KR100904002B1 - Cover glass for charge coupled device - Google Patents

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KR100904002B1
KR100904002B1 KR1020030011348A KR20030011348A KR100904002B1 KR 100904002 B1 KR100904002 B1 KR 100904002B1 KR 1020030011348 A KR1020030011348 A KR 1020030011348A KR 20030011348 A KR20030011348 A KR 20030011348A KR 100904002 B1 KR100904002 B1 KR 100904002B1
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glass
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solid
cover glass
light
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나카호리히로아키
오카와다이스케
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니폰 덴키 가라스 가부시키가이샤
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Abstract

표면이나 내부의 결함에 대하여 높은 품위를 가지고, 저렴하고 내후성이 뛰어나며, 보다 가볍고 고강도인 고체촬상소자용 커버 글래스가 개시되어 있다. 평판 글래스의 측면(12)은, 제1 투광면(1la)에 대하여 대략 수직을 이루는 제1 측면부(12a)와 제1 측면부(12a)에 대하여 경사져 있는 제2 측면부(12b)에 의해 구성된다. 제1 측면부(12a)의 표면 거칠기는 제2 측면부(12b)의 표면 거칠기보다 크고, 제1 측면부(12a)의 표면 거칠기의 Ra값은 0.1∼10nm, Rmax값은 0.1∼30nm이고, 제2 측면부(12b)의 표면 거칠기의 Ra값은 0.1∼5nm, Rmax값은 0.1∼20nm이다. 제1 측면부(12a)가 제1 투광면(1la)에 대하여 이루는 각도는 90°±5°의 범위내에 있고, 제2 측면부(12b)가 제1 측면부(12a)에 대하여 이루는 각도는 8°이하이다.Discloses a cover glass for a solid-state image pickup device which has a high quality against defects on the surface or inside, is inexpensive, has excellent weather resistance, and is lighter and has a higher strength. The side surface 12 of the flat glass is constituted by a first side surface portion 12a which is substantially perpendicular to the first light transmitting surface 1la and a second side surface portion 12b which is inclined with respect to the first side surface portion 12a. The surface roughness of the first side surface portion 12a is larger than the surface roughness of the second side surface portion 12b, the Ra value of the surface roughness of the first side surface portion 12a is 0.1 to 10 nm, the Rmax value is 0.1 to 30 nm, The Ra value of the surface roughness of the surface layer 12b is 0.1 to 5 nm, and the Rmax value is 0.1 to 20 nm. The angle formed by the first side surface portion 12a with respect to the first light-transmissive surface 1la is within the range of 90 占 5 占 and the angle formed by the second side surface portion 12b with respect to the first side surface 12a is not more than 8 占to be.

Description

고체촬상소자용 커버 글래스{Cover glass for charge coupled device}BACKGROUND OF THE INVENTION 1. Field of the Invention [0001] The present invention relates to a cover glass for a charge coupled device

도 1a는 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스의 사시도이고,1A is a perspective view of a cover glass for a solid-state image pickup device according to the present invention,

도 1b는 도 1a에 도시된 고체활상소자용 커버 글래스의 부분 단면도이고,FIG. 1B is a partial cross-sectional view of the cover glass for a solid-state active element shown in FIG. 1A,

도 2는 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스의 측면부 확대도이고,2 is an enlarged view of a side portion of a cover glass for a solid-state image pickup device according to the present invention,

도 3은 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스의 코너부 확대도이고,3 is an enlarged view of a corner portion of a cover glass for a solid-state image pickup device according to the present invention,

도 4는 두꺼운 판 글래스의 모재로부터 박판 글래스를 제조하는 방법의 설명도이고,4 is an explanatory view of a method of manufacturing a thin plate glass from a base material of a thick plate glass,

도 5는 박판 글래스를 제1 가공한 다음 제2 가공을 행할 때의 가공방법의 설명도이고,Fig. 5 is an explanatory diagram of a processing method when the thin plate glass is subjected to the first processing and then the second processing,

도 6은 본발명에 따른 고체촬상소자용 커버 글래스의 측면부의 일부에 대하여 확대한 현미경 사진이다.6 is an enlarged photomicrograph of a part of a side portion of a cover glass for a solid-state image pickup device according to the present invention.

<도면의 주요부호에 대한 부호의 설명>[Description of Reference Numerals]

10 ... 커버 글래스10 ... cover glass

1la ... 투광면1la ... Projection surface

1lb ... 투광면1lb ... Projection surface

12 ... 측면12 ... side

12a(12a1, 12a2) ... 측면부 12a (12a1, 12a2)                 

12b(12b1,12b2) ... 측면부12b (12b1, 12b2)

13 ... 능선부13 ... ridge section

13a(13al,13a2) ... 능선부상에서의 경계선의 선단(선단점)13a (13al, 13a2) ... the tip of the boundary line (rupture point)

14(14a,14b) ... 경계선14 (14a, 14b) ... Boundary line

α... 투광면과 제1 측면부가 이루는 각도? ... angle formed between the light projecting surface and the first side face

β ... 제1 측면부와 제2 측면부가 이루는 각도? ... the angle between the first side surface portion and the second side surface portion

본 발명은 고체촬상소자를 수납하는 패키지의 전면(前面)에 부착되고, 고체촬상소자를 보호함과 동시에 투광창으로서 사용되는 평판 글래스로 이루어지는 고체촬상소자용 커버 글래스에 관한 것이다.The present invention relates to a cover glass for a solid-state image pickup device, which is attached to a front surface of a package for housing a solid-state image pickup device, and which is made of a flat glass used as a translucent window while protecting the solid-

고체촬상소자의 전면에는 상기 소자의 보호를 위하여, 평면형상의 투광면을 갖는 커버 글래스가 마련된다. 이러한 커버 글래스는, 알루미나 등의 세라믹재료나 금속 재료, 혹은 플라스틱 재료로 형성된 패키지에 각종 접착제로 밀봉장착되고, 패키지의 내부에 수납된 고체촬상소자를 보호함과 동시에 가시광선 등의 투광창으로서 기능한다.In order to protect the device, a cover glass having a planar light-projecting surface is provided on the front surface of the solid-state image pickup device. Such a cover glass is sealingly mounted on a package made of a ceramic material such as alumina, a metal material, or a plastic material with various adhesives to protect the solid-state image pickup device housed in the package and to function as a light- do.

패키지의 내부에 수납되는 고체촬상소자로서 현재 많이 사용되고 있는 광반도체에는, CCD(Charge Coupled Device), CM0S(Complementary Metal 0xide Semiconductor) 등이 있다. 이 중 CM0S는 상보형금속 산화물 반도체라고도 불리우 는데, CCD에 비교하여 소형화가 가능하고, 소비전력도 5분의 1정도로 적으며, 또한 마이크로 프로세서의 제조공정을 이용할 수 있으므로 설비투자에 비용이 많이 들지 않아 저렴하게 제조할 수 있다는 등의 이점이 있어, 휴대전화나 소형 개인용 컴퓨터 등의 화상입력 디바이스에 탑재되는 일이 많아지고 있다.2. Description of the Related Art There are CCD (Charge Coupled Device), CMOS (Complementary Metal Oxide Semiconductor), and the like as optical semiconductors widely used as solid-state image pickup devices housed in a package. Among them, CM0S is also called a complementary metal oxide semiconductor, which can be downsized compared to CCD, power consumption is reduced to about 1/5, and the manufacturing process of the microprocessor can be used, It is advantageous in that it can be manufactured inexpensively and is mounted on an image input device such as a cellular phone or a small personal computer.

한편, CCD나 CMOS에 있어서는, 화상을 정확하게 전자정보로 변환할 필요성으로부터, 사용되는 커버 글래스는 그 표면의 오염이나 흠집, 이물질의 부착 등에 관하여 엄격한 기준이 마련되고, 고품위의 청정도가 요구되어 왔다. 또한, 표면의 청정도 이외에, 글래스 내부의 결정 결함이나 백금 등의 이물질의 혼입을 방지하기 위하여, 그리고 미량함유 방사능성분인 U(우라늄)이나 Th(토륨)이 원인이 되어 발생하는 α선에 의한 소프트 에러를 방지하기 위하여 고순도 원료를 채용하는 등, 다기에 걸친 고도의 문제에 대한 대책이 지금까지 행해져 오고 있다. 예컨대, 특허 문헌1, 2에서는, 비용성이나 내후성, 미량 함유 성분에 대한 문제를 개선하는 대책이 행해지고 있다. 또한, 고체촬상소자용 커버 글래스는, 광학 글래스와 동일한 균질성 이외에 표면의 흠집이나 칩핑도 화상 정보의 정확한 전달을 방해하는 원인이 되므로 대책이 필요하다. 고체촬상소자용 커버 글래스의 강도에 영향을 미치는 에지부의 칩핑에 관하여도 종래로부터 그 방지책이 검토되고 있으며, 예컨대 특허 문헌 3에 개시된 방법에 의하면, 에지부의 칩핑의 검사 정밀도를 높일 수 있다. 또한, 특허 문헌 4에 개시된 방법에 의하면, 에지부의 칩핑을 방지하기 위한 트리밍가공을 효율적으로 행할 수 있다.On the other hand, in the CCD or CMOS, since a cover glass to be used is required to accurately convert an image into electronic information, strict standards have been established with respect to contamination, scratches, adhesion of foreign matter, and the like, and a high degree of cleanliness has been required. In addition to the degree of cleanliness of the surface, in order to prevent crystal defects in the glass and contamination of foreign substances such as platinum and the like due to α-rays generated due to U (uranium) or Th (thorium) Countermeasures against high-level problems over many years have been made up to now, such as employing high-purity raw materials in order to prevent soft errors. For example, in Patent Documents 1 and 2, countermeasures for improving the cost, weathering resistance, and problems with trace amount components are being taken. In addition, the cover glass for a solid-state image sensor is required to take countermeasures because surface scratches and chipping in addition to the same homogeneity as that of the optical glass also cause interference with accurate transmission of image information. Conventionally, prevention of edge chipping which affects the strength of the cover glass for a solid-state image pickup device has been studied. For example, according to the method disclosed in Patent Document 3, chipping inspection accuracy of the edge portion can be enhanced. Further, according to the method disclosed in Patent Document 4, trimming processing for preventing chipping of the edge portion can be efficiently performed.

<특허문헌 1> Patent Document 1:                         

일본특허공개 평 7- 206467호 공보(2―7페이지)Japanese Patent Application Laid-Open No. 7-206467 (pages 2-7)

<특허문헌 2>Patent Document 2:

일본특허공개 평 6- 211539호 공보(2―7페이지)Japanese Patent Application Laid-Open No. Hei 6- 211539 (pages 2-7)

<특허문헌 3>Patent Document 3:

일본특허공개 2001- 241921호 공보(2―4 및 도1)Japanese Patent Application Laid-Open No. 2001-241921 (2-4 and Fig. 1)

<특허문헌 4><Patent Document 4>

일본특허공개 평 6- 106469호 공보(2―3페이지)Japanese Patent Application Laid-Open No. 6-106469 (pages 2-3)

최근, 고체촬상소자의 분야에 있어서, 특히 용도의 확대가 인정되는 것이 CM0S이다. CM0S는 소자의 가격이 저렴하기도 하여, 휴대전화나 PDA(Personal Digital Assistant) 등의 용도로 이용되는 일이 많아지고 있다. 한편, 이들 기기는 일반적으로 충격력이나 외부응력이 가해지기 쉬운 환경에서 사용되므로, 이들 기기에 장비되는 CM0S를 보호하고, 또한 투광창인 고체촬상소자용 커버 글래스에 대하여도 종래 이상으로 높은 강도, 특히 높은 내충격강도나 내후성 등이 요구되게 되었다. 따라서, 이들 용도에 사용되는 고체촬상소자용 커버 글래스는, 저렴하고 가볍다는 특성 이외에, 고강도, 안정적인 내후성이라는 특성을 모두 가지고 있어야 한다. 그러나, 비용성이나 내후성에 대하여는 상술한 바와 같이, 종래로부터 어느 정도의 대책이 강구되고 있으나, 경량성이나 강도 특성에 대하여는 상기 용도로 요구되는 레벨을 충분히 달성할 수 없는 것이 실상이다.In recent years, in the field of solid-state image pickup devices, CM0S has been found to be particularly widespread. Since CM0S is inexpensive in terms of devices, it is increasingly used for applications such as a cellular phone and a PDA (Personal Digital Assistant). On the other hand, since these devices are generally used in an environment in which impact force or external stress is likely to be applied, the CM0S mounted on these devices is protected, and a cover glass for a solid- High impact strength and weather resistance are required. Therefore, the cover glass for a solid-state image sensor used in these applications must have both characteristics of high strength and stable weather resistance in addition to being inexpensive and lightweight. As to the cost and weather resistance, however, measures have been proposed to some extent from the past, but it is a reality that the level required for such use can not be sufficiently attained for lightness and strength characteristics.

본 발명의 과제는, 표면이나 내부의 결함에 관하여 높은 품위를 가지고, 저 렴하고 내후성이 뛰어나며, 한층 가볍고 고강도인 고체촬상소자용 커버 글래스를 제공하는 것이다.A problem to be solved by the present invention is to provide a cover glass for a solid-state image pickup device which is high in durability against defects on the surface or inside, is low in weight and excellent in weatherability, and is lighter and has a higher strength.

상기 과제를 해결하기 위하여, 본 발명은, 무기 산화물 글래스제의 평판 글래스로 이루어지고, 상기 평판 글래스의 두께방향으로 서로 마주보는 제1 투광면 및 제2 투광면과 상기 평판 글래스의 둘레를 구성하는 측면을 갖는 고체촬상소자용 커버 글래스에 있어서, 측면은, 제1 투광면에 인접하는 제1 측면부와 제1 측면부 및 제2 투광면에 인접하는 제2 측면부를 구비하고, 제1 측면부의 표면 거칠기는 제2 측면부의 표면 거칠기보다 크고, 제1 측면부의 표면 거칠기의 Ra값은 0.1∼10nm, Rmax값은 0.1∼30nm이고, 제2 측면부의 표면 거칠기의 Ra값은 0.01∼5nm, Rmax값은 0.01∼20nm이며, 제1 측면부가 제1 투광면에 대하여 이루는 각도가 90°±5°의 범위내에 있고, 제2 측면부가 제1 측면부에 대하여 이루는 각도가 8°이하인 구성을 제공한다.According to an aspect of the present invention, there is provided a flat plate glass comprising a first translucent surface and a second translucent surface opposed to each other in the thickness direction of the flat glass, A cover glass for a solid-state image sensor having a side surface, the side surface having a first side surface portion adjacent to the first light-transmitting surface, a second side surface portion adjacent to the first side surface portion and the second light-transmitting surface, The Ra value of the surface of the first side portion is 0.1 to 10 nm, the Rmax value is 0.1 to 30 nm, the Ra value of the surface roughness of the second side portion is 0.01 to 5 nm, the Rmax value is 0.01 And the angle formed by the first side surface with respect to the first light-transmitting surface is within the range of 90 占 占 and the angle formed by the second side surface with respect to the first side surface is 8 占 or less.

상기 구성에 있어서, 평판 글래스의 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부는,표면 성상, 주로 표면 거칠기가 서로 다름에 기인하여 형성되는 경계선에 의해 구분되고, 이러한 경계선은, 예컨대 50배 정도의 배율로 현미경 관찰을 행함으로써 보다 명료하게 인식할 수 있다. 일반적으로, 제1 측면부는 평판 글래스의 전체둘레에 걸쳐 제1 투광면과 인접하고, 제2 측면부는 평판 글래스의 전체둘레에 걸쳐 제1 측면부 및 제2 측면부와 인접하고 있다.In the above configuration, the first side surface portion and the second side surface portion of the side surface of the flat glass are divided by the boundary line formed due to the difference in the surface property, mainly the surface roughness, and the boundary line is, for example, The microscopic observation can be performed more clearly. Generally, the first side portion is adjacent to the first light-transmitting surface over the entire circumference of the flat glass, and the second side portion is adjacent to the first side portion and the second side portion over the entire circumference of the flat glass.

제1 측면부가 제1 투광면에 대하여 이루는 각도를 90°±5°의 범위내로 한 것은 다음과 같은 이유에 의한다. 즉, 상기 각도가 85° 보다 작은 각도이거나, 혹은 95° 보다 큰 각도이면, 조립공정에 있어서 고체촬상소자에 대한 커버 글래스의 위치결정을 행하기가 어려워지므로 바람직하지 않다. 또한, 평판 글래스의 형상에 의해 측면이 둘레방향으로 복수개의 부분으로 구분되고, 서로 인접하는 각 측면 사이에 능선부가 형성되는 경우, 제1 측면부의 능선부, 즉 제1 투광면의 코너부 근방에 마이크로 크랙이나 마이크로 칩핑 등의 결함이 발생할 위험성이 높아지고, 특히 반송, 조립 등의 공정에 있어서 상기 개소의 마이크로 크랙이나 마이크로 칩핑에 의한 결함 발생율이 커진다. 따라서, 고체촬상소자를 조립한 다음의 제품 강도에 문제가 발생하는 등, 실제 사용상의 지장이 생긴다.The reason why the angle formed by the first side surface with respect to the first light-transmitting surface is within the range of 90 占 占 is for the following reason. That is, if the angle is an angle smaller than 85 ° or an angle larger than 95 °, it is not preferable to position the cover glass with respect to the solid-state image pickup device in the assembling process. In the case where the side surface is divided into a plurality of portions in the circumferential direction by the shape of the flat glass and the ridgeline portion is formed between the adjacent side surfaces of the ridgeline portion of the first side surface portion, that is, in the vicinity of the corner portion of the first light- The risk of occurrence of defects such as micro cracks and microchipping increases, and in particular, in the processes of transportation, assembly, and the like, the occurrence rate of defects due to micro cracks or microchipping at the above locations increases. Therefore, there arises a problem in actual use, such as a problem in product strength after assembling the solid-state image pickup device.

