JP2003222990A - Loading structure of photomask with pellicle - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は集積回路の製造工程
で使用されるフォトマスクまたはレチクル（以降、両者
をあわせてフォトマスクと称す。）に異物付着防止の目
的で装着される、とりわけＦ２レーザー（波長１５７．
６ｎｍ）の光を用いる光リソグラフィに好適なペリクル
のフォトマスクへの装着構造に関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention is mounted on a photomask or reticle (hereinafter, both are collectively referred to as a photomask) used in a manufacturing process of an integrated circuit for the purpose of preventing foreign matter from adhering, and in particular, F 2 Laser (wavelength 157.
The present invention relates to a structure for mounting a pellicle on a photomask, which is suitable for photolithography using light of 6 nm).
【０００２】[0002]
【従来の技術】集積回路の製造工程で使用される光リソ
グラフィ工程においては、レジスト材を塗布した半導体
ウェハを露光することによりパターン形成が行われる。
この際に用いるフォトマスクに傷・異物が存在している
と、パターンとともに傷・異物がウェハ上に転写され、
回路の短絡・断線等の原因となる。2. Description of the Related Art In a photolithography process used in a process of manufacturing an integrated circuit, a semiconductor wafer coated with a resist material is exposed to form a pattern.
If the photomask used at this time has scratches or foreign matter, the scratches and foreign matter are transferred to the wafer along with the pattern,
It may cause a short circuit or disconnection of the circuit.
【０００３】このため、フォトマスクの表面の異物よけ
として、フォトマスクの片面または両面にペリクルを装
着する方法がとられている。For this reason, a method of mounting a pellicle on one side or both sides of the photomask has been adopted to prevent foreign matter on the surface of the photomask.
【０００４】従来、ペリクルは図５の正面図及び側面図
に示すような外形で、アルミニウムなどからなるペリク
ルフレーム１にニトロセルロースまたはフッ素樹脂など
の有機樹脂からなる数ｎｍ〜数μｍの厚みのペリクル膜
２を接着剤３で貼り付けたものが用いられており これ
をフォトマスク上のパターンを覆うように固定して用い
られていた。しかし、このような有機樹脂膜等を使用し
たペリクルは、露光精度を上げるために使用される波長
が短くなると、光学的エネルギーが強大であることか
ら、有機分が分解し、実際の露光で使用するエネルギー
でのショット数、いいかえれば使用時間に対して充分な
耐久性を持っていない。Conventionally, the pellicle has an outer shape as shown in the front view and side view of FIG. 5, and has a pellicle frame 1 made of aluminum or the like and a pellicle made of an organic resin such as nitrocellulose or fluororesin and having a thickness of several nm to several μm. The film 2 adhered with the adhesive 3 is used, and the film 2 is fixed and used so as to cover the pattern on the photomask. However, in a pellicle using such an organic resin film, when the wavelength used to improve the exposure accuracy becomes shorter, the optical energy is so strong that the organic components are decomposed and used in the actual exposure. It does not have enough durability for the number of shots with the energy to use, in other words, the usage time.
【０００５】そこで、近年、有機樹脂によるペリクル膜
に替わり、合成石英ガラスを薄い板に加工したペリクル
板を使用することが検討されている。この合成石英ガラ
スは、例えば、珪素源と酸素源とを気相で反応させスー
トと呼ばれる酸化珪素からなる多孔質を成長させ、この
他孔質を焼結して得られる実質的に酸化珪素のみからな
るガラスである。この合成石英ガラスからなるペリクル
板は、透過効率を良くするため、片面もしくは両面に反
射防止膜を施すことが多い。Therefore, in recent years, it has been considered to use a pellicle plate obtained by processing a synthetic quartz glass into a thin plate in place of the organic resin pellicle film. This synthetic quartz glass is obtained by, for example, reacting a silicon source and an oxygen source in a vapor phase to grow a porous material called soot, which is made of silicon oxide, and is obtained by sintering other porosity to obtain substantially only silicon oxide. It is made of glass. The pellicle plate made of this synthetic quartz glass is often provided with an antireflection film on one side or both sides in order to improve the transmission efficiency.
