JP2003270626A - 反射型液晶素子及びその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 より明るい白黒表示を、高分子分散液晶層
（光散乱−光透過）と光透過−光吸収状態の制御可能な
液晶層を積層した構造の液晶素子で可能にすることと、
その層間分離膜（隔壁層）を薄く、生産性が高く、かつ
均質に形成する製造方法を提供する。 【解決手段】 第１の調光層４０は光散乱−光透過変化
を起こす調光層であり、偏光板を使用しないで、明るい
画像表示ができ、視野角が広い、液晶の配向処理が必要
なく製造が容易であり、自己保持性の膜であり耐衝撃等
に優れる、等の長所がある高分子分散型液晶が最適であ
る。第２の調光層４５は光透過−光吸収変化を起こす調
光層であり、偏光板を使用しないで明るい表示ができ、
視野角が広い、等の長所を有するゲスト・ホスト型液晶
が最適である。第２の調光層の外側（第１調光層の反対
側）には、光反射層４９が設置される。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は、反射型液晶素子及
びその製造方法に関するものである。

【０００２】

【従来の技術】携帯端末のディスプレイには、長時間動
作が可能で省電力な反射型の液晶光学素子が多く使用さ
れる。この反射型においては、その画面の明るさが重要
であり、そのために偏光板を用いない、いくつかの方式
が開発されている。特にゲスト・ホスト型もしくは散乱
型が有力である。図７にゲスト・ホスト型の構成例を示
す。一方の透明基板１１に透明電極１２が形成されてお
り、他方の透明基板１５にも対向して透明電極１４が形
成され、この透明電極間にゲスト・ホスト型の液晶が調
光層１３として挟み込まれた構造となっている。光反射
層１６は透明基板１５の外側に形成されているが、もち
ろん、透明基板１５と透明電極１４の間に形成されてい
る例もある。ここで、調光層１３としては、ネマチック
液晶と２色性色素を混合したタイプや、この混合物を高
分子マトリックスに分散させたタイプ等がある。特に数
種類の２色性染料を混合し黒色に調整した場合には、こ
の調光層１３の光透過−光吸収状態の制御で白黒表示が
可能となる。もう一方の散乱型は、図８に示したよう
に、一方の透明基板２１に透明電極２２が形成されてお
り、他方の透明基板２５にも対向して透明電極２４が形
成され、この透明電極間に散乱型の調光層２３として挟
み込まれた構造となっている。さらに、光吸収層２６が
透明基板２５の外側に形成されているが、もちろん、透
明基板２５と透明電極２４の間に形成されている例もあ
る。調光層２３としては、高分子分散型液晶やネマチッ
ク液晶のＤＳＭ方式等がある。この調光層が散乱状態で
あれば、調光層への入射光は後方散乱成分と前方散乱成
分にわかれ、後方散乱性成分は透明基板２１を透過して
外部に出射され、前方散乱成分は光吸収層２６に吸収さ
れるが、外部からは白表示として認識される。調光層が
透明状態であれば、入射光は光吸収層２６に吸収される
ので結果として黒表示が得られる。これにより、調光層
２３の光散乱−光透過状態の制御で白黒表示を実現して
いる。

【０００３】ところで、散乱型で厳密には白黒表示では
ないが、図７の構成の素子も開示されている。これは、
散乱型の調光層１３と光反射層が鏡面反射板であること
を特徴としている。このような構成で調光層が散乱状態
であれば、入射光の前方散乱成分は高率で反射されて調
光層を通過し、後方散乱成分と加わってきわめて明るい
背景の表示外観（白表示）が得られる。これに対して、
調光層が透明状態の場合、入射光は調光層を通過し鏡面
反射板（金属薄膜等）で増幅した反射光として観察者に
達する。この鏡面反射板で輝度増幅された正反射光は、
観察者にとって眩しく見づらいものであり、視認性を損
なうものである。しかし、このような反射型表示装置を
使用する照明環境では、その正反射光の視角範囲が狭い
ため、観察者の視野に入らずに背景に対して黒表示とし
て見える。ただし、このような鏡面反射を利用する素子
では、観察者が入射光の正反射の位置にあるような場合
には、表示の視野角の一部が眩しかったり、表示部の光
強度が強くて表示画像が反転して見えるなどの問題があ
った。以上の正反射光の影響を低減するために、特開平
７−１５９７７６号公報、特開２０００−２８４２６３
公報に、表面構造をコントロールした鏡面反射板に関す
る技術が開示されている。しかしながら、散乱層と鏡面
反射を利用した表示は、背景がきわめて明るい白である
にもかかわらず、黒表示の鏡面への周囲光の写り込み等
があるために表示品位が低下してしまう。

【０００４】実質的に、反射型白黒表示液晶素子として
は、光透過−光吸収型（図７）と光散乱−光透過型（図
８）の２種類に大きく分けることができる。ところが、
光透過−光吸収型（図７）であるゲスト・ホスト型で
は、２色性色素の２色比がその明るさ、コントラストに
影響を与える。実際、十分に大きな２色比を有する染料
がないため、黒表示で十分な黒が得られるように調整さ
れた調光層では、その光透過状態でも光の吸収が生じて
しまい、暗い白表示（グレー表示）となってしまう。ま
た、光散乱−光吸収型（図８）においては、光散乱状態
の調光層への入射光の散乱光（後方散乱）で白表示が得
られるが、液晶により形成される光散乱−光吸収型の調
光層の後方散乱強度は弱く、十分に明るい白表示を得る
ことができない。十分な白表示（もしくはコントラス
ト）が得られない、前記のような反射型白黒表示液晶素
子の課題を克服するため、特開平５−４５６７２号公報
には、光透過−光吸収変化層と光散乱−光透過変化層の
組み合わせによる液晶素子が開示されている。この基本
構成は、図９に示すように光散乱−光透過が制御される
第１の調光層３１と、光透過−光吸収が制御される第２
の調光層３３が透明な層間分離膜３２を介して積層さ
れ、さらに第２の調光層の後ろに光反射層３４を設けた
ことを特徴としている。白黒表示をするためには第１、
２の調光層の状態を、以下のように制御して実現してい
る。 第１調光層３１が散乱状態で、第２調光層３３が透過
状態 第１調光層３１が透過状態で、第２調光層３３が吸収
状態 の状態では、入射光は第１調光層で後方散乱成分とし
て散乱された光と、前方散乱成分が第２調光層を透過し
て光反射層で反射され、再び第１調光層に入射した光の
前方散乱成分の光との和で、白表示が得られる。このた
め、図７、８に示した反射型白黒表示液晶素子よりも明
るい白表示が得られる。また、の状態では第１調光層
を透過した光が、第２調光層で吸収されて黒表示とな
る。この表示の黒は、第２調光層の表示モードに依存す
ることになる。の状態での背景の白は積層型ではない
素子（図７、８）よりも明るいが、それは第２調光層か
らの反射光の強さに依存している。第２調光層による黒
表示のコントラストを高くすることは、背景としての白
の明るさを落としてしまうため、より明るい表示となる
ような素子構造が望まれる。