또한, 제2 측면부가 제1 측면부에 대하여 이루는 각도를 8°이하로 한 것은 다음과 같은 이유에 의한다. 즉, 상기 각도가 8°를 초과하면, 바꾸어 말하면, 제2 측면부가 제1 투광면에 대하여 이루는 각도가 77°보다 작은 각도이거나 103°보다 큰 각도이면, 커버 글래스를 반송할 때 수납하는 플라스틱 트레이 등과의 클리어런스의 조정이 어려워지고, 반송시 등에 가해지는 진동이나 충격 등의 외적 응력에 의해 커버 글래스의 측면의 에지부나 제2 측면부의 능선부, 즉 제2 투광면의 코너부 근방에 마이크로 크랙이나 마이크로 칩핑 등의 결함이 발생하기 쉬워지기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 고체촬상소자에 탑재된 다음의 기계적인 강도 특성에 관하여도 상기와 같은 문제가 생긴다.The reason why the angle formed by the second side face with respect to the first side face is 8 DEG or less is as follows. In other words, when the angle is greater than 8 degrees, in other words, when the angle formed by the second side surface with respect to the first light-projecting surface is an angle smaller than 77 degrees or an angle larger than 103 degrees, It is difficult to adjust the clearance between the edge portion of the cover glass and the ridge portion of the second side surface, that is, in the vicinity of the corner portion of the second light-transmitting surface due to external stress such as vibration or impact, Defects such as microchipping tend to occur, which is not preferable. In addition, the above-mentioned problems also arise with respect to the following mechanical strength characteristics mounted on the solid-state image pickup device.

측면의 제1 측면부와 제2 측면부에 대하여는, 상기 조건을 구비하는 한 어떠한 가공방법을 채용하여도 무방하다. 이와 같이 평판 글래스의 측면을 각각 다른 표면 성상을 갖는 제1 측면부와 제2 측면부의 두개면에 의해 구성함으로써, 고체촬상소자용 커버 글래스의 제조시에 평판 글래스의 측면에 발생하는 마이크로 크랙이나 마이크로 칩핑 등에 의한 글래스 더스트의 발생을 낮게 억제하는 것이 가능해진다. 따라서, 마이크로 크랙이나 마이크로 칩핑 등의 결과로서 발생한 글래스 더스트의 투광면으로의 재부착이나, 측면의 능선부, 즉 평판 글래스의 코너부에 발생하는 마이크로 크랙 등에 기인하는 평판 글래스의 강도 저하라는 문제를 해소하는 것이 가능해진다.With respect to the first side surface portion and the second side surface portion of the side surface, any processing method may be employed provided that the above conditions are satisfied. By constituting the side surface of the flat glass with the two side surfaces of the first side surface portion and the second side surface portion having different surface properties in this way, it is possible to prevent the micro cracks and microchipping that occur on the side surface of the flat glass during the production of the cover glass for a solid- It is possible to suppress the generation of the glass dust due to the dust or the like. Therefore, there is a problem of redeposition of the glass dust generated as a result of micro cracks or microchipping or the like to the light-transmitting surface, or degradation of the strength of the flat glass caused by micro cracks or the like at the ridgeline portion of the side surface, It becomes possible to solve the problem.

그리고, 제조공정에서의 공정 발췌검사나 강제가속시험 등에 의해 상기 구성을 갖는 것이 확인되고, 바람직하기로는, 후술하는 조성, 특성을 갖는 평판 글래스라면, 제조공정에서의 가공, 세정, 반송, 검사 등의 일련의 공정중에 측면, 특히 측면의 능선부, 즉 평판 글래스의 코너부에 결함이 발생하기 어려워지므로, 고체촬상소자를 보호하는 커버 글래스로서 조립된 다음의 충격 시험 등에도 견딜 수 있게 된다.It is confirmed that the composition has the above-described structure by a process extraction test or a forced acceleration test in a manufacturing process, and preferably, a flat glass having the following composition and characteristics is used for processing, cleaning, Defects are hardly generated in the side surface, particularly, the ridgeline portion of the side surface, that is, the corner portion of the flat glass, so that it becomes possible to withstand the next impact test or the like assembled as a cover glass for protecting the solid-

고체촬상소자용 커버 글래스에서 최대 면적을 갖는 투광면은, 화상정보를 정확하게 전달하기 위하여 가시광선을 투과하는 역할을 가지므로, 그 표면은 높은 평탄도를 가질 필요가 있다. 또한, 측면에 대하여는, 상술한 바와 같이, 그 표면에 미세한 마이크로 크랙 등의 결함이 있으면, 평판 글래스의 강도가 현저하게 저하되기 때문에 바람직하지 않다. 또한, 평판 글래스의 표면은 충분한 청정도가 유지될 필요가 있고, 부착 이물질이나 오염 등이 있으면 가시광선 등이 투과할 때 장해가 되거나 기계적인 강도의 저하의 원인이 될 수도 있으므로, 주의가 필요하다. The translucent surface having the maximum area in the cover glass for a solid-state image pickup device has a role of transmitting visible light in order to accurately transmit image information, so that the surface needs to have a high flatness. On the side surface, as described above, if there are defects such as fine micro cracks on the surface, the strength of the flat plate glass is remarkably lowered, which is not preferable. In addition, the surface of the flat plate glass needs to maintain a sufficient degree of cleanliness, and if there is foreign matter adhered to it or dirt, it may cause a trouble when visible light or the like is transmitted or a mechanical strength may be lowered.                     

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 보다 안정된 품위를 실현하기 위하여, 평판 글래스의 측면에 있어서, 제1 측면부의 표면 거칠기의 Ra값을 0.1∼5.0nm, Rmax값을 1.0∼15nm, 제2 측면부의 Ra값을 0.1∼3.0nm, Rmax값을 0.5∼12nm, 제1 측면부가 투광면에 대하여 이루는 각도를 90°±3°, 제2 측면부가 제1 측면부에 대하여 이루는 각도를 5°이하로 하는 것이 바람직하다.In order to achieve a more stable quality of the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention, it is preferable that Ra of the surface side roughness of the first side portion is 0.1 to 5.0 nm, Rmax value is 1.0 to 15 nm, The angle formed by the first side surface with respect to the light transmitting surface is 90 占 쏙옙 3 占 and the angle formed by the second side surface with respect to the first side surface is 5 占Or less.

또한, 가공공정의 공정관리 빈도의 향상이나 벽개(劈開)가공시의 위치결정 정밀도의 향상, 가공될 모재인 판글래스의 균질성 등의 품위향상이라는 공정상의 개선을 거듭하여, 항상 안정된 제조상태가 실현될 수 있는 연구를 함으로써, 제1 측면부와 제2 측면부의 표면 거칠기는 보다 높은 품위가 실현가능해진다. 이에 따라, 글래스 더스트의 발생을 한층 효과적으로 억제할 수 있다. 그리고, 그러한 경우의 표면 거칠기는, 제1 측면부에 대하여 Ra값 0.3∼1.2nm, Rmax값 2.0∼12.0nm이고, 제2 측면부에 대하여 Ra값 0.3∼1.0nm, Rmax값 1.5∼10.0nm인 것이 바람직하다.In addition, improvements in process quality such as improvement in the frequency of process control in the machining process, improvement in positioning accuracy during cleavage machining, and uniformity of the plate glass as a base material to be processed have been repeatedly carried out, The surface roughness of the first side surface portion and the second side surface portion can be realized with higher durability. Thus, generation of glass dust can be suppressed more effectively. The surface roughness in such a case is preferably Ra of 0.3 to 1.2 nm, Rmax of 2.0 to 12.0 nm, Ra of 0.3 to 1.0 nm and Rmax of 1.5 to 10.0 nm with respect to the first side portion Do.

또한, 이상의 구성을 갖는 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 예컨대 세로 2∼50mm, 가로 2∼50mm, 두께 0.1∼1mm의 제치수를 가지며, 그 투광면은 경면상태를 이루고 있다. 그리고, 글래스 내부에 이물질, 거품 등은 보이지 않으며, 두께방향의 투과광에 의한 색조는 무색을 이루고 있다.Further, the cover glass for a solid-state imaging element of the present invention having the above configuration has dimensions of 2 to 50 mm in length, 2 to 50 mm in width and 0.1 to 1 mm in thickness, and the light-projecting surface thereof has a mirror surface state. No foreign substances or bubbles are visible in the glass, and the color tone due to the transmitted light in the thickness direction is colorless.

이상의 구성에 있어서, 측면의 면적에 대한 제1 측면부의 면적의 비율{제1 측면부의 면적/(제1 측면부의 면적+제2 측면부의 면적)}이 0.1∼0.3인 것이 바람직하다. In the above configuration, it is preferable that the ratio of the area of the first side portion to the area of the side surface (the area of the first side portion / the area of the first side portion + the area of the second side portion) is 0.1 to 0.3.                     

본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스에 있어서, 그 측면을 표면 성상이 다른 제1 측면부와 제2 측면부로 구성하는 것은, 제조 공정상의 이유에서도 필요하다. 즉, 제1 측면부는 일반적으로 균열 선가공에 의해 형성되고, 제2 측면부는 일반적으로 벽개가공에 의해 형성된다. 상기 면적 비율을 O.1보다 작게 하면, 제2 측면부를 형성하기 위한 벽개가공을 행할 때, 칩핑 등의 결함이 많이 발생할 가능성이 있으므로 바람직하지 않다. 한편, 제1 측면부는 표면 거칠기(Ra값, Rmax값)가 제2 측면부보다 큰 경향을 가지므로 그 면적은 상대적으로 작은 것이 바람직하고, 상기 면적 비율은 최대 0.3으로 하는 것이 바람직하다. 즉, 상기 면적 비율이 0.3을 초과하면, 반송시 칩핑이 발생하기 쉬워지는 등의 문제가 발생한다. 보다 높은 품위를 목표로 하는 경우에는, 상기 면적 비율의 상한값은 0.27, 더욱 안정된 품위가 필요하다면 0.25로 하는 것이 좋다.In the cover glass for a solid-state image sensor according to the present invention, it is necessary for the side surface to be constituted by the first side surface portion and the second side surface portion having different surface properties from the viewpoint of the manufacturing process. That is, the first side portion is generally formed by cracking, and the second side portion is formed by cleavage processing in general. When the area ratio is smaller than 0.1, it is not preferable because a lot of defects such as chipping may occur when performing cleavage processing for forming the second side face portion. On the other hand, since the surface roughness (Ra value, Rmax value) of the first side face portion tends to be larger than that of the second side face portion, the area is preferably relatively small, and the area ratio is preferably set to a maximum of 0.3. That is, when the area ratio exceeds 0.3, there arises a problem that chipping is liable to occur during transportation. In the case of aiming higher durability, the upper limit value of the above-mentioned area ratio is preferably set to 0.27, and the more stable durability is required to be 0.25.

평판 글래스의 형상에 따라 측면이 둘레방향으로 복수개의 부분(각 측면)으로 구분되는 경우, 상기 면적비율은 측면의 총 면적(구분되는 각 측면의 면적의 총합)에 대한 제1 측면부의 총 면적(각 측면에서의 제1 측면부의 면적의 총합)의 비율을 나타낸다. 예컨대, 평판 글래스가 대략 사각형상인 경우, 그 측면은 둘레방향으로 4개의 부분(4개의 각 측면)으로 구분되는데, 이 경우, 상기 면적 비율은 4개의 각 측면의 면적의 총합에 대한 4개의 각 측면에서의 제1 측면부의 면적의 총합의 비율이다. 각 측면에 대하여 각각 상기 면적 비율을 산출한 경우, 그 상기 면적 비율은 각 측면마다 다른 값일 수도 있고, 4개 중 일부의 각 측면에 대하여 상기 면적비율이 상기 범위밖일 수도 있다. 바람직하기로는, 각 측면에 대하여, 상기 면 적 비율이 상기 범위내인 것이 좋다. 또한 필요에 따라, 4개 중 서로 마주보는 2개의 각 측면에 대하여 상기 면적 비율이 같은 값이 되도록 할 수도 있다.In the case where the side surface is divided into a plurality of portions (side surfaces) in the circumferential direction according to the shape of the flat glass, the area ratio is a total area of the first side portions with respect to the total area of the side surfaces The sum of the areas of the first side portions on each side). For example, when the flat glass is in a substantially rectangular shape, the side surface is divided into four portions (four side surfaces) in the circumferential direction. In this case, the area ratio is set to four side surfaces Is the ratio of the sum of the areas of the first side portions in the first side portion. When the area ratio is calculated for each side face, the area ratio may be different for each side, and the area ratio may be out of the range for each side face of a part of the four sides. Preferably, for each aspect, the area ratio is within the above range. If necessary, the area ratios may be the same for two opposite sides of the four areas facing each other.

또한, 상기 구성에 있어서, 평판 글래스가 대략 사각형상이고, 그 4개의 각변에 각각 대응하여 각 측면이 있으며, 모든 측면에 대하여 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선으로부터 제1 투광면까지의 두께방향의 거리의 평균값을 구하여 그 값을 Za라 하였을 때, 각 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선으로부터 제1 투광면까지의 두께방향의 거리(Z)가 ―0.2≤(Z- Za)/Za≤0.2의 관계를 만족하도록 하는 것이 바람직하다. 이 경우, 상기 비율{(Z- Za)/Za}은 각 측면에 대하여 같은 값일 수도 있고, 다른 값일 수도 있다. 또한 4개 중 서로 마주보는 2개의 각 측면에 대하여 상기 비율이 같은 값이 되도록 할 수도 있다.In the above configuration, it is preferable that the flat plate glass has a substantially rectangular shape, and each side surface corresponds to each of the four sides of the flat glass, and the thickness direction from the boundary line between the first side surface portion and the second side surface portion to the first light- The distance Z in the thickness direction from the boundary between the first side surface portion and the second side surface portion on each side surface to the first light-transmitting surface is -0.2? (Z-Za) / Za &amp;le; 0.2. In this case, the ratio {(Z-Za) / Za} may be the same value for each side or may be another value. In addition, the ratio may be the same for each of the two opposing sides of the four.

제1 측면부와 제2 측면부의 경계선으로부터 제1 투광면까지의 두께방향의 거리(Z)는 일반적으로, 각 측면에 있어서 대략 일정해진다. 따라서, 서로 인접하는 2개의 각 측면에 대하여 상기 거리(Z)가 서로 다른 경우, 이들 2개의 각 측면에서의 상기 경계선은 양자의 능선부상에서 불연속적으로 된다. 따라서, 상기 능선부는 2개의 제1 측면부끼리의 경계, 2개의 제2 측면부끼리의 경계, 그리고 제1 측면부와 제2 측면부의 경계라는 3가지의 성상을 가지게 된다. 본 발명자들은, 수많은 시험·조사에 의해 능선부상에서 불연속적인 상기 경계선의 선단이 마이크로 크랙이나 마이크로 칩핑의 원인이 되고, 이러한 결함의 발생율은 상기 비율{(Z- Za)/Za}이 -0.2∼0.2의 범위밖이 되면 현저하게 증대된다는 것을 발견하였다.The distance Z in the thickness direction from the boundary between the first side surface portion and the second side surface portion to the first light-transmissive surface is generally substantially constant on each side surface. Therefore, when the distances Z are different from each other for two adjacent side surfaces, the boundary lines at these two sides become discontinuous on the ridge portions of both sides. Therefore, the ridge portion has three features: a boundary between two first side portions, a boundary between two second side portions, and a boundary between the first side portion and the second side portion. The inventors of the present invention found that the tip of the boundary, which is discontinuous at the ridge line due to a lot of tests and investigations, causes micro-cracks or microchipping, and the rate of occurrence of such defects is such that the ratio {(Z-Za) / Za} 0.2, it is remarkably increased.

이러한 마이크로 크랙이나 마이크로 칩핑이 특히 문제가 되는 것은, 이러한 결함이 평판 글래스를 성형하는 단계보다, 그 다음의 공정 등에서 발생할 확률이 높아 피해가 크며, 대책도 어려워지기 때문이다. 즉, 성형 단계에서 결함이 발생되면, 스크리닝, 즉 결함품을 배제하여 양품만을 선별함으로써 대처할 수 있지만, 성형후의 검사나 반송, 조립 등의 공정에 있어서 결함이 발생하여 불량율이 높아지면, 그때까지 걸렸던 시간이나 비용이 쓸모없게 되어, 보다 큰 손실의 원인이 되기 때문이다.Such microcracks and microchipping are particularly problematic because such defects are more likely to occur in the subsequent process than in the step of forming the flat glass, so that the damage is large and countermeasures become difficult. That is, if defects are generated in the forming step, screening, that is, defective products can be excluded and only good products can be selected. However, if defects are generated in the steps of inspection, transportation, and assembly after molding to increase the defective rate, This is because time or cost becomes useless and causes more loss.

그리고, 본 발명자들은, 평판 글래스의 측면의 능선부에 있어서, 상기 경계선이 불연속적으로 되는 것은, 능선부 자신의 형상이 마이크로 크랙이나 마이크로 칩핑 등의 결함이 발생하기 쉬운 복잡한 형상으로 되는 것 뿐만 아니라, 능선부상에 표면 거칠기가 서로 다른 제1 측면부와 제2 측면부의 경계가 형성되고, 이 것이 마이크로 크랙이나 마이크로 칩핑 등의 결함의 발생원인이 된다는 것을 발견하였다. 즉, 능선부에 있어서 동일한 표면 거칠기를 갖는 제1 측면부끼리, 제2 측면부끼리의 경계의 표면 거칠기는 큰 변화가 보이지 않는데 반해, 서로 다른 표면 거칠기를 갖는 제1 측면부와 제2 측면부의 경계의 표면 거칠기는, 거친 쪽의 표면 거칠기보다 더 거친 상태가 된다. 따라서, 능선부상에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계의 길이는 가급적 작은 것이 바람직하다. 이러한 관점에서, 상기 비율{(Z- Za)/Za}은 ―0.2∼0.2의 범위내로 하는 것이 바람직하다. 상기 비율이 ―0.2보다 작아지거나 0.2보다 커지면, 평판 글래스의 가공시, 혹은 반송이나 조립 공정 등에 있어서 판글래스의 코너부, 즉 측면의 능선부에 마이크로 크랙 등의 결함이 발생할 확률이 높아진다. 상기 비율{(Z- Za)/Za}을 ―0.2∼0.2의 범위내로 함으로써, 고체촬상소자용 커버 글래스로서 실제 사용시 요구되는 높은 강도특성을 만족할 수 있다.The inventors of the present invention have found out that, in the ridge line portion on the side surface of the flat glass, the boundary line is discontinuous because the shape of the ridge line itself is not only a complicated shape in which defects such as micro cracks and microchipping can easily occur , A boundary between the first side surface portion and the second side surface portion having different roughnesses on the surface of the ridgeline is formed and this causes a defect such as micro cracks or microchipping. That is, in the ridge portion, the surface roughness of the boundary between the second side portions is not greatly changed between the first side portions having the same surface roughness, while the surface roughness of the boundary between the first side portion and the second side portion having different surface roughness The roughness becomes rougher than the surface roughness of the rough side. Therefore, it is preferable that the length of the boundary between the first side surface portion and the second side surface portion on the ridge line is as small as possible. From this viewpoint, it is preferable that the ratio {(Z-Za) / Za} is within a range of -0.2 to 0.2. When the ratio is smaller than -0.2 or larger than 0.2, the probability that a defect such as a micro crack will occur at the corner portion of the glass sheet, that is, the ridge portion on the side surface during the processing of the flat glass or during the transportation or assembling process is increased. By setting the ratio {(Z-Za) / Za} within the range of -0.2 to 0.2, it is possible to satisfy the high strength characteristics required for practical use as the cover glass for a solid-state image sensor.

