JP2003252918A - 光重合開始剤および感光性組成物 - Google Patents
光重合開始剤および感光性組成物Info
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- JP2003252918A JP2003252918A JP2002054007A JP2002054007A JP2003252918A JP 2003252918 A JP2003252918 A JP 2003252918A JP 2002054007 A JP2002054007 A JP 2002054007A JP 2002054007 A JP2002054007 A JP 2002054007A JP 2003252918 A JP2003252918 A JP 2003252918A
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- mercaptoisobutyrate
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 本発明の目的は上記問題を解決した高感度で
保存性に優れた光重合開始剤、該開始剤を含む感光性組
成物の提供にある。 【解決手段】 増感剤（Ａ）、特定の構造を有する有機
ホウ素錯体（Ｂ）およびチオール基に対してα位および
／またはβ位に分岐構造をもつ多官能分岐チオール
（Ｃ）を含むことを特徴とする光重合開始剤、並びに、
熱可塑性あるいは未架橋の高分子重合体（Ｄ）および／
または、エチレン性不飽和結合を有する化合物（Ｅ）お
よび上記の光重合開始剤を含有することを特徴とする感
光性組成物。
保存性に優れた光重合開始剤、該開始剤を含む感光性組
成物の提供にある。 【解決手段】 増感剤（Ａ）、特定の構造を有する有機
ホウ素錯体（Ｂ）およびチオール基に対してα位および
／またはβ位に分岐構造をもつ多官能分岐チオール
（Ｃ）を含むことを特徴とする光重合開始剤、並びに、
熱可塑性あるいは未架橋の高分子重合体（Ｄ）および／
または、エチレン性不飽和結合を有する化合物（Ｅ）お
よび上記の光重合開始剤を含有することを特徴とする感
光性組成物。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、高感度で、保存性
に優れた光重合開始剤および該光重合開始剤を含む感光
性組成物に関するものである。
に優れた光重合開始剤および該光重合開始剤を含む感光
性組成物に関するものである。
【０００２】
【従来の技術】感光性組成物は様々な方面で用いられ、
印刷版やカラープルーフ、カラーフィルタ、ソルダーレ
ジスト、光硬化インクなど多方面にわたる。特に近年、
これらの用途を含め環境問題、省エネルギー、作業安全
性、生産コスト等の観点から光硬化の最たる特徴である
常温・即乾・無溶剤等が注目され、数多く研究、開発が
進められている。カラーフィルタの開発では生産性の向
上や高精細化を目的としてカラーフィルタ用顔料分散型
レジストの検討が進められている（例えば特開平１０−
１７５０３号公報、特開平１０−３９５０３号公報、特
開平１０−９０８９０号公報、特開平１０−２５３８１
５号公報、特開平１０−１７７１０８号公報）。また、
カラープルーフや印刷版では製版の高速化・高精細化を
目的として開発が進められている（例えば特開平１０−
１９８０２９号公報、特開平１０−１５３８５５号公
報、特開平１０−２０７０５４号公報、特開平１０−１
０３１５号公報）。また特開平１０−１１５９２１号公
報、特開平１１−２１３２７号公報、特開平１０−１３
９８４３号公報ではプリント基板のためのソルダーレジ
ストが示されている。
印刷版やカラープルーフ、カラーフィルタ、ソルダーレ
ジスト、光硬化インクなど多方面にわたる。特に近年、
これらの用途を含め環境問題、省エネルギー、作業安全
性、生産コスト等の観点から光硬化の最たる特徴である
常温・即乾・無溶剤等が注目され、数多く研究、開発が
進められている。カラーフィルタの開発では生産性の向
上や高精細化を目的としてカラーフィルタ用顔料分散型
レジストの検討が進められている（例えば特開平１０−
１７５０３号公報、特開平１０−３９５０３号公報、特
開平１０−９０８９０号公報、特開平１０−２５３８１
５号公報、特開平１０−１７７１０８号公報）。また、
カラープルーフや印刷版では製版の高速化・高精細化を
目的として開発が進められている（例えば特開平１０−
１９８０２９号公報、特開平１０−１５３８５５号公
報、特開平１０−２０７０５４号公報、特開平１０−１
０３１５号公報）。また特開平１０−１１５９２１号公
報、特開平１１−２１３２７号公報、特開平１０−１３
９８４３号公報ではプリント基板のためのソルダーレジ
ストが示されている。
【０００３】これらの用途において感光性組成物に対す
る要求は高まっており、より低いエネルギーで硬化する
もの、より早く硬化するもの、より精細なパターンを形
成できるもの、より深い硬化深度を持つもの、より保存
性能の高いものが求められている。感光性組成物は主
に、光重合開始剤と、重合反応により硬化するエチレン
性不飽和結合を有する化合物および各種添加物とから構
成され、用途に応じて様々な種類が用いられる。光重合
開始剤はその感光波長や重合開始特性により選択され、
エチレン性不飽和結合を有する化合物や添加物は、重合
性や求める硬化物の物性により選ばれ、これらが組み合
わせて使用される。しかしエチレン性不飽和結合を有す
る化合物や添加物によっては、光重合開始に充分なエ
ネルギーが得られない問題。保存性が得られない問
題、求める硬化物の厚さのために照射光が深部まで達
することができず、硬化不足となる問題、感光性組成
物が大気に接している部分で発生する酸素阻害の問題な
どが生じている。これらの問題に対しては種々の工夫が
なされている（例えば、より大きなエネルギーの照射や
過剰量の光重合開始剤の添加、酸素遮断膜の設置などで
回避）が、省エネルギーや生産コストの低減のために
も、より光硬化性や保存性に優れた感光性組成物が求め
られている。
る要求は高まっており、より低いエネルギーで硬化する
もの、より早く硬化するもの、より精細なパターンを形
成できるもの、より深い硬化深度を持つもの、より保存
性能の高いものが求められている。感光性組成物は主
に、光重合開始剤と、重合反応により硬化するエチレン
性不飽和結合を有する化合物および各種添加物とから構
成され、用途に応じて様々な種類が用いられる。光重合
開始剤はその感光波長や重合開始特性により選択され、
エチレン性不飽和結合を有する化合物や添加物は、重合
性や求める硬化物の物性により選ばれ、これらが組み合
わせて使用される。しかしエチレン性不飽和結合を有す
る化合物や添加物によっては、光重合開始に充分なエ
ネルギーが得られない問題。保存性が得られない問
題、求める硬化物の厚さのために照射光が深部まで達
することができず、硬化不足となる問題、感光性組成
物が大気に接している部分で発生する酸素阻害の問題な
どが生じている。これらの問題に対しては種々の工夫が
なされている（例えば、より大きなエネルギーの照射や
過剰量の光重合開始剤の添加、酸素遮断膜の設置などで
回避）が、省エネルギーや生産コストの低減のために
も、より光硬化性や保存性に優れた感光性組成物が求め
られている。
【０００４】補助開始剤と一緒に光重合開始剤としてボ
レートを使用することは従来公知である。例えば、米国
特許第４７７２５３０号はカチオン染料と共にトリアリ
ールボレートを開示している。また米国特許５０５５３
７２号から、４級アンモニウム化合物を前記トリアリー
ルアルキルボレートに対するカチオン対イオンとして使
用することは公知である。この文献においては、ボレー
トは光硬化性材料における補助開始剤としての芳香族ケ
トン開始剤化合物と一緒に使用されている。また、特開
平１０−２５３８１５号公報には多官能チオール並びに
ビイミダゾール化合物、チタノセン化合物、トリアジン
化合物およびオキサゾール化合物から選ばれる開始剤を
含む光重合性組成物が開示されており、特開２０００−
２４９８２２号公報には増感剤と有機ホウ素錯体とチオ
ール基を有する化合物を含む光重合開始剤が開示されて
いるが、これらで開示、使用されている多官能チオール
は直鎖のものばかりであった。また、高感度化を達成し
ようとすると保存性が犠牲になるといった問題もあっ
た。
レートを使用することは従来公知である。例えば、米国
特許第４７７２５３０号はカチオン染料と共にトリアリ
ールボレートを開示している。また米国特許５０５５３
７２号から、４級アンモニウム化合物を前記トリアリー
ルアルキルボレートに対するカチオン対イオンとして使
用することは公知である。この文献においては、ボレー
トは光硬化性材料における補助開始剤としての芳香族ケ
トン開始剤化合物と一緒に使用されている。また、特開
平１０−２５３８１５号公報には多官能チオール並びに
ビイミダゾール化合物、チタノセン化合物、トリアジン
化合物およびオキサゾール化合物から選ばれる開始剤を
含む光重合性組成物が開示されており、特開２０００−
２４９８２２号公報には増感剤と有機ホウ素錯体とチオ
ール基を有する化合物を含む光重合開始剤が開示されて
いるが、これらで開示、使用されている多官能チオール
は直鎖のものばかりであった。また、高感度化を達成し
ようとすると保存性が犠牲になるといった問題もあっ
た。
【０００５】
【発明が解決しようとする課題】本発明の目的は上記問
題を解決した高感度で保存性に優れた光重合開始剤、該
開始剤を含む感光性組成物の提供にある。
題を解決した高感度で保存性に優れた光重合開始剤、該
開始剤を含む感光性組成物の提供にある。
【０００６】
【課題を解決するための手段】本発明者らは増感剤
（Ａ）と、一般式（１）で表される有機ホウ素錯体
（Ｂ）と、チオール基に対してα位および／またはβ位
に分岐構造をもつ多官能分岐チオール（Ｃ）を含有する
ことを特徴とする光重合開始剤を用いることで上記課題
が解決することを見いだし本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、１）増感剤（Ａ）と、一般式（１）で
表される有機ホウ素錯体（Ｂ）およびチオール基に対し
てα位および／またはβ位に分岐構造をもつ多官能分岐
チオール（Ｃ）とを含有することを特徴とする光重合開
始剤、
（Ａ）と、一般式（１）で表される有機ホウ素錯体
（Ｂ）と、チオール基に対してα位および／またはβ位
に分岐構造をもつ多官能分岐チオール（Ｃ）を含有する
ことを特徴とする光重合開始剤を用いることで上記課題
が解決することを見いだし本発明を完成するに至った。
即ち、本発明は、１）増感剤（Ａ）と、一般式（１）で
表される有機ホウ素錯体（Ｂ）およびチオール基に対し
てα位および／またはβ位に分岐構造をもつ多官能分岐
チオール（Ｃ）とを含有することを特徴とする光重合開
始剤、
【０００７】
【化６】
【０００８】（式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ独
立に、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケ
ニル基、複素環基、または脂環基を表し、Ｚ+はアンモ
ニウムカチオン、スルホニウムカチオン、オキソスルホ
ニウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ホスホニウム
カチオン、オキソニウムカチオン、またはヨードニウム
カチオンを表す。）
立に、アルキル基、アリール基、アラルキル基、アルケ
ニル基、複素環基、または脂環基を表し、Ｚ+はアンモ
ニウムカチオン、スルホニウムカチオン、オキソスルホ
ニウムカチオン、ピリジニウムカチオン、ホスホニウム
カチオン、オキソニウムカチオン、またはヨードニウム
カチオンを表す。）
【０００９】２）チオール基に対してα位および／また
はβ位に分岐構造をもつ多官能分岐チオール（Ｃ）が一
般式（２）〜（５）で表される化合物から選ばれる１種
または２種以上であることを特徴とする上記１）に記載
の光重合開始剤。
はβ位に分岐構造をもつ多官能分岐チオール（Ｃ）が一
般式（２）〜（５）で表される化合物から選ばれる１種
または２種以上であることを特徴とする上記１）に記載
の光重合開始剤。
【００１０】
【化７】
【００１１】（式中、Ｒ5はメチル基またはエチル基を
表し、ｌは０または１、ｍは０〜２の整数、ｎは１〜８
の整数、ｖは１または２の整数を表す）
表し、ｌは０または１、ｍは０〜２の整数、ｎは１〜８
の整数、ｖは１または２の整数を表す）
【００１２】
【化８】
【００１３】（式中、Ｒ6はメチル基またはエチル基を
表し、ｐは０〜２の整数、ｑは０または１を表す）
表し、ｐは０〜２の整数、ｑは０または１を表す）
【００１４】
【化９】
【００１５】（式中、Ｒ7はメチル基またはエチル基を
表し、ｓは０〜２の整数、ｔは０または１を表す）
表し、ｓは０〜２の整数、ｔは０または１を表す）
【００１６】
【化１０】
【００１７】（式中、Ｒ8はメチル基、エチル基を表
