JP2003252606A - 超臨界水生成装置 - Google Patents

超臨界水生成装置

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JP2003252606A
JP2003252606A JP2002058626A JP2002058626A JP2003252606A JP 2003252606 A JP2003252606 A JP 2003252606A JP 2002058626 A JP2002058626 A JP 2002058626A JP 2002058626 A JP2002058626 A JP 2002058626A JP 2003252606 A JP2003252606 A JP 2003252606A
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supercritical water
reactor
combustion gas
nozzle
pressure
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JP2002058626A
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Masao Watanabe
正夫 渡辺
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Advantest Corp
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    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02PCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES IN THE PRODUCTION OR PROCESSING OF GOODS
    • Y02P20/00Technologies relating to chemical industry
    • Y02P20/50Improvements relating to the production of bulk chemicals
    • Y02P20/54Improvements relating to the production of bulk chemicals using solvents, e.g. supercritical solvents or ionic liquids
    • YGENERAL TAGGING OF NEW TECHNOLOGICAL DEVELOPMENTS; GENERAL TAGGING OF CROSS-SECTIONAL TECHNOLOGIES SPANNING OVER SEVERAL SECTIONS OF THE IPC; TECHNICAL SUBJECTS COVERED BY FORMER USPC CROSS-REFERENCE ART COLLECTIONS [XRACs] AND DIGESTS
    • Y02TECHNOLOGIES OR APPLICATIONS FOR MITIGATION OR ADAPTATION AGAINST CLIMATE CHANGE
    • Y02WCLIMATE CHANGE MITIGATION TECHNOLOGIES RELATED TO WASTEWATER TREATMENT OR WASTE MANAGEMENT
    • Y02W30/00Technologies for solid waste management
    • Y02W30/50Reuse, recycling or recovery technologies
    • Y02W30/82Recycling of waste of electrical or electronic equipment [WEEE]

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  • Processing Of Solid Wastes (AREA)
  • Physical Or Chemical Processes And Apparatus (AREA)

Abstract

(57)【要約】 【課題】 より高温かつ高圧な超臨界水を生成する超臨
界水生成装置を提供する。 【解決手段】 ノズル部24に超臨界水(400度C、22
