Qactualを得るべく
調節することができる。
流装置22の流量を調節するためには排気ガスの実際の
K係数を測定しなければならない。K係数は、正確な流
量を提供するためにユーザが質量流コントローラの流量
を調節することを可能にするべく質量流コントローラの
製造業者によって提供されている。いくつかの関連する
K係数を下記の表にリストする。
ガスの組成を測定するために、排気ガスの水含有率を、
湿度センサ44によって測定する。この湿度センサ44
は、図示されているように、希釈排気ガスを測定するた
めに、前記ポンプ36のあとに、流体導管45によって
前記流体導管37に接続されている。しかし、排気ガス
の水含有率はその他の箇所で測定することも可能であ
る。好ましくは、排気物質のK係数測定の精度を更に高
めるために、排気ガス中の二酸化炭素も測定される。各
反応生成物のK係数を計算するために、燃焼混合物の組
成と反応生成物の組成とを求めるために燃焼化学量論が
使用される。二酸化炭素と水分の濃度が希釈排気ガス中
で測定されるので、原排気ガス値の濃度を計算し、それ
を、下記の等式によって表すことができる、K係数の計
算に当てはめなければならない。
ちの、水を表す部分である。同様に、Cco2は、排気ガ
スのうちの二酸化炭素を表す部分である。本希釈率q
は、原排ガス流装置22の流量に対する両ガス流装置2
2,24の総流量に対する比率であり、これを使用する
理由は、湿度と二酸化炭素がサンプルの希釈後に下流側
で測定されるからである。水と二酸化炭素のK係数は、
質量流コントローラの製造業者から提供される情報を通
じて判っているので、排気ガスの残りの成分のK係数の
みがわかっておらず、これは、窒素のK係数におよそ等
しい。その結果、Kactualを算出し、これによってガス
流装置(質量流コントローラ)22を通る流量に対する
調節係数が提供される。二酸化炭素濃度は、図1(イ)
の48として図示されているように、分析器によって直
接測定されるか、もしくは、図1(ロ)の48として略
示されているように、燃焼空気と流量と燃料組成とから
算出することができる。このようにすることで、二酸化
炭素分析器48は省略することができ、その機能をコン
トローラ46によって提供してもよい。水分含有率値
は、希釈された排気ガス中の相対湿度として測定され、
これは、好ましくは、体積率に変換される。この計算の
ためには、圧力と温度を取り入れる必要がある。湿度セ
ンサ44及び二酸化炭素分析器48からの情報は、K係
数の計算のためにコントローラ46へと送られる。次
に、このK係数は、指令信号に変換されて、これが、質
量流コントローラ22へと送られて、前記接続部34に
おける補正された希釈率を得るために、それを通過する
排気ガスに基づいてコントローラの流量を調節する。
とに加えて、正確な体積が袋42内にサンプリングされ
るように、前記質量流コントローラMFC38も補正す
ることができる。この目的のために、コントローラ46
から前記質量流コントローラMFC38へと流量を補正
するために指令信号が送られる。下記の式を使用して、
希釈排気ガスの濃度からK係数を算出する。従って、q
は、この式において使用する必要がない。
ク50によって示されているように希釈される。水分含
有率が、ブロック52に示されているように検出され、
そして好ましくは、ブロック54に示されているように
二酸化炭素も測定される。ブロック56に示されている
ように、上述した方法でコントローラ46によって調節
又はK係数が算出される。このK係数は、窒素又は合成
空気であるところの校正ガスと、質量流コントローラ2
2を通過する排ガスとの間の比熱の差を調節する。所定
の瞬間において質量流コントローラ22を通過する排気
ガスの内容を調節するためにK係数は連続的に計算され
る。これによって、車両排出物質テスト全体を通して正
確な希釈率が得られることが保証される。ブロック58
に示すように、正確な希釈率を得るために、K係数は、
信号として質量流コントローラ22へ送られる。
の同様に、特定のサンプラに適用することが可能であ
る。図3には、サンプラの一例60が図示されている。
この粒子サンプラ60は、車両から排出される排気ガス
の一部を収集するべく排気管62に挿入されるプローブ
64を備えている。このサンプラ60は、更に、導管7
2から空気を受け取り、この空気を排気ガスと混合する
