JP2002323752A - Pellicle - Google Patents
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Abstract
Description
【０００１】[0001]
【発明の属する技術分野】本発明は、ＬＳＩ、超ＬＳＩ
などの半導体素子または液晶表示装置などの製造に用い
られ、とりわけ波長２２０ｎｍ以下の光を用いる露光に
好適なペリクルに関するものである。BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention The present invention relates to an LSI,
The present invention relates to a pellicle which is used for manufacturing a semiconductor element such as a liquid crystal display device or the like, and is particularly suitable for exposure using light having a wavelength of 220 nm or less.
【０００２】[0002]
【従来の技術】ＬＳＩや超ＬＳＩなどの半導体素子また
は液晶表示装置の製造における露光工程では、露光原版
のパターン形成面にゴミが付着するのを防止するため
に、ペリクルを露光原版上に載置して露光作業を行うの
が一般的である。また、ここで用いられる露光光は、パ
ターン微細化の要求に応じてますます波長が短くなって
きており、今日ではＦ2レーザーなど波長２２０ｎｍ以
下の光を使用する技術が検討されている。2. Description of the Related Art In an exposure step in the manufacture of a semiconductor element such as an LSI or a super LSI, or a liquid crystal display device, a pellicle is placed on an exposure original in order to prevent dust from adhering to a pattern forming surface of the exposure original. In general, the exposure operation is performed. Further, where the exposure light used, more and more wavelengths in response to a request pattern miniaturization has become shorter, a technique for using the following light wavelength 220nm such as F 2 lasers today are being considered.
【０００３】ペリクルは、露光光を透過する材料からな
るペリクル膜を、表面をアルマイト処理したアルミ製ペ
リクルフレームに接着したものである。ペリクルフレー
ムは上面および底面を開口部とした箱状のものであり、
ペリクル膜はその一方の開口部に接着される。ペリクル
フレームの側面にはペリクル内部の気圧調節を兼ねた換
気孔が設けられてあり、外部より異物混入を防ぐため、
換気孔のペリクルフレームの外側部分に防塵フィルター
を設けるのが一般的である。従来ではこのペリクル膜と
して、厚さ１μｍ以下の合成樹脂製の薄膜が使用されて
いる。The pellicle is formed by bonding a pellicle film made of a material that transmits exposure light to an aluminum pellicle frame whose surface is anodized. The pellicle frame has a box shape with openings on the top and bottom,
The pellicle film is bonded to one of the openings. Ventilation holes are also provided on the side of the pellicle frame to control the air pressure inside the pellicle.
It is common to provide a dust filter on the outside of the pellicle frame of the ventilation hole. Conventionally, a synthetic resin thin film having a thickness of 1 μm or less is used as the pellicle film.
【０００４】[0004]
【発明が解決しようとする課題】従来のペリクルの製造
工程では、表面をアルマイト処理したアルミニウムから
なるペリクルフレームの上端面に紫外線硬化型接着剤を
塗布し、その上にペリクル膜を載置し、ペリクル膜の上
方から紫外線を照射して紫外線硬化型接着剤を硬化させ
てペリクル膜とペリクルフレームとを接着してペリクル
を製造する。In the conventional pellicle manufacturing process, an ultraviolet curable adhesive is applied to the upper end surface of a pellicle frame made of aluminum whose surface is anodized, and a pellicle film is placed thereon. The pellicle is manufactured by irradiating ultraviolet rays from above the pellicle film to cure the ultraviolet curable adhesive and bonding the pellicle film and the pellicle frame.
【０００５】真空紫外域の露光波長にて露光を行う際、
保存時にペリクル膜に有機物が付着すると適切な露光が
できなくなるので、使用の前にＸｅ2エキシマランプ洗
浄（以下、光洗浄ともいう）を行う必要がある。また、
光洗浄時にフレームに当たるＸｅ2エキシマランプから
の迷光により、フレーム表面から不純物が析出して異物
となり、ペリクルの寿命を縮めることがある。When performing exposure at an exposure wavelength in the vacuum ultraviolet region,
If an organic substance adheres to the pellicle film during storage, proper exposure cannot be performed. Therefore, it is necessary to perform Xe 2 excimer lamp cleaning (hereinafter, also referred to as light cleaning) before use. Also,
Stray light from the Xe 2 excimer lamp that hits the frame during light cleaning may cause impurities to precipitate from the frame surface and become foreign substances, which may shorten the life of the pellicle.
