JP2003270172A - 欠陥確認システム、欠陥確認装置および検査装置 - Google Patents

欠陥確認システム、欠陥確認装置および検査装置

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JP2003270172A
JP2003270172A JP2002075986A JP2002075986A JP2003270172A JP 2003270172 A JP2003270172 A JP 2003270172A JP 2002075986 A JP2002075986 A JP 2002075986A JP 2002075986 A JP2002075986 A JP 2002075986A JP 2003270172 A JP2003270172 A JP 2003270172A
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JP2002075986A
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Akio Mita
章生 三田
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Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
Original Assignee
Dainippon Screen Manufacturing Co Ltd
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Abstract

(57)【要約】 【課題】 欠陥の確認作業の作業効率を向上させる欠陥
確認システムを提供する。 【解決手段】欠陥確認システムの欠陥確認装置3に、基
板90上の欠陥を撮像する撮像部30、撮像部30が撮
像した画像を表示する確認モニタ32、撮像部30の位
置を変更する移動機構33、撮像部30のズーム位置を
変更するズーム機構34、ネットワーク8を介して検査
装置2から欠陥に関する情報などを受信する通信部3
5、および各種演算などを行う制御部36を設ける。制
御部36は、通信部35が受信した欠陥に関する情報に
基づいて、欠陥の位置とサイズを求め、それらに基づい
て移動機構33およびズーム機構34を制御し、撮像部
30の位置とズーム位置とを決定する。撮像部30が欠
陥の撮像を行い、当該画像を確認モニタ32が表示す
る。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、プリント基板、プ
リント基板作成用のフィルムマスクやガラスマスクなど
の検査対象物上に形成された配線パターンなどのパター
ンを検査する欠陥確認システム、検査装置および欠陥確
認装置に関し、特に、作業者が検出された検査対象物上
の欠陥を確認するために、当該欠陥を撮像して表示する
ための技術に関する。
【0002】
【従来の技術】従来より、前述のような検査対象物(以
下、基板と略する)上に形成された配線パターンなどの
検査を行う欠陥確認システムなどが提案されている。こ
のようなシステムでは、まず、欠陥の検出工程では、基
板上の検査面の撮像を行い、撮像した画像データに画像
処理(画像認識)を行って、欠陥を検出し、当該欠陥に
関する位置情報を生成する。
【0003】次に、確認工程では、生成された位置情報
に基づいて、撮像装置が基板上の欠陥を撮像し、画像を
モニタに表示する。図18は、このようにしてモニタに
表示された画像の例を示す図である。作業者は、モニタ
に表示された当該画像に基づいて欠陥の確認作業を行
う。
【0004】
【発明が解決しようとする課題】ところが、図19に示
すように検出された欠陥が比較的小さい場合、作業者は
欠陥が見やすい大きさに表示されるよう、拡大調整を行
わなければならない。すなわち、基板上に検出される欠
陥の大きさは個々に異なっており、作業者は確認作業を
行う際に、個々の欠陥ごとに表示する画像の拡大・縮小
率を調整しなければならず、作業効率が低下するという
問題があった。
【0005】また、欠陥が比較的画像の端部に存在する
場合には、画像の拡大調整を行うことにより表示範囲か
ら当該欠陥が外れることのないよう、作業者が表示範囲
の位置調整を行わなければならず、さらに作業効率が低
下するという問題があった。
【0006】本発明は、上記課題に鑑みなされたもので
あり、欠陥の確認作業の作業効率を向上させる欠陥確認
システム、欠陥確認装置および検査装置を提供すること
を目的とする。
【0007】
【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、請求項1の発明は、検査対象物上の欠陥を検出して
確認するための欠陥確認システムであって、(a)前記検
査対象物上の前記欠陥を検出する検査装置と、(b)前記
検査装置により検出された前記欠陥を確認する欠陥確認
装置とを備え、前記検査装置が、(a-1)前記検査対象物
の検査面を検査画像データとして撮像する第1撮像手段
と、(a-2)前記第1撮像手段により撮像された前記検査
画像データに基づいて、前記検査対象物上の前記欠陥が
存在する欠陥領域を検出する欠陥検出手段と、(a-3)前
記欠陥検出手段により検出された前記欠陥領域の位置と
サイズとに関する欠陥情報を生成する欠陥情報生成手段
とを有し、前記欠陥確認装置が、(b-1)前記欠陥領域を
表示画像データとして撮像する第2撮像手段と、(b-2)
前記検査対象物と前記第2撮像手段とを相対的に移動さ
せる移動手段と、(b-3)前記第2撮像手段の撮像倍率を
変更する倍率変更手段と、(b-4)前記表示画像データに
基づいて、前記欠陥領域を表示する欠陥確認モニタとを
有するとともに、前記欠陥情報に基づいて前記欠陥領域
のサイズを検出する領域サイズ検出手段と、前記欠陥情
報に基づいて前記欠陥領域の位置を検出する領域位置検
出手段と、前記領域サイズ検出手段により検出された前
記サイズに基づいて、前記倍率変更手段を制御する倍率
制御手段と、前記領域位置検出手段により検出された前
記位置に基づいて、前記移動手段を制御する位置制御手
段とが前記欠陥確認システム中に設けられ、前記第2撮
像手段が、前記倍率制御手段および前記位置制御手段に
よる制御の後に前記表示画像データを撮像する。
【0008】また、請求項2の発明は、検査対象物上の
欠陥を確認する欠陥確認装置であって、前記検査対象物
上の前記欠陥が存在する欠陥領域の位置とサイズとを示
す欠陥情報を取得する情報取得手段と、前記欠陥領域を
表示画像データとして撮像する撮像手段と、前記表示画
像データに基づいて前記欠陥領域を表示する欠陥確認モ
ニタと、前記撮像手段の撮像倍率を変更する倍率変更手
段と、前記欠陥情報に基づいて前記欠陥領域のサイズを
検出する領域サイズ検出手段と、前記領域サイズ検出手
段により検出された前記サイズに基づいて前記倍率変更
手段を制御する倍率制御手段とを備え、前記撮像手段
が、前記倍率制御手段による制御の後に前記表示画像デ
ータを撮像する。
【0009】また、請求項3の発明は、請求項2の発明
に係る欠陥確認装置であって、前記検査対象物と前記撮
像手段とを相対的に移動させる移動手段と、前記欠陥情
報に基づいて、前記欠陥領域の位置を検出する領域位置
検出手段と、前記領域位置検出手段により検出された前
記欠陥領域の位置に基づいて、前記移動手段を制御する
位置制御手段とをさらに備え、前記撮像手段が、前記位
