JP2003286254A - 光学活性環状アルコールの製造方法 - Google Patents
光学活性環状アルコールの製造方法Info
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- JP2003286254A JP2003286254A JP2002090162A JP2002090162A JP2003286254A JP 2003286254 A JP2003286254 A JP 2003286254A JP 2002090162 A JP2002090162 A JP 2002090162A JP 2002090162 A JP2002090162 A JP 2002090162A JP 2003286254 A JP2003286254 A JP 2003286254A
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Abstract
(57)【要約】
【課題】含窒素環状オレフィンから光学活性含窒素環状
アルコールを高収率で製造する。 【解決手段】（１）α−ピネン、水素化ホウ素ナトリウ
ム及び活性化剤の混合液と、一般式（I）〜（IV） 【化１】 のいずれかで表される含窒素環状オレフィンを反応させ
る工程、（２）前記（１）の工程で得られた反応液を酸
化剤と反応させる工程からなる光学活性ピロリジノー
ル、または光学活性ピペリジノールの製造方法におい
て、含窒素環状オレフィンの脱水素化物および一般式
（Ｖ） Ｘ−ＮＨ2 ・・・（Ｖ） で表されるアミン化合物の総重量が含窒素環状オレフィ
ンに対して５重量％以下であることを特徴とする光学活
性環状アルコールの製造方法。
アルコールを高収率で製造する。 【解決手段】（１）α−ピネン、水素化ホウ素ナトリウ
ム及び活性化剤の混合液と、一般式（I）〜（IV） 【化１】 のいずれかで表される含窒素環状オレフィンを反応させ
る工程、（２）前記（１）の工程で得られた反応液を酸
化剤と反応させる工程からなる光学活性ピロリジノー
ル、または光学活性ピペリジノールの製造方法におい
て、含窒素環状オレフィンの脱水素化物および一般式
（Ｖ） Ｘ−ＮＨ2 ・・・（Ｖ） で表されるアミン化合物の総重量が含窒素環状オレフィ
ンに対して５重量％以下であることを特徴とする光学活
性環状アルコールの製造方法。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、光学活性含窒素環
状アルコールの製造方法に関する。光学活性含窒素環状
アルコールは、医薬中間体、農薬中間体、液晶材料、香
料などとして有用な化合物である。
状アルコールの製造方法に関する。光学活性含窒素環状
アルコールは、医薬中間体、農薬中間体、液晶材料、香
料などとして有用な化合物である。
【０００２】
【従来の技術】炭素−炭素二重結合を水酸基に変換する
ことを特徴とする光学活性含窒素環状アルコールの合成
法としては、ハイドロボレーション反応を経由する方法
が公知である。例えば、α−ピネンとジボランやＢＨ3
・ＳＭｅ2等から合成したジイソピノカンフェニルボラ
ンを用いた不斉ハイドロボレーション−酸化による光学
活性Ｎ置換−３−ピロリジノールの合成が挙げられる
（ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミストリー．，
５１，４２９６，（１９８６）、ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサイエテイ．，１０８，２０４
９（１９８６）、ヘテロサイクルズ，２８，１，２８３
（１９８９））。
ことを特徴とする光学活性含窒素環状アルコールの合成
法としては、ハイドロボレーション反応を経由する方法
が公知である。例えば、α−ピネンとジボランやＢＨ3
・ＳＭｅ2等から合成したジイソピノカンフェニルボラ
ンを用いた不斉ハイドロボレーション−酸化による光学
活性Ｎ置換−３−ピロリジノールの合成が挙げられる
（ジャーナル・オブ・オルガニック・ケミストリー．，
５１，４２９６，（１９８６）、ジャーナル・オブ・ア
メリカン・ケミカル・ソサイエテイ．，１０８，２０４
９（１９８６）、ヘテロサイクルズ，２８，１，２８３
（１９８９））。
【０００３】しかし、これらの有機ホウ素化合物と炭素
−炭素二重結合の反応において、オレフィン原料中不純
物の影響について報告した例は見られない。
−炭素二重結合の反応において、オレフィン原料中不純
物の影響について報告した例は見られない。
【０００４】一方、含窒素環状オレフィン化合物の製造
法として、シス−２−ブテン−１，４−ジオールジメシ
レートと１級アミン類を反応させてピロリン誘導体を製
造する方法（シンセテイック・コミュニケーション，２
０，２２７（１９９０））、シス−１，４−ジクロロ−
２−ブテンとベンジルアミンを反応させる方法（シンセ
テイック・コミュニケーション，１３，１１１７（１９
８３）、およびシス−２−ブテン−１，４−ジオールを
塩化チオニルと反応させた後、ベンジルアミンと反応さ
せる方法（特開２００１−２７０８６２号公報）などが
知られている。
法として、シス−２−ブテン−１，４−ジオールジメシ
レートと１級アミン類を反応させてピロリン誘導体を製
造する方法（シンセテイック・コミュニケーション，２
０，２２７（１９９０））、シス−１，４−ジクロロ−
２−ブテンとベンジルアミンを反応させる方法（シンセ
テイック・コミュニケーション，１３，１１１７（１９
８３）、およびシス−２−ブテン−１，４−ジオールを
塩化チオニルと反応させた後、ベンジルアミンと反応さ
せる方法（特開２００１−２７０８６２号公報）などが
知られている。
【０００５】
【本発明が解決しようとする課題】上記のいずれの場合
も原料にアミン類を用いるため、精留などの処理を行わ
ない限り、生成した含窒素環状オレフィン中にはアミン
原料が残留すると考えられる。
も原料にアミン類を用いるため、精留などの処理を行わ
ない限り、生成した含窒素環状オレフィン中にはアミン
原料が残留すると考えられる。
【０００６】また、生成物の含窒素環状オレフィン、特
にピロリン誘導体では酸素共存下で保存した場合にピロ
ール誘導体が副生することが知られている（特開２００
１−２７８８５７号公報）。つまり、含窒素環状オレフ
ィン中には、公知文献記載の通り、窒素雰囲気下で保管
しない限りピロール誘導体が不純物として含まれる。ア
ミン原料などのアミン不純物が反応系に含まれると、反
応系内に存在するボラン化合物が失活して反応収率が低
下するという問題が挙げられる。
にピロリン誘導体では酸素共存下で保存した場合にピロ
ール誘導体が副生することが知られている（特開２００
１−２７８８５７号公報）。つまり、含窒素環状オレフ
ィン中には、公知文献記載の通り、窒素雰囲気下で保管
しない限りピロール誘導体が不純物として含まれる。ア
ミン原料などのアミン不純物が反応系に含まれると、反
応系内に存在するボラン化合物が失活して反応収率が低
下するという問題が挙げられる。
【０００７】したがって、含窒素環状オレフィンを用い
た光学活性アルコールの工業的製造法の創出が強く望ま
れてきた。
た光学活性アルコールの工業的製造法の創出が強く望ま
れてきた。
【０００８】本発明の目的は、含窒素環状オレフィンか
ら光学活性アルコールを製造するに際し、安価な原料を
使用し、安全、且つ簡便なプロセスを用いた光学活性ピ
