JP2003252826A - アルコキシ安息香酸類の製造方法 - Google Patents
アルコキシ安息香酸類の製造方法Info
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Abstract
(57)【要約】
【課題】 大量生産に適用可能な、かつ収率よくアルコ
キシ安息香酸類を製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1からＲ４はそれぞれ独立にＣ１からＣ６の
飽和のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基または水素原
子を示す）で表される安息香酸類を、ハロゲン化剤で処
理することにより一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ１からＲ４は、前記と同じ意味を示し、Ｘは
ハロゲン原子を示す）で表されるハロゲン化安息香酸類
とし、次いで金属アルコキシドで処理することにより一
般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ１からＲ４はおよびＸは前記と同じ意味を示
し、Ｒ５はＣ１からＣ６の飽和または不飽和のアルキル
基を示す）で表されるアルコキシ安息香酸類を製造す
る。
キシ安息香酸類を製造する方法を提供する。 【解決手段】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1からＲ４はそれぞれ独立にＣ１からＣ６の
飽和のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基または水素原
子を示す）で表される安息香酸類を、ハロゲン化剤で処
理することにより一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ１からＲ４は、前記と同じ意味を示し、Ｘは
ハロゲン原子を示す）で表されるハロゲン化安息香酸類
とし、次いで金属アルコキシドで処理することにより一
般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ１からＲ４はおよびＸは前記と同じ意味を示
し、Ｒ５はＣ１からＣ６の飽和または不飽和のアルキル
基を示す）で表されるアルコキシ安息香酸類を製造す
る。
Description
【０００１】
【発明の属する技術分野】本発明は、医薬品、農薬等の
原料として有用なアルコキシ安息香酸類の製造方法に関
する。
原料として有用なアルコキシ安息香酸類の製造方法に関
する。
【０００２】
【従来の技術】従来、アルコキシ安息香酸の製造法につ
いては種々の方法が検討されているが、安息香酸類にア
ルコキシ基を後から導入する方法あるいはアルコキシベ
ンゼン類にカルボニル基を後から導入する方法に大別さ
れる。
いては種々の方法が検討されているが、安息香酸類にア
ルコキシ基を後から導入する方法あるいはアルコキシベ
ンゼン類にカルボニル基を後から導入する方法に大別さ
れる。
【０００３】前者のアルコキシ基を後から導入する方法
としては、ベンゼン環に水酸基を導入し、その後水酸基
をアルコキシ化する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、５
３（２３）、５５１９（１９８８））が挙げられるが、
ベンゼン環に水酸基を導入する工程の収率が低いという
問題がある。後者のカルボニル基導入の方法としては、
例えばケトン基を導入後酸化する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．ＰｅｒｋｉｎＴｒａｎｓ．１、（２２）、２４
４４（１９７６））、アミド基を導入後加水分解する方
法（ＤＤ９４３９４）、アルデヒド基を導入後酸化する
方法（Ｉｎｄｉａｎ Ｊ．Ｃｈｅｍ．、１１（１０）、
９８９（１９７３））等が挙げられる。カルボニル基を
ケトンとして導入後酸化する方法では、酸化剤として重
金属を使用するため、有害な産業廃棄物が生成するとい
う問題がある。また、アミド基を導入後加水分解する方
法では、アルコキシベンゼン類をアルコキシベンズアミ
ド類に変換するときに二硫化炭素を溶媒に使用している
が、二硫化炭素は非常に引火点の低い溶媒であるために
大量に使用する場合、その取扱いには注意を要する等、
この方法を工業的規模で使用するには好ましいとはいえ