置制御手段による制御の後に前記表示画像データを撮像
する。
【0010】また、請求項4の発明は、請求項3の発明
に係る欠陥確認装置であって、前記位置制御手段が、前
記倍率変更手段により変更された前記撮像倍率に基づい
て、前記移動手段を制御する。
【0011】また、請求項5の発明は、請求項2ないし
4のいずれかの発明に係る欠陥確認装置であって、前記
欠陥領域に含まれる前記欠陥の数を検出して、前記欠陥
をラベリングするラベリング手段と、前記ラベリング手
段によりラベリングされた各欠陥ごとに、前記欠陥領域
における位置を検出する欠陥位置検出手段と、前記欠陥
確認モニタに表示された前記欠陥領域における各欠陥の
位置を示すための標識を、前記欠陥位置検出手段により
検出された各欠陥の位置に基づいて、前記欠陥確認モニ
タに表示させる標識表示手段とをさらに備える。
【0012】また、請求項6の発明は、請求項5の発明
に係る欠陥確認装置であって、前記標識表示手段が、前
記倍率変更手段により変更された前記撮像倍率に基づい
て、前記標識を表示する位置を決定する。
【0013】また、請求項7の発明は、請求項5または
6の発明に係る欠陥確認装置であって、前記ラベリング
手段によりラベリングされた各欠陥ごとのサイズを検出
する欠陥サイズ検出手段をさらに備え、前記標識表示手
段が、前記欠陥サイズ検出手段により検出された前記サ
イズと、前記倍率変更手段により変更された前記撮像倍
率とに基づいて、表示する前記標識のサイズを決定す
る。
【0014】また、請求項8の発明は、請求項1ないし
7のいずれかの発明に係る欠陥確認装置であって、前記
倍率変更手段により変更された前記撮像倍率に応じて、
前記確認モニタに目盛を表示する目盛表示手段をさらに
備える。
【0015】また、請求項9の発明は、検査対象物上の
欠陥を検出して、欠陥確認装置に対する前記欠陥に関す
る欠陥確認用情報を作成する検査装置であって、前記検
査対象物の検査面を検査画像データとして撮像する撮像
手段と、前記欠陥確認装置に関する固有情報を取得する
情報取得手段と、前記撮像手段により撮像された前記検
査画像データに基づいて、前記検査対象物上の前記欠陥
が存在する欠陥領域を検出する欠陥検出手段と、前記欠
陥検出手段により検出された前記欠陥領域の位置とサイ
ズとに関する欠陥情報を生成する欠陥情報生成手段とを
備え、前記欠陥情報生成手段により生成された前記欠陥
情報と、前記情報取得手段により取得された前記固有情
報とに基づいて、前記欠陥確認用情報を生成する。
【0016】また、請求項10の発明は、検査対象物上
の欠陥を検出して確認する検査装置であって、前記検査
対象物の検査面を画像データとして撮像する撮像手段
と、前記撮像手段により撮像された前記画像データに基
づいて、前記検査対象物上の前記欠陥が存在する欠陥領
域を検出する欠陥検出手段と、前記欠陥検出手段により
検出された前記欠陥領域の位置とサイズとに関する欠陥
情報を生成する欠陥情報生成手段と、前記検査対象物と
前記撮像手段とを相対的に移動させる移動手段と、前記
撮像手段の撮像倍率を変更する倍率変更手段と、前記画
像データに基づいて、前記欠陥領域を表示する欠陥確認
モニタと、前記欠陥情報に基づいて前記欠陥領域のサイ
ズを検出する領域サイズ検出手段と、前記欠陥情報に基
づいて前記欠陥領域の位置を検出する領域位置検出手段
と、前記領域サイズ検出手段により検出された前記サイ
ズに基づいて、前記倍率変更手段を制御する倍率制御手
段と、前記領域位置検出手段により検出された前記位置
に基づいて、前記移動手段を制御する位置制御手段とを
備え、前記倍率制御手段および前記位置制御手段による
制御が行われた後に前記撮像手段により撮像された前記
画像データに基づいて前記欠陥確認モニタが前記欠陥領
域を表示する。
【0017】
【発明の実施の形態】以下、本発明の好適な実施の形態
について、添付の図面を参照しつつ、詳細に説明する。
【0018】<1. 第1の実施の形態>図1は、本実
施の形態における欠陥確認システム1の構成を示す図で
ある。欠陥確認システム1は、検査装置2と欠陥確認装
置3とが別体として設けられ、ネットワーク8を介して
接続された構成となっている。なお、ネットワーク8
は、LAN(Local Area Network)や公衆回線など、検
査装置2と欠陥確認装置3との間で、所定の通信プロト
コルを用いてデータ通信が可能であればどのようなネッ
トワークであってもよい。また、検査装置2および欠陥
確認装置3は、ネットワーク8に複数接続されていても
よい。
【0019】図2は、検査装置2の構成を示すブロック
図である。検査装置2は、検査対象物である基板90の
検査面を撮像する撮像部20、作業者が指示を入力する
操作部21、検査装置2の操作情報などを表示する表示
部22、撮像部20を所定の位置に移動させる移動機構
23、撮像部20により撮像された画像データを処理す
る画像処理部24、ネットワーク8を介して欠陥確認装
置3との間でデータ通信を行う通信部25、他の構成を
制御する制御部26を備える。
【0020】撮像部20は、一般的なCCDカメラの機
能を有し、基板90の検査面を所定の大きさに分割した
ブロックごとに画像データとして撮像し、撮像した画像
データを画像処理部24に伝達する。
【0021】操作部21は、作業者が検査装置2に対し
て指示を入力する場合などに操作される。具体的には、
各種ボタン類、キーボード、マウスなどが該当するが、
トラックボールやジョイスティック、タッチパネルなど
であってもよい。表示部22は、各種データを表示す
る、例えば、液晶ディスプレイなどが該当するが、LE
D(Light Emitting Diode)や表示ランプなどであって
もよい。
【0022】移動機構23は、制御部26からの制御信
号に基づいて、撮像部20を所定の位置に移動させる。
さらに、撮像部20の位置をエンコーダなどのセンサで
検出し、制御部26に伝達する。
【0023】画像処理部24は、撮像部20により撮像
された画像データに撮像されているブロックをさらに、
細分化ブロックに分割する。図3は、本実施の形態にお
ける画像処理部24により、ブロックBLを細分化ブロ
ックSBLに分割する例を示す図である。ブロックBL
は、基板90上の所定の大きさを有する領域である。本
実施の形態において、基板90上の検査面は、当該ブロ
ックBLごとに管理される。
【0024】本実施の形態における検査装置2では、画
像処理部24がブロックBLを8×8の細分化ブロック
SBLにさらに分割して、各細分化ブロックSBLごと
に画像認識処理を行って、欠陥が存在するか否かを判定
する。したがって、欠陥の最小サイズは、細分化ブロッ
クSBL1つ分のサイズとなる。
【0025】さらに、画像処理部24は、ブロックBL
の基板90に対する位置(基板90に対する当該ブロッ
クBLの中心座標(Xbc,Ybc))と、欠陥を検出
した細分化ブロックSBLの当該ブロックBLにおける
位置(Xn,Yn)とに基づいて、欠陥情報を生成し、
制御部26に伝達する。すなわち、欠陥情報とは、欠陥
が検出されたブロックBLごとの欠陥マップ(欠陥の分
布)を示す情報である。また、欠陥情報には、ブロック
BLのサイズ(Xbs,Ybs)と細分化数(n×n:
本実施の形態ではn=8)とを示す情報も含められる。
【0026】通信部25は、画像処理部24により生成
された欠陥情報を制御部26を介して取得し、ネットワ
ーク8を介して欠陥確認装置3に送信する機能を有す
る。制御部26は、図示しないCPUと記憶部とから構
