JP2003224345A - Method for manufacturing transfer molding die, transfer molding die and method for forming wiring pattern - Google Patents

Method for manufacturing transfer molding die, transfer molding die and method for forming wiring pattern

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JP2003224345A
JP2003224345A JP2002020092A JP2002020092A JP2003224345A JP 2003224345 A JP2003224345 A JP 2003224345A JP 2002020092 A JP2002020092 A JP 2002020092A JP 2002020092 A JP2002020092 A JP 2002020092A JP 2003224345 A JP2003224345 A JP 2003224345A
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Japan
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groove
transfer molding
molding die
hole
wiring
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Japanese (ja)
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Masahiro Izumi
真浩 和泉
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Sony Corp
Original Assignee
Sony Corp
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Abstract

<P>PROBLEM TO BE SOLVED: To provide a manufacturing method of a die for transfer-molding wiring grooves and through holes collectively in a substrate. <P>SOLUTION: A first resist layer is formed in a die basic material (step S1), and then first grooves are made in the die basic material by etching (step S3) and filled with filling ink which is eventually cured (step S5). Subsequently, a second resist layer is formed partially on the surface of the groove filling ink and the die basic material (step S7) and second grooves shallower than the first grooves are made by etching (step S9). In this regard, the die basic material is provided with protrusions in accordance with the depths of the wiring grooves formed in the substrate in wiring pattern and the lengths of the through holes, thus manufacturing a die capable of transfer-molding the wiring grooves and the through holes collectively. <P>COPYRIGHT: (C)2003,JPO

Description

【発明の詳細な説明】Detailed Description of the Invention

【0001】[0001]

【発明の属する技術分野】本発明は転写成形用型の製造
方法に関し、特にプリント配線基板上に配線溝およびス
ルーホール用の孔を転写成形するための転写成形用型の
製造方法に関する。
BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to a method for manufacturing a transfer molding die, and more particularly to a method for manufacturing a transfer molding die for transfer molding wiring grooves and through-holes on a printed wiring board.

【0002】[0002]

【従来の技術】積層配線基板の製造においては、積層さ
れる各基板を、その配線溝の位置に対応する凸部を有す
る転写成形用型でプレスすることで、基板に配線溝を転
写成形する。ここで用いられる転写成形用型は、従来、
その製造過程において、転写成形用型を構成する型基材
に対して複数段差を形成するエッチング加工ができなか
ったため、配線溝の位置に対応した凸部だけしか形成す
ることができなかった。そのため、各基板間を導通する
スルーホールを形成する場合には、転写成形用型による
配線溝の形成後に、その基板に対してスルーホールの孔
開け加工を行う必要があった。そして、基板上に形成さ
れた配線溝およびスルーホール用の孔に、金属材料が充
填され、各基板が積層圧着されることにより、積層配線
基板が形成される。
2. Description of the Related Art In the manufacture of a laminated wiring board, the wiring grooves are transfer-molded on the board by pressing each board to be laminated with a transfer molding die having a convex portion corresponding to the position of the wiring groove. . The transfer mold used here is conventionally
In the manufacturing process, etching processing for forming a plurality of steps could not be performed on the mold base material forming the transfer molding die, and therefore only the convex portion corresponding to the position of the wiring groove could be formed. Therefore, in the case of forming a through hole that conducts electricity between the respective substrates, it is necessary to form a through hole in the substrate after forming the wiring groove by the transfer molding die. Then, a wiring material and holes for through holes formed on the substrate are filled with a metal material, and the respective substrates are laminated and pressure-bonded to each other to form a laminated wiring substrate.

【0003】[0003]

【発明が解決しようとする課題】しかし、従来のよう
に、配線溝の位置に対応した凸部のみが形成された転写
成形用型で基板に配線溝を転写成形し、後の工程で、そ
の基板にスルーホールの孔開け加工を行う場合には、プ
リント配線基板製造のための加工プロセスが長くなると
ともに、コストが増大するという問題点があった。
However, as in the conventional case, the wiring groove is transfer-molded on the substrate by the transfer molding die in which only the convex portion corresponding to the position of the wiring groove is formed, and in the subsequent step, When a through hole is drilled in the board, there are problems that the working process for manufacturing the printed wiring board becomes long and the cost increases.

