JP2003266696A - 静電アクチュエータ、液滴吐出ヘッド及びインクジェット記録装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 低コストで安定した高い駆動効率及び動作特
性が得られない。 【解決手段】 振動板１０の変形可能領域に、互いに電
気的に分離した相隣り合う第１の電極１４ａと第２の電
極１４ｂを設け、一方の第１の電極１４ａは結晶シリコ
ンで形成し、他方の第２の電極１４ｂは内部を結晶シリ
コンで形成し、外部をポリシリコンで形成し、第１の電
極１４ａと第２の電極１４ｂとの間で静電力を発生させ
て振動板１０を変形させる。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【産業上の利用分野】本発明は静電アクチュエータ、液
滴吐出ヘッド及びインクジェット記録装置に関する。

【０００２】

【従来の技術】プリンタ、ファクシミリ、複写装置等の
画像記録装置或いは画像形成装置として用いるインクジ
ェット記録装置において使用する液滴吐出ヘッドである
インクジェットヘッドは、インク滴を吐出する単一又は
複数のノズル孔と、このノズル孔が連通する吐出室（イ
ンク室、液室、加圧液室、圧力室、インク流路等とも称
される。）と、吐出室内のインクを加圧する圧力を発生
する圧力発生手段とを備えて、圧力発生手段で発生した
圧力で吐出室内インクを加圧することによってノズル孔
からインク滴を吐出させる。

【０００３】なお、液滴吐出ヘッドとしては、例えば液
体レジストを液滴として吐出する液滴吐出ヘッド、ＤＮ
Ａの試料を液滴として吐出する液滴吐出ヘッドなどもあ
るが、以下ではインクジェットヘッドを中心に説明す
る。また、液滴吐出ヘッドのアクチュエータ部分を構成
するマイクロアクチュエータは、例えばマイクロポン
プ、マイクロ光変調デバイスなどの光学デバイス、マイ
クロスイッチ（マイクロリレー）、マルチ光学レンズの
アクチュエータ（光スイッチ）、マイクロ流量計、圧力
センサなどにも適用することができる。

【０００４】ところで、液滴吐出ヘッドとしては、圧力
発生手段として圧電素子などの電気機械変換素子を用い
て吐出室の壁面を形成している振動板を変形変位させる
ことでインク滴を吐出させるピエゾ型のもの、吐出内に
配設した発熱抵抗体などの電気熱変換素子を用いてイン
クの膜沸騰でバブルを発生させてインク滴を吐出させる
バブル型（サーマル型）のもの、吐出室の壁面を形成す
る振動板を静電力で変形させることでインク滴を吐出さ
せる静電型のものなどがある。

【０００５】近年、環境問題から鉛フリーであるバブル
型、静電型が注目を集め、鉛フリーに加え、低消費電力
の観点からも環境に影響が少ない、静電型のものが複数
提案されている。

【０００６】この静電型インクジェットヘッドとして
は、例えば、特開平６−７１８８２号公報に記載されて
いるように、一対の電極対がエアギャップを介して設け
られており、片方の電極が振動板として働き、振動板の
対向する電極と反対側にインクが充填されるインク室が
形成され、電極間（振動板−電極間）に電圧を印加する
ことによって電極間に静電引力が働き、電極（振動板）
が変形し、電圧を除去すると振動板が弾性力によっても
との状態に戻り、その力を用いてインク滴を吐出するも
のがある。

【０００７】また、特開２０００−１５８０５号公報に
記載されているように、シリコン基板からなる振動板表
面に突起部を設け、この突起部に電極を形成し、電極に
電圧を印加することによって突起部間に作用するという
静電力によって振動板を変形させ、インク滴を吐出する
ものとするものもある。

【０００８】さらに、特開２００１−４７６２４号公報
に記載されているように、櫛歯状に形成され互いに入れ
子になった電極対の片方に振動板を備え、電極対に電圧
を印加することによって櫛歯間に静電引力を発生させ、
電極の変位により振動板を変形させ、電圧を切った時に
振動板の弾性力でインクを吐出するものもある。

【０００９】

【発明が解決しようとする課題】しかしながら、上述し
た振動板とこれに対向する電極（電極対）を用いるヘッ
ドにあっては、振動板の変位を大きくすることができ
ず、大きな排除体積を得ることが難しく、大きなインク
液滴を吐出することが困難である。また、インク液吐出
の圧力発生手段として振動板の戻りバネ力を利用してい
るため、液吐出のための圧力制御性が良くなく高精度の
液滴量制御が難しく、高画質化を達成することが困難で
ある。さらに、低電圧化のためには電極間のエアギャッ
プを非常に小さくしなければならず、そのような微小な
ギャップを精度良く、バラツキ少なく形成するのは非常
に困難であり、歩留まりが上がらないといった問題があ
る。

【００１０】また、櫛歯状に形成され互いに入れ子にな
った電極対の片方に振動板を備えたヘッドにあっては、
櫛歯状電極を用いているので変位量は大きくすることが
できるが、発生力は非常に小さく、インク滴を吐出する
だけの発生力を得ようとした場合、非常に電圧が高くな
ってしまうという課題がある。しかも、構造が複雑であ
るので作製が困難であり、コスト高となってしまうとい
う課題もある。

【００１１】さらに、導電性を有するシリコン基板で形
成した振動板に突起部を設けて、この突起部に導電性部
材の電極を形成したヘッドにあっては、そもそもシリコ
ン振動板を介して各電極間が同電位になってしまうため
に電極間で静電力が発生せず、振動板を変形できないと
いう課題がある。

【００１２】しかも、振動板に突起部を形成して、この
突起部に電極を付けなければならず、そのような立体微
細構造の表面に電極を付けるのは困難であり、電極がう
まく形成されない部分ができたり、バラツキが生じたり
で、安定して製造できなく歩留まりが悪いという課題が
ある。

【００１３】さらに、低電圧化のためには突起間の間隔
は狭くしなければならないが、そのような狭い間隔の中
に電極を形成するのは困難であり、また狭い突起間に電
極を形成するとショートしてしまうという不良が生じた
りする。また、突起部に電極を形成することは、立体構
造でのフォトリソ工程はレジストコート、露光などが困
難であることから、一般的な方法では不可能であり、そ
のため特別な装置を使用したり、製造工程が長くなった
りしてコスト高となってしまうという課題がある。