ない。後者の中でも、アルデヒド基を導入後酸化する方
法がもっとも工業的規模での製造方法に有利であると考
えられるが、Ｉｎｄｉａｎ Ｊ．Ｃｈｅｍ．、１１（１
０）、９８９（１９７３）記載の方法では高価な硝酸銀
を用いる必要があるなど、経済性を重視する工業的規模
の製造方法としては満足のいく方法とはいえない。
としては、ベンゼン環に水酸基を導入し、その後水酸基
をアルコキシ化する方法（Ｊ．Ｏｒｇ．Ｃｈｅｍ．、５
３（２３）、５５１９（１９８８））が挙げられるが、
ベンゼン環に水酸基を導入する工程の収率が低いという
問題がある。後者のカルボニル基導入の方法としては、
例えばケトン基を導入後酸化する方法（Ｊ．Ｃｈｅｍ．
Ｓｏｃ．ＰｅｒｋｉｎＴｒａｎｓ．１、（２２）、２４
４４（１９７６））、アミド基を導入後加水分解する方
法（ＤＤ９４３９４）、アルデヒド基を導入後酸化する
方法（Ｉｎｄｉａｎ Ｊ．Ｃｈｅｍ．、１１（１０）、
９８９（１９７３））等が挙げられる。カルボニル基を
ケトンとして導入後酸化する方法では、酸化剤として重
金属を使用するため、有害な産業廃棄物が生成するとい
う問題がある。また、アミド基を導入後加水分解する方
法では、アルコキシベンゼン類をアルコキシベンズアミ
ド類に変換するときに二硫化炭素を溶媒に使用している
が、二硫化炭素は非常に引火点の低い溶媒であるために
大量に使用する場合、その取扱いには注意を要する等、
この方法を工業的規模で使用するには好ましいとはいえ
ない。後者の中でも、アルデヒド基を導入後酸化する方
法がもっとも工業的規模での製造方法に有利であると考
えられるが、Ｉｎｄｉａｎ Ｊ．Ｃｈｅｍ．、１１（１
０）、９８９（１９７３）記載の方法では高価な硝酸銀
を用いる必要があるなど、経済性を重視する工業的規模
の製造方法としては満足のいく方法とはいえない。
【０００４】
【発明が解決しようとする課題】本発明の課題は、大量
生産に適用可能な、かつ収率よくアルコキシ安息香酸類
を製造する方法を提供することである。本発明者らは、
上記課題を解決するために鋭意検討した結果、安息香酸
類をハロゲン化安息香酸類に変換し、次いでハロゲン原
子をアルコキシ基に置換することでアルコキシ安息香酸
類を得るという製造方法を採用することにより、従来技
術に比べ大量生産に適用可能で、かつ収率よくアルコキ
シ安息香酸類が得られることを見出し、本発明を完成す
るに至った。
生産に適用可能な、かつ収率よくアルコキシ安息香酸類
を製造する方法を提供することである。本発明者らは、
上記課題を解決するために鋭意検討した結果、安息香酸
類をハロゲン化安息香酸類に変換し、次いでハロゲン原
子をアルコキシ基に置換することでアルコキシ安息香酸
類を得るという製造方法を採用することにより、従来技
術に比べ大量生産に適用可能で、かつ収率よくアルコキ
シ安息香酸類が得られることを見出し、本発明を完成す
るに至った。
【０００５】
【課題を解決するための手段】即ち、本発明は、（１）
一般式（１）
一般式（１）
【化４】
（式中、Ｒ1からＲ４はそれぞれ独立にＣ１からＣ６の
飽和のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基または水素原
子を示す）で表される安息香酸類を、ハロゲン化剤で処
理することにより一般式（２）
飽和のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基または水素原
子を示す）で表される安息香酸類を、ハロゲン化剤で処
理することにより一般式（２）
【化５】
（式中、Ｒ１からＲ４は、前記と同じ意味を示し、Ｘは
ハロゲン原子を示す）で表されるハロゲン化安息香酸類
とし、次いで金属アルコキシドで処理することにより一
般式（３）
ハロゲン原子を示す）で表されるハロゲン化安息香酸類
とし、次いで金属アルコキシドで処理することにより一
般式（３）
【化６】
（式中、Ｒ１からＲ４はおよびＸは前記と同じ意味を示
し、Ｒ５はＣ１からＣ６の飽和または不飽和のアルキル
基を示す）で表されるアルコキシ安息香酸類を製造する
方法であり、（２）一般式（２）で表されるハロゲン化
安息香酸類を金属アルコキシドで処理するに際して、ア
ミド化合物および／または銅化合物を用いる前記（１）
に記載の方法である。
し、Ｒ５はＣ１からＣ６の飽和または不飽和のアルキル
基を示す）で表されるアルコキシ安息香酸類を製造する