【0004】また、配線溝の形成とスルーホールの孔開
け加工とを別工程で行うことによって、基板上に形成さ
れる配線溝とスルーホール用の孔との間の相対位置のず
れが大きくなる可能性もある。
Further, by performing the formation of the wiring groove and the through hole drilling process in separate steps, the deviation of the relative position between the wiring groove formed on the substrate and the through hole hole becomes large. There is a possibility.

【0005】本発明はこのような点に鑑みてなされたも
のであり、配線パターンに対応する配線溝と導通用のス
ルーホール用の孔とを一括して基板上に転写成形するた
めの転写成形用型の製造方法を提供することを目的とす
る。
The present invention has been made in view of the above circumstances, and is a transfer molding for collectively transfer-molding a wiring groove corresponding to a wiring pattern and a through-hole for conduction onto a substrate. An object is to provide a method for manufacturing a mold.

【0006】[0006]

【課題を解決するための手段】本発明によれば、基板上
に配線パターンに対応する配線溝および導通用のスルー
ホールに対応する孔を転写成形する転写成形用型の製造
方法であって、型基材の表面に第1のレジスト層を形成
し、前記型基材にエッチング加工を施して第1の溝を形
成し、形成された前記第1の溝に溝埋め用インクを充填
して硬化し、硬化された前記溝埋め用インクの表面と前
記型基材の表面の一部とに第2のレジスト層を形成し、
前記型基材に前記エッチング加工を施して前記第1の溝
よりも浅い第2の溝を形成し、前記第2のレジスト層と
前記溝埋め用インクとを除去することを特徴とする転写
成形用型の製造方法が提供される。
According to the present invention, there is provided a method of manufacturing a transfer molding die for transfer molding a wiring groove corresponding to a wiring pattern and a hole corresponding to a through hole for conduction on a substrate. A first resist layer is formed on the surface of the mold base, the mold base is etched to form a first groove, and the formed first groove is filled with a groove filling ink. And a second resist layer is formed on the surface of the cured groove-filling ink and a part of the surface of the mold base.
Transfer molding, characterized in that the mold base material is subjected to the etching process to form a second groove shallower than the first groove, and the second resist layer and the groove filling ink are removed. A method of manufacturing a mold is provided.

【0007】上記構成によれば、転写成形用型の型基材
にエッチング加工を施して第1の溝を形成し、ここに溝
埋め用インクを充填・硬化した後、この溝埋め用インク
表面および型基材表面の一部の領域に再度エッチング加
工を施して、第1の溝よりも浅い第2の溝を形成するこ
とで、型基材に2種類の異なる段差の凸部が形成され
る。
According to the above construction, the die base material of the transfer molding die is subjected to the etching process to form the first groove, and the groove filling ink is filled and hardened therein, and then the groove filling ink surface is formed. And, a part of the surface of the mold base material is again etched to form a second groove that is shallower than the first groove, so that two different types of stepped protrusions are formed on the mold base material. It

【0008】この場合、基板に形成する配線溝の深さと
スルーホール用の孔の長さを考慮して、配線溝の位置に
対応して形成された配線溝形成用凸部、およびスルーホ
ールの位置に対応して形成された孔形成用凸部を有する
転写成形用型が用いられる。このような転写成形用型で
基板をプレスすることにより、その基板に、配線溝形成
用凸部に対応した配線溝と孔形成用凸部に対応した孔と
が一括して転写成形される。
In this case, in consideration of the depth of the wiring groove formed in the substrate and the length of the hole for the through hole, the wiring groove forming convex portion formed corresponding to the position of the wiring groove and the through hole are formed. A transfer molding die having a hole-forming convex portion formed corresponding to a position is used. By pressing the substrate with such a transfer molding die, the wiring groove corresponding to the wiring groove forming convex portion and the hole corresponding to the hole forming convex portion are collectively transferred and molded on the substrate.

【0009】[0009]

【発明の実施の形態】以下、本発明の実施の形態を図面
を参照して説明する。図2は本発明の実施の形態に係る
転写成形用型の概略の断面図である。
BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 2 is a schematic cross-sectional view of the transfer molding die according to the embodiment of the present invention.

【0010】本実施の形態の転写成形用型10は、基板
に形成される配線パターンの配線溝に対応して形成され
た配線溝形成用凸部11a,11bと、導通用のスルー
ホールに対応して形成された孔形成用凸部12とを有し
ている。
The transfer molding die 10 of this embodiment corresponds to the wiring groove forming projections 11a and 11b formed corresponding to the wiring grooves of the wiring pattern formed on the substrate and the through holes for conduction. And the hole-forming convex portion 12 formed in this manner.