【００１４】さらにまた、突起部を振動板と一体で形成
すると、突起部の高さはエッチング、レーザー加工、放
電加工、機械加工などの加工方法による溝の深さで決定
されるので高さ精度よく加工するのが困難である。振動
板のたわみ量は突起の高さに依存し、突起の高さがばら
つくと振動板のたわみ量の原因となり、液吐出特性のば
らつきが生じる。また、突起部間の間隔は溝加工するこ
とによって形成されるので、微小間隔を形成するのが困
難である。さらに、突起部間に働く静電気力は突起部間
の間隔に依存し、突起部間の間隔の２乗に反比例するの
で、突起部間の間隔が大きいと静電気力が急激に小さく
なり、駆動電圧を高くしなければならないというような
課題もある。

【００１５】本発明は上記の課題に鑑みてなされたもの
であり、低コストで、駆動効率が高く、安定した動作特
性が得られる静電アクチュエータ、この静電アクチュエ
ータを備えることで、滴吐出効率が高く、安定した滴吐
出特性が得られる液滴吐出ヘッド、この液滴吐出ヘッド
を備えることで高画質記録が可能なインクジェット記録
装置を提供することを目的とする。

【００１６】

【課題を解決するための手段】上記の課題を解決するた
め、本発明に係る静電アクチュエータは、可動部分に
は、結晶シリコンで形成された構造体からなる第１の電
極と、内部が結晶シリコンで、外部がポリシリコンでそ
れぞれ形成された構造体からなる第２の電極とを、電気
的に互いに絶縁分離して設け、第１、第２の電極間に作
用する静電力によって可動部分を変形させるものであ
る。

【００１７】ここで、可動部分を形成する部材と各電極
との間には低融点酸化物層が存在していることが好まし
い。また、第２の電極は内部の結晶シリコンと外部のポ
リシリコンが電気的に接続されていることが好ましい。
さらに、各電極は可動部分側に幅の狭い柱状部を有する
ことが好ましく、この場合、柱状部はポリシリコンで形
成されていることが好ましい。さらにまた、各電極の間
隔は犠牲層のエッチングによって形成されたことが好ま
しい。

【００１８】本発明に係る液滴吐出ヘッドは、液滴を吐
出するノズル孔が連通する吐出室の壁面の一部を形成す
る可動部分を有する振動板を備え、この振動板の可動部
分を変形させる本発明に係る静電アクチュエータを備え
ているものである。

【００１９】ここで、インクを供給するインクタンクを
一体に備えることができる。

【００２０】本発明に係るインクジェット記録装置は、
インク滴を吐出させるインクジェットヘッドが本発明に
係る液滴吐出ヘッドである構成としたものである。

【００２１】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を添付
図面を参照して説明する。図１は、本発明の液滴吐出ヘ
ッドの第１実施形態に係るインクジェットヘッドの分解
斜視図で、一部断面図で示している。図２は同ヘッドの
振動板長手方向の断面説明図、図３は同ヘッドの振動板
短手方向の断面説明図、図４は同ヘッドの電極配置パタ
ーンを示す平面説明図、図５は同ヘッドの作用説明に供
する要部拡大説明図である。

【００２２】このインクジェットヘッドは、インク液滴
を基板の面部に設けたノズル孔から吐出させるサイドシ
ュータタイプのものであり、下記に詳述する構造を持つ
３枚の第１、第２、第３基板１、２、３を重ねて接合し
た積層構造となっており、インク滴を吐出する複数のノ
ズル孔４、各ノズル孔４が連通する吐出室６、各吐出室
６に流体抵抗部７を介してインクを供給する共通液室
（共通インク室）８などを形成している。なお、基板の
端部に設けたノズル孔からインク滴を吐出させるエッジ
シュータタイプとすることもできる。

【００２３】中間の第１基板１は、シリコン基板からな
り、底壁を振動板１０とする吐出室６を形成するための
凹部と、各々の吐出室６にインクを供給するための共通
液室８を形成するための凹部を有する。

【００２４】この振動板１０の下面には接合層である低
融点酸化物層１２を介して絶縁膜１１を形成し、絶縁膜
１１の表面に電気的に互いに絶縁分離された構造体から
なり、相互間で静電力を発生するための複数の電極１４
を所定の間隔を置いて形成している。

【００２５】この場合、振動板１０と各電極１４とは絶
縁膜１１で電気的に分離され、また各電極１４のうちの
異なる電位が印加される相隣り合う２つの電極１４（こ
れを第１の電極１４ａ、第２の電極１４ｂという。）も
空隙によって相互に電気的に分離される。振動板１０と
複数の電極１４によって可動部分である振動板１０（吐
出室６に対応する変形可能領域）を変形させる本発明に
係る静電アクチュエータを構成している。

【００２６】ここで、互いに電気的に分離した相隣り合
う第１の電極１４ａと第２の電極１４ｂのうち、一方の
第１の電極１４ａは結晶シリコンで形成し、他方の第２
の電極１４ｂは内部を結晶シリコンで形成し、外部をポ
リシリコンで形成している。なお、そして、第１の電極
１４ａ、第２の電極１４ｂは、図４に示すように櫛歯状
に形成配置し、駆動回路（ここでは発信回路で図示）１
５から互いに電位差を生じる駆動電圧（異なる電位の電
圧）が印加されるようになっている。

【００２７】この第１基板１の下面に接合される第２基
板２は、電極１４を外部からの衝撃やホコリなどから保
護したり、第１基板１の強度を補強したりするための保
護基板である。この第２基板２には、ガラス、金属、シ
リコン、樹脂などからなる基板などを使用し、この基板
２には各振動板１０に対応する位置に例えば１ｍｍの深
さの凹部１６を形成している。ただし、必ずしも振動板
１０ごとに凹部１６を形成する必要はなく、振動板配列
を囲む凹部、あるいはチップの縁のみ接合される凹部を
形成する構成でも良い。また、完全に密封すると使用環
境の大気圧変動により振動板が変形してしまうことがあ
る。そのような場合、完全密封でなく一部大気開放され
ていてもよい。

【００２８】また、第１基板１の上面に接合される第３
基板３には、例えば厚さ５０μｍのニッケル基板を用
い、第３基板３の面部に、吐出室６と連通するようにそ
れぞれノズル孔４、共通液室８と吐出室６を連通させる
流体抵抗部７となる溝を設け、また共通液室８と連通す
るようにインク供給口９を設けている。

