JP2003255506A - 撥水性化加工処理されている熱現像装置 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 熱現像感光材料を迅速でしかも均一に現像す
る熱現像装置を提供する。更には長期間に亘り熱現像装
置内の熱ドラムの汚れがなく、熱現像された熱現像感光
材料にも汚れが転写することなく高品位画質を与える熱
現像装置を提供する。 【解決手段】 支持体の少なくとも一方の面に感光性ハ
ロゲン化銀、有機銀塩および還元剤を含有する感光層と
該感光層を保護する感光層保護層を有する熱現像感光材
料を熱現像処理する熱現像装置において、該熱現像装置
内の熱ドラムの最外表面層がシリコーンゴムであり、該
シリコーンゴムが撥水性化剤の存在下に撥水性化加工処
理されていることを特徴とする熱現像装置。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は熱現像により画像を
形成する熱現像感光材料を処理する熱現像装置に関する
もので、詳しくは、熱現像感光材料を長期期間に亘って
多量に迅速でしかも均一に現像するのに好適な熱現像装
置に関する。

【０００２】

【従来の技術】近年、医療や印刷の分野で環境保護や作
業性の面から、画像形成材料の湿式処理に伴う廃液の排
出をさけることができる処理システムとして、ドライ処
理システムが急速に普及している。熱現像で鮮明な黒色
画像を形成するのには、熱現像感光材料中に感光性ハロ
ゲン化銀、有機銀塩および還元剤を存在させ、潜像を形
成するに充分な光で画像様に露光した後、熱ドラム上で
８０℃〜２００℃の温度で加熱処理して黒色画像得る方
法が知られている。この場合、ドラム上の熱現像感光材
料に熱が供給され、その熱は熱現像感光材料中の感光性
ハロゲン化銀銀、有機銀塩、還元剤の反応を促進し、画
像が形成される。しかし、熱現像感光材料中の感光層に
は、感光性ハロゲン化銀銀、有機銀塩、還元剤の他にカ
ブリ防止剤、光カブリ防止剤、安定剤、現像促進剤、延
展剤および結合剤等の添加剤が含まれ、その保護層には
延展剤、マット剤、帯電防止剤および結合剤等が含まれ
ている。これらが熱現像時に加熱されて軟化し、時には
揮発、凝集、分解等が微少量ながら発生し、熱ドラムの
最外層に汚れとなって付着し、この汚れが画質を劣化さ
せる。熱ドラム上に付着する汚れは、熱現像感光材料中
からでなく、外部からのゴミの進入による場合もある。
ゴミのような付着物質は静電気を帯びて付着するので帯
電防止剤等で対処されているが、この方法で完全に防げ
るわけではない。このような付着物質の汚れは、１万時
間〜１０万時間と長期間運転すると肥大し、熱ドラムを
微小ながら変形させたり、クラックを生じさせ、熱ドラ
ムの上を搬送される熱現像感光材料の熱現像に不均一性
を与えて画質を損なう。この対策として、熱現像感光材
料にフッ素原子を含む界面活性剤を使用し、かつ熱ドラ
ムについては耐熱性の向上の他に異物の付着をも避ける
ために熱ドラムをシリコーンゴムで被覆するという方法
が特開平２００１−２７２７５１号に開示されている
が、長期間に亘る使用の場合の熱現像装置内の熱ドラム
の汚れを完全に防止することができず問題であった。

【０００３】

【発明が解決しようとする課題】本発明は上記事情に鑑
みてなされたものであり、その目的は、熱現像感光材料
を迅速でしかも均一に現像する熱現像装置を提供するこ
とにあり、更には長期間に亘り熱現像装置内の熱ドラム
の汚れがなく、熱現像された熱現像感光材料にも汚れが
転写することなく高品位画質を与える熱現像装置を提供
することにある。

【０００４】

【課題を解決するための手段】本発明の上記目的は、下
記構成により達成される。

【０００５】１．支持体の少なくとも一方の面に感光性
ハロゲン化銀、有機銀塩および還元剤を含有する感光層
と該感光層を保護する感光層保護層を有する熱現像感光
材料を熱現像処理する熱現像装置において、該熱現像装
置内の熱ドラムの最外表面層がシリコーンゴムであり、
該シリコーンゴムが撥水性化剤の存在下に撥水性化加工
処理されていることを特徴とする熱現像装置。

【０００６】２．前記撥水性化剤がフッ素ガス、フッ化
水素、三フッ化窒素、三フッ化硼素、四フッ化硫黄、四
フッ化珪素およびフロンガスから選ばれる少なくとも１
種であることを特徴とする前記１記載の熱現像装置。

【０００７】３．前記シリコーンゴムが貴金属触媒で架
橋されていること特徴する前記１または２記載の熱現像
装置。

【０００８】４．前記熱ドラムの最外表面層がシリコー
ンゴムであり、該シリコーンゴムが伝熱性微粒子を含有
することを特徴する前記１〜３のいずれか１項記載の熱
現像装置。

【０００９】５．前記撥水性化加工処理が、少なくとも
電子線処理またはＣＶＤ処理を含むものであることを特
徴とする前記１〜４のいずれか１項記載の熱現像装置。

【００１０】６．前記撥水性加工処理時の熱現像ドラム
の温度が８０℃〜２００℃であることを特徴とする前記
１〜５のいずれか１項記載の熱現像装置。

【００１１】７．前記撥水性化加工処理後、熱ドラムを
８０℃〜２００℃でアニール処理することを特徴とする
前記１〜６のいずれか１項記載の熱現像装置。

【００１２】

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態につい
て詳細に説明する。

【００１３】本発明の熱現像装置の熱現像部の一例を図
１に示す。熱現像部は、熱ドラムと熱ドラムの外周の押
さえローラー群との間隙で熱現像感光材料に加圧と加熱
を同時に施しながら走行させて熱現像するものである。
熱現像感光材料９は挿入口７から挿入ローラー５で熱ド
ラム４に感光層側が接するように導かれ、シリコーンゴ
ムで被覆された熱ドラム４と押さえローラー群２との間
隙を走行し、熱現像されて、排出ローラー６で排出口８
から排出される。熱ドラムに与える熱はニクロム線が組
み込まれた熱源３から供給される。押さえローラー群２
を覆う遮蔽体１は、外側が断熱材で内側が熱線を反射す
るミラーで被覆されている。該ミラーは、アルミニウム
の蒸着膜であり、１００ｎｍの厚さで被覆した。押さえ
ローラー群は１５本で構成されているが、熱ドラムの径
に応じて５〜１００本の間で配置することができる。熱
ドラムの表面は、温度を検出するサーミスターにより温
度を現像温度８０〜２００℃に維持するのが好ましい。

【００１４】熱ドラムとしては、８０〜２００℃の温度
に耐え得ることからステンレスドラムを使用することが
好ましく、また、熱現像を均一にするために、シリコー
ンゴムの厚さは１０〜２０ｍｍの範囲で被覆するのが好
ましい。シリコーンゴムは、耐熱性、耐薬品性、耐摩耗
性、帯電防止特性等を備えるように調製されるが、特に
耐熱性と耐薬品性を高めたシリコーンゴム（オルガノポ
リシロキサン）が好ましい。シリコーンゴムは、必要に
応じて種々の硬度向上剤を添加して硬度を上げることが
できる。シリコーンゴムに硬度を与える代表的な素材と
して酸化鉄や酸化珪素が知られている。この他にシリコ
ーンゴム組成物に硬度を与える方法としては、オルガノ
シリコーンの３次元架橋を促進する白金触媒（貴金属触
媒）を使用することが好ましい。