【０００６】合成石英ガラスをペリクル板として使用し
たペリクルを実際に露光工程で使用すると、合成石英ガ
ラス自体が光エネルギーを吸収し熱をもつことにより、
膨張する。また、ペリクルフレーム自体も熱を帯びる。
このとき、ペリクルフレーム材料として従来から用いら
れている金属、例えばアルミニウムやチタン等は、合成
石英ガラスと熱膨張係数が異なるために、ペリクル板で
ある合成石英ガラスに応力を与え複屈折による光路の変
動や機械的なたわみによる光路の変動を生じさせる問題
がある。よって、ペリクルフレーム材料としては合成石
英ガラスと熱膨張係数が同じか、より近い材料が望まし
い。When a pellicle using synthetic quartz glass as a pellicle plate is actually used in an exposure step, the synthetic quartz glass itself absorbs light energy and has heat.
Expands. Also, the pellicle frame itself takes on heat.
At this time, a metal conventionally used as a pellicle frame material, such as aluminum or titanium, has a coefficient of thermal expansion different from that of synthetic quartz glass, and therefore stress is exerted on the synthetic quartz glass that is the pellicle plate, so that the optical path of birefringence is reduced. There is a problem of causing fluctuations in the optical path due to fluctuations and mechanical bending. Therefore, as the pellicle frame material, a material having a thermal expansion coefficient equal to or closer to that of synthetic quartz glass is desirable.
【０００７】一方、合成石英ガラスをペリクル板として
使用する場合、ペリクル板の厚さは０．０１〜２ｍｍで
あることが望ましいとされているが、実際の露光を鑑み
ると、このような厚さのペリクル板を使用した場合、ペ
リクル板内に厚みのばらつきがあると図６に示すように
露光光４が屈折して光の光路が変わるため転写パターン
の位置がずれ良好なリソグラフが行えないことが知られ
ている。このために、ペリクル板に許容される上下面の
平行度は０．１μｍ／５０ｍｍであるとされている。On the other hand, when synthetic quartz glass is used as a pellicle plate, it is desirable that the thickness of the pellicle plate be 0.01 to 2 mm. When the pellicle plate is used, if the thickness of the pellicle plate varies, the exposure light 4 is refracted and the optical path of the light is changed as shown in FIG. 6, so that the position of the transfer pattern is displaced and good lithography cannot be performed. It has been known. For this reason, the parallelism of the upper and lower surfaces allowed for the pellicle plate is said to be 0.1 μm / 50 mm.
【０００８】同様に、上記の平行度を満足するペリクル
板を使用した場合であっても、図７のようにペリクルフ
レーム１の上下面で固定されたペリクル板２とフォトマ
スク５面からなる２面の平行度が悪いと転写パターンの
位置がずれる。Similarly, even when a pellicle plate satisfying the above parallelism is used, the pellicle plate 2 fixed to the upper and lower surfaces of the pellicle frame 1 as shown in FIG. If the parallelism of the surfaces is poor, the position of the transfer pattern will shift.
【０００９】また、ペリクル板を、ペリクルフレームに
接着することで、ペリクルとされるため、この接着面の
平坦度が精度よくでていないと、接着後のペリクル板が
ペリクルフレーム上面の形状に矯正されることによりた
わむ、または、矯正力により複屈折を大きくする等の光
学上の不具合を発生させる。さらには、ペリクルフレー
ム下面についても、平坦度が悪いとフォトマスク面との
接着において、ペリクルフレーム自体にゆがみやたわみ
を発生し、ひいてはペリクル板までたわむ可能性があ
る。Further, since the pellicle plate is bonded to the pellicle frame to form a pellicle, if the flatness of the bonding surface is not accurate, the bonded pellicle plate is corrected to the shape of the upper surface of the pellicle frame. By doing so, an optical defect such as bending or an increase in birefringence due to the correction force occurs. Furthermore, if the flatness of the lower surface of the pellicle frame is poor, the pellicle frame itself may be distorted or warped when it is bonded to the photomask surface, and may even bend to the pellicle plate.