【０００５】前記従来公報では、第１調光層としては高
分子分散型液晶が、第２調光層としてはネマチック液晶
と２色性色素のゲスト・ホスト型液晶、２周波駆動型液
晶と２色性色素の高分子分散液晶層としたゲスト・ホス
ト型液晶、あるいは誘電率異方性が負のネマチック液晶
と２色性色素の高分子分散型（初期配向を電場もしくは
磁場印加により層内で垂直にした）である。層間分離膜
の作成方法としては、第１、２調光層がいずれも自己保
持性（ｏｒ自立膜）の高分子分散型である場合は、透明
電極を形成した透明基板上にいずれかの調光層を形成
し、その上にポリイミド膜をスピンコートもしくは印刷
等で形成し乾燥させて層間分離膜（膜厚１５０ｎｍ）と
している。また、第２調光層がネマチック液晶と２色性
色素のゲスト・ホスト型液晶のような流動性があり、自
己保持性がない層である場合には一定の層厚を保持する
ために透明基板としてガラス基板を用いている。積層型
液晶素子においては層間分離膜が厚いと視差が発生する
という問題があり、一般的に厚さが０．５〜１．１ｍｍ
のガラス基板を用いるのは好ましくない。しかしなが
ら、層間分離膜が薄い構成にできる第２調光層が高分子
分散型のゲスト・ホストの場合では、この調光層の高分
子マトリックス表面近傍の液晶分子は強い束縛力を受け
ており、ほとんど電場に応答しないために十分なコント
ラストが得にくいという欠点がある。さらに、本従来公
報のように、あらかじめ形成した調光層上に層間分離膜
を形成するために、有機溶剤にポリイミド樹脂を分散さ
せた溶液を塗布する方法では、調光層の膨潤、あるいは
液晶、２色性染料の溶出等を引き起こし、調光層の電気
光学特性を低下させるという問題点を有している。ま
た、積層型の液晶素子において、薄い層間分離膜の形成
方法として特開２０００−１４７４７８公報に、層間分
離膜は剥離基板から転写された導電性膜という名称で開
示されている。実施形態としては、ＩＴＯ（インジウム
チンオキサイド）付きのＰＥＳ（ポリエーテルサルホ
ン）フィルム（厚さ５μｍ）が導電性膜であり、これを
ＰＭＭＡ（ポリメチルメタクリレート）からなる剥離基
板に貼りつけ、ＩＴＯ付きの透明基板（ガラス基板等）
と対向させて液晶層を挟み剥離基板を取り除いて調光層
を形成する。しかしながら、このような薄いＰＥＳフィ
ルムに無機物であるＩＴＯが形成されているような構成
では、その成膜時の残留応力や、加工時の湿度温度に対
する膨張係数の差によるカールにより、ＩＴＯの剥離や
亀裂が発生したり著しく生産性が悪くなる。

【０００６】

【発明が解決しようとする課題】本発明は、かかる課題
に鑑み、上記従来の反射型白黒表示液晶素子において課
題であったより明るい白黒表示を、高分子分散液晶層
（光散乱−光透過）と光透過−光吸収状態の制御可能な
液晶層を積層した構造の液晶素子で可能にすることと、
その層間分離膜（隔壁層）を薄く、生産性が高く、かつ
均質に形成する製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】本発明はかかる課題を解
決するために、請求項１は、外部からの光を反射して表
示する反射型液晶表示素子において、外部電場により光
散乱状態と透明状態が制御可能な高分子マトリックス中
に液晶を分散させた散乱性の第１調光層と、同様に透明
状態と光吸収状態の制御可能な第２調光層とが、それぞ
れの隔壁層を介して積層され、さらに前記第２調光層
の、前記第１調光層とは反対側に光反射層を設け、前記
第１調光層と第２調光層の表示部が重なってドットマト
リックス状になるように各透明電極が形成され、かつ前
記第１調光層の隔壁層上の電極層と絶縁層を介して、非
表示部に対応する部分に鏡面反射層を形成したことを特
徴とする。高分子マトリックス中に液晶を分散させた散
乱性の第１の調光層と、光透過−光吸収状態の制御可能
な液晶層を利用した第２の調光層とが、それぞれの隔壁
層を介して積層され、さらに第２の調光層の、第１調光
層とは反対側に反射層を設けた反射型の液晶素子におい
て、第１、第２調光層の表示部が重なってドットマトリ
ックス状になるように各透明電極が形成され、かつ第１
調光層の隔壁層上の電極層と絶縁層を介して、非表示部
に対応する部分に鏡面反射層を形成することで明るい背
景の反射型素子白黒表示液晶素子を提供することができ
る。かかる発明によれば、本発明の積層構造により明る
い背景の反射型素子白黒表示液晶素子を提供することが
できる。請求項２は、前記第２調光層の液晶層中に２色
性色素が混合されていることも本発明の有効な手段であ
る。かかる技術手段によれば、黒表示の第２調光層をゲ
スト・ホスト型液晶とすることで、コントラストの高
い、偏光板を用いることのない明るい反射型白黒表示液
晶素子を提供することができる。

【０００８】請求項３は、前記第２調光層が低分子量ゲ
ル化剤と液晶材料による物理ゲル状態の液晶ゲル層を利
用した調光層であることも本発明の有効な手段である。
かかる技術手段によれば、黒表示の第２調光層を液晶ゲ
ルを利用した自己保持性の液晶層とすることで、信頼性
の高い積層型の反射型白黒表示液晶素子を提供すること
ができる。請求項４は、前記鏡面反射層がフラット若し
くは滑らかな凹凸の鏡面光沢を有する金属薄膜であるこ
とも本発明の有効な手段である。かかる技術手段によれ
ば、鏡面反射層を反射率の高いフラットもしくはなめら
かな凹凸の鏡面光沢を有する金属薄膜で形成することで
明るい反射型白黒表示液晶素子を提供することができ
る。請求項５は、前記絶縁層が隔壁層と同一材料である
ことも本発明の有効な手段である。かかる技術手段によ
れば、絶縁層と隔壁層が同一材料であり、その界面の接
合が強固で、界面反射による迷光の少ない信頼性に高
い、明るい反射型白黒表示液晶素子を提供することがで
きる。請求項６は、前記第１調光層、及び前記第２調光
層の隔壁層以外の透明電極層を有する基板が、厚み２５
０μｍ以下のプラスチック基板であることも本発明の有
効な手段である。かかる技術手段によれば、第１および
第２調光層の隔壁層以外の透明電極層を有する基板が厚
み２５０μｍ以下のプラスチック基板であり、薄型、軽
量で耐久性の高い積層構造の液晶表示素子を提供するこ
とができる。