【００１５】熱ドラムの熱現像時温度は、設定した熱現
像温度、環境（作業室）温度、熱ドラムの周囲の断熱状
況等にもよるが、熱現像温度±０．１〜±２℃に設定さ
れるのが好ましいが、処理される熱現像感光材料の現像
温度依存性に好ましいように設定される。この現像温度
は、熱ドラムの内側のヒーターで調節される。該ヒータ
ーの発熱量は、１００ワット〜２ｋワットが好ましく、
設定温度はサーモスタットで調整することができる。本
発明では熱現像感光材料が処理される時の温度管理を精
密にするために、熱現像感光材料が処理されることによ
り温度降下する熱量を予め見積もり、この熱量を補償す
る熱量をヒーターに加算して発熱させることにより単位
時間当たりの処理量が多いときの現像温度を一定にする
ことができる。発熱量の加算は、ヒーターに流す電流値
によってもよいし、可変抵抗器の使用によってでもよ
い。熱量加算は処理フィルムの挿入時の信号や排出時の
信号を元に作動させることができる。熱ドラムへの熱量
加算は、次のフィルムが処理されるまでに完了しておく
ことが好ましい。熱量加算は、熱量と時間の関係がフラ
ットでもく、矩形波でもよく、パルス波でもよい。パル
ス波の場合、フィルム１枚当たり１回〜１０００回の範
囲が好ましい。

【００１６】本発明に係る好ましいシリコーンゴムの調
製において、成分（Ａ）としてのオルガノポリシロキサ
ンとしては、該オルガノポリシロキサンの珪素原子は異
なる置換又は非置換の炭素数１〜１０の１価炭化水素基
を有し、該１価炭化水素基としてはアルキル基、アルケ
ニル基、アリール基などが例示され、特にメチル基、ビ
ニル基及びフェニル基から選択される一価の基が好まし
い。アルケニル基が０．０１〜５モル％、特に０．０２
〜０．５モル％含有されることが好ましい。また１価炭
化水素基は置換されていてもよく、該置換１価炭化水素
基としてはアルキル基、アルケニル基、アリール基など
の非置換炭化水素基の炭素原子に結合する水素原子の一
部または全部をハロゲン原子、シアノ基などで置換した
例えば３，３，３−トリフロロプロピル基、２−シアノ
エチル基などが挙げられ、３，３，３−トリフロロプロ
ピル基が特に好ましい。また、オルガノポリシロキサン
の分子鎖両末端基としてはヒドロキシ基、トリメチルシ
リル基、ジメチルビニルシリル基、トリビニルシリル基
などが挙げられるが特にこれらに限定されない。

【００１７】成分（Ａ）のオルガノポリシロキサンは、
十分な機械強度を出すために、重合度が２，７００以
上、好ましくは３，０００〜２０，０００であるが、特
に好ましくは４，８００〜１０，０００である。また成
分（Ａ）のオルガノポリシロキサンは構造や重合度の異
なる２種以上を併用することもできる。

【００１８】成分（Ｂ）としては、シリコーンゴムに適
度の硬さを与え、且つその引張り強さ等の機械的強度を
向上させるために適した化合物が好ましく、金属酸化物
が特に好ましく、例えば、酸化鉄、酸化亜鉛、酸化錫、
酸化アルミニウム等を挙げることができる。成分（Ｂ）
の配合量は成分（Ａ）のオルガノポリシロキサン１００
質量部に対して１０〜１００質量部であることが好まし
く、より好ましくは２０〜５０質量部である。配合量が
この数値範囲外であると、シリコーンゴム組成物の加工
性が悪くなったり、十分な機械的強度が得られなくなる
場合がある。

【００１９】成分（Ｃ）としての硬化剤としては、本発
明に係るシリコーンゴムの組成物を硬化させてシリコー
ンゴムとするものであり、一般には有機過酸化物が使用
される。また成分（Ａ）のオルガノポリシロキサンが分
子中に２個以上のアルケニル基を含有する場合には硬化
剤としてオルガノハイドロジェンポリシロキサンと白金
系触媒（貴金属触媒）の組合わせたものが使用可能であ
る。硬化剤の量は後記のように本発明に係るシリコーン
ゴムの組成物を硬化させるのに十分な量であればよい。

【００２０】本発明で使用可能な有機過酸化物として
は、例えば、ジクミルパーオキサイド、ジ−ｔ−ブチル
パーオキサイド、ｔ−ブチルクミルパーオキサイド、
２，５−ジメチル−２，５−ジ（ｔ−ブチルパーオキ
シ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５−ジ（ベンゾ
イルパーオキシ）ヘキサン、２，５−ジメチル−２，５
−ジ（ｔ−ブチルパーオキシ）３，３，５−トリメチル
シクロヘキサン、ベンゾイルパーオキサイド、２，４−
ジクロルベンゾイルパーオキサイド、４−クロロベンゾ
イルパーオキサイド等が挙げられる。これら有機過酸化
物の配合量は、本発明に係るシリコーンゴムの組成物を
硬化させるのに十分な量として成分（Ａ）１００質量部
に対して０．１〜１０質量部の範囲内が好ましい。

【００２１】成分（Ａ）としてのオルガノポリシロキサ
ンが分子中に２個以上のアルケニル基を含有する場合に
硬化剤として使用可能な、１）オルガノハイドロジェン
ポリシロキサンとしては、両末端トリメチルシロキシ基
封鎖メチルハイドロジェンポリシロキサン、両末端トリ
メチルシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイ
ドロジェンシロキサン共重合体、両末端メチルハイドロ
ジェンシロキシ基封鎖ジメチルシロキサン−メチルハイ
ドロジェンシロキサン共重合体などが例示される。２）
また他方、本発明に係る貴金属触媒としては、白金系触
媒が好ましく、例えば塩化白金酸、塩化白金酸のアルコ
ール溶液、塩化白金酸とジビニルテトラメチルシロキサ
ンとの錯体、等が挙げられる。上記のオルガノハイドロ
ジェンポリシロキサンの配合量は、一般に、オルガノハ
イドロジェンポリシロキサン中に含まれるケイ素原子に
結合する水素原子のモル数と成分（Ａ）中のアルケニル
基のモル数との比率が（０．５：１）〜（２０：１）に
なる量が好ましく、白金系触媒の使用量は、一般に成分
（Ａ）の質量にもとづいて、白金量換算で０．１〜３，
０００ｐｐｍ程度が好ましく、耐熱化剤として白金化合
物を用いる場合には共用ができる。本発明に係るシリコ
ーンゴムは、前記成分（Ａ）〜（Ｃ）以外に、本発明の
目的を損なわない範囲内の量で、通常シリコーンゴムに
適宜配合される種々のゴム配合剤、例えばジフェニルシ
ランジオール、低重合度の分子鎖末端水酸基のシリコー
ンオイル、ヘキサメチルジシラザン、アルコキシシラン
等の分散剤、粉砕シリカ、けいそう土、酸化亜鉛、酸化
チタン、カーボンブラック、酸化バリウム、炭酸カルシ
ウム、炭酸マグネシウム、炭酸亜鉛、アスベスト、ガラ
スウール、微粉マイカ、溶融シリカ粉末等を添加配合し
ても差し支えない。更に必要に応じて老化防止剤、酸化
防止剤、帯電防止剤、窒化ホウ素、酸化アルミニウム等
の熱伝導性向上剤などを配合してもよい。

