JP2005148620A - Pellicle and pellicle product group - Google Patents
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Abstract
Description
本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩなどの半導体素子または液晶表示装置などの製造に用いられ、とりわけ波長２２０ｎｍ以下の光、特にＦ２レーザ光（波長１５７．６ｎｍ）を用いる露光に好適なペリクルおよびそのペリクル複数個からなるペリクル製品群に関するものである。 The present invention is used in the manufacture of semiconductor elements such as LSI and VLSI, liquid crystal display devices, etc., and in particular, a pellicle suitable for exposure using light having a wavelength of 220 nm or less, particularly F 2 laser light (wavelength 157.6 nm) and the like The present invention relates to a pellicle product group composed of a plurality of pellicles.
ＬＳＩや超ＬＳＩなどの半導体素子または液晶表示装置の製造における露光工程では、マスクのパターン形成面にゴミが付着するのを防止するために、ペリクルをマスク上に載置して露光作業を行うのが一般的である。 In the exposure process in the manufacture of semiconductor elements such as LSI and VLSI or liquid crystal display devices, the pellicle is placed on the mask to perform exposure work in order to prevent dust from adhering to the pattern formation surface of the mask. Is common.
ペリクルは、露光光を透過する材料からなるペリクル膜を、表面をアルマイト処理したアルミ製ペリクルフレームに接着したものである。ペリクルフレームは上面および底面を開口部とした箱状のものであり、ペリクル膜はその一方の開口部に接着される。 The pellicle is formed by bonding a pellicle film made of a material that transmits exposure light to an aluminum pellicle frame whose surface is anodized. The pellicle frame has a box shape with the top and bottom surfaces as openings, and the pellicle film is bonded to one of the openings.
露光工程で用いられる露光光は、パターン微細化の要求に応じてますます波長が短くなってきており、今日ではＦ2レーザなど波長２２０ｎｍ以下の光を使用する技術が検討されている。 The wavelength of the exposure light used in the exposure process is becoming shorter in response to the demand for pattern miniaturization, and a technique using light having a wavelength of 220 nm or less, such as an F 2 laser, is now being studied.
従来、このペリクル膜として、厚さ１μｍ以下の合成樹脂製の薄膜が使用されている。しかし、従来のペリクル膜では、上記のような短波長の光が照射されると合成樹脂が分解して実用に耐えないため、合成石英ガラスを薄い平板に加工した板をペリクル膜の代わりに使用することが検討されている（以下、この板を有機樹脂製のペリクル膜と区別して、ペリクル板という）。このような合成石英ガラスは、例えばケイ素源と酸素源とを気相で反応させてスートと呼ばれる酸化ケイ素からなる多孔質を成長させ、この多孔質を焼結して得られるもので、成分は実質的に酸化ケイ素のみからなる。光透過率を良くするためにペリクル板の表面に反射防止膜を設けることが多い。 Conventionally, a synthetic resin thin film having a thickness of 1 μm or less is used as the pellicle film. However, in the conventional pellicle film, the synthetic resin decomposes and cannot be used practically when irradiated with light of the short wavelength as described above, so a plate made of synthetic quartz glass into a thin flat plate is used instead of the pellicle film (Hereinafter, this plate is distinguished from an organic resin pellicle film and referred to as a pellicle plate). Such synthetic quartz glass is obtained by, for example, growing a porous material made of silicon oxide called soot by reacting a silicon source and an oxygen source in a gas phase, and sintering the porous material. It consists essentially of silicon oxide. In order to improve the light transmittance, an antireflection film is often provided on the surface of the pellicle plate.
一方、合成石英ガラスをペリクル板として使用する場合、ペリクル板の厚みは０．０１〜２．０ｍｍであることが望ましいとされているが、このような厚みを持つペリクル板は、従来の有機樹脂からなるペリクル膜と異なり、ペリクル板内部に複屈折が生じて露光光の光路変動の要因になる場合がある。 On the other hand, when synthetic quartz glass is used as the pellicle plate, it is desirable that the pellicle plate has a thickness of 0.01 to 2.0 mm. The pellicle plate having such a thickness is a conventional organic resin. Unlike the pellicle film made of the above, there are cases where birefringence occurs inside the pellicle plate, causing fluctuations in the optical path of the exposure light.