또한, 보다 안정된 조건을 채용하고, 보다 높은 품위를 커버 글래스에 요구하는 경우에는, 상기 비율{(Z- Za)/Za}을 ―0.05∼0.05의 범위내로 하는 것이 바람직하다. 이에 따라, 가공후의 공정에서의 마이크로 크랙의 발생율을 줄일 수 있고, 가공시의 마이크로 크랙의 발생율도 개선할 수 있다.Further, when a more stable condition is adopted and a higher quality is required for the cover glass, it is preferable to set the ratio {(Z-Za) / Za} within the range of -0.05 to 0.05. As a result, the incidence of micro cracks in the process after the process can be reduced, and the incidence of micro cracks during the process can also be improved.

바람직하기로는, 서로 인접하는 2개의 각 측면사이의 능선부상에 있어서, 하나의 각 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선의 선단과 다른 하나의 각 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선의 선단이 실질상 동일점상에 있도록 하는 것이 좋다. 더욱 바람직하기로는, 능선부에 마이크로 크랙이 없도록 하는 것이 좋다.Preferably, on the ridge line between two adjacent side surfaces, the tip of the boundary line between the first side surface portion and the second side surface portion on one side surface and the first side surface portion on the other side surface and the second side surface portion It is preferable that the tip of the boundary line of the light guide plate is substantially on the same point. More preferably, it is preferable that there is no micro crack in the ridge line portion.

여기서, 「실질상 동일점상에 있다」에는, 능선부상에 있어서, 하나의 각 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선의 선단과 다른 하나의 각 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선의 선단이 완전히 동일점상에 있는 구성 이외에, 두 선단끼리가 평판 글래스의 두께의 3% 이하, 바람직하기로는 1% 이하의 거리로 떨어져 있는 구성도 포함된다.Here, &quot; substantially on the same point &quot; indicates that on the ridge portion, the tip of the boundary line between the first side surface portion and the second side surface portion on one side surface and the first side surface portion and the second side surface portion The configuration in which the tips of the boundary lines are completely on the same point is included, and the distance between the two tips is 3% or less, preferably 1% or less of the thickness of the flat glass.

상기 두 선단 사이의 거리가 평판 글래스의 두께의 3%를 초과하면, 능선부에 있어서 표면 거칠기가 서로 다른 제1 측면부와 제2 측면부의 경계의 길이가 너무 커지고, 두 면의 표면거칠기의 차이가 능선부에 반영되므로, 능선부상의 표면 거칠기가 현저하게 거칠어지는 등의 장해가 발생한다. 따라서, 가공시에서의 마이크로 크랙의 발생 이외에, 반송이나 조립공정에 있어서도 문제가 될 수 있다. 또한, 보다 요구품위가 엄격하고 더욱 안정된 품위를 확보할 필요가 있는 경우에는, 상기 두 선단 사이의 거리를 평판 글래스의 두께의 1%이하로 하는 것이 좋다.If the distance between the two front ends exceeds 3% of the thickness of the flat glass, the length of the boundary between the first side portion and the second side portion having different surface roughness in the ridgeline portion becomes too large and the difference in surface roughness between the two surfaces It is reflected on the ridgeline portion, so that the surface roughness on the ridgeline portion becomes remarkably rough. Therefore, in addition to the generation of micro cracks at the time of processing, it may also be a problem in a transporting and assembling process. In addition, when it is necessary to secure a more rigorous and more stable quality of the product, it is preferable that the distance between the two ends be 1% or less of the thickness of the flat glass.

예컨대, 평판 글래스의 측면을 레이저 절단장치에 의해 가공하는 경우, 상기와 같은 능선부의 형상을 얻기 위해서는, 대략 사각형상의 윤곽을 갖는 각 평판 글래스의 종방향과 횡방향의 제1 측면부의 가공을 행할 때, 레이저 빔의 상대이동속도를 정밀하게 관리하고, 그 속도변동을 설정값의 ±5% 이내로 관리하며, 레이저 빔의 출력변동에 대하여도 설정값의 ±5% 이내로 관리하는 것이 바람직하다.For example, in the case where the side surface of the flat glass is processed by the laser cutting apparatus, in order to obtain the shape of the ridge portion as described above, when processing the first side portion in the longitudinal direction and the transverse direction of each flat glass having a substantially rectangular outline It is preferable to manage the relative moving speed of the laser beam precisely, to control the speed variation within ± 5% of the set value, and to control the variation of the laser beam output within ± 5% of the set value.

또한, 「능선부에 마이크로 크랙이 없다」란, 그 발생원으로부터 크랙선단까지의 길이가, 그 크랙이 존재하는 면의 표면 거칠기, 즉 능선부의 표면 거칠기의 Ra값의 10배이상의 크기를 갖는 균열이 능선부에 존재하지 않는 것을 의미한다. 크랙으로는, 그 사이즈가 클수록 중대한 결함인 것이 확실하나, 그 사이즈가 작어도 크랙이 생기는 방향에 따라서는, 쉽게 마이크로 칩핑이 되어 발생한 미세한 유리 조각이 평판 글래스의 투광면에 부착되는 등의 문제를 일으킬 수 있고, 광학적인 특성에도 지장이 생길 수 있다. 따라서, 사이즈가 작은 크랙도 경시할 수 없지만, 그 한편으로 고체촬상소자용 커버 글래스로서 요구되는 품위에 비추어, 그 영향을 실질상 무시할 수 있을 정도로 극히 미소한 크랙에 대하여까지 관리하는 것은, 제조비용이나 관리 비용, 나아가서는 제품비용의 상승의 원인이 되므로 현실적이지 않다. 이러한 사정을 감안하여, 능선부의 마이크로 크랙을 상기 레벨로 규제하는 것이 고체촬상소자용 커버 글래스로서 요구되는 품위를 확보하고, 비용 상승을 억 제하는 데 있어 유리하다.The term &quot; no microcracks in the ridgeline portion &quot; means that the length from the generation source to the crack tip is larger than 10 times the Ra value of the surface roughness of the surface on which the crack exists, i.e., the surface roughness of the ridgeline portion It means that it does not exist in the ridge portion. The larger the size of the crack is, the larger the defect is. However, even if the size is small, there is a problem in that, depending on the direction in which the crack occurs, a minute piece of glass generated by microchipping easily adheres to the translucent surface of the flat glass And the optical characteristics may be deteriorated. Therefore, in view of the quality required as a cover glass for a solid-state image pickup device, on the other hand, a crack having a small size can not be neglected, and managing the crack to an extremely minute crack so that the influence thereof can be substantially ignored, But it is not realistic because it causes increase in management cost and also product cost. In view of such circumstances, it is advantageous to regulate the micro cracks of the ridge line at the above level to ensure the quality required as the cover glass for the solid-state image sensor, and to suppress the increase in cost.

능선부의 마이크로 크랙을 상기 레벨로 규제한 평판 글래스는 고체촬상소자용 커버 글래스로서 충분히 높은 품위를 만족하고, 가공공정후의 강도특성에 대하여도 검사, 반송, 조립 등으로 높은 성능을 유지할 수 있다.The flat glass which regulates the micro cracks of the ridge line at the above level satisfies a sufficiently high quality as a cover glass for a solid-state image sensor, and can maintain high performance by inspection, transportation, assembling and the like even after the processing step.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 파장 500nm, 파장 600nm의 가시광선의 직선 내부투과율이 각각 95%이상인 것이 바람직하다.The cover glass for a solid-state image sensor of the present invention preferably has a linear transmittance of visible light having a wavelength of 500 nm and a wavelength of 600 nm of 95% or more, respectively.

여기서, 「직선 내부투과율」이란, 직선 투과광을 하나의 투광면측으로부터 평판 글래스로 입사시키고, 평판 글래스의 내부를 투과시켜 다른 하나의 투광면으로부터 출사시킨 경우에서의 반사손실을 제외한 분광투과율로서, 입사광량에 대한 출사광분량의 비율을 의미한다. 이러한 투과율을 측정하는 것이 화상을 기록하는 고체촬상소자용 커버 글래스로서의 성능을 만족하는지 아닌지를 판단하는 데 있어서 중요하다. 이러한 직선 내부투과율이 95% 보다 낮아지면, 고체촬상소자용커버 글래스로서 사용하기는 어렵다.Here, the &quot; linear transmittance &quot; refers to the spectral transmittance except for the reflection loss in the case where linearly transmitted light is incident on a flat plate glass from one light-transmissive surface side and is transmitted through the inside of the flat glass to exit from another light- Means the ratio of the amount of emitted light to the amount of light. Measurement of such a transmittance is important in determining whether or not the performance as a cover glass for a solid-state image sensor recording an image is satisfied. When the linear transmittance is lower than 95%, it is difficult to use the cover glass for a solid-state image sensor.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스의 조성은, 질량% 표시로 SiO2 50∼70%, Al2O3 2∼20%, RO 4∼30%(RO=MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)를 함유하는 것이 바람직하다.The composition of the cover glass for a solid-state imaging device of the present invention is 50 to 70% of SiO 2 , 2 to 20% of Al 2 O 3 and 4 to 30% of RO (RO = MgO + CaO + ZnO + SrO + BaO).

SiO2는, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스를 구성하는 골격이 되는 주성분으로서, 이 성분의 함유량이 50%보다 적은 경우에는, 고체촬상소자라는 용도,특히 휴대전화 등의 휴대정보단말기와 같이 지금까지는 중요시되지 않았던 용도로 사용하기에는 내후성이라는 점에서 문제가 생기므로 바람직하지 않다. 더욱 안정된 내후성을 실현하기 위해서는, SiO2의 함유량을 53%이상으로 하는 것이 바람직하다. 한편, SiO2의 함유량이 70%를 초과하면, 글래스 원료를 용해하기가 어려워지고, 이러한 문제를 극복하기 위하여 비용의 많이 드는 용융설비 등을 준비할 필요성이 생기며, 제조 비용, 나아가서는 제품 비용의 상승의 원인이 되기 때문에 현실적이지 않다.SiO 2 is a main component constituting the skeleton constituting the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention. When the content of the SiO 2 is less than 50%, the use of a solid-state image sensor, particularly a portable information terminal such as a cellular phone It is not preferable to use it as an application which has not been regarded as important until now because it causes problems in terms of weatherability. In order to realize more stable weatherability, the content of SiO 2 is preferably 53% or more. On the other hand, when the content of SiO 2 exceeds 70%, it becomes difficult to dissolve the glass raw material. In order to overcome such a problem, it is necessary to prepare a melting facility or the like which requires a large amount of cost. It is not realistic because it causes rise.

A12O3는 글래스의 내후성의 향상에 기여하는 성분으로서, 이 성분의 첨가량이 2%보다 적은 경우에는 현저한 효과를 얻을 수 없다. 한편, A12O3의 첨가량이 20%를 초과하는 경우에는, 글래스 원료의 용융시에 A12O3의 초기 용해성이 나빠지므로 균질한 제품을 제조할 때의 장해가 되는 경우가 많다. 따라서, 고체촬상소자용 커버 글래스로서의 실제 사용시, 광학 특성이나 기계적인 성능에 있어서 지장이 발생하기 쉽다. 더욱 안정된 용해성을 실현하기 위해서는, A12O3의 첨가량의 상한을 16%로 하는 것이 좋다.A1 2 O 3 is a component contributing to the improvement of the weatherability of the glass. When the addition amount of this component is less than 2%, a remarkable effect can not be obtained. On the other hand, when the addition amount of Al 2 O 3 is more than 20%, the initial solubility of Al 2 O 3 is deteriorated at the time of melting the glass raw material, which often causes obstacles in producing a homogeneous product. Therefore, when actually used as a cover glass for a solid-state image sensor, the optical characteristics and the mechanical performance are liable to be hindered. In order to achieve more stable solubility, the upper limit of the addition amount of Al 2 O 3 is preferably set to 16%.

RO(RO=MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)는 알칼리 토류금속원소인 Mg, Ca, Zn, Sr, Ba의 산화물이 글래스내에 첨가됨으로써 글래스의 내후성을 향상시키는 성분으로서, 글래스의 점성을 저하시킴으로써 글래스의 용해성을 개선하고, 균질화에 크게 기여하는 효과를 갖는 성분이다. RO의 첨가량이 4%미만에서는 상기 효과가 충분히 얻어지지 않고, 반대로, RO의 첨가량이 30%를 초과하면 용해시에 결정이 석출되기 쉬워 져, 투명성을 잃는 경향이 높아짐으로써 글래스의 투과율에 악영향을 미치거나 글래스 균질성의 저하의 원인이 됨으로써, 판글래스의 강도의 저하를 초래할 수도 있다.RO (RO = MgO + CaO + ZnO + SrO + BaO) is a component for improving the weather resistance of glass by adding oxides of Mg, Ca, Zn, Sr and Ba as alkaline earth metal elements to the glass, Thereby improving the solubility of the glass and contributing greatly to the homogenization. If the addition amount of RO is less than 4%, the above effect can not be sufficiently obtained. On the contrary, if the addition amount of RO exceeds 30%, crystals tend to precipitate upon dissolution and the tendency to lose transparency increases, It is liable to become insoluble or deteriorate in the homogeneity of the glass, which may result in deterioration of the strength of the plate glass.

또한, 알칼리 토류산화물의 각각의 성분에 대하여, CaO의 첨가량은 질량%로 0.1∼25%인 것이 바람직하다. 이는, CaO가 글래스의 내후성을 향상시키는 기능이 있지만, 그 첨가량이 0.1% 보다 작으면 첨가효과가 적다. 보다 안정된 첨가 효과를 실현하기 위해서는, 0.4% 이상의 첨가가 바람직하다. 또한 CaO는 첨가량이 너무 많아지면 반대로 내후성이 저하되기 때문에, 그 첨가량의 상한은 25%로 하는 것이 좋다. 첨가량이 25%를 초과하면, 내수성이 열화되는 경향이 보인다. 보다 안정된 품위를 실현하기 위해서는, 첨가량의 상한을 23%로 하는 것이 좋다.The amount of CaO added to each component of the alkaline earth oxide is preferably 0.1 to 25% by mass. This is because CaO has a function of improving the weatherability of the glass, but if the addition amount is less than 0.1%, the addition effect is small. In order to realize a more stable addition effect, addition of 0.4% or more is preferable. In addition, when the added amount of CaO is too large, the weather resistance is lowered. Therefore, the upper limit of the added amount of CaO is preferably 25%. When the addition amount exceeds 25%, the water resistance tends to deteriorate. In order to realize more stable quality, it is preferable to set the upper limit of the added amount to 23%.

또한 ZnO는, B2O3나 알칼리 금속성분의 용융글래스로부터의 휘발을 억제하는 성분인데, 그 첨가량이 질량%로 0.03% 이상이 아니면 효과가 없으며, 더욱 명료한 효과를 실현하기 위해서는, 0.07% 이상의 첨가가 필요하다. 한편, ZnO는 첨가량이 너무 많으면 내후성에 악영향이 나타나고, 첨가량이 4%를 초과하면 내후성에 대한 악영향의 정도가 커진다. 보다 안정된 내후성을 실현하기 위해서는 첨가량의 상한을 3.7%로 하는 것이 좋다.In addition, ZnO is a component for suppressing the volatilization of B 2 O 3 or an alkali metal component from the molten glass. If the addition amount is not more than 0.03% by mass, it is not effective. In order to realize a more distinct effect, Or more. On the other hand, when ZnO is added in an excessively large amount, it adversely affects the weatherability. When the amount of ZnO is more than 4%, the degree of adverse effect on weatherability increases. In order to realize more stable weatherability, the upper limit of the addition amount is preferably 3.7%.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 상기 조성을 가지면서, 고순도 원료와 그 정비된 용융환경을 채용함으로써, U (우라늄), Th(토륨), Fe(철), Pb(납), Ti(티타늄), Ba(바륨), Cl(염소), Sn(주석), As(비소), Sb(안티몬), S(유 황), Zn(아연), P(인), Mn(망간), Zr(지르코늄)의 함유량을 정밀하게 조정하는 것이 가능하고, 특히 자외선 영역 근방의 투과율에 영향을 미치는 Fe(철), Pb(납), Ti(티타늄), Cl(염소), Mn(망간)에 대하여는 1OOppm∼1Oppb의 오더로 관리하는 것이 가능하며, α선에 의한 소프트 에러의 원인인 U(우라늄), Th(토륨)에 대하여는 1Oppb∼O.1ppb의 오더의 관리를 실현하는 것이 가능하다.Further, the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention can be made of U (uranium), Th (thorium), Fe (iron), Pb (lead) (Barium), Cl (chlorine), Sn (tin), As (arsenic), Sb (antimony), S (sulfur), Zn (zinc), P (phosphorus), Mn (manganese) (Iron), Pb (lead), Ti (titanium), Cl (chlorine), Mn (manganese) and the like which affect the transmittance in the vicinity of the ultraviolet region, It is possible to manage the order of 10 ppb to 0.1 ppb with respect to U (uranium) and Th (thorium) which are the cause of soft errors due to the? -Rays.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 알칼리 용출량이 JIS- R3502의 규격에 의해 0.lmg이하, 밀도가 2.8g/cm3이하, 비영률(영률/밀도)가 27GPa/g·cm-3이상, 빅커스 경도가 500kg/mm2이상인 것이 바람직하다.The cover glass for a solid-state image sensor according to the present invention is characterized in that the alkali elution amount is 0.1 mg or less, the density is 2.8 g / cm 3 or less and the specific gravity (Young's modulus / density) is 27 GPa / g · cm -3 or more, and Vickers hardness is preferably 500 kg / mm 2 or more.