【００２２】本発明に係るシリコーンゴムを製造する方
法としては、特に限定されないが、成分（Ａ）及び成分
（Ｂ）をニーダー等の混練装置に仕込み、室温で配合し
た後、８０〜２００℃の温度で、３０分〜５時間熱処理
し、その後成分（Ｃ）を加えローラーミルやバンバリー
ミキサー等で混練りする方法などを採用することができ
る。このようにして得られるシリコーンゴムは、良好な
耐熱性を有し、また熱現像感光材料を好適に熱現像する
ことができる。

【００２３】シリコーンゴムに本発明に係る伝熱性微粒
子を添加することにより熱ドラムの加熱の熱をより均一
に熱現像感光材料に与えることができると同時にシリコ
ーンゴムの強度（弾性率）を向上させることができる。
好ましい伝熱性微粒子は、金属または金属の酸化物であ
り、例えば、鉄または酸化鉄、ニッケルまたは酸化ニッ
ケル、銅または酸化銅等が挙げられる。熱媒体微粒子の
平均粒子径は通常１０ｎｍ〜１００μｍの範囲を選択す
ることができる。添加量は熱ドラムの被覆樹脂（シリコ
ーンゴム）に対して通常１〜８０質量％、好ましくは１
０〜５０質量％の範囲で適宜選択することができる。熱
媒体無機微粒子以外の微粒子を添加することで成形の型
の表面形状に変化を与え、凹凸面を形成させることがで
きる。この凹凸面の凹凸は、熱現像感光材料の均一な現
像、傷付きや汚れの低減を行うために好適に調整するこ
とができる。

【００２４】本発明に係る撥水性化剤としては、フッ素
原子を含む低分子の化合物でありガス化が容易なものが
好ましい。具体的には例えば、フッ素ガス（Ｆ−１と略
す。以下順次番号で略す）、フッ化水素（Ｆ−２）、三
フッ化窒素（Ｆ−３）、三フッ化硼素（Ｆ−４）、四フ
ッ化硫黄（Ｆ−５）、四フッ化珪素（Ｆ−６）、フロン
ガス、例えば、ジクロロジフルオロメタン（Ｆ−７）、
ジクロロモノフルオロメタン（Ｆ−８）、モノクロロジ
フルオロメタン（Ｆ−９）、トリフロオロメタン（Ｆ−
１０）、ジフルオロメタン（Ｆ−１１）、テトラクロロ
ジフルオロエタン（Ｆ−１１）、ヘキサフルオロエタン
（Ｆ−１２）等が挙げられる。

【００２５】本発明に係る撥水性化加工処理として好ま
しい電子線処理またはＣＶＤ処理について述べる。

【００２６】本発明に係る撥水性化加工処理として好ま
しい電子線処理に用いられる電子線としては、電子線管
から発生される電子線が好ましく用いられる。電子線管
には、電界放出型と熱電子放出型の２種類が挙げられ
る。いずれの方式においても、チャンバの中に、カソー
ドとアノードとを備えた電子線源を備え、該チャンバ内
に被照射物を配置するものである。

【００２７】電界放出型の電子線管としては、例えば、
特表平１１−５０５６７０号の図１に示すものが知られ
ている。電界放出型の電子線管は、被照射物を配置する
チャンバ内を高真空にする必要がある。

【００２８】一方、近年、熱電子放出型の電子線管とし
て、窓を有する真空管型の電子線管が市販されるように
なった（例えば、特表平１０−５１２０９２号参照）。
上記電子線管は、電子線を透過させる窓を有する真空容
器内に熱電子放射部と電子線加速部を設け、上記熱電子
放射部から放出される熱電子を上記電子線加速部で加速
して上記窓から放射させるようにしたものである。この
ような電子線管を用いると、電子線管の窓から常圧空気
中に電子線を取出すことができる。したがって、被照射
物が配置される雰囲気を減圧にする必要がなく、減圧の
ための真空ポンプや真空チャンバが不要となり、電子線
照射処理装置の構成が簡単で取扱いも容易になる。

【００２９】図２は本発明の実施例で使用した電子線照
射処理装置の一例の構成を示す図である。図２におい
て、１１は被照射物が塗布された熱ドラム、１２は熱ド
ラムの温度を管理する温度センサー、１３は前記した電
子線管、１４は電子線が放射通過される窓である。ま
た、処理室１６には、ガス導入口１５ａ、ガス出口１５
ｂが設けられており、該ガス導入口１５ａから処理室１
６内に空気（窒素）よりも低い密度の気体（ヘリウム、
ネオン等、あるいはそれらの混合気体）を導入し、ガス
出口１５ｂから処理室１６内のガスを排出する。これに
より、処理室１６内は上記気体に置換される。なお、図
２には図示されていないが、窓１４の近辺には窓冷却手
段を設けてもよい。

【００３０】実際には図２に示す装置を用い、ガス導入
口１５ａから処理室１６内に、窒素、アルゴン、ヘリウ
ム、ヘリウムと窒素がそれぞれ５０％の混合気体、ネオ
ン等を導入する。直径１００ｍｍのシリコーンゴムが塗
布されている熱ドラム上に電子線管１３から電子線を照
射しつつ、窓１４から距離ｈ（電子線発生器と熱ドラム
との間の距離）の位置に置いた熱ドラム上に照射させ
る。１本の電子線管を使用して、該電子線管１３に５０
ｋＶの電圧を印加し（電流２００μＡ）電子線を反応ガ
ス（例えば、フッ素ガス、フッ化水素、三フッ化窒素、
三フッ化硼素、四フッ化硫黄、四フッ化珪素）存在下に
照射する。実験に際しては、前記した各気体を図２の処
理室１６内に導入し、いくつかの距離ｈに対して、反応
ガス濃度、反応時間、反応距離を変化させて電子線照射
実験を行う。距離ｈが大きくなっても、反応量の変化が
小さい（一定の値に近い）ことが好ましい。

【００３１】本発明に係る撥水性化加工処理として好ま
しいＣＶＤ処理に用いられるＣＶＤとは、ガス状物質を
化学反応で固体物質にし、基板上に堆積することをい
う。本発明においては常圧ＣＶＤ装置を使用してＣＶＤ
処理することが好ましい。表面改質の一連の処理を一つ
の装置内で行うことができ、これにより、平坦な撥水性
膜を得ることができる。表面改質後の膜の安定性を確保
するため、撥水性膜形成前の搬送を、窒素等の不活性ガ
ス雰囲気中で行うことが好ましい。このため、清浄空間
形成筐体内にはフィルタで濾過処理された不活性気体を
送入することもできる。ＣＶＤ処理による薄膜形成は、
例えば約４０〜２００℃程度に加熱した熱ドラム上に反
応ガス（例えば、フッ素ガス、フッ化水素、三フッ化窒
素、三フッ化硼素、四フッ化硫黄、四フッ化珪素、フロ
ンガス等）を供給して行われる。上記の反応ガスは反応
炉（ベルジャ）内の熱ドラムに吹きつけられ、該熱ドラ
ムの表面にフッ素原子を有するシリコーンゴムの薄膜を
形成する。