特に、ペリクル板が使用時に自重でたわむと、露光光の光路変動の要因となるため、なるべく平坦にペリクル板をペリクルフレームに貼り付けるように努力されている。例えば、特開２００３−１８６１８０号（特許文献１）には、そのような努力について記載されている。 In particular, if the pellicle plate is bent by its own weight during use, it may cause an optical path fluctuation of the exposure light. Therefore, an effort is made to attach the pellicle plate to the pellicle frame as flatly as possible. For example, Japanese Unexamined Patent Application Publication No. 2003-186180 (Patent Document 1) describes such efforts.
しかしながら、いかに平坦にペリクル板をペリクルフレームに貼り付けても、ペリクル板に強い張力をかけない限り、使用時にペリクル板は自重でたわむ。ペリクル板の部分的傾きを示す値として、ローカルチルトがある。 However, no matter how flat the pellicle plate is affixed to the pellicle frame, the pellicle plate will be bent by its own weight when used unless a strong tension is applied to the pellicle plate. As a value indicating the partial tilt of the pellicle plate, there is a local tilt.
照明系レンズを通過後にレチクル各点から出た光は、ペリクル板の面において通常約２ｍｍφの大きさに広がる。その広がった２ｍｍφエリアでペリクル板の面が、ペリクル全体の傾きに対して傾いていた場合に、光線の向きにずれが生じ、それに伴いパターンが転写されるウエハ上での露光位置にもずれが生じる。ローカルチルトは、そのずれ量を評価するための指標であり、ペリクル全体の傾きに対するペリクル面の傾きをμｒａｄの単位で表わしたものである。ローカルチルトは、直交する２つの方向（Ｘ方向およびＹ方向）に沿って測定される。 The light emitted from each point of the reticle after passing through the illumination system lens usually spreads to a size of about 2 mmφ on the surface of the pellicle plate. When the surface of the pellicle plate is tilted with respect to the inclination of the entire pellicle in the expanded 2 mmφ area, the direction of the light beam is shifted, and accordingly, the exposure position on the wafer to which the pattern is transferred is also shifted. Arise. The local tilt is an index for evaluating the shift amount, and represents the inclination of the pellicle surface with respect to the inclination of the entire pellicle in units of μrad. The local tilt is measured along two orthogonal directions (X direction and Y direction).
ローカルチルトは、使用領域で３０μｒａｄ以下であることが好ましいが、ペリクル板が自重でたわむとこれ以上のローカルチルトが発生する。 The local tilt is preferably 30 μrad or less in the use area, but when the pellicle plate is bent by its own weight, a further local tilt is generated.
本発明は、このような自重たわみによるローカルチルトの露光における影響を抑えることを目的とする。 An object of the present invention is to suppress the influence of local tilt exposure due to such self-weight deflection.
このような目的を達成するために、本発明においては、枠体形状のペリクルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に接着したペリクル板とを供えたペリクル複数個からなるペリクル製品群であって、
それぞれのペリクルを使用時と同じ向きに設置した際のペリクル板の自重によるたわみ形状は、１μｍ以上の深さでたわんだ形状をしており、かつ、それぞれのペリクルにおける該たわみ形状からあらかじめ定められたペリクル板の基準たわみ形状を差し引いた形状における、露光使用領域での各点のローカルチルトが、ペリクル製品群内で標準偏差５μｒａｄ以下、好ましくは３μｒａｄ以下の分布を有している、ペリクル製品群を提供する。
In order to achieve such an object, in the present invention, a pellicle product group comprising a plurality of pellicles provided with a frame-shaped pellicle frame and a pellicle plate bonded to one opening of the pellicle frame,
When each pellicle is installed in the same orientation as that in use, the deflection shape due to the weight of the pellicle plate is bent at a depth of 1 μm or more, and is determined in advance from the deflection shape of each pellicle. The pellicle product group in which the local tilt of each point in the exposure use area in the shape obtained by subtracting the reference deflection shape of the pellicle plate has a standard deviation of 5 μrad or less, preferably 3 μrad or less in the pellicle product group. I will provide a.