MP)を流入させ(実線矢印参照)、噴出口24aから
噴出させる。そして、燃焼ガス室40cに空気とプロパ
ンガスとを有する燃焼ガスを供給する。燃焼ガスは、ノ
ズルカバー40aとノズル部24との隙間を進んで、噴
出口24aに至る(点線矢印参照)。これにより、プロ
パンガスが燃焼し、空気中の酸素が燃焼を助ける。この
ような燃焼が超臨界水において行なわれるため、超臨界
水はより高温かつ高圧(600度C、30MP)になる。

Description

【発明の詳細な説明】
【0001】
【発明の属する技術分野】本発明は、ポリ塩化ビフェニ
ル(以下、PCBという)などの廃棄オイルおよび回路基
板などの廃品の処理技術に関する。
【0002】
【従来の技術】PCBを処理する方法として焼却処理があ
る。しかし、PCBを焼却処理すると猛毒のダイオキシン
が発生する。回路基板を焼却処理する場合も同様であ
る。そこで、超臨界水により処理する方法が提案されて
いる。ここで、超臨界水はより高温かつ高圧であること
が好ましい。
【0003】
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、より高
温かつ高圧な超臨界水を生成することは難しい。
【0004】そこで、本発明は、より高温かつ高圧な超
臨界水を生成する超臨界水生成装置を提供することを課
題とする。
【0005】
【課題を解決するための手段】請求項1に記載の発明
は、超臨界水を噴出するノズルと、ノズルの噴出口に燃
焼ガスを供給する燃焼ガス供給手段とを備えるように構
成される。
【0006】上記のように構成された超臨界水生成装置
によれば、ノズルから噴出された超臨界水は超高速の流
体となる。このような超高速の超臨界水に燃焼ガスが供
給されるため、超臨界水において燃焼ガスが燃焼する。
この燃焼により、超臨界水はさらに高温かつ高圧とな
る。よって、より高温かつ高圧な超臨界水を生成でき
る。
【0007】請求項2に記載の発明は、請求項1に記載
の発明であって、燃焼ガスはプロパンガスを有するよう
に構成される。
【0008】請求項3に記載の発明は、請求項1または
2に記載の発明であって、ノズルの噴出を直接受ける第
一反応器と、第一反応器における反応生成物を受ける第
二反応器とを備えるように構成される。
【0009】第一反応器は、より高温かつ高圧な超臨界
水を受けるという過酷な条件にさらされる。一方、第二
反応器は第一反応器における反応生成物を受けるだけな
ので、さほど過酷な条件にさらされない。よって、過酷
な条件にさらされる部分を第一反応器に限定できるた
め、超臨界水生成装置を製造しやすい。
【0010】請求項4に記載の発明は、請求項3に記載
の発明であって、第一反応器は、第二反応器に比べて耐
えられる限界が、より高温かつ高圧であるように構成さ
れる。
【0011】請求項5に記載の発明は、請求項3または
4に記載の発明であって、第一反応器は電子部品または
オイルを収容するように構成される。
【0012】請求項6に記載の発明は、請求項3または
4に記載の発明であって、第一反応器は回路基板を収容
するように構成される。
【0013】回路基板は、ガラス繊維を入れたエポキシ
材層と銅板層とを有している。よって、回路基板を第一
反応器に入れて処理すれば、ガラスおよび金属が得られ
る。
【0014】
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。
【0015】図1は、本発明の実施形態にかかる超臨界
水生成装置1の正面図である。
【0016】超臨界水生成装置1は、超臨界水貯留器1
0、ノズル20、反応器30、燃焼ガス供給部40、安
全用パイプ52、燃焼用空気取り入れパイプ54、生成
物採取用パイプ56、水供給用パイプ58および59、
処理対象供給部60、水供給部70を備える。
【0017】超臨界水貯留器10は、中空の円筒であ
り、下部に底が設けられている。超臨界水貯留器10
は、雄ねじ10a、下部ヒータ14、上部ヒータ16を
有し、超臨界水12を貯留する。
【0018】雄ねじ10aは、超臨界水貯留器10の外
壁面上部に設けられている。雄ねじ10aは、高圧シー
ルねじである。超臨界水12は、超臨界水貯留器10の
下部に貯まっている。超臨界水12の温度および圧力
は、200度C、22MP(220気圧)である。また、超臨界
水12の水位は図示省略した超音波レベル計で測定され
ている。下部ヒータ14は、超臨界水貯留器10の底部
に設けられている。下部ヒータ14は、超臨界水貯留器