【００３２】本発明の常圧ＣＶＤ装置でまた好ましく使
用されるプラズマ放電処理チャンバとしては、例えば、
従来から使用されているシャワー電極を備えたプラズマ
ＣＶＤ反応炉が最も好適である。このようなシャワー電
極を備えたプラズマＣＶＤ反応炉は例えば、特願昭６２
−１０４１０７号に開示されている。このプラズマ反応
炉で熱ドラムの表面改質を行う場合、シャワー電極から
窒素ガスを熱ドラム表面に向けて流下させながらシャワ
ー電極に高周波電圧を印加し、接地基板電極との間でプ
ラズマ放電を発生させることにより行うことができる。

【００３３】本発明の常圧ＣＶＤ装置の最も根本的な特
徴は常圧ＣＶＤ反応炉の他に、プラズマ放電処理室を同
時に併設していることである。これら構成要素のレイア
ウトは特に限定されることはない。熱ドラム駆動系、プ
ラズマ放電処理室および常圧ＣＶＤ反応炉の相互間で熱
ドラムのハンドリング、搬送、出し入れなどの動作を最
も効率的に行うことができ、しかも、最もコンパクトに
収めることができるレイアウトであればよい。このよう
な実際的なレイアウトは各構成要素のサイズ、被処理熱
ドラムのサイズなどの種々の因子により自ずから制限さ
れ、かつ、決定される。

【００３４】特に図示されていないが、プラズマ放電処
理室および常圧ＣＶＤ反応炉などの構成要素はそれぞれ
の機能と目的を果たすために、高周波電源、ガス供給
源、排気系など様々な周辺部品を有する。これらの周辺
部品は本発明の常圧ＣＶＤ装置の清浄空間形成筐体内に
含まれていてもよいし、また、清浄空間形成筐体外に配
設することもできる。

【００３５】熱ドラムは電子線処理またはＣＶＤ処理を
施された後、常圧下でアニール処理されることが好まし
い。アニール処理は、温度８０〜２００℃で行うことが
好ましい。８０℃未満では処理により付着した未反応化
学物質を除去したり、熱収縮や熱固定効果を得るのが困
難になる。また、２００℃を越えるとゴムが熱で劣化す
るので好ましくない。

【００３６】本発明に係る熱現像感光材料は支持体上に
少なくても１層の感光層を設け、この感光層の下部（支
持体と感光層の間）にハレーション防止層（ＡＨ層）、
感光層の上部に保護層が塗設されており、更に支持体に
対して感光層のある側と反対側にバッキング層（ＢＣ
層）、その上部に保護層がそれぞれ塗設されていること
が好ましい。感光層中には、少なくとも感光性ハロゲン
化銀、有機銀塩、還元剤およびバインダー（高分子結合
材）が含まれている。ＡＨ層やＢＣ層には感光波長に対
して吸収効率が高くかつ残色になりにくい染料をバイン
ダー中に存在させて熱現像感光材料の構成層界面での乱
反射による鮮鋭性の劣化や干渉縞の防止を行うことが好
ましい。ＡＨ層、ＢＣ層および保護層等のバインダー
は、感光層と同種や異種の素材を使用することができ
る。ＢＣ層に染料を使用する場合には、ＡＨ層を設けな
い場合もある。ＡＨ層やＢＣ層の染料に由来する残色を
低減させるために熱により消色する染料を、更に熱消色
を促進するために塩基発生前駆体を場合によっては使用
することができる。バインダーの硬化には、保護層のみ
に関わらず感光層、ＡＨ層およびＢＣ層等をエポキシ架
橋剤、酸無水物化合物および塩基発生前駆体等を適宜選
択することにより、写真性能を損なわない範囲で使用す
ることができる。

【００３７】以下に本発明に係る熱現像感光材料に用い
られる素材について順次詳述する。本発明に係る熱現像
感光材料に使用される感光性ハロゲン化銀は、シングル
ジェットもしくはダブルジェット法などの写真技術の分
野で公知の任意の方法により、例えばアンモニア法乳
剤、中性法、酸性法等のいずれかの方法でも調製でき
る。この様に予め調製し、次いで本発明の他の成分と混
合して本発明に用いる組成物中に導入することができ
る。この場合に感光性ハロゲン化銀と有機銀塩の接触を
充分に行わせるため、例えば感光性ハロゲン化銀を調製
するときの保護ポリマーとして米国特許第３，７０６，
５６４号、同第３，７０６，５６５号、同第３，７１
３，８３３号、同第３，７４８，１４３号、英国特許第
１，３６２，９７０号に記載されたポリビニルアセター
ル類などのゼラチン以外のポリマーを用いる手段や、英
国特許第１，３５４，１８６号に記載されているような
感光性ハロゲン化銀乳剤のゼラチンを酵素分解する手
段、又は米国特許第４，０７６，５３９号に記載されて
いるように感光性ハロゲン化銀粒子を界面活性剤の存在
下で調製することによって保護ポリマーの使用を省略す
る手段等の各手段を適用することができる。

【００３８】感光性ハロゲン化銀は、良好な画質を得る
ために粒子サイズが小さくて感度の高いものが好まし
い。粒子サイズが小さいと粒状性や解像度が良いからで
ある。しかし、感度は低くなるので分光増感や化学増感
により、増感され易い結晶形が好ましい。具体的には平
均粒子サイズが０．１μｍ以下、好ましくは０．０１〜
０．１μｍ、０．０２〜０．０８μｍがより好ましい。
又感光性、ハロゲン化銀の形状としては特に制限はない
が、立方体、八面体の所謂正常晶等の粒子が好ましい。
又ハロゲン化銀組成としては、塩化銀、塩臭化銀、塩沃
臭化銀、臭化銀、沃臭化銀、沃化銀のいずれであっても
よいが、沃臭化銀が好ましい。

【００３９】感光性ハロゲン化銀の使用量は、感光性ハ
ロゲン化銀及び後述の有機銀塩の総量に対し５０％以
下、好ましくは０．１〜２５％、より好ましくは０．１
〜１５％の間である。

【００４０】本発明に係る熱現像感光材料に用いられる
感光性ハロゲン化銀は又、英国特許第１，４４７，４５
４号に記載されている様に、有機銀塩を調製する際にハ
ライドイオン等のハロゲン成分を有機銀塩形成成分と共
存させこれに銀イオンを注入することで有機銀塩の生成
とほぼ同時に生成させることもできる。

【００４１】更に他の方法としては、予め調製された有
機銀塩の溶液もしくは分散液、又は有機銀塩を含むシー
ト材料にハロゲン化銀形成成分を作用させて、有機銀塩
の一部を感光性ハロゲン化銀に変換することもできる。
このようにして形成された感光性ハロゲン化銀は有機銀
塩と有効に接触しており好ましい作用を呈する。