また、枠体形状のペリクルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に接着したペリクル板とを供えたペリクルであって、ペリクルを使用時と同じ向きに設置した際のペリクル板の形状から、あらかじめ定められた１μｍ以上の深さの回転対称形状からなるペリクル板の基準たわみ形状を差し引いた形状における、露光使用領域でのローカルチルトが３０μｒａｄ以下、好ましくは２０μｒａｄ以下である、ペリクルを提供する。 Also, a pellicle provided with a frame-shaped pellicle frame and a pellicle plate bonded to one opening of the pellicle frame, which is determined in advance from the shape of the pellicle plate when the pellicle is installed in the same direction as when it is used. Provided is a pellicle having a local tilt in an exposure use region of 30 μrad or less, preferably 20 μrad or less in a shape obtained by subtracting a reference deflection shape of a pellicle plate having a rotationally symmetric shape having a depth of 1 μm or more.
ペリクル板形状と基準たわみ形状の関係を誇張して描いたのが、図３の模式図である。破線は基準たわみ形状であり、実線は実際のペリクル板形状である。図３の（ａ）は、ペリクルが使用時と同じ向きに設置して、ペリクル板がたわんだ状態の図であり、Ｌがたわみ深さに相当する。また、実際のペリクル板形状の各点とその点から基準形状におろした垂線の足とを対応させて（円内拡大図）、基準形状を差し引いた形状を示したのが図３（ｂ）の実線である。 FIG. 3 is a schematic diagram that exaggerates the relationship between the pellicle plate shape and the reference deflection shape. The broken line is the reference deflection shape, and the solid line is the actual pellicle plate shape. FIG. 3A shows a state in which the pellicle is installed in the same direction as in use and the pellicle plate is bent, and L corresponds to the deflection depth. FIG. 3B shows a shape obtained by subtracting the reference shape by associating each point of the actual pellicle plate shape with a leg of the perpendicular line drawn from the point to the reference shape (enlarged view in a circle). The solid line.
図１は本発明の実施形態であるペリクル１１の斜視図であり、図２はペリクル１１をマスク１８に装着した様子を示す断面図である。ペリクル１１は、露光光を透過させるペリクル板１２を接着剤６によりペリクルフレーム１３に接着して構成されている。ペリクル１１は、粘着剤７によりマスク８に固定されて使用される。
FIG. 1 is a perspective view of a
本明細書において「ペリクル板」とは、ペリクルフレームの一方の開口部に接着される板材をいう。本発明では、ペリクル板は、厚さ０．０１〜２ｍｍ程度の石英ガラスからなる。特に波長２２０ｎｍ以下の短波長の露光に用いる場合は、合成石英ガラスとすることが好ましい。 In this specification, the “pellicle plate” refers to a plate material bonded to one opening of the pellicle frame. In the present invention, the pellicle plate is made of quartz glass having a thickness of about 0.01 to 2 mm. In particular, when it is used for exposure with a short wavelength of 220 nm or less, it is preferable to use synthetic quartz glass.
またペリクル板の厚さは２ｍｍ以下であることが好ましい。これにより、ペリクル板自身が持つ複屈折を押さえることができるので好ましい。特に１ｍｍ以下の場合は透過率が良く、ペリクル板における吸収がないために露光時にペリクル板の温度上昇を小さくできる。従って、ペリクルに熱的な応力が生じにくくなるので好ましい。なお、ペリクル板の厚さは、強度の点から０．０１ｍｍ以上であることが好ましい。 The thickness of the pellicle plate is preferably 2 mm or less. This is preferable because the birefringence of the pellicle plate itself can be suppressed. In particular, in the case of 1 mm or less, the transmittance is good and there is no absorption in the pellicle plate, so that the temperature rise of the pellicle plate can be reduced during exposure. Therefore, it is preferable because thermal stress is hardly generated on the pellicle. In addition, it is preferable that the thickness of a pellicle board is 0.01 mm or more from the point of intensity | strength.
ペリクルフレームは、例えば、以下のように製造できる。金属や石英ガラスからなる板材からエンドミルを用いて長方形状に所定の枠厚で切り取り、高さ方向の平行度を出すためにダイヤモンドや酸化セリウム、シリカ、アルミナなどからなる砥粒を用いて上下端面を鏡面研磨してペリクルフレームとする。 The pellicle frame can be manufactured as follows, for example. Cut from a plate made of metal or quartz glass into a rectangular shape with a predetermined frame thickness using an end mill, and upper and lower end surfaces using abrasive grains made of diamond, cerium oxide, silica, alumina, etc. to obtain parallelism in the height direction Is polished into a pellicle frame.
