JP2003249366A - 有機エレクトロルミネッセント画像表示装置およびその製造方法 - Google Patents

Abstract

(57)【要約】 【課題】 透明電極層の断線がなく、有機エレクトロル
ミネッセンス素子層の安定した発光が得られ、高品質の
画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置と、このような装置を簡便に製造することを可能
とする製造方法を提供する。 【解決手段】 有機エレクトロルミネッセント画像表示
装置を、透明基材上にカラーフィルタ層、色変換蛍光体
層、透明保護層、透明電極層、有機エレクトロルミネッ
センス素子層、および、背面電極層とを順次設けて備え
たものとし、色変換蛍光体層を覆うように透明基材上に
設けられた透明保護層は色変換蛍光体層の端部により生
じた段差部位を有し、透明電極層は透明基材から色変換
蛍光体層に乗り上げるように透明保護層上に帯状に配設
され、金属導電層が上記段差部位において透明電極層の
少なくとも一部を被覆するように配設されたものとす
る。

Description

【発明の詳細な説明】

【０００１】

【発明の属する技術分野】本発明は有機エレクトロルミ
ネッセント画像表示装置とその製造方法に関する。

【０００２】

【従来の技術】有機のエレクトロルミネッセンス（Ｅ
Ｌ）素子は、自己発色により視認性が高いこと、液晶デ
ィスプレーと異なり全固体ディスプレーであること、温
度変化の影響をあまり受けないこと、視野角が大きいこ
と等の利点をもっており、近年、画像表示装置の画素等
としての実用化が進んでいる。有機ＥＬ素子を用いた画
像表示装置としては、（１）三原色の有機ＥＬ素子層を
各発光色毎に所定のパターンで形成したもの、（２）白
色発光の有機ＥＬ素子層を使用し、三原色のカラーフィ
ルタを介して表示するもの、（３）青色発光の有機ＥＬ
素子層を使用し、蛍光色素を利用した色変換蛍光体層を
設置して、青色光を緑色蛍光や赤色蛍光に変換して三原
色表示をするもの等が提案されている。

【０００３】しかし、上記の（１）の有機ＥＬ画像表示
装置では、各発色光の取出し効率は高いものの、各色の
有機ＥＬ素子の特性を均一にすることが難しく、さら
に、微細なパターンで三原色の有機ＥＬ素子層を形成す
る工程が複雑であり、量産化を難しいものとしている。
また、上記の（２）の有機ＥＬ画像表示装置では、白色
光を三原色のカラーフィルタで分解すると、三原色の中
の一色の発光効率が白色光の３分の１に低下して取出し
効率が悪く、このため高効率の白色有機ＥＬ素子が必要
となるが、十分な輝度を安定して得られる白色有機ＥＬ
素子は未だ得られていない。これに対して、上記の
（３）の有機ＥＬ画像表示装置では、色変換蛍光体層の
変換効率が光吸収効率と蛍光効率の積で決定されるた
め、光吸収効率と蛍光効率の高い蛍光色素を使用するこ
とにより、変換効率が非常に高い三原色発光が可能であ
る。

【０００４】ここで、有機ＥＬ素子は、色変換蛍光体層
等から発生する水蒸気、酸素、有機モノマー、低分子成
分等のガスにより劣化するため、色変換蛍光体層上に直
接有機ＥＬ素子層を形成することはできず、色変換蛍光
体層を透明保護層で覆って、上記のガスを遮断する必要
がある。そして、この透明保護層上に透明電極を所定の
パターンで形成し、この透明電極上に有機ＥＬ素子層、
背面電極層が形成されることになる。また、各色に対応
する蛍光体の変換性能に差があり、所望の色調を得るた
めに各色毎に色変換蛍光体層の厚みを異にする必要があ
る場合、色変換蛍光体層間に段差が生じる。このような
段差が存在すると、有機ＥＬ素子層の厚みムラが発生
し、安定した発光が得られないことになるが、上記の透
明保護層を形成することにより、このような段差を解消
することができる。しがたって、有機ＥＬ画像表示装置
では、色変換蛍光体層を覆うように形成されている透明
保護層は必須の構成となっている。

【０００５】

【発明が解決しようとする課題】しかし、光吸収効率と
蛍光効率の高い色変換蛍光体層を得るためには、色変換
蛍光体層を厚くする必要があり、色変換蛍光体層が厚く
なるほど、その端部での段差が大きくなる。そして、こ
の段差の大きさは、色変換蛍光体層を覆うように形成さ
れている透明保護層に反映される。一方、周辺の端子部
から画素領域まで透明保護層上に形成される帯状の透明
電極層は、一般に真空成膜法により透明電極膜を形成
し、これをパターンエッチングすることにより形成され
る。このため、上記の色変換蛍光体層の端部に生じてい
る透明保護層の段差箇所では、成膜不良や、エッチング
処理時の応力等による切断が生じ易く、透明電極層に断
線が発生し易いという問題がある。

【０００６】本発明は、このような実情に鑑みてなされ
たものであり、透明電極層の断線がなく、有機エレクト
ロルミネッセンス素子層の安定した発光が得られ、高品
質の画像表示が可能な有機エレクトロルミネッセント画
像表示装置と、このような装置を簡便に製造することを
可能とする製造方法を提供することを目的とする。

【０００７】

【課題を解決するための手段】このような目的を達成す
るために、本発明の有機エレクトロルミネッセント画像
表示装置は、透明基材と、該透明基材上に順次設けられ
たカラーフィルタ層、色変換蛍光体層、透明保護層、透
明電極層、有機エレクトロルミネッセンス素子層、およ
び、背面電極層とを少なくとも備え、前記色変換蛍光体
層を覆うように前記透明基材上に設けられた前記透明保
護層は前記色変換蛍光体層の端部により生じた段差部位
を有し、前記透明電極層は前記透明基材から前記色変換
蛍光体層に乗り上げるように前記透明保護層上に帯状に
配設され、前記段差部位において前記透明電極層の少な
くとも一部を被覆するように金属導電層が配設されてい
るような構成とした。

【０００８】本発明の他の態様として、前記金属電極層
は、前記背面電極層と同じ材質からなるような構成とし
た。本発明の他の態様として、前記透明基材と前記カラ
ーフィルタとの間に、所定の開口パターンを有するブラ
ックマトリックスを備えるような構成とした。本発明の
他の態様として、前記有機エレクトロルミネッセンス素
子層は青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を
緑色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤
色蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えているよ
うな構成とした。

【０００９】本発明の有機エレクトロルミネッセント画
像表示装置の製造方法は、透明基材上に複数色の着色層
を色毎に帯状に形成してカラーフィルタ層を設け、前記
カラーフィルタ層上に色変換蛍光体層を設ける工程、該
色変換蛍光体層を覆うように前記透明基材上に透明保護
層を形成し、前記色変換蛍光体層の端部により前記透明
保護層に生じた段差部位を前記透明基材から前記色変換
蛍光体層に乗り上げるように前記透明保護層上に帯状の
透明電極層を形成する工程、該透明電極層と交差するよ
うに所定の間隔を設けて複数の第１隔壁部を形成すると
ともに、前記第１隔壁部に対して直角方向で前記段差部
位に跨る部位に位置し、かつ、前記透明電極層の幅方向
両側に位置するように複数の第２隔壁部を形成する工
程、前記第１隔壁部が形成されている領域に有機エレク
トロルミネッセンス素子層形成用の材料を用いて成膜す
ることにより、前記第１隔壁部をマスクとして前記透明
電極層と交差するように有機エレクトロルミネッセンス
素子層を帯状に形成する工程、前記第１隔壁部および前
記第２隔壁部が形成されている領域に背面電極層形成用
の材料を用いて成膜することにより、前記第１隔壁部を
マスクとして前記有機エレクトロルミネッセンス素子層
上に背面電極層を形成するとともに、前記第２隔壁部を
マスクとして前記段差部位において前記透明電極層の少
なくとも一部を被覆するように金属導電層を形成する工
程、とを有するような構成とした。上記のような本発明
では、金属導電層が透明保護層の段差部位における透明
電極層の厚み不足や断線による導通不良を補修して良好
な導通を確保する作用をなす。