方法であり、（２）一般式（２）で表されるハロゲン化
安息香酸類を金属アルコキシドで処理するに際して、ア
ミド化合物および／または銅化合物を用いる前記（１）
に記載の方法である。
【０００６】
【発明の実施の形態】以下、本発明を詳細に説明する。
本発明において用いられる一般式（１）で表される安息
香酸類は、カルボキシル基が結合する炭素原子に隣接す
る炭素原子上に少なくともひとつの水素原子が存在する
化合物類である。一般式（１）で表される安息香酸類
は、そのカルボキシル基及び水素原子が結合する芳香環
の炭素原子を除く残りの炭素原子には水素原子または置
換基が結合していてもよい。置換基としては、炭素数１
から６の飽和アルキル基を有する、アルコキシ基または
ジアルキルアミノ基から選択される。炭素数１〜６の飽
和アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基等が例示される。
本発明において用いられる一般式（１）で表される安息
香酸類は、カルボキシル基が結合する炭素原子に隣接す
る炭素原子上に少なくともひとつの水素原子が存在する
化合物類である。一般式（１）で表される安息香酸類
は、そのカルボキシル基及び水素原子が結合する芳香環
の炭素原子を除く残りの炭素原子には水素原子または置
換基が結合していてもよい。置換基としては、炭素数１
から６の飽和アルキル基を有する、アルコキシ基または
ジアルキルアミノ基から選択される。炭素数１〜６の飽
和アルキル基としては、メチル基、エチル基、ｎ−プロ
ピル基、イソプロピル基、ｎ−ブチル基、ｓｅｃ−ブチ
ル基、ｔｅｒｔ−ブチル基、イソブチル基、ｎ−ペンチ
ル基、ｎ−ヘキシル基等が例示される。
【０００７】一般式（１）で表される安息香酸類を具体
的に例示すれば、ｐ−アニス酸、３，４−ジメトキシ安
息香酸、２，４−ジメトキシ安息香酸、３，４，５−ト
リメトキシ安息香酸、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、
３，４−ビス（ジメチルアミノ）安息香酸、３，５−ビ
ス（ジメチルアミノ）安息香酸、３，４，５−トリス
（ジメチルアミノ安息香酸）等が挙げられる。
的に例示すれば、ｐ−アニス酸、３，４−ジメトキシ安
息香酸、２，４−ジメトキシ安息香酸、３，４，５−ト
リメトキシ安息香酸、ｐ−ジメチルアミノ安息香酸、
３，４−ビス（ジメチルアミノ）安息香酸、３，５−ビ
ス（ジメチルアミノ）安息香酸、３，４，５−トリス
（ジメチルアミノ安息香酸）等が挙げられる。
【０００８】一般式（１）で表される安息香酸類をハロ
ゲン化剤で処理することにより、一般式（１）で表され
る安息香酸類のカルボキシル基が結合する炭素原子に隣
接する炭素原子上に存在する水素原子がハロゲン原子で
置換された、一般式（２）で表されるハロゲン化安息香
酸類が得られる。
ゲン化剤で処理することにより、一般式（１）で表され
る安息香酸類のカルボキシル基が結合する炭素原子に隣
接する炭素原子上に存在する水素原子がハロゲン原子で
置換された、一般式（２）で表されるハロゲン化安息香
酸類が得られる。
【０００９】一般式（２）においてＸはハロゲン原子を
表す。例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げ
られる。一般式（２）で表される化合物の具体例として
は、２−クロロ−４−メトキシ安息香酸、２−ブロモ−
４−メトキシ安息香酸、２−クロロ−４，５−ジメトキ
シ安息香酸、２−ブロモ−４，５−ジメトキシ安息香
酸、２−クロロ−４，６−ジメトキシ安息香酸、２−ブ
ロモ−４，６−ジメトキシ安息香酸、２−クロロ−３，
４，５−トリメトキシ安息香酸、２−ブロモ−３，４，
５−トリメトキシ安息香酸、２−クロロ−４−ジメチル
アミノ安息香酸、２−ブロモ−４−ジメチルアミノ安息
香酸、２−クロロ−４，５−ビス（ジメチルアミノ）安
息香酸、２−ブロモ−４，５−ビス（ジメチルアミノ）
安息香酸、２−クロロ−３，５−ビス（ジメチルアミ
ノ）安息香酸、２−ブロモ−３，５−ビス（ジメチルア
ミノ）安息香酸、２−クロロ−３，４，５−トリス（ジ
メチルアミノ）安息香酸、２−ブロモ−３，４，５−ト
リス（ジメチルアミノ）安息香酸等が挙げられる。
表す。例えば、塩素原子、臭素原子、ヨウ素原子が挙げ
られる。一般式（２）で表される化合物の具体例として
は、２−クロロ−４−メトキシ安息香酸、２−ブロモ−