【００１０】このため、ペリクルフレームの各面の平坦
度（枠体を構成する上下のそれぞれの面の全面を対象と
し、理想平面に対する凹凸の最大差）は１μｍ以下とさ
れ、同時に上下面の平行度（枠体の全面で任意の点をと
った場合の最大差）は２μｍ以下が求められている。一
方、ペリクル板とペリクルフレーム、フォトマスクとペ
リクルフレームの接着においても、前述の精度を維持し
貼り付ける方法が必要である。For this reason, the flatness of each surface of the pellicle frame (the entire difference between the upper and lower surfaces constituting the frame body, the maximum difference between the unevenness and the ideal plane) is set to 1 μm or less, and at the same time, the upper and lower surfaces are parallel to each other. The degree (the maximum difference when an arbitrary point is taken on the entire surface of the frame) is required to be 2 μm or less. On the other hand, also in the bonding of the pellicle plate and the pellicle frame, and the photomask and the pellicle frame, the method of bonding while maintaining the above-mentioned accuracy is necessary.
【００１１】この解決手段としては、ペリクル板とペリ
クルフレームの間の接着剤、フォトマスクとペリクルフ
レームの接着剤もしくは粘着材（以降、両者をあわせ接
着剤と称す。）の厚みを薄くするなどの方法が試行され
ている。As a means for solving this, the thickness of the adhesive between the pellicle plate and the pellicle frame, the adhesive of the photomask and the pellicle frame or the adhesive (hereinafter, both are collectively referred to as an adhesive) is reduced. The method is being tried.
【００１２】しかしながら、これらの接着剤は、有機系
物質から成るものが一般的であり、前述のように光学的
なエネルギーの大きい光が照射された場合、分解もしく
は劣化し、接着部の剥離や発塵の原因となる、あるいは
有機分の脱ガスにより使用波長の光線の透過率を低下せ
しめるといった不具合が生じる。一方、ペリクル板とペ
リクルフレーム間の接着剤の劣化防止策として、発明者
らにより特開２００２−１０７９１５が提案されてお
り、これによれば、上記のペリクルフレームの接着面の
平坦度を満足さえすれば、当初の効果を得ることができ
ることは窺い知ることができる。However, these adhesives are generally made of an organic material, and as described above, when they are irradiated with light having large optical energy, they are decomposed or deteriorated, and the adhesive parts are peeled off or peeled off. Problems such as dust generation or a decrease in the transmittance of light of the used wavelength due to degassing of organic components occur. On the other hand, as a measure for preventing the deterioration of the adhesive between the pellicle plate and the pellicle frame, the inventors of the present invention have proposed Japanese Patent Laid-Open No. 2002-107915. According to this, even the flatness of the bonding surface of the pellicle frame is satisfied. If you do that, you can see that you can get the initial effect.
【００１３】[0013]
【特許文献１】特開２００２−１０７９１５号公報[Patent Document 1] Japanese Patent Laid-Open No. 2002-107915
【００１４】[0014]
【発明が解決しようとする課題】しかしながら、ペリク
ルフレームとフォトマスク面の接着においては、充分な
対応策が講じられていない。本発明は、このような問題
を解決するためになされたものである。However, sufficient measures have not been taken in bonding the pellicle frame and the photomask surface. The present invention has been made to solve such a problem.
【００１５】[0015]
【課題を解決するための手段】本発明者らは、ペリクル
フレームのフォトマスク面の接着されるべき面を高精度
に平坦とすることが可能である点に着目し、本発明にい
たった。The inventors of the present invention have paid attention to the fact that the surface of the photomask surface of the pellicle frame to be bonded can be made flat with high precision, and arrived at the present invention.
【００１６】すなわち、本発明は、ペリクルフレームと
ペリクルフレームの一方の開口部に接着されたペリクル
板とを備えたペリクルの、フォトマスクへの装着構造で
あって、ペリクルフレームとフォトマスクとが接触する
面のうち少なくとも一部は接着剤を介さず、直接接触し
ていることを特徴とするペリクルのフォトマスクへの装
着構造である。That is, the present invention is a mounting structure for a photomask of a pellicle including a pellicle frame and a pellicle plate adhered to one opening of the pellicle frame, wherein the pellicle frame and the photomask contact each other. At least a part of the contact surface is in direct contact with no adhesive, and the pellicle is attached to the photomask.