【0011】ここで、この転写成形用型10が配線パタ
ーン形成およびスルーホール形成の対象とする基板が、
例えば熱可塑性樹脂からなる厚さ略100μmのシート
形状の樹脂シート材料である場合には、転写成形用型1
0の配線溝形成用凸部11a,11bは、その高さを、
例えば40μmないし50μmとなるように形成し、ま
た、孔形成用凸部12は、その高さを、例えば配線溝形
成用凸部11a,11bの表面からさらに50μmない
し60μmとなるように形成する。
Here, the substrate on which the transfer molding die 10 is to be subjected to wiring pattern formation and through hole formation is
For example, in the case of a sheet-shaped resin sheet material made of a thermoplastic resin and having a thickness of about 100 μm, the transfer molding die 1
The height of the wiring groove forming protrusions 11a and 11b of 0 is
For example, it is formed to have a thickness of 40 μm to 50 μm, and the hole forming protrusion 12 is formed so that the height thereof is further 50 μm to 60 μm from the surface of the wiring groove forming protrusions 11 a and 11 b.

【0012】このような転写成形用型10で基板をプレ
スすることで、その基板上には、配線溝形成用凸部11
a,11bに対応した位置に、配線パターンに対応する
配線溝が形成され、孔形成用凸部12に対応した位置
に、導通用のスルーホールに対応する孔が形成されるよ
うになる。これにより、配線パターンの配線溝とスルー
ホール用の孔とを1回のプレスで一括して基板上に転写
成形することができる。したがって、配線パターン形成
に伴う基板加工プロセスにかかる時間を短縮することが
できるようになる。
By pressing the substrate with such a transfer molding die 10, the wiring groove forming protrusions 11 are formed on the substrate.
A wiring groove corresponding to the wiring pattern is formed at a position corresponding to a and 11b, and a hole corresponding to a through hole for conduction is formed at a position corresponding to the hole forming convex portion 12. As a result, the wiring groove of the wiring pattern and the hole for the through hole can be collectively transfer-molded on the substrate by one press. Therefore, it is possible to shorten the time required for the substrate processing process for forming the wiring pattern.

【0013】さらに、1回のプレスで配線パターンの配
線溝とスルーホール用の孔とを転写成形することができ
るので、多数の基板を転写成形する場合であっても、各
基板間で、配線パターンの配線溝とスルーホール用の孔
との間の相対位置にずれが生じることがなくなる。
Furthermore, since the wiring groove of the wiring pattern and the hole for the through hole can be transfer-molded by one press, even if a large number of substrates are transfer-molded, the wiring between the substrates can be improved. The relative position between the wiring groove of the pattern and the hole for the through hole will not be displaced.

【0014】以下、図2に示した転写成形用型10を例
に、その製造方法を図1、図3ないし図12を参照して
説明する。図1は転写成形用型の製造工程の流れ図であ
る。また、図3ないし図12は各製造工程における転写
成形用型の概略の断面図であって、図3は第1のレジス
ト層形成工程、図4は第1のレジストパターン形成工
程、図5は第1の溝形成工程、図6は第1のレジスト層
除去工程、図7は溝埋め用インク充填・硬化工程、図8
は溝埋め用インク研磨工程、図9は第2のレジスト層形
成工程、図10は第2のレジストパターン形成工程、図
11は第2の溝形成工程、図12は第2のレジスト層除
去工程における転写成形用型の概略の断面図である。
The manufacturing method of the transfer molding die 10 shown in FIG. 2 will be described below with reference to FIGS. 1 and 3 to 12. FIG. 1 is a flow chart of a manufacturing process of a transfer molding die. 3 to 12 are schematic cross-sectional views of the transfer molding die in each manufacturing process. FIG. 3 is a first resist layer forming step, FIG. 4 is a first resist pattern forming step, and FIG. First groove forming step, FIG. 6 is first resist layer removing step, FIG. 7 is groove filling ink filling / curing step, FIG.
9 is a groove filling ink polishing step, FIG. 9 is a second resist layer forming step, FIG. 10 is a second resist pattern forming step, FIG. 11 is a second groove forming step, and FIG. 12 is a second resist layer removing step. 2 is a schematic cross-sectional view of the transfer molding die in FIG.

【0015】転写成形用型10の製造においては、ま
ず、図3に示すように、転写成形用型10とする型基材
1の表面に第1のレジスト層2aを形成する(ステップ
S1)。
In the manufacture of the transfer molding die 10, first, as shown in FIG. 3, a first resist layer 2a is formed on the surface of the mold base material 1 to be the transfer molding die 10 (step S1).