【００２９】このように構成したインクジェットヘッド
の動作を説明する。例えば図４の構成において、第１の
電極１４ａに発振回路１５により０Ｖから４０Ｖのパル
ス電位を印加すると、第１の電極１４ａの表面がプラス
に帯電し、パルス電位を印加していない隣り合う第２の
電極１４ｂとの間で静電力が発生して、静電気の吸引作
用が働き、図５に示すように、第１、第２の電極１４
ａ、１４ｂの自由端（振動板１０側が固定端）が引き合
って電極１４ａ、１４ｂが変位し、これらの電極１４
ａ、１４ｂの自由端側が変位することで、電極１４ａ、
１４ｂの固定端側である振動板１０が上方へ撓むことに
なる。その結果、吐出室６内の圧力が急激に上昇し、図
３に示すように、ノズル孔４よりインク液滴２２を記録
紙２３に向けて吐出される。

【００３０】そして、第１の電極１４ａの電位が０Ｖに
戻ると、第２の電極１４ｂとの間に電位差はなくなり、
振動板１０は元の状態に復元する。振動板１０が復元す
ることにより、インクが共通液室８より流体抵抗部７を
通じて吐出室６内に補給される。なお、第１の電極１４
ａと第２の電極１４ｂに対する異なる電位の印加は上述
と逆でもよい。すなわち、結晶シリコンで形成した第１
の電極１４ａに０Ｖから４０Ｖのパルス電位を印加する
に代えて、内部を結晶シリコンで、外部をポリシリコン
で形成した第２の電極１４ｂに０Ｖから４０Ｖのパルス
電位を印加することもできる。

【００３１】ここで、電極間に働く力Ｆは、次の（１）
式に示すように電極間距離ｄの２乗に反比例して大きく
なる。低電圧で駆動するためには、第１の電極１４ａと
第２の電極１４ｂとの間隔、つまり電極１４間の溝を狭
く形成することが重要となる。また、静電力の作用する
部分の面積Ｓを大きくすることも重要となり、面積Ｓを
大きくするには電極１４の高さを高くする。

【００３２】

【数１】

【００３３】なお、（１）式において、Ｆ：電極間に働
く力、ε：誘電率、Ｓ：電極の対向する面の面積、ｄ：
電極間距離、 Ｖ：印加電圧である。

【００３４】このように、振動板１０の可動部分となる
領域にそれぞれ電気的に分離独立した第１、第２の電極
１４ａ、１４ｂを設け、両者間に電位差を生じる電圧を
印加することによって、隣り合う第１の電極１４ａと第
２の電極１４ｂとの間で静電引力が発生し、電極１４の
わずかな変位により振動板１０の大きな変位を得ること
ができる静電アクチュエータが得られ、この静電アクチ
ュエータを用いることで、安定した滴吐出特性が得ら
れ、滴吐出効率が向上し、高画質記録が可能になる。

【００３５】さらに、振動板１０と電極１４との間を電
気的に分離しているので、従来のように電極に電圧を印
加しても振動板を介してすべての電極が同電位になって
作動不良になることもなく、電極１４に印加した電圧が
振動板１０側にリークすることもなく、効率良く電極１
４に電圧を印加することができる。また、振動板１０が
電極１４と絶縁分離されていることで、駆動電圧が液
（ここではインク）に印加されることがなく、駆動電圧
印加時の電気分解による液の変質が発生することがな
く、信頼性が向上し、高画質記録が可能になる。

【００３６】なお、電極１４は振動板１０の下側に設け
た場合を例として説明したが、振動板１０の上側（液室
内）に設けてもよい。この場合には、電極１４とインク
との絶縁を取るため電極１４表面に絶縁膜を設けるほう
が好ましい。

【００３７】そして、この実施形態においては、電極１
４として、結晶シリコンで形成した第１の電極１４ａ
と、内部を結晶シリコンで、外部をポリシリコンで形成
した第２の電極１４ｂとを設けるので、高い精度で高さ
の高い電極を形成できて、静電力を大きくすることがで
き、より駆動効率が向上して滴吐出効率が向上し、また
ポリシリコンの成膜が少なくてすむことからコストの低
減、時間の短縮化を図れる。

【００３８】そこで、このヘッドの電極１４の製作工程
の一例について図６ないし図８を参照して説明する。先
ず、図６（ａ）に示すように、シリコン基板３１にシリ
コン窒化膜３２を厚さ０．１μｍ、続いて低融点酸化物
層３３を厚さ０．１μｍ形成する。

【００３９】シリコン窒化膜３２は、プラズマＣＶＤや
ＬＰ-ＣＶＤなどの成膜方法により成膜する。プラズマ
ＣＶＤではシリコン基板３１の片面にのみ成膜される
が、ＬＰ−ＣＶＤでは基板３１の両面に同時に成膜され
るので、成膜後片面のシリコン窒化膜を除去する。

【００４０】低融点酸化物層３３としては、例えば、Ｂ
ＳＧ、ＰＳＧ、Ａｓガラスなど不純物の混入した低融点
ガラス層、あるいはＢ₂Ｏ₃層など１０００℃以下で軟化
する膜が挙げられる。

【００４１】次いで、同図（ｂ）に示すように、別のシ
リコン基板３４を低融点酸化物層３３側に接合する。こ
のときの接合方法は、２枚の基板を貼り合わせ、そのま
ま８００〜１０００℃の炉で１時間熱処理を行う。熱処
理によって低融点酸化物層３３が軟化し２枚の基板は強
固に接合される。

【００４２】すなわち、シリコンと熱酸化膜の接合はそ
のまま１０００〜１２００℃で直接接合が可能である
が、本実施形態では、シリコンと窒化膜の接合となるの
で直接接合では強固な接合ができない。そこで、シリコ
ンと窒化膜の間に低融点酸化物層３３を介在させること
によって低温でしかも強固な接合が可能になる。これに
より、高温熱処理に絶えられる高価な材料を使う必要も
なくなり、コストダウンを図れ、また、接合強度が大き
いので信頼性や歩留りが向上する。

【００４３】次に、同図（ｃ）に示すように、シリコン
基板３１を厚さ２０μｍまで研磨して薄くする。そし
て、同図（ｄ）に示すように、シリコン基板３１上に酸
化膜を成膜しフォトリソ技術により酸化膜３５のパター
ンを形成する。