【００１７】すなわち、少なくともそれぞれの接着され
るべき面の全面、もしくは一部の面が接着剤を介するこ
となく接触すればペリクル板とフォトマスク面の平行度
が維持されると考えられる。そのための構造としては、
（１）ペリクルフレームをフォトマスク側に押圧する補
助部材を使用する。特に、Ｌ字型の断面構造をもつ補助
部材をペリクルの少なくとも一部に係合させて、補助部
材をフォトマスクに接着することにより、ペリクルフレ
ームをフォトマスク側に押圧する。（２）ペリクルフレ
ーム外周部に接着剤を配置して、ペリクルフレームとフ
ォトマスクとを接着する、（３）ペリクルフレームの接
着されるべき面に凹状加工を施し、該凹部に接着剤を充
填してペリクルフレームをフォトマスクに接着する、な
どが例示できる。That is, it is considered that the parallelism between the pellicle plate and the photomask surface is maintained when at least the entire surfaces to be bonded or a part of the surfaces are in contact with each other without an adhesive. As a structure for that,
(1) Use an auxiliary member that presses the pellicle frame toward the photomask. In particular, an auxiliary member having an L-shaped cross-sectional structure is engaged with at least a part of the pellicle to bond the auxiliary member to the photomask, thereby pressing the pellicle frame toward the photomask. (2) An adhesive is placed on the outer peripheral portion of the pellicle frame to bond the pellicle frame and the photomask together. (3) The surface of the pellicle frame to be bonded is concavely processed, and the concave is filled with the adhesive. For example, the pellicle frame may be adhered to the photomask.
【００１８】また、ペリクル板の材質は、露光光を透過
する材料であれば限定されないが、短波長の紫外線光に
対して、透明度が高く、耐性が高いことから、合成石英
ガラスであることが好ましい。The material of the pellicle plate is not limited as long as it is a material that transmits exposure light, but it is synthetic quartz glass because it has high transparency and high resistance to short wavelength ultraviolet light. preferable.
【００１９】さらに、ペリクルフレームの材質は、合成
石英ガラスと同等の熱膨張係数であることが望ましい。
この点では、合成石英ガラスがもっとも望ましく、つい
で溶融石英ガラスや他成分系のガラス、セラミック、合
金等などがある。Further, it is desirable that the material of the pellicle frame has a coefficient of thermal expansion equivalent to that of synthetic quartz glass.
In this respect, synthetic quartz glass is the most desirable, followed by fused quartz glass, other component type glass, ceramics, alloys and the like.
【００２０】[0020]
【発明の実施の形態】以下、本発明の実施形態に関して
図面を参照しながら説明する。BEST MODE FOR CARRYING OUT THE INVENTION Embodiments of the present invention will be described below with reference to the drawings.
【００２１】図１は、本発明の第１実施形態を示すもの
であり、ペリクルをフォトマスクに装着した状態の断面
図である。FIG. 1 shows a first embodiment of the present invention, and is a sectional view of a state in which a pellicle is mounted on a photomask.
【００２２】ペリクルフレーム１の外周側面にはフォト
マスク５面と接着する側の面と平行な面を持つ突出部１
ａが一体加工され、段差部を形成している。そして、Ｌ
字型の断面構造をもつ補助部材８の、Ｌ字の水平部分を
係合面としてこの突出部１ａに係合させて、ペリクルフ
レーム１をフォトマスク５側に押圧する。また、補助部
材８のＬ字の頂部を接合面として、フォトマスク５に接
合する。ペリクルフレーム１をフォトマスク５面に固定
するために、補助部材８がフォトマスク５面と接触する
接合面６とペリクルフレーム１の突出部１ａの上面とが
接触する係合面７とに接着剤を使用することでフォトマ
スクとペリクルフレームとの間に接着剤を介することな
く強固保持される。On the outer peripheral side surface of the pellicle frame 1, there is a protruding portion 1 having a surface parallel to the surface bonded to the surface of the photomask 5.
a is integrally processed to form a stepped portion. And L
The pellicle frame 1 is pressed to the photomask 5 side by engaging the protruding portion 1a with the L-shaped horizontal portion of the auxiliary member 8 having a V-shaped cross-sectional structure as the engaging surface. Further, the L-shaped top portion of the auxiliary member 8 is bonded to the photomask 5 as a bonding surface. In order to fix the pellicle frame 1 to the surface of the photomask 5, an adhesive is applied to the joining surface 6 where the auxiliary member 8 contacts the surface of the photomask 5 and the engagement surface 7 where the upper surface of the projection 1a of the pellicle frame 1 contacts. By using, it is firmly held between the photomask and the pellicle frame without an adhesive.