【0016】本実施の形態では、型基材1に、市販の耐
熱ガラス板を用いる。この耐熱ガラス板は、後に転写成
形用型10をプレスする際におけるプレス圧およびプレ
ス温度に耐え得る硬度および耐熱性を備えている。ま
た、型基材1の材質としては、耐熱ガラスのほか、ステ
ンレスなどの金属やセラミックなども用いることができ
る。
In this embodiment, a commercially available heat-resistant glass plate is used as the mold base 1. This heat-resistant glass plate has hardness and heat resistance capable of withstanding a pressing pressure and a pressing temperature when the transfer molding die 10 is pressed later. Further, as the material of the mold base 1, in addition to heat-resistant glass, metal such as stainless steel or ceramic can be used.

【0017】この型基材1に形成する第1のレジスト層
2aとしては、ジアゾ系のエッチングレジストインクま
たはドライフィルムレジストなどの感光性フィルムを用
い、型基材1の表面に、それぞれ塗布またはラミネート
して形成する。
As the first resist layer 2a formed on the mold base 1, a photosensitive film such as a diazo type etching resist ink or a dry film resist is used, and is coated or laminated on the surface of the mold base 1, respectively. To form.

【0018】この型基材1に形成した第1のレジスト層
2aに対して露光・現像処理を行い、図4に示すよう
に、転写成形用型10の第1のレジストパターンを形成
する(ステップS2)。
The first resist layer 2a formed on the mold base 1 is exposed and developed to form a first resist pattern of the transfer molding mold 10 as shown in FIG. 4 (step). S2).

【0019】次いで、この形成された第1のレジストパ
ターンをマスクとして、型基材1に対してエッチング加
工を施し、図5に示すように、型基材1の不要となる部
分を除去して第1の溝3aを形成し(ステップS3)、
さらに、図6に示すように、第1のレジスト層2aを剥
離除去する(ステップS4)。
Next, using the formed first resist pattern as a mask, the mold base 1 is etched to remove unnecessary portions of the mold base 1 as shown in FIG. Forming the first groove 3a (step S3),
Further, as shown in FIG. 6, the first resist layer 2a is peeled and removed (step S4).

【0020】ステップS3において、耐熱ガラス板の型
基材1に対して行うエッチング加工としては、ウェット
エッチング法またはドライエッチング法のいずれを用い
てもよい。ただし、環境負荷の観点からは、ドライエッ
チング法を適用するのが好ましい。このエッチング加工
により、型基材1の不要となる部分を除去し、第1の溝
3aを形成する。
In step S3, the wet etching method or the dry etching method may be used as the etching process performed on the mold base material 1 of the heat-resistant glass plate. However, from the viewpoint of environmental load, it is preferable to apply the dry etching method. By this etching process, unnecessary portions of the die base material 1 are removed to form the first grooves 3a.

【0021】また、第1の溝3aの形成には、エッチン
グ加工のほか、サンドブラスト加工も可能である。この
場合、噴射剤としてカーボランダムを用い、これを、形
成する配線パターンに対応する配線溝の幅に対応する極
細ノズルから型基材1の表面に高速噴射し、噴射部分を
破砕除去する。型基材1に金属やセラミックを使用する
場合には、その材質に応じた噴射剤を用い、加工条件を
適当に選択する。
In addition to the etching process, the sandblasting process can be used to form the first groove 3a. In this case, carborundum is used as the propellant, and this is sprayed at high speed from the ultrafine nozzle corresponding to the width of the wiring groove corresponding to the wiring pattern to be formed onto the surface of the die base material 1 to crush and remove the sprayed portion. When a metal or ceramic is used for the mold base 1, a propellant suitable for the material is used and the processing conditions are appropriately selected.

【0022】このようなエッチング加工やサンドブラス
ト加工により形成する第1の溝3aは、その深さを、第
1の溝3aの底面から図2に示した孔形成用凸部12の
所望の高さが得られる深さとなるように形成する。すな
わち、形成すべきスルーホール用の孔の長さに合わせ
て、第1の溝3aを形成する。
The depth of the first groove 3a formed by such an etching process or sandblasting process is the desired height of the hole forming projection 12 shown in FIG. 2 from the bottom surface of the first groove 3a. Is formed so that the depth is obtained. That is, the first groove 3a is formed according to the length of the through hole to be formed.