【０００６】本発明はこのような状況に鑑みてなされた
ものであり、ペリクルフレームからの異物発生を抑制
し、使用寿命の長いペリクルを提供することを目的とす
る。The present invention has been made in view of such a situation, and an object of the present invention is to provide a pellicle having a long service life by suppressing generation of foreign matter from a pellicle frame.
【０００７】[0007]
【課題を解決するための手段】本発明は、上記の目的を
達成するために、上面および底面を開口部とした箱状の
ペリクルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に
接着したペリクル膜とを備えたペリクルであって、ペリ
クルフレームは石英ガラスからなり、ペリクルフレーム
側面はエッチング処理されており平均面粗さが５μｍ以
下であることを特徴とするペリクル、および、上面およ
び底面を開口部とした箱状のペリクルフレームとペリク
ルフレームの一方の開口部に接着したペリクル膜とを備
えたペリクルであって、ペリクルフレームは石英ガラス
からなり、ペリクルフレーム側面は鏡面化処理されてい
ることを特徴とするペリクルを提供する。SUMMARY OF THE INVENTION In order to achieve the above object, the present invention provides a box-shaped pellicle frame having upper and lower openings, and a pellicle film adhered to one opening of the pellicle frame. A pellicle comprising: a pellicle frame made of quartz glass; a pellicle frame having a side surface etched and having an average surface roughness of 5 μm or less; and a top surface and a bottom surface having openings. A pellicle comprising a box-shaped pellicle frame and a pellicle film bonded to one opening of the pellicle frame, wherein the pellicle frame is made of quartz glass, and a side surface of the pellicle frame is mirror-finished. Provide a pellicle.
【０００８】本発明では、ペリクルフレームの材料とし
て、石英ガラスを用いる。ペリクルフレームの材料とし
て用いる石英ガラスとしては、合成石英ガラスでもよい
し、溶融石英ガラスでもよい。こうして、光洗浄時のペ
リクルフレーム劣化による異物発生量を小さくできる。
また、Ｘｅ2エキシマランプ光による洗浄においてペリ
クルフレームがＸｅ2エキシマランプ光に対して透明で
あるため光利用効率を高くできる利点がある。さらに、
フレーム加工中の熱ひずみが少ないので、加工後のフレ
ーム平行度がよい。In the present invention, quartz glass is used as the material of the pellicle frame. The quartz glass used as the material of the pellicle frame may be synthetic quartz glass or fused quartz glass. Thus, the amount of foreign matter generated due to the deterioration of the pellicle frame during light cleaning can be reduced.
Further, since the pellicle frame is transparent to the Xe 2 excimer lamp light in cleaning with the Xe 2 excimer lamp light, there is an advantage that the light use efficiency can be increased. further,
Since the heat distortion during the frame processing is small, the frame parallelism after the processing is good.
【０００９】また本発明では、ペリクルフレームの側面
をエッチング処理または鏡面化処理する。これにより、
ペリクルフレームを石英ガラス製にしたときに生じる発
塵のおそれを減らすことができる。効果的に発塵、異物
発生防止をするためには、エッチング処理した石英ガラ
スフレーム側面の平均面粗さは５μｍ以下とする。ここ
で、本明細書でいう平均面粗さとは、ＪＩＳ Ｂ０６０
１で定義される中心線平均粗さＲaを意味する。また、
ペリクルフレーム側面を鏡面化することでフレーム表面
からの発塵の原因となるマイクロクラックをなくすこと
ができる。ペリクルフレームを鏡面化することにより、
ペリクルへの紫外線照射時の迷光を減らすことができ
る。このため、ペリクル膜とペリクルフレームとの間の
接着剤部分またはペリクルフレームと露光原版との間の
粘着剤部分に迷光が達して接着剤または粘着剤を劣化さ
せて別の発塵原因となることを防止できる効果もある。In the present invention, the side surface of the pellicle frame is subjected to an etching process or a mirror finishing process. This allows
The possibility of dust generation when the pellicle frame is made of quartz glass can be reduced. In order to effectively prevent dust and foreign matter from being generated, the average surface roughness of the etched quartz glass frame side surface is set to 5 μm or less. Here, the average surface roughness referred to in the present specification is JIS B060.