【００２３】このとき、係合面７の接着剤は、必ずしも
必要とされないが、若干のクッション性を持たすために
は有効である。また、ペリクルフレーム１に形成された
突出部１ａと補助部材８とは、必ずしもペリクルフレー
ム１の外周全面にある必要はなく、断続的に外周部に配
置されてもよい。さらに、突出部はフォトマスクと平行
でなくともよく、補助部材が係合可能ならよい。At this time, the adhesive for the engaging surface 7 is not always necessary, but it is effective for providing a slight cushioning property. Further, the protruding portion 1a formed on the pellicle frame 1 and the auxiliary member 8 do not necessarily have to be on the entire outer peripheral surface of the pellicle frame 1, and may be intermittently arranged on the outer peripheral portion. Furthermore, the protrusion does not have to be parallel to the photomask as long as the auxiliary member can be engaged.
【００２４】さらに、補助部材は、必ずしもＬ字の断面
を持つ必要はなく、少なくともフォトマスクと接着する
接合面と、ペリクルと係合する係合面とを備えればよ
い。Further, the auxiliary member does not necessarily have to have an L-shaped cross section, and may have at least a joining surface for adhering to the photomask and an engaging surface for engaging with the pellicle.
【００２５】図２は、本発明の第１実施形態の変形例
で、ペリクルをフォトマスクに装着した状態の断面図で
ある。FIG. 2 is a cross-sectional view of a modified example of the first embodiment of the present invention in which a pellicle is mounted on a photomask.
【００２６】本実施形態では、Ｌ字型の断面構造をもつ
補助部材８をペリクル板２のペリクルフレーム１と接触
していない側の表面に係合させて、ペリクルフレーム１
をフォトマスク５側に押圧する。この場合も、フォトマ
スク５面と補助部材８との接合面６の接着剤は必要であ
るが、補助部材８とペリクル板２との係合面７には必ず
しも接着剤を用いる必要はない。また、補助部材８は、
必ずしも、ペリクルフレーム１の全周を囲うように設け
る必要はなく、数箇所に離散して配置するだけでもよ
い。In the present embodiment, the auxiliary member 8 having an L-shaped sectional structure is engaged with the surface of the pellicle plate 2 on the side not in contact with the pellicle frame 1, and the pellicle frame 1
Is pressed against the photomask 5 side. Also in this case, the adhesive on the joint surface 6 between the photomask 5 surface and the auxiliary member 8 is necessary, but the adhesive is not necessarily used on the engaging surface 7 between the auxiliary member 8 and the pellicle plate 2. Further, the auxiliary member 8 is
It is not always necessary to provide the pellicle frame 1 so as to surround the entire circumference thereof, and the pellicle frame 1 may be arranged at several locations separately.
【００２７】さらに、補助部材は、必ずしもＬ字の断面
を持つ必要はなく、少なくともフォトマスクと接着する
接合面と、ペリクルと係合する係合面とを備えればよい
のは、図１の実施形態と同様である。Further, the auxiliary member does not necessarily have to have an L-shaped cross section, and it suffices if it has at least a joining surface for adhering to the photomask and an engaging surface for engaging with the pellicle. It is similar to the embodiment.
【００２８】図３は、本発明の別の実施形態であり、ペ
リクルをフォトマスクに装着した状態の断面図である。FIG. 3 is another embodiment of the present invention and is a cross-sectional view of a state in which a pellicle is mounted on a photomask.
【００２９】ペリクルフレーム１のフォトマスク５面と
接触する面と側面とで形成される陵に切り欠き部１０を
形成し、この切り欠き部１０に接着剤を充填することに
よりフォトマスク５面との接着を可能ならしめたことを
特徴としている。ここでは、加工のしやすさより切り欠
きの形状をＣ面取り状に図示したが、矩形状の切り欠き
からなる構造など、他の構造であってもよい。また、同
様の目的を果たすためには、フォトマスク５面とペリク
ルフレーム１外周側面からなる境界に接着剤をモールド
してもよい。A notch 10 is formed in a ridge formed by a side surface and a side surface of the pellicle frame 1 which are in contact with the photomask 5 surface, and the notch 10 is filled with an adhesive to form the photomask 5 surface. It is characterized by the fact that it can be adhered. Here, the shape of the notch is shown as a C-chamfered shape for ease of processing, but other structures such as a structure having a rectangular notch may be used. In order to achieve the same purpose, an adhesive may be molded at the boundary between the surface of the photomask 5 and the outer peripheral side surface of the pellicle frame 1.