成され、各種データの記憶や演算を実行し、制御信号を
生成することによって他の構成を制御する。
【0027】図4は、欠陥確認装置3の正面図であり、
図5は、欠陥確認装置3の側面図である。図6は、欠陥
確認装置3の構成を示すブロック図である。なお、図4
においては、水平X軸およびY0軸、鉛直Z0軸とが定
義されており、図5では、(1) 水平Y0軸から鉛直面
内で下向きに若干傾きつつX軸と直交するY軸、およ
び、(2) X軸およびY軸と直交するZ軸、も定義され
ている。この実施形態ではY軸およびZ軸は、それぞれ
Y0軸およびZ0軸から傾いているが、Y軸がY0軸、
Z軸がZ0軸とそれぞれ一致していてもよい。
【0028】欠陥確認装置3は、基板90上の欠陥箇所
を画像データとして撮像する撮像部30、作業者の指示
を入力するための操作部31、欠陥確認装置3を操作す
るために必要な情報や、撮像部30によって撮像された
画像データを画面に表示する確認モニタ32、検査ステ
ージ37の両側に配置される左右一対の移動機構33
0、撮像部30をX軸方向に移動させる移動機構33
1、ズーム機構34、基板90を保持する検査ステージ
37、検査ステージ37の両側部分から略水平に掛け渡
された架橋構造を有する支持架台38、確認モニタ32
を欠陥確認装置3の上方に支持する支持部材39、およ
び作業者の安全を確保するための保護カバー40を備え
る。また、欠陥確認装置3は、通信部35および制御部
36を内部に備える。
【0029】撮像部30は、一般的なCCDカメラの機
能を有し、基板90の検査面の所定の領域を画像データ
として撮像し、撮像した画像データを制御部36に伝達
する。
【0030】撮像部30は、一般的なCCDカメラであ
って、撮像レンズなどの光学系の光軸(X軸およびY軸
に略垂直な軸)に沿って入射する光を、内部に有する受
像素子(CCD)によって光電変換することにより、基
板90上の所定の領域を画像データとして撮像するカメ
ラである。なお、光学系の光軸はX軸およびY軸に略垂
直であるから、XY平面は当該光軸に略垂直な面であ
る。
【0031】操作部31は、作業者が欠陥確認装置3に
対して指示を入力する場合などに操作される。具体的に
は、各種ボタン類、キーボード、マウスなどが該当する
が、トラックボールやジョイスティック、タッチパネル
などであってもよい。確認モニタ32は、各種データを
画像として表示する、例えば、液晶ディスプレイなどが
該当する。
【0032】移動機構330は、それぞれ支持架台38
の両側に取り付けられており、支持架台38をY軸方向
に移動させる。支持架台38の移動量および位置は、制
御部36が移動機構330を制御することにより、制御
可能とされている。なお、このような機能を有する移動
機構330として、例えば、サーボモータ、ボールネジ
および送りナットを用いた周知の機構を用いることがで
きる。すなわち、前述の機構では、ボールネジをY軸方
向に沿って延設し、サーボモータにより回転させること
により、送りナットに固定した支持架台38をY軸方向
に移動させ、サーボモータの回転角を制御部36が制御
することにより、支持架台38の位置を制御することが
できる。もちろん、移動機構330の機構としては、こ
れに限られるものではなく、他の周知の機構により実現
してもよい。
【0033】ズーム機構34は、図4および図5におい
て図示を省略しているが、撮像部30の内部に設けられ
ており、制御部36からの制御信号に基づいて、撮像部
30の光学系のズーム位置を変更することにより、撮像
部30の撮像倍率を変更する機能を有する。すなわち、
ズーム機構34が主に本発明における倍率変更手段に相
当する。
【0034】検査ステージ37の上面は、XY平面に略
平行とされており、作業者や図示しない搬送機構などに
より、欠陥確認装置3に移送された基板90が所定の位
置に保持される。
【0035】支持架台38は、検査ステージ37の両側
部分からX軸方向に沿ってXY平面に略平行に掛け渡さ
れた架橋構造を有しており、撮像部30を検査ステージ
37の上方に支持する機能を有する。さらに、支持架台
38には、移動機構331が設けられる。移動機構33
1は、撮像部30が取り付けられ、移動機構330と同
様の機構により、支持架台38上でX軸方向に移動す
る。なお、移動機構331の移動量および位置について
も、制御部36からの制御信号により、制御可能とされ
ている。
【0036】このように、前述の移動機構330および
移動機構331(以下、総称する場合は移動機構33と
称する。)は、XY平面内(撮像部30の光軸に略垂直
な面内)で基板90に対して撮像部30を移動させる。
【0037】保護カバー40は、前述のように、作業者
の安全を確保するだけでなく、他からの入射光を防ぐこ
とにより、撮像部30が鮮明に画像データを撮像できる
ようにする機能を有する。また、保護カバー40は、支
持架台38に固設されており、移動機構330によって
支持架台38とともにY軸方向に移動させられ、常に、
撮像部30の上方を覆うようにされる。
【0038】通信部35は、ネットワーク8を介して検
査装置2との間でデータ通信を行う。これにより、欠陥
確認装置3は、検査装置2から送信される欠陥情報を受
信することができることから、通信部35は主に本発明
における情報取得手段に相当する。
【0039】制御部36は、図6に示すように、欠陥確
認装置3の他の構成と信号の送受が可能な状態で接続さ
れており、作業者からの指示やプログラム、および取得
される各種データなどを記憶したり、各種演算を実行す
ることにより、欠陥確認装置3が備える他の構成をそれ
ぞれ制御する。
【0040】図7は、制御部36の機能構成を信号の流
れとともに示すブロック図である。図7に示す機能構成
のうち、欠陥領域サイズ演算部360、ズーム位置演算
部361、ズームパルス生成部362、座標補正部36
3、欠陥領域座標演算部364、移動パルス生成部36
5、欠陥ラベリング部366、欠陥サイズ演算部36
7、欠陥座標演算部368、円表示部369、および目
盛設定部370は、制御部36内の図示しないCPUが
プログラムに従って動作することにより実現される機能
構成である。
【0041】なお、図7に示す機能構成のうち、欠陥領
域サイズ演算部360、欠陥領域座標演算部364およ
び欠陥ラベリング部366には、通信部35が受信した
欠陥情報が伝達される。
【0042】欠陥領域サイズ演算部360は、欠陥情報
に基づいて、ブロックBL内の欠陥領域DE(図12)
のサイズ(Xsz,Ysz)を求める。すなわち、欠陥
領域サイズ演算部360が主に本発明における領域サイ
ズ検出手段に相当する。なお、欠陥領域DEとは、各ブ
ロックBL内において、欠陥が検出された細分化ブロッ
クSBLがすべて含まれる最小の矩形領域である。
【0043】ズーム位置演算部361は、欠陥領域DE
のサイズ(Xsz,Ysz)に基づいて撮像部30が撮
像すべき撮像範囲CE(図13)の横サイズXceを求
める。なお、本実施の形態における欠陥確認装置3で
は、撮像された撮像範囲CEが確認モニタ32の表示範
囲となる。また、確認モニタ32の画面の縦横比率は
3:4となっており、ズーム位置演算部361が撮像範
囲CEの横サイズXceを求めることにより、そのとき
のY軸方向の縦サイズは自動的に決定される。
【0044】また、ズーム位置演算部361は、求めた
撮像範囲CEの横サイズXceから適切なズーム位置
(以下、「撮像ズーム位置」と称する。)を求め、ズー
ムパルス生成部362、座標補正部363、円表示部3