Means center line average roughness R a as defined in 1. Also,
By making the side surface of the pellicle frame mirror-like, it is possible to eliminate micro cracks that cause dust from the frame surface. By mirroring the pellicle frame,
It is possible to reduce stray light when the pellicle is irradiated with ultraviolet rays. For this reason, stray light may reach the adhesive portion between the pellicle film and the pellicle frame or the adhesive portion between the pellicle frame and the exposure master, causing the adhesive or the adhesive to deteriorate and causing another dust generation. There is also an effect that can be prevented.
【００１０】またペリクルフレーム側面には換気孔が設
けられる場合が多いが、ペリクル内部の気圧を調整する
際または露光波長光に対する不活性気体をペリクル内部
に導入する際に、換気孔中を気体が流れることにより換
気孔内にマイクロクラックが生じやすい。このようなマ
イクロクラックを防ぐためには、換気孔内部表面をエッ
チング処理して平均面粗さを５μｍ以下でとすることが
効果的である。In many cases, ventilation holes are provided on the side surfaces of the pellicle frame. However, when adjusting the air pressure inside the pellicle or introducing an inert gas with respect to the exposure wavelength light into the pellicle, the gas flows through the ventilation holes. The flow tends to cause microcracks in the ventilation holes. In order to prevent such microcracks, it is effective to etch the inside surface of the ventilation hole to have an average surface roughness of 5 μm or less.
【００１１】さらに、換気孔のペリクルフレーム内側部
分に防塵用フィルターを備えることにより、換気孔内部
に生じるマイクロクラックからの発塵がペリクル内部へ
の侵入することを防止でき、露光に影響がある異物の発
生を防げる。Further, by providing a dustproof filter on the inside of the pellicle frame of the ventilation hole, it is possible to prevent dust from micro cracks generated inside the ventilation hole from entering the inside of the pellicle, and to prevent foreign matter affecting exposure. Can be prevented from occurring.
【００１２】[0012]
【発明の実施の形態】以下、本発明に関して図面を参照
して説明する。図１は本発明の実施形態であるペリクル
１１の斜視図であり、図２はペリクル１１を露光原版８
に装着した様子を示す断面図である。ペリクル１１は、
露光光を透過させるペリクル膜１２を接着剤６によりペ
リクルフレーム１３に接着して構成されている。ペリク
ル１１は、粘着剤７により露光原版８に固定されて使用
される。DESCRIPTION OF THE PREFERRED EMBODIMENTS The present invention will be described below with reference to the drawings. FIG. 1 is a perspective view of a pellicle 11 according to an embodiment of the present invention, and FIG.
FIG. 3 is a cross-sectional view showing a state where the camera is mounted on the camera. Pellicle 11
A pellicle film 12 that transmits exposure light is bonded to a pellicle frame 13 with an adhesive 6. The pellicle 11 is used by being fixed to the exposure original 8 by the adhesive 7.
【００１３】ペリクルフレーム１３は、例えば、以下の
方法で製造できる。合成石英ガラスからなる板材を、高
さ方向の平行度を出すためにダイヤモンド、酸化セリウ
ム、シリカ、またはアルミナなどからなる砥粒を用いて
上下表面を鏡面研磨加工後、エンドミルを用いて長方形
の枠体を切り出してペリクルフレームとする。ついで、
ペリクルフレーム側面の外周表面および内周表面をレジ
ンダイヤによって研削した後、側面にドリルで０．５ｍ
ｍ径の換気孔を設ける。ここで、換気孔を設けた後に側
面の研削を行うこともできる。ついで、例えば、以下の
（１）〜（３）のいずれかの表面処理を施すことによ
り、本発明のペリクルフレーム１２を得ることができ
る。（１）ペリクルフレームをエッチング液に浸してペ
リクルフレーム全体をエッチングする。（２）酸化セリ
ウムを用いてペリクルフレーム側面の外周表面および内
周表面を鏡面研磨する。（３）ペリクルフレームをエッ
チング液に浸してペリクルフレーム全体をエッチングし
た後、酸化セリウムを用いてペリクルフレーム側面の外
周表面および内周表面を鏡面研磨する。The pellicle frame 13 can be manufactured, for example, by the following method. A plate made of synthetic quartz glass is mirror-polished on the upper and lower surfaces using diamond, cerium oxide, silica, or alumina abrasives to obtain parallelism in the height direction, and then a rectangular frame is formed using an end mill. Cut out the body and make it a pellicle frame. Then
After grinding the outer and inner surfaces of the side surface of the pellicle frame with resin diamond, drill 0.5 m on the side surface
Provide ventilation holes of m diameter. Here, the side surface can be ground after the ventilation holes are provided. Then, for example, the pellicle frame 12 of the present invention can be obtained by performing any one of the following surface treatments (1) to (3). (1) The pellicle frame is immersed in an etchant to etch the entire pellicle frame. (2) The outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the side surface of the pellicle frame are mirror-polished using cerium oxide. (3) After the pellicle frame is immersed in the etching solution to etch the entire pellicle frame, the outer peripheral surface and the inner peripheral surface of the side surface of the pellicle frame are mirror-polished using cerium oxide.