ついで、必要に応じてペリクルフレーム側面の外周表面および内周表面をレジンダイヤによって研削した後、側面にドリルで換気孔を設ける。ここで、換気孔を設けた後に側面の研削を行うこともできる。換気孔の径は０．５ｍｍ以上が好ましい。 Next, if necessary, the outer peripheral surface and inner peripheral surface of the side surface of the pellicle frame are ground with a resin diamond, and then a ventilation hole is provided on the side surface with a drill. Here, the side surface can be ground after the ventilation hole is provided. The diameter of the ventilation hole is preferably 0.5 mm or more.
特開２００１−２５０７６１号に記載されているように、レンズ収差は、回転対象成分については、その大きさが大きくとも取り除くことが容易である。同様に、ペリクル板の自重によって生じる光路の歪みも回転対象成分については、光学系を調整することにより、取り除くことが可能である。 As described in Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-250761, the lens aberration can be easily removed even if the magnitude of the rotation target component is large. Similarly, the distortion of the optical path caused by the weight of the pellicle plate can be removed by adjusting the optical system for the rotation target component.
そのような場合に問題になるのは、光路の歪みの大きさよりむしろ、ペリクルごとのたわみ形状のバラツキである。もし、このバラツキが小さければ、一度、光学系を調整しさえすれば、温度変化等による微調整は必要になる可能性があるものの、安定して光路の歪みの少ない露光を行うことができる。 In such a case, the problem is the variation in the deflection shape of each pellicle, rather than the magnitude of distortion in the optical path. If this variation is small, fine adjustment due to temperature change or the like may be necessary once the optical system is adjusted, but exposure can be stably performed with little distortion of the optical path.
本発明で用いる基準となるペリクル形状は、上記のように、露光光学系の調整により、光路ひずみを取り除くことができる形状であればよいが、特に光路ひずみを取り除くことが容易な形状である回転対象性の形状が好ましい。具体的には２次曲面、４次曲面、６次曲面などの偶数次曲面や、それらの和として形成される曲面がある。 The reference pellicle shape used in the present invention may be any shape that can remove the optical path distortion by adjusting the exposure optical system as described above. A target shape is preferred. Specifically, there are even-order curved surfaces such as quadratic curved surfaces, quartic curved surfaces, and sixth-order curved surfaces, and curved surfaces formed as the sum of them.
本発明でいう露光使用領域とは、ペリクル板の中で露光に使用する領域であり、例えばフレーム内寸から２ｍｍ内側に入った領域である。そして、あらかじめ設定された基準となるペリクル板形状とのローカルチルトの露光使用領域での差が、ペリクルごとに実質的に一定とされる。それぞれのペリクルにおける該たわみ形状からあらかじめ定められたペリクル板の基準たわみ形状を差し引いた形状における、露光使用領域での各点のローカルチルトが、ペリクル製品群内で標準偏差５μｒａｄ以下、好ましくは３μｒａｄ以下の分布を有している。このようにすると、一旦、光学系を調整して、光路の歪みを修正すれば、ローカルチルトが実質的に３０μｒａｄを超えないようにできるため、自重たわみによるローカルチルトの露光における影響を抑えることができるようになる。 The exposure use area referred to in the present invention is an area used for exposure in the pellicle plate, for example, an area entering 2 mm from the inner dimension of the frame. Then, the difference in the exposure usage area of the local tilt from the preset reference pellicle plate shape is made substantially constant for each pellicle. The local tilt of each point in the exposure usage area in the shape obtained by subtracting the predetermined deflection shape of the pellicle plate from the deflection shape of each pellicle within the pellicle product group is a standard deviation of 5 μrad or less, preferably 3 μrad or less. Has a distribution of In this case, once the optical system is adjusted and the optical path distortion is corrected, the local tilt can be substantially prevented from exceeding 30 μrad, so that the influence on the exposure of the local tilt due to the self-weight deflection can be suppressed. become able to.