【００１０】

【発明の実施の形態】以下、本発明について図面を参照
しながら説明する。有機エレクトロルミネッセント画像表示装置 図１は、本発明の有機エレクトロルミネッセント（Ｅ
Ｌ）画像表示装置の一実施形態を示す部分平面図であ
り、図２は図１に示される有機ＥＬ画像表示装置のII−
II線における縦断面図であり、図３は図１に示される有
機ＥＬ画像表示装置のIII−III線における縦断面図であ
る。尚、図１では、後述する補助電極７、透明電極層８
を示すために、青色有機ＥＬ素子層１０と背面電極層１
１の一部を切り欠いた状態で示している。図１〜図３に
おいて、有機ＥＬ画像表示装置１は、透明基材２と、こ
の透明基材２上に所定の開口パターンを備えたブラック
マトリックス３を介して帯状の赤色着色層４Ｒ、緑色着
色層４Ｇ、青色着色層４Ｂからなるカラーフィルタ層４
が設けられている。

【００１１】このカラーフィルタ層４上には、赤色変換
蛍光体層５Ｒ、緑色変換蛍光体層５Ｇと青色変換ダミー
層５Ｂからなる色変換蛍光体層５が形成されている。こ
の色変換蛍光体層５を構成する各層は、赤色着色層４Ｒ
上に赤色変換蛍光体層５Ｒが、緑色着色層４Ｇ上に緑色
変換蛍光体層５Ｇが、青色着色層４Ｂ上に青色変換ダミ
ー層５Ｂがそれぞれ帯状に配設されている。このような
カラーフィルタ層４と色変換蛍光体層５との位置関係を
図４に示す。図４に示される帯状の色変換蛍光体層５の
端部５ａでは、段差が生じている。但し、図４では、ブ
ラックマトリックス３、カラーフィルタ層４の状態を示
すために、色変換蛍光体層５の一部を切り欠いた状態で
示している。

【００１２】このような色変換蛍光体層５とを覆うよう
に透明保護層６が透明基材２上に設けられ、この透明保
護層６上に補助電極７および透明電極層８が形成されて
いる。図５は、このように補助電極７と透明電極層８が
透明保護層６上に形成されている状態を示す部分平面図
である。図５に示されるように、透明保護層６は色変換
蛍光体層５の端部５ａにより生じた段差部位６ａ（図５
に斜線を付して示した部位）を有している。そして、補
助電極７と透明電極層８は周辺の端子部から中央の画素
領域まで透明保護層６上に帯状に配設され、上記の段差
部位６ａにおいて透明基材２（周辺端子部）から色変換
蛍光体層５（画素領域）に乗り上げている。図２では、
上記の段差部位６ａにおいて透明電極層８に切断が生じ
ており、透明電極層８の切断端部８ａ，８ｂが存在する
ものとして示しているが、段差部位６ａにおける透明電
極層８の状態としては、図示のように完全に断線してい
る状態以外に、一部断線している状態、断線していない
ものの膜厚が薄い状態等がある。

【００１３】また、本発明の有機ＥＬ画像表示装置１で
は、上記のように配設された帯状の透明電極層８と直角
に交差し、ブラックマトリックス３の開口部上に位置す
るように帯状の青色有機ＥＬ素子層１０と背面電極層１
１とが透明保護層６上に形成されている。また、帯状の
透明電極層８と直角に交差し、ブラックマトリックス３
の遮光部上に位置するように、絶縁層１３を介して第１
隔壁部１５が透明保護層６上に形成されている。この第
１隔壁部１５の上部平面にはダミーの有機ＥＬ素子層１
０′と背面電極層１１′とが形成されており、これら
は、第１隔壁部１５をパターニング手段として利用した
青色有機ＥＬ素子層１０および背面電極層１１の形成に
おいて、帯状のパターンを形成するために、形成材料を
透明電極層８上に到達しないよう第１隔壁部１５に付着
させて排除した結果形成されたものである。

【００１４】尚、図示例では、絶縁層１３は第１隔壁部
１５の形成部位のみにストライプ状に設けられている
が、これに限定されるものではなく、透明電極層８と背
面電極層１１とが青色有機ＥＬ素子層１０を介して交差
する各部位（絵素）に開口をもつような格子形状のパタ
ーンからなる絶縁層１３であってもよい。

【００１５】また、本発明の有機ＥＬ画像表示装置１で
は、図１および図２に示すように、上記のように配設さ
れた帯状の透明電極層８のうち、上記の段差部位６ａに
位置する透明電極層８を被覆するように金属導電層１２
が設けられている。図５では、このように透明電極層８
上に形成されている金属導電層１２と段差部位６ａとの
位置関係を明確にするために、金属導電層１２を２点鎖
線で表示している。これにより、透明電極層８の切断端
部８ａと切断端部８ｂとの間が金属導電層１２により補
修されて導通が確保されている（上記の図２を参照）。
また、図１および図２に示されるように、段差部位６ａ
に跨る部位に位置し、かつ、透明電極層８の幅方向両側
に位置するように複数の第２隔壁部１６が、第１隔壁部
１５に対して直角方向に形成されている。この第２隔壁
部１６の上部平面にはダミーの金属導電層１２′が形成
されており、これは、第２隔壁部１６をパターニング手
段として利用した金属導電層１２の形成において、段差
部位６ａに跨るパターンを形成し、かつ、形成材料が隣
り合う透明電極層８間に跨らないよう第２隔壁部１６に
付着させて排除した結果形成されたものである。尚、図
示例では、段差部位６ａに位置する透明電極層８が金属
導電層１２によりほぼ完全に被覆されているが、本発明
ではこれに限定されるものではなく、段差部位６ａを跨
るようにして透明電極層８を覆うものであればよく、金
属導電層１２の幅は特に制限はない。

【００１６】上述のような本発明の有機ＥＬ画像表示装
置１では、青色有機ＥＬ素子層１０で発光された青色光
が、赤色変換蛍光体層５Ｒにて赤色蛍光とされ、緑色変
換蛍光体層５Ｇにて緑色蛍光とされ、青色変換ダミー層
５Ｂでは青色光がそのまま透過し、その後、各色の光は
カラーフィルタ層４にて色補正されて三原色表示がなさ
れる。そして、段差部位６ａの透明電極層８の少なくと
も一部を覆うように金属導電層１２が形成されているの
で、透明保護層６の段差部位６ａを乗り越えるように形
成された透明電極層８に、その形成時の成膜不良（付着
不良）やエッチング処理時の応力等により、導通不良あ
るいは切断が発生していても、この金属導電層１２によ
って透明電極層８の良好な導通が確保される。このた
め、透明保護層６上に形成されている帯状の透明電極層
８は、透明基材２から色変換蛍光体層５に乗り上げる段
差部位での断線がなく、信頼性が高く、高品質の画像表
示が可能である。尚、上述の実施形態では、ブラックマ
トリックス３を介してカラーフィルタ４等の各構成層が
設けられているが、ブラックマトリックス３を備えない
形態であってもよい。

【００１７】さらに、色変換蛍光体層５は、青色有機Ｅ
Ｌ素子層１０からの青色発光を赤色蛍光、緑色蛍光に変
換する赤色変換蛍光体層５Ｒと緑色変換蛍光体層５Ｇを
備えているが、これに限定されるものではなく、発光
（青色）波長よりも長波長の蛍光へ変換できる色変換蛍
光体層を備えるものであればよい。そして、色変換蛍光
体層５からの各色の光を色補正して色純度を高めるカラ
ーフィルタ層４との組み合わせを適正なものに設定する
ことにより、三原色表示を行うことができる。