４−メトキシ安息香酸、２−クロロ−４，５−ジメトキ
シ安息香酸、２−ブロモ−４，５−ジメトキシ安息香
酸、２−クロロ−４，６−ジメトキシ安息香酸、２−ブ
ロモ−４，６−ジメトキシ安息香酸、２−クロロ−３，
４，５−トリメトキシ安息香酸、２−ブロモ−３，４，
５−トリメトキシ安息香酸、２−クロロ−４−ジメチル
アミノ安息香酸、２−ブロモ−４−ジメチルアミノ安息
香酸、２−クロロ−４，５−ビス（ジメチルアミノ）安
息香酸、２−ブロモ−４，５−ビス（ジメチルアミノ）
安息香酸、２−クロロ−３，５−ビス（ジメチルアミ
ノ）安息香酸、２−ブロモ−３，５−ビス（ジメチルア
ミノ）安息香酸、２−クロロ−３，４，５−トリス（ジ
メチルアミノ）安息香酸、２−ブロモ−３，４，５−ト
リス（ジメチルアミノ）安息香酸等が挙げられる。
【００１０】ハロゲン化剤としては、例えば、分子状ハ
ロゲン、Ｎ−ハロゲノスクシンイミドまたはジオキサン
−ハロゲンコンプレックスが用いられる。分子状ハロゲ
ンとしては例えば塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。Ｎ
-ハロゲノスクシンイミドとしては例えばＮ−クロロス
クシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨード
スクシンイミドが挙げられる。ジオキサン−ハロゲンコ
ンプレックスとしては臭素−ジオキサンコンプレックス
等が挙げられる。
ロゲン、Ｎ−ハロゲノスクシンイミドまたはジオキサン
−ハロゲンコンプレックスが用いられる。分子状ハロゲ
ンとしては例えば塩素、臭素、ヨウ素が挙げられる。Ｎ
-ハロゲノスクシンイミドとしては例えばＮ−クロロス
クシンイミド、Ｎ−ブロモスクシンイミド、Ｎ−ヨード
スクシンイミドが挙げられる。ジオキサン−ハロゲンコ
ンプレックスとしては臭素−ジオキサンコンプレックス
等が挙げられる。
【００１１】ハロゲン化剤の使用量は原料安息香酸類に
対して１．０倍モルから３．０倍モルであり、好ましく
は１．１倍モルから２．０倍モルである。塩素または臭
素は安息香酸類に対して一括して加えてもかまわない
が、滴下して加えるなどの方法により時間をかけて装入
するほうが好ましい。
対して１．０倍モルから３．０倍モルであり、好ましく
は１．１倍モルから２．０倍モルである。塩素または臭
素は安息香酸類に対して一括して加えてもかまわない
が、滴下して加えるなどの方法により時間をかけて装入
するほうが好ましい。
【００１２】で処理する際の温度は特に限定されない
が、０〜１００℃が好ましく、反応速度の点から５０〜
１００℃がより好ましい。
が、０〜１００℃が好ましく、反応速度の点から５０〜
１００℃がより好ましい。
【００１３】ハロゲン化剤による処理に際しては、操作
性の点で溶媒を用いて行うことが望ましい。溶媒として
は、ハロゲン化剤に対して不活性な溶媒であれば特に限
定されない。このような溶媒としては、ハロゲン化炭化
水素類、エーテル類、カルボン酸類もしくはエステル類
が挙げられる。これらは単独あるいは二種以上を併用す
ることも可能である。ハロゲン化炭化水素としては、例
えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロ
エタン等のハロゲン化飽和炭化水素が挙げられる。アル
キルエーテル類としては、例えば、飽和アルキルエーテ
ルおよび環状エーテルが挙げられる。飽和アルキルエー
テルとしては、例えば、エチルエーテル、ｎ−プロピル
エーテル、イソプロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテル
等が挙げられる。環状エーテルとしては、例えば、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。カルボン
酸類としては、例えば、酢酸、プロピオン酸等が挙げら
れる。エステル類としては、例えば、飽和アルキルエス
テルが挙げられる。飽和アルキルエステルとしては、例
えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、プロピオン酸メチル等が挙げられる。
性の点で溶媒を用いて行うことが望ましい。溶媒として
は、ハロゲン化剤に対して不活性な溶媒であれば特に限
定されない。このような溶媒としては、ハロゲン化炭化
水素類、エーテル類、カルボン酸類もしくはエステル類
が挙げられる。これらは単独あるいは二種以上を併用す