【００４４】さらに、図７（ａ）に示すように、シリコ
ン基板３１及び酸化膜３５の上にレジストパターン３６
を形成する。そして、このレジストパターン３６をマス
クとして、シリコン基板３１にドライエッチングによっ
て窒化膜３２に達するまでエッチングを行い、幅２μｍ
の溝３７を形成する。この溝３７の深さはシリコン基板
３１の厚さである２０μｍである。その後、同図（ｃ）
に示すように、レジストパターン３６をレジスト剥離液
やアッシャーなどによって除去する。

【００４５】次いで、図８（ａ）に示すように、熱酸化
によってシリコン基板３１表面に熱酸化膜３８を０．２
μｍ厚みに形成する。このとき、酸化膜３５があった部
分は厚くなる。

【００４６】次に、同図（ｂ）に示すように、ポリシリ
コン４０を１．５μｍ厚みに成膜する。溝３７の溝幅は
２μｍで形成したので、１．５μｍのポリシリコン４０
によって溝３７は完全に埋め込まれる。

【００４７】その後、同図（ｃ）に示すように、ポリシ
リコン４０の表面を研磨あるいはドライエッチングによ
って酸化膜３８が現れるまで除去し、同図（ｄ）に示す
ように、フッ酸系エッチング液によって露出している酸
化膜３８をエッチング除去する。

【００４８】これにより、シリコン基板３１から形成し
た結晶シリコンからなる第１の電極１４ａと、内部がシ
リコン基板３１から形成した結晶シリコンで、外部が酸
化膜３８を介して形成したポリシリコン４０からなる第
２の電極１４ｂが形成される。

【００４９】なお、液室６、共通液室８は前述したシリ
コン基板３４を水酸化カリウム水溶液などのアルカリ液
による異方性エッチングによって形成する。シリコン基
板３４を所望の厚さだけ残してエッチングを終了するこ
とによって振動板１０が形成される。振動板１０の厚さ
を精度よく作製するには、高濃度ボロンによるエッチン
グストップ、ＳＯＩ基板を用いた酸化膜によるエッチン
グストップなどを用いることができる。また、シリコン
基板３４をエッチング貫通してしまい低融点酸化物層３
３でエッチングストップし、窒化膜３２と低融点酸化物
層３３の積層構造、あるいは窒化膜３２を振動板とする
こともできる。

【００５０】ここで、隣り合う第１の電極１４ａと第２
の電極１４ｂとの間隔は、熱酸化膜３８の厚さによって
決定される。熱酸化膜３８を犠牲層として電極間隔を形
成した。ここでは熱酸化膜３８の厚さを０．２μｍとし
たので、電極１４間の間隔は０．２μｍとなる。周知の
ごとく熱酸化膜は非常に薄く、しかも精度よく均一に成
膜することが可能であるので、非常に狭い電極間間隔を
精度よく均一に作製することができ、そのため前述のよ
うに大きな静電力を発生することができ、低電圧でイン
ク滴を吐出することができる。

【００５１】また、電極１４の高さはシリコン基板３１
を研磨して残す厚さによって規定されるので、精度よく
しかも高さの高い電極１４を形成することができる。さ
らに、ポリシリコン４０はドライエッチングでシリコン
基板３１に形成した溝３７を埋め込むだけの厚さを成膜
すればよく、コストや時間のかかるポリシリコンの成膜
は少なくてすみ、低コスト化、工程の短縮化を図れる。

【００５２】つまり、前述したように隣り合う電極間で
生じる静電力は電極間隔と対向する電極の面積に関係
し、低い電圧で大きく振動板を変形させるためには、電
極間隔を狭くするとともに、電極の高さを大きくし、か
つ電極間の力の働く領域（静電力作用部）を大きくしな
ければならない。

【００５３】ここで、電極全体をポリシリコン膜を用い
てエッチングで電極間隔を形成する場合、静電力作用部
はポリシリコンの成膜する厚さに依存し、電極間の力の
働く領域を大きくしようとすれば、ポリシリコンを厚く
成膜しなければならないことになる。

【００５４】しかしながら、ポリシリコンを一度に厚く
成膜しようとすると粒界が形成されてしまうため、１〜
１．５μｍ程度の成膜を繰り返して厚いポリシリコンを
積層形成する方法を取ることになる。

【００５５】ところが、その後のポリシリコン層にドラ
イエッチングによって電極間隔となる狭い溝を形成して
ギャップを形成する工程において、積層されたポリシリ
コンの界面にごく薄い自然酸化膜が形成されているた
め、その自然酸化膜がドライエッチングのストップ層と
して働き溝が形成されなくなるということが生じ得る。
また、ポリシリコンを厚く形成するには非常にコストが
かかることになる。

【００５６】さらに、ポリシリコンに溝を形成するのに
ドライエッチングを用いると、非常に細い溝を深く精度
よく形成するのが困難である。また前述のように電極の
高さは高く（電極層を厚く）しなければならないが電極
層が厚くなるとなおさら細い溝を形成するのが困難にな
る。

【００５７】これに対して、本発明によれば、電極の１
つは結晶シリコンで形成し、他の１つは結晶シリコンの
外部をポリシリコンで覆って形成するので、電極全体を
ポリシリコンで形成する場合に生じる上述したような不
具合を解消することができ、高さの高い電極、つまり静
電力作用部の大きな電極を、高精度に、しかも低コスト
に製作することができる。

【００５８】次に、同第２実施形態に係るインクジェッ
トヘッドの電極１４の構成についてその製作工程ととも
に図９を参照して説明する。この例では、前記図６及び
図７の工程を経た後、図９（ａ）に示すように、熱酸化
膜３８に開口３９を形成する。したがって、同図（ｂ）
〜（ｄ）の各工程において、図８（ｂ）〜（ｄ）と同様
に、ポリシリコン４０を１．５μｍ厚みに成膜すること
で、溝３７及び開口３９は完全に埋め込まれ、ポリシリ
コン４０の表面を研磨あるいはドライエッチングによっ
て酸化膜３８が現れるまで除去し、フッ酸系エッチング
液によって露出している酸化膜３８をエッチング除去す
る。

【００５９】これにより、シリコン基板３１から形成し
た結晶シリコンからなる第１の電極１４ａと、内部がシ
リコン基板３１から形成した結晶シリコンで、外部が酸
化膜３８を介して形成したポリシリコン４０からなる第
２の電極１４ｂが形成され、第２の電極１４ｂは内部の
結晶シリコンと外部のポリシリコンとが開口３９を介し
て電気的に接続された状態になる。