し、ｗは０〜２の整数、ｘは０または１を表す。）
し、ｗは０〜２の整数、ｘは０または１を表す。）
【００１８】３）チオール基に対してα位および／また
はβ位に分岐構造をもつ多官能分岐チオール（Ｃ）がエ
チレングリコールビス（３−メルカプトブチレート）、
ジエチレングリコールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、ブタンジオールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプト
ブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−
メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールテト
ラキス（３−メルカプトブチレート）、エチレングリコ
ールビス（３−メルカプトイソブチレート）、ジエチレ
ングリコールビス（３−メルカプトイソブチレート）、
ブタンジオールビス（３−メルカプトイソブチレー
ト）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプト
イソブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス
（３−メルカプトイソブチレート）、ジペンタエリスリ
トールテトラキス（３−メルカプトイソブチレート）か
ら選ばれる１種または２種以上であることを特徴とする
上記１）に記載の光重合開始剤、
はβ位に分岐構造をもつ多官能分岐チオール（Ｃ）がエ
チレングリコールビス（３−メルカプトブチレート）、
ジエチレングリコールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、ブタンジオールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプト
ブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−
メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールテト
ラキス（３−メルカプトブチレート）、エチレングリコ
ールビス（３−メルカプトイソブチレート）、ジエチレ
ングリコールビス（３−メルカプトイソブチレート）、
ブタンジオールビス（３−メルカプトイソブチレー
ト）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプト
イソブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス
（３−メルカプトイソブチレート）、ジペンタエリスリ
トールテトラキス（３−メルカプトイソブチレート）か
ら選ばれる１種または２種以上であることを特徴とする
上記１）に記載の光重合開始剤、
【００１９】４）増感剤（Ａ）が、２５０〜５００ｎｍ
の吸収波長領域を持つ増感剤であることを特徴とする、
上記１）〜３）のいずれかに記載の光重合開始剤、
の吸収波長領域を持つ増感剤であることを特徴とする、
上記１）〜３）のいずれかに記載の光重合開始剤、
【００２０】５）増感剤（Ａ）が、ベンゾフェノン類お
よび／またはアンスラキノン類を含むことを特徴とす
る、上記１）〜４）のいずれかに記載の光重合開始剤、
よび／またはアンスラキノン類を含むことを特徴とす
る、上記１）〜４）のいずれかに記載の光重合開始剤、
【００２１】６）熱可塑性あるいは未架橋の高分子重合
体（Ｄ）および／または、エチレン性不飽和結合を有す
る化合物（Ｅ）、並びに上記１）〜５）のいずれかに記
載の光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性組
成物、
体（Ｄ）および／または、エチレン性不飽和結合を有す
る化合物（Ｅ）、並びに上記１）〜５）のいずれかに記
載の光重合開始剤を含有することを特徴とする感光性組
成物、
【００２２】７）顔料（Ｆ）を含有することを特徴とす
る６）に記載の感光性組成物、
る６）に記載の感光性組成物、
【００２３】８）高分子重合体（Ｄ）が溶剤またはアル
カリ水溶液に可溶であることを特徴とする上記６）〜
７）の感光性組成物、である。
カリ水溶液に可溶であることを特徴とする上記６）〜
７）の感光性組成物、である。
【００２４】
【発明の実施の形態】本発明を更に詳細に説明する。上
記一般式（１）で表される有機ホウ素錯体（Ｂ）中のＲ
1、Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4のアルキル基は置換基を有して
いてもよく、具体的には炭素数１〜１２の置換あるいは
無置換の直鎖あるいは分岐アルキル基が好ましく、たと
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、シアノメチル基、
４−クロロブチル基、２−ジエチルアミノエチル基、２
−メトキシエチル基などを挙げることができる。
記一般式（１）で表される有機ホウ素錯体（Ｂ）中のＲ
1、Ｒ2、Ｒ3、およびＲ4のアルキル基は置換基を有して
いてもよく、具体的には炭素数１〜１２の置換あるいは
無置換の直鎖あるいは分岐アルキル基が好ましく、たと
えばメチル基、エチル基、ｎ−プロピル基、イソプロピ
ル基、ｎ−ブチル基、イソブチル基、ｓｅｃ−ブチル
基、ｔｅｒｔ−ブチル基、ｎ−ペンチル基、ｎ−ヘキシ
ル基、ｎ−オクチル基、ドデシル基、シアノメチル基、
４−クロロブチル基、２−ジエチルアミノエチル基、２
−メトキシエチル基などを挙げることができる。
【００２５】上記一般式（１）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、お
よびＲ4のアリール基は置換あるいは無置換のアリール
基で、具体例としてはたとえばフェニル基、トリル基、
キシリル基、メシチル基、４−メトキシフェニル基、２
−メトキシフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、４
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、４−メチ
ルナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、４−
ニトロフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル
基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、
４−ジメチルアミノフェニル基などを挙げることができ
る。
よびＲ4のアリール基は置換あるいは無置換のアリール
基で、具体例としてはたとえばフェニル基、トリル基、
キシリル基、メシチル基、４−メトキシフェニル基、２
−メトキシフェニル基、４−ｎ−ブチルフェニル基、４
−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル基、ナフチル基、４−メチ
ルナフチル基、アンスリル基、フェナントリル基、４−
ニトロフェニル基、４−トリフルオロメチルフェニル
基、４−フルオロフェニル基、４−クロロフェニル基、
４−ジメチルアミノフェニル基などを挙げることができ
る。
【００２６】上記一般式（１）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、お
よびＲ4のアラルキル基は置換あるいは無置換のアラル
キル基で、具体的にはたとえばベンジル基、フェネチル
基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、４
−メトキシベンジル基などを挙げることができる。
よびＲ4のアラルキル基は置換あるいは無置換のアラル
キル基で、具体的にはたとえばベンジル基、フェネチル
基、１−ナフチルメチル基、２−ナフチルメチル基、４
−メトキシベンジル基などを挙げることができる。
【００２７】上記一般式（１）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、お
よびＲ4のアルケニル基は置換あるいは無置換のアルケ
ニル基で、具体的にはたとえばビニル基、プロペニル
基、ブテニル基、オクテニル基などを挙げることができ
る。
よびＲ4のアルケニル基は置換あるいは無置換のアルケ
ニル基で、具体的にはたとえばビニル基、プロペニル
基、ブテニル基、オクテニル基などを挙げることができ
る。
【００２８】上記一般式（１）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、お
よびＲ4の複素環基は置換あるいは無置換の複素環基
で、具体的にはたとえばピリジル基、４−メチルピリジ
ル基、キノリル基、インドリル基などを挙げることがで
きる。
よびＲ4の複素環基は置換あるいは無置換の複素環基
で、具体的にはたとえばピリジル基、４−メチルピリジ
ル基、キノリル基、インドリル基などを挙げることがで
きる。
【００２９】上記一般式（１）中のＲ1、Ｒ2、Ｒ3、お
よびＲ4の脂環基は置換あるいは無置換の脂環基で、具
体的にはたとえばシクロヘキシル基、４−メチルシクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基など
を挙げることができる。
よびＲ4の脂環基は置換あるいは無置換の脂環基で、具
体的にはたとえばシクロヘキシル基、４−メチルシクロ
ヘキシル基、シクロペンチル基、シクロヘプチル基など
を挙げることができる。
【００３０】上記一般式（１）中のＺ+がアンモニウム
カチオンの場合、具体的には、たとえばテトラメチルア
ンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオ
ン、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウムカチオン、テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムカチオン、ｎ−ブチルトリ
フェニルアンモニウムカチオン、テトラフェニルアンモ
ニウムカチオン、ベンジルトリフェニルアンモニウムカ
チオン等が挙げられる。
カチオンの場合、具体的には、たとえばテトラメチルア
ンモニウムカチオン、テトラエチルアンモニウムカチオ
ン、テトラ−ｎ−プロピルアンモニウムカチオン、テト
ラ−ｎ−ブチルアンモニウムカチオン、ｎ−ブチルトリ
フェニルアンモニウムカチオン、テトラフェニルアンモ
ニウムカチオン、ベンジルトリフェニルアンモニウムカ
チオン等が挙げられる。
【００３１】一般式（１）中のＺ+が、スルホニウムカ
チオンの場合、具体的には、たとえばトリフェニルスル
ホニウムカチオン、トリ（４−トリル）スルホニウムカ
チオン、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジフェニルスル
ホニウムカチオン等が挙げられる。一般式（１）中のＺ
+が、オキソスルホニウムカチオンの場合、具体的に
は、たとえばトリフェニルオキソスルホニウムカチオ
ン、トリ（４−トリル）オキソスルホニウムカチオン、
４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジフェニルオキソスルホ
ニウムカチオン等が挙げられる。
チオンの場合、具体的には、たとえばトリフェニルスル
ホニウムカチオン、トリ（４−トリル）スルホニウムカ
チオン、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジフェニルスル
ホニウムカチオン等が挙げられる。一般式（１）中のＺ
+が、オキソスルホニウムカチオンの場合、具体的に
は、たとえばトリフェニルオキソスルホニウムカチオ
ン、トリ（４−トリル）オキソスルホニウムカチオン、
４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジフェニルオキソスルホ
ニウムカチオン等が挙げられる。
【００３２】一般式（１）中のＺ+が、オキソニウムカ
チオンの場合、具体的には、たとえばトリフェニルオキ
ソニウムカチオン、トリ（４−トリル）オキソニウムカ
チオン、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジフェニルオキ
ソニウムカチオン等が挙げられる。一般式（１）中のＺ
+が、ピリジニウムカチオンの場合、具体的には、たと
えばＮ−メチルピリジニウムカチオン、Ｎ−ｎ−ブチル
ピリジニウムカチオン等が挙げられる。
チオンの場合、具体的には、たとえばトリフェニルオキ
ソニウムカチオン、トリ（４−トリル）オキソニウムカ
チオン、４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニルジフェニルオキ
ソニウムカチオン等が挙げられる。一般式（１）中のＺ
+が、ピリジニウムカチオンの場合、具体的には、たと