【００１８】次に、本発明の有機ＥＬ画像表示装置１の
各構成部材について説明する。有機ＥＬ画像表示装置１
を構成する透明基材２は、光透過性を有するガラス材
料、樹脂材料、これらの複合材料からなるものを使用す
ることができる。透明基材２の厚みは、材料、画像表示
装置の使用状況等を考慮して設定することができ、例え
ば、０．２〜２．０ｍｍ程度とすることができる。ま
た、カラーフィルタ層４は、色変換蛍光体層５からの各
色の光を色補正して色純度を高めるものである。カラー
フィルタ層４を構成する青色着色層４Ｂ、赤色着色層４
Ｒ、緑色着色層４Ｇは、青色有機ＥＬ素子層１０からの
青色発光、赤色変換蛍光体層５Ｒからの赤色蛍光、およ
び、緑色変換蛍光体層５Ｇからの緑色蛍光の特性に応じ
て適宜材料を選択して形成することができ、例えば、ア
ゾ系、フタロシアニン系、アントラキノン系等の顔料の
１種または複数種を感光性樹脂に分散して調製した樹脂
組成物を用いて形成することができる。

【００１９】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する色変換
蛍光体層５のうち、赤色変換蛍光体層５Ｒおよび緑色変
換蛍光体層５Ｇは、蛍光色素単体からなる層、あるい
は、樹脂中に蛍光色素を含有した層である。青色発光を
赤色蛍光に変換する赤色変換蛍光体層５Ｒに使用する蛍
光色素としては、４−ジシアノメチレン−２−メチル−
６−（ｐ−ジメチルアミノスチリル）−４Ｈ−ピラン等
のシアニン系色素、１−エチル−２−［４−（ｐ−ジメ
チルアミノフェニル）−１，３−ブタジエニル］−ピリ
ジウム−パークロレート等のピリジン色素、ローダミン
Ｂ、ローダミン６Ｇ等のローダミン系色素、オキサジン
系色素等が挙げられる。また、青色発光を緑色蛍光に変
換する緑色変換蛍光体層５Ｇに使用する蛍光色素として
は、２，３，５，６−１Ｈ，４Ｈ−テトラヒドロ−８−
トリフルオロメチルキノリジノ（９，９ａ，１−ｇｈ）
クマリン、３−（２′−ベンゾチアゾリル）−７−ジエ
チルアミノクマリン、３−（２′−ベンズイミダゾリ
ル）−７−Ｎ，Ｎ−ジエチルアミノクマリン等のクマリ
ン色素、ベーシックイエロー５１等のクマリン色素系染
料、ソルベントイエロー１１、ソルベントイエロー１１
６等のナフタルイミド色素等が挙げられる。さらに、直
接染料、酸性染料、塩基性染料、分散染料等の各種染料
も蛍光性があれば使用することができる。上述のような
蛍光色素は単独、あるいは、２種以上の組み合わせで使
用することができる。赤色変換蛍光体層５Ｒおよび緑色
変換蛍光体層５Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したもので
ある場合、蛍光色素の含有量は、使用する蛍光色素、色
変換蛍光体層の厚み等を考慮して適宜設定することがで
きるが、例えば、使用する樹脂に対し０．１〜１０重量
％程度とすることができる。

【００２０】また、青色変換ダミー層５Ｂは、青色有機
ＥＬ素子層１０で発光された青色光をそのまま透過して
カラーフィルタ層４に送るものであり、赤色変換蛍光体
層５Ｒ、緑色変換蛍光体層５Ｇとほぼ同じ厚みの透明樹
脂層とすることができる。赤色変換蛍光体層５Ｒおよび
緑色変換蛍光体層５Ｇが樹脂中に蛍光色素を含有したも
のである場合、樹脂としては、ポリメチルメタクリレー
ト、ポリアクリレート、ポリカーボネート、ポリビニル
アルコール、ポリビニルピロリドン、ヒドロキシエチル
セルロース、カルボキシメチルセルロース、ポリ塩化ビ
ニル樹脂、メラミン樹脂、フェノール樹脂、アルキド樹
脂、エポキシ樹脂、ポリウレタン樹脂、ポリエステル樹
脂、マレイン酸樹脂、ポリアミド樹脂等の透明（可視光
透過率５０％以上）樹脂を使用することができる。ま
た、色変換蛍光体層５のパターン形成をフォトリソグラ
フィー法により行う場合、例えば、アクリル酸系、メタ
クリル酸系、ポリケイ皮酸ビニル系、環ゴム系等の反応
性ビニル基を有する光硬化型レジスト樹脂を使用するこ
とができる。さらに、これらの樹脂は、上述の青色変換
ダミー層５Ｂに使用することができる。

【００２１】このような色変換蛍光体層５の厚みは、赤
色変換蛍光体層５Ｒおよび緑色変換蛍光体層５Ｇが青色
有機ＥＬ素子層１０で発光された青色光を十分に吸収し
蛍光を発生する機能が発現できるものとする必要があ
り、使用する蛍光色素、蛍光色素濃度等を考慮して適宜
設定することができ、例えば、２〜１５μｍ程度とする
ことができ、赤色変換蛍光体層５Ｒと緑色変換蛍光体層
５Ｇとの厚みが異なる場合があってもよい。

【００２２】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する透明保
護層６は、色変換蛍光体層５等から発生する水蒸気、酸
素、有機モノマー、低分子成分等のガスを遮断して青色
有機ＥＬ素子層１０が劣化するのを防止する保護作用
と、色変換蛍光体層５以下の構成により段差（表面凹
凸）が存在する場合に、この段差を解消して平坦化を図
り、青色有機ＥＬ素子層１０の厚みムラ発生を防止する
平坦化作用をなすものである。このような透明保護層６
は、透明（可視光透過率５０％以上）樹脂により形成す
ることができる。具体的には、アクリレート系、メタク
リレート系の反応性ビニル基を有する光硬化型樹脂、熱
硬化型樹脂を使用することができる。また、透明樹脂と
して、ポリメチルメタクリレート、ポリアクリレート、
ポリカーボネート、ポリビニルアルコール、ポリビニル
ピロリドン、ヒドロキシエチルセルロース、カルボキシ
メチルセルロース、ポリ塩化ビニル樹脂、メラミン樹
脂、フェノール樹脂、アルキド樹脂、エポキシ樹脂、ポ
リウレタン樹脂、ポリエステル樹脂、マレイン酸樹脂、
ポリアミド樹脂等を使用することができる。透明保護層
６は、青色有機ＥＬ素子層１０と色変換蛍光体層５との
ギャップによる発光漏れを防止する点から、上記の保護
作用、平坦化作用を発現できる範囲で膜厚は薄い方が好
ましく、例えば、０．５〜１０μｍの範囲とすることが
できる。

【００２３】本発明では、上記の透明保護層６上に絶縁
性の透明バリアー層として無機酸化物膜を設けることが
好ましい。この無機酸化物膜は、酸化珪素、酸化アルミ
ニウム、酸化チタン、酸化イットリウム、酸化ゲルマニ
ウム、酸化亜鉛、酸化マグネシウム、酸化カルシウム、
酸化ホウ素、酸化ストロンチウム、酸化バリウム、酸化
鉛、酸化ジルコニウム、酸化ナトリウム、酸化リチウ
ム、酸化カリウム等の１種あるいは２種以上の酸化物を
用いて形成することができ、特に酸化珪素、酸化アルミ
ニウム、酸化チタンが好適に使用できる。無機酸化物膜
の厚みは、バリアー性と透明性とを考慮して０．０１〜
２００μｍの範囲で適宜設定することができる。このよ
うな無機酸化物膜は２層以上の多層構成であってもよ
く、また、窒化珪素等の窒化物を副成分として含有した
ものであってもよい。

【００２４】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する補助電
極７は、一般には、金属材料が用いられ、金、銀、銅、
マグネシウム合金（ＭｇＡｇ等）、アルミニウム合金
（ＡｌＬｉ、ＡｌＣａ、ＡｌＭｇ等）、金属カルシウム
等を挙げることができる。このような補助電極７は、周
辺の端子部から中央の画素領域までブラックマトリック
ス３の遮光部分上に位置するように配設されている。