【0023】そして、第1の溝3aが形成された型基材
1の表面に、図7に示すように、熱硬化性樹脂からなる
溝埋め用インク4を塗布して、所定温度で硬化した後
(ステップS5)、図8に示すように、第1の溝3aか
らはみ出している溝埋め用インク4を、型基材1の表面
が露出するまで研磨する(ステップS6)。
Then, as shown in FIG. 7, the groove-filling ink 4 made of a thermosetting resin is applied to the surface of the mold base 1 on which the first grooves 3a are formed and cured at a predetermined temperature. After that (step S5), as shown in FIG. 8, the groove filling ink 4 protruding from the first groove 3a is polished until the surface of the mold base 1 is exposed (step S6).

【0024】次いで、この第1の溝3aにのみ溝埋め用
インク4が充填されている型基材1の表面に、図9に示
すように、ステップS1で用いた第1のレジスト層2a
と同じ材質の第2のレジスト層2bを形成し(ステップ
S7)、図10に示すように、第2のレジストパターン
を形成する(ステップS8)。このとき、第2のレジス
トパターンは、溝埋め用インク4が充填されている領域
の表面を保護するように形成されるとともに、図2に示
した孔形成用凸部12を形成する領域の表面を保護する
ように形成される。
Next, as shown in FIG. 9, the first resist layer 2a used in step S1 is formed on the surface of the mold base 1 in which the groove filling ink 4 is filled only in the first groove 3a.
A second resist layer 2b made of the same material as the above is formed (step S7), and a second resist pattern is formed as shown in FIG. 10 (step S8). At this time, the second resist pattern is formed so as to protect the surface of the region filled with the groove filling ink 4, and at the same time, the surface of the region where the hole forming protrusion 12 shown in FIG. 2 is formed. Is formed to protect the.

【0025】このように第2のレジストパターンが形成
された状態で、ステップS3と同様の方法で、図11に
示すように、型基材1の不要となる部分を除去して第2
の溝3bを形成し(ステップS9)、さらに、ステップ
S4と同様の方法で、図12に示すように、第2のレジ
スト層2bを剥離除去する(ステップS10)。このと
き、第2の溝3bは、その深さを、充填されている溝埋
め用インク4の底面から、すなわち図5に示した第1の
溝3aの底面から、図2に示した配線溝形成用凸部11
a,11bの所望の高さが得られる深さとなるように形
成する。すなわち、第2の溝3bの底面は、配線溝形成
用凸部11a,11bの上端面となり、したがって、図
12において、第1の溝3aの底面から第2の溝3bの
底面までの間の高さが配線溝形成用凸部11a,11b
の高さに該当することになる。
With the second resist pattern thus formed, the unnecessary portion of the mold substrate 1 is removed by the same method as in step S3, as shown in FIG.
The groove 3b is formed (step S9), and the second resist layer 2b is peeled off as shown in FIG. 12 by the same method as step S4 (step S10). At this time, the depth of the second groove 3b is from the bottom surface of the filled groove filling ink 4, that is, from the bottom surface of the first groove 3a shown in FIG. 5, to the wiring groove shown in FIG. Forming convex portion 11
It is formed so that the desired height of a and 11b can be obtained. That is, the bottom surface of the second groove 3b serves as the upper end surface of the wiring groove forming protrusions 11a and 11b, and therefore, in FIG. 12, a portion between the bottom surface of the first groove 3a and the bottom surface of the second groove 3b is formed. The height is such that the wiring groove forming protrusions 11a and 11b are formed.
It will correspond to the height of.

【0026】最後に、型基材1に残った溝埋め用インク
4を、剥離または溶解などの方法を用いて除去し(ステ
ップS11)、図2に示した、配線溝形成用凸部11
a,11bおよび孔形成用凸部12を有する転写成形用
型10を得る。
Finally, the groove filling ink 4 remaining on the mold base 1 is removed by a method such as peeling or melting (step S11), and the wiring groove forming convex portion 11 shown in FIG.
A transfer molding die 10 having a and 11b and hole forming protrusions 12 is obtained.

【0027】さらに、その後、必要に応じて、型基材1
の表面に粗化処理を施してもよい。これにより、型基材
1に形成された配線溝形成用凸部11a,11bおよび
孔形成用凸部12の形状をより明確に認識することがで
きるようになり、後の転写成形用型の検査工程での良否
判定が行い易くなる。
Further, after that, if necessary, the mold base 1
The surface of the may be roughened. This makes it possible to more clearly recognize the shapes of the wiring groove forming protrusions 11a and 11b and the hole forming protrusion 12 formed on the die base material 1, and to inspect the subsequent transfer molding die. It becomes easy to judge the quality in the process.