本発明では、できる限り、安定したペリクルの貼り付けを行うため、基準となるペリクル形状はペリクル板の貼り付け時に安定しやすい形状にすることが好ましく、この観点で、実際のペリクル板は、ペリクルを使用時と同じ向きに設置した際に、自重で１μｍ以上、好ましくは２μｍ以上、また好ましくは４μｍ以下の深さでたわむようにする。こうすると、貼り付けを安定させやすいので、ペリクルごとのペリクル板形状のばらつきを小さくすることができる。 In the present invention, since the pellicle is stably attached as much as possible, the reference pellicle shape is preferably a shape that is easy to stabilize when the pellicle plate is attached. From this viewpoint, the actual pellicle plate is a pellicle. When installed in the same orientation as when it is used, it is bent by its own weight at a depth of 1 μm or more, preferably 2 μm or more, and preferably 4 μm or less. In this way, it is easy to stabilize the pasting, so that the variation of the pellicle plate shape for each pellicle can be reduced.
表１は、８００μｍ厚、１３０ｍｍ×１５０ｍｍのペリクル板をペリクル板に貼り付けた場合におけるペリクル板のたわみの大きさ、６次までの回転対象成分を除いた後のたわみの大きさ、およびそれぞれの場合のローカルチルト値（フレーム内寸から２ｍｍ内側に入った領域におけるもの）を示したものである。自重に近いたわみが生じている場合、たわみは回転対象成分に近くなり、効果的に光路のひずみを取り除くことができることがわかる。 Table 1 shows the size of the deflection of the pellicle plate when the pellicle plate having a thickness of 800 μm and a size of 130 mm × 150 mm is attached to the pellicle plate, the size of the deflection after removing the rotation target component up to the sixth order, In this case, the local tilt value (in the region 2 mm inside from the frame inner dimension) is shown. It can be seen that when a deflection close to its own weight occurs, the deflection becomes close to the component to be rotated, and the distortion of the optical path can be effectively removed.
すなわち、ペリクルを使用時と同じ向きに設置した際のペリクル板のたわみ量を調整することにより、ペリクルを使用時と同じ向きに設置した際のペリクル板の形状から、あらかじめ定められた回転対称形状からなるペリクル板の基準たわみ形状を差し引いた形状における、露光使用領域でのローカルチルトを３０μｒａｄ以下とすることができ、自重によるたわみの露光への影響を抑制することができる。 In other words, by adjusting the amount of deflection of the pellicle plate when the pellicle is installed in the same direction as when it is used, the shape of the pellicle plate when the pellicle is installed in the same direction as that when it is used is determined from a predetermined rotationally symmetric shape. In the shape obtained by subtracting the reference deflection shape of the pellicle plate, the local tilt in the exposure use region can be set to 30 μrad or less, and the influence of the deflection due to the own weight on the exposure can be suppressed.
このように安定したペリクル板の貼り付けを行うためには、特許出願人が既に特願２００３−２９７０１８号で提案している、ペリクル板の貼り付け装置を用いて、ペリクル板のたわみ度合いを非接触式の変位センサーなどで測定しながら、ペリクル内外の気圧差などで、ペリクル板形状を制御しつつ、ペリクル板のペリクルフレームへの貼り付けを行うことが望ましい。 In order to perform the stable pellicle plate sticking in this way, a patent applicant has already proposed a pellicle plate sticking device proposed in Japanese Patent Application No. 2003-297018 to reduce the degree of deflection of the pellicle plate. It is desirable to attach the pellicle plate to the pellicle frame while controlling the shape of the pellicle plate with a pressure difference between the inside and outside of the pellicle while measuring with a contact displacement sensor or the like.
貼り付けにおいては、ペリクル板はペリクルフレーム上端面に紫外線硬化接着剤を介して載置され、紫外線を照射して接着剤を硬化させる。ここで、紫外線硬化接着剤の代わりに、厚さが均一な両面テープをペリクルフレームと同じ大きさにカットし、ペリクルフレームとペリクル板との間に介在させ、貼り付け機を用いて両者を接着することも可能である。 In pasting, the pellicle plate is placed on the upper end surface of the pellicle frame via an ultraviolet curing adhesive, and the adhesive is cured by irradiating ultraviolet rays. Here, instead of UV-curing adhesive, double-sided tape with a uniform thickness is cut to the same size as the pellicle frame, interposed between the pellicle frame and the pellicle plate, and bonded together using a pasting machine It is also possible to do.
本発明によると、使用時に生じるペリクル板の自重たわみによるローカルチルトが、露光に影響することを抑えることができる。 According to the present invention, it is possible to suppress the local tilt caused by the self-weight deflection of the pellicle plate during use from affecting the exposure.