えばＮ−メチルピリジニウムカチオン、Ｎ−ｎ−ブチル
ピリジニウムカチオン等が挙げられる。
【００３３】一般式（１）中のＺ+が、ホスホニウムカ
チオンの場合、具体的には、たとえばテトラメチルホス
ホニウムカチオン、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムカ
チオン、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウムカチオン、
テトラフェニルホスホニウムカチオン、ベンジルトリフ
ェニルホスホニウムカチオン等が挙げられる。
チオンの場合、具体的には、たとえばテトラメチルホス
ホニウムカチオン、テトラ−ｎ−ブチルホスホニウムカ
チオン、テトラ−ｎ−オクチルホスホニウムカチオン、
テトラフェニルホスホニウムカチオン、ベンジルトリフ
ェニルホスホニウムカチオン等が挙げられる。
【００３４】一般式（１）中のＺ+が、ヨードニウムカ
チオンの場合、具体的には、たとえばジフェニルヨード
ニウムカチオン、ジ（４−メチルフェニル）ヨードニウ
ムカチオン、ジ（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムカチオン等が挙げられる。
チオンの場合、具体的には、たとえばジフェニルヨード
ニウムカチオン、ジ（４−メチルフェニル）ヨードニウ
ムカチオン、ジ（４−ｔｅｒｔ−ブチルフェニル）ヨー
ドニウムカチオン等が挙げられる。
【００３５】一般式（１）で挙げられる有機ホウ素錯体
の例としては、たとえばテトラメチルアンモニウム−ｎ
−ブチルトリフェニルボレイト、テトラエチルアンモニ
ウムイソブチルトリフェニルボレイト、テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウム−ｎ−ブチルトリ（４−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）ボレイト、テトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウム−ｎ−ブチルトリナフチルボレイト、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムメチルトリ（４−メチルナフチル）
ボレイト、トリフェニルスルホニウム−ｎ−ブチルトリ
フェニルボレイト、トリフェニルオキソスルホニウム−
ｎ−ブチルトリフェニルボレイト、トリフェニルオキソ
ニウム−ｎ−ブチルトリフェニルボレイト、Ｎ−メチル
ピリジウム−ｎ−ブチルトリフェニルボレイト、テトラ
フェニルホスホニウム−ｎ−ブチルトリフェニルボレイ
ト、ジフェニルヨードニウム−ｎ−ブチルトリフェニル
ボレイト等が挙げられる。
の例としては、たとえばテトラメチルアンモニウム−ｎ
−ブチルトリフェニルボレイト、テトラエチルアンモニ
ウムイソブチルトリフェニルボレイト、テトラ−ｎ−ブ
チルアンモニウム−ｎ−ブチルトリ（４−ｔｅｒｔ−ブ
チルフェニル）ボレイト、テトラ−ｎ−ブチルアンモニ
ウム−ｎ−ブチルトリナフチルボレイト、テトラ−ｎ−
ブチルアンモニウムメチルトリ（４−メチルナフチル）
ボレイト、トリフェニルスルホニウム−ｎ−ブチルトリ
フェニルボレイト、トリフェニルオキソスルホニウム−
ｎ−ブチルトリフェニルボレイト、トリフェニルオキソ
ニウム−ｎ−ブチルトリフェニルボレイト、Ｎ−メチル
ピリジウム−ｎ−ブチルトリフェニルボレイト、テトラ
フェニルホスホニウム−ｎ−ブチルトリフェニルボレイ
ト、ジフェニルヨードニウム−ｎ−ブチルトリフェニル
ボレイト等が挙げられる。
【００３６】一般式（１）で表される有機ホウ素錯体は
通常３００ｎｍ以上の吸収があまり無いため、単独で用
いても通常の紫外線ランプの光源には感度を有しない
が、増感剤と組み合わせることにより、非常に高い感度
を得ることができる。
通常３００ｎｍ以上の吸収があまり無いため、単独で用
いても通常の紫外線ランプの光源には感度を有しない
が、増感剤と組み合わせることにより、非常に高い感度
を得ることができる。
【００３７】本発明において、有機ホウ素錯体（Ｂ）は
エチレン性不飽和結合を有する化合物に対して、一般に
１〜１００重量％、好ましくは５〜８０重量％となるよ
うに配合する。有機ホウ素錯体が少なすぎると重合反応
が充分に進行しないことがあり、多すぎると組成物の安
定性が低下したり、経済的にも不利になるため好ましく
ない。
エチレン性不飽和結合を有する化合物に対して、一般に
１〜１００重量％、好ましくは５〜８０重量％となるよ
うに配合する。有機ホウ素錯体が少なすぎると重合反応
が充分に進行しないことがあり、多すぎると組成物の安
定性が低下したり、経済的にも不利になるため好ましく
ない。
【００３８】本発明に用いられる増感剤（Ａ）として
は、光源からのエネルギー線を吸収する光重合開始剤、
増感剤、色素等を用いることができる。これらの化合物
としてはシアニン、キサンテン、オキサジン、チアジ
ン、ジアリールメタン、トリアリールメタン、ピリリウ
ムなどのカチオン色素類、メロシアニン、クマリン、イ
ンジゴ、芳香族アミン、フタロシアニン、アゾ、キノ
ン、チオキサンテン系増感色素などの中性色素、ベンゾ
フェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、チオキ
サントン類、アンスラキノン類、イミダゾール類、ビイ
ミダゾール類、クマリン類、ケトクマリン類、トリフェ
ニルピリリウム類、トリアジン類、安息香酸類等の化合
物が例示される。またアシルフォスフィンオキサイド、
メチルフェニルグリオキシレート、α−アシロキシムエ
ステル、ベンジル、カンファーキノン等の化合物も用い
ることができる。ここで、カチオン色素の場合の対アニ
オンは任意のアニオンであり、例えば、塩素、臭素、ヨ
ウ素アニオンなどのハロゲンアニオン、ベンゼンスルホ
ン酸アニオン、ｐ−トルエンスルホン酸アニオン、メタ
ンスルホン酸アニオン、ＢＦ4アニオン、ＰＦ6アニオ
ン、過塩素酸アニオンなどが挙げられる。これらの化合
物は、それぞれ単独もしくは２種以上を組み合わせて用
いることができる。
は、光源からのエネルギー線を吸収する光重合開始剤、
増感剤、色素等を用いることができる。これらの化合物
としてはシアニン、キサンテン、オキサジン、チアジ
ン、ジアリールメタン、トリアリールメタン、ピリリウ
ムなどのカチオン色素類、メロシアニン、クマリン、イ
ンジゴ、芳香族アミン、フタロシアニン、アゾ、キノ
ン、チオキサンテン系増感色素などの中性色素、ベンゾ
フェノン類、アセトフェノン類、ベンゾイン類、チオキ
サントン類、アンスラキノン類、イミダゾール類、ビイ
ミダゾール類、クマリン類、ケトクマリン類、トリフェ
ニルピリリウム類、トリアジン類、安息香酸類等の化合
物が例示される。またアシルフォスフィンオキサイド、
メチルフェニルグリオキシレート、α−アシロキシムエ
ステル、ベンジル、カンファーキノン等の化合物も用い
ることができる。ここで、カチオン色素の場合の対アニ
オンは任意のアニオンであり、例えば、塩素、臭素、ヨ
ウ素アニオンなどのハロゲンアニオン、ベンゼンスルホ
ン酸アニオン、ｐ−トルエンスルホン酸アニオン、メタ
ンスルホン酸アニオン、ＢＦ4アニオン、ＰＦ6アニオ
ン、過塩素酸アニオンなどが挙げられる。これらの化合
物は、それぞれ単独もしくは２種以上を組み合わせて用
いることができる。
【００３９】たとえば、以下、具体的な例として、カチ
オン色素としてはクリスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４
２５５５）、メチルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２５３
５）、マラカイトグリーン（Ｃ．Ｉ．４２０００）、フ
クシン（Ｃ．Ｉ．４２５１０）、クリスタルバイオレッ
ト−カルビノ−ルベース（Ｃ．Ｉ．４２５５５：１）、
パラフクシン（Ｃ．Ｉ．４２５００）、ローダミンＢ
（Ｃ．Ｉ．４５１７０）、ヴィクトリアブルーＢ（Ｃ．
Ｉ．４４０４５）、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ
（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、ブリリアントグリーン（Ｃ．
Ｉ．４２０４０）、ナイトブルーＢＸ（Ｃ．Ｉ．５１１
８５）、ニュートラルレッド（Ｃ．Ｉ．５００４０）、
ベイシックイエロー１、１１、１３、２１、２８、３
６、ベイシックオレンジ２１、２２等のカチオン色素、
ベイシックレッド１（Ｃ．Ｉ．４５１６０）、ベイシッ
クレッド５（Ｃ．Ｉ．５００４０）、ベイシックレッド
１３（Ｃ．Ｉ．４８０１５）、ベイシックバイオレット
７（Ｃ．Ｉ．４８０２０）、ベイシックバイオレット１
１（Ｃ．Ｉ．４５１７５）、クリスタルバイオレットの
ｐ−トルエンスルホン酸塩、またはナフタレンスルホン
酸塩等、ヴィクトリアブルーＢのｐ−トルエンスルホン
酸塩、または過塩素酸塩、ベイシックオレンジ２１のｐ
−トルエンスルホン酸塩、またはＢＦ4塩等、ベイシッ
クレッド５のナフタレンスルホン酸塩、またはＰＦ6塩
等を挙げることができる。
オン色素としてはクリスタルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４
２５５５）、メチルバイオレット（Ｃ．Ｉ．４２５３
５）、マラカイトグリーン（Ｃ．Ｉ．４２０００）、フ
クシン（Ｃ．Ｉ．４２５１０）、クリスタルバイオレッ
ト−カルビノ−ルベース（Ｃ．Ｉ．４２５５５：１）、
パラフクシン（Ｃ．Ｉ．４２５００）、ローダミンＢ
（Ｃ．Ｉ．４５１７０）、ヴィクトリアブルーＢ（Ｃ．
Ｉ．４４０４５）、ビクトリアピュアブルーＢＯＨ
（Ｃ．Ｉ．４２５９５）、ブリリアントグリーン（Ｃ．
Ｉ．４２０４０）、ナイトブルーＢＸ（Ｃ．Ｉ．５１１
８５）、ニュートラルレッド（Ｃ．Ｉ．５００４０）、
ベイシックイエロー１、１１、１３、２１、２８、３
６、ベイシックオレンジ２１、２２等のカチオン色素、
ベイシックレッド１（Ｃ．Ｉ．４５１６０）、ベイシッ
クレッド５（Ｃ．Ｉ．５００４０）、ベイシックレッド
１３（Ｃ．Ｉ．４８０１５）、ベイシックバイオレット
７（Ｃ．Ｉ．４８０２０）、ベイシックバイオレット１
１（Ｃ．Ｉ．４５１７５）、クリスタルバイオレットの
ｐ−トルエンスルホン酸塩、またはナフタレンスルホン
酸塩等、ヴィクトリアブルーＢのｐ−トルエンスルホン
酸塩、または過塩素酸塩、ベイシックオレンジ２１のｐ
−トルエンスルホン酸塩、またはＢＦ4塩等、ベイシッ
クレッド５のナフタレンスルホン酸塩、またはＰＦ6塩
等を挙げることができる。
【００４０】電気的中性色素としては、３−アリル−１
−カルボキシメチル−５−〔２−（３−エチル−２（３
Ｈ）ベンゾキサゾリリデン〕−２−チオヒダントイン、
４−〔２−（３−エチル−２（３Ｈ）ベンゾチアゾリリ
デン）エチリデン〕−３−フェニル−２−イソオキサゾ
リン−５−オン、３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−
（ジエチルアミノ）クマリン、３−（２−ベンズイミダ
ゾリル）−７−（ジエチルアミノ）クマリン、２，３，
６，７−テトラヒドロ−１１−オキソ−１Ｈ，５Ｈ，１
１Ｈ−〔１〕ベンゾピラノ〔６，７，８−ｉｊ〕キナリ
ジン−１０−カルボン酸エチル、Ｎ、Ｎ’−ジエチルイ
ンジゴ、チオキソインジゴ、２−ジメチルアミノアント
ラキノン、４−ヒドロキシアゾベンゼン、４−フェニル
アミノ−４’−ニトロアゾベンゼン等を挙げることがで
きる。
−カルボキシメチル−５−〔２−（３−エチル−２（３
Ｈ）ベンゾキサゾリリデン〕−２−チオヒダントイン、
４−〔２−（３−エチル−２（３Ｈ）ベンゾチアゾリリ
デン）エチリデン〕−３−フェニル−２−イソオキサゾ
リン−５−オン、３−（２−ベンゾチアゾリル）−７−
（ジエチルアミノ）クマリン、３−（２−ベンズイミダ
ゾリル）−７−（ジエチルアミノ）クマリン、２，３，
６，７−テトラヒドロ−１１−オキソ−１Ｈ，５Ｈ，１
１Ｈ−〔１〕ベンゾピラノ〔６，７，８−ｉｊ〕キナリ
ジン−１０−カルボン酸エチル、Ｎ、Ｎ’−ジエチルイ
ンジゴ、チオキソインジゴ、２−ジメチルアミノアント
ラキノン、４−ヒドロキシアゾベンゼン、４−フェニル
アミノ−４’−ニトロアゾベンゼン等を挙げることがで
きる。
【００４１】また、ベンゾフェノン、４−メチルベンゾ
フェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４、
４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４、４’−ジエ
チルアミノベンゾフェノン、２、４−ジエチルチオキサ
ントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオ
キサントン、アンスラキノン、エチルアンスラキノン、
クロロアンスラキノン、ヒドロキシメチルアンスラキノ
ン、アミノアンスラキノン、メチルアミノアンスラキノ
ン、アセアンスレンキノン、アセナフテンキノン、Ｎ−