69および目盛設定部370に伝達する。
【0045】ズームパルス生成部362は、ズーム位置
演算部361により求められた撮像ズーム位置と、現在
の撮像部30のズーム位置とのずれ量を求める。さら
に、ズーム機構34が当該ずれ量だけズーム位置を変更
(撮像部30の撮像倍率を変更)するために必要なズー
ムパルスの数を求めて、当該ズームパルスを生成し、ズ
ーム機構34に伝達する。すなわち、ズームパルス生成
部362が主に本発明における倍率制御手段に相当す
る。
【0046】座標補正部363は、ズーム位置演算部3
61により求められた撮像ズーム位置に基づいて、ズー
ム位置による座標のずれ量(δX,δY)を求め、移動
パルス生成部365および円表示部369に伝達する。
【0047】欠陥領域座標演算部364は、欠陥情報に
基づいて、欠陥領域DEの中心座標(Xct,Yct)
を求め、移動パルス生成部365に伝達する。すなわ
ち、欠陥領域座標演算部364が主に本発明における領
域位置検出手段に相当する。
【0048】移動パルス生成部365は、座標補正部3
63から伝達される撮像ズーム位置による座標のずれ量
(δX,δY)と、欠陥領域座標演算部364から伝達
される欠陥領域DEの中心座標(Xct,Yct)とに
基づいて、撮像部30の撮像位置(X,Y)を求める。
【0049】さらに、移動パルス生成部365は、撮像
位置(X,Y)と、現在の撮像部30の位置とのずれ量
をX軸方向およびY軸方向について求め、それぞれずれ
量分だけ撮像部30を移動させるために必要な移動パル
スを生成し、移動機構33に伝達する。すなわち、移動
パルス生成部365が主に本発明における位置制御手段
に相当する。
【0050】欠陥ラベリング部366は、欠陥領域DE
に含まれる欠陥を一般的な孤立領域計算を用いることに
より、個々の欠陥に分離してその数を検出し、ラベリン
グを行う。
【0051】欠陥サイズ演算部367は、欠陥ラベリン
グ部366によりラベリングされた各欠陥のサイズ(X
ds,Yds)を求め、円表示部369に伝達する。ま
た、欠陥座標演算部368は、各欠陥の中心座標(Xd
c,Ydc)を求めて同じく円表示部369に伝達す
る。
【0052】円表示部369は、欠陥ラベリング部36
6によりラベリングされた各欠陥ごとに、欠陥領域DE
における各欠陥の位置を示すための標識となる円を、欠
陥座標演算部368により求めた各欠陥の中心座標(X
dc,Ydc)に基づいて、確認モニタ32に表示させ
る。すなわち、円表示部369が主に本発明における標
識表示手段に相当する。
【0053】目盛設定部370は、ズーム位置演算部3
61から伝達される撮像ズーム位置に基づいて、確認モ
ニタ32に目盛を表示させる。その際、目盛設定部37
0は、各目盛の色、確認モニタ32上の各目盛の画素間
隔、および表示する最小目盛を設定する。
【0054】以上が、欠陥確認システム1の構成と機能
の説明である。図8ないし図11は、欠陥確認システム
の動作を示す流れ図である。図8ないし図11を用いて
欠陥確認システムの動作を説明する。
【0055】まず、検査装置2に基板90が搬送される
と(ステップS11)、移動機構23が制御部26から
の指示に基づいて、撮像部20を所定の位置に移動させ
つつ、基板90上の検査面の所定の領域(ブロックB
L)を撮像する(ステップS12)。撮像された当該ブ
ロックBLの画像データは、画像処理部24に伝達され
る(ステップS13)。
【0056】次に、画像処理部24が、当該画像データ
に撮像されているブロックBLを細分化ブロックSBL
に分割しつつ、当該細分化ブロックSBLごとに画像認
識処理(パターン認識やパターンマッチングなど)を行
い、配線パターンなどの欠陥の検出を行う(ステップS
14)。
【0057】画像処理部24が、当該ブロックBLに含
まれる細分化ブロックSBLにおいて欠陥を検出した場
合は、移動機構23の位置からブロックBLの中心座標
(Xbc,Ybc)を求め、欠陥を検出した細分化ブロ
ックSBLの当該ブロックBLにおける位置(Xn,Y
n)とともに欠陥情報を生成する(ステップS15およ
びS16)。このとき、ブロックBLのサイズ(Xb
s,Ybs)および細分化数(本実施の形態では8×
8)を欠陥情報に含める。
【0058】さらに、基板90上のすべてのブロックB
Lの撮像が終了するまでステップS12ないしS16の
処理を繰り返し(ステップS17)、基板90上のすべ
てのブロックBLの撮像および欠陥検出が終了すると、
通信部25がネットワーク8を介して欠陥情報を欠陥確
認装置3に送信する(ステップS18)。
【0059】欠陥情報の送信が終了すると、作業者ある
いは搬送機構などにより、基板90を欠陥確認装置3に
搬送する(ステップS19)。
【0060】欠陥確認装置3に基板90が搬送される
と、制御部36が通信部35により受信された欠陥情報
を取得し(ステップS21(図9))、確認作業を行う
ブロックBLを特定する(ステップS22)。
【0061】ステップS22で特定したブロックBLに
ついて、欠陥領域サイズ演算部360が、ブロックBL
内の欠陥領域DEのサイズ(Xsz,Ysz)を求める
(ステップS23)。
【0062】欠陥領域サイズ演算部360は、欠陥情報
から、各ブロックBL内の欠陥領域DEの開始点(Xs
t,Yst)および終了点(Xed,Yed)を取得
し、数1および数2を実行することにより、当該欠陥領
域DEのサイズ(Xsz,Ysz)を求める。
【0063】
【数1】
【0064】
【数2】
【0065】なお、開始点とは、X0からXn側に列単
位で欠陥の有無を確認し、最初に欠陥が見つかった列を
Xstとし、さらにY0からYn側に行単位で欠陥の有
無を確認し、最初に欠陥が見つかった行をYstとした
ときの、(Xst,Yst)で表される点をいう。終了
点とは、XnからX0側に列単位で欠陥の有無を確認
し、最初に欠陥が見つかった列をXedとし、さらにY
nからY0側に行単位で欠陥の有無を確認し、最初に欠
陥が見つかった行をYedとしたとき、(Xed,Ye
d)で表される点をいう。また、細分化ブロックSBL
のサイズ(Xss,Yss)は、欠陥情報に含まれるブ
ロックBLのサイズ(Xbs,Ybs)と、細分化数
(n×n)とに基づいて求めることができる。
【0066】図12(a)ないし(c)は、ブロックB
Lにおける欠陥領域DEの例を示す図である。図12
(a)ないし(c)において斜線が施された領域が検査
装置2により欠陥が検出された細分化ブロックSBLを
示す。
【0067】例えば、図12(a)に示す例では、開始
点(Xst,Yst)は(5,2)であり、終了点(X
ed,Yed)は(6,2)であるから、欠陥領域DE
のサイズ(Xsz,Ysz)は、数1および数2によ
り、(2Xss,Yss)と求まる。また、図12
(c)に示すように、欠陥箇所が複数ある場合は、(X
st,Yst)は(0,2)であり、(Xed,Ye
d)は(6,6)であるから、(Xsz,Ysz)は、
同じく数1および数2により、(7Xss,5Yss)
と求まる。
【0068】なお、当該ブロックBL内において欠陥が
検出された細分化ブロックSBLのうち、最も左上に存
在する細分化ブロックSBLの位置を開始点と置き、最
も右下に存在する細分化ブロックSBLの位置を終了点
としてもよい。その場合は、数1において(Xed−X
st)の絶対値を取って代入して計算し、数2において
(Yed−Yst)の絶対値を取って代入して計算する
ことにより、欠陥領域DEのサイズ(Xsz,Ysz)