【００１４】ペリクル膜とペリクルフレームとを接着す
る方法を説明する。ペリクル膜としては真空紫外領域に
おいて高い光透過率を有する非晶質フッ素系ポリマーを
用いることが好ましい。非晶質フッ素系ポリマーとして
は、サイトップ（旭硝子社製）、テフロンＡＦ（デュポ
ン社製）等を挙げることができる。これらのポリマー
は、ペリクル膜作製時に必要に応じて溶媒に溶解して使
用してもよい。例えばフッ素系の溶媒などに適宜溶解し
た後、平坦度がよい石英ガラス基板などの上にスピンコ
ートして作製する。A method for bonding the pellicle film and the pellicle frame will be described. As the pellicle film, it is preferable to use an amorphous fluoropolymer having a high light transmittance in a vacuum ultraviolet region. Examples of the amorphous fluorine-based polymer include Cytop (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) and Teflon AF (manufactured by DuPont). These polymers may be used by dissolving them in a solvent as needed at the time of preparing the pellicle film. For example, after being appropriately dissolved in a fluorine-based solvent or the like, it is manufactured by spin coating on a quartz glass substrate or the like having good flatness.
【００１５】本発明においては、上記ペリクル膜をペリ
クルフレームに接着するために、通常ペリクルフレーム
の上端面に接着剤層が設けられる。この接着剤層に用い
られる接着剤の種類については、特に制限はなく、接着
を加熱して行う場合は熱可塑性の樹脂や熱硬化性の樹脂
が接着剤として用いられ、光硬化を利用して接着を行う
場合は、光硬化型樹脂が接着剤として用いられる。この
ような接着剤の例としては、アクリル樹脂接着剤、エポ
キシ樹脂接着剤、シリコーン樹脂接着剤、含フッ素シリ
コーン接着剤等のフッ素系ポリマー等を挙げることがで
き、なかでもフッ素系ポリマーが好ましい。具体的に
は、フッ素系ポリマーＣＴ６９（旭硝子社製）等を挙げ
ることができる。In the present invention, an adhesive layer is usually provided on the upper end surface of the pellicle frame in order to adhere the pellicle film to the pellicle frame. The type of the adhesive used for the adhesive layer is not particularly limited, and when the bonding is performed by heating, a thermoplastic resin or a thermosetting resin is used as the adhesive, and light curing is used. When bonding, a photocurable resin is used as an adhesive. Examples of such adhesives include fluorinated polymers such as acrylic resin adhesives, epoxy resin adhesives, silicone resin adhesives, and fluorine-containing silicone adhesives, with fluorinated polymers being preferred. Specific examples include a fluorine-based polymer CT69 (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.).