ることも可能である。ハロゲン化炭化水素としては、例
えば、塩化メチレン、クロロホルム、１，２−ジクロロ
エタン等のハロゲン化飽和炭化水素が挙げられる。アル
キルエーテル類としては、例えば、飽和アルキルエーテ
ルおよび環状エーテルが挙げられる。飽和アルキルエー
テルとしては、例えば、エチルエーテル、ｎ−プロピル
エーテル、イソプロピルエーテル、ｎ−ブチルエーテル
等が挙げられる。環状エーテルとしては、例えば、ジオ
キサン、テトラヒドロフラン等が挙げられる。カルボン
酸類としては、例えば、酢酸、プロピオン酸等が挙げら
れる。エステル類としては、例えば、飽和アルキルエス
テルが挙げられる。飽和アルキルエステルとしては、例
えば、酢酸メチル、酢酸エチル、酢酸プロピル、酢酸ブ
チル、プロピオン酸メチル等が挙げられる。
【００１４】溶媒の使用量は特に制限されないが、反応
に用いる安息香酸類に対して好ましくは、３倍〜２０倍
量、更に好ましくは3倍〜10倍量である。３倍量以上で
あると操作性等の点で好ましく、２０倍量以下であると
容積効率等の点で好ましい。
に用いる安息香酸類に対して好ましくは、３倍〜２０倍
量、更に好ましくは3倍〜10倍量である。３倍量以上で
あると操作性等の点で好ましく、２０倍量以下であると
容積効率等の点で好ましい。
【００１５】ハロゲン化剤で処理した後、反応混合物を
水洗、抽出、濃縮など通常の処理を行うことによりハロ
ゲン化安息香酸類を結晶として取り出すことができる。
通常、取り出したハロゲン化安息香酸類は、更に精製す
ることなく次の金属アルコキシドによる処理を行うが、
必要であれば再結晶、カラムクロマトグラフィー等によ
り精製し、純度を上げることもできる。
水洗、抽出、濃縮など通常の処理を行うことによりハロ
ゲン化安息香酸類を結晶として取り出すことができる。
通常、取り出したハロゲン化安息香酸類は、更に精製す
ることなく次の金属アルコキシドによる処理を行うが、
必要であれば再結晶、カラムクロマトグラフィー等によ
り精製し、純度を上げることもできる。
【００１６】一般式（２）で表されるハロゲン化安息香
酸類は、次いで、金属アルコキシドで処理することによ
り、一般式（２）で表されるハロゲン化安息香酸類のハ
ロゲン原子がアルコキシ基で置換された一般式（３）で
表されるアルコキシ安息香酸類を与える。
酸類は、次いで、金属アルコキシドで処理することによ
り、一般式（２）で表されるハロゲン化安息香酸類のハ
ロゲン原子がアルコキシ基で置換された一般式（３）で
表されるアルコキシ安息香酸類を与える。
【００１７】一般式（３）で表される化合物の具体例と
しては、２，４−ジメトキシ安息香酸、２，４，５−ト
リメトキシ安息香酸、２，４，６−トリメトキシ安息香
酸、２，３，４，５−テトラメトキシ安息香酸、２−メ
トキシ−４−ジメチルアミノ安息香酸、２−メトキシ−
４，５−ビス（ジメチルアミノ）安息香酸、２−メトキ
シ−４，６−ビス（ジメチルアミノ）安息香酸、２−メ
トキシ−３，４，５−トリス（ジメチルアミノ安息香
酸）等が挙げられる。
しては、２，４−ジメトキシ安息香酸、２，４，５−ト
リメトキシ安息香酸、２，４，６−トリメトキシ安息香
酸、２，３，４，５−テトラメトキシ安息香酸、２−メ
トキシ−４−ジメチルアミノ安息香酸、２−メトキシ−
４，５−ビス（ジメチルアミノ）安息香酸、２−メトキ
シ−４，６−ビス（ジメチルアミノ）安息香酸、２−メ
トキシ−３，４，５−トリス（ジメチルアミノ安息香
酸）等が挙げられる。
【００１８】金属アルコキシドとしては、例えば、ナト
リウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、ナトリウムプロポキシドなどが挙げられる。
金属アルコキシドの使用量はハロゲン化安息香酸類に対
して１．０倍モルから２０倍モルであり、好ましくは
１．５倍モルから１０倍モルである。反応を完結させる
ためには１．０倍モル以上の金属アルコキシドが必要で
あり、２０倍モル以下であると後処理等の点から好まし
い。
リウムメトキシド、カリウムメトキシド、ナトリウムエ
トキシド、ナトリウムプロポキシドなどが挙げられる。
金属アルコキシドの使用量はハロゲン化安息香酸類に対
して１．０倍モルから２０倍モルであり、好ましくは
１．５倍モルから１０倍モルである。反応を完結させる
ためには１．０倍モル以上の金属アルコキシドが必要で
あり、２０倍モル以下であると後処理等の点から好まし