が求まる。また、XstとXedとを比較して小さい方
を新たにXstと置き、大きい方を新たにXedと置き
換え、同様にYstとYedとを比較し、小さい方を新
たにYstと置き、大きい方を新たにYedと置き換え
て数1および数2を実行してもよい。
【0069】欠陥領域DEのサイズが求まると、ズーム
位置演算部361が、撮像範囲CEの横サイズXceを
求め、求めた撮像範囲CEの横サイズXceから撮像ズ
ーム位置を求める(ステップS24)。
【0070】図13は、撮像範囲CEと欠陥領域DEと
の関係を例示する図である。図13に示すように、縦に
長い形状の欠陥領域DEを撮像する場合には、Xszを
基準に横サイズXce1を決定すると、確認モニタ32
に表示される範囲は、撮像範囲CE1となり縦方向には
欠陥領域DEが適切に表示されない。そこで、ズーム位
置演算部361は、数3により横サイズXceを求め
る。
【0071】
【数3】
【0072】なお、数3において(A,B)maxと
は、AとBとの大きさの比較を行い、大きい方を採用す
る意であり、SPは余白のために予め定められる所定値
である。
【0073】図14は、撮像範囲CEの横サイズXce
とズーム位置との関係を例示する図である。欠陥確認装
置3では、予め撮像部30のズーム位置(撮像倍率)ご
とに撮像範囲CEの横サイズXceを測定してプロット
し、制御部36にズーム位置変換テーブルとして記憶し
ている。ズーム位置演算部361は、数3により求めた
撮像範囲CEの横サイズXceに基づいて、ズーム位置
変換テーブルを参照することにより撮像ズーム位置を求
める。
【0074】撮像ズーム位置が求まると、ズームパルス
生成部362が、撮像部30を撮像ズーム位置に移動さ
せるために必要なズームパルスを生成してズーム機構3
4に伝達する(ステップS25)。
【0075】次に、座標補正部363が撮像ズーム位置
による座標のずれ量(δX,δY)を求める(ステップ
S26)。
【0076】図15は、撮像部30のズーム位置と、撮
像範囲CEの座標のずれ量(δX,δY)との関係を例
示する図である。欠陥確認装置3では、例えば最もズー
ムアウトしたときの撮像範囲CEの中心点を基準点とし
て定め、撮像部30を静止させた状態でズーム位置のみ
変更し、各ズーム位置における基準点の位置と、当該ズ
ーム位置における撮像範囲CEの中心点とのずれ量を、
X軸方向およびY軸方向について測定する。そして当該
測定値を図15に示すようにプロットして、制御部36
に座標補正変換テーブルとして記憶している。
【0077】したがって、座標補正部363は、ズーム
位置演算部361が求めた撮像ズーム位置に基づいて、
座標補正変換テーブルを参照することにより、撮像ズー
ム位置による座標のずれ量(δX,δY)を求めること
ができる。
【0078】さらに、欠陥領域座標演算部364が欠陥
領域DEの中心座標(Xct,Yct)を求める(ステ
ップS27)。
【0079】欠陥領域座標演算部364は、欠陥情報に
含まれるブロックBLの中心座標(Xbc,Ybc)
と、欠陥領域DEの開始点(Xst,Yst)および終
了点(Xed,Yed)とに基づいて、数4および数5
により、欠陥領域DEの中心座標(Xct,Yct)を
求める。
【0080】
【数4】
【0081】
【数5】
【0082】撮像ズーム位置による座標のずれ量と、欠
陥領域DEの中心座標とが求まると、移動パルス生成部
365が、撮像部30の撮像位置(X,Y)を求め、撮
像部30を撮像位置(X,Y)に移動するために必要な
移動パルスを生成し、移動機構33に伝達する(ステッ
プS28)。
【0083】移動パルス生成部365は、座標補正部3
63から伝達される撮像ズーム位置による座標のずれ量
(δX,δY)と、欠陥領域座標演算部364から伝達
される欠陥領域DEの中心座標(Xct,Yct)とに
基づいて、数6および数7により、撮像部30の撮像位
置(X,Y)を求める。
【0084】
【数6】
【0085】
【数7】
【0086】撮像部30の撮像ズーム位置と撮像位置と
が求まると、欠陥ラベリング部366が、欠陥領域DE
内の各欠陥のラベリングを行う(ステップS31(図1
0))。
【0087】図16(a)ないし(c)は、図12
(a)ないし(c)に示す例について欠陥ラベリング部
366がラベリングを行った例を示す図である。図16
(a)ないし(c)に示すように、欠陥ラベリング部3
66は、隣接する細分化ブロックSBLに欠陥が検出さ
れている場合は、それらを1つの欠陥としてラベリング
する。
【0088】次に、ラベリングされた各欠陥ごとに欠陥
サイズ演算部367が各欠陥のサイズ(Xds,Yd
s)を求め(ステップS32)、さらに、欠陥座標演算
部368が各欠陥の中心座標(Xdc,Ydc)を求め
る(ステップS33)。なお、欠陥サイズ演算部367
および欠陥座標演算部368における演算は、欠陥領域
サイズ演算部360および欠陥領域座標演算部364に
おける演算手法とほぼ同様の手法により行うことができ
る。
【0089】各欠陥のサイズと、各欠陥の中心座標とが
求まると、円表示部369が、欠陥ラベリング部366
によりラベリングされた各欠陥ごとに、確認モニタ32
に表示する円の半径rおよび中心座標(Xcn,Yc
n)を求める(ステップS34)。
【0090】円表示部369は、欠陥サイズ演算部36
7から伝達された欠陥サイズ(Xds,Yds)に基づ
いて、数8により、当該円の半径rを求める。
【0091】
【数8】
【0092】欠陥確認装置3では、ズーム位置ごとに、
確認モニタ32上の1画素と基板90上の実寸法との関
係を予め測定し、制御部36が画素変換テーブルとして
記憶している。したがって、円表示部369は、ズーム
位置演算部361から伝達された撮像ズーム位置に基づ
いて、画素変換テーブルを参照しつつ、半径rを確認モ
ニタ32上の画素数に変換する。
【0093】また、円表示部369は、欠陥座標演算部
368から伝達された欠陥の中心座標(Xdc,Yd
c)と、座標補正部363から伝達されたズーム位置に
よる座標のずれ量(δX,δY)とに基づいて、数9お
よび数10により、円の中心座標(Xcn,Ycn)を
求める。
【0094】
【数9】
【0095】
【数10】
【0096】確認モニタ32に表示する円の半径および
中心座標が求まると、目盛設定部370が、ズーム位置
演算部361から伝達された撮像ズーム位置に基づい
て、確認モニタ32に表示する各目盛の色、最小目盛お
よび各目盛の画素間隔を求める(ステップS35)。
【0097】図17(a)および(b)は、所定のズー
ム位置において表示される目盛の例を示す図である。図
17(a)に示すように、目盛設定部370は、確認モ
ニタ32に対して撮像範囲CEの中央で交わる直線上に
目盛を表示させる。なお、目盛は撮像範囲CEの縁に表
示するようにしてもよい。
【0098】欠陥確認装置3では、ズーム位置ごとに、
表示させる目盛の目盛設定情報が予め記憶されている。
本実施の形態における目盛設定情報には、1mm間隔を
示す赤い目盛MR、0.5mm間隔を示す青い目盛M
B、0.1mm間隔を示す白い目盛MW、0.05mm
間隔を示す緑の目盛MGがそれぞれ設定されている。
【0099】また、目盛設定情報にはズーム位置ごとに
最小目盛が設定されている。なお、最小目盛とは、当該
ズーム位置において撮像された画像データとともに表示
する目盛の最小間隔を示す目盛であり、例えば、図17
(a)に示すズーム位置では最小目盛は目盛MW(0.