【００２５】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する透明電
極層８の材料としては、仕事関数の大きい（４ｅＶ以
上）金属、合金、これらの混合物を使用することがで
き、例えば、酸化インジウムスズ（ＩＴＯ）、酸化イン
ジウム、酸化亜鉛、酸化第二スズ等の導電材料を挙げる
ことができる。この透明電極層８は、周辺の端子部から
中央の画素領域までブラックマトリックス３の開口部分
上および上記補助電極７上に位置するように帯状に配設
されている。このような透明電極層８はシート抵抗が数
百Ω／□以下が好ましく、材質にもよるが、透明電極層
８の厚みは、例えば、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは１
０〜２００ｎｍ程度とすることができる。

【００２６】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する青色有
機ＥＬ素子層１０は、発光層単独からなる構造、発光層
の透明電極層８側に正孔注入層を設けた構造、発光層の
背面電極層１１側に電子注入層を設けた構造、発光層の
透明電極層８側に正孔注入層を設け、背面電極層１１側
に電子注入層を設けた構造等とすることができる。青色
有機ＥＬ素子層１０を構成する発光層は、以下の機能を
併せ持つものである。 ・注入機能：電界印加時に陽極または正孔注入層より正
孔を注入することができ、陰極または電子注入層より電
子を注入することができる機能 ・輸送機能：注入した電荷（電子と正孔）を電界の力で
移動させる機能 ・発光機能：電子と正孔の再結合の場を提供し、これを
発光につなげる機能

【００２７】このような機能をもつ発光層の材料として
は、例えば、特開平８−２７９３９４号公報に開示され
ているベンゾチアゾール系、ベンゾイミダゾール系、ベ
ンゾオキサゾール系等の蛍光増白剤、金属キレート化オ
キシノイド化合物、スチリルベンゼン系化合物、ジスチ
リルピラジン誘導体、芳香族ジメチリディン系化合物等
を挙げることができる。

【００２８】具体的には、２−２′−（ｐ−フェニレン
ジビニレン）−ビスヘンゾチアゾール等のベンゾチアゾ
ール系； ２−［２−［４−（２−ベンゾイミダゾリ
ル）フェニル］ビニル］ベンゾイミダゾール、２−［２
−（４−カルボキシフェニル）ビニル］ベンゾイミダゾ
ール等のベンゾイミダゾール系； ２，５−ビス（５，
７−ジ−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）−
１，３，４−チアジアゾール、４，４′−ビス（５，７
−ｔ−ペンチル−２−ベンゾオキサゾリル）スチルベ
ン、２−［２−（４−クロロフェニル）ビニル］ナフト
［１，２−ｄ］オキサゾール等のベンゾオキサゾール系
等の蛍光増白剤を挙げることができる。

【００２９】また、上記の金属キレート化オキシノイド
化合物としては、トリス（８−キノリノール）アルミニ
ウム、ビス（８−キノリノール）マグネシウム、ビス
（ベンゾ［ｆ］−８−キノリノール）亜鉛等の８−ヒド
ロキシキノリン系金属錯体やジリチウムエピントリジオ
ン等を挙げることができる。また、上記のスチリルベン
ゼン系化合物としては、１，４−ビス（２−メチルスチ
リル）ベンゼン、１，４−ビス（３−メチルスチリル）
ベンゼン、１，４−ビス（４−メチルスチリル）ベンゼ
ン、ジスチリルベンゼン、１，４−ビス（２−エチルス
チリル）ベンゼン、１，４−ビス（３−エチルスチリ
ル）ベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリル）−
２−メチルベンゼン、１，４−ビス（２−メチルスチリ
ル）−２−エチルベンゼン等を挙げることができる。

【００３０】また、上記のジスチリルピラジン誘導体と
しては、２，５−ビス（４−メチルスチリル）ピラジ
ン、２，５−ビス（４−エチルスチリル）ピラジン、
２，５−ビス［２−（１−ナフチル）ビニル］ピラジ
ン、２，５−ビス（４−メトキシスチリル）ピラジン、
２，５−ビス［２−（４−ビフェニル）ビニル］ピラジ
ン、２，５−ビス［２−（１−ピレニル）ビニル］ピラ
ジン等を挙げることができる。また、上記の芳香族ジメ
チリディン系化合物としては、１，４−フェニレンジメ
チリディン、４，４−フェニレンジメチリディン、２，
５−キシレンジメチリディン、２，６−ナフチレンジメ
チリディン、１，４−ビフェニレンジメチリディン、
１，４−ｐ−テレフェニレンジメチリディン、９，１０
−アントラセンジイルジルメチリディン、４，４′−ビ
ス（２，２−ジ−ｔ−ブチルフェニルビニル）ビフェニ
ル、４，４′−ビス（２，２−ジフェニルビニル）ビフ
ェニル等、およびその誘導体を挙げることができる。

【００３１】さらに、発光層の材料として、特開平５−
２５８８６２号公報に記載されている一般式（Ｒｓ−
Ｑ）２−ＡＬ−Ｏ−Ｌで表される化合物も挙げることが
できる（上記式中、ＡＬはベンゼン環を含む炭素原子６
〜２４個の炭化水素であり、Ｏ−Ｌはフェニラート配位
子であり、Ｑは置換８−キノリノラート配位子であり、
Ｒｓはアルミニウム原子に置換８−キノリノラート配位
子が２個以上結合するのを立体的に妨害するように選ば
れた８−キノリノラート置換基を表す）。具体的には、
ビス（２−メチル−８−キノリノラート）（パラーフェ
ニルフェノラート）アルミニウム（III）、ビス（２−
メチル−８−キノリノラート）（１−ナフトラート）ア
ルミニウム（III）等が挙げられる。発光層の厚みは特
に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすること
ができる。

【００３２】正孔注入層の材料としては、従来より光伝
導材料の正孔注入材料として使用されているものや有機
ＥＬ素子の正孔注入層に使用されている公知のものの中
から任意のものを選択して使用することがでる。正孔注
入層の材料は、正孔の注入、電子の障壁性のいずれかを
有するものであり、有機物あるいは無機物のいずれであ
ってもよい。具体的には、トリアゾール誘導体、オキサ
ジアゾール誘導体、イミダゾール誘導体、ポリアリール
アルカン誘導体、ピラゾリン誘導体、ピラゾロン誘導
体、フェニレンジアミン誘導体、アリールアミン誘導
体、アミノ置換カルコン誘導体、オキサゾール誘導体、
スチリルアントラセン誘導体、フルオレノン誘導体、ヒ
ドラゾン誘導体、スチルベン誘導体、シラザン誘導体、
ポリシラン系、アニリン系共重合体、チオフェンオリゴ
マー等の誘電性高分子オリゴマー等、を挙げることがで
きる。

【００３３】さらに、正孔注入層の材料として、ポリフ
ィリン化合物、芳香族第三級アミン化合物、スチリルア
ミン化合物を挙げることもできる。上記のポリフィリン
化合物としては、ポリフィン、１，１０，１５，２０−
テトラフェニル−２１Ｈ、２３Ｈ−ポリフィン銅（I
I）、アルミニウムフタロシアニンクロリド、銅オクタ
メチルフタロシアニン等を挙げることができる。また、
芳香族第三級アミン化合物およびスチリルアミン化合物
としては、Ｎ，Ｎ，Ｎ′，Ｎ′−テトラフェニル−４，
４′−ジアミノフェニル、Ｎ，Ｎ′−ジフェニル−Ｎ，
Ｎ′−ビス（３−メチルフェニル）−［１，１′−ビフ
ェニル］−４，４′−ジアミン、４−（ジ−ｐ−トリル
アミノ）−４′−［４（ジ−ｐ−トリルアミノ）スチリ
ル］スチルベン、３−メトキシ−４′−Ｎ，Ｎ−ジフェ
ニルアミノスチルベンゼン、４，４′−ビス［Ｎ−（１
−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニル、４，
４′，４″−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ
−フェニルアミノ］トリフェニルアミン等を挙げること
ができる。正孔注入層の厚みは特に制限はなく、例え
ば、５ｎｍ〜５μｍ程度とすることができる。