【０００９】請求項７は、前記第２調光層は、誘電異方
性が負の液晶材料に２色性色素と低分子量ゲル化剤が混
合されたゲスト・ホスト型の液晶ゲル層であり、電界無
印加時には垂直配向状態に保たれ、且つ、所定のしきい
値電圧より高い電圧を印加することにより層面の一方向
に水平配向するように処理されており、該水平配向の方
向と略４５°に光軸を有するλ／４波長板が前記反射層
側に配置されたことも本発明の有効な手段である。かか
る技術手段によれば、第２調光層が負の誘電率異方性を
有する液晶材料に、２色性色素と低分子量ゲル化剤が混
合されたゲスト・ホスト型の液晶ゲル層であり、電界無
印加時には垂直配向状態に保たれ、かつ所定のしきい値
電圧より高い電圧の印加で層面の一方向に水平配向する
ように処理されており、この水平配向の方向と略４５°
に光軸を有するλ／４波長板が反射層側に配置された構
成にすることで、コントラストの高い、明るい反射型白
黒表示液晶素子を提供することができる。請求項８は、
前記第２調光層は、誘電異方性が正の液晶材料に２色性
色素と低分子量ゲル化剤が混合されたゲスト・ホスト型
の液晶ゲル層であり、電界無印加時には水平配向するよ
うに処理されており、該水平配向の方向と略４５°に光
軸を有するλ／４波長板が前記反射層側に配置されたこ
とも本発明の有効な手段である。かかる技術手段によれ
ば、第２の調光層が誘電異方性が正の液晶材料に２色性
色素と低分子量ゲル化剤が混合されたゲスト・ホスト型
の液晶ゲル層であり、電界無印加時には水平配向するよ
うに処理されており、この水平配向の方向と略４５°に
光軸を有するλ／４波長板が反射層側に配置された構成
にすることで、コントラストの高い、明るい反射型白黒
表示液晶素子を提供することができる。請求項９は、前
記第１調光層が、剥離基板に形成された透明な隔壁層と
しての樹脂層と、さらに、該樹脂層上に透明導電膜、若
しくは鏡面反射層、さらに絶縁層を形成した後、前記透
明導電膜、若しくは鏡面反射が積層された基板と、該基
板と対向した透明電極を有する基板に液晶層を狭持させ
て形成した積層体から剥離基板を取り除いた光学要素で
あることも本発明の有効な手段である。かかる技術手段
によれば、第１調光層が、剥離基板に形成された透明な
隔壁層となるべき樹脂層と、さらに、この樹脂層上に透
明導電膜（もしくは鏡面反射層）、さらに絶縁層を形成
した後、鏡面反射層（もしくは透明導電膜）が積層され
た基板と、これと対向した透明電極を有する基板に液晶
層を狭持させて形成した積層体から剥離基板を取り除い
て作成した調光層とすることで、隔壁層と液晶、２色性
色素等との膨潤、溶出による表示不良のない、信頼性の
高い液晶表示素子を提供することができる。

【００１０】請求項１０は、前記第２調光層が、剥離基
板に積層して形成された透明な隔壁層としての樹脂層
と、さらに、該樹脂層上に透明導電膜を形成し、これと
対向した透明電極を有する基板に液晶層を狭持させて形
成した積層体から剥離基板を取り除いた光学要素である
ことも本発明の有効な手段である。かかる技術手段によ
れば、第２の調光層が、剥離基板に積層して形成された
透明な隔壁層となるべき樹脂層と、さらに、この樹脂層
上に透明導電膜を形成し、これと対向した透明電極を有
する基板に狭持させて形成した積層体から剥離基板を取
り除いて作成した調光層とすることで、隔壁層の液晶、
２色性色素等との膨潤、溶出による表示不良のない、信
頼性の高い液晶表示素子を提供することができる。請求
項１１は、前記第１調光層、及び前記２調光層が、請求
項９、１０に記載された構成で剥離基板上に形成後に剥
離基板から剥離され、その隔壁層を介して積層すること
を特徴とする。かかる技術手段によれば、第１、２調光
層が剥離基板上に形成され剥離基板から剥離されて、そ
の隔壁層を介して積層することを特徴とする生産性の高
い反射型液晶素子の製造方法を提供することができる。
請求項１２は、前記隔壁層としての樹脂層が、アクリレ
ートモノマー及びアクリレートオリゴマーを含むアクリ
レート化合物の紫外線硬化物より形成されるものであ
り、その厚みが５〜３０μｍであることも本発明の有効
な手段である。かかる技術手段によれば、隔壁層なるべ
き樹脂層が、アクリレートモノマー及びアクリレートオ
リゴマーを含むアクリレート化合物の紫外線硬化物より
形成されるものであり、その厚みが５〜３０μｍとする
ことで生産性が高く、視差が生じない表示特性の優れた
液晶表示素子の製造方法を提供することができる。

【００１１】

【発明の実施の形態】以下、本発明を図に示した実施形
態を用いて詳細に説明する。但し、この実施形態に記載
される構成要素、種類、組み合わせ、形状、その相対配
置などは特定的な記載がない限り、この発明の範囲をそ
れのみに限定する主旨ではなく単なる説明例に過ぎな
い。本発明の反射型白黒表示液晶素子では、第１、第２
調光層の表示部が重なってドットマトリックス状になる
ように各透明電極が形成され、その表示部の第１調光層
の後方散乱成分と、前方散乱成分の反射層からの戻り分
の光の和で白表示の明るさが得られる積層構造とすると
ともに、非表示部に対応する部位の第１調光層の隔壁層
上に電極層と絶縁層を介して鏡面反射層を形成すること
で、より明るい白の背景とするものである。さらに、第
２の調光層を、低分子量ゲル化剤と液晶材料による物理
ゲル状態の液晶ゲル層を利用することにより、自己保持
性でありながらコントラストの高い黒表示が可能とな
る。また、視差が生じない薄い隔壁層を剥離基板からの
転写により形成するため、調光層材料（液晶、２色性色
素等）を汚染することない生産性の高い製造法である。
以下に、本発明による液晶表示素子の構成、動作を示
す。図１は本発明の液晶表示素子の構造を示す模式図で
ある。（第１調光層の絶縁層４３と隔壁層４４に挟まれ
て非表示部に対応したパターンで鏡面反射層が形成され
るが図示していない。）第１の調光層４０は光散乱−光
透過変化を起こす調光層であり、偏光板を使用しない
で、明るい画像表示ができ、視野角が広い、液晶の配向
処理が必要なく製造が容易であり、自己保持性の膜であ
り耐衝撃等に優れる、等の長所がある高分子分散型液晶
が最適である。第２の調光層４５は光透過−光吸収変化
を起こす調光層であり、偏光板を使用しないで明るい表
示ができ、視野角が広い、等の長所を有するゲスト・ホ
スト型液晶が最適である。第２の調光層の外側（第１調
光層の反対側）には、光反射層４９が設置される。