【００６０】したがって、開口３９を有しない前記第１
実施形態の第２電極１４ｂでは表面のポリシリコン４０
のみに導通するが、開口３９を設けたことによってポリ
シリコン４０とシリコン３１が電気的に接続され、両方
に導通することになる。よって、第２の電極１４ｂの電
気抵抗が小さくなり、電気的ロスが小さくなり高周波数
駆動が可能になる。

【００６１】次に、同第３実施形態に係るインクジェッ
トヘッドの電極１４の構成についてその製作工程ととも
に図１０ないし図１３を参照して説明する。この実施形
態は、電極１４が振動板１０側で幅が小さくなる柱状部
を設けることで、振動板がたわむことのできる領域を大
きくして、より大きな振動板の変位が得られるようにし
たものである。

【００６２】すなわち、シリコン基板４１にシリコン窒
化膜４２を厚さ０．１μｍ形成する。シリコン窒化膜４
２は、プラズマＣＶＤやＬＰ-ＣＶＤなどの成膜方法に
より成膜する。プラズマＣＶＤではシリコン基板４１の
片面にのみ成膜されるが、ＬＰ−ＣＶＤでは基板４１の
両面に同時に成膜されるので、成膜後片面のシリコン窒
化膜を除去する。

【００６３】次いで、同図（ｂ）に示すように、シリコ
ン窒化膜４２の上に酸化膜を０．５μm形成し、フォト
リソ技術によりパターニングを行い酸化膜パターン４３
を形成する。

【００６４】そして、同図（ｃ）に示すように、その上
にポリシリコン４４を０．７μｍ厚みに成膜し、表面の
ポリシリコン４４を酸化膜パターン４３の表面が現れる
まで研磨する。このポリシリコンは最終的には電極１４
の幅の狭い柱状部に相当する部分となるものである。

【００６５】電極１４の柱状部をポリシリコンで形成す
ることによって、犠牲層となる酸化膜をフッ酸系エッチ
ング液でエッチング除去する工程でポリシリコンはエッ
チングされないで残り、電極の柱状部を形成することが
できる。なお、窒化膜もフッ酸系エッチング液ではエッ
チングされない材料であるので、電極の柱状部の形成用
いることができるが、１μｍ程度の比較的厚い成膜が容
易であること、研磨が容易であるという点ではポリシリ
コンが好ましい。

【００６６】次いで、同図（ｄ）に示すように、シリコ
ン窒化膜４５を０．１μｍ成膜し、続いて、前記同様
に、低融点酸化物層４６を成膜する。

【００６７】その後、図１１（ａ）に示すように、別の
シリコン基板４７を低融点酸化物層４６側に接合する。
このときの接合方法は前記実施形態と同様である。次
に、シリコン基板４１を厚さ２０μｍまで研磨して薄く
する。

【００６８】そして、同図（ｂ）に示すように、シリコ
ン基板４１上に酸化膜を成膜しフォトリソ技術により酸
化膜４８のパターンを形成し、続いて、同図（ｃ）に示
すように、シリコン基板４１及び酸化膜４８の上にレジ
ストパターン４９を形成する。

【００６９】その後、図１２（ａ）に示すように、レジ
ストパターン４９をマスクとしてシリコン基板４１をド
ライエッチングによって窒化膜１５に達するまでエッチ
ングし、溝幅は２μｍの溝５０を形成する。この溝５０
の深さはシリコン基板４１の厚さである２０μｍであ
る。

【００７０】その後、同図（ｂ）に示すように、レジス
トパターン４９をレジスト剥離液やアッシャーなどによ
って除去し、熱酸化によってシリコン基板４１表面に熱
酸化膜５１を０．２μｍ厚みに形成する。このとき、酸
化膜４８があった部分は厚くなる。

【００７１】次に、同図（ｃ）に示すように、ポリシリ
コン５２を１．５μｍ厚みに成膜する。溝５０の溝幅は
２μｍで形成したので、１．５μｍのポリシリコン５２
によって溝５０は完全に埋め込まれる。

【００７２】その後、図１３（ａ）に示すように、ポリ
シリコン５２の表面を研磨あるいはドライエッチングに
よって酸化膜５１が現れるまで除去し、同図（ｂ）に示
すように、フッ酸系エッチング液によって露出している
酸化膜５１をエッチング除去する。

【００７３】これにより、シリコン基板４１から形成し
た結晶シリコンからなる第１の電極１４ａと、内部がシ
リコン基板４１から形成した結晶シリコンで、外部が酸
化膜５１を介して形成したポリシリコン５２からなる第
２の電極１４ｂが形成され、かつ、これらの第１、第２
の電極１４ａ、１４ｂには幅の狭いポリシリコン４４か
ら形成された柱状部１４ｃが形成される。

【００７４】なお、図１３（ｂ）の工程でエッチングを
長く行うと電極１４ｂの中の酸化膜５１は下側からエッ
チングが進行するので電極１４ｂの中の酸化膜５１に達
した時点で時間制御によってエッチングを終了する。酸
化膜５１のエッチングが多少進行しても動作にはほとん
ど影響しないので、時間制御によって管理可能である。

【００７５】このように、電極１４の振動板側（固定端
側）に幅の狭い柱状部１４ｃを設けることにより、振動
板１０がたわむことのできる領域が大きくなり、より大
きな振動板の変位が低電圧で得られるようになる。

【００７６】次に、本発明に係る液滴吐出ヘッドのイン
クカートリッジ一体型ヘッドについて図１４を参照して
説明する。このインクカートリッジ一体型ヘッド１００
は、ノズル孔１０１等を有する上記各実施形態のいずれ
かのインクジェットヘッド１０２と、このインクジェッ
トヘッド１０２に対してインクを供給するインクタンク
１０３とを一体化したものである。

【００７７】このようにインクタンク一体型のヘッドの
場合、ヘッドの低コスト化は、ただちにインクカートリ
ッジ全体の低コスト化につながるので、上述したように
低コスト化することで、インクカートリッジ一体型ヘッ
ドの低コスト化を図れる。またインクカートリッジにド
ライバを載せた場合、ドライバコストもインクカートリ
ッジに載ってくる。本発明に係る液滴吐出ヘッドでは低
電圧での駆動が可能であるので、ドライバの耐圧も小さ
くてすみ、低コスト化を図れる。