【００３４】また、電子注入層の材料としては、陰極よ
り注入された電子を発光層に伝達する機能を有していれ
ばよく、その材料としては従来公知の化合物の中から任
意のものを選択して使用することができる。具体的に
は、ニトロ置換フルオレン誘導体、アントラキノジメタ
ン誘導体、ジフェニルキノン誘導体、チオピランジオキ
シド誘導体、ナフタレンペリレン等の複素環テトラカル
ボン酸無水物、カルボジイミド、フレオレニリデンメタ
ン誘導体、アントラキノジメタンおよびアントロン誘導
体、オキサジアゾール誘導体、上記のオキサジアゾール
環の酸素原子をイオウ原子に置換したチアゾール誘導
体、電子吸引基として知られているキノキサリン環を有
したキノキサリン誘導体、トリス（８−キノリノール）
アルミニウム等の８−キノリノール誘導体の金属錯体、
フタロシアニン、金属フタロシアニン、ジスチリルピラ
ジン誘導体等を挙げることができる。電子注入層の厚み
は特に制限はなく、例えば、５ｎｍ〜５μｍ程度とする
ことができる。

【００３５】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する背面電
極層１１の材料としては、仕事関数の小さい（４ｅＶ以
下）金属、合金、これらの混合物で形成される。具体的
には、ナトリウム、ナトリウム−カリウム合金、マグネ
シウム、リチウム、マグネシウム／銅混合物、マグネシ
ウム／銀混合物、マグネシウム／アルミニウム混合物、
マグネシウム／インジウム混合物、アルミニウム／酸化
アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）混合物、インジウム、リチウ
ム／アルミニウム混合物、希土類金属等が挙げられる。
電子注入性および電極としての酸化等に対する耐久性を
考えると、電子注入性金属と、これより仕事関数の値が
大きく安定な金属である第二金属との混合物が好まし
く、例えば、マグネシウム／銀混合物、マグネシウム／
アルミニウム混合物、マグネシウム／インジウム混合
物、アルミニウム／酸化アルミニウム（Ａｌ₂Ｏ₃）混合
物、リチウム／アルミニウム混合物等が挙げられる。こ
のような背面電極層１１はシート抵抗が数百Ω／□以下
が好ましく、このため、背面電極層１１の厚みは、例え
ば、１０ｎｍ〜１μｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍ程
度とすることができる。

【００３６】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する金属導
電層１２は、上記の背面電極層１１と同様の材料により
形成することができ、厚みは、例えば、１０ｎｍ〜１μ
ｍ、好ましくは５０〜２００ｎｍ程度とすることができ
る。有機ＥＬ画像表示装置１を構成する絶縁層１３は、
ブラックマトリックス３の遮光部上に位置するように形
成されている。この絶縁層１３は、例えば、上述の透明
保護層６と同様の感光性樹脂およびポリイミド樹脂等の
感光性樹脂を用いて形成することができ、厚みは０．３
〜２．０μｍ程度とすることができる。

【００３７】有機ＥＬ画像表示装置１を構成する第１隔
壁部１５は、後述する本発明の製造方法において、帯状
の透明電極層８と直角に交差するように青色有機ＥＬ素
子層１０と背面電極層１１とを帯状に形成するための隔
壁パターンである。また、第２隔壁部１６は、後述する
本発明の製造方法において、帯状の透明電極層８のう
ち、透明保護層６の段差部位６ａに位置する透明電極層
８を被覆するように金属導電層１２を形成するための隔
壁パターンである。このような第１隔壁部１５および第
２隔壁部１６は、上述の透明保護層６と同様の感光性樹
脂、または、上記感光性樹脂に染料、顔料、カーボンブ
ラック等を添加した感光性樹脂を使用してフォトリソグ
ラフィー法により形成することができ、高さは２．０〜
１０．０μｍ程度とすることができる。また、第１隔壁
部１５の幅は、ブラックマトリックス３の遮光部の幅等
に応じて設定することができ、通常、１０〜１００μｍ
程度とすることができ、第２隔壁部１６の幅は、帯状の
透明電極層８の形成間隔や幅、形成しようとする金属導
電層１２の幅等を考慮して設定でき、通常、第１隔壁部
１５の幅と同一に設定することができる。

【００３８】有機エレクトロルミネッセント画像表示装
置の製造方法 次に、本発明の有機エレクトロルミネッセント（ＥＬ）
画像表示装置の製造方法の一実施形態を、上述の有機Ｅ
Ｌ画像表示装置１を例として図面を参照しながら説明す
る。 （１） 本発明の製造方法の最初の工程では、図６に示
すように、透明基材２上にブラックマトリックス３を介
してカラーフィルタ層４を形成する。その後、カラーフ
ィルタ層４上に帯状の赤色変換蛍光体層５Ｒ、緑色変換
蛍光体層５Ｇと青色変換ダミー層５Ｂからなる色変換蛍
光体層５を形成する（上記の図４参照）。尚、図６で
は、ブラックマトリックス３の状態を示すために、赤色
着色層４Ｒの一部を切り欠いた状態で示している。

【００３９】ブラックマトリックス３は所定のパターン
で開口部３ａと遮光部３ｂを備えている。このようなブ
ラックマトリックス３は、スパッタリング法、真空蒸着
法等により厚み１０００〜２０００Å程度のクロム等の
金属薄膜、または、酸化クロム等の金属酸化物薄膜を形
成し、この薄膜をパターニングして形成したもの、カー
ボン微粒子等の遮光性粒子を含有させたポリイミド樹
脂、アクリル樹脂、エポキシ樹脂等の樹脂層を形成し、
この樹脂層をパターニングして形成したもの、カーボン
微粒子、金属酸化物等の遮光性粒子を含有させた感光性
樹脂層を形成し、この感光性樹脂層をパターニングして
形成したもの等、いずれであってもよい。また、カラー
フィルタ層４は、赤色着色層４Ｒ、緑色着色層４Ｇおよ
び青色着色層４Ｂがそれぞれブラックマトリックス３の
開口部３ａを覆うように帯状に配列されており、所望の
着色材を含有した感光性樹脂を使用した顔料分散法によ
り形成することができ、さらに、印刷法、電着法、転写
法等の公知の方法により形成することができる。このよ
うなカラーフィルタ層４の厚みは、各着色層の材料、色
変換蛍光体層５から発光される蛍光等に応じて適宜設定
することができ、例えば、１．０〜２．０μｍ程度の範
囲で設定することができる。

【００４０】色変換蛍光体層５の形成では、赤色変換蛍
光体層５Ｒが赤色着色層４Ｒ上に配設され、緑色変換蛍
光体層５Ｇが緑色着色層４Ｇ上に配設され、青色変換ダ
ミー層５Ｂが青色着色層４Ｂ上に配設されるようにす
る。色変換蛍光体層５を構成する赤色変換蛍光体層５Ｒ
と緑色変換蛍光体層５Ｇは、蛍光色素単体で形成する場
合、例えば、所望のパターンマスクを介して真空蒸着
法、スパッタリング法により帯状に形成することができ
る。また、樹脂中に蛍光色素を含有した層として形成す
る場合、例えば、蛍光色素と樹脂とを分散、または可溶
化させた塗布液をスピンコート、ロールコート、キャス
トコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソ
グラフィー法でパターニングする方法、上記の塗布液を
スクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等により赤
色変換蛍光体層５Ｒや緑色変換蛍光体層５Ｇを形成する
ことができる。また、青色変換ダミー層５Ｂは、所望の
感光性樹脂塗料をスピンコート、ロールコート、キャス
トコート等の方法で塗布して成膜し、これをフォトリソ
グラフィー法でパターニングする方法、所望の樹脂塗布
液をスクリーン印刷法等でパターン印刷する方法等によ
り形成することができる。