【００１２】次に、第１調光層４０、第２調光層４５の
表示部の電界印加に対する動作を説明する。第２のゲス
ト・ホスト型の調光層の電気光学特性は図２に示すよう
に、初期状態の配向処理方法により２種類の状態変化を
取ることができる。初期配向として基板間で水平配向
（ホモジニアス配向、あるいはツイスト配向）である場
合の透過特性５１は、あるしきい値電圧以下では光吸収
による黒表示であり、しきい値電圧以上で光透過状態と
なる。この場合の液晶材料の誘電率異方性は正である。
また、初期配向が垂直配向に処理された場合には、電圧
に対して逆の透過特性５２を示す。この場合の液晶材料
の誘電率異方性は負である。第１の調光層は高分子分散
型液晶であり、その光透過特性は図２の透過特性５２と
同様になるが、表示状態としては、しきい値電圧以下で
は光散乱状態であり白表示であり、しきい値電圧以上の
電圧印加では光透過状態となる。積層型の表示素子とし
た場合には、前記第２の調光層のゲスト・ホスト液晶の
２状態に対応して、以下の２タイプの組み合わせが実現
できた。第１の調光層が電圧印加に対して光散乱状態
から光透過状態に転移するのにあわせて、第２調光層４
５が（透過特性５１の水平配向ゲスト・ホスト液晶の場
合）しきい値電圧以上の印加による光透過状態から、し
きい値電圧以下の光散乱状態とすることで白黒表示をす
る。第１の調光層が電圧印加に対して光散乱状態から
光透過状態に転移するのにあわせて、第２調光層４５が
（透過特性５２の垂直配向ゲスト・ホスト液晶の場合）
しきい値電圧以下の光散乱状態から、しきい値電圧以上
の光吸収状態とすることで白黒表示をする。いずれのタ
イプにおいても白表示の場合には、第１調光層４０は散
乱状態、第２調光層４５は光透過状態にあるため、第１
調光層４０でへの入射光の前方散乱成分は第２調光層４
５を通過し、反射層４９で反射されて、再び第１調光層
４０からの前方散乱成分として、入射光の後方散乱成分
の光と足し合わされるので、非常に明るい白表示が得る
ことができる。

【００１３】ところが、非表示部は電界印加に対して動
作しないために、表示部が白表示で第２調光層４５が光
透過状態であっても、電圧無印加時の明るさの状態であ
る。つまり、第２調光層４５が水平配向ゲスト・ホスト
液晶の場合には、表示部が白表示であっても非表示部が
光吸収状態であるので、背景を明るい白状態にするため
に非表示部の反射光による増幅は期待できない。第２調
光層４５が垂直配向のゲスト・ホスト液晶の場合は、表
示部も非表示部も光透過状態で白表示であるので、素子
全面にわたって背景の白を明るくできる。本発明では、
第１調光層４０の隔壁層側の非表示部に対応する部位に
鏡面反射層を設置するので、第１調光層４０が散乱状態
の白表示の場合、第２調光層４５の非表示部での状態に
よらず、鏡面反射層で反射された光の第１調光層４０か
らの前方散乱成分を利用することができるため背景の白
をより明るくできる。このように本発明の積層型素子で
は、背景としての白表示において、表示部より非表示部
が明るくなり、表示パターンが見えることになるため、
固定パターンでキャラクター表示をするような表示素子
には適さないが、開口率の高いドットマトリックス表示
の素子では表示品質上で問題にならないことが見いださ
れた。さらに、第２の調光層４５を、液晶材料が負の誘
電率異方性を有する液晶材料に、２色性色素と低分子量
ゲル化剤が混合されたゲスト・ホスト型の液晶ゲル層と
して、初期状態で垂直配向に保たれ、かつ所定のしきい
値電圧より高い電圧の印加で層面の一方向に水平配向す
るように処理し、この水平配向の方向と略４５°に光軸
を有するλ／４波長板を反射層側に配置した構造（図
３）にすることで、より黒表示のコントラストが高く、
かつ明るい表示が実現できた。同様に第２の調光層４５
を、液晶材料が正の誘電率異方性を有する液晶材料に、
２色性色素と低分子量ゲル化剤が混合されたゲスト・ホ
スト型の液晶ゲル層として、初期状態で水平配向に処理
され、この水平配向の方向と略４５°に光軸を有するλ
／４波長板を反射層側に配置した構造にすることで、よ
り黒表示のコントラストが高く、かつ明るい表示が実現
できた。本発明では、一般的にオーダーパラメータが高
くできる（コントラストが高くできる）正の誘電異方性
の液晶を用いた水平配向のゲスト・ホスト液晶でも、非
表示部の光吸収状態に関わらず鏡面反射層での反射光を
利用した明るい素子が構成できるという利点がある。こ
のλ／４波長板を用いたゲスト・ホスト液晶は、Appl.P
hys.Lett.30,p.619(1977)等の文献に記載され良く知ら
れているが、積層構造の第２の調光層に、ゲスト・ホス
ト液晶ゲル層と組み合わせて応用できることは従来知ら
れていなかった。

【００１４】図４は、隔壁層、鏡面反射層、絶縁層の形
成工程の概略を示す図である。 （ａ）まず、剥離基板として清浄に洗浄されたガラス基
板７０１があり、 （ｂ）その上に隔壁層７０２となる樹脂層をスピンコー
ティング法、フレキソ印刷法等により形成する。 （ｃ）この隔壁層上に鏡面反射層７０３としてＡｌ等の
金属部材を蒸着法等で形成し、所定の非表示パターンに
整形する。 （ｄ）さらに絶縁層７０４をスピンコーティング法、フ
レキソ印刷法等で形成し、 （ｅ）さらに透明電極層７０５を成膜したのち所定の電
極パターンに整形する。 （ｆ）第１の調光層である高分子分散液晶を形成する場
合には、配向膜が不要であるため、このように形成され
た基板７０６と、あらかじめ電極層が形成された透明基
板７０７の間に （ｇ）所望のセル厚を保持するためのスペーサー７０８
を配置し、外周のシール剤（接着剤）７０９を介して貼
り合わせて空セルを形成する。 （ｈ）この空セルに高分子マトリックスを形成する樹脂
の前駆体と液晶材料の混合物を注入する。この樹脂前駆
体は、紫外線照射によりポリマー化するモノマー、オリ
ゴマーまたはその混合物等である。このセルへの紫外線
照射により、ポリマーマトリックス中に液晶が分散した
高分子分散液晶層が形成される。 （ｉ）最終段階として、隔壁層と剥離基板界面で剥離す
ることで第１の調光層が作成できる。剥離基板として、
耐熱性の高いガラス基板、樹脂基板等を用いることがで
きるため、隔壁層として耐熱性、耐溶剤性に優れ、調光
層の液晶材料等による膨潤、溶出等の不具合が発生しな
い樹脂層の形成が容易にできた。