【００１６】[0016]
【実施例】以下、実施例を挙げて本発明を更に説明す
る。 （実施例１〜３、比較例１）合成石英ガラスでできた板
厚６．５ｍｍの平板の上下表面をダイヤモンド砥粒によ
り研磨して厚さ５．８ｍｍとした後、エンドミルを用い
て外寸を１４９ｍｍ×１２２ｍｍよりすこし大きめに、
また内寸１４５ｍｍ×１１８ｍｍより小さめに、枠体と
して切り出し、各角部に半径５ｍｍの丸みをつけてペリ
クルフレームとした。ペリクルフレームの外周および内
周をレジンダイヤにて研削した後、ドリルにてペリクル
フレームに０．５ｍｍ径の換気孔を１箇所設けた。The present invention will be further described below with reference to examples. (Examples 1 to 3 and Comparative Example 1) The upper and lower surfaces of a flat plate made of synthetic quartz glass having a thickness of 6.5 mm were polished with diamond abrasive grains to a thickness of 5.8 mm, and then externally dimensioned using an end mill. Is slightly larger than 149mm x 122mm,
Further, a pellicle frame was cut out as a frame body smaller than the inner size of 145 mm × 118 mm, and each corner was rounded with a radius of 5 mm. After the outer periphery and the inner periphery of the pellicle frame were ground with a resin diamond, a ventilation hole having a diameter of 0.5 mm was provided in the pellicle frame with a drill.
【００１７】さらに、ペリクルフレームの側面等をエッ
チングする場合は、ペリクルフレームを１０質量％のフ
ッ酸エッチング槽にて５分間超音波をかけながら浸して
全体をエッチングした。また、ペリクルフレームの側面
を鏡面化する場合は、フレーム側面をレジンダイヤにて
研削し、さらに酸化セリウムを用いてペリクル側面を鏡
面研磨した。Further, when etching the side surface of the pellicle frame and the like, the pellicle frame was immersed in a 10% by mass hydrofluoric acid etching bath while applying ultrasonic waves for 5 minutes to etch the whole. When the side surface of the pellicle frame was mirror-finished, the side surface of the frame was ground with a resin diamond, and the side surface of the pellicle was mirror-polished using cerium oxide.
【００１８】その後で、上記のペリクルフレームおよ
び、スピンコートにより作成したサイトップ（旭硝子社
製）の膜を、温度２０℃の恒温槽に入れ、フッ素系ポリ
マーＣＴ６９（旭硝子社製）を用いてペリクルフレーム
とペリクル膜とを接着した。ペリクルフレームの側面に
設けられた換気孔のペリクルフレーム内側又は外側にあ
る出入口にＧＯＲＥＴＥＸ（W. L. Gore & Associates,
Inc.社製商品名）からなる防塵用フィルターを設けて
ペリクルを製作した。Thereafter, the pellicle frame and the CYTOP (manufactured by Asahi Glass Co., Ltd.) film prepared by spin coating are placed in a thermostat at a temperature of 20 ° C. The frame and the pellicle film were bonded. GORETEX (WL Gore & Associates,) is installed at the entrance inside or outside the pellicle frame of the ventilation hole provided on the side of the pellicle frame.
Inc. (trade name) was provided with a dustproof filter to produce a pellicle.
【００１９】（比較例２）既存のアルマイト処理したア
ルミニウムからなるペリクルフレームを用いる以外は実
施例と同様にペリクルを作製した。Comparative Example 2 A pellicle was prepared in the same manner as in the example except that an existing pellicle frame made of alumite-treated aluminum was used.
【００２０】実施例および比較例について、ペリクルフ
レーム表面粗さを後述の方法で測定後、次にペリクルを
フォトマスク上にペリクルマウンタを用いて装着した。
その後欠点検査を後述の方法にしたがって行った。In Examples and Comparative Examples, the pellicle frame surface roughness was measured by a method described later, and then the pellicle was mounted on a photomask using a pellicle mounter.
Thereafter, defect inspection was performed according to the method described below.
【００２１】（評価方法１：表面粗さ検査）表面粗さ計
ＳＵＲＦＣＯＭ １４００Ｄ（東京精密社製）を用いペ
リクル側面を３０ｍｍにわたり計測した。換気孔中心部
をガラスカッターにて切断後断面１．５ｍｍにわたり計
測した。結果を表１の「平均面粗さ」の欄に示す。(Evaluation Method 1: Surface Roughness Inspection) The pellicle side surface was measured over 30 mm using a surface roughness meter SURFCOM 1400D (manufactured by Tokyo Seimitsu Co., Ltd.). After cutting the center of the ventilation hole with a glass cutter, measurement was performed over a cross section of 1.5 mm. The results are shown in the column of “Average surface roughness” in Table 1.