ロリジノールおよび光学活性ピペリジノールの工業的製
造法を提供することにある。
ら光学活性アルコールを製造するに際し、安価な原料を
使用し、安全、且つ簡便なプロセスを用いた光学活性ピ
ロリジノールおよび光学活性ピペリジノールの工業的製
造法を提供することにある。
【０００９】
【課題を解決するための手段】本発明者等は、含窒素環
状オレフィンを原料に用いた、安全、且つ簡便な方法に
よる光学活性アルコールの製造方法について鋭意検討
し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、
「（１）α−ピネン、水素化ホウ素ナトリウム及び活性
化剤の混合液と、一般式（Ｉ）〜（IV）
状オレフィンを原料に用いた、安全、且つ簡便な方法に
よる光学活性アルコールの製造方法について鋭意検討
し、本発明を完成させた。すなわち、本発明は、
「（１）α−ピネン、水素化ホウ素ナトリウム及び活性
化剤の混合液と、一般式（Ｉ）〜（IV）
【００１０】
【化２】
【００１１】（式中Ｘは、ａ）炭素数１〜１０のアルキ
ル基、ｂ）芳香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換さ
れたアリール基、ｃ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０
のアルキル基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基
で置換されたアラルキル基、ｄ）アルキルまたはアリー
ルオキシカルボニル基のいずれかを表し、Ｒは、ｅ）炭
素数１〜１０のアルキル基またはアルコキシ基、ｆ）芳
香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキル基、あるい
は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたアリール
基、ｇ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０のアルキル
基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ｈ）アルキルまたはアリールオキシカ
ルボニル基のいずれかを表し、ｎは０〜４のいずれかで
ある。）のいずれかで表される含窒素環状オレフィンを
反応させる工程、（２）前記（１）の工程で得られた反
応液を酸化剤と反応させる工程からなる光学活性ピロリ
ジノール、または光学活性ピペリジノールの製造方法に
おいて、含窒素環状オレフィンに含まれる、含窒素環状
オレフィンの脱水素化物および一般式（Ｖ） Ｘ−ＮＨ2 ・・・（Ｖ） （式中Ｘは、ａ）炭素数１〜１０のアルキル基、ｂ）芳
香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキル基、あるい
は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたアリール
基、ｃ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０のアルキル
基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ｄ）アルキルまたはアリールオキシカ
ルボニル基のいずれかを表す。）で表されるアミン化合
物の総重量が含窒素環状オレフィンに対して５重量％以
下であることを特徴とする光学活性環状アルコールの製
造方法。」である。
ル基、ｂ）芳香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換さ
れたアリール基、ｃ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０
のアルキル基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基
で置換されたアラルキル基、ｄ）アルキルまたはアリー
ルオキシカルボニル基のいずれかを表し、Ｒは、ｅ）炭
素数１〜１０のアルキル基またはアルコキシ基、ｆ）芳
香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキル基、あるい
は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたアリール
基、ｇ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０のアルキル
基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ｈ）アルキルまたはアリールオキシカ
ルボニル基のいずれかを表し、ｎは０〜４のいずれかで
ある。）のいずれかで表される含窒素環状オレフィンを
反応させる工程、（２）前記（１）の工程で得られた反
応液を酸化剤と反応させる工程からなる光学活性ピロリ
ジノール、または光学活性ピペリジノールの製造方法に
おいて、含窒素環状オレフィンに含まれる、含窒素環状
オレフィンの脱水素化物および一般式（Ｖ） Ｘ−ＮＨ2 ・・・（Ｖ） （式中Ｘは、ａ）炭素数１〜１０のアルキル基、ｂ）芳
香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキル基、あるい
は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたアリール
基、ｃ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０のアルキル
基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ｄ）アルキルまたはアリールオキシカ
ルボニル基のいずれかを表す。）で表されるアミン化合
物の総重量が含窒素環状オレフィンに対して５重量％以
下であることを特徴とする光学活性環状アルコールの製
造方法。」である。
【００１２】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
【００１３】本反応の具体的な方法を例示する。
【００１４】まず、α−ピネン、水素化ホウ素ナトリウ
ム、場合によっては溶媒を含む混合液に、活性化剤を添
加する。ここで、原料の仕込み順序は限定されるもので
はなく、α−ピネンを最後に添加しても良いが、好まし
くは、活性化剤を最後に添加する方法であり、混合液の
性状は溶液であっても、スラリーであっても良い。そし
て、次工程において、含窒素環状オレフィンを添加す
る。
ム、場合によっては溶媒を含む混合液に、活性化剤を添
加する。ここで、原料の仕込み順序は限定されるもので
はなく、α−ピネンを最後に添加しても良いが、好まし
くは、活性化剤を最後に添加する方法であり、混合液の
性状は溶液であっても、スラリーであっても良い。そし
て、次工程において、含窒素環状オレフィンを添加す
る。
【００１５】本発明で用いる水素化ホウ素ナトリウムの
形状は特に制限されるものではなく、微粉末状のものか
ら粒状のものまで各種の粒径のものを用いることができ
る。水素化ホウ素ナトリウムの添加方法も限定されるも
のではなく、溶媒で希釈した後添加しても良く、また希
釈せずにそのまま添加しても良い。
形状は特に制限されるものではなく、微粉末状のものか