【0028】上記の製造方法によれば、型基材1に2種
類の異なる段差の凸部を形成することができ、配線パタ
ーンの配線溝の深さとスルーホール用の孔の長さに合わ
せて凸部を形成することにより、1回のプレスで一括し
て配線溝およびスルーホール用の孔を基板上に転写成形
するための転写成形用型10を製造することができる。
According to the above-described manufacturing method, it is possible to form two kinds of convex portions having different steps on the mold base 1, and to match the depth of the wiring groove of the wiring pattern and the length of the hole for the through hole. By forming the convex portion, it is possible to manufacture the transfer molding die 10 for transferring and molding the wiring groove and the through hole on the substrate by one press.

【0029】この転写成形用型10の製造においては、
フォトリソグラフィ技術とエッチング加工技術またはサ
ンドブラスト加工技術とを組み合わせることで、型基材
1に対する微細加工が実現され、配線基板の配線パター
ンおよびスルーホールの高密度化に対応することが可能
である。
In the production of this transfer molding die 10,
By combining the photolithography technology and the etching processing technology or the sandblasting technology, fine processing of the die base material 1 is realized, and it is possible to deal with the high density of the wiring pattern and the through holes of the wiring board.

【0030】また、上記の製造方法では、ステップS
2、ステップS8で述べた第1のレジスト層2a、第2
のレジスト層2bの露光・現像処理を除く工程を乾式工
程で行うことが可能であり、環境負荷の高い排水の流出
を抑制することが可能である。
Further, in the above manufacturing method, step S
2, the first resist layer 2a described in step S8, the second
It is possible to perform the steps except the exposure / development treatment of the resist layer 2b in the dry process, and it is possible to suppress the outflow of wastewater having a high environmental load.

【0031】なお、以上の説明では、転写成形用型10
の型基材1の片面のみに、配線溝形成用凸部11a,1
1bおよび孔形成用凸部12を形成する方法について述
べたが、これらを型基材1の両面に形成することも可能
である。
In the above description, the transfer molding die 10 is used.
The wiring groove forming protrusions 11a, 1 are formed only on one surface of the die base material 1 of FIG.
Although the method of forming the convex portion 1b and the hole forming convex portion 12 has been described, it is also possible to form these on both surfaces of the mold base 1.

【0032】また、以上の説明では、配線溝形成用凸部
11a,11bと孔形成用凸部12の2種類の段差があ
る転写成形用型10を例に述べたが、前述のステップS
1からステップS10までの一連の工程の後、ステップ
S5からステップS10の一連の工程を複数回繰り返
し、最後にステップS11の工程を行うことで、2以上
の複数段の段差形状を有する転写成形用型を形成するこ
ともできる。
In the above description, the transfer molding die 10 having two kinds of steps, that is, the wiring groove forming convex portions 11a and 11b and the hole forming convex portion 12, is described as an example.
After the series of steps from 1 to step S10, the series of steps from step S5 to step S10 is repeated a plurality of times, and finally the step of step S11 is performed, so that transfer molding having a step shape of two or more steps is performed. A mold can also be formed.

【0033】[0033]

【発明の効果】以上説明したように本発明では、転写成
形用型の型基材にエッチング加工を施して第1の溝を形
成し、ここに溝埋め用インクを充填・硬化した後、この
溝埋め用インク表面および型基材表面の一部の領域に再
度エッチング加工を施して、第1の溝よりも浅い第2の
溝を形成するようにした。これにより、型基材に2種類
の異なる段差形状を形成することができ、基板上に配線
溝とスルーホール用の孔とを一括して転写成形すること
のできる転写成形用型を製造することができる。
As described above, according to the present invention, the die base material of the transfer molding die is subjected to the etching process to form the first groove, and the groove-filling ink is filled therein and hardened. A part of the groove-filling ink surface and the surface of the mold base material were again etched to form a second groove shallower than the first groove. Thereby, it is possible to form two different step shapes on the die base material, and to manufacture a transfer molding die capable of collectively transfer molding the wiring groove and the through hole on the substrate. You can

【0034】このような転写成形用型を用いて、配線溝
とスルーホール用の孔とを一括して転写成形することに
より、それぞれを別工程で形成する場合に比べて、配線
基板形成のための加工プロセスを短縮し、コストの低減
を図ることができるようになる。
By using such a transfer molding die, the wiring groove and the hole for the through hole are collectively transfer-molded so that the wiring substrate can be formed more easily than in the case where they are formed in separate steps. It is possible to shorten the processing process and reduce the cost.