여기서, 「알칼리 용출량이 JIS R3502의 규격에 의해 0.lmg이하」는, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스의 내후성에 대한 품위를 나타내고, 일본공업규격(JIS R3502:1995)에 따른 시험방법을 적용함으로써 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스의 제품으로부터의 알칼리 용출량을 측정하였을 때, 그 측정값이 O.lmg이하가 되는 것을 의미한다. 보다 안정된 내후성을 실현하기 위한 품위로는, 상기 알칼리 용출량이 0.08mg이하인 것이 바람직하다.Here, &quot; alkali release amount is 0.1 mg or less according to JIS R3502 standard &quot; indicates the degree of weather resistance of the cover glass for a solid-state imaging element of the present invention, and the test method according to Japanese Industrial Standard (JIS R3502: 1995) Means that when the amount of alkali leached from the product of the cover glass for a solid-state imaging element of the present invention is measured, the measured value becomes 0.1 mg or less. In order to achieve more stable weatherability, it is preferable that the above-mentioned alkali elution amount is 0.08 mg or less.

또한, 밀도가 2.8g/cm3이하이면, 예컨대 휴대전화 등과 같이 가지고 다니면서 이용하는 것이 중요시되고, 고체촬상소자용 커버 글래스의 중량이 조금이라도 가벼울 것이 요구되는 휴대용 전자기기 용도에 바람직하다.When the density is 2.8 g / cm 3 or less, it is important to carry it with a portable telephone or the like, and it is preferable for use in a portable electronic device that the weight of the cover glass for a solid-state image pickup device is required to be light.

휴대용 전자기기 용도의 경우에는 커버 글래스의 강도가 중요해지는데, 영률은 커버 글래스가 일정한 외력이 가해진 상태에서 얼마만큼 변형되기 쉬워지는지를 나타내고 있으며, 영률이 커질수록 커버 글래스는 변형되기 어려워진다. 비영률(= 영률/밀도)을 27GPa/g·cm-3이상으로 함으로써 가볍고 변형되기 어려운 특성을 만족하게 되고, 휴대용 전자기기에 사용되는 고체촬상소자용 커버 글래스로서 바람직하다.In the case of a portable electronic device, the strength of the cover glass becomes important. The Young's modulus indicates how much the cover glass is deformed when a constant external force is applied. As the Young's modulus increases, the cover glass becomes less prone to deformation. The non-Young's modulus (= Young's modulus / density) of 27 GPa / g · cm -3 or more satisfies the characteristics of being light and hard to be deformed and is preferable as a cover glass for a solid-state image sensor used in portable electronic devices.

또한, 빅커스 경도가 500kg/mm2이상이면, 커버 글래스의 표면에 흠집이 나기 어려워진다. 이러한 특성이 중요해지는 이유는, 휴대용도로 사용되는 전자기기에 탑재되고, 예컨대, 보호된 상태에서 이용되는 경우라도, 탑재되기 이전의 전자기기의 조립공정이나 반송행정 등에 있어서, 흠집이 쉽게 가지 않는 글래스 재질인 것이 필요하기 때문이다. 왜냐하면, 전자기기의 조립공정이나 반송행정 등에서 커버 글래스의 표면에 마이크로 크랙이 존재하는 경우에는, 전자기기의 검사공정 등에 있어서, 고체촬상소자에 탑재된 다음의 화상검사에서 화상에 문제가 있는 등의 이유로 불량품이 되고, 시장에는 판매되지 않기 때문이다. 그러나, 커버 글래스의 측면 등, 검사화상에는 직접 관련되지 않기 때문에 간과되기 쉬운 곳에 발생한 마이크로 크랙은, 화상검사 등의 품위검사에서는 간과될 수도 있어 그대로 출하될 우려도 있다. 그리고 이러한 경우, 커버 글래스에 결함이 있는 고체촬상소자가 휴대용 전자기기 등에 탑재되고, 낙하 등의 강한 충격력이나 청바지의 포켓에 넣어진 상태에서 전자기기가 큰 굽힘응력을 받으면, 그에 따라 커버 글래스가 강한 응력을 받아, 마이크로 크랙에 기인하여 깨질 수 있다. 따라서, 커버 글래스의 표면의 빅커스경도는 500kg/mm2이상인 것이 바람직하다. If the Vickers hardness is 500 kg / mm 2 or more, the surface of the cover glass is less prone to scratches. The reason why such characteristics are important is that, even when the electronic device is used in a portable electronic device, for example, in a protected state, it is possible to prevent the glass from easily scratching during the assembling process, It is necessary to be made of material. This is because, in the case where micro cracks exist on the surface of the cover glass in an assembling process or a conveyance stroke of an electronic device, there is a problem in image inspection in the next image inspection mounted on the solid- This is because it becomes defective for reasons and is not sold to the market. However, micro cracks that are likely to be overlooked because they are not directly related to the inspection image, such as the side surface of the cover glass, may be neglected in quality inspection such as image inspection and may be shipped as they are. In this case, when a solid-state image pickup device having a defect in the cover glass is mounted on a portable electronic device or the like, and the electronic apparatus is subjected to a large bending stress under a strong impact force such as a drop or in a pocket of jeans, It is stressed and can be broken due to micro cracks. Therefore, the Vickers hardness of the surface of the cover glass is preferably 500 kg / mm 2 or more.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 상술한 특성 이외에, 이하와 같은 특성을 만족하는 것이 바람직하다. 즉, 내산성에 대하여 JOGIS 06- 1999에 의한 내산성 평가시험으로 0.0lN 질산내에 60분간 침지처리한 다음의 분말 질량 감소율이 0.20% 미만인 것이 바람직하다. 또한, 평판 글래스내의 맥리(脈理)나 노트 등의 균질성을 방해하는 것도 존재하지 않고, 높은 균질도를 갖는 것이 바람직하다.Further, the cover glass for a solid-state imaging element of the present invention preferably satisfies the following characteristics in addition to the above-described characteristics. That is, it is preferable that the acidic property is less than 0.20% after immersion treatment in 0.0 lN nitric acid for 60 minutes by an acid resistance evaluation test according to JOGIS 06- 1999. In addition, it is preferable that there is no hindrance to the homogeneity of striae or notes in the flat glass, and high homogeneity.

또한, 본 발명에 따른 평판 글래스는, 소정 농도의 천이금속원소를 소정량 첨가하거나, 귀금속원소 등을 콜로이드 상태로 석출시킴으로써 필터용도의 박판 글래스로서 이용하는 것도 가능하며, 또한 그 이외에 레이저 다이오드의 창글래스나 광기능성 부품으로 이용되는 전자기기용으로서 이용하는 것도 가능하다. 또한, 평판 글래스의 표면에 CVD 등의 각종 방법에 의해 증착막 등을 실시함으로써 광학적인 특성을 조정하는 것도 가능하다.In addition, the flat glass according to the present invention can be used as a thin plate glass for filter use by adding a predetermined amount of a transition metal element of a predetermined concentration or depositing a noble metal element or the like in a colloidal state. In addition, Or as an electronic device used as a photo-functional component. It is also possible to adjust the optical characteristics by applying a vapor deposition film or the like to the surface of the flat glass by various methods such as CVD.

이상과 같이, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 측면에서의 제1 측면부의 표면 거칠기가 제2 측면부의 표면 거칠기보다 크고, 제1 측면부의 표면 거칠기의 Ra값이 0.1∼10nm, Rmax값이 0.1∼30nm이고, 제2 측면부의 표면 거칠기의 Ra값이 0.01∼5nm, Rmax값이 0.01∼20nm이고, 제1 측면부가 제1 투광면에 대하여 이루는 각도가 90°±5°의 범위내에 있고, 제2 측면부가 제1 측면부에 대하여 이루는 각도가 8°이하이므로, 평판 글래스의 제조공정이나 전자기기의 조립공정 등에서의 평판 글래스 측면에 발생하는 마이크로 크랙과 그 마이크로 크랙에 의해 발생하는 글래스 더스트를 현저하게 감소시킬 수 있고, 고체촬상소자에 탑재한 다음 의 충격적인 강도특성의 향상과 판글래스의 청정도 향상을 이룬다.As described above, in the cover glass for a solid-state imaging element of the present invention, the surface roughness of the first side surface portion at the side surface is larger than the surface roughness of the second side surface portion, the Ra value of the surface roughness of the first side surface portion is 0.1 to 10 nm, Ra of 0.01 to 5 nm and Rmax value of 0.01 to 20 nm, and the angle formed by the first side surface with respect to the first light-transmitting surface is within a range of 90 占 5 占And the angle formed by the second side face with respect to the first side face is 8 degrees or less. Therefore, micro-cracks generated on the side of the flat glass in the manufacturing process of the flat glass and the assembling process of the electronic device, and the glass dust generated by the micro- It is possible to remarkably reduce the impact strength of the plate glass after the mounting on the solid-state image pickup device, and improve the cleanliness of the plate glass.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 제1 측면부가 투광면에 대하여 90°±5°을 이루는 대략 수직면이므로, 커버 글래스를 밀봉장착하여 고체촬상소자를 조립할 때 고체촬상소자에 대한 커버 글래스의 위치정합을 용이하게 행할 수 있다.Further, the cover glass for a solid-state imaging device of the present invention is a substantially vertical surface having a first side portion of 90 占 5 占 with respect to the light projecting surface. Therefore, when the cover glass is sealed to assemble the solid- The positional alignment of the glass can be easily performed.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 측면의 면적에 대한 제1 측면부의 면적의 비율이 0.1∼0.3이므로 측면의 표면 거칠기의 Ra값, Rmax값을 낮게 억제하는 것이 가능하고, 표면 거칠기 등의 표면 성상에도 의존하여 부차적으로 발생하는 측면의 마이크로 크랙의 발생율을 낮게 억제하는 것이 가능하다.Further, the cover glass for a solid-state imaging element of the present invention has a ratio of the area of the first side portion to the area of the side surface is 0.1 to 0.3, so that the Ra value and the Rmax value of the side surface roughness can be suppressed to a low level, It is possible to suppress the occurrence rate of micro cracks on the side which are generated in a secondary manner to a low level.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는 대략 사각형상이고, ―0.2≤(Z- Za)/Za≤0.2의 관계를 만족하므로, 각 측면 사이의 능선부에 기인하는 평판 글래스의 강도열화가 발생할 확률을 줄일 수 있고, 안정된 품위를 갖는 고체촬상소자용 커버 글래스의 생산을 가능하게 한다.Further, since the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention is substantially quadrangular and satisfies the relationship of -0.2? (Z-Za) /Za? 0.2, the degradation of the strength of the flat plate glass caused by the ridge line portion between the respective side faces And it is possible to produce a cover glass for a solid-state image pickup device having a stable quality.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 서로 인접하는 2개의 각 측면 사이의 능선부상에 있어서, 하나의 각 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선의 선단과 다른 하나의 각 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선의 선단이 실질상 동일점상에 있고, 능선부에 마이크로 크랙이 없으므로, 고체촬상소자로서 조립된 다음에도 능선부에 기인하는 평판 글래스의 시간 경과에 따른 강도의 현저한 저하를 일으키지 않아 안정된 품위를 유지한다.Further, the cover glass for a solid-state imaging device of the present invention is characterized in that, on a ridge line between two adjacent side surfaces, the edge of the boundary line between the first side surface portion and the second side surface portion on one side surface, Since the edge of the boundary between the first side surface portion and the second side surface portion is substantially on the same point and there is no micro cracks in the ridge line portion, So that stable quality is maintained.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는 파장 500nm, 파장 600nm의 가시광선의 직선 내부투과율이 각각 95% 이상이므로, 고체촬상소자에 탑재되었을 때, 높은 기능을 갖는 반도체소자의 성능을 손상시키지 않고 발휘시키는 것이 가능해진다.Further, since the linear transmittance of visible light having a wavelength of 500 nm and a wavelength of 600 nm is 95% or more, the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention does not impair the performance of a semiconductor device having a high function when mounted on a solid- It becomes possible to exercise it.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 평판 글래스가 질량% 표시로 SiO2 50∼70%, Al2O3 2∼20%, RO 0.01∼30%(R0=Mg0+Ca0+Zn0+Sr0+Ba0)를 함유하므로, 고체촬상소자의 커버 글래스로서의 재료에 요구되는 광학적, 화학적 그리고 기계적인 여러 특성을 만족한다.Further, the cover glass for a solid-state image pickup device of the present invention is characterized in that the flat glass has a composition of 50 to 70% SiO 2 , 2 to 20% of Al 2 O 3 and 0.01 to 30% of RO (R 0 = MgO + CaO + ZnO + Sr0 + Ba0), it satisfies various optical, chemical and mechanical properties required for the material of the cover glass of the solid-state image pickup device.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 알칼리 용출량이 JIS- R 3502의 규격에 의해 0.1mg이하, 밀도가 2.8g/cm3이하, 비영률(=영률/밀도)이 27GPa/g·cm- 3이상, 빅커스 경도가 500kg/mm2이상이므로, 평판 글래스 표면의 내후성, 시간 경과에 따른 강도특성에 대하여 고체촬상소자의 커버 글래스로서 필요한 높은 성능을 발휘한다.The cover glass for a solid-state image sensor of the present invention has an alkali release amount of 0.1 mg or less, a density of 2.8 g / cm 3 or less, a Young's modulus (= Young's modulus / density) of 27 GPa / g or less according to the standard of JIS-R 3502 cm &lt; 3 &gt; or more and Vickers hardness is 500 kg / mm &lt; 2 &gt; or more, high performance required for the cover glass of the solid-state image sensing device is obtained with respect to the weatherability of the surface of the flat plate glass and the strength characteristics with time.

이하, 본 발명의 실시예를 도면에 따라 설명하기로 한다.Hereinafter, embodiments of the present invention will be described with reference to the drawings.

도 1a 및 도 1b는, 본 실시예에 따른 고체촬상소자용 커버 글래스(10)를 나타내고 있다. 고체촬상소자용 커버 글래스(10)는, 무기 산화물 글래스제의 평판 글래스로 이루어지고, 이 평판 글래스의 두께방향으로 서로 마주보는 제1 투광면(11a) 및 제2 투광면(1lb)과 이 평판 글래스의 둘레를 구성하는 측면(12)을 구비하고 있다. 평판 글래스는 대략 사각형상을 이루고, 측면(12)은 평판 글래스의 각 변에 대응하여 둘레방향으로 4개의 부분으로 구분된다(이하, 이와 같이 구분되 는 측면의 각 부분(각 측면)을 각각「측면 부분(12)」이라 함). 각 측면부분(12)은, 제1 투광면(1la)에 대하여 대략 수직을 이루는 제1 측면부(12a)와 제1 측면부(12a)에 대하여 경사져 있는 제2 측면부(12b)에 의해 구성된다. 제1 측면부(12a)의 표면 거칠기는, 제2 측면부(12b)의 표면 거칠기보다 크다. 제1 측면부(12a)는 평판 글래스의 전체 둘레에 걸쳐 마련되어 있고, 각 측면부분(12)의 제1 측면부(12a)는 모두 제1 투광면(1la)에 직접 접해 있다. 마찬가지로, 제2 측면부(12b)도 평판 글래스의 전체 둘레에 걸쳐 마련되어 있고, 각 측면부분(12)의 제2 측면부(12b)는 모두 제2 투광면(1lb)에 직접 접해 있다.1A and 1B show a cover glass 10 for a solid-state image pickup device according to the present embodiment. The cover glass 10 for a solid-state image pickup device includes a first light-transmitting surface 11a and a second light-transmitting surface 11b which are made of flat glass made of inorganic oxide glass and face each other in the thickness direction of the flat plate glass, And a side surface 12 constituting the periphery of the glass. The flat plate glass has a roughly rectangular shape, and the side surface 12 is divided into four parts in the circumferential direction corresponding to the respective sides of the flat glass (hereinafter, each side (each side) Side portion 12 &quot;). Each side portion 12 is constituted by a first side surface portion 12a which is substantially perpendicular to the first light projecting surface 1la and a second side surface portion 12b which is inclined with respect to the first side surface portion 12a. The surface roughness of the first side surface portion 12a is larger than the surface roughness of the second side surface portion 12b. The first side face portion 12a is provided over the entire periphery of the flat glass and all the first side face portions 12a of the side face portions 12 are directly in contact with the first light projecting face 1la. Similarly, the second side surface portions 12b are also provided over the entire circumference of the flat glass, and the second side surface portions 12b of the side surface portions 12 all directly contact with the second light-transmissive surface 111b.

상기와 같이, 측면(l2)을 제1 측면부(12a)와 제2 측면부(12b)의 2개면으로 구성하고 있는 것은, 하나의 면으로만 구성된 측면을 갖는 평판 글래스를 제조하는 것이 어렵기 때문이다. 즉, 측면을 제1 측면부만으로 구성한 평판 글래스를 성형하고자 하면, 측면의 직선성이 손상되어 만곡된 측면형상이 된다. 또한, 측면을 제2 측면부만으로 구성한 평판 글래스를 성형하고자 하면, 측면의 표면 정밀도가 더 악화된다. 물론, 성형후에 측면을 경면연마함으로써 표면 정밀도를 교정하는 것도 가능한데, 평판 글래스의 제조원가가 현저하게 상승하므로, 시장이 요망하는 저렴한 커버 글래스를 공급할 수 없다. 따라서, 평판 글래스의 측면을 경면연마하는 것은 물리적으로는 가능할지 몰라도 현실적이라 할 수는 없다.As described above, the reason why the side surface 12 is composed of the two surfaces of the first side surface portion 12a and the second side surface portion 12b is that it is difficult to manufacture a flat glass having a side surface composed of only one surface . That is, if a flat plate glass having only a first side surface is to be formed, the linearity of the side is impaired, resulting in a curved side surface. Further, if a flat plate glass having only the second side surface portion is formed, the surface precision of the side surface is further deteriorated. Of course, it is also possible to calibrate the surface accuracy by mirror-polishing the side surface after molding, but the manufacturing cost of the flat glass is remarkably increased, so that the inexpensive cover glass desired by the market can not be supplied. Therefore, it is physically possible to polish the side surface of the flat glass by mirror polishing, but it is not realistic.

제1 측면부(12a)와 제2 측면부(12b)는 경계선(14)에 의해 구분되고, 서로 인접하는 2개의 측면부분(12) 사이에는 능선부(13)가 존재한다. 능선부(13)상에 있어서, 하나의 측면부분(12)의 경계선(14)의 선단(선단점)과 다른 하나의 측면 부분(12)의 경계선(14)의 선단(선단점)은 실질상의 동일점(13a)상에 위치하고 있다.The first side surface portion 12a and the second side surface portion 12b are divided by the boundary line 14 and the ridge portion 13 is present between the two side surface portions 12 adjacent to each other. The tip of the boundary line 14 of one side portion 12 and the tip of the boundary line 14 of the other side portion 12 on the ridge portion 13 are located on the ridge portion 13, And is located on the same point 13a.