ら粒状のものまで各種の粒径のものを用いることができ
る。水素化ホウ素ナトリウムの添加方法も限定されるも
のではなく、溶媒で希釈した後添加しても良く、また希
釈せずにそのまま添加しても良い。
【００１６】本発明で用いる活性化剤とは、水素化ホウ
素ナトリウムを活性化するものであれば様々なのものを
用いることができる。ハロゲン化ホウ素、鉱酸、スルホ
ン酸、アルキル硫酸、カルボン酸、金属ハロゲン化物お
よびヨウ素から選ばれる少なくとも１種を含むことが好
ましい。例として、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三
臭化ホウ素、三ヨウ化ホウ素などのハロゲン化ホウ素、
三フッ化アルミニウム、三塩化アルミニウム、三臭化ア
ルミニウム、三ヨウ化アルミニウムなどのハロゲン化ア
ルミニウム、三フッ化ガリウム、三塩化ガリウム、三臭
化ガリウム、三ヨウ化ガリウムなどのハロゲン化ガリウ
ム、フッ化亜鉛、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、フッ化
亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛などのハロゲン
化亜鉛、フッ化鉄、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄などのハ
ロゲン化鉄、塩化チタン、臭化チタン、硫酸、塩酸、臭
化水素酸、ヨウ化水素酸などの鉱酸、ベンゼンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸、ジメチル
硫酸、ジエチル硫酸などのアルキル硫酸、トリフルオロ
酢酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸などのカルボン酸、ヨ
ウ化メチル、ヨウ素などを挙げることができ、好ましく
は、ハロゲン化ホウ素、ハロゲン化アルミニウム、ハロ
ゲン化鉄、硫酸、塩酸、臭化水素酸、ジメチル硫酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、ヨウ化メチル、ヨウ素であり、さらに好ましく
は、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素などのハロゲン化ホ
ウ素、もしくは硫酸、塩酸などの鉱酸である。
素ナトリウムを活性化するものであれば様々なのものを
用いることができる。ハロゲン化ホウ素、鉱酸、スルホ
ン酸、アルキル硫酸、カルボン酸、金属ハロゲン化物お
よびヨウ素から選ばれる少なくとも１種を含むことが好
ましい。例として、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素、三
臭化ホウ素、三ヨウ化ホウ素などのハロゲン化ホウ素、
三フッ化アルミニウム、三塩化アルミニウム、三臭化ア
ルミニウム、三ヨウ化アルミニウムなどのハロゲン化ア
ルミニウム、三フッ化ガリウム、三塩化ガリウム、三臭
化ガリウム、三ヨウ化ガリウムなどのハロゲン化ガリウ
ム、フッ化亜鉛、ジメチル亜鉛、ジエチル亜鉛、フッ化
亜鉛、塩化亜鉛、臭化亜鉛、ヨウ化亜鉛などのハロゲン
化亜鉛、フッ化鉄、塩化鉄、臭化鉄、ヨウ化鉄などのハ
ロゲン化鉄、塩化チタン、臭化チタン、硫酸、塩酸、臭
化水素酸、ヨウ化水素酸などの鉱酸、ベンゼンスルホン
酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンスルホン酸、トリ
フルオロメタンスルホン酸などのスルホン酸、ジメチル
硫酸、ジエチル硫酸などのアルキル硫酸、トリフルオロ
酢酸、酢酸、プロピオン酸、酪酸などのカルボン酸、ヨ
ウ化メチル、ヨウ素などを挙げることができ、好ましく
は、ハロゲン化ホウ素、ハロゲン化アルミニウム、ハロ
ゲン化鉄、硫酸、塩酸、臭化水素酸、ジメチル硫酸、ベ
ンゼンスルホン酸、ｐ−トルエンスルホン酸、メタンス
ルホン酸、トリフルオロメタンスルホン酸、トリフルオ
ロ酢酸、ヨウ化メチル、ヨウ素であり、さらに好ましく
は、三フッ化ホウ素、三塩化ホウ素などのハロゲン化ホ
ウ素、もしくは硫酸、塩酸などの鉱酸である。
【００１７】ハロゲン化ホウ素は、三フッ化ホウ素、三
塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三ヨウ化ホウ素を表すが、
それぞれ単独で用いても、また、混合して用いても構わ
ず、さらに、溶媒等との錯体として使用しても良い。例
えば、三フッ化ホウ素・ジメチルエーテル錯体、三フッ
化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素・テ
トラヒドロフラン錯体、三フッ化ホウ素・１，４−ジオ
キサン錯体、三フッ化ホウ素・メタノール錯体、三フッ
化ホウ素・ピリジン錯体、三フッ化ホウ素・トリエチル
アミン錯体等が挙げられる。
塩化ホウ素、三臭化ホウ素、三ヨウ化ホウ素を表すが、
それぞれ単独で用いても、また、混合して用いても構わ
ず、さらに、溶媒等との錯体として使用しても良い。例
えば、三フッ化ホウ素・ジメチルエーテル錯体、三フッ
化ホウ素・ジエチルエーテル錯体、三フッ化ホウ素・テ
トラヒドロフラン錯体、三フッ化ホウ素・１，４−ジオ
キサン錯体、三フッ化ホウ素・メタノール錯体、三フッ
化ホウ素・ピリジン錯体、三フッ化ホウ素・トリエチル
アミン錯体等が挙げられる。
【００１８】また、含窒素環状オレフィンは、下記
（Ｉ）〜（IV）式のいずれかで表されるものであり、ピ
ロリン誘導体、またはテトラヒドロピリジン誘導体であ
り、一般式（Ｉ）及び（II）はそれぞれ２−ピロリン誘
導体、及び３−ピロリン誘導体であり、または一般式
（III）及び（IV）はそれぞれ１，２，３，６−テトラ
ヒドロピリジン誘導体、及び１，２，３，４−テトラヒ
ドロピリジン誘導体である。
（Ｉ）〜（IV）式のいずれかで表されるものであり、ピ
ロリン誘導体、またはテトラヒドロピリジン誘導体であ
り、一般式（Ｉ）及び（II）はそれぞれ２−ピロリン誘
導体、及び３−ピロリン誘導体であり、または一般式
（III）及び（IV）はそれぞれ１，２，３，６−テトラ
ヒドロピリジン誘導体、及び１，２，３，４−テトラヒ
ドロピリジン誘導体である。
【００１９】
【化３】
【００２０】（式中Ｘは、ａ）炭素数１〜１０のアルキ
ル基、ｂ）芳香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換さ
れたアリール基、ｃ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０
のアルキル基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基
で置換されたアラルキル基、ｄ）アルキルまたはアリー
ルオキシカルボニル基のいずれかを表し、Ｒは、ｅ）炭
素数１〜１０のアルキル基またはアルコキシ基、ｆ）芳
香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキル基、あるい
は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたアリール
基、ｇ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０のアルキル