【００４１】（２） 本発明の製造方法の次の工程で
は、色変換蛍光体層５を覆うように透明基材２上に透明
保護層６を形成し、その後、上記の色変換蛍光体層５の
端部により透明保護層６に生じた段差部位６ａを透明基
材２から色変換蛍光体層５に乗り上げるように、透明保
護層６上に補助電極７と透明電極層８を形成する（上記
の図５参照）。上記の透明保護層６の形成は、上述の使
用材料が液状の場合、スピンコート、ロールコート、キ
ャストコート等の方法で塗布して成膜し、光硬化型樹脂
は紫外線照射後に必要に応じて熱硬化させ、熱硬化型樹
脂は成膜後そのまま硬化させる。また、使用材料がフィ
ルム状に成形されている場合、直接、あるいは粘着剤を
介して貼着することができる。このように色変換蛍光体
層５を覆うように透明基材２上に形成された透明保護層
６は、色変換蛍光体層５の端部５ａにより段差部位６ａ
が生じたものとなる（上記の図２参照）。

【００４２】補助電極７および透明電極層８は、上述の
材料を用いて真空蒸着法、スパッタリング法により薄膜
を形成し、これをフォトリソグラフィー法を用いたパタ
ーンエッチングで所望の形状とすることができる。上述
のように透明保護層６には段差部位６ａが生じているの
で、補助電極７や透明電極層８の形成時の成膜不良（段
差部分での材料付着不良）、および、パターンエッチン
グ時の応力等による切断が生じ易い。このため、膜厚低
下による高抵抗化、あるいは、断線が発生し易いものと
なる。

【００４３】（３） 本発明の製造方法の次の工程で
は、まず、帯状の透明電極層８と直角に交差し、ブラッ
クマトリックス３の遮光部上に位置するようにストライ
プ状の絶縁層１３を形成する。次いで、この絶縁層１３
上に第１障壁部１５を形成するとともに、段差部位６ａ
に跨る部位に位置し、かつ、透明電極層８の幅方向両側
に位置するように複数の第２隔壁部１６を第１隔壁部１
５に対して直角方向に形成する。上記の絶縁層１３は、
上述の絶縁材料を用いて真空蒸着法、スパッタリング法
等により薄膜を形成し、これをフォトリソグラフィー法
を用いたパターンエッチングで所望の形状とすることが
できる。

【００４４】また、第１障壁部１５および第２隔壁部１
６は、上述の感光性樹脂材料をスピンコート、ロールコ
ート、キャストコート等の方法で塗布して成膜し、これ
をフォトリソグラフィー法でパターニングして形成する
ことができる。このように形成された第１障壁部１５
は、ブラックマトリックス３の遮光部上に位置する。し
たがって、ブラックマトリックス３の開口部３ａに位置
している透明電極層８は、第１障壁部１５が形成されず
に露出しているものとなる。また、第２隔壁部１６は、
透明保護層６の段差部位６ａに跨る部位に位置している
透明電極層８の所望の部位を露出させている。

【００４５】（４） 本発明の製造方法の次の工程で
は、第１隔壁部１５が形成されている領域に有機エレク
トロルミネッセンス素子層形成用の材料を用いて成膜す
ることにより、第１隔壁部１５をマスクとして透明電極
層８と交差するように青色有機ＥＬ素子層１０を帯状に
形成する（上記の図１および図２参照）。青色有機ＥＬ
素子層１０の形成は、上述した発光層材料を用いて真空
蒸着法、インクジェット等の印刷法等により成膜して形
成することができる。この方法では、画像表示領域に相
当する開口部を備えたフォトマスク（周辺部の補助電極
７や透明電極層８からなる電極端子への成膜を防止する
ためのマスク）を介して成膜することによって、第１隔
壁部１５がマスクパターンとなり、各隔壁部１５間のみ
を発光層材料が通過して透明電極層８に到達することが
できる。これにより、フォトリソグラフィー法等のパタ
ーニングを行うことなく、帯状の青色有機ＥＬ素子層１
０を形成することができる。上記のような第１隔壁部１
５を用いた青色有機ＥＬ素子層１０の形成では、図１お
よび図２に示されるように、複数配列している第１障壁
部１５のうち、最も周辺部に位置している第１隔壁部１
５の上部平面に、上記の画像表示領域の端部が位置して
おり、幅方向の約半分（画像表示領域側）のみにダミー
の有機ＥＬ素子層１０′が形成されている。

【００４６】また、青色有機ＥＬ素子層１０が発光層単
独からなる構造ではなく、発光層の透明電極層８側に正
孔注入層を備えた構造、発光層の背面電極層１１側に電
子注入層を備えた構造、発光層の透明電極層８側に正孔
注入層を備え背面電極層１１側に電子注入層を備えた構
造とする場合、それぞれ上述の正孔注入層材料、電子注
入層材料を用いて真空蒸着法、インクジェット等の印刷
法等により成膜することにより、上記の発光層と同様
に、帯状パターンを形成することができる。

【００４７】（５） 本発明の製造方法の次の工程で
は、第１隔壁部１５および第２隔壁部１６が形成されて
いる領域に背面電極層形成用の材料を用いて成膜するこ
とにより、第１隔壁部１５をマスクとして青色有機ＥＬ
素子層１０上に背面電極層１１を形成するとともに、第
２隔壁部１６をマスクとして段差部位６ａにおいて透明
電極層８の少なくとも一部を被覆するように金属導電層
１２を形成する。上記の背面電極層１１および金属導電
層１２は、上述した電極材料を用いて真空蒸着法、スパ
ッタリング法等の方法により成膜して形成することがで
きる。ここでは、第１隔壁部１５がマスクパターンとな
り、各隔壁部１５間のみを電極材料が通過して青色有機
ＥＬ素子層１０上に到達することができる。そして、フ
ォトリソグラフィー法等のパターニングを行う必要がな
いので、青色有機ＥＬ素子層１０の特性を劣化させるこ
とがない。

【００４８】また、第２隔壁層１６がマスクパターンと
なり、各隔壁部１６間のみを電極材料が通過して、透明
保護層６の段差部位６ａに位置する透明電極層８を被覆
するように金属導電層１２が設けられる。したがって、
上記の透明電極層８の形成時の成膜不良（付着不良）や
エッチング処理時の応力等により、導通不良あるいは切
断が発生していても、この金属導電層１２によって透明
電極層８の良好な導通が確保され、信頼性が高く、高品
質の画像表示が可能な有機ＥＬ画像表示装置を良好な製
造歩留りで製造することができる。

【００４９】

【実施例】次に、実施例を示して本発明を更に詳細に説
明する。 ［実施例］

【００５０】ブラックマトリックスの形成 透明基材として、５５０ｍｍ×６５０ｍｍ、厚み０．７
ｍｍのソーダガラス（旭硝子（株）製 ＳｉＯ₂付ソー
ダガラス）を準備した。この透明基材を定法にしたがっ
て洗浄した後、透明基材の片側全面にスパッタリング法
によりクロムの薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、この
クロム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マスク露光、
現像、クロム薄膜のエッチングを行って、７０μｍ×２
７０μｍの長方形状の開口部を１００μｍピッチでマト
リックス状に備えたブラックマトリックスを形成した。

【００５１】カラーフィルタ層の形成 次に、下記組成の３種の着色層用感光性塗料を用いて各
色の着色層を形成した。すなわち、ブラックマトリック
スが形成された上記の透明基材全面に、緑色着色層用の
感光性塗料をスピンコート法により塗布し、プリベーク
（１００℃、５分間）を行った。その後、所定の着色層
用フォトマスクを用いて露光した。次いで、現像液
（０．０５％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、
ポストベーク（２００℃、６０分間）を行って、ブラッ
クマトリックスパターンに対して所定の位置に帯状（幅
８０μｍ）の緑色着色層（厚み２．０μｍ）を形成し
た。