【0035】また、基板上に配線溝とスルーホール用の
孔とを一括して転写成形することで、各基板間で、配線
溝とスルーホール用の孔との間の相対位置のずれの発生
を防止できるようになる。
Further, the transfer groove and the through hole hole are collectively transferred and molded on the substrate, so that the relative position shift between the wiring groove and the through hole hole occurs between the substrates. Will be able to prevent.

【図面の簡単な説明】[Brief description of drawings]

【図1】転写成形用型の製造工程の流れ図である。FIG. 1 is a flow chart of a manufacturing process of a transfer molding die.

【図2】本発明の実施の形態に係る転写成形用型の概略
の断面図である。
FIG. 2 is a schematic sectional view of a transfer molding die according to an embodiment of the present invention.

【図3】第1のレジスト層形成工程における転写成形用
型の概略の断面図である。
FIG. 3 is a schematic sectional view of a transfer molding die in the first resist layer forming step.

【図4】第1のレジストパターン形成工程における転写
成形用型の概略の断面図である。
FIG. 4 is a schematic sectional view of a transfer molding die in a first resist pattern forming step.

【図5】第1の溝形成工程における転写成形用型の概略
の断面図である。
FIG. 5 is a schematic sectional view of a transfer molding die in the first groove forming step.

【図6】第1のレジスト層除去工程における転写成形用
型の概略の断面図である。
FIG. 6 is a schematic cross-sectional view of a transfer molding die in the first resist layer removing step.

【図7】溝埋め用インク充填・硬化工程における転写成
形用型の概略の断面図である。
FIG. 7 is a schematic cross-sectional view of a transfer molding die in a groove filling ink filling / curing step.

【図8】溝埋め用インク研磨工程における転写成形用型
の概略の断面図である。
FIG. 8 is a schematic sectional view of a transfer molding die in a groove filling ink polishing step.

【図9】第2のレジスト層形成工程における転写成形用
型の概略の断面図である。
FIG. 9 is a schematic sectional view of a transfer molding die in a second resist layer forming step.

【図10】第2のレジストパターン形成工程における転
写成形用型の概略の断面図である。
FIG. 10 is a schematic sectional view of a transfer molding die in a second resist pattern forming step.

【図11】第2の溝形成工程における転写成形用型の概
略の断面図である。
FIG. 11 is a schematic sectional view of a transfer molding die in a second groove forming step.

【図12】第2のレジスト層除去工程における転写成形
用型の概略の断面図である。
FIG. 12 is a schematic sectional view of a transfer molding die in a second resist layer removing step.

【符号の説明】[Explanation of symbols]

1……型基材、2a……第1のレジスト層、2b……第
2のレジスト層、3a……第1の溝、3b……第2の
溝、4……溝埋め用インク、10……転写成形用型、1
1a,11b……配線溝形成用凸部、12……孔形成用
凸部。
DESCRIPTION OF SYMBOLS 1 ... Type | mold base material, 2a ... 1st resist layer, 2b ... 2nd resist layer, 3a ... 1st groove | channel, 3b ... 2nd groove | channel, 4 ... Groove filling ink, 10 ... Transfer molds, 1
1a, 11b ... Wiring groove forming projections, 12 ... Hole forming projections.

Claims (9)