基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ｈ）アルキルまたはアリールオキシカ
ルボニル基のいずれかを表し、ｎは０〜４のいずれかで
ある。）式中Ｘの置換基の具体例としては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基など
に代表されるアルキル基、フェニル基、ｏ−トルイル
基、ｍ−トルイル基、ｐ−トルイル基、ｏ−エチルフェ
ニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル
基、ｍ−エトキシフェニル基、ｐ−（ｎ−ブトキシ）フ
ェニル基などに代表されるアリール基、ベンジル基、ｏ
−メチルフェニルメチル基、ｍ−エチルフェニルメチル
基、ｐ−ｎ−プロピルフェニルメチル基、ｏ−メトキシ
フェニルメチル基、ｍ−エトキシフェニルメチル基、ｐ
−ｔ−ブトキシフェニルメチル基などに代表されるアラ
ルキル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボ
ニル基、フェノキシカルボニル基、ｏ−メチルフェノキ
シカルボニル基、ｍ−エチルフェノキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル基などに代表されるアルキル
またはアリールオキシカルボニル基などを挙げることが
できるが、好ましくはアリール基、アラルキル基、アル
キルまたはアリールオキシカルボニル基であり、さらに
好ましくはアラルキル基、アルキルまたはアリールオキ
シカルボニル基である。
ル基、ｂ）芳香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキ
ル基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換さ
れたアリール基、ｃ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０
のアルキル基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基
で置換されたアラルキル基、ｄ）アルキルまたはアリー
ルオキシカルボニル基のいずれかを表し、Ｒは、ｅ）炭
素数１〜１０のアルキル基またはアルコキシ基、ｆ）芳
香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキル基、あるい
は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたアリール
基、ｇ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０のアルキル
基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ｈ）アルキルまたはアリールオキシカ
ルボニル基のいずれかを表し、ｎは０〜４のいずれかで
ある。）式中Ｘの置換基の具体例としては、メチル基、
エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチ
ル基、２−ブチル基、イソブチル基、ｔ−ブチル基など
に代表されるアルキル基、フェニル基、ｏ−トルイル
基、ｍ−トルイル基、ｐ−トルイル基、ｏ−エチルフェ
ニル基、ｍ−エチルフェニル基、ｏ−メトキシフェニル
基、ｍ−エトキシフェニル基、ｐ−（ｎ−ブトキシ）フ
ェニル基などに代表されるアリール基、ベンジル基、ｏ
−メチルフェニルメチル基、ｍ−エチルフェニルメチル
基、ｐ−ｎ−プロピルフェニルメチル基、ｏ−メトキシ
フェニルメチル基、ｍ−エトキシフェニルメチル基、ｐ
−ｔ−ブトキシフェニルメチル基などに代表されるアラ
ルキル基、メトキシカルボニル基、エトキシカルボニル
基、ｎ−プロポキシカルボニル基、ｔ−ブトキシカルボ
ニル基、フェノキシカルボニル基、ｏ−メチルフェノキ
シカルボニル基、ｍ−エチルフェノキシカルボニル基、
ベンジルオキシカルボニル基などに代表されるアルキル
またはアリールオキシカルボニル基などを挙げることが
できるが、好ましくはアリール基、アラルキル基、アル
キルまたはアリールオキシカルボニル基であり、さらに
好ましくはアラルキル基、アルキルまたはアリールオキ
シカルボニル基である。
【００２１】ピロリン誘導体の具体例として、１−ベン
ジル−２−ピロリン、１−ベンジル−３−ピロリン、１
−ベンジルオキシカルボニル−２−ピロリン、１−ベン
ジルオキシカルボニル−３−ピロリン、１−メチル−３
−ピロリン、１−n−ブチル−２−ピロリン、２，５−
ジフェニル−３−ピロリン、１−ベンジル−２−メトキ
シ−２−ピロリン、１−ベンジル−２−メトキシ−３−
ピロリン、１−フェニル−２−メチル−３−ピロリン、
１−ｔ−ブトキシカルボニル−３−フェニル−３−ピロ
リン等を挙げることができる。
ジル−２−ピロリン、１−ベンジル−３−ピロリン、１
−ベンジルオキシカルボニル−２−ピロリン、１−ベン
ジルオキシカルボニル−３−ピロリン、１−メチル−３
−ピロリン、１−n−ブチル−２−ピロリン、２，５−
ジフェニル−３−ピロリン、１−ベンジル−２−メトキ
シ−２−ピロリン、１−ベンジル−２−メトキシ−３−
ピロリン、１−フェニル−２−メチル−３−ピロリン、
１−ｔ−ブトキシカルボニル−３−フェニル−３−ピロ
リン等を挙げることができる。
【００２２】また、テトラヒドロピリジン誘導体の具体
的例として、１−ベンジル−１，２，３，６−テトラヒ
ドロピリジン、１−ベンジルオキシカルボニル−２−メ
チル−１，２，３，４−テトラヒドロピリジン、１−メ
チル−２，３−ジメトキシ−１，２，３，６−テトラヒ
ドロピリジン、１−メチル−２，３−ジメトキシ−１，
２，３，４−テトラヒドロピリジン、１−ｔ−ブトキシ
カルボニル−１，２，３，４−テトラヒドロピリジン、
１−ｔ−ブトキシカルボニル−１，２，３，６−テトラ
ヒドロピリジン等を挙げることができる。
的例として、１−ベンジル−１，２，３，６−テトラヒ
ドロピリジン、１−ベンジルオキシカルボニル−２−メ
チル−１，２，３，４−テトラヒドロピリジン、１−メ
チル−２，３−ジメトキシ−１，２，３，６−テトラヒ
ドロピリジン、１−メチル−２，３−ジメトキシ−１，
２，３，４−テトラヒドロピリジン、１−ｔ−ブトキシ
カルボニル−１，２，３，４−テトラヒドロピリジン、
１−ｔ−ブトキシカルボニル−１，２，３，６−テトラ
ヒドロピリジン等を挙げることができる。
【００２３】これらの含窒素環状オレフィンを反応させ
るに際し、含窒素環状オレフィンに含まれる含窒素環状
オレフィンの脱水素化物または一般式（Ｖ）で表される
アミン化合物の総重量が反応収率に影響を及ぼす。
るに際し、含窒素環状オレフィンに含まれる含窒素環状
オレフィンの脱水素化物または一般式（Ｖ）で表される
アミン化合物の総重量が反応収率に影響を及ぼす。
【００２４】この原因は、含窒素環状オレフィンの脱水
素化物および一般式（Ｖ）で表されるアミン化合物の窒
素原子が、前記（１）工程において発生した反応活性種
を失活させるためと考えられる。
素化物および一般式（Ｖ）で表されるアミン化合物の窒
素原子が、前記（１）工程において発生した反応活性種
を失活させるためと考えられる。
【００２５】含窒素環状オレフィンの脱水素化物は、主
に環構成原子間の脱水素により生成し、ピロール化合
物、ジヒドロピリジン誘導体、ピリジン誘導体を挙げる
ことができる。