【００４２】これらの感光性ハロゲン化銀は有機銀塩に
対して化学量論的には少量用いられる。その範囲は有機
銀塩１モルに対し通常０．００１〜０．７モル、好まし
くは０．０３〜０．５モルである。感光性ハロゲン化銀
形成成分は上記の範囲で２種以上併用されてもよい。上
記のハロゲン化銀形成成分を用いて有機銀塩の一部を感
光性ハロゲン化銀に変換させる工程の反応温度、反応時
間、反応圧力等の諸条件は作製の目的にあわせ適宜設定
することができるが、通常、反応温度は−２３〜７４
℃、その反応時間は０．１秒〜７２時間であり、その反
応圧力は大気圧に設定されることが好ましい。この反応
は又、後述する結合剤として使用されるポリマーの存在
下に行われることが好ましい。この際の該ポリマーの使
用量は有機銀塩１質量部当たり通常０．０１〜１００質
量部、好ましくは０．１〜１０質量部である。

【００４３】上記した各種の方法によって調製される感
光性ハロゲン化銀は、例えば含硫黄化合物、金化合物、
白金化合物、パラジウム化合物、銀化合物、錫化合物、
クロム化合物又はこれらの組み合わせによって化学増感
することができる。この化学増感の方法及び手順につい
ては、例えば米国特許第４，０３６，６５０号、英国特
許第１，５１８，８５０号、特開昭５１−２２４３０
号、同５１−７８３１９号、同５１−８１１２４号に記
載されている。

【００４４】本発明において特に好ましい化学増感剤
は、有機カルコーゲン増感剤であり、カルコーゲンとし
て硫黄原子、セレン原子またはテルル原子を分子内に含
む有機化合物が好ましい。化学構造においては、カルコ
ーゲン原子が炭素や燐原子に直接結合している化合物で
あり、即ち、炭素原子の４本の結合手のうち、２本はカ
ルコーゲンであり、その他の２本は任意の有機の置換基
であること、或いは燐原子の５本の結合手のうち、２本
はカルコーゲンと結合し、その他は任意の有機の置換基
と結合し、該任意の置換基がアリール基であることが好
ましい。アリール基としては、芳香族基またはヘテロ原
子を含む複素環化合物が好ましく、最も好ましいのはフ
ェニル基またはフッ素原子で置換されたフェニル基であ
る。好ましい具体例としては、トリフェニルホスフィン
セレナイド、トリフェニルホスフィンオキサイド、トリ
フェニルホスフィンテルライド等が挙げられる。

【００４５】化学増感剤の添加方法は、ハロゲン化銀の
分散溶液中に、水や有機溶媒に溶解して添加してもよい
し、微粒子や粉末のまま添加してもよい。添加量はハロ
ゲン化銀１モル当たり通常１×１０^-9〜１×１０^-2モル
が適当であり、好ましくは１×１０^-8〜１×１０^-4モル
である。化学増感時の熟成温度は通常３０〜９０℃、熟
成時間は通常２０分〜８時間、好ましくは４０〜９０分
である。

【００４６】感光性ハロゲン化銀には、照度不軌や、階
調調整、感度、カブリおよび保存性等のために遷移金
属、特に元素周期律表の６族から１０族に属する金属の
第４周期から第６周期の化合物がドープ（含有）される
ことが好ましい。具体的にはＲｈ、Ｒｕ、Ｒｅ、Ｉｒ、
Ｏｓ、Ｆｅ等の金属のイオン、その錯体又は錯イオンが
好ましい。ドープ量は、感光性ハロゲン化銀１モル当た
り通常１×１０^-9〜１×１０^-2モルが適当であり、好ま
しくは１×１０^-8〜１×１０^-4モルである。これらの金
属のイオン又は錯体イオンを提供する化合物は、感光性
ハロゲン化銀粒子形成時に添加し、感光性ハロゲン化銀
粒子中に組み込まれることが好ましく、感光性ハロゲン
化銀粒子の調製、つまり核形成、成長、物理熟成、化学
増感の前後のどの段階で添加してもよいが、特に核形
成、成長、物理熟成の段階で添加するのが好ましく、更
には核形成、成長の段階で添加するのが好ましく、最も
好ましくは核形成の段階で添加する。添加に際しては、
数回に渡って分割して添加してもよく、感光性ハロゲン
化銀粒子中に均一に含有させることもできるし、特開昭
６３−２９６０３号、特開平２−３０６２３６号、同３
−１６７５４５号、同４−７６５３４号、同６−１１０
１４６号、同５−２７３６８３号等に記載されている様
に粒子内に分布を持たせて含有させることもできる。

【００４７】本発明に係る熱現像感光材料のバインダー
としては、感光性ハロゲン化銀、有機銀塩、還元剤が反
応する場として好ましい素材と熱消色染料が８０℃以上
２００℃以下の熱で消色する反応に好ましい素材、ある
いは塩基発生前駆体が熱により速やかに塩基を発生する
ような素材が好ましい。例えば、ヒドロキシエチルセル
ロース、カルボキシメチルセルロース、メチルセルロー
ス、エチルセルロースなどのセルロース誘導体、ポリビ
ニルアルコール、変性ポリビニルアルコール、ポリビニ
ルブチラール、ポリアクリル酸ナトリウム、ポリエチレ
ンオキシド、アクリル酸アミド−アクリル酸エステル共
重合体、スチレン−無水マレイン酸共重合体、ポリアク
リルアミド、ポリ酢酸ビニル、ポリウレタン、ポリアク
リル酸、ポリアクリル酸エステル、スチレン−ブタジエ
ン共重合体、アクリロニトリル−ブタジエン共重合体、
塩化ビニル−酢酸ビニル共重合体、スチレン−ブタジエ
ン−アクリル共重合体などが挙げられる。更に乾燥後、
膜を形成したのち、その塗膜の平衡含水率の低いものが
好ましい。

【００４８】本発明に係る熱現像感光材料は、感光性層
上の保護層やＢＣ層にマット剤を含有することが好まし
く、本発明において用いられるマット剤の材質は、有機
物及び無機物のいずれでもよい。例えば、無機物として
は、スイス特許第３３０，１５８号等に記載のシリカ、
仏国特許第１，２９６，９９５号等に記載のガラス粉、
英国特許第１，１７３，１８１号等に記載のアルカリ土
類金属又はカドミウム、亜鉛等の炭酸塩、等をマット剤
として用いることができる。有機物としては、米国特許
第２，３２２，０３７号等に記載の澱粉、ベルギー特許
第６２５，４５１号や英国特許第９８１，１９８号等に
記載された澱粉誘導体、特公昭４４−３６４３号等に記
載のポリビニルアルコール、スイス特許第３３０，１５
８号等に記載のポリスチレン或いはポリメタアクリレー
ト、米国特許第３，０７９，２５７号等に記載のポリア
クリロニトリル、米国特許第３，０２２，１６９号等に
記載されたポリカーボネートの様な有機マット剤を用い
ることができる。