メチルイミダゾール、２、２’−ビス（２−クロロフェ
ニル）−４、４’、５、５’−テトラフェニル−１、
２’−ビイミダゾール、２、２’−ビス（２−クロロフ
ェニル）−４、４’、５、５’−テトラ（エトキシフェ
ニル）−１、２’−ビイミダゾール、２、２’−ビス
（２−クロロフェニル）−４、４’、５、５’−テトラ
（４−メチルフェニル）−１、２’−ビイミダゾール、
２、２’−ビス（２−クロロフェニル）−４、４’、
５、５’−テトラ（4-ブロモフェニル）−１、２’−ビ
イミダゾール、２、２’−ビス（２,4−ジクロロフェニ
ル）−４、４’、５、５’−テトラフェニル−１、２’
−ビイミダゾール、２、２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４、４’、５、５’−テトラ（3-メトキシフェニ
ル）−１、２’−ビイミダゾール、２、２’−ビス（２
−メチルフェニル）−４、４’、５、５’−テトラフェ
ニル−１、２’−ビイミダゾール、クマリン、７−ジエ
チルアミノクマリン、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル
等を単独もしくは２種以上を組み合わせて用いることも
できるが、用いる光源の発光パターンを勘案して決める
べきである。
フェノン、４−ジメチルアミノベンゾフェノン、４、
４’−ジメチルアミノベンゾフェノン、４、４’−ジエ
チルアミノベンゾフェノン、２、４−ジエチルチオキサ
ントン、２−メチルチオキサントン、イソプロピルチオ
キサントン、アンスラキノン、エチルアンスラキノン、
クロロアンスラキノン、ヒドロキシメチルアンスラキノ
ン、アミノアンスラキノン、メチルアミノアンスラキノ
ン、アセアンスレンキノン、アセナフテンキノン、Ｎ−
メチルイミダゾール、２、２’−ビス（２−クロロフェ
ニル）−４、４’、５、５’−テトラフェニル−１、
２’−ビイミダゾール、２、２’−ビス（２−クロロフ
ェニル）−４、４’、５、５’−テトラ（エトキシフェ
ニル）−１、２’−ビイミダゾール、２、２’−ビス
（２−クロロフェニル）−４、４’、５、５’−テトラ
（４−メチルフェニル）−１、２’−ビイミダゾール、
２、２’−ビス（２−クロロフェニル）−４、４’、
５、５’−テトラ（4-ブロモフェニル）−１、２’−ビ
イミダゾール、２、２’−ビス（２,4−ジクロロフェニ
ル）−４、４’、５、５’−テトラフェニル−１、２’
−ビイミダゾール、２、２’−ビス（２−クロロフェニ
ル）−４、４’、５、５’−テトラ（3-メトキシフェニ
ル）−１、２’−ビイミダゾール、２、２’−ビス（２
−メチルフェニル）−４、４’、５、５’−テトラフェ
ニル−１、２’−ビイミダゾール、クマリン、７−ジエ
チルアミノクマリン、4-ジメチルアミノ安息香酸エチル
等を単独もしくは２種以上を組み合わせて用いることも
できるが、用いる光源の発光パターンを勘案して決める
べきである。
【００４２】これらの増感剤（Ａ）の中では、２５０〜
５００ｎｍに吸収波長領域を持つものが好ましく、ベン
ゾフェノン類および／またはアンスラキノン類を含むも
のがさらに好ましい。本発明において、増感剤（Ａ）は
エチレン性不飽和結合を有する化合物に対して、一般に
は１〜８０重量％、好ましくは２〜４０重量％となるよ
うに配合する。少なすぎると増感効果が得られないこと
があり、多すぎると増感剤の光吸収により光透過効率が
悪化し、重合開始効率が低下することがあるので、いず
れも好ましくない。
５００ｎｍに吸収波長領域を持つものが好ましく、ベン
ゾフェノン類および／またはアンスラキノン類を含むも
のがさらに好ましい。本発明において、増感剤（Ａ）は
エチレン性不飽和結合を有する化合物に対して、一般に
は１〜８０重量％、好ましくは２〜４０重量％となるよ
うに配合する。少なすぎると増感効果が得られないこと
があり、多すぎると増感剤の光吸収により光透過効率が
悪化し、重合開始効率が低下することがあるので、いず
れも好ましくない。
【００４３】本発明に用いられる、チオール基に対して
α位および／またはβ位に分岐構造をもつ多官能分岐チ
オール（Ｃ）とは、１分子内にチオール基を複数有する
化合物であって、チオール基に対してα位および／また
はβ位に何らかの分岐構造を持つ。たとえば、２、５−
ヘキサンジチオール、２，９−デカンジチオール、エチ
レングリコールビス（３−メルカプトブチレート）、ジ
エチレングリコールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、ブタンジオールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、オクタンジオールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプト
ブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−
メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールテト
ラキス（３−メルカプトブチレート）、エチレングリコ
ールビス（２−メルカプトプロピオネート）、ジエチレ
ングリコールビス（２−メルカプトプロピオネート）、
ブタンジオールビス（２−メルカプトプロピオネー
ト）、オクタンジオールビス（２−メルカプトプロピオ
ネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカ
プトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキ
ス（２−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリス
リトールテトラキス（２−メルカプトプロピオネー
ト）、エチレングリコールビス（３−メルカプトイソブ
チレート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプ
トイソブチレート）、ブタンジオールビス（３−メルカ
プトイソブチレート）、オクタンジオールビス（３−メ
ルカプトイソブチレート）、トリメチロールプロパント
リス（３−メルカプトイソブチレート）、ペンタエリス
リトールテトラキス（３−メルカプトイソブチレー
ト）、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカ
プトイソブチレート）、エチレングリコールビス（２−
メルカプトイソブチレート）、ジエチレングリコールビ
ス（２−メルカプトイソブチレート）、ブタンジオール
ビス（２−メルカプトイソブチレート）、オクタンジオ
ールビス（２−メルカプトイソブチレート）、トリメチ
ロールプロパントリス（２−メルカプトイソブチレー
ト）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプ
トイソブチレート）、ジペンタエリスリトールテトラキ
ス（２−メルカプトイソブチレート）、エチレングリコ
ールビス（２−メルカプトプロピオネート）、ジエチレ
ングリコールビス（２−メルカプトプロピオネート）、
ブタンジオールビス（２−メルカプトプロピオネー
ト）、オクタンジオールビス（２−メルカプトプロピオ
ネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカ
プトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキ
ス（２−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリス
リトールテトラキス（２−メルカプトプロピオネー
ト）、エチレングリコールビス（４−メルカプトバレレ
ート）、ジエチレングリコールビス（４−メルカプトバ
レレート）、ブタンジオールビス（４−メルカプトバレ
レート）、オクタンジオールビス（４−メルカプトバレ
レート）、トリメチロールプロパントリス（４−メルカ
プトバレレート）、ペンタエリスリトールテトラキス
（４−メルカプトバレレート）、ジペンタエリスリトー
ルテトラキス（４−メルカプトバレレート）、エチレン
グリコールビス（３−メルカプトバレレート）、ジエチ
レングリコールビス（３−メルカプトバレレート）、ブ
タンジオールビス（３−メルカプトバレレート）、オク
タンジオールビス（３−メルカプトバレレート）、トリ
メチロールプロパントリス（３−メルカプトバレレー
ト）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプ
トバレレート）、ジペンタエリスリトールテトラキス
（３−メルカプトバレレート）、１，４−ビス（１−メ
ルカプトエチル）ベンゼン、フタル酸ジ（１−メルカプ
トエチルエステル）、フタル酸ジ（２−メルカプトプロ
ピルエステル）、フタル酸ジ（３−メルカプトブチルエ
ステル）、フタル酸ジ（３−メルカプトイソブチルエス
テル）などが挙げられる。
α位および／またはβ位に分岐構造をもつ多官能分岐チ
オール（Ｃ）とは、１分子内にチオール基を複数有する
化合物であって、チオール基に対してα位および／また
はβ位に何らかの分岐構造を持つ。たとえば、２、５−
ヘキサンジチオール、２，９−デカンジチオール、エチ
レングリコールビス（３−メルカプトブチレート）、ジ
エチレングリコールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、ブタンジオールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、オクタンジオールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプト
ブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−
メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールテト
ラキス（３−メルカプトブチレート）、エチレングリコ
ールビス（２−メルカプトプロピオネート）、ジエチレ
ングリコールビス（２−メルカプトプロピオネート）、
ブタンジオールビス（２−メルカプトプロピオネー
ト）、オクタンジオールビス（２−メルカプトプロピオ
ネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカ
プトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキ
ス（２−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリス
リトールテトラキス（２−メルカプトプロピオネー
ト）、エチレングリコールビス（３−メルカプトイソブ
チレート）、ジエチレングリコールビス（３−メルカプ
トイソブチレート）、ブタンジオールビス（３−メルカ
プトイソブチレート）、オクタンジオールビス（３−メ
ルカプトイソブチレート）、トリメチロールプロパント
リス（３−メルカプトイソブチレート）、ペンタエリス
リトールテトラキス（３−メルカプトイソブチレー
ト）、ジペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカ
プトイソブチレート）、エチレングリコールビス（２−
メルカプトイソブチレート）、ジエチレングリコールビ
ス（２−メルカプトイソブチレート）、ブタンジオール
ビス（２−メルカプトイソブチレート）、オクタンジオ
ールビス（２−メルカプトイソブチレート）、トリメチ
ロールプロパントリス（２−メルカプトイソブチレー
ト）、ペンタエリスリトールテトラキス（２−メルカプ
トイソブチレート）、ジペンタエリスリトールテトラキ
ス（２−メルカプトイソブチレート）、エチレングリコ
ールビス（２−メルカプトプロピオネート）、ジエチレ
ングリコールビス（２−メルカプトプロピオネート）、
ブタンジオールビス（２−メルカプトプロピオネー
ト）、オクタンジオールビス（２−メルカプトプロピオ
ネート）、トリメチロールプロパントリス（２−メルカ
プトプロピオネート）、ペンタエリスリトールテトラキ
ス（２−メルカプトプロピオネート）、ジペンタエリス
リトールテトラキス（２−メルカプトプロピオネー
ト）、エチレングリコールビス（４−メルカプトバレレ
ート）、ジエチレングリコールビス（４−メルカプトバ
レレート）、ブタンジオールビス（４−メルカプトバレ
レート）、オクタンジオールビス（４−メルカプトバレ
レート）、トリメチロールプロパントリス（４−メルカ
プトバレレート）、ペンタエリスリトールテトラキス
（４−メルカプトバレレート）、ジペンタエリスリトー
ルテトラキス（４−メルカプトバレレート）、エチレン
グリコールビス（３−メルカプトバレレート）、ジエチ
レングリコールビス（３−メルカプトバレレート）、ブ
タンジオールビス（３−メルカプトバレレート）、オク
タンジオールビス（３−メルカプトバレレート）、トリ
メチロールプロパントリス（３−メルカプトバレレー