に環構成原子間の脱水素により生成し、ピロール化合
物、ジヒドロピリジン誘導体、ピリジン誘導体を挙げる
ことができる。
【００２６】ピロール誘導体の具体的例として、１−ベ
ンジルピロール、１−メチルピロール、１−フェニル−
２−メチルピロール、１−ベンジルオキシカルボニル−
２−フェニルピロール、１−ｔ−ブトキシカルボニル−
２，３−ジメチルピロール、１，２，３−トリエチルピ
ロール、１，２−ジベンジル−３−メトキシピロール等
を挙げることができる。
ンジルピロール、１−メチルピロール、１−フェニル−
２−メチルピロール、１−ベンジルオキシカルボニル−
２−フェニルピロール、１−ｔ−ブトキシカルボニル−
２，３−ジメチルピロール、１，２，３−トリエチルピ
ロール、１，２−ジベンジル−３−メトキシピロール等
を挙げることができる。
【００２７】また、ジヒドロピリジン誘導体の具体的例
として、１−ベンジル−２，３−ジヒドロピリジン、１
−ベンジル−３，４−ジヒドロピリジン、１−フェニル
−２，３−ジヒドロピリジン、１−ベンジルオキシカル
ボニル−２，３−ジヒドロピリジン、１−ｔ−ブトキシ
カルボニル−３，４−ジヒドロピリジンなどを挙げるこ
とができ、さらにピリジン誘導体の具体的例として、２
−メチルピリジン、３−メチルピリジン、２，３−ジメ
チルピリジン、２−フェニルピリジン、３−メトキシピ
リジン、２，３，４−トリエチルピリジン等を挙げるこ
とができる。
として、１−ベンジル−２，３−ジヒドロピリジン、１
−ベンジル−３，４−ジヒドロピリジン、１−フェニル
−２，３−ジヒドロピリジン、１−ベンジルオキシカル
ボニル−２，３−ジヒドロピリジン、１−ｔ−ブトキシ
カルボニル−３，４−ジヒドロピリジンなどを挙げるこ
とができ、さらにピリジン誘導体の具体的例として、２
−メチルピリジン、３−メチルピリジン、２，３−ジメ
チルピリジン、２−フェニルピリジン、３−メトキシピ
リジン、２，３，４−トリエチルピリジン等を挙げるこ
とができる。
【００２８】Ｘ−ＮＨ2 ・・・（Ｖ）
（式中Ｘは、ａ）炭素数１〜１０のアルキル基、ｂ）芳
香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキル基、あるい
は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたアリール
基、ｃ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０のアルキル
基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ｄ）アルキルまたはアリールオキシカ
ルボニル基のいずれかを表す。） ここで用いる含窒素環状オレフィンは、一般式（Ｖ）で
表されるアミン化合物から合成する方法が有利であり、
その場合原料が残存することが予想される。このアミン
化合物が上記（１）および（２）工程に共存した場合、
得られる光学活性環状アルコールの収率が低下する。
香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキル基、あるい
は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたアリール
基、ｃ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０のアルキル
基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ｄ）アルキルまたはアリールオキシカ
ルボニル基のいずれかを表す。） ここで用いる含窒素環状オレフィンは、一般式（Ｖ）で
表されるアミン化合物から合成する方法が有利であり、
その場合原料が残存することが予想される。このアミン
化合物が上記（１）および（２）工程に共存した場合、
得られる光学活性環状アルコールの収率が低下する。
【００２９】含窒素環状オレフィンの脱水素化物および
前記一般式（Ｖ）で表されるアミン化合物の総重量とし
て含窒素環状オレフィンに対して５重量％以下にする方
法としては、、含窒素環状オレフィン中の該アミン不純
物は、酸性水溶液を用いて洗浄する方法が採用できる。
前記一般式（Ｖ）で表されるアミン化合物の総重量とし
て含窒素環状オレフィンに対して５重量％以下にする方
法としては、、含窒素環状オレフィン中の該アミン不純
物は、酸性水溶液を用いて洗浄する方法が採用できる。
【００３０】不純物量を求める具体的な方法としては、
光学活性環状アルコールの反応収率等を算出する場合と
同様のＧＣによる分析方法を採用することができる。
光学活性環状アルコールの反応収率等を算出する場合と
同様のＧＣによる分析方法を採用することができる。
【００３１】この際、含窒素環状オレフィンは有機溶媒
に溶解した状態で用いるのが良い。有機溶媒は水に不溶
のものを用いるのが好ましいが、酸性水溶液中に無機塩
が存在して塩析効果におり分液する場合には水溶性のも
のを用いることができる。有機溶媒の具体例として、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳
香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類な
どを挙げることができる。
に溶解した状態で用いるのが良い。有機溶媒は水に不溶
のものを用いるのが好ましいが、酸性水溶液中に無機塩
が存在して塩析効果におり分液する場合には水溶性のも
のを用いることができる。有機溶媒の具体例として、ベ
ンゼン、トルエン、キシレン、エチルベンゼンなどの芳
香族炭化水素類、ジエチルエーテル、ジイソプロピルエ
ーテル、メチル−ｔ−ブチルエーテル、テトラヒドロフ
ラン、１，４−ジオキサンなどのエーテル類、メチルエ
チルケトン、メチルイソブチルケトンなどのケトン類な
どを挙げることができる。
【００３２】また、酸性水溶液としては、一般には塩
酸、硫酸、リン酸などの鉱酸の水溶液を表し、濃度に特
に制限はなく、また水溶液中に含まれる塩化ナトリウム
や硫酸ナトリウムのような塩の量にも制限はなく、塩が
析出した状態で洗浄処理を実施することもできる。
酸、硫酸、リン酸などの鉱酸の水溶液を表し、濃度に特
に制限はなく、また水溶液中に含まれる塩化ナトリウム
や硫酸ナトリウムのような塩の量にも制限はなく、塩が
析出した状態で洗浄処理を実施することもできる。
【００３３】こうした処理は、含窒素環状オレフィン中
の上記（Ｖ）式のアミン化合物含有量を低減させること
ができ有効な方法である。
の上記（Ｖ）式のアミン化合物含有量を低減させること
ができ有効な方法である。
【００３４】一方、上記（Ｖ）式のアミン化合物含有量
を削減した場合においても、空気中に保管していると含
窒素環状オレフィンが酸素により脱水素化されることが
知られている。例えば、五員環状含窒素環状オレフィン
の例は、特開２００１−２７８８５７号公報に詳細に記
載されている。不活性ガスは、各種のものを用いること
ができ、具体例として、窒素、アルゴン、ヘリウムなど
を挙げることができる。ここで生じた脱水素化物は、減
圧蒸留により高沸留分として除去することができる。
を削減した場合においても、空気中に保管していると含
窒素環状オレフィンが酸素により脱水素化されることが
知られている。例えば、五員環状含窒素環状オレフィン
の例は、特開２００１−２７８８５７号公報に詳細に記