10に水供給用パイプ59から供給された水を加熱して
超臨界水12とする。上部ヒータ16は、雄ねじ10a
と下部ヒータ14との間の超臨界水貯留器10の外壁面
を取り囲むように設けられている。上部ヒータ16は、
超臨界水貯留器10の下部から上部に向かう超臨界水1
2の温度および圧力を、400度C、22MP(220気圧)と
する。
【0019】ノズル20は、超臨界水貯留器10に貯留
された超臨界水を噴出する。ノズル20は、円筒部2
2、ノズル部24を有する。
【0020】円筒部22は、超臨界水貯留器10の雄ね
じ10aと、燃焼ガス供給部40の下部に設けられた雌
ねじ40dとによって固定される。円筒部22の上端に
ノズル部24が設けられている。円筒部22は、雌ねじ
22a、雄ねじ22bを有する。雌ねじ22aは、高圧
シールねじであり、円筒部22の内壁面に設けられ、超
臨界水貯留器10の雄ねじ10aと接合する。これによ
り、超臨界水貯留器10とノズル20とが高圧シールね
じ止めされる。雄ねじ22bは、高圧シールねじであ
り、円筒部22の外壁面に設けられ、燃焼ガス供給部4
0の雌ねじ40dと接合する。
【0021】ノズル部24は、円筒部22の上端に設け
られている。ノズル部24は、上部に行くにつれて内径
が狭くなっていき、最終的にはある一定の最も狭い内径
をとって上部に開放されている。この上部に開放されて
いる部分を噴出口24aという。
【0022】反応器30は、第一反応器32、リークね
じ33、第二反応器34、蓋35を有する。反応器30
は、ノズル20から噴出された超臨界水と、処理対象供
給部60から供給された処理対象(本実施形態では、PC
B等のオイル)とが反応する容器である。
【0023】第一反応器32は、上部と下部とが開口し
たほぼ中空円筒形の容器であり、下部はやや狭まってい
る。ただし、第一反応器32の上部開口は蓋35に近
く、第一反応器32の下部開口はノズル部24の開口に
向かいあっている。第一反応器32は、下部開口を介し
てノズル20から噴出された超臨界水を直接受ける。し
かも、第一反応器32は、処理対象供給部60から供給
されたPCBを受ける。よって、第一反応器32において
は、超臨界水とPCBとが反応する。この反応によって、
炭酸ガス、水および水素、メタン等の有効ガスが生成さ
れる。
【0024】第一反応器32は、ノズル20から噴出さ
れた超臨界水を直接受ける。このとき、超臨界水におい
て燃焼ガスが燃焼して、超臨界水はさらに高温かつ高圧
になっている(400度C、22MPから600度C、30MP
(あるいは25MP))。よって、第一反応器32は、600
度C、30MP(あるいは25MP)といった高温かつ高圧に
耐えるようになっている。
【0025】なお、第一反応器32は、脚32aによっ
て第二反応器34に固定されている。また、第一反応器
32は、上部に雄ねじ32bを有し、リークねじ33と
接合する。
【0026】リークねじ33は、蓋35に取りつけら
れ、第一反応器32を蓋35に固定する。しかも、リー
クねじ33は第一反応器32において生成された炭酸ガ
ス、水および水素、メタン等の有効ガスが流通できる。
【0027】第二反応器34は、第一反応器32におけ
る反応により生成された炭酸ガス、水および水素、メタ
ン等の有効ガスをリークねじ33を介して受ける。第二
反応器34は、上部と下部とが開口したほぼ中空円筒形
の容器である。ただし、下部には半径方向外側部分に底
が設けられているため、下部開口は上部開口よりも狭
い。なお、底の半径方向内側から上部に向かって内部側
壁34aが設けられている。また、第二反応器34は、
雌ねじ34b、雄ねじ34cが設けられている。雌ねじ
34bおよび雄ねじ34cは高圧シールねじである。雌
ねじ34bは内部側壁34aの内壁面に、雄ねじ34c
は第二反応器34の上部外壁面に設けられている。
【0028】第二反応器34は、第一反応器32におけ
る反応生成物を受ける。よって、第二反応器34内部の
温度および圧力は、第一反応器32よりは低い。例え
ば、第一反応器32内部は600度C、30MP(あるいは2
5MP)であるのに対し、第二反応器34内部は300度C、
20MPである。よって、第二反応器34は、第一反応器
32よりも、より低温かつ低圧に耐えられればいい。す
なわち、第一反応器32は、第二反応器34よりも、よ
り高温かつ高圧に耐えなければならない。
【0029】蓋35は、第二反応器34の上部を覆う蓋
である。蓋35の内壁面には雌ねじ35aが設けられて
いる。雌ねじ35aは高圧シールねじであり、雄ねじ3
4cと接合する。これにより、蓋35と第二反応器34