【００１５】第２の調光層としてのゲスト・ホスト型液
晶層を形成する場合には、剥離基板上に隔壁層層、電極
層を形成した後、さらに配向膜をスピンコーティング法
もしくはフレキソ印刷法等により形成し、必要であれば
ラビング等の配向処理を施し、同様の配向処理を施した
対向する透明基板と貼り合わせることで空セルを形成す
る。この、空セルに液晶、２色性色素の混合物を注入
し、剥離基板から剥離して第２の調光層を形成できる。
また、上記の空セルにゲル化剤、液晶、２色性色素の混
合物を、そのゾル−ゲル転移温度以上のゾル状態で注入
し、冷却後、剥離基板から剥離することでも第２の調光
層を形成できる。さらに、低分子量ゲル化剤、液晶、２
色性色素の混合物である液晶ゲルを、いずれかの基板上
にフレキソ印刷等により印刷した後貼り合わる工程とす
ることでも、注入工程を省略した第２調光層の製造方法
ができた。この液晶ゲル層は自己保持性の層であるため
剥離基板からの剥離時にかかるストレスによる液晶層お
よび電極層等の変形、破壊等が発生することなく調光層
を作成できた。また、第１、２調光層の隔壁層の材料と
しては、その耐熱性、耐溶剤性に優れた、アクリレート
モノマー及びアクリレートオリゴマーを含むアクリレー
ト化合物の紫外線硬化物が最適であり、その厚みは、剥
離時に隔壁層が破壊されないために５μｍ以上必要であ
り、また視差を考慮すると３０μｍ以下であることが望
ましい。さらに、絶縁層の材料としては耐熱性、耐溶剤
性に優れた材料であるポリイミドや隔壁層材料と同じア
クリレートモノマー及びアクリレートオリゴマーを含む
アクリレート化合物の紫外線硬化物が使用できる。紫外
線硬化により簡便に成膜できることと、鏡面反射層を挟
み込んだ構造で隔壁層との密着性および熱や機械的スト
レスへの耐久性を考慮すると、隔壁層と同じ材料が好ま
しく、その厚みは５μｍ以下で充分である。鏡面反射層
はＡｌ等の金属膜であり、膜厚０．１μｍ程度で充分な
反射率を得ることができる。このようにして作成した第
１、第２の調光層をそれぞれの隔壁層で貼り合わせ、さ
らに反射層を貼り合わせることで本発明の積層構造の反
射型白黒表示液晶素子を得ることができた。

【００１６】本発明で用いられるゲル化剤は、分子間水
素結合によって物質をゲル化する性質を持ち、かつ、使
用する液晶に溶解する低分子化合物である。この低分子
化合物とは、分子量分布を持たない化合物をさし、分子
量としては２０００以下、特に１０００〜２０００のも
のが好ましい。分子間水素結合が可能な分子構造上の条
件は、一般的にはアミド基（−ＮＨＣＯ−）、アミノ基
（−ＮＨ−）とカルボニル基（−ＣＯ−）の組み合わせ
を有するものが望ましい。これ以外に、カルバメート
基、ウレア基、カルボキシル基、アルコキシ基、リン酸
基および水酸基などがあっても良く、これらの数、位置
については限定しない。そのようなゲル化剤の中でも特
に、分子間水素結合が可能な基およびアルキレン基を１
分子中にそれぞれ２個以上有する化合物が望ましい。ア
ルキレン基としては、炭素数４以上、好ましくは６〜２
０の長鎖構造（分岐があっても良い）を持つ方が、液晶
への溶解性が高い。また、ゲル化剤はキラル構造を有す
ることが好ましい。具体的には、特開平５−２１６０１
５号公報、特開平１１−２１５５６号公報、特開平１１
−５２３４１号公報、１１−２５６１６４号公報、特開
２０００−２３９６６３公報に開示されているもの等が
使用できる。特開平１１−２５６１６４号公報の実施例
においては、アミノ酸系ゲル化剤を用いた液晶ゲルを、
高分子分散型液晶デバイスだけでなくＴＮ型の液晶調光
層に適用している。ただし、ゲスト・ホスト型への適用
はなく、また積層型の調光層としてその自己保持性を活
用した従来技術はない。また、隔壁層に対向する透明基
板をプラスチックフィルムにすることで積層型であって
も、薄型、軽量で、かつまた自己保持性の調光層との組
み合わせで耐衝撃性に優れたフレキシブルで明るい反射
型ディスプレイを実現できた。以下、本発明の製造方法
による実施例について説明する。

【００１７】

【実施例１】剥離基板として、寸法が３０ｍｍ×４０ｍ
ｍのガラス基板に十条ケミカル（株）製のＵＶマスキン
グインキ（紫外線硬化型のアクリレートモノマー及びア
クリレートオリゴマーを含むアクリレート化合物よりな
る）をスクリーン印刷で塗布した後、高圧水銀ランプに
より波長３６５ｎｍ中心の紫外線（強度４０ｍＷ／ｃｍ
２）を３０ｓ照射することで、膜厚１８μｍの隔壁層を
形成した。この隔壁層上に蒸着法によりＡｌを０．１μ
ｍ厚で成膜した。ドットサイズ０．３ｍｍ×０．３ｍ
ｍ、電極間ギャップ０．０３ｍｍのドットマトリックス
パターンを素子の表示エリアに形成するものとして、電
極間ギャップ０．３ｍｍと同じ幅の格子状のパターンに
Ａｌ層をパターニングし（格子のピッチは０．３３ｍｍ
となる。）、鏡面反射層を形成した。この上に隔壁層と
同じ材料で３μｍ厚の絶縁層を形成し、さらに、真空成
膜スパッタリング法によりＩＴＯ層を成膜し、通常のフ
ォトリソグラフ法で０．３ｍｍ幅、ピッチ０．３３ｍｍ
のライン状片側電極を、Ａｌ反射層パターンがＩＴＯ電
極間（非表示部）に配置されるようにパターン形成する
ことで一方の第１の基板を用意した。他の一方の第２基
板としてＩＴＯ付きのポリエーテルサルフォンシート
（ＰＥＳ：住友ベークライト製、厚み１５０μｍ）のＩ
ＴＯ電極を、第１基板と同様にフォトリソグラフ法で
０．３ｍｍ幅、ピッチ０．３３ｍｍのライン状にパター
ニングした基板を準備した。第１の基板にシール剤とし
てアミン硬化エポキシ樹脂中をディスペンサー塗布し、
第２の基板には１５μｍ粒径のシリカビーズをイソプロ
ピルアルコールを溶媒として、約３００個／ｍｍ²の密
度で散布し、互いのＩＴＯ電極が直交するように貼り合
わせ加熱硬化させて空セルを作製した。この空セルに、
大日本インキ化学工業（株）製のポリマーネットワーク
型液晶素子用の液晶組成物、モノマー組成物、および重
合開始剤の混合物（製品名：ＰＮＭ−１０１）を封入し
た後、紫外線（隔壁層形成と同様の照射装置で強度５０
ｍＷ／ｃｍ^２）を２分間照射し高分子分散液晶層を形成
した。かように形成した積層体からガラス基板を剥離す
ることで、光散乱−光透過変化を起こし、かつ非表示部
に鏡面反射層を有する第１の調光層が得られた。