1mm間隔)、図17(b)に示すズーム位置では最小
目盛は目盛MG(0.05mm間隔)と設定されてい
る。
【0100】すなわち、目盛設定部370は、目盛設定
情報を参照することにより、各目盛の表示色を取得する
とともに、撮像ズーム位置に基づいて最小目盛を取得す
る。さらに、撮像ズーム位置に基づいて、前述の画素変
換テーブルを参照することにより、各目盛の確認モニタ
32上での画素間隔を求める。
【0101】このように、欠陥確認装置3では、基板9
0上での実寸法に基づいて各目盛の色を予め設定してお
くことにより、ズーム位置が変更され、確認モニタ上の
欠陥の表示サイズが変更された場合であっても、作業者
が当該欠陥の実寸法を、確認モニタ32上で容易に確認
することができる。また、撮像倍率に応じて、目盛の画
素間隔を決定することにより、ズーム位置にかかわら
ず、各目盛の確認モニタ32上での表示間隔を所定の画
素数の範囲内とすることができるため、見やすい目盛を
表示することができる。
【0102】確認モニタ32に表示する目盛の設定が終
了すると、ステップS25で生成したズームパルスに基
づいてズーム機構34が撮像部30を撮像ズーム位置に
移動させるとともに、ステップS28で生成した移動パ
ルスに基づいて移動機構33が撮像部30を撮像位置に
移動させ(ステップS41(図11))、撮像部30が
撮像を開始する(ステップS42)。なお、移動パルス
生成部365が生成する移動パルスのうち、X軸方向の
移動パルスは移動機構331に伝達され、Y軸方向の移
動パルスは移動機構330に伝達される。
【0103】制御部36が撮像部30により撮像された
画像データに必要な処理を行って、欠陥領域DEの画像
を確認モニタ32に表示させるとともに、円表示部36
9がステップS34において求めた半径rおよび中心座
標(Xcn,Ycn)に基づいて確認モニタ32に円を
表示させ、さらに、目盛設定部370がステップS35
で求めた各目盛の色、最小目盛および各目盛の画素間隔
に基づいて確認モニタ32に目盛を表示させる(ステッ
プS43)。
【0104】図20は、図19に示す欠陥領域を、ズー
ム位置による座標のずれ量を考慮せずに撮像した画像の
例を示す図である。図21は、欠陥確認装置3が、図1
9に示す欠陥領域を表示する例を示す図である。ただ
し、図21では、目盛の表示を省略している。
【0105】欠陥確認装置3では、欠陥領域DEのサイ
ズに基づいて、撮像ズーム位置を決定しているため、図
19に示したように欠陥が比較的小さい場合であって
も、作業者が倍率調整作業を行うことなく、図21に示
すように、確認モニタ32に適切な大きさで欠陥領域D
Eを表示することができる。
【0106】また、図20に示すように、例え、欠陥領
域DEの中心座標(Xct,Yct)に基づいて欠陥領
域DEを撮像した場合であっても、ズーム位置による座
標のずれ量(δX,δY)のために欠陥領域DEが撮像
範囲CEの中心位置からずれている。しかし、欠陥確認
装置3では、欠陥領域DEの中心座標(Xct,Yc
t)だけでなく、ズーム位置による座標のずれ量(δ
X,δY)をも考慮した撮像位置(X,Y)において欠
陥領域DEを撮像するため、作業者が位置調整作業を行
うことなく、図21に示すように、撮像範囲CEの中心
位置に欠陥領域DEを表示することができる。
【0107】さらに、円表示部369が表示する円につ
いても、ズーム位置による座標のずれ量(δX,δY)
を考慮せずに、円を表示すると、図20に示すように、
正確に欠陥の位置を示すことができない。しかし、欠陥
確認装置3では、ズーム位置による座標のずれ量(δ
X,δY)を考慮した位置(Xcn,Ycn)に円を表
示することにより、図21に示すように、欠陥を示す位
置に正確に円を表示することができる。
【0108】欠陥領域DEの画像、円および目盛が確認
モニタ32の画面に表示されると、作業者は当該画面を
見ながら当該欠陥に対する確認作業を開始し、欠陥確認
装置3は当該確認作業が終了するまで、画像、円および
目盛を確認モニタ32の画面に表示し続ける(ステップ
S44)。確認作業が終了した時点で、作業者は操作部
31を操作して、欠陥確認装置3に指示を与え、欠陥確
認装置3は、欠陥が検出されたすべてのブロックBLに
ついて、確認作業が終了するまでステップS22からの
処理を繰り返す(ステップS45)。そして、欠陥確認
システム1は、すべてのブロックBLについて確認作業
を終了すると処理を終了する。
【0109】以上のように、欠陥確認装置3では、欠陥
領域サイズ演算部360により検出された欠陥領域DE
のサイズに基づいて、ズーム機構34を制御することが
できる。したがって、当該撮像倍率(ズーム位置)で撮
像された画像データを確認モニタ32に表示することに
より、欠陥領域DEの大きさにかかわらず自動的に、確
認モニタ32上で作業者が確認しやすい大きさで、欠陥
領域DEを表示することができ、欠陥箇所の確認作業の
効率を向上させることができる。
【0110】また、欠陥領域座標演算部364により検
出された欠陥領域DEの位置に基づいて、移動機構33
を制御して、撮像部30を撮像位置に移動させる。した
がって、当該撮像位置で撮像された画像データを確認モ
ニタ32に表示することにより、確認モニタ32上で作
業者が確認しやすい位置(中心位置)に自動的に欠陥領
域DEを表示することができ、欠陥箇所の確認作業の効
率を向上させることができる。
【0111】また、移動パルス生成部365が、ズーム
機構34により変更された撮像倍率に基づいて、移動機
構33を制御することにより、ズーム位置による座標の
ずれを自動的に補正することができる。したがって、確
認モニタ32上の意図した位置に欠陥領域DEを表示す
ることができる。
【0112】また、確認モニタ32に欠陥領域DEを表
示する際に、欠陥の位置を示す標識である円や、目盛
を、欠陥の位置や大きさ、撮像部30の撮像ズーム位置
などに基づいて表示することにより、作業者が欠陥の位
置や大きさを容易に確認することができる。
【0113】<2. 変形例>以上、本発明の実施の形
態について説明してきたが、本発明は上記実施の形態に
限定されるものではなく様々な変形が可能である。
【0114】例えば、上記実施の形態では、検査装置2
と欠陥確認装置3とが別体として設けられ、検査装置2
において外観検査を行い、欠陥確認装置3において欠陥
領域を表示して確認作業を行うとしたが、検査装置2お
よび欠陥確認装置3の両方の機能を備えた一体型の装置
によりそれらを実現してもよい。
【0115】また、検査装置2が、欠陥確認装置3から
各種固有情報(ズーム位置変換テーブルや座標補正変換
テーブルなどに相当する情報)を取得して、欠陥確認用
情報(欠陥確認装置3の撮像部30の撮像ズーム位置や
撮像位置などに相当する情報)を求める演算等を行っ
て、欠陥確認装置3に送信するようにしてもよい。
【0116】また、欠陥確認システム1において行われ
る各種演算等の処理順序は、上記実施の形態に示す順序
に限られるものではなく、同様の処理結果が得られる順
序であれば、どのような順序で実行されてもよい。ま
た、それらの演算手法は、上記実施の形態に示す手法に
限られるものではなく、同様の数学的手法が実行されて
もよい。
【0117】また、欠陥の位置を示す標識は、円に限ら
れるものではなく、他の形状の標識が用いられてもよ
い。また、当該標識として形状や色の異なる複数種類の
標識を用いることにより、欠陥の種類を識別するように
してもよい。