ミキサー66も備えている。希釈された排気ガスはトン
ネル68から導管69を通ってフィルタ70へ流れ、こ
こで、この希釈排気ガスから粒子物質がその後の分析の
ために収集される。
は、それぞれ上述したものに類似のコントローラ(流量
計)26とバルブ28とを備える質量流コントローラ7
4によって制御される。前記フィルタ70からの希釈排
気ガスの流れは、コントローラ26とバルブ28とを備
える質量流コントローラ78によって制御される。希釈
排気ガスは、ポンプ80によって前記導管71から質量
流コントローラ78に吸引される。
接測定、あるいは、二酸化炭素含有率の算出などの計算
によって、装置81又は装置82において測定すること
ができる。この測定に使用される希釈排気ガスの一部分
は、ポンプ83によって前記装置81,82を通って引
き込まれる。これら装置81,82からのデータは、制
御装置84によって分析され、調節係数が、前記ミニ希
釈器に関して上述したのに類似の方法で、算出される。
前記制御装置84は、前記ミキサー66において補正さ
れた希釈率を提供するために、それを通過するガス流量
を調節するべく、前記調節係数に対応する流量指令信号
を、前記質量流コントローラ74,78の一方又は両方
に送る。
れた用語は記載の目的のためのものであって限定的なも
のではないと理解される。当然、上記教示内容に鑑みて
様々な本発明の改変及び変形が可能である。従って、本
発明は、添付の請求項の範囲内において、具体的に記載
した以外の態様で実施することが可能であると理解され
る。
分析システムの別実施例の概略図
方法を示すフローチャート
Claims (23)
- 【請求項1】 それぞれ排気ガスと希釈ガスとを提供す
る排気ガス源及び希釈ガス源と、それぞれ、前記排気ガ
ス源及び希釈ガス源とに流体接続された排気ガス流装置
及び希釈ガス流装置を備えた希釈装置とを有し、前記両
ガス流装置が、そのそれぞれのガス源からのガス流量を
提供し、これらガス流装置が、未補正の希釈率を有する
希釈排気ガスを提供する接続部に流体接続されている、
排気物質分析システムであって、 前記システムが、前記排気ガス及び希釈排気ガスの何れ
かの水分含有率を測定して、前記水分含有率に対応する
水分含有率信号を提供する湿度測定装置、又は、 前記排気ガス及び希釈排気ガスの何れか一方の二酸化炭
素含有率を測定して、前記二酸化炭素含有率に対応する
二酸化炭素含有率信号を提供する二酸化炭素装置の少な
くとも一方を備え、そして、 前記システムが、更に、前記水分含有率信号又は前記二
酸化炭素含有率信号の少なくとも一方を受け取り、これ
ら水分含有率又は二酸化炭素含有率の少なくとも一方に
関連する調節係数を算出する制御装置を有し、かつ、 この制御装置が、前記接続部において補正された希釈率
を提供するために、前記排気ガス流装置及び希釈ガス流
装置の一方の前記ガス流量を調節するために前記排気ガ
ス流装置及び希釈ガス流装置の何れか一方に前記調節係
数に対応する流量指令信号を送ることを特徴とする排気
物質分析システム。 - 【請求項2】 希釈ガスを提供する希釈源(AMB)
と、排気ガス(Exh)を提供するプローブを備えた粒
子サンプラと、前記希釈ガスを前記排気ガス(Exh)
に導入して、未補正の希釈率を有する希釈排気ガスを提
供するミキサーと、前記希釈排気ガス源及び希釈ガス源
(AMB)とにそれぞれ流体接続された希釈排気及び希
釈ガス流装置とを有し、前記両ガス流装置が、そのそれ
ぞれのガス源(AMB)からのガス流量を提供する排気
物質分析システムであって、 前記システムが、前記排気ガス及び希釈排気ガスのいず
れかの水含有率を測定して、前記水分含有率に対応する
水分含有率信号を提供する湿度測定装置、又は、 前記排気ガス及び希釈排気ガスの何れか一方の二酸化炭
素含有率を測定して、前記二酸化炭素含有率に対応する
二酸化炭素含有率信号を提供する二酸化炭素装置の少な
くとも一方を備え、そして、 前記システムが、更に、前記水分含有率信号又は前記二
酸化炭素含有率信号の少なくとも一方を受け取り、これ
ら水分含有率又は前記二酸化炭素含有率の少なくとも一
方に関連する調節係数を算出する制御装置を有し、か
つ、 この制御装置が、前記ミキサーにおいて補正された希釈
率を提供するために、前記希釈排気及び希釈ガス流装置