とが高圧シールねじ止めされる。
【0030】燃焼ガス供給部40は、ノズル部24の噴
出口24aに燃焼ガスを供給する。燃焼ガス供給部40
は、ノズルカバー40a、円筒体40b、燃焼ガス室4
0c、雌ねじ40d、雄ねじ40e、燃焼ガス供給パイ
プ42、弁44、圧力計46を有する。
【0031】ノズルカバー40aは、ノズル部24の高
さにしておよそ真中の部分から上を燃焼ガスが流通でき
る程度の間隔を空けて覆っている。円筒体40bは、中
空円筒であり、その上部でノズルカバー40aを支持し
ている。また、円筒体40bの上部は内部側壁34aに
取りつけられている。燃焼ガス室40cは、円筒体40
bの内壁面、ノズル部24の外壁面およびノズルカバー
40aにより形成される室であり、燃焼ガスが供給され
ている。雌ねじ40dは高圧シールねじであり、円筒体
40bの内壁面の下部に設けられており、雄ねじ22b
と接合する。これにより、燃焼ガス供給部40とノズル
20とが高圧シールねじ止めされる。雄ねじ40eは、
円筒体40bの外壁面の上部に設けられており、雌ねじ
34bと接合する。これにより、燃焼ガス供給部40と
第二反応器34とが高圧シールねじ止めされる。
【0032】超臨界水貯留器10、ノズル20、第二反
応器34、蓋35および燃焼ガス供給部40は別々に製
造することができ、これまで説明したような高圧シール
ねじ止めにより組み立てられる。
【0033】燃焼ガス供給パイプ42は、燃焼ガス室4
0cに燃焼ガスを供給する。燃焼ガスは、例えば空気お
よびプロパンガス(C3H8)の混合気である。燃焼ガスは
燃焼ガス供給パイプ42の端部に結合された図示省略さ
れたガスボンベ等から供給される。弁44は、燃焼ガス
供給パイプ42に流す燃焼ガスの流量、圧力等を制御す
る。圧力計46は、燃焼ガス供給パイプ42に流す燃焼
ガスの圧力を計測する。なお、本実施形態においては、
燃焼ガスの圧力を22MPにすることにしているので、圧力
計46により圧力を計測しながら弁44の開度を調節し
て燃焼ガスの圧力を22MPにする。
【0034】安全用パイプ52は、第二反応器34の上
部に取りつけられており、第二反応器34内部の気体を
放出することにより、第二反応器34内部の温度および
圧力を300度C、20MPとする。安全用パイプ52に
は、安全弁52a、圧力計52bが取りつけられてい
る。安全弁52aは、安全用パイプ52に流れる気体の
圧力が20MPを超えると開き、20MP未満となると閉じ
る。圧力計52bは、安全用パイプ52に流れる気体の
圧力を計測する。
【0035】燃焼用空気取り入れパイプ54は、第二反
応器34の上部に取りつけられており、第二反応器34
における燃焼を助けるための空気を取り入れるためのパ
イプである。燃焼用空気取り入れパイプ54には、弁5
4aが取りつけられている。弁54aを開けると空気を
取り入れることができ、閉めれば空気を取り入れないこ
とになる。
【0036】生成物採取用パイプ56は、第二反応器3
4の下部に取りつけられている。生成物採取用パイプ5
6は、第一反応器32における反応により生成された炭
酸ガス、水および水素、メタン等の有効ガスを第二反応
器34を介して採取するためのパイプである。生成物採
取用パイプ56には、弁56aが取りつけられている。
弁56aを開けると生成物を採取できる。弁56aを閉
めると生成物を採取しないことになる。
【0037】水供給用パイプ58は、第二反応器34の
下部に水を供給するためのパイプである。水供給用パイ
プ58には、弁58aが取りつけられており、開ければ
第二反応器34の下部に水が供給され、閉めれば水が供
給されない。
【0038】水供給用パイプ59は、超臨界水貯留器1
0の下部に水を供給するためのパイプである。水供給用
パイプ58には、弁59aが取りつけられており、開け
れば超臨界水貯留器10の下部に水が供給され、閉めれ
ば水が供給されない。また、水供給用パイプ59には、
圧力計59bが取りつけられており、水供給用パイプ5
9に流れる水の圧力を計測する。
【0039】処理対象供給部60は、タンク61、オイ
ル62、処理対象供給パイプ64、弁64a、b、圧力
計66a、bを有する。処理対象供給部60は、超臨界
水生成装置1の処理対象であるPCB等のオイルを第一反
応器32に供給する。
【0040】タンク61は超臨界水生成装置1の処理対
象であるPCB等のオイル62を貯留する。タンク61に
は圧力30MPの空気が導入されており、オイル62を処理
対象供給パイプ64に流すための圧力になる。オイル6