【００４９】マット剤の形状は、定形、不定形どちらで
もよいが、好ましくは定形で、球形が好ましく用いられ
る。マット剤の大きさはマット剤の体積を球形に換算し
たときの直径で表される。本発明においてマット剤の粒
径とはこの球形換算した直径のことを示すものとする。
本発明に用いられるマット剤は、平均粒径が０．５〜１
０μｍであることが好ましく、更に好ましくは１．０〜
８．０μｍである。又、粒子の単分散度は５０％以下で
あることが好ましく、更に好ましくは４０％以下であ
り、特に好ましくは２０％以下である。ここで、粒子の
単分散度は粒子径の標準偏差を粒子径の平均値で割り１
００を掛けた数字で表される。本発明に係るマット剤の
添加方法は、予め塗布液中に分散させて塗布する方法で
あってもよいし、塗布液を塗布した後、乾燥が終了する
以前にマット剤を噴霧する方法を用いてもよい。また複
数の種類のマット剤を添加する場合は、両方の方法を併
用してもよい。

【００５０】本発明に係る熱現像感光材料は、熱現像処
理にて写真画像を形成するものであり、還元可能な銀源
（有機銀塩）、触媒活性量の感光性ハロゲン化銀、ヒド
ラジン誘導体、還元剤、及び必要に応じて銀の色調を抑
制する色調剤を通常（有機）バインダーマトリックス中
に分散した状態で含有している熱現像感光材料であるこ
とが好ましい。本発明に係る熱現像感光材料は常温で安
定であるが、露光後高温（例えば、８０℃〜２００℃）
に加熱することで現像される。加熱は、一定の温度で一
定時間加熱する１段階方式と予備加熱、本加熱、あるい
は後加熱のように段階的に加熱する方法等あるが、適宜
加熱方式を選択することができる。加熱することで有機
銀塩（酸化剤として機能する）と還元剤との間の酸化還
元反応を通じて銀を生成する。この酸化還元反応は露光
でハロゲン化銀に発生した潜像の触媒作用によって促進
される。露光領域中の有機銀塩の反応によって生成した
銀は黒色画像を提供し、これは非露光領域と対照をな
し、画像の形成がなされる。この反応過程は、外部から
水等の処理液を供給することなしで進行する。

【００５１】本発明に係る熱現像感光材料には、色調剤
を添加することが好ましい。好適な色調剤の例はＲｅｓ
ｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１７０２９号に開
示されており、次のものがある。

【００５２】メロシアニン染料（例えば、３−エチル−
５−（（３−エチル−２−ベンゾチアゾリニリデン（ベ
ンゾチアゾリニリデン））−１−メチルエチリデン）−
２−チオ−２，４−オキサゾリジンジオン）；フタラジ
ノン、フタラジノン誘導体又はこれらの誘導体の金属塩
（例えば、４−（１−ナフチル）フタラジノン、６−ク
ロロフタラジノン、５，７−ジメチルオキシフタラジノ
ン、及び２，３−ジヒドロ−１，４−ポリハロメタン化
合物ジオン）；フタラジノンとスルフィン酸誘導体の組
み合わせ（例えば、６−クロロフタラジノン＋ベンゼン
スルフィン酸ナトリウム又は８−メチルフタラジノン＋
ｐ−トリスルホン酸ナトリウム）；ポリハロメタン化合
物＋フタル酸の組み合わせ；ポリハロメタン化合物（ポ
リハロメタン化合物の付加物を含む）とマレイン酸無水
物、及びフタル酸、２，３−ナフタレンジカルボン酸又
はｏ−フェニレン酸誘導体及びその無水物（例えば、フ
タル酸、４−メチルフタル酸、４−ニトロフタル酸及び
テトラクロロフタル酸無水物）から選択される少なくと
も１つの化合物との組み合わせ；キナゾリンジオン類、
ベンズオキサジン、ナルトキサジン誘導体；ベンズオキ
サジン−２，４−ジオン類（例えば、１，３−ベンズオ
キサジン−２，４−ジオン）；ピリミジン類及び不斉−
トリアジン類（例えば、２，４−ジヒドロキシピリミジ
ン）、及びテトラアザペンタレン誘導体（例えば、３，
６−ジメルカプト−１，４−ジフェニル−１Ｈ，４Ｈ−
２，３ａ，５，６ａ−テトラアザペンタレン）。

【００５３】本発明に係る熱現像感光材料には、例えば
特開昭６３−１５９８４１号、同６０−１４０３３５
号、同６３−２３１４３７号、同６３−２５９６５１
号、同６３−３０４２４２号、同６３−１５２４５号、
米国特許第４，６３９，４１４号、同第４，７４０，４
５５号、同第４，７４１，９６６号、同第４，７５１，
１７５号、同第４，８３５，０９６号に記載された増感
色素が使用できる。本発明に使用される有用な増感色素
は例えばＲｅｓｅａｒｃｈ Ｄｉｓｃｌｏｓｕｒｅ第１
７６４３IV−Ａ項（１９７８年１２月ｐ．２３）、同第
１８３１Ｘ項（１９７８年８月ｐ．４３７）に記載もし
くは引用された文献に記載されている。特に各種スキャ
ナー光源の分光特性に適した分光感度を有する増感色素
を有利に選択することができる。例えば特開平９−３４
０７８号、同９−５４４０９号、同９−８０６７９号記
載の化合物が好ましく用いられる。

【００５４】本発明に係る熱現像感光材料の支持体とし
ては、紙、合成紙、不織布、金属箔、ポリエチレンテレ
フタレート、ポリエチレンナフタレート等のポリエステ
ル、ポリカーボネートやポリプロピレン等のプラスチッ
クフィルムなどの支持体が使用可能であり、またこれら
を組み合わせた複合シートを任意に用いてもよい。

【００５５】本発明において、露光はレーザー走査露光
により行うことが好ましいが、感光材料の露光面と走査
レーザー光のなす角が実質的に垂直になることがないレ
ーザー走査露光機を用いることが好ましい。ここで、
「実質的に垂直になることがない」とはレーザー走査中
に最も垂直に近い角度として好ましくは５５〜８８度、
より好ましくは６０〜８６度、更に好ましくは６５〜８
４度、最も好ましくは７０〜８２度であることをいう。
レーザー光が、感光材料に走査されるときの感光材料露
光面でのビームスポット直径は、好ましくは２００μｍ
以下、より好ましくは１００μｍ以下である。これは、
スポット径が小さい方がレーザー入射角度の垂直からの
ずらし角度を減らせる点で好ましい。なお、ビームスポ
ット直径の下限は１０μｍである。このようなレーザー
走査露光を行うことにより干渉縞様のムラの発生等のよ
うな反射光に係る画質劣化を減じることができる。

【００５６】

【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を具体的に説明
するが、本発明の態様はこれに限定されない。

【００５７】実施例１ 《熱ドラムの作製》 （熱ドラム用シリコーンゴムの調製）ステンレス製熱ド
ラム上に被覆する熱ドラム用シリコーンゴムを下記のよ
うにして調製した。

【００５８】熱ドラム１用シリコーンゴムの調製 エチレン基を６モル％含むポリメチルシロキサン２６０
ｇ、両末端トリメチルシロキシ基封鎖メチルハイドロジ
ェンポリシロキサンを３８ｇ、重合開始剤としてブトキ
シパーオキサイドを３ｇ、平均粒子径６μｍシリカを５
６ｇを加えて、ニーダーで混合しながら１８０℃３時間
反応させた。デュロメーター硬度Ａは５０であり、表面
の平均粗さは２．５μｍであった。