ト）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプ
トバレレート）、ジペンタエリスリトールテトラキス
（３−メルカプトバレレート）、１，４−ビス（１−メ
ルカプトエチル）ベンゼン、フタル酸ジ（１−メルカプ
トエチルエステル）、フタル酸ジ（２−メルカプトプロ
ピルエステル）、フタル酸ジ（３−メルカプトブチルエ
ステル）、フタル酸ジ（３−メルカプトイソブチルエス
テル）などが挙げられる。
【００４４】これらの中では、前記一般式（２）〜
（５）で表される化合物から選ばれる１種または２種以
上であることが好ましく、エチレングリコールビス（３
−メルカプトブチレート）、ジエチレングリコールビス
（３−メルカプトブチレート）、ブタンジオールビス
（３−メルカプトブチレート）、オクタンジオールビス
（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパ
ントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリス
リトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ジ
ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチ
レート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトイ
ソブチレート）、ジエチレングリコールビス（３−メル
カプトイソブチレート）、ブタンジオールビス（３−メ
ルカプトイソブチレート）、オクタンジオールビス（３
−メルカプトイソブチレート）、トリメチロールプロパ
ントリス（３−メルカプトイソブチレート）、ペンタエ
リスリトールテトラキス（３−メルカプトイソブチレー
ト）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカ
プトイソブチレート）が好ましく、エチレングリコール
ビス（３−メルカプトブチレート）、ブタンジオールビ
ス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロ
パントリス（３−メルカプトブチレート）、エチレング
リコールビス（３−メルカプトイソブチレート）、ブタ
ンジオールビス（３−メルカプトイソブチレート）、ト
リメチロールプロパントリス（３−メルカプトイソブチ
レート）が、重合開始能力、保存性の面からより好まし
い。これらのチオール基を有する化合物は単独もしくは
２種以上組み合わせて用いることができる。
（５）で表される化合物から選ばれる１種または２種以
上であることが好ましく、エチレングリコールビス（３
−メルカプトブチレート）、ジエチレングリコールビス
（３−メルカプトブチレート）、ブタンジオールビス
（３−メルカプトブチレート）、オクタンジオールビス
（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロパ
ントリス（３−メルカプトブチレート）、ペンタエリス
リトールテトラキス（３−メルカプトブチレート）、ジ
ペンタエリスリトールテトラキス（３−メルカプトブチ
レート）、エチレングリコールビス（３−メルカプトイ
ソブチレート）、ジエチレングリコールビス（３−メル
カプトイソブチレート）、ブタンジオールビス（３−メ
ルカプトイソブチレート）、オクタンジオールビス（３
−メルカプトイソブチレート）、トリメチロールプロパ
ントリス（３−メルカプトイソブチレート）、ペンタエ
リスリトールテトラキス（３−メルカプトイソブチレー
ト）、ジペンタエリスリトールヘキサキス（３−メルカ
プトイソブチレート）が好ましく、エチレングリコール
ビス（３−メルカプトブチレート）、ブタンジオールビ
ス（３−メルカプトブチレート）、トリメチロールプロ
パントリス（３−メルカプトブチレート）、エチレング
リコールビス（３−メルカプトイソブチレート）、ブタ
ンジオールビス（３−メルカプトイソブチレート）、ト
リメチロールプロパントリス（３−メルカプトイソブチ
レート）が、重合開始能力、保存性の面からより好まし
い。これらのチオール基を有する化合物は単独もしくは
２種以上組み合わせて用いることができる。
【００４５】本発明において、１分子中に複数個のチオ
ール基を有する化合物であって分子内に何らかの分岐構
造を持つ化合物（Ｃ）は、エチレン性不飽和結合を有す
る化合物に対して、一般に１〜２００重量％、好ましく
は１０〜１００重量％となるように配合する。少なすぎ
ると重合開始が効率よく進まないことがあり、多すぎて
も重合開始機能の向上が見込めない上、硬化物の物性に
悪影響を及ぼすことがあるのでいずれも好ましくない。
ール基を有する化合物であって分子内に何らかの分岐構
造を持つ化合物（Ｃ）は、エチレン性不飽和結合を有す
る化合物に対して、一般に１〜２００重量％、好ましく
は１０〜１００重量％となるように配合する。少なすぎ
ると重合開始が効率よく進まないことがあり、多すぎて
も重合開始機能の向上が見込めない上、硬化物の物性に
悪影響を及ぼすことがあるのでいずれも好ましくない。
【００４６】通常、ラジカル重合による光硬化は、空気
との界面では空気中の酸素による重合阻害のために、完
全硬化は困難となる。そこで、一般的には表面に酸素に
ふれないようにカバーフィルム等の空気遮断層を設けた
り、アルゴンガスや窒素などの不活性ガス雰囲気下で光
硬化を行う。しかし本発明の感光性組成物は酸素の有無
にかかわらず充分な硬化性を示し、酸素遮断膜を用いな
いことが望ましい用途、たとえばカラーフィルタ形成用
感光性組成物として好ましく用いることができる。
との界面では空気中の酸素による重合阻害のために、完
全硬化は困難となる。そこで、一般的には表面に酸素に
ふれないようにカバーフィルム等の空気遮断層を設けた
り、アルゴンガスや窒素などの不活性ガス雰囲気下で光
硬化を行う。しかし本発明の感光性組成物は酸素の有無
にかかわらず充分な硬化性を示し、酸素遮断膜を用いな
いことが望ましい用途、たとえばカラーフィルタ形成用
感光性組成物として好ましく用いることができる。
【００４７】本発明の光重合開始剤は、増感剤（Ａ）、
一般式（１）で表される有機ホウ素錯体（Ｂ）およびチ
オール基に対してα位および／またはβ位に分岐構造を
もつ多官能分岐チオール（Ｃ）を含むものであり、これ
らを光感光性組成物中に加える前に混合して光重合開始
剤としてもよく、これらの各成分を個々に光感光性組成
物中に加えて、光感光性組成物中で光重合開始剤を構成
してもよい。本発明における、増感剤（Ａ）、一般式
（１）で表される有機ホウ素錯体（Ｂ）およびチオール
基に対してα位および／またはβ位に分岐構造をもつ多
官能分岐チオール（Ｃ）を光感光性組成物中に個々に加
える場合は、その加える順序は特に限定されるものでは
ない。
一般式（１）で表される有機ホウ素錯体（Ｂ）およびチ
オール基に対してα位および／またはβ位に分岐構造を
もつ多官能分岐チオール（Ｃ）を含むものであり、これ
らを光感光性組成物中に加える前に混合して光重合開始
剤としてもよく、これらの各成分を個々に光感光性組成
物中に加えて、光感光性組成物中で光重合開始剤を構成
してもよい。本発明における、増感剤（Ａ）、一般式
（１）で表される有機ホウ素錯体（Ｂ）およびチオール
基に対してα位および／またはβ位に分岐構造をもつ多
官能分岐チオール（Ｃ）を光感光性組成物中に個々に加
える場合は、その加える順序は特に限定されるものでは
ない。
【００４８】本発明において、増感剤（Ａ）と、一般式
（１）で表される有機ホウ素錯体（Ｂ）およびチオール
基に対してα位および／またはβ位に分岐構造をもつ多
官能分岐チオール（Ｃ）とを組み合わせることで、従来
になかった高感度と保存性を両立できる。これは従来用
いていた直鎖のチオールからは類推できない性能であ
る。
（１）で表される有機ホウ素錯体（Ｂ）およびチオール
基に対してα位および／またはβ位に分岐構造をもつ多
官能分岐チオール（Ｃ）とを組み合わせることで、従来
になかった高感度と保存性を両立できる。これは従来用
いていた直鎖のチオールからは類推できない性能であ
る。
【００４９】本発明に用いられる、熱可塑性あるいは未
架橋の高分子重合体（Ｄ）とは、膜厚１ミクロン以上の
均一な膜を形成できる高分子重合体である。好ましくは
可視光領域の４００〜７００ｎｍの全波長領域において
透過率が８０％以上、更に好ましくは９５％以上の高分
子重合体である。
架橋の高分子重合体（Ｄ）とは、膜厚１ミクロン以上の
均一な膜を形成できる高分子重合体である。好ましくは
可視光領域の４００〜７００ｎｍの全波長領域において
透過率が８０％以上、更に好ましくは９５％以上の高分
子重合体である。
【００５０】パターンを形成する場合、本発明に用いら
れる高分子重合体（Ｄ）は現像液（溶剤もしくはアルカ
リ水溶液）に可溶なものが好ましい。ここで溶剤として
は、例えばＮ−メチルピロリドン、メタノール、エタノ
ール、トルエン、シクロヘキサン、イソホロン、セロソ
ルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、エチレングリコールジエチルエーテル、キシレン、
エチルベンゼン、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチル-エ
チルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル等が挙げられ、こ
れらにトリメチルアミン、トリエチルアミン等の塩基性
物質や界面活性剤類を加えてもよい。アルカリ水溶液に
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等の無機塩の水溶液、ヒドロキ
シテトラメチルアンモニウム、ヒドロキシテトラエチル
アンモニウムなどの有機塩の水溶液を用いることができ
る。
れる高分子重合体（Ｄ）は現像液（溶剤もしくはアルカ
リ水溶液）に可溶なものが好ましい。ここで溶剤として
は、例えばＮ−メチルピロリドン、メタノール、エタノ
ール、トルエン、シクロヘキサン、イソホロン、セロソ
ルブアセテート、ジエチレングリコールジメチルエーテ
ル、エチレングリコールジエチルエーテル、キシレン、
エチルベンゼン、メチルセロソルブ、エチルセロソル
ブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコールモノメチ
ルエーテル、プロピレングリコールモノメチルエーテル
アセテート、酢酸イソアミル、乳酸エチル、メチル-エ
チルケトン、アセトン、シクロヘキサノン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチルホルムアミド、アセトニトリル等が挙げられ、こ
れらにトリメチルアミン、トリエチルアミン等の塩基性
物質や界面活性剤類を加えてもよい。アルカリ水溶液に
は、例えば水酸化ナトリウム、水酸化カリウム、炭酸ナ
トリウム、炭酸カリウム等の無機塩の水溶液、ヒドロキ
シテトラメチルアンモニウム、ヒドロキシテトラエチル
アンモニウムなどの有機塩の水溶液を用いることができ
る。
【００５１】このような高分子重合体としては、熱硬化
性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性樹脂等があり、例えば、
ポリアクリレート類、ポリ−α−アルキルアクリレート
類、ポリアミド類、ポリビニルアセタール類、ポリウレ
タン類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビ
ニルエステル類、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ノボ
ラック樹脂、アルキッド樹脂等の重合体、共重合体を単
独または２種以上の混合物として用いられる。また、こ
れらの高分子重合体中には本発明の感光性組成物の硬化
反応促進もしくは硬化物の特性向上を目的として、ラジ
カル重合しうるエチレン性不飽和結合基を有してもよ
い。しかしながら、硬化物が永久膜として残る用途や製
造工程で耐久性を要求される場合、製造における後工程
において高温での処理や種々の溶剤あるいは薬品による
処理が行われるため、高分子重合体（Ｄ）としては耐熱
性、経時安定性等に優れたものを用いることが好まし
い。本発明の高分子重合体（Ｄ）は、エチレン性不飽和
結合を有する化合物に対し一般には１０〜５００重量
％、好ましくは２０〜３００重量％配合される。
性樹脂、熱可塑性樹脂、感光性樹脂等があり、例えば、
ポリアクリレート類、ポリ−α−アルキルアクリレート
類、ポリアミド類、ポリビニルアセタール類、ポリウレ
タン類、ポリカーボネート類、ポリスチレン類、ポリビ
ニルエステル類、フェノール樹脂、エポキシ樹脂、ノボ
ラック樹脂、アルキッド樹脂等の重合体、共重合体を単
独または２種以上の混合物として用いられる。また、こ
れらの高分子重合体中には本発明の感光性組成物の硬化
反応促進もしくは硬化物の特性向上を目的として、ラジ