도 1b에 도시된 바와 같이, 제1 측면부(12a)는 제1 투광면(1la)에 대하여 각도α를 이루고, 이 각도α는 90°±5°이다. 또한 제2 측면부(12b)는 제1 측면부(12a)에 대하여 각도β를 이루고, 이 각도β는 8°이하이다. 각도β가 8°이하이면, 도시되어 있는 바와 같이, 평판 글래스의 내측을 향한 각도일수도 외측을 향한 각도일 수도 있다.As shown in Fig. 1B, the first side surface portion 12a forms an angle? With respect to the first light-transmissive surface 1la, and the angle? Is 90 ° ± 5 °. The second side face portion 12b forms an angle? With respect to the first side face portion 12a, and the angle? If the angle beta is 8 or less, it may be an angle toward the inside or an angle toward the outside of the flat glass, as shown in the figure.

도 2는, 하나의 측면부분(12)을 확대하여 나타내고 있다. 측면부분(12)은 제1 측면부(12a)와 제2 측면부(12b)로 구성되고, 양자의 경계선(14)은 제1 투광면(1la)과 거의 평행하다. 따라서, 측면부분(12)에 있어서, 경계선(14)으로부터 제1 투광면(1la)까지의 두께방향의 거리(Z)는 거의 일정하다. 또한, 이러한 경계선(14)은 제2 투광면(12b)과도 거의 평행하다. 본 실시예의 평판 글래스에서는, 도 2에 나타낸 측면부분(12)과 동일한 측면부분(12)이 3개 더 존재한다. 상술한 면적 비율, 즉 {제1 측면부(12a)의 면적/(제1 측면부(12a)의 면적+제2 측면부(12b)의 면적)}은, 각 측면부분(12)에 대하여 각각0.1∼0.3이다. 또한, 상술한 비율{(Z- Za)/Za}은 각 측면부분(12)에 대하여 각각 ―0.2∼0.2이다. 이러한 비율{(Z- Za)/Za}은 작을수록 바람직한데, 특히 ―0.05∼0.05이면 더욱 안정된 품위가 된다. 이들 비율은, 4개의 측면부분(12)에 대하여 동일한 값일 수도 있고, 다른 값일 수도 있다.Fig. 2 is an enlarged view of one side portion 12. The side surface portion 12 is constituted by the first side surface portion 12a and the second side surface portion 12b and the boundary line 14 of them is substantially parallel to the first light-transmissive surface 1la. Therefore, in the side surface portion 12, the distance Z in the thickness direction from the boundary line 14 to the first light-transmissive surface 1la is substantially constant. Further, the boundary line 14 is also substantially parallel to the second light-projecting surface 12b. In the flat glass of this embodiment, there are three more side portions 12 that are the same as the side portion 12 shown in Fig. (The area of the first side surface portion 12a / the area of the first side surface portion 12a + the area of the second side surface portion 12b) of the side surface portions 12 is 0.1 to 0.3 to be. The above ratio {(Z-Za) / Za} is -0.2 to 0.2 for each side portion 12, respectively. The smaller the ratio {(Z-Za) / Za} is, the better. Particularly, when it is -0.05 to 0.05, it is more stable. These ratios may be the same value for the four side portions 12, or may be different values.

능선부(13)는 평판 글래스의 코너부의 꼭지점(15a)과 꼭대기부(15b)의 연결 선으로서, 그 능선부(13)상에 상기 점(13a)(실질상의 동일점)이 위치하고 있다.The ridge portion 13 is a connecting line between the vertex 15a and the apex portion 15b of the corner portion of the flat glass and the point 13a (substantially the same point) is located on the ridge portion 13 thereof.

도 3은, 평판 글래스의 코너부를 확대하여 나타내고 있다. 본 실시예에서는, 서로 인접하는 2개의 측면부분(12)에 대하여 도 2에 나타낸 거리(Z)가 서로 다르므로, 이들 2개의 측면부분(12)에서의 경계선(14a)과 경계선(l4b)이 능선부(13)상에서 불연속적으로 되어 있다. 즉, 능선부(13)상에 있어서, 하나의 측면부분(12)의 경계선(14a)의 선단(선단점)(13a1)과 다른 하나의 측면부분(12)의 경계선(14b)의 선단(선단점)(13a2)이 평판 글래스의 두께(T)의 3%이하, 바람직하기로는 1% 이하의 거리로 약간 떨어져 있다. 따라서, 능선부(13)는 서로 인접하는 제1 측면부(12a1)와 제1 측면부(12a2)의 경계, 제2 측면부(12b1)와 제2 측면부(12b2)의 경계, 제1 측면부(12a2)와 제2 측면부(12b1)의 경계라는 3가지의 경계로 구성된다.Fig. 3 is an enlarged view of a corner portion of the flat glass. In this embodiment, since the distance Z shown in Fig. 2 is different between the two side portions 12 adjacent to each other, the boundary line 14a and the boundary line 14b in these two side portions 12 And is discontinuous on the ridge line portion 13. That is, on the ridge portion 13, the tip (distal end point) 13a1 of the boundary line 14a of one side portion 12 and the tip (distal end) 13a1 of the boundary line 14b of the other side portion 12 The disadvantage) 13a2 is slightly apart at a distance of 3% or less, preferably 1% or less of the thickness T of the flat glass. Therefore, the ridge line portion 13 is formed at the boundary between the first side surface portion 12a1 and the first side surface portion 12a2 adjacent to each other, the boundary between the second side surface portion 12b1 and the second side surface portion 12b2, And a boundary of the second side surface portion 12b1.

능선부(13)에 있어서 제1 측면부(12a1)와 제1 측면부(12a2)의 경계, 즉, 평판 글래스의 코너부의 꼭지점(15a)으로부터 선단점(13a1)까지의 거리는, 도 2에 나타낸 거리(Z)가 반영된 것이다. 따라서, 능선부(13)에서의 제1 측면부(12a2)와 제2 측면부(12b1)의 경계, 즉, 선단점(13a1)과 선단점(13a2) 사이의 거리는, 상기 비율{(Z- Za)/Za}이 작을수록 작아진다. 이러한 관점에서, 상기 비율{(Z- Za)/Za}은 ―0.2∼0.2, 바람직하기로는 ―0.05∼0.05로 하는 것이 좋다.The distance from the vertex 15a of the corner portion of the flat glass to the front end point 13a1 at the boundary between the first side face portion 12a1 and the first side face portion 12a2 in the ridge portion 13 is the distance Z) is reflected. Therefore, the distance between the first side portion 12a2 and the second side portion 12b1 in the ridge portion 13, that is, the distance between the leading end point 13a1 and the leading end point 13a2, / Za} is smaller. From this viewpoint, the ratio {(Z-Za) / Za} is preferably -0.2 to 0.2, preferably -0.05 to 0.05.

또한, 선단점(13a1)과 선단점(13a2) 사이의 거리는, 평판 글래스의 두께(T)의 3%이하, 바람직하기로는 1%이하이고, 육안관찰로는 실질상 동일점(13a)으로 간주할 수 있다.The distance between the shortest point 13a1 and the shortest point 13a2 is 3% or less, preferably 1% or less, of the thickness T of the flat glass, and is regarded as substantially the same point 13a can do.

능선부(13)에 있어서, 제1 측면부(12a2)와 제2 측면부(12bl)의 경계, 즉, 선 단점(13a1)과 선단점(13a2) 사이의 영역은, 표면 거칠기가 다른 면끼리의 경계이므로, 양자의 표면 상태가 반영되어 거친 쪽의 표면(제1 측면부(l2a2))보다 더 거친 표면상태가 된다. 따라서, 능선부(13)의 상기 영역을 기점으로 하여 마이크로 크랙이 발생하기 쉬운 경향이 있다. 능선부(13)의 상기 영역의 길이, 즉, 선단점(l3a1)과 선단점(13a2) 사이의 거리를 평판 글래스의 두께(T)의 3% 이하,바람직하기로는 1% 이하로 규제함으로써, 상기 마이크로 크랙의 발생을 방지할 수 있다.The boundary between the first side surface portion 12a2 and the second side surface portion 12bl in the ridge line portion 13, that is, the region between the leading edge point 13a1 and the leading edge point 13a2, The surface state of both is reflected and becomes a rough surface state than the rough surface (first side surface portion 12a2). Therefore, there is a tendency that micro cracks tend to occur starting from the region of the ridge portion 13 as a starting point. By limiting the distance between the ridge portion 13 and the region 13a2 between the ridge disadvantages 13a1 and 13a2 to 3% or less, preferably 1% or less of the thickness T of the flat glass, It is possible to prevent the micro crack from occurring.

또한, 가공조건을 적당히 조절함으로써, 제1 측면부(12a)와 제2 측면부(12b)의 표면 거칠기를 가능한 한 비슷하게 하고, 또한, 가공면의 발췌검사빈도를 향상시키는 등의 대응을 취함으로써, 평판 글래스의 코너부의 꼭지점(15a)과 선단점(13a1) 사이의 거리, 꼭지점(15a)과 선단점(13a2) 사이의 거리의 평균값(Za)에 대한 불균형을 ±10% 이하, 바람직하기로는 ±8% 이하, 더욱 바람직하기로는 ±5% 이하로 취하는 것이 좋다.By appropriately adjusting the processing conditions, the surface roughness of the first side surface portion 12a and the second side surface portion 12b can be made as close as possible to each other, and the frequency of inspection of the work surface can be improved, An unbalance with respect to the average value Za of the distance between the vertex 15a of the corner portion of the glass and the leading end point 13a1 and the distance between the vertex 15a and the leading end 13a2 is ± 10% or less, preferably ± 8 % Or less, more preferably ± 5% or less.

다음, 상기 고체촬상소자용 커버 글래스의 제조방법과 그 성능의 평가시험 결과에 대하여 설명하기로 한다.Next, a description will be given of a manufacturing method of the cover glass for a solid-state image sensor and an evaluation test result of the performance thereof.

먼저, 평판 글래스의 제조공정의 첫번째 공정은 박판형상의 한쪽이 300mm정도인 큰 판글래스를 제작하는 공정인데, 이 공정은 2종류가 있으며, 하나는 연신성형에 의한 방법이고, 다른 하나는 정밀연삭 연마가공만에 의한 방법이다. 연신성형에 의한 경우에는, 먼저 용융로에서 용해한 판글래스로서, 예컨대 폭 850mm, 두께 5mm,길이 3m의 모재 판글래스를 준비한다. 그리고, 이 모재 판글래스(20)에 인공 피혁을 구비한 회전연마기(미도시)에 의해 산화 셀륨 등의 유리 숫돌입자를 물 등 에 분산시킨 슬러리를 자동공급하면서 연마가공을 실시하여, 표면 거칠기가 Ra값으로 1.lnm인 경면에까지 연마가공을 행하고, 세정, 건조하여, 예컨대, 두께 45±0.5mm의 두꺼운 판글래스(20)를 얻는다. 그리고, 이러한 두꺼운 판글래스(20)를 도 4에 나타낸 연신성형장치(30)에 장착하고, 글래스 점도가 105dPa·s가 되는 온도로 유지된 가열로(30a)에 의해 가열하고, 하부에 장착된 취출 내열성 롤러(30b)에 의해 반입 속도의 10배의 속도로 반출함으로써 박판 글래스(40)로 성형하고, 이 박판 글래스(40)의 양측을 스크라이빙 성형함으로써 박판형상의 한 변이 300mm인 큰 판글래스를 성형한다.First, the first step of the manufacturing process of the flat glass is a step of manufacturing a large plate glass having a thickness of about 300 mm on one side of the thin plate shape. There are two types of this process. One is a stretch molding method, This is a method by polishing only. In the case of stretch forming, a base material plate glass having a width of 850 mm, a thickness of 5 mm and a length of 3 m is first prepared as a plate glass dissolved in a melting furnace. The slurry in which glass abrasive such as cerium oxide is dispersed in water or the like is automatically supplied by a rotary grinder (not shown) equipped with artificial leather on the base material plate glass 20, and polishing is performed to obtain a surface roughness The mirror is polished to a mirror surface having a Ra value of 1. 1 nm, washed and dried to obtain a thick plate glass 20 having a thickness of 45 +/- 0.5 mm, for example. The thick plate glass 20 is mounted on the drawing and forming apparatus 30 shown in Fig. 4, heated by the heating furnace 30a maintained at a temperature at which the glass viscosity is 105 dPa · s, Out heat-resistant roller 30b at a speed of 10 times the conveying speed to form a thin plate glass 40. Both sides of the thin plate glass 40 are scribe-formed to form a large plate having a side of a thickness of 300 mm Mold the glass.

또한, 정밀연삭 연마가공에 의한 경우에는, 용융로에서 용해하여 균질화된 글래스를, 예컨대 800×300×300mm의 크기로 주조성형을 행하고, 그로부터 유리 숫돌입자를 이용하는 와이어 소(wire saw) 등을 사용함으로써 절단하여 두께 1.5mm의 박판 글래스를 얻는다. 그리고, 이러한 박판 글래스에 상술한 바와 같은 회전연마 가공기를 사용하여 연마가공을 행함으로써 박판형상의 큰 판글래스가 얻어진다. 이상과 같은 2종류의 방법에 의해 제조할 수 있는 큰 판글래스의 치수는 세로 : 50∼600mnm, 가로:50∼600mm, 두께:0.1∼50mm의 범위로 성형하는 것이 가능하며, 필요에 따라 변경하는 것이 가능하다.Further, in the case of precision grinding and polishing, glass which is homogenized by dissolving in a melting furnace is subjected to casting molding to a size of, for example, 800 × 300 × 300 mm, and a wire saw or the like using glass abrasive grains is used And cut to obtain a thin plate glass having a thickness of 1.5 mm. Then, the thin plate glass is polished using the above-described rotary polishing machine to obtain a large plate glass having a thin plate shape. The size of the large plate glass which can be produced by the above two methods is in the range of length: 50 to 600 nm, width: 50 to 600 mm, thickness: 0.1 to 50 mm, It is possible.

다음, 이러한 박판형상의 큰 판글래스를 얇게 절단하는 방법도 2종류 있으며, 하나는 소위 레이저 절단장치를 이용하여 레이저 스크라이빙을 채용하는 것이고, 다른 하나는 가열 세라믹이루을 갖는 가열 돌기 롤러를 이용하는 가공법을 채용하는 것이다. 먼저, 레이저 스크라이빙에 대하여는 열가공레이저 절단장치를 사 용하여, 두께방향의 20%의 두께까지 박판 글래스의 일면상에, 레이저 빔 이동 속도 180±5mm/sec, 혹은 220±5mm/sec, 레이저 출력 120±5W, 혹은 160±5W의 조건으로 바둑판 알 모양의 첫번째 가공을 행한다. 이어서, 도 5에 개념적으로 나타낸 바와 같이, 박판 글래스(17)의 제1 가공면(15)에 대하여 그 반대측으로부터 금속제의 라인모양 헤드(16)를 작동방향(M)으로 이동시키고, 동시에 박판 글래스(17)의 제1 가공면(15)측의 투광면을 치구(도시생략)로 누름으로써 박판 글래스(17)의 제1 가공면(15)에 응력을 가하여 쪼갠다. 이와 같이 하여 제2 가공면을 쪼갬으로써, 제1 가공에 의해 형성된 예정선을 따라 분할된 단행본 모양의 판글래스가 얻어진다. 이와 같이 하여 쪼개진 단행본 모양의 판글래스는, 각각 진공 핀셋(도시 생략)을 이용하여 다음 공정으로 운반된다. 그리고, 단행본 모양의 판글래스를 다시 한 번 눌러 쪼깨가공함으로써 최종적인 고체촬상소자용 커버 글래스가 얻어진다.Next, there are two methods of thinly cutting such a thin plate glass having a thin plate shape, one using laser scribing using a so-called laser cutting apparatus and the other using a heating projection roller having a heating ceramic roller . First, laser scribing was performed by using a thermally processed laser cutting device to measure the laser beam moving speed 180 ± 5 mm / sec or 220 ± 5 mm / sec on one side of the thin plate glass up to a thickness of 20% The first machining of checkerboard shape is performed under the condition of output 120 ± 5W or 160 ± 5W. 5, the metal line-shaped head 16 is moved in the operating direction M from the opposite side to the first processing surface 15 of the thin plate glass 17, and at the same time, the thin plate glass (Not shown) on the side of the first processing surface 15 of the thin plate glass 17 by applying a stress to the first processed surface 15 of the thin plate glass 17 to break it. By separating the second processed surface in this manner, a sheet glass of the shape of a monocycle is obtained along the predetermined line formed by the first processing. The plate glass in the form of a single sheet of paper thus divided is conveyed to the next step using a vacuum pincette (not shown), respectively. Then, the plate glass in the form of a book is again pressed to be processed to obtain a final cover glass for a solid-state image sensor.

또한, 세라믹분말을 갖는 가열돌기롤러를 이용하는 가공법에 대하여는 현재 개발 단계이지만, 선단 표면에 세라믹분말을 부착한 예리한 롤러 플레이트를 가열하면서 판글래스 표면에 세게 눌러서 이동시킴으로써 판글래스 표면을 가열하고, 그 직후에 펠티에소자에 의한 예비냉각 플레이트를 이용함으로써 판글래스 표면의 크랙의 선단에 발생한 글래스 표면과 레이저의 이동방향의 양방에 수직인 방향의 장력을 판글래스 표면에 계속하여 작용시킴으로써, 레이저 절단에 필요한 냉각수의 사용을 하지 않고도 절단이 가능해지며, 레이저 스크라이빙과 거의 동등한 레벨의 가공이 가능해진다.The process of using the heating projection roller having the ceramic powder is currently in the development stage. However, the surface of the glass sheet is heated by pressing firmly on the surface of the plate glass while heating a sharp roller plate provided with the ceramic powder on the front surface thereof, By using a preliminary cooling plate made of Peltier element, the tension in the direction perpendicular to both the surface of the glass and the direction of movement of the laser generated at the tip of the crack on the surface of the plate glass continues to act on the plate glass surface, It is possible to perform cutting at almost the same level as laser scribing.