【００５２】同様に、赤色着色層の感光性塗料を用い
て、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置
に帯状（幅８０μｍ）の赤色着色層（厚み２．０μｍ）
を形成した。さらに、青色着色層の感光性塗料を用い
て、ブラックマトリックスパターンに対して所定の位置
に帯状（幅８０μｍ）の青色着色層（厚み２．０μｍ）
を形成した。 （赤色着色層感光性塗料） ・ジアントラキノニルレッド（Ｒｅｄ−１７７） … １重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ９０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００５３】 （緑色着色層感光性塗料） ・フタロシアニングリーン（Ｇｒｅｅｎ−７） … １重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ９０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００５４】 （青色着色層感光性塗料） ・フタロシアニンブルー（α）（Ｂｌｕｅ−１５：１） … １重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ９０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００５５】色変換蛍光体層の形成 次に、下記組成の青色変換ダミー層用塗布液、緑色変換
蛍光体層用塗布液、および、赤色変換蛍光体層用塗布液
を調製した。次いで、青色変換ダミー層用塗布液を用い
てスクリーン印刷法により青色着色層上に帯状のパター
ン印刷を行い、ベーク（２００℃、６０分間）を行っ
た。これにより、青色着色層上に帯状（幅８０μｍ）の
青色変換ダミー層（厚み１５μｍ）を形成した。次い
で、緑色変換蛍光体層用塗布液を用いてスクリーン印刷
法により緑色着色層上に帯状のパターン印刷を行い、ベ
ーク（２００℃、６０分間）を行った。これにより、緑
色着色層上に帯状（幅８０μｍ）の緑色変換蛍光体層
（厚み１５μｍ）を形成した。同様に、赤色変換蛍光体
層用塗布液を用いて、赤色着色層上に帯状（幅８０μ
ｍ）の赤色変換蛍光体層（厚み１５μｍ）を形成した。

【００５６】以上により、青色変換ダミー層、緑色変換
蛍光体層、赤色変換蛍光体層からなる色変換蛍光体層を
形成した。 （青色変換ダミー層用塗布液） ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ５０重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ５０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００５７】 （緑色変換蛍光体層用塗布液） ・ベーシックイエロー５１ … ３重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ４７重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ５０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００５８】 （赤色変換蛍光体層用塗布液） ・ローダミンＢ … ３重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ４７重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ５０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００５９】透明保護層の形成 次いで、下記組成の透明保護層用塗布液を使用し、スピ
ンコート法により透明基材上に塗布した後、ベーク（２
００℃、６０分間）を行った。これにより、上記の色変
換蛍光体層を覆うように透明保護層（厚み１０μｍ）を
形成した。次に、上記の透明保護層上にスパッタリング
法により酸化珪素膜（厚み０．２μｍ）を形成した。 （透明保護層用塗布液） ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … １８重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … ２重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ８０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００６０】補助電極の形成 次に、上記の透明保護層上の全面にスパッタリング法に
よりアルミニウム薄膜（厚み０．２μｍ）を形成し、こ
のアルミニウム薄膜上に感光性レジストを塗布し、マス
ク露光、現像、アルミニウム薄膜のエッチングを行っ
て、補助電極を形成した。この補助電極は、透明基材上
から色変換蛍光体層上に乗り上げるようなストライプ状
のパターンであり、色変換蛍光体層上では幅１５μｍで
ブラックマトリックスの遮光部上に位置し、透明基材周
縁部の端子部では幅が８０μｍのものとした。

【００６１】透明電極層の形成 次いで、上記の補助電極を覆うように透明保護層上にス
パッタリング法により膜２００ｎｍの酸化インジウムス
ズ（ＩＴＯ）電極膜を形成し、このＩＴＯ電極膜上に感
光性レジストを塗布し、マスク露光、現像、ＩＴＯ電極
膜のエッチングを行って、透明電極層を形成した。この
透明電極層は、透明基材上から色変換蛍光体層上に乗り
上げるような幅８０μｍの帯状パターンであり、色変換
蛍光体層上ではカラーフィルタ層の各着色層上に位置す
るとともに、上記の補助電極に重なるものであった。上
述の補助電極および透明電極層の形成では、色変換蛍光
体層の端部により透明保護層に生じた段差部位で、補助
電極や透明電極層の形成時の成膜不良、および、パター
ンエッチング時の応力等による断線が発生し、この断線
発生率は２０４／５５２０であった。

【００６２】絶縁層と第１隔壁部および第２隔壁部の形
成 次いで、上記の透明電極層を覆うように下記組成の絶縁
層用塗料をスピンコート法により全面に塗布し、プリベ
ーク（１００℃、５分間）を行った。その後、所定の絶
縁層用フォトマスクを用いて露光し、現像液（０．０５
％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、ポストベー
ク（２００℃、６０分間）を行って、透明保護層上に絶
縁層（厚み２μｍ）を形成した。この絶縁層は、ブラッ
クマトリックスと同一のパターンであり、ブラックマト
リックスの遮光部上に位置するものとした。 （絶縁層用塗料） ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 … ９重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … １重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ９０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００６３】次に、下記組成の隔壁部用塗料をスピンコ
ート法により絶縁層を覆うように全面に塗布し、プリベ
ーク（１００℃、５分間）を行った。その後、所定の隔
壁部用フォトマスクを用いて露光し、現像液（０．０５
％ＫＯＨ水溶液）にて現像を行い、次いで、ポストベー
ク（２００℃、６０分間）を行った。これにより、絶縁
層上に第１隔壁部を形成した。この第１隔壁部は、高さ
５．０μｍ、下部（絶縁層側）の幅１５μｍ、上部の幅
２０μｍである形状を有するものであった。また、透明
保護層の段差部位に跨る部位に位置し、かつ、透明電極
層の幅方向両側に位置するように複数の第２隔壁部を第
１隔壁部１５に対して直角方向に形成した。この第２隔
壁部は、長さ５００μｍ、高さ５．０μｍ、下部（絶縁
層側）の幅１５μｍ、上部の幅２０μｍである形状を有
するものであった。

【００６４】 （隔壁部用塗料） ・カーボンブラック … ０．１重量部 ・メチルメタクリレート−メタクリル酸共重合体 …１７．９重量部 （メチルメタクリレート：メタクリル酸＝２：１） ・光重合開始剤 … ２重量部 （チバ・スペシャルティ・ケミカルズ（株）製イルガキュア９０７） ・ジグライム［Bis(2-methoxyethyl）Ether］ … ８０重量部 (ＣＨ₃ＯＣＨ₂ＣＨ₂)₂Ｏ

【００６５】青色有機ＥＬ素子層の形成 次いで、上記の隔壁部をマスクとして、真空蒸着法によ
り正孔注入層、発光層、電子注入層からなる青色有機Ｅ
Ｌ素子層を形成した。すなわち、まず、４，４′，４″
−トリス［Ｎ−（３−メチルフェニル）−Ｎ−フェニル
アミノ］トリフェニルアミンを、画像表示領域に相当す
る開口部を備えたフォトマスクを介して２００ｎｍ厚ま
で蒸着して成膜し、その後、４，４′−ビス［Ｎ−（１
−ナフチル）−Ｎ−フェニルアミノ］ビフェニルを２０
ｎｍ厚まで蒸着して成膜することによって、第１隔壁部
がマスクパターンとなり、各隔壁部間のみを正孔注入層
材料が通過して透明電極層上に正孔注入層が形成され
た。同様にして、４，４′−ビス（２，２−ジフェニル
ビニル）ビフェニルを５０ｎｍまで蒸着して成膜するこ
とにより発光層とした。その後、トリス（８−キノリノ
ール）アルミニウムを２０ｎｍ厚まで蒸着して成膜する
ことにより電子注入層とした。このようにして形成され
た青色有機ＥＬ素子層は、幅２８０μｍの帯状パターン
として各第１隔壁部間に存在するものであり、第１隔壁
部の上部表面にも同様の層構成でダミーの青色有機ＥＬ
素子層が形成された。