【００３０】図４は、本発明の更に別の実施形態であ
り、ペリクルをフォトマスクに装着した状態の断面図で
ある。FIG. 4 is still another embodiment of the present invention and is a cross-sectional view of a state in which a pellicle is mounted on a photomask.
【００３１】ペリクルフレーム１のフォトマスク５面と
接着される面に、研削加工等により凹部１１が形成さ
れ、この凹部１１に充填された接着剤によりフォトマス
ク５面との接着を可能ならしめたことを特徴としてい
る。この凹部１１については、必ずしもペリクルフレー
ム１の全周にある必要はなく、接着する面に断続的に配
置されてもよい。凹部の形状は図示したものに限定され
ず、多角錐状のものでもよいし、半球状のものでもよ
い。A recess 11 is formed on the surface of the pellicle frame 1 to be adhered to the photomask 5 surface by grinding or the like, and the adhesive filled in the recess 11 enables adhesion to the photomask 5 surface. It is characterized by that. The recess 11 does not necessarily have to be provided on the entire circumference of the pellicle frame 1, and may be intermittently arranged on the surface to be bonded. The shape of the recess is not limited to that shown in the figure, and may be a polygonal pyramid or a hemisphere.
【００３２】本発明は、上記の実施例で用いた形態に限
らず、本発明の要旨をそこなわないものであれば形状は
問わない。The present invention is not limited to the form used in the above-mentioned embodiments, and any shape may be used as long as it does not impair the gist of the present invention.
【００３３】本発明において、ペリクルフレームとして
好ましい材料である石英ガラスとしては、合成石英ガラ
スでもよいし、溶融石英ガラスでもよい。こうして、露
光時のペリクル温度変化によるペリクル板での複屈折の
発生量を小さくし、露光パターンの寸法精度に対する影
響を少なくできる。また、露光時の温度変化ならびに搬
送時の温度変化によるペリクルフレームとペリクル板と
の熱膨張の違いによるペリクルのゆがみがなくなる。特
に、フレーム加工中の熱ひずみが少ないので、加工後の
フレーム平行度がよい。In the present invention, the quartz glass which is a preferable material for the pellicle frame may be synthetic quartz glass or fused quartz glass. In this way, the amount of birefringence generated in the pellicle plate due to the temperature change of the pellicle during exposure can be reduced, and the influence on the dimensional accuracy of the exposure pattern can be reduced. Further, distortion of the pellicle due to a difference in thermal expansion between the pellicle frame and the pellicle plate due to a temperature change during exposure and a temperature change during conveyance is eliminated. Particularly, since the thermal strain during frame processing is small, the frame parallelism after processing is good.
【００３４】合成石英ガラスは、成形されたブロックか
らスライスして容易に板状の素板を得ることができる。
また、溶融石英ガラスについても、ガラス素材を溶解し
ブロックからスライスする、あるいはシート状に成形す
ることで容易に板状の素板を得ることが可能である。The synthetic quartz glass can be easily sliced from a molded block to obtain a plate-shaped blank.
Also, regarding fused silica glass, it is possible to easily obtain a plate-shaped raw plate by melting a glass material and slicing it from a block or forming it into a sheet shape.
【００３５】ペリクスフレームは、ペリクルフレームと
して使用する範囲において、研磨後の石英ガラス板の少
なくとも１面が平坦度１μｍ以下であり、かつ両面の平
行度が２μｍ以下であることが好ましい。In the pellicle frame, it is preferable that at least one surface of the quartz glass plate after polishing has a flatness of 1 μm or less and a parallelism of both surfaces of 2 μm or less in a range of being used as a pellicle frame.
【００３６】また、必要に応じて、ペリクルフレーム側
面に、ドリルで通気用の孔をあけたり、あるいはエンド
ミルでチャック用のディンプルを形成するなどの加工を
施すことができる。If necessary, the side surface of the pellicle frame may be processed by drilling holes for ventilation or by using an end mill to form dimples for chucking.