상기 어떠한 가공방법을 채용하여도 도 6에 나타낸 바와 같은 측면의 외관을 갖는 두께 0.1mm 내지 1mm정도의 평판 글래스를 얻을 수 있다. 도 6은, 실제로 얻어진 고체촬상소자용 커버 글래스의 측면의 코너 근방부분의 사진인데, 측면은 제1 가공에 의해 형성된 제1 측면부(V)와 그 다음의 제2 가공에 의해 형성된 제2 측면부(W)의 2개의 면에 의해 구성되어 있는 것을 알 수 있다. 제1 가공에 의해 형성된 제1 측면부(V)는 열가공이 행해진 표면으로 확인된 외관을 이루는 표면 성상을 갖는 것으로서, 그 면(V)에 확인되는 것은 미러면이고, 그 표면 거칠기의 Ra값은 0.3∼2.0nm, Rmax값은 2.0∼20.0nm이다. 그리고, 이 면(V)의 특징은, 절단면의 진행 속도가 빠르고, 다이싱 소 등을 사용하는 메카니컬 스크라이빙 등의 기계적인 절단 처리면에 확인되는 표면 상태, 즉, 각각 간격이 좁은 요철이 큰 리브 마크 등의 절단면이 고속으로 진행할 때 발생하는 특징적인 절단면 마크가 존재하고, 동시에 그 표면 거칠기의 Ra값이 50nm보다 크고, Rmax값이 10Onm을 초과하는 상태가 되는 요철이 심한 절단면과는 명료하게 다른 표면상태를 이루고 있다. 한편, 제2 가공에 의해 형성된 제2 측면부(W)는 코너부 주변에 몇개의 곡선모양의 간격이 벌려진 리브 마크가 확인될 수 있으며, 또한, 광범위의 미러면이 확인된다는 특징을 갖는 상태로서, 이 경우의 표면 거칠기의 Ra값은 0.3∼10nm, Rmax값은 2.0∼20.0nm이다.Even if any of the above-described processing methods is employed, a flat glass having a side surface appearance as shown in Fig. 6 and having a thickness of about 0.1 mm to 1 mm can be obtained. 6 is a photograph of a portion near the corner of the side surface of the actually obtained solid-state imaging element cover glass for a solid-state image pickup device, wherein the side surface is a first side portion V formed by the first processing and a second side portion W), as shown in Fig. The first side portion V formed by the first machining is a mirror surface and the Ra value of the surface roughness of the first side portion V formed on the surface (V) 0.3 to 2.0 nm, and Rmax value is 2.0 to 20.0 nm. The feature of this surface (V) is that the surface speed of the cut surface is fast and the surface state confirmed on the mechanical cutting surface such as a mechanical scribe using a dicing saw or the like, that is, There is a distinct cut surface mark which is generated when a cutting surface of a large rib mark or the like proceeds at a high speed and at the same time a clear surface having a roughness Ra value of more than 50 nm and a Rmax value of more than 100 nm, Making it a different surface state. On the other hand, the second side surface portion W formed by the second machining is characterized by the fact that a rib mark in which several curved intervals are spread around the corner portion can be confirmed, and a wide range of mirror surfaces is confirmed, In this case, the Ra value of the surface roughness is 0.3 to 10 nm and the Rmax value is 2.0 to 20.0 nm.

또한, 양면모두 표면 거칠기가 가급적 작고, 이물질이나 오염 등 부착물이 없는 상태로 관리되는 것이 바람직하다. 또한, 가공 정밀도의 관리를 더 자주 행하여 정기적인 유지보수 빈도를 올리는 등의 일련의 공정상의 대처를 실행함으로써, 제1 측면부(V)의 표면 거칠기는 Ra값 0.3∼1.2nm, Rmax값 3.0∼9.0nm, 제2 측면부(W)의 표면 거칠기는 Ra값 0.3∼1.0nm, Rmax값 2.5∼8.0nm로 관리하는 것이 가능하다.In addition, it is preferable that both surfaces are as small in surface roughness as possible, and are managed in a state of no adherence such as foreign matter, dirt, and the like. The surface roughness of the first side portion V is set to a value of Ra of 0.3 to 1.2 nm and an Rmax value of 3.0 to 9.0 nm and the surface roughness of the second side surface portion W can be controlled to an Ra value of 0.3 to 1.0 nm and an Rmax value of 2.5 to 8.0 nm.

(성능 평가 1)(Performance evaluation 1)

다음, 상술한 바와 같은 제조방법에 의해 성형된 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스에 대하여 성능평가 시험을 행하였다. 이하에 그 결과를 구체적으로 나타내었다.Next, a performance evaluation test was conducted on the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention formed by the above-described manufacturing method. The results are specifically shown below.

먼저, 표 1의 조성이 되도록 미리 조합, 혼합한 글래스 원료를 100Occ의 용적을 갖는 백금 로듐도가니를 이용하여, 교반기능을 갖는 전기용융로내에 유지하여 1550℃에서 20시간 용융하고, 그런 다음, 카본 주형에 용융글래스를 흘려 보내 서서히 냉각함으로써, 각각의 특성을 측정할 수 있는 적절한 형상으로 성형하였다. 그리고, 얻어진 각각의 글래스 시료의 특성을 이하의 방법에 의해 측정하였다. 즉, 알칼리 용출량은 JIS R3502에 따라 측정을 행하였다. 표중에서 ND로 표기한 것은,검출이 어렵다는 것을 나타내고 있다. 또한, 밀도에 대하여는 주지의 아르키메데스법에 의해 측정을 행하였다. 또한, 비영률에 대하여는 가네보(주)제품인 비파괴 탄성율 측정장치(KI- 11)를 사용하였고, 굽힘 공진법에 의해 측정한 영률과 밀도로부터 산출하였다. 그리고, 빅커스 경도에 대하여는 JIS Z2244- 1992에 따라 측정을 행하였다. 또한, 직선 내부투과율에 대하여는 표면에 상술한 판글래스의 제조공정과 동일한 연마가공을 실시하고, 두께를 고체촬상소자용 커버 글래스 제품과 동등하게 한 글래스시료에 대하여 (주)히타치 제작소제품인 분광광도계(UV- 3100)를 사용하여 투과율측정을 행하였다. First, glass raw materials which had been combined and mixed in advance so as to have the composition shown in Table 1 were held in an electric melting furnace having a stirring function using a platinum rhodium crucible having a volume of 100 cc and melted at 1550 캜 for 20 hours, And then cooled to form a suitable shape capable of measuring the respective properties. Then, the properties of each of the obtained glass samples were measured by the following methods. That is, the alkali release amount was measured according to JIS R3502. Indicated by ND in the table indicates that detection is difficult. The density was measured by the well-known Archimedes method. For the non-Young's modulus, a non-destructive modulus measuring device (KI-11) manufactured by Kanebo Co., Ltd. was used and calculated from the Young's modulus and density measured by the bending resonance method. The Vickers hardness was measured according to JIS Z2244-1992. With regard to the linear transmittance, the same polishing process as in the above-mentioned plate glass manufacturing process was performed on the surface, and a glass sample having the same thickness as the cover glass product for the solid-state image sensor was measured with a spectrophotometer (product of Hitachi, Ltd.) UV-3100) was used to measure the transmittance.                     

시료번호  Sample number 1 One 2 2 3 3 4 4 5 5 6 6 7 7 8 8 질량(%) SiO2 Weight (%) SiO 2 68.5 68.5 54.0 54.0 60.0 60.0 53.5 53.5 69.5 69.5 68.5 68.5 69.1 69.1 55.4 55.4 Al2O3 Al 2 O 3 4.1 4.1 13.9 13.9 14.6 14.6 15.0 15.0 6.4 6.4 5.1 5.1 5.5 5.5 11.1 11.1 B2O3 B 2 O 3 3.1 3.1 8.1 8.1 10.1 10.1 8.5 8.5 12.3 12.3 10.8 10.8 10.8 10.8 6.8 6.8 CaO CaO 6.5 6.5 22.3 22.3 5.3 5.3 9.2 9.2 1.5 1.5 3.2 3.2 0.6 0.6 7.0 7.0 SrO SrO 0.3 0.3 5.8 5.8 1.0 1.0 BaO BaO 0.5 0.5 2.4 2.4 5.7 5.7 2.3 2.3 2.6 2.6 14.4 14.4 ZnO ZnO 0.1 0.1 0.1 0.1 0.6 0.6 0.1 0.1 0.1 0.1 0.9 0.9 1.0 1.0 3.5 3.5 MgO MgO 2.4 2.4 0.1 0.1 0.2 0.2 6.8 6.8 0.1 0.1 0.1 0.1 Li2OLi 2 O 0.1 0.1 Na2ONa 2 O 14.0 14.0 0.2 0.2 6.4 6.4 11.5 11.5 8.4 8.4 K2OK 2 O 1.0 1.0 0.2 0.2 0.9 0.9 1.3 1.3 2.0 2.0 As2O3 As 2 O 3 0.1 0.1 0.6 0.6 ZrO2 ZrO 2 0.1 0.1 0.1 0.1 0.3 0.3 0.1 0.1 0.1 0.1 SnO2 SnO 2 0.1 0.1 0.1 0.1 TiO2 TiO 2 0.1 0.1 Sb2O3 Sb 2 O 3 0.2 0.2 0.5 0.5 0.1 0.1 0.1 0.1 0.01 0.01 알칼리 용출량(mg) Amount of alkaline elution (mg) 0.02 0.02 0.01 0.01 ND ND ND ND 0.08 0.08 0.07 0.07 0.05 0.05 ND ND 밀도(g/cm3)Density (g / cm 3) 2.51 2.51 2.62 2.62 2.73 2.73 2.61 2.61 2.36 2.36 2.43 2.43 2.45 2.45 2.75 2.75 비영률(GPa/g·cm-3)Young's modulus (GPa / g · cm -3 ) 30.2 30.2 32.5 32.5 27.1 27.1 31.8 31.8 30.0 30.0 28.1 28.1 29.4 29.4 27.3 27.3 빅커스 경도(kg/mm2)Vickers hardness (kg / mm 2 ) 580 580 680 680 660 660 600 600 680 680 640 640 650 650 640 640 직선 내부투과율(%) 파장:500nm 파장:600nm Linear transmittance (%) Wavelength: 500 nm Wavelength: 600 nm 99.0 99.2  99.0 99.2 98.9 99.1  98.9 99.1 98.7 99.1  98.7 99.1 99.1 99.0  99.1 99.0 99.2 98.8  99.2 98.8 99.0 99.0  99.0 99.0 98.9 98.8  98.9 98.8 99.1 98.8  99.1 98.8

표 1에 나타낸 측정결과로부터, 어떠한 시료도 알칼리 용출량, 밀도, 비영률, 빅커스 경도, 직선 내부투과율에 대하여 본 발명의 조건을 만족한다는 것이 판명되었다. 다만, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스의 성능은 이들 조성과 제특성을 만족하며, 또한 측면의 표면성상이 상술한 바와 같은 높은 품위를 가짐으로써 실현될 수 있다.From the measurement results shown in Table 1, it was found that any sample satisfies the conditions of the present invention with respect to the alkali elution amount, density, non-Young's modulus, Vickers hardness and linear internal transmittance. However, the performance of the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention can be realized by satisfying these compositions and characteristics, and also by having a surface quality of the side surface of the above-described high quality.

다음, 고체촬상소자용 커버 글래스(시료 A∼E)를 제작하고, 측면의 표면성상에 대한 확인을 행하였다. 시료 A∼D(실시예)는, 상기 제특성을 만족하는 모재 판글래스를 제작하고, 박판 글래스로 만드는 가공을 더 실시하며, 측면의 제1 측면부를 레이저 스크라이빙(제1 가공)에 의해 형성하고, 제2 측면부를 쪼갬가공(제2 가공), 즉 눌러 쪼갬으로써 형성한 것이다. 한편, 시료 E(비교예)는, 측면의 제1 측면부를 메카니컬 스크라이빙에 의해 형성하고, 제2 측면부를 눌러 쪼갬으로써 형성한 것이다. 그리고, 각 시료의 측면의 제1 측면부, 제2 측면부의 각각에 대하여 그 표면 거칠기의 측정을 디지털 인스트루먼츠사 제품인 원자간력 현미경(NanoScope III Tapping Mode AFM), 및 촉침식 표면 거칠기 측정기 탤리스텝(Tayler- Hobson사 제품)를 사용하여 측정하였다. 그 결과를 표 2에 나타내었다. Next, cover glasses for solid-state imaging elements (Samples A to E) were produced, and the surface properties of the side surfaces were checked. In the samples A to D (Examples), a base material plate glass satisfying the above-mentioned characteristics was manufactured, and further processed to make a thin plate glass, and the first side portion of the side surface was subjected to laser scribing (Second processing), that is, pressing and cleaving the second side face portion. On the other hand, the sample E (comparative example) is formed by forming the first side surface of the side surface by mechanical scribing and pressing the second side surface portion by breaking. The measurement of the surface roughness of each of the first side surface and the second side surface of the side surface of each sample was carried out by using an NanoScope III Tapping Mode AFM manufactured by Digital Instruments and a Taylor method using a stylus type surface roughness tester - Hobson). The results are shown in Table 2.                     

(단위:nm)                                                       (Unit: nm) 시료명  Name of sample 실 시 예 Example 비교예 Comparative Example AA BB CC DD EE 제1 측면부  The first side surface 표면거칠기:Ra  Surface roughness: Ra 1.2 1.2 1.1 1.1 1.1 1.1 1.2 1.2 0.9 0.9 1.3 1.3 72.5 72.5 최대 표면거칠기:Rmax  Maximum surface roughness: Rmax 7.5 7.5 7.8 7.8 10.3 10.3 10.5 10.5 8.9 8.9 12.6 12.6 132.0 132.0 제2 측면부 The second side portion 표면거칠기:Ra  Surface roughness: Ra 0.6 0.6 0.6 0.6 0.8 0.8 0.6 0.6 0.7 0.7 0.9 0.9 7.5 7.5 최대 표면거칠기:Rmax  Maximum surface roughness: Rmax 4.8 4.8 5.9 5.9 5.6 5.6 6.2 6.2 4.5 4.5 5.8 5.8 15.2 15.2 측정법(①:원자간력 현미경, ②촉침식 측정) Measurement method (①: Atomic force microscope, ② Sensitivity measurement)  ①  ②  ①  ②  ①  ①  ②

표면 거칠기의 측정에 관하여, 원자간력 현미경을 사용한 측정에서는, 측정 길이 40μm에 대하여 10회 측정을 행하고, 그 평균값을 구하였다(그 값을 표 2내의 ①란에 나타내었다.) 또한, 촉침식 표면 거칠기 측정기 탤리스텝을 사용한 측정에서는, 측정길이 O.25mm에 대하여 계측속도 0.0025mm/sec, 필터 0.33Hz, 배율 20만배의 조건으로 하였다 (그 값을 표 2내의 ②란에 나타내었다.). 모두 시료의 측면에 대하여 평행한 방향으로 프로브를 주사하여 계측한 것이다. 표 2에 나타낸 측정 결과로부터, 시료 A∼D(실시예)는 모두 제1 측면부 및 제2 측면부의 표면 거칠기의 Ra값, Rmax값이 본 발명의 조건을 만족하고, 양호한 표면 성상을 갖는다는 것이 확인되었다. 한편, 시료 E(비교예)는 제1 측면부의 표면 거칠기의 Ra값이 72.5nm과 50nm을 초과하는 상태로서 매우 거칠고, 시료 A∼D(실시예)와의 표면성상의 상이함 이 현미경 관찰로도 명료하게 판별될 수 있었다.With respect to the measurement of the surface roughness, in the measurement using the atomic force microscope, the measurement was carried out ten times with respect to the measurement length of 40 占 퐉, and the average value thereof was obtained (the value is shown in column (1) Surface roughness tester In the measurement using the tally step, the measurement speed was 0.0025 mm / sec, the filter was 0.33 Hz, and the magnification was 200,000 times with respect to the measurement length of 0.25 mm (the value is shown in column (2) in Table 2). All of which are measured by scanning a probe in a direction parallel to the side surface of the sample. From the measurement results shown in Table 2, it was found that the samples A to D (Examples) satisfied Ra and Rmax values of the surface roughness of the first side face portion and the second side face portion of the present invention and had good surface properties . On the other hand, in Sample E (Comparative Example), the Ra value of the surface roughness of the first side portion exceeded 72.5 nm and 50 nm, which was very rough and the difference in surface properties from Samples A to D (Examples) It could be clearly identified.

또한, 시료 A∼D(실시예)에 대하여 투광면에 대한 제1 측면부의 각도를 측정한 결과 88∼93°였고, 제1 측면부에 대한 제2 측면부의 경사각을 측정한 결과 2∼7°였다. 따라서, 시료 A∼D는 모두 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스로서 필요충분한 측면의 형태를 갖는다.As a result of measuring the angle of the first side portion with respect to the light projecting surface with respect to the samples A to D (Examples), it was 88 to 93 占 and the inclination angle of the second side portion with respect to the first side portion was 2 to 7 . Therefore, all of the samples A to D have the form of necessary and sufficient aspects as the cover glass for a solid-state image pickup device of the present invention.

또한, 고체촬상소자용 커버 글래스(시료 F, G)를 제작하고, 투광면의 표면 상태에 대하여 촉침식 표면 거칠기 측정기 탤리스텝(Tayler- Hobson사 제품)를 사용하여 평가하였다. 시료 F, 시료 G는 각각 상술한 2종류의 큰 판글래스의 가공방법을 채용한 것이고, 시료 F는 정밀 연삭 연마가공, 시료 G는 연신성형에 의한 방법으로 제조한 것이다. 측정 조건으로서, 측정 길이 1mm에 대하여 계측속도 0.025mm/sec, 필터 0.33Hz, 배율 100만배로 측정을 행한 결과, 표 3에 나타낸 결과를 얻을 수 있었다.Further, cover glasses (samples F and G) for a solid-state imaging element were manufactured, and the surface state of the light-transmitting surface was evaluated using a tactile surface roughness tester Tallystep (Taylor-Hobson). The sample F and the sample G were respectively manufactured by employing the above two methods of processing large plate glasses, and the sample F was manufactured by a precision grinding and polishing method, and the sample G was obtained by a method by stretching molding. As a measurement condition, measurement was carried out at a measurement speed of 0.025 mm / sec, a filter of 0.33 Hz, and a magnification of 100,000 times for a measurement length of 1 mm, and the results shown in Table 3 were obtained.

(단위:nm)                                                       (Unit: nm) 시 료 명  Sample name 실 시 예 Example                                              F F G G 투 광 면  Transmitting face 표면거칠기:Ra Surface roughness: Ra 0.3 0.3 0.2 0.2 최대 표면거칠기:Rmax Maximum surface roughness: Rmax 2.5 2.5 1.8 1.8

표 3에 나타낸 측정결과로부터, 시료 F, 시료 G는 모두 고체촬상소자용 커버 글래스의 투광면으로서 충분한 평활성을 가지고 있는 것을 알 수 있다. From the measurement results shown in Table 3, it can be seen that both the sample F and the sample G have sufficient smoothness as the light-transmitting surface of the cover glass for the solid-state imaging element.                     