カル重合しうるエチレン性不飽和結合基を有してもよ
い。しかしながら、硬化物が永久膜として残る用途や製
造工程で耐久性を要求される場合、製造における後工程
において高温での処理や種々の溶剤あるいは薬品による
処理が行われるため、高分子重合体（Ｄ）としては耐熱
性、経時安定性等に優れたものを用いることが好まし
い。本発明の高分子重合体（Ｄ）は、エチレン性不飽和
結合を有する化合物に対し一般には１０〜５００重量
％、好ましくは２０〜３００重量％配合される。
【００５２】本発明に用いられるエチレン性不飽和結合
を有する化合物（Ｅ）としては、一般にモノマーやオリ
ゴマーと呼ばれる、ラジカル重合（または架橋）反応が
可能な化合物が用いられ、（メタ）アクリル酸、メチル
（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、
ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート等の各種（メタ）アクリル酸エステ
ル、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチールプロパントリス（メタ）アクリレート、ペンタ
エリストールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
トールテトラキス（メタ）アクリレート、スチレン、ジ
ビニルベンゼン、（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニ
ル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、ジ
ペンタエリストールヘキサアクリレート、メラミンアク
リレート、エポキシアクリレートプレポリマー等が挙げ
られる。しかし、露光感度および効果後の諸耐性から多
官能（メタ）アクリル系モノマーを用いるのが好まし
い。なお、本発明における「（メタ）アクリル」とは
「メタクリル」、「アクリル」のいずれをも意味し、
「（メタ）アクリレート」とは、「メタクリレート」、
「アクリレート」のいずれをも意味する。
を有する化合物（Ｅ）としては、一般にモノマーやオリ
ゴマーと呼ばれる、ラジカル重合（または架橋）反応が
可能な化合物が用いられ、（メタ）アクリル酸、メチル
（メタ）アクリレート、ブチル（メタ）アクリレート、
ベンジル（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシエチル
（メタ）アクリレート、２−ヒドロキシプロピル（メ
タ）アクリレート等の各種（メタ）アクリル酸エステ
ル、エチレングリコールジ（メタ）アクリレート、トリ
メチールプロパントリス（メタ）アクリレート、ペンタ
エリストールトリ（メタ）アクリレート、ペンタエリス
トールテトラキス（メタ）アクリレート、スチレン、ジ
ビニルベンゼン、（メタ）アクリルアミド、酢酸ビニ
ル、Ｎ−ヒドロキシメチル（メタ）アクリルアミド、ジ
ペンタエリストールヘキサアクリレート、メラミンアク
リレート、エポキシアクリレートプレポリマー等が挙げ
られる。しかし、露光感度および効果後の諸耐性から多
官能（メタ）アクリル系モノマーを用いるのが好まし
い。なお、本発明における「（メタ）アクリル」とは
「メタクリル」、「アクリル」のいずれをも意味し、
「（メタ）アクリレート」とは、「メタクリレート」、
「アクリレート」のいずれをも意味する。
【００５３】本発明に用いられる顔料（Ｆ）としては、
下記のものが挙げられる。いずれもカラーインデックス
ナンバーにて示す。Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌ
ｏｗ１２、１３、１４、１７、２０、２４、５５、８
３、８６、９３、１０９、１１０、１１７、１２５、１
３７、１３９、１４７、１４８、１５３、１５４、１６
６、１６８、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ３
６、４３、５１、５５、５９、６１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍ
ｅｎｔ Ｒｅｄ９、９７、１２２、１２３、１４９、１
６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２１６、２１
７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２
８、２４０、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ１
９、２３、２９、３０、３７、４０、５０、Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔＢｌｕｅ１５、１５：１、１５：４、１
５：６、２２、６０、６４、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｇｒｅｅｎ７、３６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｒｏ
ｗｎ２３、２５、２６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌ
ａｃｋ７、およびチタンブラック等が例示できる。
下記のものが挙げられる。いずれもカラーインデックス
ナンバーにて示す。Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｙｅｌｌ
ｏｗ１２、１３、１４、１７、２０、２４、５５、８
３、８６、９３、１０９、１１０、１１７、１２５、１
３７、１３９、１４７、１４８、１５３、１５４、１６
６、１６８、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｏｒａｎｇｅ３
６、４３、５１、５５、５９、６１、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍ
ｅｎｔ Ｒｅｄ９、９７、１２２、１２３、１４９、１
６８、１７７、１８０、１９２、２１５、２１６、２１
７、２２０、２２３、２２４、２２６、２２７、２２
８、２４０、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｖｉｏｌｅｔ１
９、２３、２９、３０、３７、４０、５０、Ｃ．Ｉ．Ｐ
ｉｇｍｅｎｔＢｌｕｅ１５、１５：１、１５：４、１
５：６、２２、６０、６４、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ
Ｇｒｅｅｎ７、３６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｒｏ
ｗｎ２３、２５、２６、Ｃ．Ｉ．Ｐｉｇｍｅｎｔ Ｂｌ
ａｃｋ７、およびチタンブラック等が例示できる。
【００５４】本発明による感光性組成物の具体的な用途
としては、光製版用レジスト、ソルダーレジスト、エッ
チングレジスト、カラーフィルタレジスト、ホログラ
ム、光造形、ＵＶインク、光接着剤などが挙げられ、特
に精細なパターンを形成する現像型レジストとして好適
に用いられる。
としては、光製版用レジスト、ソルダーレジスト、エッ
チングレジスト、カラーフィルタレジスト、ホログラ
ム、光造形、ＵＶインク、光接着剤などが挙げられ、特
に精細なパターンを形成する現像型レジストとして好適
に用いられる。
【００５５】さらに、本発明の感光性組成物には、用途
に応じた粘度や操作性、硬化物特性等を与えるために、
様々な添加剤を加えることができる。たとえば各成分の
充分な分散、塗布時の操作性および密着性等の向上、粘
度調整を目的として揮発性の溶剤を加えても良い。揮発
性の溶剤としては、としては、アルコール類、ケトン
類、エステル類などが挙げられる。たとえばメタノー
ル、エタノール、トルエン、シクロヘキサン、イソホロ
ン、セロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、
キシレン、エチルベンゼン、メチルセロソルブ、エチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、エ
チルメチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン等が挙
げられ、単独もしくは２種以上を混合して用いることが
できる。
に応じた粘度や操作性、硬化物特性等を与えるために、
様々な添加剤を加えることができる。たとえば各成分の
充分な分散、塗布時の操作性および密着性等の向上、粘
度調整を目的として揮発性の溶剤を加えても良い。揮発
性の溶剤としては、としては、アルコール類、ケトン
類、エステル類などが挙げられる。たとえばメタノー
ル、エタノール、トルエン、シクロヘキサン、イソホロ
ン、セロソルブアセテート、ジエチレングリコールジメ
チルエーテル、エチレングリコールジエチルエーテル、
キシレン、エチルベンゼン、メチルセロソルブ、エチル
セロソルブ、ブチルセロソルブ、プロピレングリコール
モノメチルエーテル、酢酸イソアミル、乳酸エチル、エ
チルメチルケトン、アセトン、シクロヘキサノン等が挙
げられ、単独もしくは２種以上を混合して用いることが
できる。
【００５６】また用途によって上記の揮発性溶媒の使用
が困難な場合には、反応性の溶剤を用いることができ
る。例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）
アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、
イソボルニル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイル
モルホリン、Ｎ−アクリロイルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルアセトアミド等が挙げられ、単独もしく
は２種以上混合して用いることができ、さらに必要に応
じて上記の揮発性溶媒を混合しても良い。
が困難な場合には、反応性の溶剤を用いることができ
る。例えば、２−ヒドロキシエチル（メタ）アクリレー
ト、メチル（メタ）アクリレート、ｎ−ブチル（メタ）
アクリレート、シクロヘキシル（メタ）アクリレート、
イソボルニル（メタ）アクリレート、Ｎ，Ｎ−ジメチル
アミノエチル（メタ）アクリレート、Ｎ−アクリロイル
モルホリン、Ｎ−アクリロイルピペリジン、Ｎ，Ｎ−ジ
メチル（メタ）アクリルアミド、Ｎ−ビニルピロリド
ン、Ｎ−ビニルアセトアミド等が挙げられ、単独もしく
は２種以上混合して用いることができ、さらに必要に応
じて上記の揮発性溶媒を混合しても良い。
【００５７】また本発明の感光性組成物は、さらに目的
に応じて、蛍光増白剤、界面活性剤、可塑剤、難燃剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、発泡剤、防かび剤、帯電防
止剤、磁性体、導電材料、抗菌・殺菌材料、多孔質吸着
体、香料等を添加しても良い。また本発明の感光性組成
物は、保存時の重合を防止する目的で、熱重合防止剤を
添加することができる。熱重合開始剤の具体例として
は、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、カテコ
ール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン、
メトキノン等を挙げることができる。本発明の感光性組
成物は、高感度で保存性に優れるという特徴を有する。
に応じて、蛍光増白剤、界面活性剤、可塑剤、難燃剤、
酸化防止剤、紫外線吸収剤、発泡剤、防かび剤、帯電防
止剤、磁性体、導電材料、抗菌・殺菌材料、多孔質吸着
体、香料等を添加しても良い。また本発明の感光性組成
物は、保存時の重合を防止する目的で、熱重合防止剤を
添加することができる。熱重合開始剤の具体例として
は、ｐ−メトキシフェノール、ハイドロキノン、カテコ
ール、ｔｅｒｔ−ブチルカテコール、フェノチアジン、
メトキノン等を挙げることができる。本発明の感光性組
成物は、高感度で保存性に優れるという特徴を有する。
【００５８】感光性組成物の製造は、３本ロールミル、
２本ロールミル、サンドミル、アトライター、ボールミ
ル、ニーダー、ペイントシェイカー等の各種分散手段を
用いて行うことができる。分散時に重合反応等によりゲ
ル化が起こるのを防ぐ目的で、重合禁止剤を添加しても
よく、また、モノマーや光開始剤は顔料分散後に配合し
てもよい。また、顔料の分散を良好にするために適宜分
散助剤を添加できる。分散助剤は顔料の分散をたすけ、
かつ分散後の再凝集を防止する効果がある。また、適正
な流動性を得る目的や硬化物の遮光性や機械的・物理的
特性を得る目的で、本発明の感光性組成物には硫酸バリ
ウム、炭酸カルシウム、シリカ、チタニア、アルミナ、
アルミ粉等の体質顔料を添加してもよい。
２本ロールミル、サンドミル、アトライター、ボールミ
