JP2003286228A - ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法、および、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法 - Google Patents
ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法、および、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方法Info
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Abstract
の高沸点不純物の含有量が少ない製品が得られるヒドロ
キシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法、およ
び、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製造方
法を提供する。 【解決手段】 本発明のヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレートの精製方法では、高沸点不純物を含むヒドロ
キシアルキル(メタ)アクリレートである供給液を薄膜
蒸発器に送り、主にヒドロキシアルキル(メタ)アクリ
レートを含有する留出液と、高沸点不純物を含有する缶
出液とに分離して前記薄膜蒸発器から取出し、前記缶出
液を前記供給液に混合して再び薄膜蒸発器に送る。
Description
ル(メタ)アクリレートの精製方法に関し、詳しくは、
精製対象のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートよ
りも沸点が高い高沸点不純物を含むヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートを精製する方法に関する。また、
本発明は、この精製方法を利用したヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートの製造方法に関する。
リレートは、触媒の存在下、(メタ)アクリル酸と対応
するアルキレンオキサイドとを反応させて合成し、次い
で蒸留し、その留分として得られる。この際、触媒は蒸
留により分離され、副生物も蒸留により低減される。
アルキル(メタ)アクリレートに(メタ)アクリル酸が
反応したジエステル類や、ヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレートにアルキレンオキサイドが反応したジアル
キレングリコールモノエステル類が生成する。
タ)アクリレートは、比較的沸点が高く、また、重合し
やすい化合物である。そのため、重合を防止する点か
ら、高真空下での単純なフラッシュ蒸留が行われる場合
が多い。その結果、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリ
レートと副生物との分離は、必ずしも十分ではなかっ
た。
こともあり、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
の合成反応において、副生物の生成を抑制する方法が種
々提案されている。例えば、ジエステル類の生成を抑制
する方法として、特開昭57−156437号公報に
は、触媒の有機カルボン酸の第二鉄塩をメタクリル酸に
予め溶解させて得られる触媒溶液を脱水処理した後に反
応に供する方法が開示されている。しかしながら、現在
のところ、副生物、特にジアルキレングリコールモノエ
ステル類の生成を十分に抑制してヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートを合成することは困難である。
ル(メタ)アクリレートは、前述のように、通常の蒸留
装置で合成反応において副生するジアルキレングリコー
ルモノエステル類などの高沸点不純物を低減することは
容易ではなかった。
ジアルキレングリコールモノエステル類などの高沸点不
純物の含有量が少ない製品が得られるヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレートの精製方法、および、ヒドロキ
シアルキル(メタ)アクリレートの製造方法を提供する
ことを目的とする。
明により解決できる。 少なくとも精製対象のヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレートよりも沸点が高い高沸点不純物を含むヒドロ
キシアルキル(メタ)アクリレートを精製する方法であ
って、高沸点不純物を含むヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレートである供給液を薄膜蒸発器に送り、主にヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレートを含有する留出
液と、高沸点不純物を含有する缶出液とに分離して前記
薄膜蒸発器から取出し、前記缶出液を前記供給液に混合
して再び薄膜蒸発器に送るヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレートの精製方法。 前記高沸点不純物が、ジアルキレングリコールモノエ