이와 같이 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 측면의 표면 품위 이외에 투광면에 대하여도 고체촬상소자용 커버 글래스로서의 기능을 충분히 발휘할 수 있는 평활한 표면성상을 가지고 있다.As described above, the cover glass for a solid-state imaging element of the present invention has a smooth surface property capable of sufficiently exhibiting a function as a cover glass for a solid-state imaging element in terms of a translucent surface in addition to the surface quality of a side surface.

(성능 평가 2)(Performance evaluation 2)

본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스의 강도 특성을 평가하기 위하여, 이하와 같은 충격강도 특성의 평가시험을 실시하였다. 즉, 실제로 휴대전화에 탑재한 상태에서의 충격시험을 행하기 위하여, 시판하는 고체촬상소자 탑재 카메라 속의 고체촬상소자를 꺼내고, 그 대신 시험을 행할 고체촬상소자용 커버 글래스를 나사고정구멍이 있는 고체촬상소자와 동일한 중량의 알루미나 기판에 접착제로 밀봉장착하고, 이를 휴대전화에 나사고정하여 부착하여, 충격 시험용의 휴대전화 피시험체를 작성하였다. 이어서, 휴대전화 피시험체의 고체촬상소자를 부착한 위치에 가장 가까운 코너부가 반드시 충격점이 되도록 휴대전화 피시험체에 염화비닐제의 원통모양 가이드를 장착하고, 그 원통모양 가이드를 수직으로 유지한 길이 1.2m의 금속 원기둥의 지지기둥에 묶은 상태에서 유지하고, 1m의 높이로부터 3cm의 두께를 갖는 떡갈나무의 플레이트상에 휴대전화 피시험체를 낙하시켰다.In order to evaluate the strength characteristics of the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention, the following impact strength characteristics were evaluated. That is, in order to perform an impact test in a state actually mounted on a portable telephone, a solid-state image pickup element in a commercially available solid-state image pickup device camera is taken out, and a cover glass for a solid- An alumina substrate having the same weight as that of the image pickup device was sealed with an adhesive and fixed to the cellular phone by screwing thereto to prepare a test object for a mobile phone for impact testing. Then, a vinyl chloride cylindrical guide is attached to the test subject of the cellular phone so that the corner portion closest to the position where the solid-state image pickup device of the portable telephone is attached is always an impact point, and the length 1.2 m of the support column of the metal cylindrical column and dropped from the height of 1 m onto the plate of oak tree having a thickness of 3 cm.

시험에는, 실시예로서 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스(치수:7×7×0.3mm)를 사용한 알루미나 기판 밀봉장착체 30검체와, 비교예로서 같은 수의 메카니컬 스크라이빙에 의해 가공한 동일 치수의 광학 글래스 BK7을 30검체 사용하였다. 시험방법은, 각 피시험체에 대하여 1m로부터의 낙하시험을 200회씩 행하고, 시험이 끝난 알루미나 기판 밀봉장착체를 꺼내 육안 관찰과 20배의 실체 현미경 관찰, 그리고 깨짐이 확인되는 것에 대하여는 50배의 현미경 관찰과 마이크로 크랙의 유무에 대하여 주사형 전자현미경에 의한 관찰을 실시하였다.In the test, 30 specimens of the alumina substrate sealing mounting body using the cover glass for solid-state imaging element of the present invention (dimension: 7 x 7 x 0.3 mm) as the example, and a comparative example, the same number of mechanical scribing Thirty samples of optical glass BK7 of the same size were used. In the test method, a drop test from 1 m was performed for each of the test specimens 200 times, and the alumina substrate sealing attachment after the test was taken out to observe it with naked eyes, 20 times with a microscope, and with a microscope Observation and observation of microcracks with a scanning electron microscope were carried out.

그 결과, 실시예인 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스를 탑재한 30의 피시험체에 대하여는 이상은 보이지 않으며, 혹시나 하여 행하여진 주사형 전자현미경에 의한 관찰에서도 새로운 마이크로 크랙의 발생은 확인할 수 없었다. 한편, 비교예에서 메카니컬 스크라이빙에 의해 측면의 성형을 실시한 평판 글래스를 사용한 경우에 대하여는 사전 조사로 측면의 제1 측면부와 투광면 사이에 매우 두께가 얇은 소성변형영역이 띠모양으로 존재하고, 그 부분에 마이크로 크랙이 보이며, 그 표면 거칠기의 Ra값은 105∼320nm정도였으나, 시험 결과 2검체로 그와 같은 마이크로 크랙에 기인하는 깨짐이 확인되었다. 따라서, 이러한 2검체에 대하여 주사형 전자현미경을 사용한 파면해석을 더 행한 결과, 2검체 중 어느 것에 대하여도 평판 글래스의 측면의 제1 측면부에 존재하였던 마이크로 크랙을 발생원으로 하여 충격적으로 응력이 가해졌을 때 확인되는 절단면의 특징을 갖는 절단면이 확인되는 것이 판명되었다. 또한, 깨짐이 확인되지 않는 나머지 피시험체에 대하여도 50배의 현미경 관찰을 더 행한 결과, 3검체에 대하여 마이크로 크랙에 기인하는 마이크로 칩핑이 평판 글래스의 측면의 제1 측면부에 존재하는 것이 확인되었다.As a result, no abnormality was found with respect to the 30 specimens on which the cover glass for a solid-state imaging element of the present invention was mounted, and generation of new micro cracks could not be confirmed even by observing with a scanning electron microscope. On the other hand, in the case of using the flat plate glass in which side molding was performed by mechanical scribing in the comparative example, a plastic deformation area having a very thin thickness exists between the first side surface of the side surface and the light- Microcracks were observed in the portion, and the Ra value of the surface roughness was about 105 to 320 nm. However, the test result showed that the two samples were cracked due to such microcracks. Therefore, as a result of further performing wavefront analysis using the scanning electron microscope for these two specimens, it was found that any of the two specimens was shocked with a micro-crack as a generation source, which was present in the first side portion of the side surface of the flat glass, It was found that the cut surface having the feature of the cut surface to be confirmed when the cut surface was confirmed. In addition, a microscope observation of 50 times as much as that of the sample to be tested in which no breakage was confirmed was confirmed. As a result, it was confirmed that microchipping due to micro cracks existed in the first side portion of the side surface of the flat glass with respect to the three specimens.

이상의 시험에 의해, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 지금까지의 평판 글래스에서는 강도적으로 문제가 발생하는 충격시험을 행하여도 충분히 견딜 수 있는 것으로서, 실제 사용시의 높은 성능을 갖는 것임이 판명되었다.By the above test, it was found that the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention was able to withstand even the impact test in which a problem was caused in the conventional plate glass, and had a high performance in actual use .

(성능 평가 3) (Performance evaluation 3)                     

본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스의 강도특성을 평가하기 위하여, 이하와 같은 시간 경과에 따른 강도특성의 비교시험을 실시하였다. 이러한 시험은, 내후성 시험과 강도시험을 조합함으로써 장기간 사용시의 강도특성을 실제 사용단계의 반송행정을 이용하여 가혹하게 재현함으로써 평가한 것이다.In order to evaluate the strength characteristics of the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention, a comparison test of strength characteristics with the passage of time was performed as follows. These tests were conducted by combining the weatherability test and the strength test to evaluate the strength characteristics at the time of long-term use by severely reproducing them using the conveyance stroke of the actual use stage.

먼저, 고체촬상소자에 탑재할 커버 글래스의 치수로 성형한 평판 글래스를 실시예(시료 H∼O)에 대하여는 전부 4000매, 비교예(시료 P∼T)에 대하여는 전부 3000매를 준비하였다. 사용한 평판 글래스의 외형, 표면성상과 시험 종료시의 결과에 대하여 표 4에 정리하여 나타내었다.First, a total of 4000 sheets were prepared for the examples (samples H to O) and 3000 sheets were prepared for the comparative examples (samples P to T), respectively, on the plate glass molded into the dimensions of the cover glass to be mounted on the solid- Table 4 summarizes the appearance, surface properties and results at the end of the test of the used flat glass.

표에서, 위로부터 두 항목의 비율{(Z- Za)/Za}은, 상술한 바와 같이, 4개의 각 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선으로부터 제1 투광면까지의 두께방향의 거리의 총합을 4로 나눈 산술 평균값(Za)에 대한 각각의 측면에서의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선으로부터 제1 투광면까지의 두께방향의 거리(Z)의 불균형의 비율이다. 그리고, 이 표에는 각각의 조건의 시료 20검체의 평판 글래스 코너부, 즉 전부 80개소에 대한 측정값의 평균을 나타내고 있다. 또한, 위로부터 세번째 항목(선단간 거리)은 서로 인접하는 2개의 각 측면사이의 능선부상에서의 하나의 각 측면의 경계선의 선단(선단점)과 다른 하나의 각 측면의 경계선의 선단(선단점) 사이의 거리이다(예컨대, 도 3에 나타낸 예에서는, 선단점(13a1)과 선단점(13a2) 사이의 거리이다.). In the table, the ratio {(Z-Za) / Za} of the two items from the top is the sum of the thicknesses of the two side surfaces in the thickness direction from the boundary line between the first side surface portion and the second side surface portion to the first light- (Z) from the boundary between the first side surface portion and the second side surface portion to the first light-transmissive surface on each side with respect to the arithmetic mean value (Za) obtained by dividing the total sum of distances by four. This table shows the average of the measured values for the flat glass corners of the specimen 20 specimens under the respective conditions, that is, all the 80 corners. The third item from the top (the distance between the front ends) is the distance between the front end (line shortening point) of the boundary line of one side on the ridge line between two adjacent side surfaces and the front end (For example, in the example shown in Fig. 3, the distance between the leading end point 13a1 and the leading end point 13a2).                     

Figure 112003006261260-pat00001
Figure 112003006261260-pat00001

실시예의 시료 H∼O에 대하여는 각 500매, 비교예의 시료 P∼S에 대하여도 각 500매, 시료 T에 대하여는 1000매의 시료를 각각 동일 조건으로 제작하였다. 실시예의 시료 H∼O에 대하여는 평판 글래스 측면의 균열 선가공에 레이저 스크라이빙을 채용하고, 레이저 빔 이동속도 120±5mm/sec, 혹은 150±5mm/sec, 레이저 출력 120±5W의 조건으로 가공하고, 벽개가공을 눌러 쪼갬가공에 의해 성형하고, 제1 측면부 및 제2 측면부의 표면 거칠기, 비율{(Z- Za)/Za}, 선단간 거리비율(선단간거리/평판 글래스의 두께), 투광면에 대한 제1 측면부의 각도, 제1 측면부에 대한 제2 측면부의 각도로서, 표 4에 나타낸 값을 실현하였다.For each of the samples H to O of the Examples, 500 samples were each prepared for 500 samples, and for the samples T to 1000 samples were prepared under the same conditions. For the specimens H to O of the examples, laser scribing was employed for cracking of the flat glass side, and processing was performed under conditions of a laser beam moving speed of 120 ± 5 mm / sec or 150 ± 5 mm / sec and a laser output of 120 ± 5 W (Z-Za) / Za}, the ratio of the distance between the ends (the distance between the tip ends / the thickness of the flat glass), the light transmittance As the angle of the first side face with respect to the face and the angle of the second side face with respect to the first side face, the values shown in Table 4 were realized.

한편, 비교예의 시료에 대하여는, 시료 P, 시료 Q, 시료 R, 시료 S에 대하여는 균열 선가공에 레이저 스크라이빙을 채용하고, 제1 측면부의 성형시에, 종방향과 횡방향의 레이저 빔의 상대 이동속도를 의도적으로 25∼40%의 범위에서 변동시키고, 또한 출력에 대하여도 90∼220W의 범위에서 변동시킴으로써 비율{(Z- Za)/Za}이 20%를 초과하고, 선단간 거리비율(선단간 거리/평판 글래스의 두께)이 3%를 초과하도록 하였다. 또한, 시료 R, 시료 S에서는, 레이저 빔의 조사 각도의 의도적인 변동이나 쪼갬 가공시의 응력인가방향을 의도적으로 변동시킴으로써, 시료 R에서는 제1 측면부에 대한 제2 측면부의 각도가 8°을 초과하도록 하고, 시료 S에서는 투광면에 대한 제1 가공면의 각도가 95°를 초과하도록 하였다. 또한, 시료 T에서는, 제1 측면부의 성형을 메카니컬 스크라이빙에 의해 행하고, 제2 측면부의 성형을 쪼갬 가공에 의해 행하였다.On the other hand, with respect to the sample of the comparative example, the sample P, the sample Q, the sample R, and the sample S were subjected to laser scribing for cracking, and the laser beams of longitudinal and transverse directions (Z-Za) / Za) exceeds 20% by changing the relative movement speed in the range of 25 to 40% and the output in the range of 90 to 220 W, (The distance between the tip ends / the thickness of the flat glass) exceeded 3%. In the specimen R and the specimen S, the intentional fluctuation of the irradiation angle of the laser beam and the direction of the stress application at the splitting process are intentionally changed so that the angle of the second side portion with respect to the first side portion in the specimen R exceeds 8 And in the sample S, the angle of the first processing surface with respect to the light projecting surface was set to exceed 95 °. Further, in the sample T, the molding of the first side portion was performed by mechanical scribing, and the molding of the second side portion was performed by the splitting process.

그리고, 각 시료의 표면 거칠기를 상술한 촉침식 표면 거칠기 측정기 탤리스텝(Tayler- Hobson사 제품)에 의해 측정하였다. 측정조건으로서, 측정 길이 1mm에 대하여 계측 속도 0.025mm/sec, 필터 0.33Hz, 배율 100만배로 측정하였다. 또한, 능선부상의 선단간 거리, 제1 측면부, 제2 측면부의 각도에 대하여는 투영 측정기,레이저 현미경, 마이크로 미터 등을 사용하여 각각 계측을 행하였다.The surface roughness of each sample was measured by the tactile surface roughness tester Tallistep (Taylor-Hobson) described above. As the measurement conditions, measurement was made at a measurement speed of 0.025 mm / sec, a filter of 0.33 Hz, and a magnification of 100,000 times for a measurement length of 1 mm. The distances between the front ends of the ridgelines and the angles of the first and second side portions were measured using a projection measuring instrument, a laser microscope, a micrometer, and the like.

그 결과, 실시예에 대하여는 모두 제1 측면부의 표면 거칠기가 Ra값으로 0.1 ∼5.0nm, Rmax값으로 1.0∼15nm의 범위내이고, 제2 측면부의 표면 거칠기가 Ra값으로 0.1∼3.0nm, Rmax값으로 1.0∼12nm의 범위내에 있는 것이 판명되었다. 한편, 비교예에 대하여, 시료 P, 시료 Q, 시료 R, 시료 S는, 그 표면 거칠기가 실시예와 같은 정도의 범위내에 있지만, 시료 T에 대하여는 제1 측면부의 Ra값이 10nm을 초과하는 값으로서, Rmax값이 30nm보다 큰 값이었다.As a result, in all of the examples, the surface roughness of the first side portion was in the range of 0.1 to 5.0 nm in Ra value, 1.0 to 15 nm in Rmax value, the surface roughness of the second side surface portion was 0.1 to 3.0 nm in Ra value, Value was in the range of 1.0 to 12 nm. On the other hand, with respect to the comparative example, the surface roughness of the sample P, the sample Q, the sample R, and the sample S is within the range of the same degree as in the embodiment, but the value of Ra of the first side portion exceeds 10 nm , And the Rmax value was larger than 30 nm.

또한, 비율{(Z- Za)/Za}에 대하여는 실시예는 모두 20% 이하의 값이었다. 한편, 비교예의 시료 P, 시료 Q에서는, 비율{(Z- Za)/Za}이 20%를 초과하고 있으며, 한 장의 시료에 대하여 능선부상의 선단간 거리의 총합은 대체로 200μm정도를 초과하고 있으며, 현미경 관찰 결과, 능선부의 표면 거칠기는 제1 측면보다 거친 상태였다. 그 반면, 실시예에서는, 능선부상의 선단간 거리의 총합이 200μm이하이고, 능선부의 현미경 관찰을 행한 결과, 비교예와 같은 거친 표면상태가 아닌 것을 확인할 수 있었다. 실시예의 시료 H, 시료 I, 시료 J, 시료 K, 시료 L, 시료 M에서는, 비율{(Z- Za)/Za}이 5%이하이고, 한 장의 시료에 대하여 능선부상의 선단간 거리의 총합은 대체로 40μm정도보다 짧았다. 또한, 선단간 거리 비율(선단간 거리/평판 글래스의 두께)은 실시예에 대하여 1.0%에서 14.5%인 것까지 확인되었으나, 현미경 관찰을 행한 결과, 능선부의 표면 거칠기가 제1 측면부와 동등하거나 그것보다 작은 경향이 관찰되는 시료는 이러한 비율이 3.0% 이하인 시료 H, 시료 I, 시료 J, 시료 K, 시료 L, 시료 M이었다. 또한, 이러한 비율이 1.0% 이하인 시료 K, 시료 L, 시료 M에서는, 이러한 경향이 더 현저하다. 한편, 비교예의 시료 T에서는,비율{(Z- Za)/Za}은 작지만, 제1 측면부의 표면 거칠기가 거칠기 때문에 능선부는 그에 상응하는 정도가 되며, 거친 상태였다.In addition, all of the examples were 20% or less with respect to the ratio {(Z-Za) / Za}. On the other hand, in the samples P and Q of the comparative examples, the ratio {(Z-Za) / Za} exceeds 20%, and the total sum of the tip-to-tip distances on the ridge line for one sample exceeds approximately 200 μm , Microscopic observation revealed that the surface roughness of the ridgeline portion was rougher than that of the first side. On the other hand, in the examples, it was confirmed that the total sum of the distances between the ends of the ridgelines on the ridgelines was 200 탆 or less, and the ridgelines were observed under a microscope. The ratio {(Z-Za) / Za} in the sample H, the sample I, the sample J, the sample K, the sample L and the sample M is 5% or less, and the sum Was generally shorter than about 40 탆. In addition, although it was confirmed that the distance between the tip ends (the distance between the tip ends / the thickness of the flat glass) was 1.0% to 14.5% with respect to the examples, microscopic observation revealed that the surface roughness of the ridgeline portion was equal to Sample H, Sample I, Sample J, Sample K, Sample L, and Sample M with such a ratio of 3.0% or less were observed. Further, this tendency is more remarkable in the sample K, the sample L and the sample M in which the ratio is 1.0% or less. On the other hand, in the sample T of the comparative example, the ratios {(Z-Za) / Za} were small, but the roughness of the surface of the first side portion was rough.