【００３７】また、フレームの強度の向上や加工後の粗
面からの発塵防止手段として、フレームの内側面、外側
面をポリシング加工するか、あるいはフレーム全体をＨ
Ｆ等によりエッチングすることが望ましい。Further, as means for improving the strength of the frame and preventing dust generation from the rough surface after processing, the inner side surface and the outer side surface of the frame are polished or the entire frame is H
It is desirable to etch with F or the like.
【００３８】このようなペリクルフレームは、特に、波
長２２０ｎｍ以下の光、とりわけＦ ２レーザ光を用いる
露光に好適なペリクルに使用することができる。Such a pellicle frame is particularly suitable for waves.
Light with a length of 220 nm or less, especially F TwoUse laser light
It can be used for a pellicle suitable for exposure.
【００３９】本発明では、ペリクル板は、厚さ０．０１
〜２ｍｍ程度の石英ガラスからなることが好ましく、特
に波長２２０ｎｍ以下の短波長の露光に用いる場合は、
合成石英ガラスとすることが好ましい。In the present invention, the pellicle plate has a thickness of 0.01.
It is preferably made of quartz glass of about 2 mm, particularly when used for short wavelength exposure of 220 nm or less,
It is preferable to use synthetic quartz glass.
【００４０】またペリクル板の厚さは２ｍｍ以下である
ことが好ましい。これにより、ペリクル板自身が持つ複
屈折を押さえることができるので好ましい。特に１ｍｍ
以下の場合は透過率が良く、ペリクル板における吸収が
ないために露光時にペリクル板の温度上昇を小さくでき
る。従って、ペリクルに熱的な応力が生じにくくなるの
で好ましい。なお、ペリクル板の厚さは、強度の点から
０．０１ｍｍ以上であることが好ましい。The thickness of the pellicle plate is preferably 2 mm or less. This is preferable because the birefringence of the pellicle plate itself can be suppressed. Especially 1 mm
In the following cases, the transmittance is good and there is no absorption in the pellicle plate, so the temperature rise of the pellicle plate during exposure can be reduced. Therefore, thermal stress is less likely to occur in the pellicle, which is preferable. The thickness of the pellicle plate is preferably 0.01 mm or more in terms of strength.
【００４１】ペリクル板とペリクルフレームの接着に用
いる接着剤としては、例えばポリブテン樹脂、アクリル
樹脂、エポキシ樹脂、シリコーン系接着剤、フッ素系接
着剤等を用いることができる。特に、フッ素系接着剤は
紫外光における耐性がよく、発塵しないという点で好ま
しい。As the adhesive used for adhering the pellicle plate and the pellicle frame, for example, polybutene resin, acrylic resin, epoxy resin, silicone adhesive, fluorine adhesive or the like can be used. Fluorine-based adhesives are particularly preferable because they have good resistance to ultraviolet light and do not generate dust.
【００４２】また、接着部材の厚さは１μｍ以上とする
ことが好ましい。温度変化によるペリクルの変形を接着
部材によって緩和でき、良好な露光を行うことができる
ためである。また、ペリクル板をペリクルフレームに接
着する際において、接着部材の厚さが１μｍ以上である
とペリクルマウンタで均等に力を加えることができ、ペ
リクル板がフレームに対して水平な状態で固定できると
いう利点もある。The thickness of the adhesive member is preferably 1 μm or more. This is because the deformation of the pellicle due to the temperature change can be alleviated by the adhesive member, and good exposure can be performed. Further, when the pellicle plate is bonded to the pellicle frame, if the thickness of the adhesive member is 1 μm or more, the pellicle mounter can apply a uniform force, and the pellicle plate can be fixed in a horizontal state with respect to the frame. There are also advantages.
【００４３】[0043]
【発明の効果】本発明によれば、ペリクル板とフォトマ
スク面の平行度を、少なくともフォトマスク面とペリク
ルフレームとの接着により悪化させることがない。ま
た、少なくともペリクルとフォトマスクで内在された空
間に接着剤の一部が直接暴露されないため接着剤の劣化
がないという利点もある。According to the present invention, the parallelism between the pellicle plate and the photomask surface is not deteriorated by at least the adhesion between the photomask surface and the pellicle frame. Further, there is also an advantage that the adhesive is not deteriorated because a part of the adhesive is not directly exposed to at least the space inside the pellicle and the photomask.