ル、ニーダー、ペイントシェイカー等の各種分散手段を
用いて行うことができる。分散時に重合反応等によりゲ
ル化が起こるのを防ぐ目的で、重合禁止剤を添加しても
よく、また、モノマーや光開始剤は顔料分散後に配合し
てもよい。また、顔料の分散を良好にするために適宜分
散助剤を添加できる。分散助剤は顔料の分散をたすけ、
かつ分散後の再凝集を防止する効果がある。また、適正
な流動性を得る目的や硬化物の遮光性や機械的・物理的
特性を得る目的で、本発明の感光性組成物には硫酸バリ
ウム、炭酸カルシウム、シリカ、チタニア、アルミナ、
アルミ粉等の体質顔料を添加してもよい。
【００５９】本発明の感光性組成物は、ガラス・アルミ
・ＰＥＴフィルム・ポリエステルフィルム等の基板上に
スプレーコートやスピナーコート、ロールコート、スク
リーンコート、スプレッドコート、ディップコート、カ
レンダーコート等の塗布方法により塗布される。ここ
で、適正な塗布特性を得る目的で、本発明の感光性組成
物にはレベリング剤あるいは消泡剤として少量のシリコ
ン系あるいはフッ素系等の界面活性剤を添加してもよ
い。塗布された感光性組成物は、必要に応じて熱風オー
ブンあるいはホットプレート等で一般には６０〜１００
℃、１０〜３０分の条件で揮発性溶剤を乾燥させる。こ
の時の温度が高すぎたり、乾燥時間が長すぎると、一部
重合あるいは架橋が起こり、未露光部の現像液に対する
溶解性が低下し、いわゆる焼きつきを引き起こすことが
あるので好ましくない。また減圧下で乾燥しても良い。
この後、用途によっては塗膜上に酸素遮断膜を設けても
良い。
・ＰＥＴフィルム・ポリエステルフィルム等の基板上に
スプレーコートやスピナーコート、ロールコート、スク
リーンコート、スプレッドコート、ディップコート、カ
レンダーコート等の塗布方法により塗布される。ここ
で、適正な塗布特性を得る目的で、本発明の感光性組成
物にはレベリング剤あるいは消泡剤として少量のシリコ
ン系あるいはフッ素系等の界面活性剤を添加してもよ
い。塗布された感光性組成物は、必要に応じて熱風オー
ブンあるいはホットプレート等で一般には６０〜１００
℃、１０〜３０分の条件で揮発性溶剤を乾燥させる。こ
の時の温度が高すぎたり、乾燥時間が長すぎると、一部
重合あるいは架橋が起こり、未露光部の現像液に対する
溶解性が低下し、いわゆる焼きつきを引き起こすことが
あるので好ましくない。また減圧下で乾燥しても良い。
この後、用途によっては塗膜上に酸素遮断膜を設けても
良い。
【００６０】乾燥した塗膜は露光を行う。このとき用途
に応じて光源を選ぶ。光源としては一般に超高圧水銀ラ
ンプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ハロゲ
ンランプ、各種レーザ等が用いられ、用途や基板の種類
によっては熱線カット性や波長選択性を持ったフィルタ
を使用しても良い。塗膜を露光後、未硬化部分を除去す
ることで、基板上にパターンを形成することができる。
に応じて光源を選ぶ。光源としては一般に超高圧水銀ラ
ンプ、メタルハライドランプ、キセノンランプ、ハロゲ
ンランプ、各種レーザ等が用いられ、用途や基板の種類
によっては熱線カット性や波長選択性を持ったフィルタ
を使用しても良い。塗膜を露光後、未硬化部分を除去す
ることで、基板上にパターンを形成することができる。
【００６１】本発明の、感光性組成物を用いた一定形状
のパターン形成方法には、大別して２種類有る。一つは
あらかじめ目的の形状に感光性組成物を塗布した後、光
照射により硬化させる方法。もう一つは、基板上に一様
に感光性組成物を塗布した後、露光部分が目的の形状と
なるように光照射して感光性組成物を硬化せしめた後、
未露光部分を洗浄、剥離、物理研磨、化学研磨等の手段
で除去し、残存した光硬化物によりパターンを形成する
方法である。本発明の感光性組成物により形成されるパ
ターンとは、基板上に一定形状を保つように形成された
感光性組成物の光硬化物を意味し、具体的には光製版用
レジスト、ソルダーレジスト、エッチングレジスト、カ
ラーフィルタレジスト、ホログラム、光造形、ＵＶイン
ク等の用途分野におけるパターンが挙げられ、本発明の
感光性組成物は、特に精細なパターンを形成する現像型
レジスト用として好適である。
のパターン形成方法には、大別して２種類有る。一つは
あらかじめ目的の形状に感光性組成物を塗布した後、光
照射により硬化させる方法。もう一つは、基板上に一様
に感光性組成物を塗布した後、露光部分が目的の形状と
なるように光照射して感光性組成物を硬化せしめた後、
未露光部分を洗浄、剥離、物理研磨、化学研磨等の手段
で除去し、残存した光硬化物によりパターンを形成する
方法である。本発明の感光性組成物により形成されるパ
ターンとは、基板上に一定形状を保つように形成された
感光性組成物の光硬化物を意味し、具体的には光製版用
レジスト、ソルダーレジスト、エッチングレジスト、カ
ラーフィルタレジスト、ホログラム、光造形、ＵＶイン
ク等の用途分野におけるパターンが挙げられ、本発明の
感光性組成物は、特に精細なパターンを形成する現像型
レジスト用として好適である。
【００６２】本発明のパターン形成に用いる基板には、
ガラスやシリコンなどの無機材料、アルミ、ステンレ
ス、銅等の金属材料、もしくはＰＥＴ、ポリエステル、
ポリイミド、エポキシ樹脂、ポリエチレン、ポリカーボ
ネート等の樹脂材料の他、紙等を用いることができ、そ
の表面は酸化処理、酸処理、プラズマ処理、放電処理な
どで感光性組成物の付着性を向上させても良い。感光性
組成物は基板の表面にあるため、基板の厚さは任意に設
定できる。また感光性組成物と基板との間には、光反応
には関与しない樹脂層等を設けても良い。
ガラスやシリコンなどの無機材料、アルミ、ステンレ
ス、銅等の金属材料、もしくはＰＥＴ、ポリエステル、
ポリイミド、エポキシ樹脂、ポリエチレン、ポリカーボ
ネート等の樹脂材料の他、紙等を用いることができ、そ
の表面は酸化処理、酸処理、プラズマ処理、放電処理な
どで感光性組成物の付着性を向上させても良い。感光性
組成物は基板の表面にあるため、基板の厚さは任意に設
定できる。また感光性組成物と基板との間には、光反応
には関与しない樹脂層等を設けても良い。
【００６３】
【実施例】以下、実施例に基づいて本発明を説明する。
例中、部とは重量部を、％は重量％をそれぞれ示す。ま
た、調製した感光性着色組成物を便宜上レジストと呼
ぶ。なお、本実施例では顔料を分散したアルカリ現像型
レジストについて、以下の工程で行った。 第一工程；透明基板上に本発明の感光性組成物を用い、
感光性着色樹脂層を形成させる工程。 第二工程；前記感光樹脂層に、所定のパターンを有する
パターンマスクを介しパターン露光を行う工程。 第三工程；前記パターン露光後、感光性着色樹脂層を現
像し、前記透明基板上に画素層を形成する工程。 第四工程；現像工程後、画素層を形成した透明基板にベ
イキング（ポストベイク）を行う工程。 本実施例では高分子重合体（Ｄ）はアルカリ現像可能な
ものを用いた。また、露光ランプには超高圧水銀ランプ
を用いた。このため、増感剤（Ａ）は２５０ｎｍ〜５０
０ｎｍに吸収波長領域をもつものとなる。なお、これら
の実施例、比較例のレジストでは酸素遮断膜を形成して
いない。実施例に先立ち、アルカリ可溶性の樹脂の合成
例を示す。
例中、部とは重量部を、％は重量％をそれぞれ示す。ま
た、調製した感光性着色組成物を便宜上レジストと呼
ぶ。なお、本実施例では顔料を分散したアルカリ現像型
レジストについて、以下の工程で行った。 第一工程；透明基板上に本発明の感光性組成物を用い、
感光性着色樹脂層を形成させる工程。 第二工程；前記感光樹脂層に、所定のパターンを有する
パターンマスクを介しパターン露光を行う工程。 第三工程；前記パターン露光後、感光性着色樹脂層を現
像し、前記透明基板上に画素層を形成する工程。 第四工程；現像工程後、画素層を形成した透明基板にベ
イキング（ポストベイク）を行う工程。 本実施例では高分子重合体（Ｄ）はアルカリ現像可能な
ものを用いた。また、露光ランプには超高圧水銀ランプ
を用いた。このため、増感剤（Ａ）は２５０ｎｍ〜５０
０ｎｍに吸収波長領域をもつものとなる。なお、これら
の実施例、比較例のレジストでは酸素遮断膜を形成して
いない。実施例に先立ち、アルカリ可溶性の樹脂の合成
例を示す。
【００６４】（樹脂溶液製造例１）１リットル容の４つ
口フラスコに、シクロヘキサノン３５０部、スチレン２
６部、２−ヒドロキシエチルアクリレート２３部、メタ
クリル酸３５部、メタクリル酸メチル２１部、メタクリ
ル酸ブチル７０部を仕込み、９０℃に加熱し、あらかじ
めシクロヘキサノン２９０部、スチレン２６部、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート２３部、メタクリル酸３５
部、メタクリル酸メチル２１部、メタクリル酸ブチル７
０部とアゾビスイソブチロニトリル１．７５部を混合溶
解したものを３時間で滴下し、９０℃にて３時間さらに
反応させた。さらに、アゾビスイソブチロニトリル０．
７５部をシクロヘキサノン１０部に溶解させたものを添
加し、さらに１時間反応を続け、樹脂溶液を合成した。
この樹脂溶液の一部をサンプリングして１８０℃、２０
分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶
液に不揮発分が３０％となるようにシクロヘキサノンを
添加した。
口フラスコに、シクロヘキサノン３５０部、スチレン２
６部、２−ヒドロキシエチルアクリレート２３部、メタ
クリル酸３５部、メタクリル酸メチル２１部、メタクリ
ル酸ブチル７０部を仕込み、９０℃に加熱し、あらかじ
めシクロヘキサノン２９０部、スチレン２６部、２−ヒ
ドロキシエチルアクリレート２３部、メタクリル酸３５
部、メタクリル酸メチル２１部、メタクリル酸ブチル７
０部とアゾビスイソブチロニトリル１．７５部を混合溶
解したものを３時間で滴下し、９０℃にて３時間さらに
反応させた。さらに、アゾビスイソブチロニトリル０．
７５部をシクロヘキサノン１０部に溶解させたものを添
加し、さらに１時間反応を続け、樹脂溶液を合成した。
この樹脂溶液の一部をサンプリングして１８０℃、２０
分加熱乾燥して不揮発分を測定し、先に合成した樹脂溶
液に不揮発分が３０％となるようにシクロヘキサノンを
添加した。
【００６５】（樹脂溶液製造例２）１リットル容の４つ
口フラスコに、シクロヘキサノン３５０部、スチレン２
６部、２−ヒドロキシエチルアクリレート４４部、アク
リル酸３５部、メタクリル酸ブチル７０部を仕込み９０
℃に加熱し、あらかじめシクロヘキサノン２９０部、ス
チレン２６部、２−ヒドロキシエチルアクリレート４４
部、アクリル酸３５部、メタクリル酸ブチル７０部とア
ゾビスイソブチロニトリル１．７５部を混合溶解したも
のを３時間で滴下し、９０℃にて３時間さらに反応させ
た。さらに、アゾビスイソブチロニトリル０．７５部を
シクロヘキサノン１０部に溶解させたものを添加し、さ
らに１時間反応を続け、樹脂溶液を合成した。次いで、
フラスコ内温を８０℃として、イソシアネートエチルメ
タクリレート２４部、オクチル酸スズ０．１１部をシク
ロヘキサン２０部で溶解したものを約１０分で滴下し、
滴下後２０分反応させて樹脂溶液を合成した。次に樹脂
溶液１と同様にして、シクロヘキサノンを添加して、不
揮発分３０％の樹脂溶液２を調整した。
口フラスコに、シクロヘキサノン３５０部、スチレン２
６部、２−ヒドロキシエチルアクリレート４４部、アク
リル酸３５部、メタクリル酸ブチル７０部を仕込み９０
℃に加熱し、あらかじめシクロヘキサノン２９０部、ス
チレン２６部、２−ヒドロキシエチルアクリレート４４
部、アクリル酸３５部、メタクリル酸ブチル７０部とア
ゾビスイソブチロニトリル１．７５部を混合溶解したも
のを３時間で滴下し、９０℃にて３時間さらに反応させ
た。さらに、アゾビスイソブチロニトリル０．７５部を
シクロヘキサノン１０部に溶解させたものを添加し、さ
らに１時間反応を続け、樹脂溶液を合成した。次いで、
フラスコ内温を８０℃として、イソシアネートエチルメ
タクリレート２４部、オクチル酸スズ０．１１部をシク
ロヘキサン２０部で溶解したものを約１０分で滴下し、
滴下後２０分反応させて樹脂溶液を合成した。次に樹脂
溶液１と同様にして、シクロヘキサノンを添加して、不
揮発分３０％の樹脂溶液２を調整した。
【００６６】（実施例１〜１１）
青色レジストの作成
樹脂溶液１：５０部
リオノールブルーＥ（東洋インキ製造社製）：２．７部
＋分散剤：０．３部を混合し、ペイントシェイカーにて
２４時間分散して青色分散体を作成した。次いで青色分
散体：５３部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アロニク
スＭ４０２、東亞合成社製）：４部 シクロヘキサノン：１９部 を容器中で充分に混合し、不揮発成分約２９％の青色レ
ジスト（開始剤抜き）を作成した。この青色レジスト１
００部に対して、表１に示す増感剤（Ａ）、有機ホウ素
錯体（Ｂ）、チオール化合物（Ｃ）を容器中で充分に混
合し、１．０ミクロンのフィルタにてろ過し、不揮発成