2は、超臨界水生成装置1の処理対象であるPCB等のオ
イルである。オイル62の液位は図示省略したレベル計
により計測される。処理対象供給パイプ64は、タンク
61の底部と第一反応器32の下部に開口する。弁64
a、bは処理対象供給パイプ64に設けられており、弁
64a、bを開けるとオイル62が処理対象供給パイプ
64を流れて第一反応器32の下部に至る。圧力計66
a、bはそれぞれ、タンク61内部の圧力および処理対
象供給パイプ64を流れるオイルの圧力を計測する。
【0041】水供給部70は、水供給用パイプ58およ
び59を介して水を第二反応器34の下部および超臨界
水貯留器10の下部に供給する。
【0042】次に、本発明の実施形態の動作を説明す
る。
【0043】まず、弁58aおよび59aを開き、水供
給部70から水を水供給用パイプ58および59を介し
て第二反応器34の下部および超臨界水貯留器10の下
部に供給する。このとき、第二反応器34の下部には図
1に示す水位Lまで水を供給する。
【0044】次に、下部ヒータ14が超臨界水貯留器1
0に水供給用パイプ59から供給された水を加熱して超
臨界水12(200度C、22MP(220気圧))とする。超
臨界水12は、超臨界水貯留器10が開口している上部
に向かって進む。この超臨界水を上部ヒータ16で加熱
し、400度C、22MP(220気圧)とする。
【0045】上部ヒータ16で加熱された超臨界水はさ
らに上方に進み、ノズル20に到達する。ノズル20付
近の拡大図を図2に示す。ノズル部24は上部に行くに
つれて内径が狭くなっていくため、超臨界水の流速は極
めて速くなる。そして、最も狭い内径をとる噴出口24
aから超臨界水が噴出される(実線矢印参照)。
【0046】ここで、弁44(図1参照)を開き、燃焼
ガス、例えば空気およびプロパンガス(C3H8)の混合気
を燃焼ガス供給パイプ42を介して燃焼ガス室40cに
供給する。燃焼ガス室40cに供給された燃焼ガスは、
ノズルカバー40aとノズル部24との隙間を通って
(点線矢印参照)噴出口24aに向かう。
【0047】この時、噴出口24aにおいて、燃焼ガス
中のプロパンガスが燃焼する。しかも、燃焼ガス中の空
気に含まれる酸素がプロパンガスの燃焼を助長する。こ
のような燃焼が、噴出口24aから噴出された超臨界水
において行なわれる。この燃焼により超臨界水の温度お
よび圧力は、400度C、22MPから600度C、30MP(あ
るいは25MP)となる。
【0048】このように、より高温かつ高圧になった超
臨界水は、第一反応器32に入る。ここで、タンク61
に30MPの圧力の空気を入れ、弁64aおよび64bを開
けて、PCB等のオイル62を300度C、30MPで第一反応器
32の下部に処理対象供給パイプ64を介して供給す
る。これにより、より高温かつ高圧になった超臨界水
(600度C、30MP(あるいは25MP))と、PCB等のオイ
ルとが反応する。この反応により、PCB等のオイルは分
解され、炭酸ガス、水および水素、メタン等の有効ガス
が生成される。
【0049】この反応生成物はリークねじ33を通して
第二反応器34に到達する。第二反応器34内部の温度
および圧力(300度C、20MP)は第一反応器32内部
の温度および圧力(600度C、30MP(あるいは25M
P))と比べて低い。第二反応器34における燃焼を助
けるために、適宜、燃焼用空気取り入れパイプ54から
空気を取り入れる。また、第二反応器34における圧力
を一定に保つため、安全弁52aが20MP以上になると
開く。
【0050】第一反応器32における反応物は、第二反
応器34を介して、生成物採取用パイプ56から採取さ
れる。
【0051】本発明の実施形態によれば、ノズル部24
から噴出された超臨界水(400度C、22MP)は超高速
の流体となる。このような超高速の超臨界水に燃焼ガス
(空気とプロパンガスとの混合気)が供給されるため、
超臨界水において燃焼ガス中のプロパンガスが燃焼し、
空気中の酸素が燃焼を助長する。この燃焼により、超臨
界水はさらに高温かつ高圧(600度C、30MP(あるい
は25MP))となる。よって、より高温かつ高圧な超臨界
水を生成できる。これにより、プラスチックを分解反応
させるときであっても迅速な分解反応が行なわれる。
【0052】しかも、第一反応器32は、より高温かつ
高圧な超臨界水を受けるという過酷な条件にさらされ
る。一方、第二反応器34は第一反応器32における反
応生成物を受けるだけなので、さほど過酷な条件にさら
されない。よって、過酷な条件にさらされる部分を第一