【００１８】第２の調光層は以下のようにして作製し
た。剥離基板であるガラス基板上に上記と同様の隔壁
層、ＩＴＯ電極層を形成した後、配向処理膜として水平
配向用のポリイミド（ＪＳＲ製：ＡＬ３０４６）膜を積
層し、その表面をラビング処理して第１の基板を用意し
た。第２の基板も、電極パターン付きのＰＥＳシート上
に同様の配向処理膜を形成した。第１の基板にシール剤
としてアミン硬化エポキシ樹脂中をディスペンサー塗布
し、第２の基板には８．７μｍ粒径のシリカビーズをイ
ソプロピルアルコールを溶媒として、約３００個／ｍｍ
²の密度で散布し、互いにそのラビング方向が反平行に
なるように貼り合わせ加熱硬化させて空セルを作製し
た。メルク・ジャパン製の誘電異方性が正のネマチック
液晶と三菱化学製の２色性色素（４種類の色素を混合し
て黒色に調製した。）からなるゲスト・ホスト液晶（色
素濃度５ｗｔ％）を真空注入法で前記空セルに封入し、
ゲスト・ホスト型の第２の調光層を得た。作製された第
１、第２の調光層をそれぞれのＩＴＯによるドットマト
リクスパターンが重なるように、その隔壁層で重ね合わ
せ、さらに第２調光層の外側にＡｇタイプの反射板を貼
り付けて積層構造の反射型白黒液晶表示素子を作製し
た。第１の調光層の単層反射型表示素子としての性能を
評価するために、隔壁層側に黒色板を配置した（図７の
構成）素子の反射測定により、液晶層が電界により駆動
される表示部のみの白表示の反射率（明るさ）および白
黒表示のコントラストを測定した。測定系は図５に示
す。反射率は１８％、コントラストは５．４であった。
また、非表示部の鏡面反射層がある部位の反射率は６０
％であった。第２の調光層も単層反射型表示素子として
の性能を評価するために、隔壁層側に反射板（積層型と
同じ反射板）を配置した（図６）素子で同様の評価を実
施したところ、表示部の反射率１０％、コントラストは
３．５であった。非表示部の反射率は２．９％であっ
た。同様に本実施例で作製した積層構造の素子の表示部
では反射率２５％、コントラスト８．７を示し、積層構
造にすることで明るさ、コントラストともに単層型の場
合よりも向上している。ところが、ドットマトリックス
型の表示素子の背景は開口率（本実施例の素子の開口率
は約８２．６％）も含めた平均の明るさとして観察者に
認識される。本実施例と同様の構成で鏡面反射層のみが
ない積層型表示素子を作製して、その背景の白の反射率
をφ１ｍｍの視野で図８と同様の測定系で測定すると２
１％であった。本発明の場合、同様の測定で約３０％と
なり、非表示部に鏡面反射層を形成した構造とすること
で優れた性能を有する反射型白黒液晶表示素子であるこ
とが確認できた。また、隔壁層が薄いため黒表示状態で
視差は全く感じられない。表示素子の全体厚みはＰＥＳ
フィルム基板のようなプラスチック基板を使用すること
で０．５ｍｍ以下が可能となり、積層構造でありながら
薄型にできた。プラスチック基板としてはＰＥＳ以外に
ＰＣやポリエチレンテレフタレート（ＰＥＴ）等のフィ
ルム基板も使用可能である。

【００１９】

【実施例２】第１調光層は実施例１と同様に作製した。
第２調光層も実施例１と同様の材料、プロセスで空セル
まで作製した。メルク・ジャパン製の誘電異方性が正の
ネマチック液晶と三菱化学製の２色性色素（４種類の色
素を混合して黒色に調製した。）からなるゲスト・ホス
ト液晶（色素濃度５ｗｔ％）に、図６の化学構造をもつ
低分子量ゲル化剤（ＺＩ１８）を０．４ｗｔ％混合し
て、１２０℃のオーブン中に３０分放置し、等方性液体
状態で、液晶とゲル化剤を十分に混和させた。室温でこ
の組成物は液晶ゲル状態であることが確認され、そのゾ
ル−ゲル転移温度は約６７℃であった。この液晶ゲル組
成物を約８０℃に加熱した状態で前記空セルに封入し、
室温まで冷却して、ゲスト・ホスト型の液晶ゲル層を形
成した。かように形成した積層体からガラス基板を剥離
することで、光吸収−光透過変化を起こす第２の調光層
が得られた。作製された第１、第２の調光層をそれぞれ
のＩＴＯによるドットマトリクスパターンが重なるよう
に、その隔壁層で重ね合わせ、さらに第２調光層の外側
にＡｇタイプの反射板を貼り付けて積層構造の反射型白
黒液晶表示素子を作製した。第２の調光層を液晶ゲル層
としたが、その表示特性（反射率、コントラスト等）は
実施例１の素子と同じであり有意な差は見られなかっ
た。