載されている。不活性ガスは、各種のものを用いること
ができ、具体例として、窒素、アルゴン、ヘリウムなど
を挙げることができる。ここで生じた脱水素化物は、減
圧蒸留により高沸留分として除去することができる。
【００３５】したがって、含窒素環状オレフィン中の上
記（Ｖ）式のアミン化合物を除去する処理を実施した後
においても、不活性ガス雰囲気下で保管することが好ま
しい。
記（Ｖ）式のアミン化合物を除去する処理を実施した後
においても、不活性ガス雰囲気下で保管することが好ま
しい。
【００３６】本発明で用いる酸化剤の具体的例として、
過酸化水素、過安息香酸、過酢酸、酸素などを挙げるこ
とができ、好ましくは過酸化水素、過安息香酸、過酢酸
であり、さらに好ましくは過酸化水素である。
過酸化水素、過安息香酸、過酢酸、酸素などを挙げるこ
とができ、好ましくは過酸化水素、過安息香酸、過酢酸
であり、さらに好ましくは過酸化水素である。
【００３７】本発明では、前記（１）の工程において、
溶媒を用いる場合は、具体例として、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロピラン、モノグライム、ジグライム、
ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシメタ
ン、ジエトキシエタン、ジエチルエーテル、イソプロピ
ルエーテル、ジブチルエーテル、メチル−tert−ブチル
エーテル、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサンな
どの脂肪族エーテル、アニソール、エトキシベンゼン、
１，４−ジメトキシベンゼンなどの芳香族エーテル、ベ
ンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−
キシレン、１，３，５−トリメチルベンゼン、エチルベ
ンゼン、シクロヘキサンなどの炭化水素、クロロホル
ム、ジクロロメタン、四塩化炭素などのハロゲン化炭化
水素などを挙げることができる。好ましくは、脂肪族エ
ーテル、芳香族エーテルであり、さらに好ましくは、脂
肪族エーテルである。
溶媒を用いる場合は、具体例として、テトラヒドロフラ
ン、テトラヒドロピラン、モノグライム、ジグライム、
ジメトキシメタン、ジメトキシエタン、ジエトキシメタ
ン、ジエトキシエタン、ジエチルエーテル、イソプロピ
ルエーテル、ジブチルエーテル、メチル−tert−ブチル
エーテル、１，４−ジオキサン、１，３−ジオキサンな
どの脂肪族エーテル、アニソール、エトキシベンゼン、
１，４−ジメトキシベンゼンなどの芳香族エーテル、ベ
ンゼン、トルエン、ｏ−キシレン、ｍ−キシレン、ｐ−
キシレン、１，３，５−トリメチルベンゼン、エチルベ
ンゼン、シクロヘキサンなどの炭化水素、クロロホル
ム、ジクロロメタン、四塩化炭素などのハロゲン化炭化
水素などを挙げることができる。好ましくは、脂肪族エ
ーテル、芳香族エーテルであり、さらに好ましくは、脂
肪族エーテルである。
【００３８】反応溶媒の使用量は、一般にはα−ピネ
ン、水素化ホウ素ナトリウムおよびハロゲン化ホウ素の
総和としての濃度が５〜８０重量％の範囲となるように
するのが良い。好ましくは、１０〜６０重量％であり、
さらに好ましくは２０〜５０重量％である。この範囲で
あれば、反応液が溶液、スラリーいずれの場合も操作上
の問題が無く、工業的な生産への適用が可能である。
ン、水素化ホウ素ナトリウムおよびハロゲン化ホウ素の
総和としての濃度が５〜８０重量％の範囲となるように
するのが良い。好ましくは、１０〜６０重量％であり、
さらに好ましくは２０〜５０重量％である。この範囲で
あれば、反応液が溶液、スラリーいずれの場合も操作上
の問題が無く、工業的な生産への適用が可能である。
【００３９】また、α−ピネン、水素化ホウ素ナトリウ
ムおよびハロゲン化ホウ素を混合する場合、水素化ホウ
素ナトリウムの使用量は、通常、α−ピネンに対して
０．１〜１．０モル倍であるが、好ましくは０．１〜
０．６モル倍であり、さらに好ましくは０．１〜０．５
モル倍である。一方、ハロゲン化ホウ素の使用量は、通
常、α−ピネンに対して０．１〜１．０モル倍である
が、好ましくは０．２〜０．８モル倍であり、さらに好
ましくは０．２〜０．６モル倍である。
ムおよびハロゲン化ホウ素を混合する場合、水素化ホウ
素ナトリウムの使用量は、通常、α−ピネンに対して
０．１〜１．０モル倍であるが、好ましくは０．１〜
０．６モル倍であり、さらに好ましくは０．１〜０．５
モル倍である。一方、ハロゲン化ホウ素の使用量は、通
常、α−ピネンに対して０．１〜１．０モル倍である
が、好ましくは０．２〜０．８モル倍であり、さらに好
ましくは０．２〜０．６モル倍である。
【００４０】また、該工程の反応温度は、特に制限され
るものではないが、−８０〜８０℃が好ましく、さらに
好ましくは−５０〜５０℃、特に好ましくは−２５〜３
０℃である。この範囲内であれば、工業的な生産への適
用が可能である。
るものではないが、−８０〜８０℃が好ましく、さらに
好ましくは−５０〜５０℃、特に好ましくは−２５〜３
０℃である。この範囲内であれば、工業的な生産への適
用が可能である。
【００４１】前記（２）の工程において、前記（１）の
工程において得られた反応液と酸化剤を反応させる工程
は、一般的に公知の方法（ジャーナル・オブ・オルガニ
ック・ケミストリー．，４７，５０７４（１９８２））
に従って実施することができる。つまり、水酸化ナトリ
ウム水溶液などのアルカリ性溶液により反応液をアルカ
リ性にした後、過酸化水素水などの酸化剤を添加する方
法である。ここで用いる酸化剤は過酸化水素水の他にも
過安息香酸、過酢酸、酸素などを用いることができる。
工程において得られた反応液と酸化剤を反応させる工程
は、一般的に公知の方法（ジャーナル・オブ・オルガニ
ック・ケミストリー．，４７，５０７４（１９８２））
に従って実施することができる。つまり、水酸化ナトリ
ウム水溶液などのアルカリ性溶液により反応液をアルカ
リ性にした後、過酸化水素水などの酸化剤を添加する方
法である。ここで用いる酸化剤は過酸化水素水の他にも
過安息香酸、過酢酸、酸素などを用いることができる。
【００４２】酸化剤を反応させる工程では、含窒素環状
オレフィンを添加して得られた反応液をアルカリ性にし
た後、酸化剤を添加するのが好ましく、具体的には、ｐ
Ｈ値が７より大きく、さらに好ましくは８以上である。
オレフィンを添加して得られた反応液をアルカリ性にし
た後、酸化剤を添加するのが好ましく、具体的には、ｐ
Ｈ値が７より大きく、さらに好ましくは８以上である。
【００４３】さらに、酸化剤を反応させる工程で使用す
る酸化剤の使用量は、水素化ホウ素ナトリウムに対して
１〜１０モル倍の範囲が良く、好ましくは２〜７モル倍
の範囲であり、さらに好ましくは３〜５モル倍の範囲で
ある。この範囲であれば、経済的に、効率よく光学活性
アルコールを得ることができる。
る酸化剤の使用量は、水素化ホウ素ナトリウムに対して
１〜１０モル倍の範囲が良く、好ましくは２〜７モル倍
の範囲であり、さらに好ましくは３〜５モル倍の範囲で
ある。この範囲であれば、経済的に、効率よく光学活性
アルコールを得ることができる。
【００４４】酸化剤を反応させる工程の反応温度に特に
制限はなく、一般には、−２５〜８０℃の範囲で実施す
るのがよい。
制限はなく、一般には、−２５〜８０℃の範囲で実施す