い。
【００１９】金属アルコキシドによる処理に際しては、
通常、溶媒を用いる。溶媒としては、例えばアルコール
類、ケトン類が挙げられる。アルコール類を用いる場合
は金属アルコキシドと同種のアルコールを用いる。例え
ばナトリウムメトキシドを用いる場合はメタノール、ナ
トリウムエトキシドを用いる場合はエタノールを使用す
る。ケトン類としては例えばメチルエチルケトン、３−
ペンタノン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
これらケトン類は単独で用いても良いし、２種以上を混
合して用いても良い。
通常、溶媒を用いる。溶媒としては、例えばアルコール
類、ケトン類が挙げられる。アルコール類を用いる場合
は金属アルコキシドと同種のアルコールを用いる。例え
ばナトリウムメトキシドを用いる場合はメタノール、ナ
トリウムエトキシドを用いる場合はエタノールを使用す
る。ケトン類としては例えばメチルエチルケトン、３−
ペンタノン、メチルイソブチルケトン等が挙げられる。
これらケトン類は単独で用いても良いし、２種以上を混
合して用いても良い。
【００２０】金属アルコキシドによる処理は、２５℃
（室温）から使用する溶媒の沸点の範囲で行う。反応速
度の点で５０℃から溶媒の沸点の範囲が好ましい。
（室温）から使用する溶媒の沸点の範囲で行う。反応速
度の点で５０℃から溶媒の沸点の範囲が好ましい。
【００２１】金属アルコキシドによる処理に際して、ア
ミド化合物を用いると収率が向上する傾向があるため、
アミド化合物を使用することができる。アミド化合物と
しては例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリジノ
ンなどが挙げられる。アミド化合物の使用量はハロゲン
化安息香酸類に対して少なくとも１モル％以上使用すれ
ば特に制限されないが、好ましくは５から５００モル％
である。
ミド化合物を用いると収率が向上する傾向があるため、
アミド化合物を使用することができる。アミド化合物と
しては例えばジメチルホルムアミド、ジメチルアセトア
ミド、ジエチルホルムアミド、ジメチルイミダゾリジノ
ンなどが挙げられる。アミド化合物の使用量はハロゲン
化安息香酸類に対して少なくとも１モル％以上使用すれ
ば特に制限されないが、好ましくは５から５００モル％
である。
【００２２】また、金属アルコキシドによる処理に際し
て、銅化合物を用いると収率が向上する。銅化合物とし
ては例えばヨウ化銅、塩化第一銅、塩化第二銅、酸化銅
等が挙げられる。これらのうち１種のみを用いても良い
し、２種以上を混合して用いても良い。銅化合物は多量
に用いるほど反応速度が向上するが、経済性等の点から
銅化合物の使用量はハロゲン化安息香酸類に対して０．
１モル％から５０モル％であり、好ましくは１モル％か
ら２５モル％である。
て、銅化合物を用いると収率が向上する。銅化合物とし
ては例えばヨウ化銅、塩化第一銅、塩化第二銅、酸化銅
等が挙げられる。これらのうち１種のみを用いても良い
し、２種以上を混合して用いても良い。銅化合物は多量
に用いるほど反応速度が向上するが、経済性等の点から
銅化合物の使用量はハロゲン化安息香酸類に対して０．
１モル％から５０モル％であり、好ましくは１モル％か
ら２５モル％である。
【００２３】反応終了後は反応液を濃縮した後、水と有
機溶媒（例えば酢酸エチル）を加えて分液を行い、水層
のｐＨを酸性とすると結晶が析出する。これを水洗する
と目的化合物を得ることができる。必要であれば再結
晶、縣濁洗浄など通常用いられる精製手段により純度を
上げることもできる。
機溶媒（例えば酢酸エチル）を加えて分液を行い、水層
のｐＨを酸性とすると結晶が析出する。これを水洗する
と目的化合物を得ることができる。必要であれば再結
晶、縣濁洗浄など通常用いられる精製手段により純度を
上げることもできる。
【００２４】
【実施例】以下において、実施例をあげて本発明を説明
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
するが、本発明はこれらに限定されるものではない。
【００２５】実施例１ ２，４，５−トリメトキシ安息
香酸の製造 ３，４−ジメトキシ安息香酸５０ｇを酢酸エチル５５５
ｇに縣濁し、攪拌しながら６５℃まで昇温した。６５℃
に昇温した後、臭素７６．８ｇを４時間かけて滴下し
た。滴下終了後、６５℃で３時間攪拌した。反応液を３