【００７８】次に、本発明に係るインクジェットヘッド
（ヘッド一体型のインクカートリッジを含む。）を搭載
したインクジェット記録装置の機構の一例について図１
５及び図１６を参照して説明する。なお、図１５は同記
録装置の斜視説明図、図１６は同記録装置の機構部の側
面説明図である。

【００７９】このインクジェット記録装置は、記録装置
本体１１１の内部に主走査方向に移動可能なキャリッ
ジ、キャリッジに搭載した本発明に係るインクジェット
ヘッドからなる記録ヘッド、記録ヘッドへインクを供給
するインクカートリッジ等で構成される印字機構部１１
２等を収納し、装置本体１１１の下方部には前方側から
多数枚の用紙１１３を積載可能な給紙カセット（或いは
給紙トレイでもよい。）１１４を抜き差し自在に装着す
ることができ、また、用紙１１３を手差しで給紙するた
めの手差しトレイ１１５を開倒することができ、給紙カ
セット１１４或いは手差しトレイ１１５から給送される
用紙１１３を取り込み、印字機構部１１２によって所要
の画像を記録した後、後面側に装着された排紙トレイ１
１６に排紙する。

【００８０】印字機構部１１２は、図示しない左右の側
板に横架したガイド部材である主ガイドロッド１２１と
従ガイドロッド１２２とでキャリッジ１２３を主走査方
向（図１６で紙面垂直方向）に摺動自在に保持し、この
キャリッジ１２３にはイエロー（Ｙ）、シアン（Ｃ）、
マゼンタ（Ｍ）、ブラック（Ｂｋ）の各色のインク滴を
吐出する本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジェ
ットヘッドからなるヘッド１２４を複数のインク吐出口
を主走査方向と交叉する方向に配列し、インク滴吐出方
向を下方に向けて装着している。またキャリッジ１２３
にはヘッド１２４に各色のインクを供給するための各イ
ンクカートリッジ１２５を交換可能に装着している。

【００８１】インクカートリッジ１２５は上方に大気と
連通する大気口、下方にはインクジェットヘッドへイン
クを供給する供給口を、内部にはインクが充填された多
孔質体を有しており、多孔質体の毛管力によりインクジ
ェットヘッドへ供給されるインクをわずかな負圧に維持
している。

【００８２】また、記録ヘッドとしてここでは各色のヘ
ッド１２４を用いているが、各色のインク滴を吐出する
ノズルを有する１個のヘッドでもよい。

【００８３】ここで、キャリッジ１２３は後方側（用紙
搬送方向下流側）を主ガイドロッド１２１に摺動自在に
嵌装し、前方側（用紙搬送方向上流側）を従ガイドロッ
ド１２２に摺動自在に載置している。そして、このキャ
リッジ１２３を主走査方向に移動走査するため、主走査
モータ１２７で回転駆動される駆動プーリ１２８と従動
プーリ１２９との間にタイミングベルト１３０を張装
し、このタイミングベルト１３０をキャリッジ１２３に
固定しており、主走査モーター１２７の正逆回転により
キャリッジ１２３が往復駆動される。

【００８４】一方、給紙カセット１１４にセットした用
紙１１３をヘッド１２４の下方側に搬送するために、給
紙カセット１１４から用紙１１３を分離給装する給紙ロ
ーラ１３１及びフリクションパッド１３２と、用紙１１
３を案内するガイド部材１３３と、給紙された用紙１１
３を反転させて搬送する搬送ローラ１３４と、この搬送
ローラ１３４の周面に押し付けられる搬送コロ１３５及
び搬送ローラ１３４からの用紙１１３の送り出し角度を
規定する先端コロ１３６とを設けている。搬送ローラ１
３４は副走査モータ１３７によってギヤ列を介して回転
駆動される。

【００８５】そして、キャリッジ１２３の主走査方向の
移動範囲に対応して搬送ローラ１３４から送り出された
用紙１１３を記録ヘッド１２４の下方側で案内する用紙
ガイド部材である印写受け部材１３９を設けている。こ
の印写受け部材１３９の用紙搬送方向下流側には、用紙
１１３を排紙方向へ送り出すために回転駆動される搬送
コロ１４１、拍車１４２を設け、さらに用紙１１３を排
紙トレイ１１６に送り出す排紙ローラ１４３及び拍車１
４４と、排紙経路を形成するガイド部材１４５，１４６
とを配設している。

【００８６】記録時には、キャリッジ１２３を移動させ
ながら画像信号に応じて記録ヘッド１２４を駆動するこ
とにより、停止している用紙１１３にインクを吐出して
１行分を記録し、用紙１１３を所定量搬送後次の行の記
録を行う。記録終了信号または、用紙１１３の後端が記
録領域に到達した信号を受けることにより、記録動作を
終了させ用紙１１３を排紙する。この場合、ヘッド１２
４を構成する本発明に係るインクジェットヘッドはイン
ク滴噴射の制御性が向上し、特性変動が抑制されている
ので、安定して高い画像品質の画像を記録することがで
きる。

【００８７】また、キャリッジ１２３の移動方向右端側
の記録領域を外れた位置には、ヘッド１２４の吐出不良
を回復するための回復装置１４７を配置している。回復
装置１４７はキャップ手段と吸引手段とクリーニング手
段を有している。キャリッジ１２３は印字待機中にはこ
の回復装置１４７側に移動されてキャッピング手段でヘ
ッド１２４をキャッピングされ、吐出口部を湿潤状態に
保つことによりインク乾燥による吐出不良を防止する。
また、記録途中などに記録と関係しないインクを吐出す
ることにより、全ての吐出口のインク粘度を一定にし、
安定した吐出性能を維持する。

【００８８】吐出不良が発生した場合等には、キャッピ
ング手段でヘッド１２４の吐出口（ノズル）を密封し、
チューブを通して吸引手段で吐出口からインクとともに
気泡等を吸い出し、吐出口面に付着したインクやゴミ等
はクリーニング手段により除去され吐出不良が回復され
る。また、吸引されたインクは、本体下部に設置された
廃インク溜（不図示）に排出され、廃インク溜内部のイ
ンク吸収体に吸収保持される。

【００８９】このように、このインクジェット記録装置
においては本発明に係る液滴吐出ヘッドであるインクジ
ェットヘッドを搭載しているので、振動板駆動不良によ
るインク滴吐出不良がなく、安定したインク滴吐出特性
が得られて、画像品質が向上する。また、低電圧で駆動
できるヘッドを搭載するので、インクジェット記録装置
全体の消費電力も低減できる。