【００２０】

【実施例３】第１調光層は実施例１と同様に作製した。
第２の調光層は以下のようにして作製した。剥離基板で
あるガラス基板上に第１調光層の第１基板と同様の隔壁
層、電極層を形成した後、配向処理膜として垂直配向用
のポリイミド（ＪＳＲ製：ＪＡＬＳ２０２１）膜を積層
し、その表面をラビング処理して第１の基板を用意し
た。第２の基板も、電極パターン付きのＰＥＳシート上
に同様の配向処理膜を形成した。垂直配向膜をラビング
処理することで、しきい値電圧以上の電圧印加で液晶分
子長軸の倒れる方向をラビング方向に規定できる。第１
の基板にシール剤としてアミン硬化エポキシ樹脂中をデ
ィスペンサー塗布し、第２の基板には８．７μｍ粒径の
シリカビーズをイソプロピルアルコールを溶媒として、
約３００個／ｍｍ²の密度で散布し、互いにそのラビン
グ方向が反平行になるように貼り合わせ加熱硬化させて
空セルを作製した。メルク・ジャパン製の誘電異方性が
負のネマチック液晶と三菱化学製の２色性色素（実施例
１と同様に４類の色素を混合して黒色に調製した。）か
らなるゲスト・ホスト液晶（色素濃度３ｗｔ％）に、低
分子量ゲル化剤（ＺＩ１８）を０．４ｗｔ％混合して、
１２０℃のオーブン中に３０分放置し、等方性液体状態
で、液晶とゲル化剤を十分に混和させた。室温でこの組
成物は液晶ゲル状態であることが確認された。この液晶
ゲル組成物を約８０℃に加熱した状態で前記空セルに封
入し、室温まで冷却して、ゲスト・ホスト型の液晶ゲル
層を形成した。かように形成した積層体からガラス基板
を剥離することで、光吸収−光透過変化を起こす第２の
調光層が得られた。作製された第１、第２の調光層をそ
の隔壁層で重ね合わせ、さらに第２調光層の外側にラビ
ング方向とその光軸が４５°になるようにポリカーボネ
ート（ＰＣ）フィルムのλ／４波長板（厚みやく６０μ
ｍ）を貼り付け、さらにＡｇタイプの反射板を貼り付け
て積層構造の反射型白黒液晶表示素子を作製した。第１
調光層の単層反射型表示素子での表示部の白表示の反射
率（明るさ）、白黒表示のコントラスト及び非表示部の
反射率は実施例１と同じである。第２の調光層も単層反
射型表示素子としての性能を評価するために、隔壁層側
にλ／４波長板、反射板（積層型と同じλ／４波長板と
反射板）を配置した素子で同様の評価を実施したとこ
ろ、反射率１２％、コントラストは５．６であった。本
実施例で作製した積層構造の素子では反射率２７％、コ
ントラスト１３．３を示した。鏡面反射層がない同様の
構成の素子では、第２調光層が垂直配向のゲスト・ホス
ト液晶であるため、白を表示している表示部の反射率で
ある２７％と同じであった。鏡面反射層がある本発明の
構成の反射率は約３３％であった。鏡面反射層を設けた
ことと、第２調光層としてλ／４波長板を用いたゲスト
・ホスト型液晶ゲル層とすることで、より明るく、コン
トラストの高い反射型白黒液晶表示素子を得ることがで
きた。実施例２および３で作製した積層構造の表示素子
を１１φの鉄球で押圧する試験を繰り返した。この試験
で、第１調光層の高分子分散液晶層では変化が見られな
かったが、第２調光層の液晶ゲル層では、液晶の配向が
乱れたことによる欠陥が発生する場合がことがあった。
しかし、欠陥発生時点で、この素子を８５℃の液晶ゾル
状態まで加熱し５分保持後、室温まで冷却すると、試験
前の無欠陥な状態に復帰した。この欠陥修復の操作を３
００回繰り返したが、液晶素子の外観、電界応答特性に
変化は見られなかった。

【００２１】

【実施例４】実施例１および２において、隔壁層として
十条ケミカル（株）製のＵＶマスキングインキ（紫外線
硬化型のアクリレートモノマー及びアクリレートオリゴ
マーを含むアクリレート化合物よりなる）をスクリーン
印刷で塗布した後、高圧水銀ランプにより波長３６５ｎ
ｍ中心の紫外線（強度４０ｍＷ／ｃｍ^２）を３０ｓ照射
することで、膜厚１８μｍの隔壁層を形成した。隔壁層
が薄いほど視差が少なくなるが、剥離基板の剥離時のス
トレスへの耐久性を検討するために、第１調光層の構造
で、隔壁層の厚みに対する剥離耐久性を検討した。上記
アクリレート化合物をアルコール系溶剤で希釈し、スピ
ンコート法により２〜５μｍ厚みの隔壁層を形成し、第
１調光層を剥離した。隔壁層２〜３μｍでは剥離時に隔
壁層が破壊されるが、５μｍ以上の厚みではこのような
不具合が発生しなかった。

【００２２】

【発明の効果】以上記載のごとく請求項１の発明によれ
ば、本発明の積層構造により明るい背景の反射型素子白
黒表示液晶素子を提供することができる。また請求項２
では、黒表示の第２調光層をゲスト・ホスト型液晶とす
ることで、コントラストの高い、偏光板を用いることの
ない明るい反射型白黒表示液晶素子を提供することがで
きる。また請求項３では、黒表示の第２調光層を液晶ゲ
ルを利用した自己保持性の液晶層とすることで、信頼性
の高い積層型の反射型白黒表示液晶素子を提供すること
ができる。また請求項４では、鏡面反射層を反射率の高
いフラットもしくはなめらかな凹凸の鏡面光沢を有する
金属薄膜で形成することで明るい反射型白黒表示液晶素
子を提供することができる。また請求項５では、絶縁層
と隔壁層が同一材料であり、その界面の接合が強固で、
界面反射による迷光の少ない信頼性に高い、明るい反射
型白黒表示液晶素子を提供することができる。また請求
項６では、第１および第２調光層の隔壁層以外の透明電
極層を有する基板が厚み２５０μｍ以下のプラスチック
基板であり、薄型、軽量で耐久性の高い積層構造の液晶
表示素子を提供することができる。また請求項７では、
第２調光層が負の誘電率異方性を有する液晶材料に、２
色性色素と低分子量ゲル化剤が混合されたゲスト・ホス
ト型の液晶ゲル層であり、電界無印加時には垂直配向状
態に保たれ、かつ所定のしきい値電圧より高い電圧の印
加で層面の一方向に水平配向するように処理されてお
り、この水平配向の方向と略４５°に光軸を有するλ／
４波長板が反射層側に配置された構成にすることで、コ
ントラストの高い、明るい反射型白黒表示液晶素子を提
供することができる。