ステル類である前記のヒドロキシアルキル(メタ)ア
クリレートの精製方法。 前記缶出液を40℃以下に冷却した後、前記供給液に
混合する前記またはのヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレートの精製方法。 精製対象のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
が、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒドロキ
シエチルメタクリレート、2−ヒドロキシプロピルアク
リレートまたは2−ヒドロキシプロピルメタクリレート
である前記〜のいずれかのヒドロキシアルキル(メ
タ)アクリレートの精製方法。 触媒の存在下、(メタ)アクリル酸とアルキレンオキ
サイドとを反応させ、ヒドロキシアルキル(メタ)アク
リレートを合成する反応工程と、反応工程において得ら
れた、副生物の高沸点不純物を含むヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートを前記〜のいずれかの方法に
より精製する精製工程とを有するヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートの製造方法。
精製を行うとともに、薄膜蒸発器から取出した、高沸点
不純物とヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを含
有する缶出液を薄膜蒸発器に送る供給液に混合して再び
薄膜蒸発器に送る。このように缶出液をリサイクルする
ことにより、ジアルキレングリコールモノエステル類な
どの高沸点不純物の含有量が少ない製品が得られる。
く抑えることができる理由は不明であるが、次のように
推測している。
液をそのまま廃棄する場合、廃棄によるロスを少なく
し、所定量のヒドロキシアルキル(メタ)アクリレート
を取得するためには供給液に対する留出液の割合が大き
くなるような操作条件を採らざるを得ない。この場合、
短時間で所定量の留出液を取得することが可能である
が、過酷な操作条件で蒸留することになる。これに対し
本発明の方法では、缶出液が供給液に戻されるため、過
酷な操作条件を採らずとも所定量のヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートを取得できる。このように本発明
では温和な操作条件を採用できることが、不純物を低く
抑えることができる理由であると推測している。
する。なお、図1は本発明の一実施形態を示すものであ
って、本発明を何ら制限するものではない。
用いることができ、例えば、「化学工学便覧改訂第五
版」に記載の流下膜式蒸留装置や遠心式蒸留装置などを
用いることができる。加熱面への液の供給方法、加熱面
の形状なども特に限定されず、公知のものを用いること
ができる。
を含むヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートは、例
えば、適当な触媒や重合防止剤等の存在下、(メタ)ア
クリル酸とアルキレンオキサイドとを反応させて得られ
る2−ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの反応
液である。(メタ)アクリル酸とアルキレンオキサイド
との反応は公知の方法に従って行うことができ、反応条
件は適宜決めればよい。この反応により、ジアルキレン
グリコールモノエステル類などの高沸点不純物が副生す
る。
に触媒や未反応のアルキレンオキサイドの除去等を行っ
てもよい。
物を含むヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートであ
る供給液を、供給液タンク2から供給液ライン4を介し
て薄膜蒸発器1に送る。この供給液には、後述するよう
に、薄膜蒸発器1から取出した缶出液が混合されてい
る。そして、薄膜蒸発器1において、主にヒドロキシア
ルキル(メタ)アクリレートを含有する留出液と、ジア
ルキレングリコールモノエステル類などの高沸点不純物
を含有する缶出液とに分離する。缶出液は、他に、触媒
や重合防止剤、ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレー
トを含有している。
ロキシアルキル(メタ)アクリレートを含有する留出液
は、留出液ライン5を介して留出液タンク3に送る。
缶出液ライン6を介して供給液タンク2に送る。そし
て、供給液タンク2において、缶出液と供給液とを混合
し、この混合液を薄膜蒸発器1に送る。供給液タンク2
には、タンク内の混合液を攪拌するための攪拌装置が設
けられていてもよい。
液タンク2において行っているが、供給液ライン4に缶
出液を戻し、ライン内で缶出液と供給液とを混合して薄
膜蒸発器1に送ることもできる。
置形状や加熱媒体、供給液の物性や組成などに応じて適
宜決めることができる。例えば、伝熱面積3m2の流下
膜式薄膜蒸発器を用い、2−ヒドロキシエチルメタクリ
レート(沸点68℃/0.13kPa)を精製する場
合、缶出液を混合した供給液の供給速度は0.6〜1.