【００９０】次に、本発明に係る静電アクチュエータを
含むマイクロデバイスとしてのマイクロポンプについて
図１７を参照して説明する。なお、同図は同マイクロポ
ンプの要部断面説明図である。このマイクロポンプは、
流路基板２０１と保護基板２０２とを重ねて接合した積
層構造となっており、流路基板２０１には流体が流れる
流路２０３を形成するとともに、流路２０３の一壁面を
形成する変形可能な可動板２０４（ヘッドの振動板に相
当する。）を設け、可動板２０４の保護基板２０２と接
合固定しない部分は可動部分２０５となっている。

【００９１】そして、可動部分２０５には絶縁膜２０６
を介して外面側に、インクジェットヘッドと同様に、複
数の電極２０７、２０７を所定の間隔を置いて配置して
いる。隣り合う２つの電極２０７、２０７のうちの一方
の電極２０７は、前記液滴吐出ヘッドの実施形態で説明
したように、結晶シリコンで形成した第１の電極１４ａ
と同様な構成であり、また、他方の電極２０７は、内部
を結晶シリコンで形成して外部をポリシリコンで形成し
た第２の電極１４ｂと同様な構成とし、かつ、前記液滴
吐出ヘッドの第３実施形態で述べたように固定端部側に
柱状部１４ｃとと同様な柱状部を有する構成としてい
る。

【００９２】保護基板２０２はヘッドの第２基板２と同
様な機能を有するものであり、電極２０７を配置するた
めの凹部２０８を形成している。ここでは、保護基板２
０２は平板板基板にスペーサ部２０９を設けることで凹
部２０８を形成している。

【００９３】このマイクロポンプの動作原理を説明する
と、液滴吐出ヘッドの動作で説明したように、複数の電
極２０７、２０７に対して１つおきにパルス電位を与え
ることによって電極２０７、２０７間で静電吸引力が生
じるので、可動部分２０５が流路２０３側に変形する。
ここで、可動部分２０５を図中右側から順次駆動するこ
とによって流路２０３内の流体は、矢印方向へ流れが生
じ、流体の輸送が可能となる。

【００９４】この場合、可動部分２０５と電極２０７と
で構成される静電アクチュエータは、前述した液滴吐出
ヘッドの振動板と電極からなる静電アクチュエータと同
様に構成されているので、駆動効率が向上し、安定した
駆動特性が得られ、流体を安定して効率的に移送するこ
とができる。

【００９５】なお、この例では可動部分を複数設けた例
を示したが、可動部分は１つでも良い。また、輸送効率
を上げるために、可動部分間に１又は複数の弁、例えば
逆止弁などを設けることもできる。

【００９６】次に、本発明に係る静電アクチュエータを
含むマイクロデバイスの他の例として光学デバイスの実
施形態について図１８を参照して説明する。なお、同図
は同デバイスの概略構成図である。この光学デバイス
は、変形可能なミラー３０１と保護基板３０２とを重ね
て接合しており、ミラー３０１の保護基板３０２と接合
固定しない部分は可動部分３０５となっている。

【００９７】そして、可動部分３０５には絶縁膜３０６
を介して外面側に、インクジェットヘッドと同様に、複
数の電極３０７、３０７を所定の間隔を置いて配置して
いる。隣り合う２つの電極３０７、３０７のうちの一方
の電極３０７は、前記液滴吐出ヘッドの実施形態で説明
したように、結晶シリコンで形成した第１の電極１４ａ
と同様な構成であり、また、他方の電極３０７は、内部
を結晶シリコンで形成して外部をポリシリコンで形成し
た第２の電極１４ｂと同様な構成とし、かつ、前記液滴
吐出ヘッドの第３実施形態で述べたように固定端部側に
柱状部１４ｃとと同様な柱状部を有する構成としてい
る。

【００９８】保護基板３０２はヘッドの第２基板２と同
様な機能を有するものであり、電極３０７を配置するた
めの凹部３０８を形成している。ここでは、保護基板３
０２は平板板基板にスペーサ部３０９を設けることで凹
部３０８を形成している。なお、ミラー３０１表面は反
射率を増加させるため誘電体多層膜や金属膜を形成する
と良い。

【００９９】この光学デバイスの原理を説明すると、前
記液滴吐出ヘッドの動作で説明したと同様に、ミラー３
０１の可動部分３０５に設けた複数の電極３０７、３０
７に対してパルス電位を与えることによって、電極３０
７、３０７間で静電吸引力が生じるので、可動部分３０
５が凸状に変形して凸面ミラーとなる。したがって、光
源３１０からの光がレンズ３１１を介してミラー３０１
に照射した場合、ミラー３０１を駆動しないときには、
光は入射角と同じ角度で反射するが、ミラー３０１を可
動部分３０５を駆動した場合はその可動部分３０５が凸
面ミラーとなるので反射光は発散光となる。これにより
光変調デバイスが実現できる。

【０１００】この場合、可動部分３０５と電極３０７と
で構成される静電アクチュエータは、前述した液滴吐出
ヘッドの振動板と電極とで構成される静電アクチュエー
タと同様に構成しているので、安定した、効率的な駆動
が可能になり、安定した動作特性が得られる光変調デバ
イスを構成できる。

【０１０１】そこで、この光学デバイスを応用した例を
図１９をも参照して説明する。この例は、上述した光学
デバイスを２次元に配列し、各ミラーの可動部分３０５
を独立して駆動するようにしたものである。なお、ここ
では、可動部分３０５を４×４のマトリクスに配列して
いる。

【０１０２】したがって、前述した図１８と同様に、光
源３１０からの光はレンズ３１１を介してミラー３０１
に照射され、ミラー３０１を駆動していないところに入
射した光は、投影用レンズ３１２へ入射する。一方、電
極３０７、３０７に電圧を印加してミラー３０１の可動
部分３０５を変形させているところは凸面ミラーとなる
ので光は発散し投影用レンズ３１２にほとんど入射しな
い。この投影用レンズ３１２に入射した光はスクリーン
（図示しない）などに投影され、スクリーンに画像を表
示することができる。

【０１０３】以上説明してきた各実施形態においては、
電極１４は一方向のみに分離した例を示したが、図２０
に示すように電極１４を格子状に分離して、振動板１０
（若しくは可動部分）が２軸に変形するようにしても良
い。なお、同図では絶縁膜等は省略している。