【0118】また、上記実施の形態では、基板90を保
持した検査ステージ37を固定し、撮像部30を移動さ
せて撮像するよう構成したが、例えば、撮像部30を固
定し、検査ステージ37を移動させる機構を設けること
により、撮像部30に対して基板90を移動させるよう
構成してもよい。
【0119】
【発明の効果】請求項1に記載の発明では、領域サイズ
検出手段により検出されたサイズに基づいて、倍率変更
手段を制御し、領域位置検出手段により検出された位置
に基づいて、移動手段を制御することにより、確認しや
すい位置に適切な大きさで欠陥領域を欠陥確認モニタに
表示することができることから、欠陥の確認作業の作業
効率を向上させることができる。
【0120】請求項2ないし8に記載の発明では、請求
項1に記載の欠陥確認システムに最適な欠陥確認装置を
提供することができる。
【0121】請求項4に記載の発明では、位置制御手段
が、倍率変更手段により変更された撮像倍率に基づい
て、移動手段を制御することにより、ズーム位置を変更
することにより生ずる位置ずれを補正することができる
ことから、より正確に確認しやすい位置に欠陥領域を表
示することができる。
【0122】請求項5に記載の発明では、欠陥確認モニ
タに表示された欠陥領域における各欠陥の位置を示すた
めの標識を、欠陥位置検出手段により検出された各欠陥
の位置に基づいて、欠陥確認モニタに表示させることに
より、各欠陥の位置を欠陥確認モニタ上で容易に確認す
ることができる。
【0123】請求項6に記載の発明では、標識表示手段
が、倍率変更手段により変更された撮像倍率に基づい
て、標識を表示する位置を決定することにより、ズーム
位置を変更することにより生ずる位置ずれを補正するこ
とができることから、より正確な位置に標識を表示する
ことができる。
【0124】請求項7に記載の発明では、標識表示手段
が、欠陥サイズ検出手段により検出されたサイズと、倍
率変更手段により変更された撮像倍率とに基づいて、表
示する標識のサイズを決定することにより、各欠陥ごと
に適切な大きさの標識を表示することができる。
【0125】請求項8に記載の発明では、倍率変更手段
により変更された撮像倍率に応じて、確認モニタに目盛
を表示することにより、欠陥の実寸法を、欠陥確認モニ
タ上で容易に確認することができる。
【0126】請求項9に記載の発明では、請求項1に記
載の欠陥確認システムに最適な検査装置を提供すること
ができる。
【0127】請求項10に記載の発明では、領域サイズ
検出手段により検出されたサイズと基づいて、倍率変更
手段を制御し、領域位置検出手段により検出された位置
に基づいて、移動手段を制御することにより、確認しや
すい位置に適切な大きさで欠陥領域を表示することがで
きることから、欠陥の確認作業の作業効率を向上させる
ことができる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本実施の形態における欠陥確認システムの構成
を示す図である。
【図2】検査装置の構成を示すブロック図である。
【図3】本実施の形態における画像処理部により、ブロ
ックを細分化ブロックに分割する例を示す図である。
【図4】欠陥確認装置3の正面図である。
【図5】欠陥確認装置の側面図である。
【図6】欠陥確認装置の構成を示すブロック図である。
【図7】制御部の機能構成を信号の流れとともに示すブ
ロック図である。
【図8】欠陥確認システムの動作を示す流れ図である。
【図9】欠陥確認システムの動作を示す流れ図である。
【図10】欠陥確認システムの動作を示す流れ図であ
る。
【図11】欠陥確認システムの動作を示す流れ図であ
る。
【図12】ブロックBLにおける欠陥領域DEの例を示
す図である。
【図13】撮像範囲と欠陥領域との関係を例示する図で
ある。
【図14】撮像範囲の横サイズとズーム位置との関係を
例示する図である。
【図15】撮像部のズーム位置と、撮像範囲の座標のず
れ量との関係を例示する図である。
【図16】図12に示す例について欠陥ラベリング部が
ラベリングを行った例を示す図である。
【図17】所定のズーム位置において表示される目盛の
例を示す図である。
【図18】従来例において比較的大きい欠陥を表示する
例を示す図である。
【図19】従来例において比較的小さい欠陥を表示する
例を示す図である。
【図20】図19に示す欠陥領域を、ズーム位置による
座標のずれ量を考慮せずに撮像した画像の例を示す図で
ある。
【図21】欠陥確認装置が、図19に示す欠陥領域を表
示する例を示す図である。
【符号の説明】
1 欠陥確認システム 2 検査装置 20 撮像部 22 表示部 23 移動機構 24 画像処理部 25 通信部 26 制御部 3 欠陥確認装置 30 撮像部 32 確認モニタ 33 移動機構 34 ズーム機構 35 通信部 36 制御部 360 欠陥領域サイズ演算部 361 ズーム位置演算部 362 ズームパルス生成部 363 座標補正部 364 欠陥領域座標演算部 365 移動パルス生成部 366 欠陥ラベリング部 367 欠陥サイズ演算部 368 欠陥座標演算部 369 円表示部 370 目盛設定部 90 基板
フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) H05K 3/00 G01B 11/24 F Fターム(参考) 2F065 AA01 AA14 AA20 AA21 AA54 BB02 CC01 DD06 EE05 FF04 HH13 JJ03 JJ26 LL06 NN20 PP12 QQ24 QQ25 QQ31 SS02 SS13 2G051 AA65 AB02 BC10 CA04 CD07 DA01 DA07 DA09 DA15 EA12 EC06 ED08 ED09 ED11 ED15 ED30 5B057 AA03 BA02 CA12 CA16 DA03 DB02 DC04 DC36 5L096 BA03 CA02 DA04 FA59 FA69 GA19 JA11

Claims (10)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】 検査対象物上の欠陥を検出して確認する
    ための欠陥確認システムであって、 (a) 前記検査対象物上の前記欠陥を検出する検査装置
    と、 (b) 前記検査装置により検出された前記欠陥を確認する
    欠陥確認装置と、を備え、 前記検査装置が、 (a-1) 前記検査対象物の検査面を検査画像データとして
    撮像する第1撮像手段と、 (a-2) 前記第1撮像手段により撮像された前記検査画像
    データに基づいて、前記検査対象物上の前記欠陥が存在
    する欠陥領域を検出する欠陥検出手段と、 (a-3) 前記欠陥検出手段により検出された前記欠陥領域
    の位置とサイズとに関する欠陥情報を生成する欠陥情報
    生成手段と、 を有し、 前記欠陥確認装置が、 (b-1) 前記欠陥領域を表示画像データとして撮像する第
    2撮像手段と、 (b-2) 前記検査対象物と前記第2撮像手段とを相対的に
    移動させる移動手段と、 (b-3) 前記第2撮像手段の撮像倍率を変更する倍率変更
    手段と、 (b-4) 前記表示画像データに基づいて、前記欠陥領域を
    表示する欠陥確認モニタと、 を有するとともに、 前記欠陥情報に基づいて前記欠陥領域のサイズを検出す
    る領域サイズ検出手段と、 前記欠陥情報に基づいて前記欠陥領域の位置を検出する