2kg/h、薄膜蒸発器内の圧力は約0.13kPa、
蒸発面の温度は80〜125℃、留出液の留出速度は
0.5〜1.0kg/hとすることができる。
性状や物性、組成により、適宜選択される。ただし、供
給液に対する留出液の割合を小さくしすぎると、操作時
間が長くなる点で好ましくない。また逆に、供給液に対
する留出液の割合を大きくしすぎると、薄膜蒸発器の蒸
発面が乾き、固形物や重合物が生じ、操作が困難とな
る。留出液の割合は、供給液に対して50質量%以上が
好ましく、60質量%以上がさらに好ましい。また、留
出液の割合は、供給液に対して90質量%以下が好まし
く、80質量%以下がさらに好ましい。
た缶出液は、冷却した後、供給液タンク2に送り、供給
液に混合することが好ましい。通常、缶出液は高温(9
0〜130℃程度)であり、その温度のまま供給液と混
合するとヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートが重
合する可能性がある。反応液を精製する場合、通常、缶
出液中には重合防止剤が含まれているが、この場合も、
より確実に重合を防止できる点から、缶出液は冷却した
後、供給液に混合することが好ましい。
却すればよく、具体的には40℃以下に冷却することが
好ましい。冷却する温度の下限は特に規定されないが、
コストや利便性などの点から、20℃以上が好ましい。
を用いることができ、例えば、多管式熱交換器、プレー
ト式熱交換器、二重管式熱交換器などを用いることがで
きる。
留出液タンク3−1、3−2を2個以上設け、留出液が
送られるタンクを切り替えていく構成にすることもでき
る。この場合、最初の留分は次の留分に比べて高沸点不
純物の濃度が低い。
アクリレート、2−ヒドロキシエチルメタクリレート、
2−ヒドロキシプロピルアクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルメタクリレートの合成反応後の精製に適用で
き、特に、2−ヒドロキシエチルアクリレート、2−ヒ
ドロキシエチルメタクリレートの合成反応後の精製に有
効である。
細に説明するが、本発明はこれらの実施例に限定される
ものではない。
2−ヒドロキシエチルメタクリレートと高沸点不純物で
あるジエチレングリコールモノメタクリレートとの混合
液(モデル液)を用いた。また、留出液および缶出液の
組成は、ガスクロマトグラフィーにより分析した。
は、伝熱面積が300cm2のガラス製流下膜式薄膜蒸
発器で、蒸発面の外部をマントルヒーターで加熱できる
構造のものであった。
ヒドロキシエチルメタクリレート(以下、HEMAと略
す)1236質量部とジエチレングリコールモノメタク
リレート(以下、DEGMMAと略す)87質量部とを
混合し、DEGMMAを6.6質量%含有するHEMA
溶液を調製した。
た。
タンク2に入れた。そして、この供給液タンク2から薄
膜蒸発器1に、定量ポンプを用いて、モデル液と缶出液
との混合液(精製開始時はモデル液のみ)を毎時100
質量部で供給した。薄膜蒸発器の蒸発面は外部をマント
ルヒーターで100℃前後に加熱し、薄膜蒸発器内の圧
力は0.13kPaに設定した。この時、留出液の留出
速度は毎時57〜63質量部であった。薄膜蒸発器1に
おいて分離した、主にHEMAを含有する留出液は留出
液タンク3に送った。一方、DEGMMAを含有する缶
出液は、冷媒として15℃の水を流したガラス製リービ
ッヒ冷却管を用いて25〜30℃に冷却した後、すべて
供給液タンク2に送った。そして、供給液タンク2にお
いて、缶出液と供給液タンク内の液とを混合し、この混
合液を薄膜蒸発器1に送った。
約300質量部になるまでモデル液の精製を行った。
7質量部の缶出液に相当する供給液タンク2内の液とを
得た。この留出液のDEGMMA濃度は2.62質量%
であった。
戻さず、別に設けた缶出液タンクに送るようにし、常に
調製したモデル液を薄膜蒸発器1に送るようにした点以
外は実施例1と同様にして供給液タンク2内の液がなく
なるまでモデル液の精製を行った。この時、留出液の留
出速度は毎時65〜70質量部であった。
0質量部の缶出液とを得た。この留出液のDEGMMA
濃度は3.70質量%であった。
2個設け、供給液タンク2内の液量が約300質量部に
なるまで留出液(第一留分)を留出液タンク3−1に送
り、その後に留出液が送られるタンクを切り替え、供給
液タンク2内の液量が約100質量部になるまで留出液
(第二留分)を留出液タンク3−2に送った点以外は実
施例1と同様にしてモデル液の精製を行った。この時、
留出液の留出速度は、第一留分を採取している時は毎時
59〜64質量部、第二留分を採取している時は毎時5
3〜59質量部であった。
98質量部の第二留分と、92質量部の缶出液に相当す
る供給液タンク2内の液とを得た。この留出液のDEG
MMA濃度は、第一留分が2.55質量%、第二留分が
6.77質量%であった。第一留分と第二留分を混合し
た留出液のDEGMMA濃度は2.68質量%であっ
た。
戻さず、別に設けた缶出液タンクに送るようにし、常に
調製したモデル液を薄膜蒸発器1に送るようにした点
と、実施例2の第一留分と第二留分の合計量の相当する
留出液を取得できるように加熱を調節した点以外は実施
例1と同様にして供給液タンク2内の液がなくなるまで
モデル液の精製を行った。この時、留出液の留出速度は
毎時90〜97質量部であった。
質量部の缶出液とを得た。この留出液のDEGMMA濃