【００６６】背面電極層の形成 次に、画像表示領域よりも広い開口部を備えたフォトマ
スクを介して上記の第１隔壁部および第２隔壁部が形成
されている領域に真空蒸着法によりマグネシウムと銀を
同時に蒸着（マグネシウムの蒸着速度＝１．３〜１．４
ｎｍ／秒、銀の蒸着速度＝０．１ｎｍ／秒）して成膜し
た。これにより、第１隔壁部がマスクとなって、マグネ
シウム／銀混合物からなる背面電極層（厚み２００ｎ
ｍ）が青色有機ＥＬ素子層上に形成された。この背面電
極層は、幅８０μｍの帯状パターンとして青色有機ＥＬ
素子層上に存在するものであり、第１隔壁部の上部表面
にもダミーの背面電極層が形成された。また、第２隔壁
部がマスクとなって、透明保護層の段差部位に位置する
透明電極層を被覆するようにマグネシウム／銀混合物か
らなる金属導電層（厚み２００ｎｍ）が形成された。こ
の金属導電層は、８０μｍ×４５０μｍの方形状パター
ンとして透明電極層上に存在するものであり、第２隔壁
部の上部表面にもダミーの金属導電層が形成された。

【００６７】以上により、有機ＥＬ画像表示装置を得
た。この有機ＥＬ画像表示装置の透明電極層と背面電極
層に直流５Ｖの電圧を印加することにより、透明電極層
と背面電極層とが交差する所望の部位の青色有機ＥＬ素
子層を発光させた。そして、色変換蛍光体層で色変換、
あるいは、そのまま透過し、カラーフィルタ層で色補正
された後、透明基材の反対面側で観測される各色の発光
について、ＣＩＥ色度座標（ＪＩＳ Ｚ ８７０１）を
測定した。その結果、ＣＩＥ色度座標でｘ＝０．６４、
ｙ＝０．３３の赤色発光、ＣＩＥ色度座標でｘ＝０．３
０、ｙ＝０．６０の緑色発光、ＣＩＥ色度座標でｘ＝
０．１５、ｙ＝０．０６の青色発光が確認され、三原色
画像表示が可能であった。

【００６８】［比較例］第２隔壁層を形成せず、背面電
極層形成時に使用するフォトマスクとして、青色有機Ｅ
Ｌ素子層形成時と同じフォトマスクを使用した他は、実
施例と同様にして、有機ＥＬ画像表示装置を得た。この
有機ＥＬ画像表示装置に実施例と同様に電圧を印加して
画像表示品質を観察したが、透明電極層の断線発生によ
る発光不良が見られ、良好な三原色画像表示は得られな
かった。

【００６９】

【発明の効果】以上詳述したように、本発明によれば透
明保護層の段差部位を乗り越えるように形成された透明
電極層に、その形成時の成膜不良（付着不良）やエッチ
ング処理時の応力等により、導通不良あるいは断線が発
生していても、この段差部位の透明電極層の少なくとも
一部を覆うように形成された金属導電層によって透明電
極層の良好な導通が確保され、これにより、信頼性が高
く、高品質の画像表示が可能な有機エレクトロルミネッ
セント画像表示装置を良好な製造歩留りで製造すること
ができる。

【図面の簡単な説明】

【図１】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置の一実施形態を示す部分平面図である。

【図２】図１に示される有機エレクトロルミネッセント
画像表示装置のII−II線における縦断面図である。

【図３】図１に示される有機エレクトロルミネッセント
画像表示装置のIII−III線における縦断面図である。

【図４】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置におけるカラーフィルタ層と色変換蛍光体層との
位置関係を示す部分平面図である。

【図５】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置における段差部位と透明電極層と金属導電層の位
置関係を示す部分平面図である。

【図６】本発明の有機エレクトロルミネッセント画像表
示装置の製造方法を説明する図であり、ブラックマトリ
ックスとカラーフィルタ層との位置関係を示す部分平面
図である。

【符号の説明】

１…有機エレクトロルミネッセント画像表示装置 ２…透明基材 ３…ブラックマトリックス ４…カラーフィルタ層 ４Ｒ，４Ｇ，４Ｂ…着色層 ５…色変換蛍光体層 ５ａ…色変換蛍光体層の端部 ５Ｒ…赤色変換蛍光体層 ５Ｇ…緑色変換蛍光体層 ５Ｂ…青色変換ダミー層 ６…透明保護層 ７…補助電極 ８…透明電極層 １０…有機エレクトロルミネッセンス素子層 １１…背面電極層 １２…金属導電層 １３…絶縁層 １５…第１隔壁部 １６…第２隔壁部

───────────────────────────────────────────────────── フロントページの続き (72)発明者 新井 浩次 東京都新宿区市谷加賀町一丁目１番１号 大日本印刷株式会社内 Ｆターム(参考） 3K007 AB04 AB08 AB11 AB18 BB06 DB03 FA01

Claims (5)

【特許請求の範囲】
1. 【請求項１】 透明基材と、該透明基材上に順次設けら
   れたカラーフィルタ層、色変換蛍光体層、透明保護層、
   透明電極層、有機エレクトロルミネッセンス素子層、お
   よび、背面電極層とを少なくとも備え、前記色変換蛍光
   体層を覆うように前記透明基材上に設けられた前記透明
   保護層は前記色変換蛍光体層の端部により生じた段差部
   位を有し、前記透明電極層は前記透明基材から前記色変
   換蛍光体層に乗り上げるように前記透明保護層上に帯状
   に配設され、前記段差部位において前記透明電極層の少
   なくとも一部を被覆するように金属導電層が配設されて
   いることを特徴とする有機エレクトロルミネッセント画
   像表示装置。
2. 【請求項２】 前記金属電極層は、前記背面電極層と同
   じ材質からなることを特徴とする請求項１に記載の有機
   エレクトロルミネッセント画像表示装置。
3. 【請求項３】 前記透明基材と前記カラーフィルタとの
   間に、所定の開口パターンを有するブラックマトリック
   スを備えることを特徴とする請求項１または請求項２に
   記載の有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
4. 【請求項４】 前記有機エレクトロルミネッセンス素子
   層は青色発光であり、前記色変換蛍光体層は青色光を緑
   色蛍光に変換して発光する緑色変換層と、青色光を赤色
   蛍光に変換して発光する赤色変換層とを備えていること
   を特徴とする請求項１乃至請求項３のいずれかに記載の
   有機エレクトロルミネッセント画像表示装置。
5. 【請求項５】 透明基材上に複数色の着色層を色毎に帯
   状に形成してカラーフィルタ層を設け、前記カラーフィ
   ルタ層上に色変換蛍光体層を設ける工程、 該色変換蛍光体層を覆うように前記透明基材上に透明保
   護層を形成し、前記色変換蛍光体層の端部により前記透
   明保護層に生じた段差部位を前記透明基材から前記色変
   換蛍光体層に乗り上げるように前記透明保護層上に帯状
   の透明電極層を形成する工程、 該透明電極層と交差するように所定の間隔を設けて複数
   の第１隔壁部を形成するとともに、前記第１隔壁部に対
   して直角方向で前記段差部位に跨る部位に位置し、か
   つ、前記透明電極層の幅方向両側に位置するように複数
   の第２隔壁部を形成する工程、 前記第１隔壁部が形成されている領域に有機エレクトロ
   ルミネッセンス素子層形成用の材料を用いて成膜するこ
   とにより、前記第１隔壁部をマスクとして前記透明電極
   層と交差するように有機エレクトロルミネッセンス素子
   層を帯状に形成する工程、 前記第１隔壁部および前記第２隔壁部が形成されている
   領域に背面電極層形成用の材料を用いて成膜することに
   より、前記第１隔壁部をマスクとして前記有機エレクト
   ロルミネッセンス素子層上に背面電極層を形成するとと
   もに、前記第２隔壁部をマスクとして前記段差部位にお
   いて前記透明電極層の少なくとも一部を被覆するように
   金属導電層を形成する工程、とを有することを特徴とす
   る有機エレクトロルミネッセント画像表示装置の製造方
   法。