るのがよい。
【００４５】また、反応系は、空気中、窒素、ヘリウム
あるいはアルゴンなどの不活性ガス雰囲気で行うことが
できるが、好ましくは不活性雰囲気である。
あるいはアルゴンなどの不活性ガス雰囲気で行うことが
できるが、好ましくは不活性雰囲気である。
【００４６】α−ピネン、水素化ホウ素ナトリウム及び
活性化剤の混合液に含窒素環状オレフィンを添加する工
程において、含窒素環状オレフィン中の特定の不純物含
有量を規定することにより、安価な原料を用いて、安
全、簡便、且つ高収率で光学活性ピロリジノールまたは
光学活性ピペリジノールの製造できる。
活性化剤の混合液に含窒素環状オレフィンを添加する工
程において、含窒素環状オレフィン中の特定の不純物含
有量を規定することにより、安価な原料を用いて、安
全、簡便、且つ高収率で光学活性ピロリジノールまたは
光学活性ピペリジノールの製造できる。
【００４７】
【実施例】以下に、実施例により本発明をさらに詳細に
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
ただし、下記に例示した反応は全て、窒素雰囲気下で実
施した。
説明するが、本発明はこれに限定されるものではない。
ただし、下記に例示した反応は全て、窒素雰囲気下で実
施した。
【００４８】なお、生成した光学活性環状アルコールの
反応収率は、以下に記載した分析条件によるガスクロマ
トグラフィーを用いて算出した。
反応収率は、以下に記載した分析条件によるガスクロマ
トグラフィーを用いて算出した。
【００４９】
機種 島津ＧＣ−１４Ｂ
カラム Unisole 10T+KOH(10+3)%／Uniport HP ３．２mm×１．０ｍ
キャリアー ヘリウム
注入圧 ７０kPa／cm2
カラム温度 ５０℃（２分）−（２０℃/分昇温）−１４０℃（２分）−（２
０℃/分）−２２０℃（２．５分）
インジェクション温度 ２３０℃
検出器温度 ２３０℃
検出方法 ＦＩＤ
サンプル調製方法 酸化前の反応液は、酸化処理を実施
してから分析に使用。
してから分析に使用。
【００５０】また、得られた光学活性環状アルコールの
光学純度の測定は、液体クロマトグラフィーにより行
い、Ｒ−体ピークとＳ−体ピークの面積比から算出し
た。Ｒ体が選択的に生成する場合は、次式にしたがって
算出される。
光学純度の測定は、液体クロマトグラフィーにより行
い、Ｒ−体ピークとＳ−体ピークの面積比から算出し
た。Ｒ体が選択的に生成する場合は、次式にしたがって
算出される。
【００５１】光学純度（％ｅｅ．）＝（Ｒ体ピークの面
積値−Ｓ体ピークの面積値）／（Ｒ体ピークの面積値＋
Ｓ体ピークの面積値）×１００ 分析条件は以下の通りである。
積値−Ｓ体ピークの面積値）／（Ｒ体ピークの面積値＋
Ｓ体ピークの面積値）×１００ 分析条件は以下の通りである。
【００５２】
機種 島津ＬＣ−１０Ｖｐ
カラム CAPCELLPAK C18 ，４．６mm×２５cm （資生堂）
移動相 ０．０３％アンモニア水（酢酸でｐＨ４．５に調製）／アセトニト
リル＝４８／５２（ｖ／ｖ）
流量 １．０ｍｌ／ｍｉｎ
温度 ４０℃
検出器 ＵＶ（２４３ｎｍ）
サンプル調製 光学活性アルコールをジ−ｏ−トルオイ
ル−Ｄ−酒石酸無水物によりジアステレオマーに誘導化
した後、分析に使用する。
ル−Ｄ−酒石酸無水物によりジアステレオマーに誘導化
した後、分析に使用する。
【００５３】実施例１
予め真空脱気後、窒素置換した、滴下ロート、コンデン
サー、攪拌機の付いた、１Ｌ丸底フラスコに未乾燥のテ
トラヒドロフラン７２ｇ、α−ピネン（光学純度８４％
ｅｅ．）２８．０ｇ（＝０．２０６ｍｏｌ）を入れ混合
した。この中に水素化ホウ素ナトリウム２．８５ｇ（＝
０．０７５３ｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した。そのス
ラリーに、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体１
４．３ｇ（＝０．１０１ｍｏｌ）を０．５時間かけて添
加した後、０〜１７℃の温度で１２時間熟成した。次
に、この反応液にＮ−ベンジル−３−ピロリン８．１５
ｇ（不純物として、ベンジルアミン＝１．０重量％，ベ
ンジルピロール＝２．１重量％を含む）（＝０．０４９
３ｍｏｌ）を、反応液の温度が０〜５℃になるように調
整しながら滴下し、７時間反応させた。
サー、攪拌機の付いた、１Ｌ丸底フラスコに未乾燥のテ
トラヒドロフラン７２ｇ、α−ピネン（光学純度８４％
ｅｅ．）２８．０ｇ（＝０．２０６ｍｏｌ）を入れ混合
した。この中に水素化ホウ素ナトリウム２．８５ｇ（＝
０．０７５３ｍｏｌ）を加え、０℃に冷却した。そのス
ラリーに、三フッ化ホウ素・ジエチルエーテル錯体１
４．３ｇ（＝０．１０１ｍｏｌ）を０．５時間かけて添
加した後、０〜１７℃の温度で１２時間熟成した。次
に、この反応液にＮ−ベンジル−３−ピロリン８．１５
ｇ（不純物として、ベンジルアミン＝１．０重量％，ベ
ンジルピロール＝２．１重量％を含む）（＝０．０４９
３ｍｏｌ）を、反応液の温度が０〜５℃になるように調
整しながら滴下し、７時間反応させた。
【００５４】その反応液を分析した結果、Ｎ−ベンジル
−３−ピロリジノール収率は９３％（対Ｎ−ベンジルピ
ロリン）で、光学純度は８３％ｅｅ．であった。
−３−ピロリジノール収率は９３％（対Ｎ−ベンジルピ
ロリン）で、光学純度は８３％ｅｅ．であった。
【００５５】比較例１
実施例１において、Ｎ−ベンジル−３−ピロリン（不純
物として、ベンジルアミン＝１．０重量％，ベンジルピ
ロール＝２．１重量％を含む）をＮ−ベンジル−３−ピ
ロリン（不純物として、ベンジルアミン＝６．３重量
％，ベンジルピロール＝１．９重量％を含む）に変える
以外は実施例１と同様に実験を行った。
物として、ベンジルアミン＝１．０重量％，ベンジルピ
ロール＝２．１重量％を含む）をＮ−ベンジル−３−ピ
ロリン（不純物として、ベンジルアミン＝６．３重量
％，ベンジルピロール＝１．９重量％を含む）に変える
以外は実施例１と同様に実験を行った。
【００５６】その反応液を分析した結果、Ｎ−ベンジル
−３−ピロリジノール収率は８６％（対Ｎ−ベンジルピ
ロリン）で、光学純度は８３％ｅｅ．であった。
−３−ピロリジノール収率は８６％（対Ｎ−ベンジルピ
ロリン）で、光学純度は８３％ｅｅ．であった。
【００５７】比較例２
実施例１において、Ｎ−ベンジル−３−ピロリン（不純
物として、ベンジルアミン＝１．０重量％，ベンジルピ
ロール＝２．１重量％を含む）をＮ−ベンジル−３−ピ
ロリン（不純物として、ベンジルアミン＝１．１重量
％，ベンジルピロール＝５．７重量％を含む）に変える
以外は実施例１と同様に実験を行った。
物として、ベンジルアミン＝１．０重量％，ベンジルピ
ロール＝２．１重量％を含む）をＮ−ベンジル−３−ピ
ロリン（不純物として、ベンジルアミン＝１．１重量
％，ベンジルピロール＝５．７重量％を含む）に変える
以外は実施例１と同様に実験を行った。
【００５８】その反応液を分析した結果、Ｎ−ベンジル
−３−ピロリジノール収率は８７％（対Ｎ−ベンジルピ
ロリン）であった。
−３−ピロリジノール収率は８７％（対Ｎ−ベンジルピ
ロリン）であった。
【００５９】実施例２
比較例１において使用したものと同等のＮ−ベンジル−
３−ピロリン（不純物として、ベンジルアミン＝６．３
重量％，ベンジルピロール＝１．９重量％を含む）１０