【図１】発明の第１実施形態を示すための断面図FIG. 1 is a cross-sectional view showing a first embodiment of the invention.
【図２】発明の第１実施形態の変形例を示すための断面
図FIG. 2 is a sectional view showing a modification of the first embodiment of the invention.
【図３】発明の別の実施形態を示すための断面図FIG. 3 is a cross-sectional view showing another embodiment of the invention.
【図４】発明のさらに別の実施形態を示すための断面図FIG. 4 is a cross-sectional view showing yet another embodiment of the invention.
【図５】ペリクルを示す正面図と側面図FIG. 5 is a front view and a side view showing the pellicle.
【図６】ペリクル板の平行度による露光光路のズレの概
念図FIG. 6 is a conceptual diagram of an exposure optical path shift due to the parallelism of the pellicle plate.
【図７】ペリクル板とフォトマスクの平行度による露光
光路のズレの概念図FIG. 7 is a conceptual diagram of deviation of an exposure optical path due to parallelism between a pellicle plate and a photomask.
１：ペリクルフレーム ２：ペリクル膜（ペリクル板） ３：接着剤 ４：露光光線 ５：フォトマスク ６：接合面 ７：係合面 ８：補助部材 1: Pellicle frame 2: Pellicle film (pellicle plate) 3: Adhesive 4: Exposure ray 5: Photo mask 6: Joined surface 7: Engaging surface 8: Auxiliary member
Claims (8)
方の開口部に接着されたペリクル板とを備えたペリクル
の、フォトマスクへの装着構造であって、ペリクルフレ
ームとフォトマスクとが接触する面のうち少なくとも一
部は接着剤を介さず、直接接触していることを特徴とす
るペリクルのフォトマスクへの装着構造。1. A mounting structure for a photomask of a pellicle comprising a pellicle frame and a pellicle plate adhered to one opening of the pellicle frame, wherein the pellicle frame and the photomask are in contact with each other. At least a part of the pellicle is in direct contact with the photomask, not through an adhesive.
補助部材を備えることを特徴とする請求項１記載のペリ
クルのフォトマスクへの装着構造。2. The structure for mounting a pellicle on a photomask according to claim 1, further comprising an auxiliary member for mounting the pellicle on the photomask.
着する接合面と、ペリクルと係合する係合面とを備えた
請求項２記載のペリクルのフォトマスクへの装着構造。3. The mounting structure for a pellicle on a photomask according to claim 2, wherein the auxiliary member has at least a joining surface for adhering to the photomask and an engaging surface for engaging with the pellicle.
部を接合面としてフォトマスクと接合されるとととも
に、Ｌ字の水平部分を係合面としてペリクルと係合する
請求項３記載のペリクルのフォトマスクへの装着構造。4. The auxiliary member has an L-shaped cross section, is joined to the photomask by using the L-shaped top portion as a joining surface, and is engaged with the pellicle by using the L-shaped horizontal portion as an engaging surface. Structure for mounting the pellicle on the photomask.
え、補助部材はその段差部でペリクルと係合する請求項
３または４記載のペリクルのフォトマスクへの装着構
造。5. A structure for mounting a pellicle on a photomask according to claim 3, wherein the pellicle frame has a step portion on its outer periphery, and the auxiliary member engages with the pellicle at the step portion.
と係合する請求項３または４記載のペリクルのフォトマ
スクへの装着構造。6. The structure for mounting a pellicle on a photomask according to claim 3, wherein the auxiliary member engages with the pellicle on the surface of the pellicle plate.
して、ペリクルフレームとフォトマスクとを接着する請
求項１記載のペリクルのフォトマスクへの装着構造。7. The structure for mounting a pellicle on a photomask according to claim 1, wherein an adhesive is arranged on an outer peripheral portion of the pellicle frame to bond the pellicle frame and the photomask.
面に凹部を設け、その凹部に接着剤を充填してペリクル
フレームとフォトマスクとを接着する請求項１記載のペ
リクルのフォトマスクへの装着構造。8. The structure for mounting a pellicle on a photomask according to claim 1, wherein a recess is provided on a surface of the pellicle frame in contact with the photomask, and the recess is filled with an adhesive to bond the pellicle frame to the photomask.
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