１１：ペリクル
１２：ペリクル板
１３：ペリクルフレーム
11: Pellicle 12: Pellicle board 13: Pellicle frame
Claims (4)
それぞれのペリクルを使用時と同じ向きに設置した際のペリクル板の自重によるたわみ形状は、１μｍ以上の深さでたわんだ形状をしており、かつ、それぞれのペリクルにおける該たわみ形状からあらかじめ定められたペリクル板の基準たわみ形状を差し引いた形状における、露光使用領域での各点のローカルチルトが、ペリクル製品群内で標準偏差５μｒａｄ以下の分布を有している、ペリクル製品群。 A pellicle product group comprising a plurality of pellicles provided with a pellicle frame having a frame shape and a pellicle plate bonded to one opening of the pellicle frame,
When each pellicle is installed in the same orientation as that in use, the deflection shape due to the weight of the pellicle plate is bent at a depth of 1 μm or more, and is determined in advance from the deflection shape of each pellicle. A pellicle product group in which the local tilt of each point in the exposure use area in a shape obtained by subtracting the reference deflection shape of the pellicle plate has a distribution with a standard deviation of 5 μrad or less within the pellicle product group.
それぞれのペリクルを使用時と同じ向きに設置した際のペリクル板の自重によるたわみ形状は、１μｍ以上の深さでたわんだ形状をしており、かつ、それぞれのペリクルにおける該たわみ形状からあらかじめ定められたペリクル板の基準たわみ形状を差し引いた形状における、露光使用領域での各点のローカルチルトが、ペリクル製品群内で標準偏差３μｒａｄ以下の分布を有している、ペリクル製品群。 A pellicle product group comprising a plurality of pellicles provided with a pellicle frame having a frame shape and a pellicle plate bonded to one opening of the pellicle frame,
When each pellicle is installed in the same orientation as that in use, the deflection shape due to the weight of the pellicle plate is bent at a depth of 1 μm or more, and is determined in advance from the deflection shape of each pellicle. A pellicle product group in which the local tilt of each point in the exposure use area in a shape obtained by subtracting the reference deflection shape of the pellicle plate has a distribution with a standard deviation of 3 μrad or less within the pellicle product group.
ペリクルを使用時と同じ向きに設置した際のペリクル板の形状から、あらかじめ定められた１μｍ以上の深さの回転対称形状からなるペリクル板の基準たわみ形状を差し引いた形状における、露光使用領域でのローカルチルトが３０μｒａｄ以下である、ペリクル。 A pellicle provided with a frame-shaped pellicle frame and a pellicle plate bonded to one opening of the pellicle frame,
In the exposure use area, the shape of the pellicle plate when the pellicle is installed in the same direction as when it is used is subtracted from a predetermined deflection shape of the pellicle plate having a rotationally symmetric shape with a depth of 1 μm or more. A pellicle having a local tilt of 30 μrad or less.
ペリクルを使用時と同じ向きに設置した際のペリクル板の形状から、あらかじめ定められた１μｍ以上の深さの回転対称形状からなるペリクル板の基準たわみ形状を差し引いた形状における、露光使用領域でのローカルチルトが２０μｒａｄ以下である、ペリクル。
A pellicle provided with a frame-shaped pellicle frame and a pellicle plate bonded to one opening of the pellicle frame,
In the exposure use area, the shape of the pellicle plate when the pellicle is installed in the same direction as when it is used is subtracted from a predetermined deflection shape of the pellicle plate having a rotationally symmetric shape with a depth of 1 μm or more. A pellicle having a local tilt of 20 μrad or less.