の何れか一方の前記流量を調節するために、前記希釈排
気及び希釈ガス流装置の一方に前記調節係数に対応する
流量指令信号を送ることを特徴とする排気物質分析シス
テム。 - 【請求項3】 前記粒子サンプラと前記希釈排気ガス流
装置との間にフィルタが配置されている請求項2に記載
の排気物質分析システム。 - 【請求項4】 前記希釈ガスは空気である請求項2又は
3の何れか一項に記載の排気物質分析システム。 - 【請求項5】 前記二酸化炭素装置は、前記排気ガス及
び希釈排気ガスの何れか一方の前記二酸化炭素含有率を
測定する二酸化炭素測定装置である請求項1〜4の何れ
か一項に記載の排気物質分析システム。 - 【請求項6】 前記二酸化炭素装置は、前記排気及び希
釈排気ガスの何れか一方の前記二酸化炭素含有率を計算
する前記制御装置の一部分である請求項1〜5の何れか
一項に記載の排気物質分析システム。 - 【請求項7】 前記制御装置はハードウエアとソフトウ
エアを含む請求項1〜6の何れか一項に記載の排気物質
分析システム。 - 【請求項8】 前記制御装置は、前記流量指令信号を、
前記希釈ガス流装置へ送る請求項1〜7の何れか一項に
記載の排気物質分析システム。 - 【請求項9】 前記排気ガス流装置は、第1質量流コン
トローラ(MFC)である請求項8に記載の排気物質分
析システム。 - 【請求項10】 前記希釈ガス流装置は、第2質量流コ
ントローラ(MFC)である請求項9に記載の排気物質
分析システム。 - 【請求項11】 前記システムは、更に、前記排気ガス
(Exh)を前記接続部から、希釈サンプルガス袋に流
体接続された希釈サンプルガス流装置へと搬送するポン
プを有する請求項1又は5〜10の何れかに記載の排気
物質分析システム。 - 【請求項12】 前記希釈サンプルガス流装置は第3質
量流コントローラ(MFC)である請求項11に記載の
排気物質分析システム。 - 【請求項13】 前記湿度測定装置は、前記ポンプと前
記希釈サンプルガス流装置との間で前記希釈排気ガスの
前記水分含有率を測定する請求項11又は12の何れか
一項に記載の排気物質分析システム。 - 【請求項14】 前記調節係数は、校正ガス比熱に対す
る前記排気ガスの比熱に関連するK係数である請求項1
〜13の何れか一項に記載の排気物質分析システム。 - 【請求項15】 排気物質の測定を補正する方法であっ
て、 a) 排気ガスを希釈ガスにより未補正希釈率に希釈す
る、 b) 前記排気ガス中の水分含有率、又は、前記排気ガ
ス中の二酸化炭素含有率の少なくとも一方を検出する、 c) 前記水分含有率、又は、前記二酸化炭素含有率の
少なくとも一方に基づいて調節係数を算出する、そし
て、 d) 前記調節係数を使用して前記排気ガス及び希釈ガ
スのいずれか一方の流量を補正希釈へ修正する、工程を
有する排気物質の測定補正方法。 - 【請求項16】 前記工程(a)は、未補正希釈率を得
るために、希釈ガス流量設定点と排気ガス流量設定点と
を選択する工程を含む請求項15に記載の排気物質の測
定補正方法。 - 【請求項17】 前記二酸化炭素含有率を測定する工程
は、前記二酸化炭素含有率の検出を含む請求項15又は
16の何れか一項に記載の排気物質の測定補正方法。 - 【請求項18】 前記二酸化炭素含有率を測定する工程
は、前記二酸化炭素含有率の算出を含む請求項15〜1
7の何れか一項に記載の排気物質の測定補正方法。 - 【請求項19】 前記工程d)は、校正ガス比熱に対す
る前記排気ガスの比熱に関連するK係数を得るために前
記調節係数を計算することを含む請求項15〜18の何
れか一項に記載の排気物質の測定補正方法。 - 【請求項20】 前記工程b)は、希釈排気ガス中の前
記水分含有率の検出を含む請求項15〜19の何れか一
項に記載の排気物質の測定補正方法。 - 【請求項21】 前記工程d)は、質量流コントローラ
のバルブを制御することによって前記流れを調節するこ
とを含む請求項15〜20の何れか一項に記載の排気物
質の測定補正方法。 - 【請求項22】 前記排気ガスを供給する粒子サンプラ
を提供する工程を有する請求項15〜21の何れか一項
に記載の排気物質の測定補正方法。 - 【請求項23】 前記希釈ガスは空気である請求項21
に記載の排気物質の測定補正方法。
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