【０１０４】なお、上記実施形態においては、液滴吐出
ヘッドとしてインクジェットヘッドに適用した例で説明
したが、インクジェットヘッド以外の液滴吐出ヘッドと
して、例えば、液体レジストを液滴として吐出する液滴
吐出ヘッド、ＤＮＡの試料を液滴として吐出する液滴吐
出ヘッドなどの他の液滴吐出ヘッドにも適用できる。ま
た、静電アクチュエータは、マイクロポンプ、光変調デ
バイス以外にも、マイクロスイッチ（マイクロリレ
ー）、マルチ光学レンズのアクチュエータ（光スイッ
チ）、マイクロ流量計、圧力センサなどにも適用するこ
とができる。

【０１０５】

【発明の効果】以上説明したように、本発明に係る静電
アクチュエータによれば、可動部分には、結晶シリコン
で形成された構造体からなる第１の電極と、内部が結晶
シリコンで、外部がポリシリコンでそれぞれ形成された
構造体からなる第２の電極とを、電気的に互いに絶縁分
離して設け、第１、第２の電極間に作用する静電力によ
って可動部分を変形させるので、低コストで、駆動効率
が高く、安定した動作特性が得られる。

【０１０６】本発明に係る液滴吐出ヘッドによれば、振
動板の可動部分を変形させる本発明に係る静電アクチュ
エータを備えているので、低コストで、滴吐出効率が高
く、安定した滴吐出特性が得られる。

【０１０７】本発明に係るインクジェット記録装置によ
れば、インク滴を吐出するインクジェットヘッドが本発
明に係る液滴吐出ヘッドである構成としたので、高画質
記録を行うことができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の液滴吐出ヘッドの第１実施形態に係る
インクジェットヘッドの分解斜視説明図

【図２】同ヘッドの振動板長手方向の断面説明図

【図３】同ヘッドの振動板短手方向の要部拡大断面説明
図

【図４】同ヘッドの電極配置パターンを説明する平面説
明図

【図５】同ヘッドの作用説明に供する要部拡大断面説明
図

【図６】同ヘッドの電極製作工程を説明する説明図

【図７】図６続く工程を説明する説明図

【図８】図７に続く工程を説明する説明図

【図９】同第２実施形態に係るインクジェットヘッドを
その電極製作工程とともに説明する説明図

【図１０】同第３実施形態に係るインクジェットヘッド
をその電極製作工程とともに説明する説明図

【図１１】図１０に続く工程を説明する説明図

【図１２】図１１に続く工程を説明する説明図

【図１３】図１２に続く工程を説明する説明図

【図１４】本発明に係る液滴吐出ヘッドを含むインクカ
ートリッジ一体型ヘッドの説明に供する斜視説明図

【図１５】本発明に係るインクジェット記録装置の一例
を説明する斜視説明図

【図１６】同記録装置の機構部の説明図

【図１７】本発明に係る静電アクチュエータを含むマイ
クロポンプの一例を説明する説明図

【図１８】本発明に係る静電アクチュエータを含む光学
デバイスの一例を説明する説明図

【図１９】同光学デバイスを用いた光変調デバイスの一
例を説明する斜視説明図

【図２０】電極構成の他の例の説明に供する斜視説明図

【符号の説明】

１…第１基板、２…第２基板、３…ノズル板、４…ノズ
ル孔、６…吐出室、７…流体抵抗部、８…共通液室、１
０…振動板、１１…絶縁膜、１２…低融点酸化物層、１
４…電極、１４ａ…第１の電極、１４ｂ…第２の電極、
１４ｃ…柱状部、１００…インクカートリッジ一体型ヘ
ッド、１２４…記録ヘッド、２０１…流路基板、２０３
…流路、２０５…可動部分、２０７…電極、３０１…ミ
ラー、３０５…可動部分、３０７…電極。

Claims (9)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 可動部分を変形させる静電アクチュエー
   タにおいて、前記可動部分には、結晶シリコンで形成さ
   れた構造体からなる第１の電極と、内部が結晶シリコン
   で、外部がポリシリコンでそれぞれ形成された構造体か
   らなる第２の電極とを、電気的に互いに絶縁分離して設
   け、前記第１、第２の電極間に作用する静電力によって
   前記可動部分を変形させることを特徴とする静電アクチ
   ュエータ。
2. 【請求項２】 請求項１に記載の静電アクチュエータに
   おいて、前記可動部分を形成する部材と前記各電極との
   間には低融点酸化物層が存在していることを特徴とする
   静電アクチュエータ。
3. 【請求項３】 請求項１又は２に記載の静電アクチュエ
   ータにおいて、前記第２の電極は内部の結晶シリコンと
   外部のポリシリコンが電気的に接続されていることを特
   徴とする静電アクチュエータ。
4. 【請求項４】 請求項１ないし３のいずれかに記載の静
   電アクチュエータにおいて、前記各電極は前記可動部分
   側に幅の狭い柱状部を有することを特徴とする静電アク
   チュエータ。
5. 【請求項５】 請求項４に記載の静電アクチュエータに
   おいて、前記柱状部はポリシリコンで形成されているこ
   とを特徴とする静電アクチュエータ。
6. 【請求項６】 請求項１ないし５のいずれかに記載の静
   電アクチュエータにおいて、前記各電極の間隔は犠牲層
   のエッチングによって形成されたことを特徴とする静電
   アクチュエータ。
7. 【請求項７】 液滴を吐出するノズル孔が連通する吐出
   室の壁面の一部を形成する可動部分を有する振動板を備
   え、この振動板を変形させることで前記液滴を吐出させ
   る液滴吐出ヘッドにおいて、前記振動板の可動部分を変
   形させる請求項１ないし６のいずれかに記載の静電アク
   チュエータを備えていることを特徴とする液滴吐出ヘッ
   ド。
8. 【請求項８】 請求項７に記載の液滴吐出ヘッドにおい
   て、インクを供給するインクタンクを一体に備えている
   ことを特徴とする液滴吐出ヘッド。
9. 【請求項９】 インク滴を吐出させるインクジェットヘ
   ッドを備えたインクジェット記録装置において、前記イ
   ンクジェットヘッドが請求項７又は８に記載の液滴吐出
   ヘッドであることを特徴とするインクジェット記録装
   置。