０℃まで冷却して１０％亜硫酸ナトリウムを２００ｇ添
加した。この溶液を、水８００ｇの中に移液し、氷２０
０ｇを加え分液した。有機層を減圧濃縮し、残留物にｎ
−ヘキサン１００ｇを加え１時間攪拌し、析出晶を濾取
し、ｎ−ヘキサンで洗浄した後、減圧乾燥することによ
り、２−ブロモ−４，５−ジメトキシ安息香酸の製造５
５．７ｇ（収率７８％／３，４−ジメトキシ安息香酸）
を得た。。メタノ−ル２８．５ｇにＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド１．５ｇを加え、この中にナトリウムメトキ
シド１．８６ｇを縣濁した。２−ブロモ−４、５−ジメ
トキシ安息香酸を３．０ｇ及び、ヨウ化銅０．２３ｇを
加えて、６０℃で２４時間攪拌した。反応液を減圧濃縮
し、残留物に酢酸エチル５０ｇと水５０ｇを加えて攪拌
した後、分液した。水層を２０ｇまで減圧濃縮し、硫酸
を用いてＰＨを１．３にした。１０℃で１時間攪拌し、
析出する結晶を濾取し、水で洗浄した後、減圧乾燥する
ことにより、標記化合物１．７ｇを得た。２−ブロモ−
４，５−ジメトキシ安息香酸からの収率７０％。３，４
−ジメトキシ安息香酸から表記化合物までの通算収率は
５５％であった。
香酸の製造 ３，４−ジメトキシ安息香酸５０ｇを酢酸エチル５５５
ｇに縣濁し、攪拌しながら６５℃まで昇温した。６５℃
に昇温した後、臭素７６．８ｇを４時間かけて滴下し
た。滴下終了後、６５℃で３時間攪拌した。反応液を３
０℃まで冷却して１０％亜硫酸ナトリウムを２００ｇ添
加した。この溶液を、水８００ｇの中に移液し、氷２０
０ｇを加え分液した。有機層を減圧濃縮し、残留物にｎ
−ヘキサン１００ｇを加え１時間攪拌し、析出晶を濾取
し、ｎ−ヘキサンで洗浄した後、減圧乾燥することによ
り、２−ブロモ−４，５−ジメトキシ安息香酸の製造５
５．７ｇ（収率７８％／３，４−ジメトキシ安息香酸）
を得た。。メタノ−ル２８．５ｇにＮ、Ｎ−ジメチルホ
ルムアミド１．５ｇを加え、この中にナトリウムメトキ
シド１．８６ｇを縣濁した。２−ブロモ−４、５−ジメ
トキシ安息香酸を３．０ｇ及び、ヨウ化銅０．２３ｇを
加えて、６０℃で２４時間攪拌した。反応液を減圧濃縮
し、残留物に酢酸エチル５０ｇと水５０ｇを加えて攪拌
した後、分液した。水層を２０ｇまで減圧濃縮し、硫酸
を用いてＰＨを１．３にした。１０℃で１時間攪拌し、
析出する結晶を濾取し、水で洗浄した後、減圧乾燥する
ことにより、標記化合物１．７ｇを得た。２−ブロモ−
４，５−ジメトキシ安息香酸からの収率７０％。３，４
−ジメトキシ安息香酸から表記化合物までの通算収率は
５５％であった。
【００２６】
【発明の効果】本発明によればアルコキシ安息香酸類を
大量生産に適用可能な方法で、かつ収率よく得ることが
できる。
大量生産に適用可能な方法で、かつ収率よく得ることが
できる。
─────────────────────────────────────────────────────
フロントページの続き
(72)発明者 楠本 昌彦
福岡県大牟田市浅牟田町30 三井化学株式
会社内
Ｆターム(参考） 4H006 AA02 AC30 AC43 BA05 BA30
BA37 BB17 BB20 BC10 BC31
BC34 BE53
4H039 CA61 CD20
Claims (2)
- 【請求項１】 一般式（１） 【化１】 （式中、Ｒ1からＲ４はそれぞれ独立にＣ１からＣ６の
飽和のアルコキシ基、ジアルキルアミノ基または水素原
子を示す）で表される安息香酸類を、ハロゲン化剤で処
理することにより一般式（２） 【化２】 （式中、Ｒ１からＲ４は、前記と同じ意味を示し、Ｘは
ハロゲン原子を示す）で表されるハロゲン化安息香酸類
とし、次いで金属アルコキシドで処理することにより一
般式（３） 【化３】 （式中、Ｒ１からＲ４はおよびＸは前記と同じ意味を示
し、Ｒ５はＣ１からＣ６の飽和または不飽和のアルキル
基を示す）で表されるアルコキシ安息香酸類を製造する
方法。 - 【請求項２】 一般式（２）で表されるハロゲン化安息
香酸類を金属アルコキシドで処理するに際し、アミド化
合物および／または銅化合物を用いる請求項１に記載の
方法。
Priority Applications (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002049478A JP2003252826A (ja) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | アルコキシ安息香酸類の製造方法 |