【００５９】熱ドラム２用シリコーンゴムの調製 熱ドラム１と同様に作製したが、ここではシリコーンゴ
ムの架橋剤として塩化白金酸を３６μｇ使用した。デュ
ロメーター硬さＡは６０であり、平均表面粗さは２．５
μｍであった。

【００６０】熱ドラム３用シリコーンゴムの調製 熱ドラム２と同様に試料を作製したが、ここではシリカ
の代わりに平均粒子径６μｍの酸化鉄（黒ベンガラ）を
使用した。デュロメーター硬さＡは６８、凹凸差は２．
９μｍであった。

【００６１】熱ドラム４用のシリコーンゴムの調製 熱ドラム３と同様に試料を作製したが、ここでは塩化白
金酸を６７μｇに増量し、反応温度を１９０℃にて反応
させデュロメーター硬さＡ７２のゴムを得た。

【００６２】熱ドラム５用シリコーンゴムの調製 熱ドラム３と同様に試料を作製したが、ここでは酸化鉄
を７８ｇに増量して調製した。

【００６３】（熱ドラムおよび対抗ローラーのシリコー
ンゴムでの被覆）作製した上記５種のシリコーンゴム
を、直径３ｃｍのステンレス（ＳＵＳ３０４）製熱ドラ
ム及び直径３ｃｍのステンレス（ＳＵＳ３０４）製対抗
ローラーに４ｍｍの厚さでそれぞれ被覆し、熱ドラム１
〜５、対抗ローラー１〜５をそれぞれ作製した。

【００６４】（撥水性化加工処理）上記５種のシリコー
ンゴムで被覆した熱ドラム１〜５（尚、熱ドラム１〜５
それぞれには、対抗ローラー１〜５をそれぞれ同順で対
抗させて使用した）について、図２に示す電子線処理機
の処理室１６内にてヘリウムガスで希釈した撥水性化剤
（表１記載の種類、撥水性化剤濃度はいずれもヘリウム
ガスの１質量％）を１００ミリリットル／分の流速で供
給し、熱ドラム１１を６９ｒｐｍで回転させながら、８
００Ｗの電子線管１３から発生させた電子線をスキャニ
ング照射し、表１記載の処理温度で、表１記載のように
処理（電子線処理）した。

【００６５】また、電子線管に変えて１．２ｋＷのプラ
ズマ発生管を取り付け、プラズマをスキャニング照射
し、表１記載のように処理（ＣＶＤ処理）した。

【００６６】尚、電子線処理およびＣＶＤ処理を行う時
の熱ドラムの温度は、熱ドラムの内側のヒーター（ニク
ロム線、８００Ｗ）に電流を流して図２の熱センサー１
２で測定しながら熱ドラムの温度を加熱調整した。

【００６７】（アニール処理）上記のようにして撥水性
化加工処理した後、８０℃、１００℃、１５０℃または
２００℃（表１に記載）でアニール処理を１０分間、表
１記載のように行った。

【００６８】《熱現像感光材料の作製》 ［下引済み写真用支持体の作製］厚さ１７５μｍのポリ
エチレンテレフタレート支持体の両面に８ｗ／ｍ²・分
のコロナ放電処理を施し、一方の面に下記下引塗布液ａ
−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し乾燥させ
て下引層Ａ−１とし、また反対側の面に下記下引塗布液
ｂ−１を乾燥膜厚０．８μｍになるように塗設し乾燥さ
せて下引層Ｂ−１とした。

【００６９】 〈下引塗布液ａ−１〉 ブチルアクリレート（３０質量％） ｔ−ブチルアクリレート（２０質量％） スチレン（２５質量％） ２−ヒドロキシエチルアクリレート（２５質量％） の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１ｌに仕上げる 〈下引塗布液ｂ−１〉 ブチルアクリレート（４０質量％） スチレン（２０質量％） グリシジルアクリレート（４０質量％） の共重合体ラテックス液（固形分３０％） ２７０ｇ ヘキサメチレン−１，６−ビス（エチレンウレア） ０．８ｇ 水で１ｌに仕上げる 引き続き、下引層Ａ−１及び下引層Ｂ−１の上表面に、
８ｗ／ｍ²・分のコロナ放電を施し、下引層Ａ−１の上
には下記下引上層塗布液ａ−２を乾燥膜厚０．１μｍに
なる様に下引上層Ａ−２として、下引層Ｂ−１の上には
下記下引上層塗布液ｂ−２を乾燥膜厚０．８μｍになる
様に帯電防止機能をもつ下引上層Ｂ−２として塗設し
た。

【００７０】 〈下引上層塗布液ａ−２〉 ゼラチン ０．４ｇ／ｍ²になる量 シリカ粒子（平均粒径３μｍ） ０．１ｇ 水で１リットルに仕上げる 〈下引上層塗布液ｂ−２〉 スチレンブタジエン共重合ラテックス液（固形分２０％） ８０ｇ ポリエチレングリコール（重量平均分子量６００） ６ｇ 水で１リットルに仕上げる ［有機銀塩Ａの調製］ （ハロゲン化銀粒子乳剤Ａの調製）水９００ｍｌ中にイ
ナートゼラチン７．５ｇ及び臭化カリウム１０ｍｇを溶
解して温度３５℃、ｐＨを３．０に合わせた後、硝酸銀
７４ｇを含む水溶液３７０ｍｌと（９８／２）のモル比
の臭化カリウムと沃化カリウムを含む水溶液をｐＡｇ
７．７に保ちながらコントロールドダブルジェット法で
１０分間かけて添加した。その後４−ヒドロキシ−６−
メチル−１，３，３ａ，７−テトラザインデン０．３ｇ
を添加しＮａＯＨでｐＨを５に調整して平均粒子サイズ
０．０６μｍ、投影直径面積の変動係数８％、〔１０
０〕面比率８７％の立方体沃臭化銀粒子を得た。この乳
剤にゼラチン凝集剤を用いて凝集沈降させ脱塩処理後、
フェノキシエタノール０．１ｇを加え、ｐＨ５．９、ｐ
Ａｇ７．５に調整して、ハロゲン化銀粒子乳剤Ａを得
た。 （有機銀塩Ａの調製）４７２０ｍｌの純水にベヘン酸１
１１．４ｇ、アラキジン酸８３．８ｇ、ステアリン酸５
４．９ｇを８０℃で溶解した。次に高速で攪拌しながら
１．５モル／Ｌの水酸化ナトリウム水溶液５４０．２ｍ
ｌを添加し濃硝酸６．９ｍｌを加えた後、５５℃に冷却
して有機酸ナトリウム溶液を得た。上記の有機酸ナトリ
ウム溶液の温度を５５℃に保ったまま、上記ハロゲン化
銀粒子乳剤Ａ（銀０．０３８モルを含む）と純水４５０
ｍｌを添加し５分間攪拌した。次に１モル／Ｌの硝酸銀
溶液７６０．６ｍｌを２分間かけて添加し、さらに２０
分攪拌し、濾過により水溶性塩類を除去した。その後、
濾液の電導度が２μＳ／ｃｍになるまで脱イオン水によ
る水洗、濾過を３回繰り返し乾燥させた。