    領域位置検出手段と、 前記領域サイズ検出手段により検出された前記サイズに
    基づいて、前記倍率変更手段を制御する倍率制御手段
    と、 前記領域位置検出手段により検出された前記位置に基づ
    いて、前記移動手段を制御する位置制御手段と、が前記
    欠陥確認システム中に設けられ、 前記第2撮像手段が、前記倍率制御手段および前記位置
    制御手段による制御の後に前記表示画像データを撮像す
    ることを特徴とする欠陥確認システム。
  2. 【請求項2】 検査対象物上の欠陥を確認する欠陥確認
    装置であって、 前記検査対象物上の前記欠陥が存在する欠陥領域の位置
    とサイズとを示す欠陥情報を取得する情報取得手段と、 前記欠陥領域を表示画像データとして撮像する撮像手段
    と、 前記表示画像データに基づいて前記欠陥領域を表示する
    欠陥確認モニタと、 前記撮像手段の撮像倍率を変更する倍率変更手段と、 前記欠陥情報に基づいて前記欠陥領域のサイズを検出す
    る領域サイズ検出手段と、 前記領域サイズ検出手段により検出された前記サイズに
    基づいて前記倍率変更手段を制御する倍率制御手段と、
    を備え、 前記撮像手段が、前記倍率制御手段による制御の後に前
    記表示画像データを撮像することを特徴とする欠陥確認
    装置。
  3. 【請求項3】 請求項2に記載の欠陥確認装置であっ
    て、 前記検査対象物と前記撮像手段とを相対的に移動させる
    移動手段と、 前記欠陥情報に基づいて、前記欠陥領域の位置を検出す
    る領域位置検出手段と、 前記領域位置検出手段により検出された前記欠陥領域の
    位置に基づいて、前記移動手段を制御する位置制御手段
    と、をさらに備え、 前記撮像手段が、前記位置制御手段による制御の後に前
    記表示画像データを撮像することを特徴とする欠陥確認
    装置。
  4. 【請求項4】 請求項3に記載の欠陥確認装置であっ
    て、 前記位置制御手段が、 前記倍率変更手段により変更された前記撮像倍率に基づ
    いて、前記移動手段を制御することを特徴とする欠陥確
    認装置。
  5. 【請求項5】 請求項2ないし4のいずれかに記載の欠
    陥確認装置であって、 前記欠陥領域に含まれる前記欠陥の数を検出して、前記
    欠陥をラベリングするラベリング手段と、 前記ラベリング手段によりラベリングされた各欠陥ごと
    に、前記欠陥領域における位置を検出する欠陥位置検出
    手段と、 前記欠陥確認モニタに表示された前記欠陥領域における
    各欠陥の位置を示すための標識を、前記欠陥位置検出手
    段により検出された各欠陥の位置に基づいて、前記欠陥
    確認モニタに表示させる標識表示手段と、をさらに備え
    ることを特徴とする欠陥確認装置。
  6. 【請求項6】 請求項5に記載の欠陥確認装置であっ
    て、 前記標識表示手段が、 前記倍率変更手段により変更された前記撮像倍率に基づ
    いて、前記標識を表示する位置を決定することを特徴と
    する欠陥確認装置。
  7. 【請求項7】 請求項5または6に記載の欠陥確認装置
    であって、 前記ラベリング手段によりラベリングされた各欠陥ごと
    のサイズを検出する欠陥サイズ検出手段をさらに備え、 前記標識表示手段が、 前記欠陥サイズ検出手段により検出された前記サイズ
    と、前記倍率変更手段により変更された前記撮像倍率と
    に基づいて、表示する前記標識のサイズを決定すること
    を特徴とする欠陥確認装置。
  8. 【請求項8】 請求項2ないし7のいずれかに記載の欠
    陥確認装置であって、 前記倍率変更手段により変更された前記撮像倍率に応じ
    て、前記確認モニタに目盛を表示する目盛表示手段をさ
    らに備えることを特徴とする欠陥確認装置。
  9. 【請求項9】 検査対象物上の欠陥を検出して、欠陥確
    認装置に対する前記欠陥に関する欠陥確認用情報を作成
    する検査装置であって、 前記検査対象物の検査面を検査画像データとして撮像す
    る撮像手段と、 前記欠陥確認装置に関する固有情報を取得する情報取得
    手段と、 前記撮像手段により撮像された前記検査画像データに基
    づいて、前記検査対象物上の前記欠陥が存在する欠陥領
    域を検出する欠陥検出手段と、 前記欠陥検出手段により検出された前記欠陥領域の位置
    とサイズとに関する欠陥情報を生成する欠陥情報生成手
    段と、を備え、 前記欠陥情報生成手段により生成された前記欠陥情報
    と、前記情報取得手段により取得された前記固有情報と
    に基づいて、前記欠陥確認用情報を生成することを特徴
    とする検査装置。
  10. 【請求項10】 検査対象物上の欠陥を検出して確認す
    る検査装置であって、 前記検査対象物の検査面を画像データとして撮像する撮
    像手段と、 前記撮像手段により撮像された前記画像データに基づい
    て、前記検査対象物上の前記欠陥が存在する欠陥領域を
    検出する欠陥検出手段と、 前記欠陥検出手段により検出された前記欠陥領域の位置
    とサイズとに関する欠陥情報を生成する欠陥情報生成手
    段と、 前記検査対象物と前記撮像手段とを相対的に移動させる
    移動手段と、 前記撮像手段の撮像倍率を変更する倍率変更手段と、 前記画像データに基づいて、前記欠陥領域を表示する欠
    陥確認モニタと、 前記欠陥情報に基づいて前記欠陥領域のサイズを検出す
    る領域サイズ検出手段と、 前記欠陥情報に基づいて前記欠陥領域の位置を検出する
    領域位置検出手段と、 前記領域サイズ検出手段により検出された前記サイズに
    基づいて、前記倍率変更手段を制御する倍率制御手段
    と、 前記領域位置検出手段により検出された前記位置に基づ
    いて、前記移動手段を制御する位置制御手段と、を備
    え、 前記倍率制御手段および前記位置制御手段による制御が
    行われた後に前記撮像手段により撮像された前記画像デ
    ータに基づいて前記欠陥確認モニタが前記欠陥領域を表
    示することを特徴とする検査装置。
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Cited By (4)

* Cited by examiner, † Cited by third party
Publication number Priority date Publication date Assignee Title
US7697130B2 (en) 2008-02-28 2010-04-13 Samsung Electronics Co., Ltd. Apparatus and method for inspecting a surface of a wafer
CN107643291A (zh) * 2017-10-25 2018-01-30 佛山市南海鑫隆机工机械有限公司 一种瓷具把手缺陷检测装置及方法
CN107649408A (zh) * 2017-10-25 2018-02-02 佛山市南海鑫隆机工机械有限公司 一种瓷具铁粉自动检测装置及方法
CN109886950A (zh) * 2019-02-22 2019-06-14 北京百度网讯科技有限公司 电路板的缺陷检测方法和装置

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