그리고, 이상과 같은 외형 품위를 갖는 실시예와 비교예의 각 시료는, 모두 출하용 플라스틱 트레이에 수납하고, 그 상태에서 온도 80℃ 습도 80%로 유지한 고온 고습 시험장치내에 1000시간 유지한 다음, 그대로 골판지 포장하여 트럭편을 사용하여, 시가현 오즈시와 가나가와현 후지사와시 사이, 즉 편도 약 450km이상을 10왕복, 총 9,000km이상의 주행진동시험을 실시하였다. 이와 같이 하여 평판 글래스를 장기간에 걸쳐 고온고습 환경하로 유지한 다음, 포장된 형태 그대로 반송 상태에서의 가혹한 진동 시험을 조합하여 실시하였다. 시험이 끝난 시험체에 대하여는 실시예, 비교예 모두 실체 현미경 관찰, 50배의 현미경 관찰, 주사형 현미경 관찰을 실시하였다.Each of the samples of Examples and Comparative Examples having the above-described external shape qualities was stored in a plastic tray for shipment and maintained in a high-temperature and high-humidity testing apparatus maintained at a temperature of 80 캜 and a humidity of 80% for 1000 hours, Using the truck pieces as the corrugated cardboard packaging, we carried out a running vibration test of more than 9,000 km for 10 round trips between Ozu City in Shiga Prefecture and Fujisawa City in Kanagawa Prefecture, that is, about 450 km or more. In this manner, the flat glass was kept under a high-temperature and high-humidity environment for a long period of time, and then subjected to a severe vibration test in a packed state in a conveying state in combination. For the test specimens subjected to the tests, a stereomicroscope observation, a 50-times microscopic observation and a scanning microscope observation were carried out in both of the examples and the comparative examples.

그 결과, 실시예의 시료 H∼M에 대하여는 실체 현미경 관찰, 50배의 현미경 관찰 모두에 대하여도 마이크로 크랙, 마이크로 칩핑은 보이지 않았다. 또한, 시료 N, 시료 O에 대하여는 마이크로 칩핑과 마이크로 크랙이 보였으나, 원인을 조사해 보면, 플라스틱 트레이에 금속 이물질의 부착이 보이며, 이러한 이물질에 기인하는 크랙, 칩핑으로서, 평판 글래스와는 관련되지 않는다는 것이 판명되었다. 또한, 시료 K와 시료 O에는 평판 글래스 표면에 이물질의 부착이 보였으나, 분석 결과, 글래스 이물질은 아니라 플라스틱 트레이의 오염에 기인하는 것임이 판명되었다. 따라서, 실시예에 대하여는 평판 글래스에 기인하는 이상은 보이지 않았다.As a result, micro-cracks and microchipping were not observed in all of the samples H to M of the Examples with respect to both the microscopic observation and the microscopic observation of 50 times. Micro-chipping and micro-cracks were observed in the samples N and O. However, when the cause of the micro-chipping and micro cracks was examined, it was found that the adherence of metal foreign substances to the plastic tray was observed and cracks and chipping due to these foreign substances were not related to the flat glass . In addition, in the samples K and O, adhesion of foreign matter to the surface of the flat glass was observed. As a result of the analysis, it was proved that this was caused by the contamination of the plastic tray, not the glass foreign matter. Therefore, no abnormality due to the flat glass was seen in the examples.

한편, 비교예에 대하여는 시료 P∼T 중 어느 것에 대하여도 마이크로 크랙,마이크로 칩핑의 발생이 확인되었다. 특히, 시료 P에 대하여 마이크로 크랙의 발생 개소의 특정(特定)을 행한 결과, 3.5%의 마이크로 크랙의 9할이 평판 글래스 코너부에 있는 능선부상의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계선의 개소(선단간 영역)가 크랙의 발생원이었다. 또한, 시료 P의 칩핑의 7할은, 능선부상의 선단간 영역이 기원이 된 칩핑이었다. 또한, 시료 S에서는, 코너부 이외의 측면에 대하여도 마이크로 크랙의 발생율이 높은 경향이 있으며, 조사하면 4할이 코너부 이외의 측면의 제1 측면부와 제2 측면부의 경계 부근에서 발생하였다.On the other hand, with respect to the comparative example, occurrence of micro cracks and microchipping was confirmed for any of the samples P to T. Particularly, as a result of specifying (identifying) the occurrence site of micro cracks in the sample P, it was found that 9% of the micro cracks of 3.5% were located at the positions of the boundary between the first side face portion and the second side face on the ridge- Tip region) was a source of cracks. Further, 70% of the chipping of the sample P was chipping in which the end-to-end region on the ridge line originated. In addition, in the sample S, the incidence of micro cracks also tended to be higher on the side surface other than the corner portion, and when irradiated, 4% occurred near the boundary between the first side surface portion and the second side surface portion other than the corner portion.

또한, 비교예의 시료 T에 대하여는 1000검체 중 23검체의 측면에 대하여 시험전에는 보이지 않았던 마이크로 크랙을 확인할 수 있었고, 발생율은 2.3%이었다.그리고, 그 중 6검체에 대하여는 제1 측면부의 칩핑에 의해 발생한 유리분말에 의해 기인하는 것이었다. 또한, 13검체에 대하여는 측면에 글래스로부터 녹아 나온 성분에 의한 부착 이물질이 확인되었고, 그 발생율은 1.3%이었다. 또한, 2검체에 대하여는 플라스틱 트레이와 평판 글래스 사이에 개재된 유리분말에 의해 반송도중에 발생한 글래스판 표면의 흠집을 확인할 수 있었다.For the sample T of the comparative example, microcracks that were not seen before the test were observed on the side surface of the 23 specimens among the 1,000 specimens, and the incidence was 2.3%. Glass powder. Further, with respect to 13 specimens, adhered foreign matter due to a component dissolved from the glass on the side surface was confirmed, and the incidence was 1.3%. In addition, with respect to the two specimens, scratches on the surface of the glass plate, which were generated during transportation, could be confirmed by the glass powder interposed between the plastic tray and the flat plate glass.

이상의 평가결과로부터, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 내후성이 우수하고, 평판 글래스 측면에 적절한 가공이 실시되며, 반송 등의 행정에 있어서도 강도적으로 문제가 발생하지 않는 뛰어난 성능을 가지는 것으로서, 안정된 품위를 유지할 수 있다는 것이 판명되었다.From the above-described evaluation results, the cover glass for a solid-state imaging element of the present invention has excellent weather resistance, has an excellent performance in that appropriate processing is applied to the side surface of the flat glass, , And that it can maintain stable quality.

이상과 같이, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 평판 글래스 제조공정이나 전자기기의 조립공정 등에서의 평판 글래스 측면에 발생하는 마이크로 크랙 과 그 마이크로 크랙에 의해 발생하는 글래스 더스트를 현저하게 감소시키는 것으로서, 고체촬상소자에 탑재한 다음의 충격적인 강도특성의 향상과 평판 글래스의 청정도 향상을 이루는 것이므로, 고성능의 고체촬상소자로 하여금 설계에 적합한 성능을 충분히 발휘시킴으로써 고체촬상소자의 효과적인 이용을 가능하게 한다.INDUSTRIAL APPLICABILITY As described above, the cover glass for a solid-state image pickup device of the present invention is capable of significantly reducing the micro-cracks generated on the side of the flat glass and the glass dust generated by the micro-cracks in the flat glass production process, As a result, it is possible to improve the impact strength characteristics and the cleanliness of the flat glass after being mounted on the solid-state image pickup device, thereby enabling the high-performance solid-state image pickup device to sufficiently exhibit the performance suitable for the design, do.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 커버 글래스를 밀봉장착하여 고체촬상소자를 조립할 때 고체촬상소자에 대한 커버 글래스의 위치정합을 용이하게 행할 수 있으므로, 고체촬상소자의 조립을 정밀하고 신속하게 그리고 효율적으로 행할 수 있고, 높은 성능을 갖는 고체촬상소자를 안정적으로 생산하는 데 크게 기여한다.Further, since the cover glass for a solid-state image pickup device of the present invention can easily align the cover glass with respect to the solid-state image pickup device when the cover glass is sealed to assemble the solid-state image pickup device, the assembling of the solid- Can be performed quickly and efficiently, and contributes greatly to the stable production of solid-state image pickup devices having high performance.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 평판 글래스 측면의 표면 거칠기의 Ra값, 최대 표면 거칠기의 Rmax값을 낮게 억제하는 것이 가능하고, 표면 거칠기 등의 표면성상에도 의존하여 부차적으로 발생하는 평판 글래스 측면의 마이크로 크랙의 발생율을 낮게 억제하는 것이 가능하므로, 고체촬상소자의 이용범위를 지금까지의 범위 이상으로 더욱 넓혀 새로운 수요, 용도를 이용자에게 환기시키는 것을 가능하게 한다.Further, the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention can suppress the Ra value of the surface roughness and the maximum surface roughness Rmax of the side surface of the flat plate glass to a low level, and the surface roughness The occurrence rate of micro cracks on the side surface of the flat glass can be suppressed to a low level. Therefore, the use range of the solid-state image pickup device can be widened beyond the range so far, and new demands and applications can be reclaimed to the user.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 평판 글래스의 측면의 능선부에 기인하는 평판 글래스의 강도열화가 발생할 확률을 감소하는 것이 가능한 것으로서, 안정된 품위를 갖는 고체촬상소자용 커버 글래스의 생산을 실현할 수 있으므로, 고체촬상소자용 커버 글래스를 이용하는 공정에서의 검사 등을 간이화하는 것이 가능해지고, 저렴하고 높은 신뢰성을 갖는 고체촬상소자의 대량생산이 가능하 다.Further, the cover glass for a solid-state imaging device of the present invention is capable of reducing the probability of occurrence of deterioration in the strength of a flat glass caused by ridgelines on the side surface of the flat glass, and is capable of producing a cover glass for a solid- It is possible to simplify inspection and the like in a process using a cover glass for a solid-state imaging element, and mass-production of a solid-state imaging device with low cost and high reliability is possible.

그리고, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 고체촬상소자로서 조립 된 다음에도 측면의 능선부에 기인하는 평판 글래스의 시간 경과에 따른 강도의 현저한 저하를 일으키지 않아 안정된 품위를 실현할 수 있으므로, 휴대용도 등의 높은 강도가 요구되는 분야에서 이용되는 고체촬상소자에 탑재할 커버 글래스로서 적합한 기능을 갖는다.Further, since the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention does not cause a significant deterioration of the strength of the flat glass caused by the side ridgelines over time even after being assembled as the solid-state image pickup device, And has a function suitable as a cover glass to be mounted on a solid-state image pickup element used in a field requiring high strength such as a lens or the like.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 고체촬상소자에 탑재되었을 때, 높은 기능을 갖는 반도체소자의 성능을 손상시키지 않고 발휘시키는 것이 가능해지므로, 지금까지는, 반도체를 보호하는 커버 글래스 등의 패키지측의 강도적인 약함 때문에 채용이 보류되었던 보다 고성능의 반도체를 탑재함으로써 보다 다양한 분야에의 반도체 소자의 이용범위를 확장하는 것이 가능해진다.Further, since the cover glass for a solid-state image pickup device of the present invention can be used without impairing the performance of a semiconductor device having a high function when mounted on a solid-state image pickup device, a cover glass for protecting the semiconductor It is possible to expand the use range of the semiconductor device in a variety of fields by mounting a higher-performance semiconductor which has been reserved due to its weakness on the package side.

그리고, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 고체촬상소자의 커버 글래스로서의 재료에 요구되는 광학적, 화학적 그리고 기계적인 여러 특성을 만족하므로, 휴대용도뿐만 아니라, 여러 전자기기의 전자부품으로서 탑재되는 고체촬상소자에 널리 채용하는 것이 가능해진다.The cover glass for a solid-state imaging device according to the present invention satisfies various optical, chemical and mechanical characteristics required for a material of a cover glass of a solid-state image pickup device, and thus is not only portable, So that it can be widely adopted for a solid-state image pickup device.

또한, 본 발명의 고체촬상소자용 커버 글래스는, 평판 글래스 표면의 내후성, 시간경과에 따른 강도특성에 대하여 고체촬상소자의 커버 글래스로서 필요한 높은 성능을 발휘하는 품위가 되므로, 고체촬상소자가 이용되는 정보 전달에 관련된 광통신산업 전체의 발전에 더욱 더 공헌할 수 있다.Further, since the cover glass for a solid-state image sensor of the present invention exhibits high performance required for the cover glass of the solid-state image sensing element against the weatherability and strength characteristics over time of the flat glass surface, the solid- It can further contribute to the development of the entire optical communication industry related to information transmission.

Claims (7)

무기 산화물 글래스제의 평판 글래스로 이루어지고, 상기 평판 글래스의 두께방향으로 서로 마주보는 제1 투광면 및 제2 투광면과 상기 평판 글래스의 둘레를 구성하는 측면을 갖는 고체촬상소자용 커버 글래스에 있어서,In a cover glass for a solid-state imaging element comprising a flat glass of an inorganic oxide glass and having a first light-transmitting surface and a second light-transmitting surface opposed to each other in the thickness direction of the flat glass, and a side surface constituting the periphery of the flat glass, , 상기 측면은, 상기 제1 투광면에 인접하는 제1 측면부와 상기 제1 측면부 및 상기 제2 투광면에 인접하는 제2 측면부를 구비하고,The side surface has a first side surface portion adjacent to the first light-transmitting surface, and a second side surface portion adjacent to the first side surface portion and the second light-transmitting surface, 상기 제1 측면부의 표면 거칠기는 상기 제2 측면부의 표면 거칠기보다 크고, 상기 제1 측면부의 표면 거칠기의 Ra값은 0.1∼l0nm, Rmax값은 0.1∼30nm이고, 상기 제2 측면부의 표면 거칠기의 Ra값은 0.01∼5nm, Rmax값은 0.01∼20nm이며, Wherein the surface roughness of the first side surface portion is larger than the surface roughness of the second side surface portion, the Ra value of the surface roughness of the first side surface portion is 0.1 to 10 nm, the Rmax value is 0.1 to 30 nm, The value is 0.01 to 5 nm, the Rmax value is 0.01 to 20 nm, 상기 제1 측면부가 상기 제1 투광면에 대하여 이루는 각도가 90°±5°의 범위내에 있고, 상기 제2 측면부가 상기 제1 측면부에 대하여 이루는 각도가 8°이하인 것을 특징으로 하는 고체촬상소자용 커버 클래스.Wherein an angle formed between the first side surface portion and the first light-transmissive surface is within a range of 90 deg. 5 deg., And an angle formed between the second side surface portion and the first side surface portion is 8 deg. Cover class. 제 1항에 있어서, 상기 측면의 면적에 대한 상기 제1 측면부의 면적의 비율이 0.1∼0.3인 것을 특징으로 하는 고체촬상소자용 커버 글래스.The cover glass for a solid-state imaging device according to claim 1, wherein a ratio of an area of the first side face to an area of the side face is 0.1 to 0.3. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 상기 평판 글래스가 대략 사각형상이고, 그 4 개의 각 변에 각각 대응하여 상기 각 측면이 있으며, 모든 상기 측면에 대하여 상기 제1 측면부와 상기 제2 측면부의 경계선으로부터 상기 제1 투광면까지의 두께방 향의 거리의 평균값을 구하여 그 값을 Za라 하였을 때, 상기 각 측면에서의 상기 제1 측면부와 상기 제2 측면부의 경계선으로부터 상기 제1 투광면까지의 두께방향 의 거리(Z)가 ―0.2≤(Z-Za)/Za≤0.2의 관계를 만족하는 것을 특징으로 하는 고체촬상소자용 커버 글래스.The flat glass according to any one of claims 1 to 3, wherein the flat glass is substantially rectangular in shape, and each of the four sides corresponds to each of the four sides, and the flat glass is formed from the boundary between the first side surface portion and the second side surface And a distance between the first side surface portion and the second side surface portion in the thickness direction from the boundary between the first side surface portion and the second side surface to the first light-transmissive surface in the thickness direction (Z-Za) / Za &lt; / = 0.2. &Lt; / RTI &gt; 제 3항에 있어서, 서로 인접하는 2개의 상기 각 측면사이의 능선부상에 있어서, 하나의 상기 각 측면에서의 상기 제1 측면부와 상기 제2 측면부의 경계선의 선단과 다른 하나의 상기 각 측면에서의 상기 제1 측면부와 상기 제2 측면부의 경계선의 선단이 실질상 동일점상에 있는 것을 특징으로 하는 고체촬상소자용 커버 글래스.4. The apparatus according to claim 3, wherein, on the ridge line between the two adjacent side surfaces, the tip of the boundary line between the first side surface portion and the second side surface on one side surface and the tip of the boundary line between the other side surface Wherein a tip of a boundary line between the first side surface portion and the second side surface portion is substantially on the same point. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 파장 500nm의 가시광선의 직선내부투과율과 파장 600nm의 가시광선의 직선내부투과율이 각각 95%이상인 것을 특징으로 하는 고체촬상소자용 커버 글래스.The cover glass for a solid-state imaging device according to claim 1 or 2, wherein the linear transmittance of visible light having a wavelength of 500 nm and the linear transmittance of visible light having a wavelength of 600 nm are 95% or more, respectively. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 질량% 표시로 SiO2 50∼70%, Al2O3 2∼20%, RO 4∼30%(RO= MgO+CaO+ZnO+SrO+BaO)를 함유하는 것을 특징으로 하는 고체촬상소자용 커버 글래스.The method of manufacturing a semiconductor device according to any one of claims 1 to 3, further comprising, by mass%, 50 to 70% of SiO 2 , 2 to 20% of Al 2 O 3 and 4 to 30% of RO (RO = MgO + CaO + ZnO + SrO + BaO) Wherein said cover glass is a glass substrate. 제 1항 또는 제 2항에 있어서, 알칼리 용출량이 JIS- R3502의 규격에 의해 0.lmg이하, 밀도가 2.8g/cm3이하, 비영률이 27Gpa/g·cm-3이상이고, 빅커스 경도가 500kg/mm2이상인 것을 특징으로 하는 고체촬상소자용 커버 글래스.3. The composition according to claim 1 or 2, wherein the amount of alkali elution is 0.1 mg or less, the density is 2.8 g / cm 3 or less, the specific gravity is 27 GPa / g · cm -3 or more and the Vickers hardness Is not less than 500 kg / mm &lt; 2 &gt;.
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