ｇをトルエン２０ｇと水１０ｍｌに溶解し、１Ｎ塩酸水
４ｍｌ（＝４．００ｍｍｏｌ，１ｅｑ．／対ベンジルア
ミン）を加えて室温で攪拌した。トルエン層を濃縮後、
５段の精留塔を装着した装置を用いた減圧蒸留（０．７
ｋＰａ、１２０℃）によりＮ−ベンジルピロリンを単離
した。ＧＣ分析の結果、アミン不純物含有量は、ベンジ
ルアミン＝０．９重量％、ベンジルピロール＝１．６重
量％であった。
３−ピロリン（不純物として、ベンジルアミン＝６．３
重量％，ベンジルピロール＝１．９重量％を含む）１０
ｇをトルエン２０ｇと水１０ｍｌに溶解し、１Ｎ塩酸水
４ｍｌ（＝４．００ｍｍｏｌ，１ｅｑ．／対ベンジルア
ミン）を加えて室温で攪拌した。トルエン層を濃縮後、
５段の精留塔を装着した装置を用いた減圧蒸留（０．７
ｋＰａ、１２０℃）によりＮ−ベンジルピロリンを単離
した。ＧＣ分析の結果、アミン不純物含有量は、ベンジ
ルアミン＝０．９重量％、ベンジルピロール＝１．６重
量％であった。
【００６０】こうして得たＮ−ベンジル−３−ピロリン
を用いた以外は実施例１と同様にして反応を行った。そ
の反応液を分析した結果、Ｎ−ベンジル−３−ピロリジ
ノール収率は９４％（対Ｎ−ベンジルピロリン）で、光
学純度は８３％ｅｅ．であった。
を用いた以外は実施例１と同様にして反応を行った。そ
の反応液を分析した結果、Ｎ−ベンジル−３−ピロリジ
ノール収率は９４％（対Ｎ−ベンジルピロリン）で、光
学純度は８３％ｅｅ．であった。
【００６１】実施例３
比較例２において使用したものと同等のＮ−ベンジル−
３−ピロリン（不純物として、ベンジルアミン＝１．１
重量％，ベンジルピロール＝５．７重量％を含む）１５
ｇを減圧下、蒸留により精製し、１１５℃／１．３ｋＰ
ａ〜１２０℃／０．７ｋＰａの留分を取得した。
３−ピロリン（不純物として、ベンジルアミン＝１．１
重量％，ベンジルピロール＝５．７重量％を含む）１５
ｇを減圧下、蒸留により精製し、１１５℃／１．３ｋＰ
ａ〜１２０℃／０．７ｋＰａの留分を取得した。
【００６２】ＧＣ分析の結果、アミン不純物含有量は、
ベンジルアミン＝０．６重量％、ベンジルピロール＝
２．３重量％であった。
ベンジルアミン＝０．６重量％、ベンジルピロール＝
２．３重量％であった。
【００６３】こうして得たＮ−ベンジル−３−ピロリン
を用いた以外は実施例１と同様にして反応を行った。そ
の反応液を分析した結果、Ｎ−ベンジル−３−ピロリジ
ノール収率は９３％（対Ｎ−ベンジルピロリン）で、光
学純度は８３％ｅｅ．であった。
を用いた以外は実施例１と同様にして反応を行った。そ
の反応液を分析した結果、Ｎ−ベンジル−３−ピロリジ
ノール収率は９３％（対Ｎ−ベンジルピロリン）で、光
学純度は８３％ｅｅ．であった。
【００６４】
【発明の効果】本発明によれば、α−ピネン、水素化ホ
ウ素ナトリウム及び活性化剤の混合液に含窒素環状オレ
フィンを添加する工程において、含窒素環状オレフィン
中の特定の不純物含有量を規定することにより、安価な
原料を用いて、安全、簡便、且つ高収率で光学活性ピロ
リジノールまたは光学活性ピペリジノールを製造でき
る。
ウ素ナトリウム及び活性化剤の混合液に含窒素環状オレ
フィンを添加する工程において、含窒素環状オレフィン
中の特定の不純物含有量を規定することにより、安価な
原料を用いて、安全、簡便、且つ高収率で光学活性ピロ
リジノールまたは光学活性ピペリジノールを製造でき
る。
Claims (3)
- 【請求項１】（１）α−ピネン、水素化ホウ素ナトリウ
ム及び活性化剤の混合液と、一般式（Ｉ）〜（IV） 【化１】 のいずれかで表される含窒素環状オレフィンを反応させ
る工程、（２）前記（１）の工程で得られた反応液を酸
化剤と反応させる工程からなる光学活性ピロリジノー
ル、または光学活性ピペリジノールの製造方法におい
て、含窒素環状オレフィンに含まれる、含窒素環状オレ
フィンの脱水素化物および一般式（Ｖ） Ｘ−ＮＨ2 ・・・（Ｖ） （式中Ｘは、ａ）炭素数１〜１０のアルキル基、ｂ）芳
香環が、無置換、炭素数１〜１０のアルキル基、あるい
は炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換されたアリール
基、ｃ)芳香環が無置換、炭素数１〜１０のアルキル
基、あるいは炭素数１〜１０のアルコキシ基で置換され
たアラルキル基、ｄ）アルキルまたはアリールオキシカ
ルボニル基のいずれかを表す。）で表されるアミン化合
物の総重量が含窒素環状オレフィンに対して５重量％以
下であることを特徴とする光学活性環状アルコールの製
造方法。 - 【請求項２】含窒素環状オレフィンの脱水素化物がピロ
ール誘導体またはピリジン誘導体であることを特徴とす
る請求項１記載の光学活性環状アルコールの製造方法。 - 【請求項３】活性化剤が、ハロゲン化ホウ素または鉱酸
であることを特徴とする請求項１または２記載の光学活
性環状アルコールの製造方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002090162A JP2003286254A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 光学活性環状アルコールの製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002090162A JP2003286254A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 光学活性環状アルコールの製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003286254A true JP2003286254A (ja) | 2003-10-10 |
Family
ID=29235526
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002090162A Pending JP2003286254A (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | 光学活性環状アルコールの製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003286254A (ja) |
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008037810A (ja) * | 2006-08-08 | 2008-02-21 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 光学活性環状アミノアルコールの製造法 |
-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002090162A patent/JP2003286254A/ja active Pending
Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2008037810A (ja) * | 2006-08-08 | 2008-02-21 | Toray Fine Chemicals Co Ltd | 光学活性環状アミノアルコールの製造法 |
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