【特許請求の範囲】[Claims] 【請求項1】 基板上に配線パターンに対応する配線溝
および導通用のスルーホールに対応する孔を転写成形す
る転写成形用型の製造方法であって、 型基材の表面に第1のレジスト層を形成し、 前記型基材にエッチング加工を施して第1の溝を形成
し、 形成された前記第1の溝に溝埋め用インクを充填して硬
化し、 硬化された前記溝埋め用インクの表面と前記型基材の表
面の一部とに第2のレジスト層を形成し、 前記型基材に前記エッチング加工を施して前記第1の溝
よりも浅い第2の溝を形成し、 前記第2のレジスト層と前記溝埋め用インクとを除去す
ることを特徴とする転写成形用型の製造方法。
1. A method of manufacturing a transfer molding die, comprising forming a wiring groove corresponding to a wiring pattern and a hole corresponding to a through hole for conduction on a substrate by transfer molding, wherein a first resist is formed on a surface of a mold base material. Forming a layer, etching the mold base to form a first groove, filling the formed first groove with a groove filling ink, and curing the cured groove; A second resist layer is formed on the surface of the ink and a part of the surface of the mold base, and the mold base is subjected to the etching process to form a second groove shallower than the first groove. A method for manufacturing a transfer molding die, comprising removing the second resist layer and the groove filling ink.
【請求項2】 前記基板は、樹脂シート材料であること
を特徴とする請求項1記載の転写成形用型の製造方法。
2. The method for manufacturing a transfer molding die according to claim 1, wherein the substrate is a resin sheet material.
【請求項3】 前記型基材の材質は、ガラスであること
を特徴とする請求項1記載の転写成形用型の製造方法。
3. The method for producing a transfer molding die according to claim 1, wherein the material of the die base material is glass.
【請求項4】 前記型基材の材質は、セラミックである
ことを特徴とする請求項1記載の転写成形用型の製造方
法。
4. The method for manufacturing a transfer molding die according to claim 1, wherein the material of the die base material is ceramic.
【請求項5】 前記第1の溝に前記溝埋め用インクを充
填して硬化する際には、前記型基材の表面全体に前記溝
埋め用インクを塗布して硬化し、前記溝埋め用インクを
前記型基材の表面が露出するまで研磨することを特徴と
する請求項1記載の転写成形用型の製造方法。
5. When filling the groove filling ink into the first groove and curing the same, the groove filling ink is applied to the entire surface of the mold base material and cured to form the groove filling ink. The method for producing a transfer molding die according to claim 1, wherein the ink is polished until the surface of the die substrate is exposed.
【請求項6】 前記レジスト層と前記溝埋め用インクと
を除去した後、前記型基材の表面に粗化処理を施すこと
を特徴とする請求項1記載の転写成形用型の製造方法。
6. The method for producing a transfer molding die according to claim 1, wherein the surface of the die base material is subjected to a roughening treatment after the resist layer and the groove filling ink are removed.
【請求項7】 基板上に配線パターンに対応する配線溝
および導通用のスルーホールに対応する孔を転写成形す
る転写成形用型の製造方法であって、 型基材の表面に第1のレジスト層を形成し、 前記型基材にサンドブラスト加工を施して第1の溝を形
成し、 形成された前記第1の溝に溝埋め用インクを充填して硬
化し、 硬化された前記溝埋め用インクの表面と前記型基材の表
面の一部とに第2のレジスト層を形成し、 前記型基材に前記サンドブラスト加工を施して前記第1
の溝よりも浅い第2の溝を形成し、 前記第2のレジスト層と前記溝埋め用インクとを除去す
ることを特徴とする転写成形用型の製造方法。
7. A method of manufacturing a transfer molding die, comprising forming a wiring groove corresponding to a wiring pattern and a hole corresponding to a through hole for conduction on a substrate by transfer molding, wherein a first resist is formed on a surface of a mold base material. A layer is formed, the mold base material is subjected to sandblasting to form a first groove, and the formed first groove is filled with a groove filling ink and hardened; A second resist layer is formed on the surface of the ink and a part of the surface of the mold base, and the sandblasting is applied to the mold base to form the first resist layer.
Forming a second groove that is shallower than the groove, and removing the second resist layer and the groove filling ink.
【請求項8】 基板上に配線パターンに対応する配線溝
および導通用のスルーホールに対応する孔を転写成形す
る転写成形用型であって、 基板に転写される配線パターンに対応して形成された配
線溝形成用凸部と、 前記基板に転写されるスルーホールに対応して形成され
た孔形成用凸部と、 を有することを特徴とする転写成形用型。
8. A transfer molding die for transfer-molding a wiring groove corresponding to a wiring pattern and a hole corresponding to a through hole for conduction, which is formed corresponding to a wiring pattern transferred to a substrate. A transfer molding die, comprising: a wiring groove forming convex portion; and a hole forming convex portion formed corresponding to a through hole transferred to the substrate.
【請求項9】 請求項8記載の転写成形用型を樹脂シー
ト材料にプレスすることによって、前記基板に前記配線
溝と前記孔とを一括して転写成形することを特徴とする
配線パターン形成方法。
9. A method for forming a wiring pattern, wherein the wiring groove and the hole are collectively transferred and molded on the substrate by pressing the transfer molding die according to claim 8 on a resin sheet material. .
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