Applications Claiming Priority (1)
| Application Number | Priority Date | Filing Date | Title |
|---|---|---|---|
| JP2002049478A JP2003252826A (ja) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | アルコキシ安息香酸類の製造方法 |
Publications (1)
| Publication Number | Publication Date |
|---|---|
| JP2003252826A true JP2003252826A (ja) | 2003-09-10 |
Family
ID=28661981
Family Applications (1)
| Application Number | Title | Priority Date | Filing Date |
|---|---|---|---|
| JP2002049478A Withdrawn JP2003252826A (ja) | 2002-02-26 | 2002-02-26 | アルコキシ安息香酸類の製造方法 |
Country Status (1)
| Country | Link |
|---|---|
| JP (1) | JP2003252826A (ja) |
Cited By (2)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012077673A1 (ja) | 2010-12-07 | 2012-06-14 | ゼリア新薬工業株式会社 | ２－ブロモ－４，５－ジアルコキシ安息香酸の製造法 |
| US10364206B2 (en) | 2015-04-13 | 2019-07-30 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Method for producing 2-halogenated benzoic acids |
-
2002
- 2002-02-26 JP JP2002049478A patent/JP2003252826A/ja not_active Withdrawn
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| WO2012077673A1 (ja) | 2010-12-07 | 2012-06-14 | ゼリア新薬工業株式会社 | ２－ブロモ－４，５－ジアルコキシ安息香酸の製造法 |
| US9096511B2 (en) | 2010-12-07 | 2015-08-04 | Zeria Pharmaceutical Co., Ltd. | Method for producing 2-bromo-4,5-dialkoxy benzoic acid |
| US10364206B2 (en) | 2015-04-13 | 2019-07-30 | Sumitomo Seika Chemicals Co., Ltd. | Method for producing 2-halogenated benzoic acids |
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Legal Events
| Date | Code | Title | Description |
|---|---|---|---|
| A621 | Written request for application examination |
Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A621 Effective date: 20040706 |
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| A761 | Written withdrawal of application |
Effective date: 20061109 Free format text: JAPANESE INTERMEDIATE CODE: A761 |