【００２３】また請求項８では、第２の調光層が誘電異
方性が正の液晶材料に２色性色素と低分子量ゲル化剤が
混合されたゲスト・ホスト型の液晶ゲル層であり、電界
無印加時には水平配向するように処理されており、この
水平配向の方向と略４５°に光軸を有するλ／４波長板
が反射層側に配置された構成にすることで、コントラス
トの高い、明るい反射型白黒表示液晶素子を提供するこ
とができる。また請求項９では、第１調光層が、剥離基
板に形成された透明な隔壁層となるべき樹脂層と、さら
に、この樹脂層上に透明導電膜（もしくは鏡面反射
層）、さらに絶縁層を形成した後、鏡面反射層（もしく
は透明導電膜）が積層された基板と、これと対向した透
明電極を有する基板に液晶層を狭持させて形成した積層
体から剥離基板を取り除いて作成した調光層とすること
で、隔壁層と液晶、２色性色素等との膨潤、溶出による
表示不良のない、信頼性の高い液晶表示素子を提供する
ことができる。また請求項１０では、第２の調光層が、
剥離基板に積層して形成された透明な隔壁層となるべき
樹脂層と、さらに、この樹脂層上に透明導電膜を形成
し、これと対向した透明電極を有する基板に狭持させて
形成した積層体から剥離基板を取り除いて作成した調光
層とすることで、隔壁層の液晶、２色性色素等との膨
潤、溶出による表示不良のない、信頼性の高い液晶表示
素子を提供することができる。また請求項１１では、第
１、２調光層が剥離基板上に形成され剥離基板から剥離
されて、その隔壁層を介して積層することを特徴とする
生産性の高い反射型液晶素子の製造方法を提供すること
ができる。また請求項１２では、隔壁層なるべき樹脂層
が、アクリレートモノマー及びアクリレートオリゴマー
を含むアクリレート化合物の紫外線硬化物より形成され
るものであり、その厚みが５〜３０μｍとすることで生
産性が高く、視差が生じない表示特性の優れた液晶表示
素子の製造方法を提供することができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液晶表示素子の構造を示す模式図であ
る。

【図２】本発明の第２のゲスト・ホスト型の調光層の電
気光学特性図である。

【図３】本発明のλ／４波長板を反射層側に配置した構
造を示す模式図である

【図４】本発明の隔壁層、鏡面反射層、絶縁層の形成工
程の概略を示す図である。

【図５】本発明の実施例の測定系の図である。

【図６】本発明の実施例の化学構造式を表す図である。

【図７】従来例のゲスト・ホスト型の構成例を示す模式
図である。

【図８】従来例の散乱型の構成例を示す模式図である。

【図９】従来例の液晶素子の基本構成を示す模式図であ
る。

【符号の説明】

４０ 第１の調光層、４５ 第２の調光層、４９ 光反
射層

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き Ｆターム(参考） 2H049 BA07 BA42 BB03 BB63 BC22 2H089 HA04 HA22 JA04 KA08 KA17 KA20 NA56 NA58 NA60 2H091 FA14Z FC02 FD06 FD12 FD23 GA01 GA13 GA16 HA06 JA02 JA10 LA11 LA12 LA13 LA15 LA16

Claims (12)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 外部からの光を反射して表示する反射型
   液晶表示素子において、外部電場により光散乱状態と透
   明状態が制御可能な高分子マトリックス中に液晶を分散
   させた散乱性の第１調光層と、同様に透明状態と光吸収
   状態の制御可能な第２調光層とが、それぞれの隔壁層を
   介して積層され、さらに前記第２調光層の、前記第１調
   光層とは反対側に光反射層を設け、前記第１調光層と第
   ２調光層の表示部が重なってドットマトリックス状にな
   るように各透明電極が形成され、かつ前記第１調光層の
   隔壁層上の電極層と絶縁層を介して、非表示部に対応す
   る部分に鏡面反射層を形成したことを特徴とする反射型
   液晶素子。
2. 【請求項２】 前記第２調光層の液晶層中に２色性色素
   が混合されていることを特徴とする請求項１に記載の反
   射型液晶素子。
3. 【請求項３】 前記第２調光層が低分子量ゲル化剤と液
   晶材料による物理ゲル状態の液晶ゲル層を利用した調光
   層であることを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶
   素子。
4. 【請求項４】 前記鏡面反射層がフラット若しくは滑ら
   かな凹凸の鏡面光沢を有する金属薄膜であることを特徴
   とする請求項１に記載の反射型液晶素子。
5. 【請求項５】 前記絶縁層が隔壁層と同一材料であるこ
   とを特徴とする請求項１記載の反射型液晶素子。
6. 【請求項６】 前記第１調光層、及び前記第２調光層の
   隔壁層以外の透明電極層を有する基板が、厚み２５０μ
   ｍ以下のプラスチック基板であることを特徴とする請求
   項１に記載の反射型液晶素子。
7. 【請求項７】 前記第２調光層は、誘電異方性が負の液
   晶材料に２色性色素と低分子量ゲル化剤が混合されたゲ
   スト・ホスト型の液晶ゲル層であり、電界無印加時には
   垂直配向状態に保たれ、且つ、所定のしきい値電圧より
   高い電圧を印加することにより層面の一方向に水平配向
   するように処理されており、該水平配向の方向と略４５
   °に光軸を有するλ／４波長板が前記反射層側に配置さ
   れたことを特徴とする請求項１に記載の反射型液晶素
   子。
8. 【請求項８】 前記第２調光層は、誘電異方性が正の液
   晶材料に２色性色素と低分子量ゲル化剤が混合されたゲ
   スト・ホスト型の液晶ゲル層であり、電界無印加時には
   水平配向するように処理されており、該水平配向の方向
   と略４５°に光軸を有するλ／４波長板が前記反射層側
   に配置されたことを特徴とする請求項１に記載の反射型
   液晶素子。
9. 【請求項９】 前記第１調光層が、剥離基板に形成され
   た透明な隔壁層としての樹脂層と、さらに、該樹脂層上
   に透明導電膜、若しくは鏡面反射層、さらに絶縁層を形
   成した後、前記透明導電膜、若しくは鏡面反射が積層さ
   れた基板と、該基板と対向した透明電極を有する基板に
   液晶層を狭持させて形成した積層体から剥離基板を取り
   除いた光学要素であることを特徴とする請求項１乃至６
   の何れかに記載の反射型液晶素子。
10. 【請求項１０】 前記第２調光層が、剥離基板に積層し
    て形成された透明な隔壁層としての樹脂層と、さらに、
    該樹脂層上に透明導電膜を形成し、これと対向した透明
    電極を有する基板に液晶層を狭持させて形成した積層体
    から剥離基板を取り除いた光学要素であることを特徴と
    する請求項１乃至６の何れかに記載の反射型液晶素子。
11. 【請求項１１】 前記第１調光層、及び前記２調光層
    が、請求項９、１０に記載された構成で剥離基板上に形
    成後に剥離基板から剥離され、その隔壁層を介して積層
    することを特徴とする反射型液晶素子の製造方法。
12. 【請求項１２】 前記隔壁層としての樹脂層が、アクリ
    レートモノマー及びアクリレートオリゴマーを含むアク
    リレート化合物の紫外線硬化物より形成されるものであ
    り、その厚みが５〜３０μｍであることを特徴とする請
    求項１１に記載の反射型液晶素子の製造方法。