反応器32に限定できるため、超臨界水生成装置1を製
造しやすい。
【0053】すなわち、600度C、30MP(あるいは25M
P)の高温かつ高圧に耐えて、長時間耐久性のある、大
きな反応容器を作ることは大変な費用がかかり、高度な
技術を要する。しかし、本発明の実施形態によれば、第
一反応器32だけを600度C、30MPの高温かつ高圧に
耐えるようにすれば、第二反応器34は400度C、22M
Pに耐えればよい。よって、反応器30を小型化でき、
費用も1/10程度にできる。
【0054】なお、本発明の実施形態においては、超臨
界水生成装置1による処理対象としてPCB等のオイルを
挙げた。しかし、処理対象はPCB等のオイルに限定され
ない。例えば、ICなどの電子部品および回路基板も処理
対象にできる。この場合は、処理対象供給パイプ64に
より第一反応器32に電子部品等を入れることは難しい
ため、蓋35を開けて、第一反応器32に入れることに
なる。また、回路基板はガラス繊維を入れたエポキシ材
層と銅板層とを有している。これにより、回路基板を処
理対象とした場合は第一反応器32による反応が終了し
た後に、第一反応器32にガラスおよび金属が別々に回
収できる。
【0055】
【発明の効果】本発明によれば、ノズルから噴出された
超臨界水は超高速の流体となる。このような超高速の超
臨界水に燃焼ガスが供給されるため、超臨界水において
燃焼ガスが燃焼する。この燃焼により、超臨界水はさら
に高温かつ高圧となる。よって、より高温かつ高圧な超
臨界水を生成できる。
【図面の簡単な説明】
【図1】本発明の実施形態にかかる超臨界水生成装置1
の正面断面図である。
【図2】超臨界水生成装置1のノズル部24付近の部分
拡大図である。
【符号の説明】
1 超臨界水生成装置 10 超臨界水貯留器 20 ノズル 24 ノズル部 24a 噴出口 30 反応器 32 第一反応器 34 第二反応器 40 燃焼ガス供給部 40a ノズルカバー 40c 燃焼ガス室 42 燃焼ガス供給パイプ 52 安全用パイプ 52a 安全弁 54 燃焼用空気取り入れパイプ 56 生成物採取用パイプ 58、59 水供給用パイプ 60 処理対象供給部 62 オイル 70 水供給部
───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (51)Int.Cl.7 識別記号 FI テーマコート゛(参考) B01J 3/04 B01J 3/04 H 19/00 19/00 B D 19/26 19/26 B09B 3/00 B09B 3/00 304Z ZAB ZAB Fターム(参考) 4D004 AA22 AA24 AB06 BA05 BA06 CA21 CA39 CB31 CB32 CC03 DA02 DA06 DA07 4G075 AA13 AA22 BA05 CA01 CA05 CA65 CA66 DA02 EA01 EA05 EA06 EB01 EC03

Claims (6)

    【特許請求の範囲】
  1. 【請求項1】超臨界水を噴出するノズルと、 前記ノズルの噴出口に燃焼ガスを供給する燃焼ガス供給
    手段と、 を備えた超臨界水生成装置。
  2. 【請求項2】請求項1に記載の超臨界水生成装置であっ
    て、 前記燃焼ガスはプロパンガスを有する、超臨界水生成装
    置。
  3. 【請求項3】請求項1または2に記載の超臨界水生成装
    置であって、 前記ノズルの噴出を直接受ける第一反応器と、 前記第一反応器における反応生成物を受ける第二反応器
    と、 を備えた超臨界水生成装置。
  4. 【請求項4】請求項3に記載の超臨界水生成装置であっ
    て、 前記第一反応器は、前記第二反応器に比べて耐えられる
    限界が、より高温かつ高圧である、超臨界水生成装置。
  5. 【請求項5】請求項3または4に記載の超臨界水生成装
    置であって、 前記第一反応器は電子部品またはオイルを収容する、超
    臨界水生成装置。
  6. 【請求項6】請求項3または4に記載の超臨界水生成装
    置であって、 前記第一反応器は回路基板を収容する、超臨界水生成装
    置。
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JP2004161553A (ja) * 2002-11-14 2004-06-10 Honda Motor Co Ltd 超臨界水の製造方法

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