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Cited By (1)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016539372A (en) * | 2013-12-05 | 2016-12-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | Apparatus and method for manufacturing pellicle and pellicle |
Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1073407A (en) * | 1996-09-02 | 1998-03-17 | Nikon Corp | Method and instrument for measuring position of pattern |
| JP2000298333A (en) * | 1999-04-14 | 2000-10-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle frame and pellicle using the same |
| JP2001117213A (en) * | 1999-08-10 | 2001-04-27 | Nikon Corp | Photomask, method for manufacturing the photomask, projection aligner handling the photomask and projection alignment method |
| JP2001250761A (en) * | 2000-03-06 | 2001-09-14 | Canon Inc | Method of correcting exposure aberration |
| JP2002040629A (en) * | 2000-07-31 | 2002-02-06 | Asahi Glass Co Ltd | Method for bonding pellicle plate to pellicle frame |
| JP2002040628A (en) * | 2000-07-31 | 2002-02-06 | Asahi Glass Co Ltd | Pellicle and method for bonding pellicle plate to pellicle frame |
| JP2002049145A (en) * | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Nikon Corp | Mask protector, method for producing the same, mask and exposure system |
| JP2002202588A (en) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Canon Inc | Mask and projection aligner |
| JP2002333703A (en) * | 2001-05-11 | 2002-11-22 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | Frame for pellicle |
| JP2003222990A (en) * | 2001-11-21 | 2003-08-08 | Asahi Glass Co Ltd | Loading structure of photomask with pellicle |
| JP2003307832A (en) * | 2002-04-16 | 2003-10-31 | Asahi Glass Co Ltd | Pellicle and pellicle attached photomask |
| JP2004343102A (en) * | 2003-04-30 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | Lithography apparatus, device manufacturing method, mask, method of characterizing mask and/or pellicle |
| JP2005062634A (en) * | 2003-08-19 | 2005-03-10 | Asahi Glass Co Ltd | Pellicle mounter and method for mounting pellicle on photomask |
| JP2005070191A (en) * | 2003-08-21 | 2005-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | Apparatus for sticking frame and pellicle plate |
-
2003
- 2003-11-19 JP JP2003389285A patent/JP2005148620A/en not_active Withdrawn
Patent Citations (14)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JPH1073407A (en) * | 1996-09-02 | 1998-03-17 | Nikon Corp | Method and instrument for measuring position of pattern |
| JP2000298333A (en) * | 1999-04-14 | 2000-10-24 | Shin Etsu Chem Co Ltd | Pellicle frame and pellicle using the same |
| JP2001117213A (en) * | 1999-08-10 | 2001-04-27 | Nikon Corp | Photomask, method for manufacturing the photomask, projection aligner handling the photomask and projection alignment method |
| JP2001250761A (en) * | 2000-03-06 | 2001-09-14 | Canon Inc | Method of correcting exposure aberration |
| JP2002040629A (en) * | 2000-07-31 | 2002-02-06 | Asahi Glass Co Ltd | Method for bonding pellicle plate to pellicle frame |
| JP2002040628A (en) * | 2000-07-31 | 2002-02-06 | Asahi Glass Co Ltd | Pellicle and method for bonding pellicle plate to pellicle frame |
| JP2002049145A (en) * | 2000-07-31 | 2002-02-15 | Nikon Corp | Mask protector, method for producing the same, mask and exposure system |
| JP2002202588A (en) * | 2000-12-28 | 2002-07-19 | Canon Inc | Mask and projection aligner |
| JP2002333703A (en) * | 2001-05-11 | 2002-11-22 | Asahi Kasei Electronics Co Ltd | Frame for pellicle |
| JP2003222990A (en) * | 2001-11-21 | 2003-08-08 | Asahi Glass Co Ltd | Loading structure of photomask with pellicle |
| JP2003307832A (en) * | 2002-04-16 | 2003-10-31 | Asahi Glass Co Ltd | Pellicle and pellicle attached photomask |
| JP2004343102A (en) * | 2003-04-30 | 2004-12-02 | Asml Netherlands Bv | Lithography apparatus, device manufacturing method, mask, method of characterizing mask and/or pellicle |
| JP2005062634A (en) * | 2003-08-19 | 2005-03-10 | Asahi Glass Co Ltd | Pellicle mounter and method for mounting pellicle on photomask |
| JP2005070191A (en) * | 2003-08-21 | 2005-03-17 | Asahi Glass Co Ltd | Apparatus for sticking frame and pellicle plate |
Cited By (3)
| Publication number | Priority date | Publication date | Assignee | Title |
|---|---|---|---|---|
| JP2016539372A (en) * | 2013-12-05 | 2016-12-15 | エーエスエムエル ネザーランズ ビー．ブイ． | Apparatus and method for manufacturing pellicle and pellicle |
| TWI658321B (en) * | 2013-12-05 | 2019-05-01 | 荷蘭商Ａｓｍｌ荷蘭公司 | Apparatus and method for manufacturing a pellicle, and a pellicle |
| US10365558B2 (en) | 2013-12-05 | 2019-07-30 | Asml Netherlands B.V. | Apparatus and method for manufacturing a pellicle, and a pellicle |
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