【００２２】（評価方法２：欠点検査）ペリクルを気圧
調整室に入れ、Ｘｅ2エキシマランプ光（波長１７２ｎ
ｍ、照度１０ｍＷ／ｃｍ2）を３０分照射して光洗浄
後、欠点をＰＩ−１０００（米ＱＣ optics社製）にて
測定した。結果を表１の「光洗浄後異物数」の欄に示
す。(Evaluation Method 2: Defect Inspection) A pellicle was placed in a pressure adjusting chamber, and Xe 2 excimer lamp light (wavelength 172 n) was used.
m, illuminance of 10 mW / cm 2 ) for 30 minutes, and after light washing, the defect was measured by PI-1000 (manufactured by QC optics, USA). The results are shown in the column of “Number of foreign substances after light cleaning” in Table 1.
【００２３】さらに、３０秒間に雰囲気を１０１３２５
Ｐａ（７６０ｍｍＨｇ）から６６６６１Ｐａ（５００ｍ
ｍＨｇ）に変化させ５分間維持後３０秒間かけて１０１
３２５Ｐａ（７６０ｍｍＨｇ）に戻した後５分間維持さ
せるサイクルを１０回繰り返した後、欠点をＰＩ−１０
００（米 ＱＣ optics社製）にて測定した。結果を表
１の「１０サイクル後異物数」の欄に示す。Further, the atmosphere is set to 101325 for 30 seconds.
Pa (760 mmHg) to 66661 Pa (500 m
mHg) and maintained for 5 minutes, followed by 101 for 30 seconds.
After repeating a cycle of returning to 325 Pa (760 mmHg) and maintaining for 5 minutes 10 times, the defect was found to be PI-10.
00 (manufactured by QC optics, USA). The results are shown in Table 1 in the column of "Number of foreign substances after 10 cycles".
【００２４】[0024]
【表１】 [Table 1]
【００２５】[0025]
【発明の効果】以上説明したように、本発明によれば、
使用寿命が長く高品質なペリクルを提供できる。As described above, according to the present invention,
A high quality pellicle with a long service life can be provided.
【図１】本発明の一実施形態のペリクルを示す斜視図FIG. 1 is a perspective view showing a pellicle according to an embodiment of the present invention.
【図２】図１のペリクルを露光原版に装着したときの断
面図FIG. 2 is a cross-sectional view when the pellicle of FIG. 1 is mounted on an exposure master.
【符号の説明】 ４：換気孔 ５：防塵用フィルター ６：接着剤 ７：粘着剤 ８：露光原版 １１：ペリクル １２：ペリクル膜 １３：ペリクルフレーム[Explanation of Signs] 4: Ventilation hole 5: Dustproof filter 6: Adhesive 7: Adhesive 8: Exposure master 11: Pellicle 12: Pellicle film 13: Pellicle frame
Claims (4)
クルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に接着
したペリクル膜とを備えたペリクルであって、ペリクル
フレームは石英ガラスからなり、ペリクルフレーム側面
はエッチング処理されており平均面粗さが５μｍ以下で
あることを特徴とするペリクル。1. A pellicle comprising a box-shaped pellicle frame having an opening at an upper surface and a bottom surface and a pellicle film adhered to one opening of the pellicle frame, wherein the pellicle frame is made of quartz glass, A pellicle, characterized in that the side surface is etched and has an average surface roughness of 5 μm or less.
クルフレームとペリクルフレームの一方の開口部に接着
したペリクル膜とを備えたペリクルであって、ペリクル
フレームは石英ガラスからなり、ペリクルフレーム側面
は鏡面化処理されていることを特徴とするペリクル。2. A pellicle comprising: a box-shaped pellicle frame having an opening at a top surface and a bottom surface; and a pellicle film adhered to one opening of the pellicle frame, wherein the pellicle frame is made of quartz glass. A pellicle whose side surface is mirror-finished.
れており、換気孔内部表面はエッチング処理されており
平均面粗さが５μｍ以下である請求項１または２記載の
ペリクル。3. The pellicle according to claim 1, wherein a ventilation hole is provided on a side surface of the pellicle frame, and an inner surface of the ventilation hole is etched to have an average surface roughness of 5 μm or less.
れており、換気孔のペリクルフレーム内側部分に防塵用
フィルターを備える請求項1、２または３記載のペリク
ル。4. The pellicle according to claim 1, wherein a ventilation hole is provided on a side surface of the pellicle frame, and a dustproof filter is provided on a portion of the ventilation hole inside the pellicle frame.
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