度は5.28質量%であった。また、留出液の速度が早
い段階では、薄膜蒸発器の蒸発面の下部に結晶が析出
し、薄膜蒸発器の運転が一時的に困難となった。
ば、ジアルキレングリコールモノエステル類などの高沸
点不純物の含有量が少ないヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレートが得られる。
ートの精製方法の一例を説明するための図である。
ートの精製方法の一例を説明するための図である。
Claims (5)
- 【請求項1】 少なくとも精製対象のヒドロキシアルキ
ル(メタ)アクリレートよりも沸点が高い高沸点不純物
を含むヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを精製
する方法であって、 高沸点不純物を含むヒドロキシアルキル(メタ)アクリ
レートである供給液を薄膜蒸発器に送り、主にヒドロキ
シアルキル(メタ)アクリレートを含有する留出液と、
高沸点不純物を含有する缶出液とに分離して前記薄膜蒸
発器から取出し、 前記缶出液を前記供給液に混合して再び薄膜蒸発器に送
るヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方
法。 - 【請求項2】 前記高沸点不純物が、ジアルキレングリ
コールモノエステル類である請求項1に記載のヒドロキ
シアルキル(メタ)アクリレートの精製方法。 - 【請求項3】 前記缶出液を40℃以下に冷却した後、
前記供給液に混合する請求項1または2に記載のヒドロ
キシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法。 - 【請求項4】 精製対象のヒドロキシアルキル(メタ)
アクリレートが、2−ヒドロキシエチルアクリレート、
2−ヒドロキシエチルメタクリレート、2−ヒドロキシ
プロピルアクリレートまたは2−ヒドロキシプロピルメ
タクリレートである請求項1〜3のいずれかに記載のヒ
ドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法。 - 【請求項5】 触媒の存在下、(メタ)アクリル酸とア
ルキレンオキサイドとを反応させ、ヒドロキシアルキル
(メタ)アクリレートを合成する反応工程と、 反応工程において得られた、副生物の高沸点不純物を含
むヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートを請求項1
〜3のいずれかに記載の方法により精製する精製工程と
を有するヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの製
造方法。
Priority Applications (1)
Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
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JP2002092023A JP4351827B2 (ja) | 2002-03-28 | 2002-03-28 | ヒドロキシアルキル(メタ)アクリレートの精製方法 |
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Publication Number | Publication Date |
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JP2003286228A5 JP2003286228A5 (ja) | 2005-09-08 |
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ID=29236970
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Country Status (1)
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Cited By (4)
Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
---|---|---|---|---|
JP2011504475A (ja) * | 2007-11-23 | 2011-02-10 | エボニック レーム ゲゼルシャフト ミット ベシュレンクテル ハフツング | 不飽和化合物の精製方法、及び製造装置 |
JP2011121922A (ja) * | 2009-12-14 | 2011-06-23 | Mitsubishi Rayon Co Ltd | モノマー精製品およびその製造方法 |
CN102356059A (zh) * | 2009-03-16 | 2012-02-15 | 赢创罗姆有限公司 | 为纯化而被稳定化的组合物以及纯化和制备(甲基)丙烯酸羟基烷基酯的方法 |
CN110935188A (zh) * | 2019-12-18 | 2020-03-31 | 万华化学集团股份有限公司 | 一种(甲基)丙烯酸羟乙酯粗产品的连续精馏分离方法及装置 |
-
2002
- 2002-03-28 JP JP2002092023A patent/JP4351827B2/ja not_active Expired - Lifetime
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