【００７１】［熱現像感光材料の作製］下引済み写真用
支持体の下引上層Ｂ−２上に下記バック面側塗布を、下
引上層Ａ−２上に下記感光層面側塗布を、それぞれ下記
のようにして施して、熱現像感光材料１を作製した。 バック面側塗布 バック層（第１′層）およびバック層保護層（第２′
層）として、以下の組成物をメチルエチルケトン溶液中
に加えて調製した塗布液を以下の付き量になるように減
圧押し出し同時重層塗布し、４８℃、５６秒乾燥した。 バック層（第１′層） バインダー：ＰＶＢ−１ １．１ｇ／ｍ² 染料：Ｃ １２ｍｇ／ｍ² コロイダルシリカ １２ｍｇ／ｍ² ドデシルベンゼンスルホン酸ナトリウム １３ｍｇ／ｍ² バック層保護膜（第２′層） セルロースアセテートブチレート ０．８ｇ／ｍ² マット剤（ＰＭＭＡ：平均粒径３μｍ） ０．０２ｇ／ｍ² コロイダルシリカ ０．０２ｇ／ｍ² 活性剤：Ｎ−プロピルオクチルスルホンアミド酢酸 ０．０２ｇ／ｍ² 硬膜剤：１，２−ビス（ビニルスホンアミド）エタン ０．０２ｇ／ｍ² 感光層面側塗布 ＡＨ層（第１層）、感光層（第２層）および感光層保護
層（第３層）として、以下の組成物をメチルエチルケト
ン溶液中に加えて調製した塗布液を以下の付き量になる
ように減圧押し出し同時重層塗布し、４８℃、５６秒乾
燥した。 ＡＨ層（第１層） バインダー：ＰＶＢ−１ ０．３ｇ／ｍ² 染料：Ｃ ８ｍｇ／ｍ² 感光層（第２層） 有機銀塩Ａ 銀量として１．４ｇ／ｍ² バインダー：ＰＶＢ−１ ５．６ｇ／ｍ² 分光増感色素Ａ ８ｍｇ／ｍ² カブリ防止剤１：２−メルカプトベンツイミダゾール ０．３ｍｇ／ｍ² カブリ防止剤２：イソチアゾロン １．２ｍｇ／ｍ² カブリ防止剤３：２−トリブロモメチルスルホニルピリジン １２０ｍｇ／ｍ² 現像剤：１，１−ビス（２ーヒドロキシ−３，５−ジメチルフェニル）−３， ５，５−トリメチルヘキサン ３．３ミリモル／ｍ² 感光層保護層（第３層） セルロースアセテートブチレート １．２ｇ／ｍ² ４−メチルフタル酸 ０．７ｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸 ０．２ｇ／ｍ² テトラクロロフタル酸無水物 ０．５ｇ／ｍ² シリカマット剤（平均粒径５μｍ） ０．５ｇ／ｍ² コロイダルシリカ ０．０２ｇ／ｍ²

【００７２】

【化１】

【００７３】《評価方法》 熱ドラムの汚れ耐性 熱ドラムの汚れ耐性は、上記処方で作製した熱現像感光
材料１を４つ切りサイズにしたものを、濃度１．５に仕
上がるように露光した後、現像温度１２０℃、現像時間
１０秒、１時間当たり処理枚数１００枚、１日１０００
枚処理の条件で２０日処理した後、熱ドラムの表面の汚
れを目視で下記基準を目安として評価した。

【００７４】最も良いレベルを５、最も悪いレベルを１
とした。３は中間で実用的には問題ないレベルであり、
２は実用的に問題となるレベルである。

【００７５】結果を表１に示す。

【００７６】

【表１】

【００７７】表１から明らかなように、熱ドラムの最外
表面層のシリコーンゴムが撥水性化剤で処理されると熱
ドラムの汚れ耐性が良好であることがわかる。シリコー
ンゴムが貴金属触媒で架橋促進されたものは汚れ耐性が
より良好であることがわかる。更に伝熱性微粒子を含む
シリコーンゴムは汚れ耐性が更により良好であることが
わかる。撥水性化加工処理として、電子線処理およびＣ
ＶＤ処理の両者とも熱ドラムの汚れ耐性をより良好にす
ることができ、電子線処理時およびＣＶＤ処理時に熱ド
ラムの温度を８０℃〜２００℃にしたものは熱ドラムの
汚れ耐性がより優れており、更に８０℃〜２００℃でア
ニールしたものは熱ドラムの汚れ耐性が非常に優れてい
ることがわかる。

【００７８】

【発明の効果】本発明により、熱現像感光材料を迅速で
しかも均一に現像する熱現像装置を提供できる。更には
長期間に亘り熱現像装置内の熱ドラムの汚れがなく、熱
現像された熱現像感光材料にも汚れが転写することなく
高品位画質を与える熱現像装置を提供できる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の熱現像装置の熱現像部の一例を示す
図。

【図２】本発明の実施例で使用した電子線照射処理装置
の一例の構成を示す図。

【符号の説明】

１ 遮蔽体 ２ 押さえローラー群 ３ 熱源 ４、１１ 熱ドラム ５ 挿入ローラー ６ 排出ローラー ７ 挿入口 ８ 排出口 ９ 熱現像感光材料 １２ 温度センサー １３ 電子線管 １４ 窓 １５ａ ガス導入口 １５ｂ ガス出口 １６ 処理室

Claims (7)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 支持体の少なくとも一方の面に感光性ハ
   ロゲン化銀、有機銀塩および還元剤を含有する感光層と
   該感光層を保護する感光層保護層を有する熱現像感光材
   料を熱現像処理する熱現像装置において、該熱現像装置
   内の熱ドラムの最外表面層がシリコーンゴムであり、該
   シリコーンゴムが撥水性化剤の存在下に撥水性化加工処
   理されていることを特徴とする熱現像装置。
2. 【請求項２】 前記撥水性化剤がフッ素ガス、フッ化水
   素、三フッ化窒素、三フッ化硼素、四フッ化硫黄、四フ
   ッ化珪素およびフロンガスから選ばれる少なくとも１種
   であることを特徴とする請求項１記載の熱現像装置。
3. 【請求項３】 前記シリコーンゴムが貴金属触媒で架橋
   されていること特徴する請求項１または２記載の熱現像
   装置。
4. 【請求項４】 前記熱ドラムの最外表面層がシリコーン
   ゴムであり、該シリコーンゴムが伝熱性微粒子を含有す
   ることを特徴する請求項１〜３のいずれか１項記載の熱
   現像装置。
5. 【請求項５】 前記撥水性化加工処理が、少なくとも電
   子線処理またはＣＶＤ処理を含むものであることを特徴
   とする請求項１〜４のいずれか１項記載の熱現像装置。
6. 【請求項６】 前記撥水性加工処理時の熱現像ドラムの
   温度が８０℃〜２００℃であることを特徴とする請求項
   １〜５のいずれか１項記載の熱現像装置。
7. 【請求項７】 前記撥水性化加工処理後、熱ドラムを８
   ０℃〜２００℃でアニール処理することを特徴とする請
   求項１〜６のいずれか１項記載の熱現像装置。