分約３０％の青色レジストを調製した。感度測定はレジ
ストを調整した日と室温（２２〜２４℃）で４週間保存
後に測定した。
＋分散剤：０．３部を混合し、ペイントシェイカーにて
２４時間分散して青色分散体を作成した。次いで青色分
散体：５３部 ジペンタエリスリトールヘキサアクリレート（アロニク
スＭ４０２、東亞合成社製）：４部 シクロヘキサノン：１９部 を容器中で充分に混合し、不揮発成分約２９％の青色レ
ジスト（開始剤抜き）を作成した。この青色レジスト１
００部に対して、表１に示す増感剤（Ａ）、有機ホウ素
錯体（Ｂ）、チオール化合物（Ｃ）を容器中で充分に混
合し、１．０ミクロンのフィルタにてろ過し、不揮発成
分約３０％の青色レジストを調製した。感度測定はレジ
ストを調整した日と室温（２２〜２４℃）で４週間保存
後に測定した。
【００６７】（比較例１〜３）上記青色レジスト（開始
剤抜き）１００部に対し、表２に示す増感剤（Ａ）、有
機ホウ素錯体（Ｂ）、チオール化合物（Ｃ）を容器中で
充分に混合し、１．０ミクロンのフィルタにてろ過し、
不揮発成分約３０％の比較青色レジストを調製した。 （比較例４）上記青色レジスト（開始剤抜き）１００部
に対し、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン２部を容器中で
充分に混合し、１．０ミクロンのフィルタにてろ過し、
不揮発成分約３０％の比較青色レジストを作成した。
剤抜き）１００部に対し、表２に示す増感剤（Ａ）、有
機ホウ素錯体（Ｂ）、チオール化合物（Ｃ）を容器中で
充分に混合し、１．０ミクロンのフィルタにてろ過し、
不揮発成分約３０％の比較青色レジストを調製した。 （比較例４）上記青色レジスト（開始剤抜き）１００部
に対し、２−（４−メトキシフェニル）−４，６−ビス
（トリクロロメチル）−ｓ−トリアジン２部を容器中で
充分に混合し、１．０ミクロンのフィルタにてろ過し、
不揮発成分約３０％の比較青色レジストを作成した。
【００６８】得られたレジストの分光感度を測定するた
めに、１００ｍｍ×１００ｍｍのガラス基板上にスピン
コーターで乾燥膜厚が約１０ミクロンになるようにレジ
ストを塗布し、７０℃、２０分熱風オーブンで乾燥し、
照射分光器（日本分光社製ＪＡＳＣＯ ＣＴ−２５ＣＰ
型）にセットして露光を行った。光源としては、超高圧
水銀ランプを用いた。露光後の基板を０．５％の炭酸ナ
トリウム水溶液に約４０秒浸し現像した後、流水で洗浄
し２２０℃で３０分加熱して分光写真を得た。表２にｉ
線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、およびｇ線
（４３６ｎｍ）での現像残りの段数（１段から１３段ま
での全ての露光量でそれぞれ露光してアルカリ現像し
て、光硬化によりパターンが完全に形成された段の数）
を調べた。本実験での段数と露光量の関係は表２に記載
の通りである。即ち、段数が大きいほど感度が高いこと
を示す。得られた結果（現像残りの段数）を表４に示
す。
めに、１００ｍｍ×１００ｍｍのガラス基板上にスピン
コーターで乾燥膜厚が約１０ミクロンになるようにレジ
ストを塗布し、７０℃、２０分熱風オーブンで乾燥し、
照射分光器（日本分光社製ＪＡＳＣＯ ＣＴ−２５ＣＰ
型）にセットして露光を行った。光源としては、超高圧
水銀ランプを用いた。露光後の基板を０．５％の炭酸ナ
トリウム水溶液に約４０秒浸し現像した後、流水で洗浄
し２２０℃で３０分加熱して分光写真を得た。表２にｉ
線（３６５ｎｍ）、ｈ線（４０５ｎｍ）、およびｇ線
（４３６ｎｍ）での現像残りの段数（１段から１３段ま
での全ての露光量でそれぞれ露光してアルカリ現像し
て、光硬化によりパターンが完全に形成された段の数）
を調べた。本実験での段数と露光量の関係は表２に記載
の通りである。即ち、段数が大きいほど感度が高いこと
を示す。得られた結果（現像残りの段数）を表４に示
す。
【００６９】
【表１】
【００７０】
【表２】
【００７１】
【表３】
【００７２】
【表４】
【００７３】表４の結果から明らかなように、比較例１
はｉ線、ｈ線、ｇ線共に感度が低く、比較例２、３は初
期の感度は高いものの、２８日後には感度が大幅に低下
し、保存安定性が悪いのに対し、本発明のレジストは、
例えばｉ線での結果から明らかなようにいずれも高感度
であり、しかも保存による感度低下が小さいことがわか
る。
はｉ線、ｈ線、ｇ線共に感度が低く、比較例２、３は初
期の感度は高いものの、２８日後には感度が大幅に低下
し、保存安定性が悪いのに対し、本発明のレジストは、
例えばｉ線での結果から明らかなようにいずれも高感度
であり、しかも保存による感度低下が小さいことがわか
る。
【００７４】
【発明の効果】以上から明らかなように、本発明の開始
剤を用いることにより、酸素遮断膜を形成しなくても高
感度かつ保存性に優れた感光性着色組成物が得られるこ
とから、工程短縮が可能で、生産性向上によるコストダ
ウンが可能となると同時に、諸耐性に優れた感光性組成
物を供給可能となる。
剤を用いることにより、酸素遮断膜を形成しなくても高
感度かつ保存性に優れた感光性着色組成物が得られるこ
とから、工程短縮が可能で、生産性向上によるコストダ
ウンが可能となると同時に、諸耐性に優れた感光性組成
物を供給可能となる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(51)Int.Cl.7 識別記号 ＦＩ テーマコート゛(参考）
Ｇ０３Ｆ 7/029 Ｇ０３Ｆ 7/029
(72)発明者 伊藤 浩光
東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印
刷株式会社内
(72)発明者 田口 貴雄
東京都台東区台東１丁目５番１号 凸版印
刷株式会社内
(72)発明者 加藤 剛
神奈川県川崎市川崎区扇町５−１ 昭和電
工株式会社内
(72)発明者 室伏 克巳
神奈川県川崎市川崎区扇町５−１ 昭和電
工株式会社内
Ｆターム(参考） 2H025 AA02 AA11 AB13 AB20 AC01
AD01 BC13 BC42 CA03 CA31
CA39 CA48 CB42 CC12 CC20
FA17
4J011 PA16 PA29 PA30 PA39 PA43
PA65 PA67 PA68 PA69 PA70
PA85 PA86 PA89 PA95 PA96
PB25 PB30 QA02 QA03 QA06
QA07 QA09 QA11 QA13 QA19
QA23 QA24 SA24 SA25 SA64
SA72 SA78 SA82 SA83 SA86
SA87 SA88 SA89 UA01 UA02
VA01 VA10 WA01
4J026 AA17 AA34 AA45 AA50 AA55
AB01 AB02 AB04 AB11 AB17
AC17 BA07 BA25 BA27 BA28
BA30 BA32 BA50 BB04 CA04
DB06 DB09 DB15 DB19 DB36
GA06
Claims (8)
- 【請求項１】 増感剤（Ａ）、一般式（１）で表される
有機ホウ素錯体（Ｂ）並びにチオール基に対してα位お
よび／またはβ位に分岐構造をもつ多官能分岐チオール
（Ｃ）を含むことを特徴とする光重合開始剤。 【化１】 （式中、Ｒ1、Ｒ2、Ｒ3、Ｒ4はそれぞれ独立に、アルキ
ル基、アリール基、アラルキル基、アルケニル基、複素
環基または脂環基を表し、Ｚ+はアンモニウムカチオ
ン、スルホニウムカチオン、オキソスルホニウムカチオ
ン、ピリジニウムカチオン、ホスホニウムカチオン、オ
キソニウムカチオン、またはヨードニウムカチオンを表
す。） - 【請求項２】 チオール基に対してα位および／または
β位に分岐構造をもつ多官能分岐チオール（Ｃ）が一般
式（２）〜（５）で表される化合物から選ばれる１種ま
たは２種以上であることを特徴とする請求項１に記載の
光重合開始剤。 【化２】 （式中、Ｒ5はメチル基、エチル基を表し、ｌは０また
は１、ｍは０〜２の整数、ｎは１〜８の整数、ｖは１ま
たは２の整数を表す） 【化３】 （式中、Ｒ6はメチル基、エチル基を表し、ｐは０〜２
の整数、ｑは０または１を表す） 【化４】 （式中、Ｒ7はメチル基、エチル基を表し、ｓは０〜２
の整数、ｔは０または１を表す） 【化５】 （式中、Ｒ8はメチル基、エチル基を表し、ｗは０〜２
の整数、ｘは０または１を表す。） - 【請求項３】 チオール基に対してα位および／または
β位に分岐構造をもつ多官能分岐チオール（Ｃ）がエチ
レングリコールビス（３−メルカプトブチレート）、ジ
エチレングリコールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、ブタンジオールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、オクタンジオールビス（３−メルカプトブチレー
ト）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプト
ブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス（３−
メルカプトブチレート）、ジペンタエリスリトールヘキ
サキス（３−メルカプトブチレート）、エチレングリコ
ールビス（３−メルカプトイソブチレート）、ジエチレ
ングリコールビス（３−メルカプトイソブチレート）、
ブタンジオールビス（３−メルカプトイソブチレー
ト）、トリメチロールプロパントリス（３−メルカプト
イソブチレート）、ペンタエリスリトールテトラキス
（３−メルカプトイソブチレート）およびジペンタエリ
スリトールテトラキス（３−メルカプトイソブチレー
ト）から選ばれる１種または２種以上であることを特徴
とする請求項１に記載の光重合開始剤。 - 【請求項４】 増感剤（Ａ）が、２５０〜５００ｎｍの
吸収波長領域を持つことを特徴とする、請求項１〜３の
いずれかに記載の光重合開始剤。 - 【請求項５】 増感剤（Ａ）が、ベンゾフェノン類およ
び／またはアンスラキノン類を含むことを特徴とする、
請求項１〜４のいずれかに記載の光重合開始剤。 - 【請求項６】 熱可塑性あるいは未架橋の高分子重合体
（Ｄ）および／または、エチレン性不飽和結合を有する
化合物（Ｅ）並びに請求項１〜５のいずれかに記載の光
重合開始剤を含有することを特徴とする感光性組成物。 - 【請求項７】 顔料（Ｆ）を含有することを特徴とする
請求項６に記載の感光性組成物。 - 【請求項８】 高分子重合体（Ｄ）が溶剤またはアルカ
リ水溶液に可溶であることを特徴とする請求項６または
７に記載の感光性組成物。
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|---|---|---|---|
| JP2002054007A JP3955219B2 (ja) | 2002-02-28 | 2002-02-28 | 光重合開始剤および感光性組成物 |
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Publications (2)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003252918A true JP2003252918A (ja) | 2003-09-10 |
| JP3955219B2 JP3955219B2 (ja) | 2007-08-08 |
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ID=28665278
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|---|---|---|---|
| JP2002054007A Expired - Fee Related JP3955219B2 (ja) | 2002-02-28 | 2002-02-28 | 光重合開始剤および感光性組成物 |
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|---|---|
| JP (1) | JP3955219B2 (ja) |
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|---|---|---|---|---|
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| KR20140109827A (ko) | 2013-03-06 | 2014-09-16 | 가부시키가이샤 아데카 | 광경화성 조성물 |
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2002
- 2002-02-28 JP JP2002054007A patent/JP3955219B2/ja not_active Expired - Fee Related
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